JP2003034743A - Optical material composition, optical material, method of manufacturing the same, liquid crystal display device and light-emitting diode using the same - Google Patents

Optical material composition, optical material, method of manufacturing the same, liquid crystal display device and light-emitting diode using the same

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JP2003034743A JP2001222609A JP2001222609A JP2003034743A JP 2003034743 A JP2003034743 A JP 2003034743A JP 2001222609 A JP2001222609 A JP 2001222609A JP 2001222609 A JP2001222609 A JP 2001222609A JP 2003034743 A JP2003034743 A JP 2003034743A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical material composition, an optical material, a method of manufacturing the same and a liquid crystal display device and a light-emitting diode using the same which have high optical transparency, little photodeterioration and toughness. SOLUTION: This optical material composition contains as an essential component (A) triallyl isocyanurate, (B) a silicon compound containing at least two SiH groups in a molecule, (C) a hydrosilylation catalyst and (D) a thermoplastic resin wherein the (D) component is one or more polymers selected from among a butyl acrylate-based polymer, a butyl methacrylate-based polymer and a methyl methacrylate/butyl acrylate-based copolymer.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は光学用材料に関する
ものであり、更に詳しくは光学的透明性が高く、強靭性
を有する光学用材料用組成物、光学用材料、その製造方
法、およびそれを用いた液晶表示装置および発光ダイオ
ードに関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical material, and more specifically to a composition for an optical material having high optical transparency and toughness, an optical material, a method for producing the same, and the same. The present invention relates to a liquid crystal display device and a light emitting diode used.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置用をはじめとする光学用材
料としては、複屈折率が低く、光弾性係数が小さく、光
学的透明性の高い材料が使用される。また、液晶表示装
置用等の材料の場合には、製造プロセス上使用する材料
には高い耐熱性が必要である。こういった要求を満足す
る材料として従来ガラス等が使用されてきた。
2. Description of the Related Art As an optical material such as a liquid crystal display device, a material having a low birefringence index, a small photoelastic coefficient and a high optical transparency is used. Further, in the case of a material for a liquid crystal display device or the like, the material used in the manufacturing process needs to have high heat resistance. Conventionally, glass or the like has been used as a material satisfying such requirements.

【0003】液晶表示装置用をはじめとする光学用材料
は薄いフィルム状あるいは細いチューブやロッド状で多
く使用されるが、近年の市場要求に従い、より薄いフィ
ルム状、あるいはより細いチューブまたはロッド状での
使用が必要になってきている。しかし、従来使用されて
きたガラスは強度的に脆い性質を有しているため、使用
範囲に限界が生じてきている。
Optical materials such as those for liquid crystal display devices are often used in the form of thin films or thin tubes or rods, but in accordance with recent market demands, thinner films or thinner tubes or rods are used. The use of is becoming necessary. However, the conventionally used glass has a brittle property in terms of strength, so that the range of use is becoming limited.

【0004】強靭性のある材料としては高分子材料があ
るが、例えば熱可塑性樹脂の場合は、一般に高い耐熱性
を発現させるために芳香族骨格を導入すると、複屈折率
が高くなり光弾性係数が大きくなるため、高い耐熱性と
光学的性能の両立が困難である。
Polymer materials are known as tough materials. For example, in the case of thermoplastic resin, generally, when an aromatic skeleton is introduced in order to develop high heat resistance, the birefringence becomes high and the photoelastic coefficient becomes high. Therefore, it is difficult to achieve both high heat resistance and optical performance.

【0005】熱硬化性樹脂の場合は、従来知られている
熱硬化性樹脂は一般に着色しており、光学用材料用途に
は向かない。さらに、一般に極性を有しており光学的性
能発現にも不利である。そこで、例えば発光ダイオード
の封止剤用途では、特殊な熱硬化性樹脂として、酸無水
物系硬化剤を用いる透明エポキシ樹脂が広く用いられて
きた。しかし、かかる透明エポキシ樹脂においても、樹
脂の吸水率が高いために耐湿耐久性が低い、あるいは、
特に低波長の光に対する光線透過性が低いために耐光耐
久性が低い、あるいは光劣化により着色するという欠点
を有していた。
In the case of thermosetting resins, conventionally known thermosetting resins are generally colored and are not suitable for optical material applications. In addition, it is generally polar and is disadvantageous in expressing optical performance. Therefore, for example, in the use of a sealant for light emitting diodes, a transparent epoxy resin using an acid anhydride-based curing agent has been widely used as a special thermosetting resin. However, even in such a transparent epoxy resin, the moisture absorption durability of the resin is high, so that the moisture resistance and durability are low, or
In particular, it has a drawback that it has low light resistance due to its low light transmittance for light of low wavelength, or that it is colored due to photodegradation.

【0006】また、熱硬化性樹脂は一般に脆く、硬化物
あるいは硬化物を用いて作成した製品に熱衝撃を加えた
場合に割れ、はがれなどが生じるという問題があった。
Further, thermosetting resins are generally fragile, and there is a problem that cracks and peeling occur when a thermal shock is applied to a cured product or a product prepared from the cured product.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、光学的透明性が高く、光劣化が少なく、強靭性を有
する光学用材料用組成物、光学用材料、その製造方法、
およびそれを用いた液晶表示装置および発光ダイオード
を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a composition for optical materials having high optical transparency, little photodegradation, and toughness, an optical material, and a method for producing the same.
Another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device and a light emitting diode using the same.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
めに本発明者らは鋭意研究の結果、トリアリルイソシア
ヌレートと、1分子中に少なくとも2個のSiH基を含
有するケイ素化合物と、ヒドロシリル化触媒と、特定の
熱可塑性樹脂を必須成分として光学用材料用組成物とす
ることにより、上記課題を解決できることを見出し、本
発明に至った。
In order to solve the above problems, the present inventors have earnestly studied, and as a result, triallyl isocyanurate, a silicon compound containing at least two SiH groups in one molecule, and a hydrosilyl group. The inventors have found that the above problems can be solved by using a chemical catalyst and a specific thermoplastic resin as essential components in a composition for optical materials, and have completed the present invention.

【0009】すなわち、本発明は、(A)トリアリルイ
ソシアヌレート、(B)1分子中に少なくとも2個のS
iH基を含有するケイ素化合物、(C)ヒドロシリル化
触媒、(D)熱可塑性樹脂、を必須成分として含有する
組成物からなる光学材料用組成物であって、(D)成分
がブチルアクリレート系重合体、ブチルメタクリレート
系重合体、メチルメタクリレート/ブチルアクリレート
系共重合体から選ばれる1種または複数種の重合体であ
ることを特徴とする光学材料用組成物(請求項1)であ
り、(B)成分が1,3,5,7−テトラメチルテトラ
シクロシロキサンとトリアリルイソシアヌレートの反応
物である請求項1に記載の光学材料用組成物(請求項
2)であり、光学用材料が液晶用フィルムである請求項
1あるいは2に記載の光学材料用組成物(請求項3)で
あり、光学用材料が液晶用プラスチックセルである請求
項1あるいは2に記載の光学材料用組成物(請求項4)
であり、光学用材料が発光ダイオードの封止材である請
求項1あるいは2に記載の光学材料用組成物(請求項
5)であり、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の光
学用材料用組成物をあらかじめ混合し、組成物中のSi
H基と反応性を有する炭素−炭素二重結合とSiH基の
一部または全部およびを反応させることによって硬化さ
せてなる光学用材料(請求項6)であり、請求項1乃至
5にいずれか一項に記載の光学用材料用組成物をあらか
じめ混合し、組成物中のSiH基と反応性を有する炭素
−炭素二重結合とSiH基の一部または全部を反応させ
ることによる請求項6に記載の光学用材料の製造方法
(請求項7)であり、請求項6に記載の光学用材料を用
いた液晶表示装置(請求項8)であり、請求項6に記載
の光学用材料を用いた発光ダイオード(請求項9)であ
る。
That is, according to the present invention, (A) triallyl isocyanurate and (B) at least two S in one molecule.
A composition for an optical material comprising a composition containing an iH group-containing silicon compound, (C) a hydrosilylation catalyst, and (D) a thermoplastic resin as essential components, wherein the (D) component is a butyl acrylate-based compound. A composition for an optical material (claim 1), which is one or a plurality of polymers selected from a polymer, a butyl methacrylate-based polymer, and a methyl methacrylate / butyl acrylate-based copolymer. Component is a reaction product of 1,3,5,7-tetramethyltetracyclosiloxane and triallyl isocyanurate, and the optical material composition (claim 2) according to claim 1, wherein the optical material is liquid crystal. A film for optical use, which is the composition for optical materials according to claim 1 or 2 (claim 3), wherein the optical material is a plastic cell for liquid crystals. The composition for optical material (claim 4)
6. The optical material composition according to claim 1 or 2, wherein the optical material is a sealing material for a light emitting diode (claim 5), and the optical material according to claim 1 or 2. The material composition is mixed in advance and Si in the composition is mixed.
An optical material (claim 6) obtained by curing by reacting a carbon-carbon double bond reactive with an H group and a part or all of a SiH group, and the method according to any one of claims 1 to 5. The composition for optical materials according to claim 1 is mixed in advance, and a carbon-carbon double bond reactive with the SiH group in the composition is reacted with a part or all of the SiH group. It is a manufacturing method (Claim 7) of the optical material of Claim 6, and is a liquid crystal display device (Claim 8) using the optical material of Claim 6, and uses the optical material of Claim 6. The light emitting diode (claim 9).

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below.

【0011】本発明の(A)成分はトリアリルイソシア
ヌレートである。
The component (A) of the present invention is triallyl isocyanurate.

【0012】(A)成分であるトリアリルイソシアヌレ
ートは各種の方法で製造することができる。例えば、特
開2000−109314号報、特開2000−119
016号報、特開平11−255753号報、特開平9
−208564号報、特開平8−259711号報、特
開平4−321655号報、特開平4−49284号
報、特開昭62−48671号報、特開昭62−455
78号報、特開昭58−85874号報、特開昭57−
200371号報、特開昭54−130591号報、特
開昭53−92791号報、特開昭50−95289号
報、特開昭48−26022号報、特開昭47−225
88号報、特開昭47−14395号報、特開昭43−
29395号報、特開昭45−15981号報、特開昭
43−29146号報、USP3376301号報、U
SP3322761号報、SUP1121260号報、
SUP1121259号報、SUP765265号報、
DEP2126296号報、およびBull.Che
m.Soc.Jpn.(1966)、39(9)、19
22頁に記載の方法等を挙げることができる。
The triallyl isocyanurate as the component (A) can be produced by various methods. For example, JP-A-2000-109314 and JP-A-2000-119.
No. 016 report, JP-A-11-255753 report, JP-A-9
-208564, JP-A-8-259711, JP-A-4-321655, JP-A-4-49284, JP-A-62-48671, JP-A-62-455.
78, JP-A-58-85874, JP-A-57-
No. 200371, No. 54-130591, No. 53-92791, No. 50-95289, No. 48-26022, No. 47-225.
88, JP-A-47-14395, JP-A-43-
29395, JP-A-45-15981, JP-A-43-29146, USP3376301, U.S. Pat.
SP3322271 report, SUP1121260 report,
SUP1121259, SUP765265,
DEP2126296, and Bull. Che
m. Soc. Jpn. (1966), 39 (9), 19
The method described on page 22 and the like can be mentioned.

【0013】(A)成分であるトリアリルイソシアヌレ
ートは必要に応じ精製してもよい。精製の方法としては
減圧蒸留や、酸性水、アルカリ性水あるいは/および中
性の水による洗浄や、シリカゲル、活性炭、ケイ酸アル
ミニウムといった吸着材による吸着処理や、モレキュラ
ーシーブス等各種乾燥剤による処理、トルエン共沸等に
よる脱水処理等を挙げることができる。
The triallyl isocyanurate as the component (A) may be purified if necessary. Purification methods include vacuum distillation, washing with acidic water, alkaline water and / or neutral water, adsorption treatment with adsorbents such as silica gel, activated carbon and aluminum silicate, treatment with various desiccants such as molecular sieves, and toluene. Examples of the dehydration treatment include azeotropic distillation.

【0014】(A)成分であるトリアリルイソシアヌレ
ートには必要に応じ添加剤を含有させてもよい。添加剤
としてはハイドロキノン、2,6−t−ブチル−4−メ
チルフェノール(BHT)等のラジカル重合禁止剤など
を挙げることができる。
If desired, the triallyl isocyanurate as the component (A) may contain additives. Examples of the additives include radical polymerization inhibitors such as hydroquinone and 2,6-t-butyl-4-methylphenol (BHT).

【0015】次に、(B)成分であるSiH基を有する
化合物について説明する。
Next, the compound having a SiH group as the component (B) will be described.

【0016】本発明に使用できるSiH基を有する化合
物については特に制限がなく、例えば国際公開WO96
/15194に記載される化合物で、1分子中に少なく
とも2個のSiH基を有するもの等が使用できる。
The compound having a SiH group that can be used in the present invention is not particularly limited, and for example, International Publication WO96.
/ 15194, compounds having at least two SiH groups in one molecule, and the like can be used.

【0017】これらのうち、入手性の面からは、1分子
中に少なくとも2個のSiH基を有する鎖状、及び/又
は、環状ポリオルガノシロキサンが好ましく、(A)成
分との相溶性が良いという観点から、さらに、下記一般
式(I)
Of these, from the viewpoint of availability, a chain-like and / or cyclic polyorganosiloxane having at least two SiH groups in one molecule is preferable and has good compatibility with the component (A). From the viewpoint, the following general formula (I)

【0018】[0018]

【化1】 (式中、R2は炭素数1〜6の有機基を表し、nは3〜
10の数を表す。)で表される、1分子中に少なくとも
2個のSiH基を有する環状ポリオルガノシロキサンが
好ましい。なお、一般式(I)で表される化合物中の置
換基R2は、C、H、Oから構成されるものであること
が好ましく、炭化水素基であることがより好ましい。
[Chemical 1] (In the formula, R 2 represents an organic group having 1 to 6 carbon atoms, and n is 3 to
Represents the number 10. A cyclic polyorganosiloxane having at least two SiH groups in one molecule represented by the formula (1) is preferable. The substituent R 2 in the compound represented by the general formula (I) is preferably composed of C, H and O, more preferably a hydrocarbon group.

【0019】また、前記(A)成分とより良好な相溶性
を有するという観点からは、鎖状、及び/又は、環状ポ
リオルガノシロキサンと、炭素−炭素二重結合を有する
有機化合物から選ばれた1種以上の化合物(以降(E)
成分と称する)との反応物が好ましい。この場合、反応
物の(A)成分との相溶性をさらに高めるために、反応
物から未反応のシロキサン類等を脱揮等により除去した
ものを用いることもできる。
From the viewpoint of having a better compatibility with the component (A), it is selected from chain and / or cyclic polyorganosiloxanes and organic compounds having a carbon-carbon double bond. One or more compounds (hereinafter (E)
(Referred to as components) are preferred. In this case, in order to further improve the compatibility with the component (A) of the reaction product, it is possible to use a product obtained by removing unreacted siloxanes and the like from the reaction product by devolatilization.

【0020】(E)成分はSiH基と反応性を有する炭
素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも1個含有する
有機系骨格からなる有機化合物であって、前記(A)成
分と同じ説明のものも使用できる。(E)成分の有機化
合物は、(A)成分の有機化合物と同じであってもよ
く、異なっていてもよい。また単独もしくは2種以上の
ものを混合して用いることが可能である。(B)成分の
(A)成分に対する相溶性を高くしたい場合には、
(E)成分は(A)成分と同一のものが好ましい。
The component (E) is an organic compound having an organic skeleton containing at least one carbon-carbon double bond reactive with a SiH group in one molecule, and is the same as the component (A). Can also be used. The organic compound as the component (E) may be the same as or different from the organic compound as the component (A). Further, it is possible to use a single kind or a mixture of two or more kinds. When it is desired to increase the compatibility of the component (B) with the component (A),
The component (E) is preferably the same as the component (A).

【0021】(E)成分の有機化合物と反応させる鎖
状、及び/又は、環状ポリオルガノシロキサンとして
は、工業的入手性および反応させる場合の反応性が良好
であるという観点からは、1,3,5,7−テトラメチ
ルテトラシクロシロキサンが好ましい。
The chain-like and / or cyclic polyorganosiloxane to be reacted with the organic compound of the component (E) is 1,3 from the viewpoint of industrial availability and good reactivity when reacted. , 5,7-Tetramethyltetracyclosiloxane is preferred.

【0022】(B)成分としても(A)成分と同様に、
着色特に黄変の抑制の観点からフェノール性水酸基およ
び/あるいはフェノール性水酸基の誘導体を有する化合
物の含有量が少ないものが好ましく、フェノール性水酸
基および/あるいはフェノール性水酸基の誘導体を有す
る化合物を含まないものが好ましい。本発明におけるフ
ェノール性水酸基とはベンゼン環、ナフタレン環、アン
トラセン環等に例示される芳香族炭化水素核に直接結合
した水酸基を示し、フェノール性水酸基の誘導体とは上
述のフェノール性水酸基の水素原子をメチル基、エチル
基等のアルキル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル
基、アセトキシ基等のアシル基等により置換された基を
示す。
As the component (B), the same as the component (A),
It is preferable that the content of the compound having a phenolic hydroxyl group and / or a derivative of a phenolic hydroxyl group is small, especially from the viewpoint of suppressing yellowing, and that does not include a compound having a phenolic hydroxyl group and / or a derivative of a phenolic hydroxyl group. Is preferred. The phenolic hydroxyl group in the present invention is a benzene ring, a naphthalene ring, a hydroxyl group directly bonded to an aromatic hydrocarbon nucleus exemplified by the anthracene ring, and the phenolic hydroxyl group derivative is a hydrogen atom of the above-mentioned phenolic hydroxyl group. A group substituted with an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group, an alkenyl group such as a vinyl group and an allyl group, and an acyl group such as an acetoxy group.

【0023】また複屈折率が低い、光弾性係数が低い等
のように光学特性が良好であるとともに耐候性が良好で
あるという観点からは、芳香環の(A)成分中の成分重
量比が50重量%以下であるものが好ましく、40重量
%以下のものがより好ましく、30重量%以下のものが
さらに好ましい。最も好ましいのは芳香族炭化水素環を
含まないものである。
From the viewpoint of good optical properties such as low birefringence and low photoelastic coefficient and good weather resistance, the weight ratio of the components in the component (A) of the aromatic ring is It is preferably 50% by weight or less, more preferably 40% by weight or less, still more preferably 30% by weight or less. Most preferred are those containing no aromatic hydrocarbon rings.

【0024】光学特性が良好であるという観点からより
好ましい(B)成分としては、1,3,5,7−テトラ
メチルテトラシクロシロキサンとビニルシクロヘキセン
の反応物、1,3,5,7−テトラメチルテトラシクロ
シロキサンとジシクロペンタジエンの反応物、1,3,
5,7−テトラメチルテトラシクロシロキサンとトリア
リルイソシアヌレートの反応物、1,3,5,7−テト
ラメチルテトラシクロシロキサンと2,2−ビス(4−
ヒドロキシシクロヘキシル)プロパンのジアリルエーテ
ルの反応物、1,3,5,7−テトラメチルテトラシク
ロシロキサンと1,2,4−トリビニルシクロヘキサン
の反応物が挙げられ、特に好ましい(B)成分として
は、1,3,5,7−テトラメチルテトラシクロシロキ
サンとトリアリルイソシアヌレートの反応物、1,3,
5,7−テトラメチルテトラシクロシロキサンと2,2
−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパンのジ
アリルエーテルの反応物、1,3,5,7−テトラメチ
ルテトラシクロシロキサンと1,2,4−トリビニルシ
クロヘキサンの反応物等が挙げられる。
More preferable component (B) from the viewpoint of good optical properties is a reaction product of 1,3,5,7-tetramethyltetracyclosiloxane and vinylcyclohexene, 1,3,5,7-tetra. Reaction product of methyltetracyclosiloxane and dicyclopentadiene, 1,3
Reaction product of 5,7-tetramethyltetracyclosiloxane and triallyl isocyanurate, 1,3,5,7-tetramethyltetracyclosiloxane and 2,2-bis (4-
Specific examples of the component (B) include a reaction product of a diallyl ether of hydroxycyclohexyl) propane and a reaction product of 1,3,5,7-tetramethyltetracyclosiloxane and 1,2,4-trivinylcyclohexane. Reaction product of 1,3,5,7-tetramethyltetracyclosiloxane and triallyl isocyanurate, 1,3,5
5,7-Tetramethyltetracyclosiloxane and 2,2
-A reaction product of diallyl ether of bis (4-hydroxycyclohexyl) propane, a reaction product of 1,3,5,7-tetramethyltetracyclosiloxane and 1,2,4-trivinylcyclohexane, and the like.

【0025】以上を総合して1,3,5,7−テトラメ
チルテトラシクロシロキサンとトリアリルイソシアヌレ
ートの反応物が最も好ましい。
In total, the reaction product of 1,3,5,7-tetramethyltetracyclosiloxane and triallyl isocyanurate is most preferable.

【0026】上記したような(A)成分と(B)成分の
混合比率は、必要な強度を失わない限りは特に限定され
ないが、(B)成分中のSiH基の数(Y)の(A)成
分中の炭素−炭素二重結合の数(X)に対する比が、
2.0≧Y/X≧0.9であることが好ましく、1.8
≧Y/X≧1.0がより好ましい。2.0>Y/Xの場
合は、十分な硬化性が得られず、充分な強度が得られな
い場合があり、Y/X<0.9の場合は炭素−炭素二重
結合が過剰となり着色の原因となり得る。
The mixing ratio of the component (A) and the component (B) as described above is not particularly limited as long as the necessary strength is not lost, but (A) of the number (Y) of the number of SiH groups in the component (B) is not limited. ) The ratio of the carbon-carbon double bond in the component to the number (X) is
It is preferable that 2.0 ≧ Y / X ≧ 0.9, and 1.8 is preferable.
More preferably, ≧ Y / X ≧ 1.0. When 2.0> Y / X, sufficient curability may not be obtained and sufficient strength may not be obtained, and when Y / X <0.9, the carbon-carbon double bond becomes excessive. It can cause coloring.

【0027】次に(C)成分であるヒドロシリル化触媒
について説明する。
Next, the hydrosilylation catalyst which is the component (C) will be described.

【0028】ヒドロシリル化触媒としては、ヒドロシリ
ル化反応の触媒活性があれば特に限定されないが、例え
ば、白金の単体、アルミナ、シリカ、カーボンブラック
等の担体に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、塩
化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトン等との錯
体、白金−オレフィン錯体(例えば、Pt(CH2=C
22(PPh32、Pt(CH2=CH22Cl2)、
白金−ビニルシロキサン錯体(例えば、Pt(ViMe
2SiOSiMe2Vi)n、Pt[(MeViSi
O)4m)、白金−ホスフィン錯体(例えば、Pt(P
Ph34、Pt(PBu34)、白金−ホスファイト錯
体(例えば、Pt[P(OPh)34、Pt[P(OB
u)34)(式中、Meはメチル基、Buはブチル基、
Viはビニル基、Phはフェニル基を表し、n、mは、
整数を示す。)、ジカルボニルジクロロ白金、カールシ
ュテト(Karstedt)触媒、また、アシュビー
(Ashby)の米国特許第3159601号および3
159662号明細書中に記載された白金−炭化水素複
合体、ならびにラモロー(Lamoreaux)の米国
特許第3220972号明細書中に記載された白金アル
コラート触媒が挙げられる。さらに、モディック(Mo
dic)の米国特許第3516946号明細書中に記載
された塩化白金−オレフィン複合体も本発明において有
用である。
The hydrosilylation catalyst is not particularly limited as long as it has catalytic activity for the hydrosilylation reaction. For example, a simple substance of platinum, a carrier such as alumina, silica, carbon black or the like on which solid platinum is supported, chloroplatinic acid chloride. , Complexes of chloroplatinic acid with alcohols, aldehydes, ketones, etc., platinum-olefin complexes (eg Pt (CH 2 ═C
H 2 ) 2 (PPh 3 ) 2 , Pt (CH 2 = CH 2 ) 2 Cl 2 ),
Platinum-vinyl siloxane complex (for example, Pt (ViMe
2 SiOSiMe 2 Vi) n , Pt [(MeViSi
O) 4 ] m ), a platinum-phosphine complex (for example, Pt (P
Ph 3) 4, Pt (PBu 3) 4), platinum - phosphite complex (e.g., Pt [P (OPh) 3 ] 4, Pt [P (OB
u) 3 ] 4 ) (wherein Me is a methyl group, Bu is a butyl group,
Vi represents a vinyl group, Ph represents a phenyl group, and n and m are
Indicates an integer. ), Dicarbonyldichloroplatinum, Karstedt catalyst, and Ashby US Pat. Nos. 3,159,601 and 3.
Platinum-hydrocarbon complexes described in 159662, as well as platinum alcoholate catalysts described in Lamoreaux, U.S. Pat. No. 3,209,972. In addition, Modic (Mo
The platinum chloride-olefin composites described in U.S. Pat. No. 3,516,946 to Dic) are also useful in the present invention.

【0029】また、白金化合物以外の触媒の例として
は、RhCl(PPh)3、RhCl3、RhAl23
RuCl3、IrCl3、FeCl3、AlCl3、PdC
2・2H2O、NiCl2、TiCl4、等が挙げられ
る。
Examples of catalysts other than platinum compounds include RhCl (PPh) 3 , RhCl 3 , RhAl 2 O 3 ,
RuCl 3 , IrCl 3 , FeCl 3 , AlCl 3 , PdC
l 2 .2H 2 O, NiCl 2 , TiCl 4 , and the like.

【0030】これらの中では、触媒活性の点から塩化白
金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン
錯体等が好ましい。また、これらの触媒は単独で使用し
てもよく、2種以上併用してもよい。
Among these, chloroplatinic acid, platinum-olefin complex, platinum-vinylsiloxane complex and the like are preferable from the viewpoint of catalytic activity. Further, these catalysts may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0031】触媒の添加量は特に限定されないが、十分
な硬化性を有し、かつ硬化性組成物のコストを比較的低
く抑えるために、SiH基1モルに対して、10-1〜1
-8モルの範囲が好ましく、より好ましくは、10-2
10-6モルの範囲である。
The amount of the catalyst added is not particularly limited, but in order to have sufficient curability and to keep the cost of the curable composition relatively low, it is 10 -1 to 1 -1 with respect to 1 mol of SiH groups.
The range of 0 -8 mol is preferable, and more preferably 10 -2 to
It is in the range of 10 −6 mol.

【0032】また、上記触媒には助触媒を併用すること
が可能であり、例としてトリフェニルホスフィン等のリ
ン系化合物、ジメチルマレエート等の1、2−ジエステ
ル系化合物、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−ブチン
等のアセチレンアルコール系化合物、単体の硫黄等の硫
黄系化合物、トリエチルアミン等のアミン系化合物等が
挙げられる。助触媒の添加量は特に限定されないが、触
媒1モルに対して、10-2〜102モルの範囲が好まし
く、より好ましくは10-1〜10モルの範囲である。
A cocatalyst may be used in combination with the above catalyst, and examples thereof include phosphorus compounds such as triphenylphosphine, 1,2-diester compounds such as dimethyl maleate, and 2-hydroxy-2-. Examples thereof include acetylene alcohol compounds such as methyl-1-butyne, sulfur compounds such as elemental sulfur, and amine compounds such as triethylamine. The amount of the cocatalyst added is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 -2 to 10 2 mol, and more preferably in the range of 10 -1 to 10 mol, per 1 mol of the catalyst.

【0033】さらに本発明の組成物の保存安定性を改良
する目的、あるいは製造過程でのヒドロシリル化反応の
反応性を調整する目的で、硬化遅延剤を使用することが
できる。硬化遅延剤としては、脂肪族不飽和結合を含有
する化合物、有機リン化合物、有機イオウ化合物、窒素
含有化合物、スズ系化合物、有機過酸化物等が挙げら
れ、これらを併用してもかまわない。脂肪族不飽和結合
を含有する化合物として、プロパギルアルコール類、エ
ン−イン化合物類、マレイン酸エステル類等が例示され
る。有機リン化合物としては、トリオルガノフォスフィ
ン類、ジオルガノフォスフィン類、オルガノフォスフォ
ン類、トリオルガノフォスファイト類等が例示される。
有機イオウ化合物としては、オルガノメルカプタン類、
ジオルガノスルフィド類、硫化水素、ベンゾチアゾー
ル、ベンゾチアゾールジサルファイド等が例示される。
窒素含有化合物としては、アンモニア、1〜3級アルキ
ルアミン類、アリールアミン類、尿素、ヒドラジン等が
例示される。スズ系化合物としては、ハロゲン化第一ス
ズ2水和物、カルボン酸第一スズ等が例示される。有機
過酸化物としては、ジ−t−ブチルペルオキシド、ジク
ミルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、過安息香
酸t−ブチル等が例示される。
Further, a curing retarder can be used for the purpose of improving the storage stability of the composition of the present invention or for adjusting the reactivity of the hydrosilylation reaction in the production process. Examples of the curing retarder include compounds containing an aliphatic unsaturated bond, organic phosphorus compounds, organic sulfur compounds, nitrogen-containing compounds, tin compounds and organic peroxides, and these may be used in combination. Examples of the compound containing an aliphatic unsaturated bond include propargyl alcohols, en-yne compounds, maleic acid esters and the like. Examples of the organic phosphorus compound include triorganophosphines, diorganophosphines, organophosphines, triorganophosphites and the like.
Organic sulfur compounds include organomercaptans,
Examples thereof include diorganosulfides, hydrogen sulfide, benzothiazole, benzothiazole disulfide and the like.
Examples of the nitrogen-containing compound include ammonia, primary to tertiary alkylamines, arylamines, urea, hydrazine and the like. Examples of the tin-based compound include stannous halide dihydrate and stannous carboxylate. Examples of organic peroxides include di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, benzoyl peroxide, and t-butyl perbenzoate.

【0034】これらの硬化遅延剤のうち、遅延活性が良
好で原料入手性がよいという観点からは、ベンゾチアゾ
ール、チアゾール、ジメチルマレート、3−ヒドロキシ
−3−メチル−1−ブチンが好ましい。
Of these curing retarders, benzothiazole, thiazole, dimethylmalate and 3-hydroxy-3-methyl-1-butyne are preferable from the viewpoint of good delay activity and good availability of raw materials.

【0035】貯蔵安定性改良剤の添加量は、使用するヒ
ドロシリル化触媒1molに対し、10-1〜103モル
の範囲が好ましく、より好ましくは1〜50モルの範囲
である。
The amount of the storage stability improver added is preferably in the range of 10 -1 to 10 3 mol, more preferably 1 to 50 mol, based on 1 mol of the hydrosilylation catalyst used.

【0036】次に(D)成分である熱可塑性樹脂につい
て説明する。
Next, the thermoplastic resin as the component (D) will be described.

【0037】(D)成分はブチルアクリレート系重合
体、ブチルメタクリレート系重合体、メチルメタクリレ
ート/ブチルアクリレート系共重合体から選ばれる1種
または複数種の重合体である。(A)成分にトリアリル
イソシアヌレートを用いた場合、これらの(D)成分を
使用した時に(A)成分との相溶性が良好であり、本発
明の光学材料用組成物を硬化させて得られる光学材料の
耐光性が高くなる。
Component (D) is one or more polymers selected from butyl acrylate polymers, butyl methacrylate polymers and methyl methacrylate / butyl acrylate copolymers. When triallyl isocyanurate is used as the component (A), it has good compatibility with the component (A) when these components (D) are used, and is obtained by curing the composition for optical materials of the present invention. The light resistance of the optical material used is increased.

【0038】(D)成分のブチルアクリレート系重合体
は、アクリル酸-n-ブチル50〜100重量%好ましく
は80〜100重量%と、これと共重合可能なビニル系
単量体0〜50重量%好ましくは0〜20重量%との共
重合体からなる。
The butyl acrylate polymer as the component (D) is 50 to 100% by weight, preferably 80 to 100% by weight of n-butyl acrylate, and 0 to 50% by weight of a vinyl monomer copolymerizable therewith. %, Preferably 0 to 20% by weight.

【0039】この場合ビニル系単量体としては、例え
ば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸-n-プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタ
クリル酸-n-ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタク
リル酸-tert-ブチル、メタクリル酸-n-ペンチル、
メタクリル酸-n-ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシ
ル、メタクリル酸-n-ヘプチル、メタクリル酸-n-オク
チル、メタクリル酸-2-エチルヘキシル、メタクリル酸
ノニル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ドデシル、
メタクリル酸フェニル、メタクリル酸トルイル、メタク
リル酸ベンジル、メタクリル酸イソボルニル、メタクリ
ル酸-2-メトキシエチル、メタクリル酸-3-メトキシブ
チル、メタクリル酸-2-ヒドロキシエチル、メタクリル
酸-2-ヒドロキシプロピル、メタクリル酸ステアリル、
メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸2-アミノエチ
ル、γ-(メタクリロイルオキシプロピル)トリメトキ
シシラン、γ-(メタクリロイルオキシプロピル)ジメ
トキシメチルシラン、メタクリル酸のエチレンオキサイ
ド付加物、メタクリル酸トリフルオロメチルメチル、メ
タクリル酸-2-トリフルオロメチルエチル、メタクリル
酸-2-パーフルオロエチルエチル、メタクリル酸-2-パ
ーフルオロエチル-2-パーフルオロブチルエチル、メタ
クリル酸-2-パーフルオロエチル、メタクリル酸パーフ
ルオロメチル、メタクリル酸ジパーフルオロメチルメチ
ル、メタクリル酸-2-パーフルオロメチル-2-パーフル
オロエチルメチル、メタクリル酸-2-パーフルオロヘキ
シルエチル、メタクリル酸-2-パーフルオロデシルエチ
ル、メタクリル酸-2-パーフルオロヘキサデシルエチ
ル、メタクリル酸アリル、メタクリル酸-2-アリロキシ
エチルなどのメタクリル酸エステル類;メタクリル酸、
アクリル酸などのアクリル酸類;アクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、アクリル酸-n-プロピル、アクリル酸
イソプロピル、アクリル酸-n-ブチル、アクリル酸イソ
ブチル、アクリル酸-t-ブチル、アクリル酸-n-ペンチ
ル、アクリル酸-n-ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシ
ル、アクリル酸-n-ヘプチル、アクリル酸-n-オクチ
ル、アクリル酸-2-エチルヘキシル、アクリル酸ノニ
ル、アクリル酸デシル、アクリル酸ドデシル、アクリル
酸フェニル、アクリル酸トルイル、アクリル酸ベンジ
ル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸-2-メトキシ
エチル、アクリル酸-3-メトキシブチル、アクリル酸-
2-ヒドロキシエチル、アクリル酸-2-ヒドロキシプロ
ピル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸グリシジル、
アクリル酸2-アミノエチル、アクリル酸のエチレンオ
キサイド付加物、アクリル酸トリフルオロメチルメチ
ル、アクリル酸2-トリフルオロメチルエチル、アクリ
ル酸-2-パーフルオロエチルエチル、アクリル酸2-パ
ーフルオロエチル-2-パーフルオロブチルエチル、アク
リル酸2-パーフルオロエチル、アクリル酸パーフルオ
ロメチル、アクリル酸ジパーフルオロメチルメチル、ア
クリル酸-2-パーフルオロメチル-2-パーフルオロエチ
ルメチル、アクリル酸-2-パーフルオロヘキシルエチ
ル、アクリル酸2-パーフルオロデシルエチル、アクリ
ル酸-2-パーフルオロヘキサデシルエチル、アクリル酸
アリル、アクリル酸-2-アリロキシエチルなどのアクリ
ル酸エステル;スチレン、α-メチルスチレン、p-メチ
ルスチレン、p-メトキシスチレンなどの芳香族アルケ
ニル化合物;アクリロニトリル、メタクリロニトリルな
どのシアン化ビニル化合物;ブタジエン、イソプレンな
どの共役ジエン系化合物;塩化ビニル、塩化ビニリデ
ン、パーフルオロエチレン、パーフルオロプロピレン、
フッ化ビニリデンなどのハロゲン含有不飽和化合物;ビ
ニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランな
どのケイ素含有不飽和化合物;無水マレイン酸、マレイ
ン酸、マレイン酸のモノアルキルエステル及びジアルキ
ルエステル、フマル酸、フマル酸のモノアルキルエステ
ル及びジアルキルエステルなどの不飽和ジカルボン酸化
合物;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビ
ニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニルなどのビニルエス
テル化合物;マレイミド、メチルマレイミド、エチルマ
レイミド、プロピルマレイミド、ブチルマレイミド、ヘ
キシルマレイミド、オクチルマレイミド、ドデシルマレ
イミド、ステアリルマレイミド、フェニルマレイミド、
シクロヘキシルマレイミドなどのマレイミド系化合物な
どが挙げられる。これらは単独で用いてもよいしまたは
これらの2種以上を組み合わせて用いることもできる。
In this case, examples of vinyl monomers include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, -n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, -n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, methacrylic acid -tert-. Butyl, methacrylic acid-n-pentyl,
Methacrylic acid-n-hexyl, cyclohexyl methacrylate, methacrylate-n-heptyl, methacrylate-n-octyl, methacrylate-2-ethylhexyl, nonyl methacrylate, decyl methacrylate, dodecyl methacrylate,
Phenyl methacrylate, toluyl methacrylate, benzyl methacrylate, isobornyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 3-methoxybutyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, methacrylic acid Stearyl,
Glycidyl methacrylate, 2-aminoethyl methacrylate, γ- (methacryloyloxypropyl) trimethoxysilane, γ- (methacryloyloxypropyl) dimethoxymethylsilane, ethylene oxide adduct of methacrylic acid, trifluoromethylmethyl methacrylate, methacrylic acid -2-trifluoromethylethyl, methacrylic acid-2-perfluoroethylethyl, methacrylic acid-2-perfluoroethyl-2-perfluorobutylethyl, methacrylic acid-2-perfluoroethyl, perfluoromethylmethacrylate, methacryl Acid diperfluoromethylmethyl, methacrylic acid-2-perfluoromethyl-2-perfluoroethylmethyl, methacrylic acid-2-perfluorohexylethyl, methacrylic acid-2-perfluorodecylethyl, methacrylic acid-2-perful Methacrylic acid; b hexadecyl ethyl, allyl methacrylate, methacrylic acid esters such as methacrylic acid-2-Arirokishiechiru
Acrylic acids such as acrylic acid; methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylate-n-propyl, isopropyl acrylate, acrylate-n-butyl, acrylate butyl, acrylate-t-butyl, acrylate-n-pentyl , Acrylate-n-hexyl, acrylate cyclohexyl, acrylate-n-heptyl, acrylate-n-octyl, acrylate-2-ethylhexyl, nonyl acrylate, decyl acrylate, dodecyl acrylate, phenyl acrylate, acrylic Toluyl acid, Benzyl acrylate, Isobornyl acrylate, 2-Methoxyethyl acrylate, 3-Methoxybutyl acrylate, Acrylic acid-
2-hydroxyethyl, 2-hydroxypropyl acrylate, stearyl acrylate, glycidyl acrylate,
2-Aminoethyl acrylate, ethylene oxide adduct of acrylic acid, trifluoromethylmethyl acrylate, 2-trifluoromethylethyl acrylate, 2-perfluoroethylethyl acrylate, 2-perfluoroethyl-2 acrylate -Perfluorobutylethyl, 2-perfluoroethyl acrylate, Perfluoromethyl acrylate, Diperfluoromethylmethyl acrylate, 2-Perfluoromethyl-2-perfluoroethylmethyl acrylate, 2-Peracrylic acrylate Acrylic esters such as fluorohexylethyl, 2-perfluorodecylethyl acrylate, 2-perfluorohexadecylethyl acrylate, allyl acrylate and 2-allyloxyethyl acrylate; styrene, α-methylstyrene, p -Methyl styrene, p-methoxy styrene Aromatic alkenyl compounds of acrylonitrile, methacrylonitrile vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile; butadiene, conjugated diene compounds such as isoprene; vinyl chloride, vinylidene chloride, perfluoroethylene, perfluoropropylene,
Halogen-containing unsaturated compounds such as vinylidene fluoride; Silicon-containing unsaturated compounds such as vinyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane; Maleic anhydride, maleic acid, monoalkyl and dialkyl esters of maleic acid, fumaric acid, fumaric acid Unsaturated dicarboxylic acid compounds such as monoalkyl esters and dialkyl esters; vinyl acetate compounds such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl pivalate, vinyl benzoate and vinyl cinnamate; maleimide, methylmaleimide, ethylmaleimide, propylmaleimide, Butyl maleimide, hexyl maleimide, octyl maleimide, dodecyl maleimide, stearyl maleimide, phenyl maleimide,
Examples thereof include maleimide compounds such as cyclohexylmaleimide. These may be used alone or in combination of two or more thereof.

【0040】これらの中でも、入手しやすさの点で、メ
タクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸
アリル、メタクリル酸-n-ブチル、メタクリル酸-2-エ
チルヘキシル、メタクリル酸ラウリル、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸アリル、アクリル酸
-n-ブチル、アクリル酸-2-エチルヘキシル、アクリル
酸ラウリルが好ましい。
Among these, in terms of availability, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, allyl methacrylate, -n-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, lauryl methacrylate, methyl acrylate, acryl Ethyl acid, Allyl acrylate, Acrylic acid
-n-Butyl, 2-ethylhexyl acrylate and lauryl acrylate are preferred.

【0041】このようなブチルアクリレート系重合体の
具体例としては、アクリル酸-n-ブチルの単独重合体、
アクリル酸-n-ブチル85〜100重量%とアクリル酸
アリル0〜15重量%の共重合体、アクリル酸-n-ブチ
ル85〜100重量%とメタクリル酸アリル0〜15重
量%の共重合体、アクリル酸-n-ブチル50〜100重
量%とメタクリル酸-n-ブチル0〜50重量%の共重合
体などを挙げることができる。
Specific examples of such a butyl acrylate polymer include homopolymers of n-butyl acrylate,
A copolymer of 85 to 100% by weight of acrylic acid-n-butyl and 0 to 15% by weight of allyl acrylate, a copolymer of 85 to 100% by weight of acrylic acid-n-butyl and 0 to 15% by weight of allyl methacrylate, A copolymer of 50 to 100% by weight of acrylic acid-n-butyl and 0 to 50% by weight of methacrylic acid-n-butyl may be mentioned.

【0042】(D)成分のブチルメタクリレート系重合
体は、メタクリル酸-n-ブチル50〜100重量%好ま
しくは80〜100重量%と、これと共重合可能なビニ
ル系単量体0〜50重量%好ましくは0〜20重量%と
の共重合体からなる。
The butyl methacrylate polymer as the component (D) is 50 to 100% by weight, preferably 80 to 100% by weight of n-butyl methacrylate, and 0 to 50% by weight of a vinyl monomer copolymerizable therewith. %, Preferably 0 to 20% by weight.

【0043】この場合のビニル系単量体およびその好ま
しい例としては、上記ブチルアクリレート系重合体の場
合のビニル系単量体およびその好ましい例と同じものが
挙げられる。
In this case, the vinyl-based monomer and its preferred examples are the same as the vinyl-based monomer in the case of the butyl acrylate polymer and its preferred examples.

【0044】このようなブチルメタクリレート系重合体
の具体例としては、メタクリル酸-n-ブチルの単独重合
体、メタクリル酸-n-ブチル85〜100重量%とアク
リル酸アリル0〜15重量%の共重合体、メタクリル酸
-n-ブチル85〜100重量%とメタクリル酸アリル0
〜15重量%の共重合体、メタクリル酸-n-ブチル50
〜100重量%とアクリル酸-n-ブチル0〜50重量%
の共重合体などを挙げることができる。
Specific examples of such a butyl methacrylate polymer include homopolymers of n-butyl methacrylate and 85 to 100% by weight of n-butyl methacrylate and 0 to 15% by weight of allyl acrylate. Polymer, methacrylic acid
85 to 100% by weight of n-butyl and 0 of allyl methacrylate
~ 15 wt% copolymer, n-butyl methacrylate 50
~ 100% by weight and 0-50% by weight of n-butyl acrylate
And the like.

【0045】(D)成分のメチルメタクリレート/ブチ
ルアクリレート系共重合体は、メタクリル酸メチル10
〜60重量%好ましくは20〜55重量%と、アクリル
酸-n-ブチル40〜90重量%好ましくは45〜80重
量%の混合物50〜100重量%好ましくは80〜10
0重量%と、これらと共重合可能なビニル系単量体0〜
50重量%好ましくは0〜20重量%との共重合体から
なる。
Component (D), a methyl methacrylate / butyl acrylate copolymer, is methyl methacrylate 10
50-60% by weight, preferably 20-55% by weight, and a mixture of 40-90% by weight of n-butyl acrylate, preferably 45-80% by weight, 50-100% by weight, preferably 80-10%.
0% by weight and 0 to 50% of vinyl monomers copolymerizable therewith
50% by weight, preferably 0 to 20% by weight of a copolymer.

【0046】この場合のビニル系単量体およびその好ま
しい例としては、上記ブチルアクリレート系重合体の場
合のビニル系単量体およびその好ましい例と同じものが
挙げられる。
In this case, the vinyl-based monomer and its preferred examples are the same as the vinyl-based monomer in the case of the butyl acrylate polymer and the preferred examples thereof.

【0047】このようなメチルメタクリレート/ブチル
アクリレート系共重合体の具体例としては、メタクリル
酸メチル10〜60重量%とアクリル酸-n-ブチル40
〜90重量%の共重合体、メタクリル酸メチル10〜6
0重量%とアクリル酸-n-ブチル40〜90重量%の混
合物90〜100重量%とメタクリル酸アリル0〜10
重量%の共重合体、メタクリル酸メチル10〜60重量
%とアクリル酸-n-ブチル40〜90重量%の混合物9
0〜100重量%とアクリル酸アリル0〜10重量%の
共重合体などを挙げることができる。
Specific examples of such a methyl methacrylate / butyl acrylate type copolymer include 10 to 60% by weight of methyl methacrylate and 40-n-butyl acrylate.
~ 90 wt% copolymer, methyl methacrylate 10-6
A mixture of 0% by weight and 40-90% by weight of n-butyl acrylate 90-100% by weight and 0-10 allyl methacrylate
Wt% copolymer, a mixture of 10-60 wt% methyl methacrylate and 40-90 wt% methyl n-butyl acrylate 9
Copolymers of 0 to 100% by weight and allyl acrylate 0 to 10% by weight can be mentioned.

【0048】(D)成分の各種重合体としては、直鎖
状、環状、分岐状、星型等各種形状の重合体を用いるこ
とができる。共重合体としては、ランダム共重合、ブロ
ック共重合、グラフト共重合等いずれのタイプの共重合
体でもよい。
As the various polymers as the component (D), linear, cyclic, branched, star-shaped polymers of various shapes can be used. The copolymer may be any type of copolymer such as random copolymer, block copolymer, graft copolymer.

【0049】(D)成分の各種重合体の末端構造は本発
明の要件を満たす限り特に限定はなく、必要に応じ適当
な官能基が導入されていてもよい。官能基としては例え
ば、水酸基、カルボキシル基、トリメトキシシリル基、
メチルジメトキシシリル基などのアルコキシシリル基、
アクリロイル基、メタクリロイル基などのラジカル重合
性不飽和基、アリル基、アミノ基、エポキシ基、イソシ
アネート基あるいはハロゲン基などが挙げられる。
The terminal structure of various polymers as the component (D) is not particularly limited as long as the requirements of the present invention are satisfied, and a suitable functional group may be introduced if necessary. Examples of the functional group include a hydroxyl group, a carboxyl group, a trimethoxysilyl group,
An alkoxysilyl group such as a methyldimethoxysilyl group,
Examples thereof include radically polymerizable unsaturated groups such as acryloyl group and methacryloyl group, allyl group, amino group, epoxy group, isocyanate group and halogen group.

【0050】(D)成分の熱可塑性樹脂のガラス転位温
度としては特に限定はなく種々のものが用いられるが、
得られる硬化物が強靭となりやすいという点において
は、ガラス点移転温度は100℃以下であることが好ま
しく、50℃以下であることがより好ましく、0℃以下
であることがさらに好ましい。ガラス転位温度は粘弾性
測定においてtanδが極大を示す温度として求めるこ
とができる。
The glass transition temperature of the thermoplastic resin as the component (D) is not particularly limited and various ones can be used.
The glass point transfer temperature is preferably 100 ° C. or lower, more preferably 50 ° C. or lower, and further preferably 0 ° C. or lower in that the obtained cured product is likely to be tough. The glass transition temperature can be obtained as a temperature at which tan δ has a maximum in viscoelasticity measurement.

【0051】(D)成分の熱可塑性樹脂としては、分子
中にSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合ある
いは/およびSiH基を有していてもよい。得られる硬
化物がより強靭となりやすいという点においては、分子
中にSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合ある
いは/およびSiH基を平均して1分子中に1個以上有
していることが好ましい。
The thermoplastic resin as the component (D) may have a carbon-carbon double bond and / or a SiH group reactive with the SiH group in the molecule. From the viewpoint that the resulting cured product is likely to be tougher, it has at least one carbon-carbon double bond or / and SiH group reactive in the molecule with SiH group in one molecule. It is preferable.

【0052】(D)成分の熱可塑性樹脂としてはその他
の架橋性基を有していてもよい。この場合の架橋性基と
しては、エポキシ基、アミノ基、アクリロイル基、メタ
クリロイル基などのラジカル重合性不飽和基、カルボキ
シル基、イソシアネート基、ヒドロキシル基、トリメト
キシシリル基、メチルジメトキシシリル基などのアルコ
キシシリル基などが挙げられる。得られる硬化物の耐熱
性が高くなりやすいという点においては、架橋性基を平
均して1分子中に1個以上有していることが好ましい。
The thermoplastic resin as the component (D) may have other crosslinkable groups. As the crosslinkable group in this case, a radically polymerizable unsaturated group such as an epoxy group, an amino group, an acryloyl group and a methacryloyl group, a carboxyl group, an isocyanate group, a hydroxyl group, a trimethoxysilyl group, an alkoxy such as a methyldimethoxysilyl group. Examples thereof include a silyl group. From the viewpoint that the heat resistance of the obtained cured product is likely to be high, it is preferable to have one or more crosslinkable groups in one molecule on average.

【0053】(D)成分の熱可塑製樹脂の分子量として
は、特に限定はないが、(A)成分や(B)成分との相
溶性が良好となりやすいという点においては、数平均分
子量が2000以下であることが好ましく、5000以
下であることがより好ましい。逆に、得られる硬化物が
強靭となりやすいという点においては、数平均分子量が
10000以上であることが好ましく、100000以
上であることがより好ましい。分子量分布についても特
に限定はないが、混合物の粘度が低くなり成形性が良好
となりやすいという点においては、分子量分布が3以下
であることが好ましく、2以下であることがより好まし
く、1.6以下であることがさらに好ましい。
The molecular weight of the thermoplastic resin as the component (D) is not particularly limited, but the number average molecular weight is 2000 in that the compatibility with the components (A) and (B) tends to be good. It is preferably below, and more preferably below 5000. Conversely, the number average molecular weight is preferably 10,000 or more, and more preferably 100,000 or more, in that the obtained cured product is likely to be tough. Although the molecular weight distribution is not particularly limited, the molecular weight distribution is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and 1.6 or less from the viewpoint that the viscosity of the mixture is low and the moldability is likely to be good. The following is more preferable.

【0054】上記のような(D)成分の熱可塑性樹脂と
しては単一のものを用いてもよいし、複数のものを組み
合わせて用いてもよい。
As the thermoplastic resin as the component (D), a single resin may be used, or a plurality of resins may be used in combination.

【0055】(D)成分の熱可塑性樹脂の配合量として
は特に限定はないが、組成物全体の3〜50重量%が好
ましく、3〜20重量%がさらに好ましい。少ないと得
られる硬化物が脆くなりやすいし、多いと耐熱性(高温
での弾性率)が低くなりやすい。
The blending amount of the thermoplastic resin as the component (D) is not particularly limited, but is preferably 3 to 50% by weight, and more preferably 3 to 20% by weight based on the whole composition. When the amount is small, the obtained cured product tends to be brittle, and when the amount is large, heat resistance (elastic modulus at high temperature) tends to be low.

【0056】(D)成分の熱可塑性樹脂としては目的と
する光の透過率が80%以上であるものが好ましい。こ
の場合目的とする光とは用途によって異なるが、例えば
用途が液晶表示装置のような表示装置の場合は目的とす
る光は可視光であり、用途が発光ダイオードの場合は発
光素子から発せられる光である。熱可塑性樹脂の光の透
過率は厚さ1mm相当での光の透過率であり、分光硬度
計などの従来公知の方法によって測定することによって
求められる。
The thermoplastic resin as the component (D) preferably has a desired light transmittance of 80% or more. In this case, the intended light differs depending on the application, but for example, when the application is a display device such as a liquid crystal display device, the intended light is visible light, and when the application is a light emitting diode, the light emitted from the light emitting element. Is. The light transmittance of the thermoplastic resin is the light transmittance at a thickness of 1 mm, and can be determined by measuring with a conventionally known method such as a spectral hardness meter.

【0057】(D)成分の熱可塑性樹脂の屈折率として
は、(A)成分、(B)成分、および(C)成分からな
る硬化性組成物を硬化させた硬化物の屈折率との差が±
0.05以下であることが好ましい。屈折率はアッベ屈
折計によって測定することによって求められる。
The refractive index of the thermoplastic resin as the component (D) is different from the refractive index of the cured product obtained by curing the curable composition comprising the components (A), (B) and (C). Is ±
It is preferably 0.05 or less. The refractive index is obtained by measuring with an Abbe refractometer.

【0058】(D)成分の熱可塑性樹脂は(A)成分あ
るいは/および(B)成分に溶かして均一な状態として
混合してもよいし、粉砕して粒子状態で混合してもよい
し、溶媒に溶かして混合するなどして分散状態としても
よい。得られる硬化物がより透明になりやすいという点
においては、(A)成分あるいは/および(B)成分に
溶かして均一な状態として混合することが好ましい。こ
の場合も、(D)成分の熱硬化性樹脂を(A)成分ある
いは/および(B)成分に直接溶解させてもよいし、溶
媒などを用いて均一に混合してもよいし、その後溶媒を
除いて均一な分散状態あるいは/および混合状態として
もよい。(D)成分の熱可塑性樹脂はは均一に含有させ
ても良いし、含有量に傾斜を付けて含有させてもよい。
The thermoplastic resin as the component (D) may be dissolved in the component (A) and / or the component (B) and mixed in a uniform state, or may be pulverized and mixed in a particle state. You may make it a dispersion state by melt | dissolving in a solvent and mixing. From the viewpoint that the obtained cured product is likely to be more transparent, it is preferable to dissolve it in the component (A) and / or the component (B) and mix them in a uniform state. Also in this case, the thermosetting resin of the component (D) may be directly dissolved in the component (A) and / or the component (B), or may be uniformly mixed with a solvent, and then the solvent may be used. However, it may be in a uniformly dispersed state and / or a mixed state. The thermoplastic resin as the component (D) may be contained uniformly or may be contained with a graded content.

【0059】(D)成分の熱可塑性樹脂を分散させて用
いる場合は、平均粒子径としては、目的とする光の波長
以下であることをが好ましい。この場合、目的の光とは
前述の通りである。粒子系の分布はあってもよく、単一
分散であっても複数のピーク粒径を持っていてもよい
が、硬化性組成物の粘度が低く成形性が良好となりやす
いという観点からは粒子径の変動係数が10%以下であ
ることが好ましい。
When the thermoplastic resin as the component (D) is dispersed and used, the average particle size is preferably not more than the wavelength of the intended light. In this case, the target light is as described above. The particle system may have a distribution, and may have a single dispersion or a plurality of peak particle sizes, but the particle size may be reduced from the viewpoint that the viscosity of the curable composition is low and the moldability tends to be good. It is preferable that the coefficient of variation is 10% or less.

【0060】(D)成分の熱可塑性樹脂としては、耐光
劣化性が高くなりやすいという点においては、フェノー
ル性水酸基および/あるいはフェノール性水酸基の誘導
体を有する化合物の含有量が少ないものが好ましく、フ
ェノール性水酸基および/あるいはフェノール性水酸基
の誘導体を有する化合物を含まないものが好ましい。本
発明におけるフェノール性水酸基とはベンゼン環、ナフ
タレン環、アントラセン環等に例示される芳香族炭化水
素核に直接結合した水酸基を示し、フェノール性水酸基
の誘導体とは上述のフェノール性水酸基の水素原子をメ
チル基、エチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基
等のアルケニル基、アセトキシ基等のアシル基等により
置換された基を示す。
As the thermoplastic resin as the component (D), a resin having a small content of a compound having a phenolic hydroxyl group and / or a derivative of a phenolic hydroxyl group is preferable from the viewpoint that the resistance to photodegradation is likely to be high. Those which do not contain a compound having a derivative of a hydroxyl group and / or a phenolic hydroxyl group are preferable. The phenolic hydroxyl group in the present invention is a benzene ring, a naphthalene ring, a hydroxyl group directly bonded to an aromatic hydrocarbon nucleus exemplified by the anthracene ring, and the phenolic hydroxyl group derivative is a hydrogen atom of the above-mentioned phenolic hydroxyl group. A group substituted with an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group, an alkenyl group such as a vinyl group and an allyl group, and an acyl group such as an acetoxy group.

【0061】(D)成分の熱可塑性樹脂としては、耐光
劣化性が高くなりやすいという点においては、炭素−炭
素二重結合の含有量が低いものが好ましい。具体的には
(D)成分中の炭素−炭素二重結合の含有量が、0.0
1mol/g以下であるものが好ましく、0.001m
ol/g以下であるものがより好ましく、0.0001
mol/g以下であるものがさらに好ましい。
As the thermoplastic resin as the component (D), one having a low carbon-carbon double bond content is preferable from the viewpoint that the resistance to light deterioration is likely to be high. Specifically, the content of the carbon-carbon double bond in the component (D) is 0.0
It is preferably 1 mol / g or less, 0.001 m
More preferably, it is 0.0001 or less.
Those with a mol / g or less are more preferable.

【0062】また複屈折率が低い、光弾性係数が低い等
のように光学特性が良好であるとともに耐候性が良好で
あるという観点からは、芳香環の(A)成分中の成分重
量比が50重量%以下であるものが好ましく、40重量
%以下のものがより好ましく、30重量%以下のものが
さらに好ましい。最も好ましいのは芳香族炭化水素環を
含まないものである。
From the viewpoint of good optical characteristics such as low birefringence and low photoelastic coefficient and good weather resistance, the weight ratio of the components in the component (A) of the aromatic ring is high. It is preferably 50% by weight or less, more preferably 40% by weight or less, still more preferably 30% by weight or less. Most preferred are those containing no aromatic hydrocarbon rings.

【0063】本発明の組成物としては上記したように各
種組み合わせのものが使用できるが、耐熱性が良好であ
るという観点からは、組成物を硬化させて得られる硬化
物のTgが50℃以上となるものが好ましく、100℃
以上となるものがさらに好ましく、150℃以上となる
ものが特に好ましい。
As the composition of the present invention, various combinations can be used as described above, but from the viewpoint of good heat resistance, the cured product obtained by curing the composition has a Tg of 50 ° C. or higher. Is preferably 100 ° C.
The above is more preferable, and the one having a temperature of 150 ° C. or higher is particularly preferable.

【0064】本発明の組成物をそのままフィルムなどに
成形することも可能であるが、該組成物を有機溶剤に溶
解してワニスとすることも可能である。使用できる溶剤
は特に限定されるものではなく、具体的に例示すれば、
ベンゼン、トルエン、ヘキサン、ヘプタンなどの炭化水
素系溶媒、テトラヒドロフラン、1, 4−ジオキサ
ン、ジエチルエーテルなどのエーテル系溶媒、アセト
ン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、クロロホ
ルム、塩化メチレン、1, 2−ジクロロエタンなどの
ハロゲン系溶媒を好適に用いることができる。溶媒は2
種類以上の混合溶媒として用いることもできる。溶媒と
しては、トルエン、テトラヒドロフラン、クロロホルム
が好ましい。使用する溶媒量は、用いる反応性(A)成
分1gに対し、0〜10 mLの範囲で用いるのが好ま
しく、0.5〜5mLの範囲で用いるのがさらに好まし
く、1〜3mLの範囲で用いるのが特に好ましい。使用
量が少ないと、低粘度化などの溶媒を用いることの効果
が得られにくく、また、使用量が多いと、材料に溶剤が
残留して熱クラックなどの問題となり易く、またコスト
的にも不利になり工業的利用価値が低下する。
The composition of the present invention can be directly molded into a film or the like, but it is also possible to dissolve the composition in an organic solvent to form a varnish. The solvent that can be used is not particularly limited, and if specifically illustrated,
Hydrocarbon solvent such as benzene, toluene, hexane, heptane, ether solvent such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, diethyl ether, ketone solvent such as acetone and methyl ethyl ketone, chloroform, methylene chloride, 1,2-dichloroethane, etc. The halogen-based solvent can be preferably used. The solvent is 2
It can also be used as a mixed solvent of more than one kind. As the solvent, toluene, tetrahydrofuran and chloroform are preferable. The amount of the solvent to be used is preferably 0 to 10 mL, more preferably 0.5 to 5 mL, and further preferably 1 to 3 mL with respect to 1 g of the reactive component (A) used. Is particularly preferable. If the amount used is small, it is difficult to obtain the effect of using a solvent such as viscosity reduction, and if the amount used is large, the solvent is likely to remain in the material and cause problems such as thermal cracks, and also in terms of cost. It becomes disadvantageous and the industrial utility value decreases.

【0065】本発明の組成物には、その他、老化防止
剤、ラジカル禁止剤、紫外線吸収剤、接着性改良剤、難
燃剤、界面活性剤、保存安定改良剤、オゾン劣化防止
剤、光安定剤、増粘剤、可塑剤、カップリング剤、酸化
防止剤、熱安定剤、導電性付与剤、帯電防止剤、放射線
遮断剤、核剤、リン系過酸化物分解剤、滑剤、顔料、金
属不活性化剤、物性調整剤などを本発明の目的および効
果を損なわない範囲において添加することができる。
In the composition of the present invention, other than these, an antiaging agent, a radical inhibitor, an ultraviolet absorber, an adhesion improver, a flame retardant, a surfactant, a storage stability improver, an ozone deterioration inhibitor, a light stabilizer. , Thickeners, plasticizers, coupling agents, antioxidants, heat stabilizers, conductivity imparting agents, antistatic agents, radiation blocking agents, nucleating agents, phosphorus-based peroxide decomposers, lubricants, pigments, metal-free agents. An activator, a physical property modifier, etc. can be added within a range that does not impair the objects and effects of the present invention.

【0066】本発明の組成物には必要に応じて無機フィ
ラーを添加してもよい。無機フィラーを添加すると、組
成物の流動性の防止、材料の高強度化に効果がある。無
機フィラーとしては光学特性を低下させない、微粒子状
なものが好ましく、アルミナ、水酸化アルミニウム、溶
融シリカ、結晶性シリカ、超微粉無定型シリカや疎水性
超微粉シリカ、タルク、硫酸バリウム等を挙げることが
できる。
If necessary, an inorganic filler may be added to the composition of the present invention. Addition of an inorganic filler is effective in preventing the fluidity of the composition and increasing the strength of the material. As the inorganic filler, fine particles which do not deteriorate the optical properties are preferable, and alumina, aluminum hydroxide, fused silica, crystalline silica, ultrafine amorphous silica or hydrophobic ultrafine silica, talc, barium sulfate, etc. may be mentioned. You can

【0067】フィラーを添加する方法としては、例えば
アルコキシシラン、アシロキシシラン、ハロゲン化シラ
ン等の加水分解性シランモノマーあるいはオリゴマー
や、チタン、アルミニウム等の金属のアルコキシド、ア
シロキシド、ハロゲン化物等を、本発明の組成物に添加
して、組成物中あるいは組成物の部分反応物中で反応さ
せ、組成物中で無機フィラーを生成させる方法も挙げる
ことができる。
Examples of the method for adding the filler include hydrolyzable silane monomers or oligomers such as alkoxysilane, acyloxysilane and halogenated silane, and alkoxides, acyloxides and halides of metals such as titanium and aluminum. The method of adding to the composition of the invention and reacting in the composition or a partial reaction product of the composition to form an inorganic filler in the composition can also be mentioned.

【0068】また更に、本発明の組成物の特性を改質す
る目的で、種々の熱硬化性樹脂を添加することも可能で
ある。熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、シアナー
ト樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹
脂等が例示されるがこれに限定されるものではない。こ
れらのうち、透明性が高く接着性等の実用特性に優れる
という観点から、透明エポキシ樹脂が好ましい。
Further, various thermosetting resins can be added for the purpose of modifying the characteristics of the composition of the present invention. Examples of the thermosetting resin include epoxy resin, cyanate resin, phenol resin, polyimide resin, urethane resin and the like, but are not limited thereto. Among these, the transparent epoxy resin is preferable from the viewpoint of high transparency and excellent practical properties such as adhesiveness.

【0069】透明エポキシ樹脂としては、例えばビスフ
ェノールAジグリシジルエーテル、2,2’−ビス(4
−グリシジルオキシシクロヘキシル)プロパン、3,4
−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシ
クロヘキサンカーボキシレート、ビニルシクロヘキセン
ジオキサイド、2−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)−5,5−スピロ−(3,4−エポキシシクロヘキ
サン)−1,3−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシ
シクロヘキシル)アジペート、1,2−シクロプロパン
ジカルボン酸ビスグリシジルエステル、トリグリシジル
イソシアヌレート、モノアリルジグリシジルイソシアヌ
レート、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート等の
エポキシ樹脂をヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキ
サヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水
フタル酸、水素化メチルナジック酸無水物等の脂肪族酸
無水物で硬化させるものが挙げられる。これらのエポキ
シ樹脂あるいは硬化剤はそれぞれ単独で用いても、複数
のものを組み合わせてもよい。
Examples of the transparent epoxy resin include bisphenol A diglycidyl ether and 2,2'-bis (4
-Glycidyloxycyclohexyl) propane, 3,4
-Epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexane carboxylate, vinylcyclohexenedioxide, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) -5,5-spiro- (3,4-epoxycyclohexane) -1,3- Epoxy resins such as dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexyl) adipate, 1,2-cyclopropanedicarboxylic acid bisglycidyl ester, triglycidyl isocyanurate, monoallyl diglycidyl isocyanurate, diallyl monoglycidyl isocyanurate and hexahydroanhydride Examples thereof include those cured with an aliphatic acid anhydride such as an acid, methylhexahydrophthalic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, hydrogenated methylnadic acid anhydride. These epoxy resins or curing agents may be used alone or in combination.

【0070】さらに、本発明の組成物には種々の発光ダ
イオード特性改善のための添加剤を添加してもよい。添
加剤としては例えば、発光素子からの光を吸収してより
長波長の蛍光を出す、セリウムで付活されたイットリウ
ム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体等の蛍光体や、
特定の波長を吸収するブルーイング剤等の着色剤、光を
拡散させるための酸化チタン、酸化アルミニウム、シリ
カ、石英ガラス等の酸化ケイ素、タルク、炭酸カルシウ
ム、メラミン樹脂、CTUグアナミン樹脂、ベンゾグア
ナミン樹脂等のような各種無機あるいは有機拡散材、ガ
ラス、アルミノシリケート等の金属酸化物、窒化アルミ
ニウム、窒化ボロン等の金属窒化物等の熱伝導性フィラ
ー等を挙げることができる。
Further, various additives for improving the characteristics of the light emitting diode may be added to the composition of the present invention. Examples of the additive include a phosphor such as yttrium-aluminum-garnet-based phosphor activated with cerium, which absorbs light from the light-emitting element and emits fluorescence having a longer wavelength,
Coloring agents such as bluing agents that absorb specific wavelengths, titanium oxide, aluminum oxide, silica, silica oxide such as silica glass, talc, calcium carbonate, melamine resin, CTU guanamine resin, benzoguanamine resin, etc. Examples thereof include various inorganic or organic diffusion materials, glass, metal oxides such as aluminosilicate, and heat conductive fillers such as metal nitrides such as aluminum nitride and boron nitride.

【0071】発光ダイオード特性改善のための添加剤は
均一に含有させても良いし、含有量に傾斜を付けて含有
させてもよい。この様なフィラー含有樹脂部は発光面前
面のモールド部材用の樹脂を型に流した後、引き続い
て、フィラーを含有させた樹脂を流し発光面後方のモー
ルド部材として形成させることができる。また、モール
ド部材形成後リード端子を表裏両面からテープを張り付
けることによって覆い、この状態でリードフレーム全体
をフィラー含有樹脂を溜めたタンク内に発光ダイオード
のモールド部材の下半分を浸漬した後、引き上げて乾燥
させフィラー含有樹脂部を形成させても良い。
The additive for improving the characteristics of the light emitting diode may be contained uniformly or may be contained with a graded content. Such a filler-containing resin portion can be formed as a molding member on the rear side of the light emitting surface by pouring the resin for the molding member on the front surface of the light emitting surface into the mold, and subsequently, flowing the resin containing the filler. In addition, after forming the mold member, cover the lead terminals by attaching tape from both the front and back sides, and in this state, immerse the lower half of the mold member of the light emitting diode in the tank containing the resin containing the filler, and then pull it up. It may be dried to form the filler-containing resin portion.

【0072】本発明で言う光学用材料とは、可視光、赤
外線、紫外線、X線、レーザーなどの光をその材料中を
通過させる用途に用いる材料一般を示す。
The term "optical material" used in the present invention refers to a general material used for the purpose of passing light such as visible light, infrared rays, ultraviolet rays, X-rays and lasers through the material.

【0073】より具体的には、液晶ディスプレイ分野に
おける基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位
相差板、視野角補正フィルム、接着剤、偏光子保護フィ
ルムなどの液晶用フィルムなどの液晶表示装置周辺材料
である。また、次世代フラットパネルディスプレイとし
て期待されるカラーPDP(プラズマディスプレイ)の
封止剤、反射防止フィルム、光学補正フィルム、ハウジ
ング材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材
料、接着剤、また発光ダイオード表示装置に使用される
発光素子のモールド材、発光ダイオードの封止材、前面
ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、
またプラズマアドレス液晶(PALC)ディスプレイに
おける基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位
相差板、視野角補正フィルム、接着剤、偏光子保護フィ
ルム、また有機EL(エレクトロルミネッセンス)ディ
スプレイにおける前面ガラスの保護フィルム、前面ガラ
ス代替材料、接着剤、またフィールドエミッションディ
スプレイ(FED)における各種フィルム基板、前面ガ
ラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤であ
る。
More specifically, a liquid crystal display such as a substrate material in the field of liquid crystal displays, a light guide plate, a prism sheet, a deflection plate, a retardation plate, a viewing angle correction film, an adhesive, and a film for liquid crystal such as a polarizer protective film. It is a material around the device. In addition, encapsulant for color PDP (plasma display), anti-reflection film, optical correction film, housing material, front glass protective film, front glass substitute material, adhesive, and light emitting diode, which are expected as next-generation flat panel displays. Molding material for light emitting elements used for display devices, sealing material for light emitting diodes, protective film for front glass, front glass substitute material, adhesive,
In addition, the substrate material in a plasma addressed liquid crystal (PALC) display, a light guide plate, a prism sheet, a deflection plate, a retardation plate, a viewing angle correction film, an adhesive, a polarizer protective film, and a front glass in an organic EL (electroluminescence) display. It is a protective film, a front glass substitute material, an adhesive, various film substrates in a field emission display (FED), a protective film for a front glass, a front glass substitute material, and an adhesive.

【0074】光記録分野では、VD(ビデオディス
ク)、CD/CD−ROM、CD−R/RW、DVD−
R/DVD−RAM、MO/MD、PD(相変化ディス
ク)、光カード用のディスク基板材料、ピックアップレ
ンズ、保護フィルム、封止剤、接着剤などである。
In the optical recording field, VD (video disc), CD / CD-ROM, CD-R / RW, DVD-
R / DVD-RAM, MO / MD, PD (phase change disk), disk substrate material for optical card, pickup lens, protective film, sealant, adhesive and the like.

【0075】光学機器分野では、スチールカメラのレン
ズ用材料、ファインダプリズム、ターゲットプリズム、
ファインダーカバー、受光センサー部である。また、ビ
デオカメラの撮影レンズ、ファインダーである。またプ
ロジェクションテレビの投射レンズ、保護フィルム、封
止剤、接着剤などである。光センシング機器のレンズ用
材料、封止剤、接着剤、フィルムなどである。
In the field of optical equipment, materials for steel camera lenses, finder prisms, target prisms,
It is a finder cover and a light receiving sensor. It is also a shooting lens and viewfinder for video cameras. Further, it is a projection lens of a projection television, a protective film, a sealing agent, an adhesive agent and the like. Materials for lenses of optical sensing devices, sealants, adhesives, films, etc.

【0076】光部品分野では、光通信システムでの光ス
イッチ周辺のファイバー材料、レンズ、導波路、素子の
封止剤、接着剤などである。光コネクタ周辺の光ファイ
バー材料、フェルール、封止剤、接着剤などである。光
受動部品、光回路部品ではレンズ、導波路、発光素子の
封止剤、接着剤などである。光電子集積回路(OEI
C)周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止剤、
接着剤などである。
In the field of optical components, there are fiber materials, lenses, waveguides, element sealants and adhesives around optical switches in optical communication systems. Examples include optical fiber materials around optical connectors, ferrules, sealants, and adhesives. Optical passive components and optical circuit components include lenses, waveguides, light emitting element sealants, adhesives, and the like. Optoelectronic integrated circuit (OEI
C) Substrate material, fiber material, element sealant,
For example, an adhesive.

【0077】光ファイバー分野では、装飾ディスプレイ
用照明・ライトガイドなど、工業用途のセンサー類、表
示・標識類など、また通信インフラ用および家庭内のデ
ジタル機器接続用の光ファイバーである。
In the field of optical fibers, it is an optical fiber for industrial displays such as lighting and light guides for decorative displays, sensors for industrial use, displays and signs, and for communication infrastructure and for connecting digital devices at home.

【0078】半導体集積回路周辺材料では、LSI、超
LSI材料用のマイクロリソグラフィー用のレジスト材
料である。
The peripheral material for semiconductor integrated circuits is a resist material for microlithography for LSI and VLSI materials.

【0079】自動車・輸送機分野では、自動車用のラン
プリフレクタ、ベアリングリテーナー、ギア部分、耐蝕
コート、スイッチ部分、ヘッドランプ、エンジン内部
品、電装部品、各種内外装品、駆動エンジン、ブレーキ
オイルタンク、自動車用防錆鋼板、インテリアパネル、
内装材、保護・結束用ワイヤーネス、燃料ホース、自動
車ランプ、ガラス代替品である。また、鉄道車輌用の複
層ガラスである。また、航空機の構造材の靭性付与剤、
エンジン周辺部材、保護・結束用ワイヤーネス、耐蝕コ
ートである。
In the field of automobiles / transportation machines, lamp reflectors for automobiles, bearing retainers, gears, anticorrosion coats, switch parts, headlamps, engine internal parts, electrical parts, various internal and external parts, drive engines, brake oil tanks, Anti-corrosion steel plate for automobiles, interior panel,
Interior materials, protection and binding wireness, fuel hoses, automobile lamps, glass substitutes. In addition, it is a double glazing for railway vehicles. Also, a toughening agent for aircraft structural materials,
Engine peripherals, protection / bundling wireness, corrosion-resistant coating.

【0080】建築分野では、内装・加工用材料、電気カ
バー、シート、ガラス中間膜、ガラス代替品、太陽電池
周辺材料である。農業用では、ハウス被覆用フィルムで
ある。
In the field of construction, materials for interior and processing, electric covers, sheets, glass interlayer films, glass substitutes, and solar cell peripheral materials. For agriculture, it is a house coating film.

【0081】次世代の光・電子機能有機材料としては、
有機EL素子周辺材料、有機フォトリフラクティブ素
子、光−光変換デバイスである光増幅素子、光演算素
子、有機太陽電池周辺の基板材料、ファイバー材料、素
子の封止剤、接着剤などである。
As the next-generation optical / electronic functional organic material,
Materials include organic EL element peripheral materials, organic photorefractive elements, light amplification elements that are light-to-light conversion devices, optical operation elements, substrate materials around organic solar cells, fiber materials, element sealants, and adhesives.

【0082】本発明の光学材料用組成物は、あらかじめ
混合し、組成物中のSiH基と反応性を有する炭素−炭
素二重結合とSiH基の一部または全部およびを反応さ
せ、金属原子あるいは/および半金属原子に結合した加
水分解性基を加水分解縮合反応させることによって硬化
させてなる光学用材料とすることができる。
The composition for optical materials of the present invention is mixed in advance and a carbon-carbon double bond reactive with the SiH group in the composition is reacted with a part or all of the SiH group to form a metal atom or It is possible to obtain an optical material that is cured by subjecting a hydrolyzable group bonded to / and / or a metalloid atom to a hydrolytic condensation reaction.

【0083】(A)成分、(B)成分、(C)成分の混
合の方法としては、各種方法をとることができるが、
(A)成分に(C)成分を混合したものと、(B)成分
にを混合する方法が好ましい。(A)成分、(B)成分
の混合物に(C)成分を混合する方法だと反応の制御が
困難である。(B)成分に(C)成分を混合したものに
(A)成分を混合する方法をとる場合は、(C)成分の
存在下(B)成分が環境中の水分と反応性を有するた
め、貯蔵中などに変質することもある。(D)成分の混
合の方法としては、相溶性、貯蔵安定性、粘度調整その
他の目的で各種の方法をとることができる。(A)成分
に混合してもよいし、(B)成分に混合してもよいし、
適当な割合で(A)、(B)各成分に分けて混合しても
よい。
Various methods can be used for mixing the components (A), (B), and (C).
A method of mixing the component (A) with the component (C) and the component (B) with each other is preferable. When the method of mixing the component (C) with the mixture of the components (A) and (B) is difficult to control the reaction. When the method of mixing the component (A) with the mixture of the component (B) with the component (B) is used, the component (B) is reactive with moisture in the environment in the presence of the component (C). It may deteriorate during storage. As the method of mixing the component (D), various methods can be used for the purposes of compatibility, storage stability, viscosity adjustment and the like. It may be mixed with the component (A) or the component (B),
The components (A) and (B) may be separately mixed at an appropriate ratio.

【0084】組成物を反応させて硬化させる場合におい
て、(A)、(B)、(C)各成分の必要量を一度に混
合して反応させてもよいが、一部を混合して反応させた
後残量を混合してさらに反応させる方法や、混合した後
反応条件の制御や置換基の反応性の差の利用により組成
物中の官能基の一部のみを反応(Bステージ化)させて
から成形などの処理を行いさらに硬化させる方法をとる
こともできる。これらの方法によれば成形時の粘度調整
が容易となる。
When the composition is reacted and cured, the necessary amounts of the respective components (A), (B) and (C) may be mixed at once and reacted, but a part of them may be mixed and reacted. After mixing, the remaining amount is mixed and further reacted, or after mixing, only a part of the functional groups in the composition is reacted by controlling the reaction conditions and utilizing the difference in reactivity of the substituents (B stage conversion) It is also possible to adopt a method in which after the treatment, a treatment such as molding is performed to further cure. According to these methods, the viscosity adjustment during molding becomes easy.

【0085】硬化させる方法としては、単に混合するだ
けで反応させることもできるし、加熱して反応させるこ
ともできる。反応が速く、一般に耐熱性の高い材料が得
られやすいという観点から加熱して反応させる方法が好
ましい。
As a curing method, the reaction can be carried out simply by mixing, or the reaction can be carried out by heating. The method of heating and reacting is preferable from the viewpoint that the reaction is fast and a material having high heat resistance is generally easily obtained.

【0086】反応温度としては種々設定できるが、例え
ば30〜300℃の温度が適用でき、100〜250℃
がより好ましく、150〜200℃がさらに好ましい。
反応温度が低いと十分に反応させるための反応時間が長
くなり、反応温度が高いと成形加工が困難となりやす
い。
The reaction temperature can be variously set, but for example, a temperature of 30 to 300 ° C. can be applied, and 100 to 250 ° C.
Are more preferable, and 150-200 degreeC is still more preferable.
If the reaction temperature is low, the reaction time for sufficiently reacting becomes long, and if the reaction temperature is high, the molding process tends to be difficult.

【0087】反応は一定の温度で行ってもよいが、必要
に応じて多段階あるいは連続的に温度を変化させてもよ
い。一定の温度で行うより多段階的あるいは連続的に温
度を上昇させながら反応させた方が歪のない均一な硬化
物が得られやすいという点においてので好ましい。
The reaction may be carried out at a constant temperature, but the temperature may be changed in multiple stages or continuously if necessary. It is preferable to carry out the reaction while raising the temperature in multiple stages or continuously, as compared with the case where it is carried out at a constant temperature, because it is easy to obtain a uniform cured product without distortion.

【0088】反応時間も種々設定できるが、高温短時間
で反応させるより、比較的低温長時間で反応させた方が
歪のない均一な硬化物が得られやすいという点において
ので好ましい。
Although the reaction time can be set variously, it is preferable to carry out the reaction at a relatively low temperature for a long time, as compared with the reaction at a high temperature for a short time, since a uniform cured product without distortion can be easily obtained.

【0089】反応時の圧力も必要に応じ種々設定でき、
常圧、高圧、あるいは減圧状態で反応させることもでき
る。加水分解縮合により発生する揮発分を除きやすいと
いう点においては、減圧状態で反応させることが好まし
い。
The pressure during the reaction can be set variously as necessary,
The reaction can be carried out under normal pressure, high pressure, or reduced pressure. It is preferable to carry out the reaction under reduced pressure from the viewpoint that volatile components generated by hydrolysis condensation are easily removed.

【0090】硬化させて得られる光学用材料の形状も用
途に応じて種々とりうるので特に限定されないが、例え
ばフィルム状、シート状、チューブ状、ロッド状、塗膜
状、バルク状などの形状とすることができる。
The shape of the optical material obtained by curing may be various according to the use and is not particularly limited. For example, a shape such as a film shape, a sheet shape, a tube shape, a rod shape, a coating film shape, and a bulk shape. can do.

【0091】成形する方法も従来の熱硬化性樹脂の成形
方法をはじめとして種々の方法をとることができる。例
えば、キャスト法、プレス法、注型法、トランスファー
成形法、コーティング法、RIM法などの成形方法を適
用することができる。成形型は研磨ガラス、硬質ステン
レス研磨板、ポリカーボネート板、ポリエチレンテレフ
タレート板、ポリメチルメタクリレート板等を適用する
ことができる。また、成形型との離型性を向上させるた
めポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネ
ートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリエチレン
フィルム、ポリテトラフルオロエチレンフィルム、ポリ
プロピレンフィルム、ポリイミドフィルム等を適用する
ことができる。
Various molding methods can be used including the conventional molding method of thermosetting resin. For example, a molding method such as a casting method, a pressing method, a casting method, a transfer molding method, a coating method, or a RIM method can be applied. As the mold, polishing glass, hard stainless steel polishing plate, polycarbonate plate, polyethylene terephthalate plate, polymethylmethacrylate plate or the like can be applied. Further, in order to improve the releasability from the molding die, a polyethylene terephthalate film, a polycarbonate film, a polyvinyl chloride film, a polyethylene film, a polytetrafluoroethylene film, a polypropylene film, a polyimide film or the like can be applied.

【0092】成形時に必要に応じ各種処理を施すことも
できる。例えば、成形時に発生するボイドの抑制のため
に組成物あるいは一部反応させた組成物を遠心、減圧な
どにより脱泡する処理、プレス時に一旦圧力を開放する
処理などを適用することもできる。
If necessary, various treatments can be applied during molding. For example, a treatment of defoaming the composition or a partially reacted composition by centrifugation, reduced pressure, or the like, or a treatment of temporarily releasing the pressure at the time of pressing can be applied to suppress voids generated during molding.

【0093】本発明の光学用材料を用いて液晶表示装置
を製造することができる。
A liquid crystal display device can be manufactured using the optical material of the present invention.

【0094】この場合、本発明の光学用材料を液晶用プ
ラスチックセル、偏光板、位相差板、偏光子保護フィル
ムなどの液晶用フィルムとして使用し、通常の方法によ
って液晶表示装置を製造すればよい。
In this case, the optical material of the present invention is used as a liquid crystal film such as a plastic cell for liquid crystal, a polarizing plate, a retardation plate, and a polarizer protective film, and a liquid crystal display device may be manufactured by a usual method. .

【0095】本発明の光学用材料を用いて発光ダイオー
ドを製造することができる。この場合、発光ダイオード
は上記したような硬化性組成物によって発光素子を被覆
することによって製造することができる。
A light emitting diode can be manufactured using the optical material of the present invention. In this case, the light emitting diode can be manufactured by coating the light emitting element with the curable composition as described above.

【0096】この場合発光素子とは、特に限定なく従来
公知の発光ダイオードに用いられる発光素子を用いるこ
とができる。このような発光素子としては、例えば、M
OCVD法、HDVPE法、液相成長法といった各種方
法によって、必要に応じてGaN、AlN等のバッファ
ー層を設けた基板上に半導体材料を積層して作成したも
のが挙げられる。この場合の基板としては、各種材料を
用いることができるが、例えばサファイヤ、スピネル、
SiC、Si、ZnO、GaN単結晶等が挙げられる。
これらのうち、結晶性の良好なGaNを容易に形成で
き、工業的利用価値が高いという観点からは、サファイ
ヤを用いることが好ましい。
In this case, the light emitting element is not particularly limited, and a light emitting element used in a conventionally known light emitting diode can be used. As such a light emitting element, for example, M
Examples include those prepared by laminating a semiconductor material on a substrate provided with a buffer layer such as GaN or AlN, if necessary, by various methods such as an OCVD method, an HDVPE method, and a liquid phase growth method. As the substrate in this case, various materials can be used, for example, sapphire, spinel,
Examples thereof include SiC, Si, ZnO, and GaN single crystal.
Of these, sapphire is preferably used from the viewpoint that GaN having good crystallinity can be easily formed and has high industrial utility value.

【0097】積層される半導体材料としては、GaA
s、GaP、GaAlAs、GaAsP、AlGaIn
P、GaN、InN、AlN、InGaN、InGaA
lN、SiC等が挙げられる。これらのうち、高輝度が
得られるという観点からは、窒化物系化合物半導体(I
nx GayAlz N)が好ましい。このような材料には
付活剤等を含んでいてもよい。
As the semiconductor material to be laminated, GaA is used.
s, GaP, GaAlAs, GaAsP, AlGaIn
P, GaN, InN, AlN, InGaN, InGaA
1N, SiC, etc. are mentioned. Of these, from the viewpoint of obtaining high brightness, a nitride-based compound semiconductor (I
nx GayAlz N) is preferred. Such a material may contain an activator or the like.

【0098】発光素子の構造としては、MIS接合、p
n接合、PIN接合を有するホモ接合、ヘテロ接合やダ
ブルへテロ構造等が挙げられる。また、単一あるいは多
重量子井戸構造とすることもできる。
The structure of the light emitting element is MIS junction, p
Examples include an n-junction, a homojunction having a PIN junction, a heterojunction, and a double hetero structure. Also, a single or multiple quantum well structure can be adopted.

【0099】発光素子はパッシベーション層を設けてい
てもよいし、設けなくてもよい。
The light emitting element may or may not be provided with a passivation layer.

【0100】発光素子には従来知られている方法によっ
て電極を形成することができる。
Electrodes can be formed on the light emitting element by a conventionally known method.

【0101】発光素子上の電極は種々の方法でリード端
子等と電気接続できる。電気接続部材としては、発光素
子の電極とのオーミック性機械的接続性等が良いものが
好ましいく、例えば、金、銀、銅、白金、アルミニウム
やそれらの合金等を用いたボンディングワイヤーが挙げ
られる。また、銀、カーボン等の導電性フィラーを樹脂
で充填した導電性接着剤等を用いることもできる。これ
らのうち、作業性が良好であるという観点からは、アル
ミニウム線或いは金線を用いることが好ましい。
The electrodes on the light emitting element can be electrically connected to lead terminals and the like by various methods. The electrical connection member preferably has good ohmic mechanical connectivity with the electrodes of the light emitting element, and examples thereof include bonding wires using gold, silver, copper, platinum, aluminum or alloys thereof. . A conductive adhesive or the like in which a conductive filler such as silver or carbon is filled with a resin can also be used. Among these, it is preferable to use an aluminum wire or a gold wire from the viewpoint of good workability.

【0102】上記のようにして発光素子が得られるが、
本発明の発光ダイオードにおいては発光素子の光度とし
ては垂直方向の光度が1cd以上であれば任意のものを
用いることができるが、垂直方向の光度が2cd以上の
発光素子を用いた場合により本発明の効果が顕著であ
り、3cd以上の発光素子を用いた場合にさらに本発明
の効果が顕著である。
A light emitting device is obtained as described above,
In the light emitting diode of the present invention, any luminous intensity of the light emitting element can be used as long as the luminous intensity in the vertical direction is 1 cd or more. However, depending on the case where the luminous intensity in the vertical direction is 2 cd or more, the present invention can be used. The effect of the present invention is remarkable, and the effect of the present invention is more remarkable when a light emitting device of 3 cd or more is used.

【0103】発光素子の発光出力としては特に限定なく
任意のものを用いることができるが、20mAにおいて
1mW以上の発光素子を用いた場合に本発明の効果が顕
著であり、20mAにおいて4mW以上の発光素子を用
いた場合により本発明の効果が顕著であり、20mAに
おいて5mW以上の発光素子を用いた場合にさらに本発
明の効果が顕著である。
The light-emission output of the light-emitting element is not particularly limited, and any one can be used, but the effect of the present invention is remarkable when a light-emitting element of 1 mW or more at 20 mA is used, and light emission of 4 mW or more at 20 mA. The effect of the present invention is more remarkable when an element is used, and the effect of the present invention is more remarkable when a light emitting element of 5 mW or more at 20 mA is used.

【0104】発光素子の発光波長は紫外域から赤外域ま
で種々のものを用いることができるが、主発光ピーク波
長が550nm以下のものを用いた場合に特に本発明の
効果が顕著である。
Various emission wavelengths of the light emitting element can be used from the ultraviolet region to the infrared region, and the effect of the present invention is particularly remarkable when the main emission peak wavelength is 550 nm or less.

【0105】用いる発光素子は一種類で単色発光させて
も良いし、複数用いて単色或いは多色発光させても良
い。
One type of light emitting element may be used for single color emission, or a plurality of light emitting elements may be used for single color or multicolor emission.

【0106】本発明の発光ダイオードに用いられるリー
ド端子としては、ボンディングワイヤー等の電気接続部
材との密着性、電気伝導性等が良好なものが好ましく、
リード端子の電気抵抗としては、300μΩ-cm以下
が好ましく、より好ましくは3μΩ-cm以下である。
これらのリード端子材料としては、例えば、鉄、銅、鉄
入り銅、錫入り銅や、これらに銀、ニッケル等をメッキ
したもの等が挙げられる。これらのリード端子は良好な
光の広がりを得るために適宜光沢度を調整してもよい。
The lead terminal used in the light emitting diode of the present invention is preferably one having good adhesion to an electrical connecting member such as a bonding wire and good electrical conductivity.
The electric resistance of the lead terminal is preferably 300 μΩ-cm or less, more preferably 3 μΩ-cm or less.
Examples of these lead terminal materials include iron, copper, iron-containing copper, tin-containing copper, and those obtained by plating these with silver, nickel, or the like. The glossiness of these lead terminals may be adjusted appropriately in order to obtain good light spread.

【0107】本発明の発光ダイオードは上記したような
硬化性組成物によって発光素子を被覆することによって
製造することができるが、この場合被覆とは、上記発光
素子を直接封止するものに限らず、間接的に被覆する場
合も含む。具体的には、発光素子を本発明の硬化性組成
物で直接従来用いられる種々の方法で封止してもよい
し、従来用いられるエポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ア
クリル樹脂、ユリア樹脂、イミド樹脂等の封止樹脂やガ
ラスで発光素子を封止した後に、その上あるいは周囲を
本発明の硬化性組成物で被覆してもよい。また、発光素
子を本発明の硬化性組成物で封止した後、従来用いられ
るエポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ユリ
ア樹脂、イミド樹脂等でモールディングしてもよい。以
上のような方法によって屈折率や比重の差によりレンズ
効果等の種々の効果をもたせることも可能である。
The light emitting diode of the present invention can be manufactured by coating the light emitting element with the above-mentioned curable composition. In this case, the coating is not limited to the one which directly seals the light emitting element. Including the case of indirectly coating. Specifically, the light emitting device may be sealed with the curable composition of the present invention directly by various methods conventionally used, or conventionally used epoxy resin, silicone resin, acrylic resin, urea resin, imide resin, etc. After encapsulating the light emitting element with the encapsulating resin or glass, the top or the periphery thereof may be coated with the curable composition of the present invention. Further, the light emitting element may be sealed with the curable composition of the present invention and then molded with a conventionally used epoxy resin, silicone resin, acrylic resin, urea resin, imide resin or the like. It is possible to provide various effects such as a lens effect by the difference in refractive index and specific gravity by the above method.

【0108】封止の方法としても各種方法を適用するこ
とができる。例えば、底部に発光素子を配置させたカッ
プ、キャビティ、パッケージ凹部等に液状の硬化性組成
物をディスペンサーその他の方法にて注入して加熱等に
より硬化させてもよいし、固体状あるいは高粘度液状の
硬化性組成物を加熱する等して流動させ同様にパッケー
ジ凹部等に注入してさらに加熱する等して硬化させても
よい。この場合のパッケージは種々の材料を用いて作成
することができ、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリ
フェニレンスルフィド樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹
脂、シリコーン樹脂、ABS樹脂、ポリブチレンテレフ
タレート樹脂、ポリフタルアミド樹脂等を挙げることが
できる。また、モールド型枠中に硬化性組成物をあらか
じめ注入し、そこに発光素子が固定されたリードフレー
ム等を浸漬した後硬化させる方法も適用することができ
るし、発光素子を挿入した型枠中にディスペンサーによ
る注入、トランスファー成形、射出成形等により硬化性
組成物による封止層を成形、硬化させてもよい。さら
に、単に液状または流動状態とした硬化性組成物を発光
素子状に滴下あるいはコーティングして硬化させてもよ
い。あるいは、発光素子上に孔版印刷、スクリーン印
刷、あるいはマスクを介して塗布すること等により硬化
性樹脂を成形させて硬化させることもできる。その他、
あらかじめ板状、あるいはレンズ形状等に部分硬化ある
いは硬化させた硬化性組成物を発光素子上に固定する方
法によってもよい。さらには、発光素子をリード端子や
パッケージに固定するダイボンド剤として用いることも
できるし、発光素子上のパッシベーション膜として用い
ることもできる。また、パッケージ基板として用いるこ
ともできる。
Various methods can be applied as a sealing method. For example, a liquid curable composition may be injected into a cup, a cavity, a package recess or the like having a light emitting element arranged at the bottom by a dispenser or other method and cured by heating, or a solid or high viscosity liquid. The curable composition may be heated to make it flow, and similarly, it may be injected into the concave portion of the package and further heated to be cured. The package in this case can be made using various materials, and examples thereof include polycarbonate resin, polyphenylene sulfide resin, epoxy resin, acrylic resin, silicone resin, ABS resin, polybutylene terephthalate resin, polyphthalamide resin, and the like. be able to. Alternatively, a method of injecting a curable composition into a mold form in advance, immersing a lead frame or the like having a light emitting element fixed therein and then curing the composition may be applied. The sealing layer of the curable composition may be molded and cured by injection with a dispenser, transfer molding, injection molding, or the like. Further, a curable composition which is simply in a liquid or fluid state may be dropped or coated on the light emitting element to be cured. Alternatively, the curable resin can be molded and cured by stencil printing, screen printing, or application through a mask on the light emitting element. Other,
Alternatively, a curable composition that has been partially cured or cured into a plate shape or a lens shape in advance may be fixed on the light emitting element. Further, it can be used as a die bonding agent for fixing the light emitting element to a lead terminal or a package, or can be used as a passivation film on the light emitting element. It can also be used as a package substrate.

【0109】被覆部分の形状も特に限定されず種々の形
状をとることができる。例えば、レンズ形状、板状、薄
膜状、特開平6−244458記載の形状等が挙げられ
る。これらの形状は硬化性組成物を成形硬化させること
によって形成してもよいし、硬化性組成物を硬化した後
に後加工により形成してもよい。
The shape of the covered portion is not particularly limited, and various shapes can be adopted. Examples thereof include a lens shape, a plate shape, a thin film shape, and the shape described in JP-A-6-244458. These shapes may be formed by molding and curing the curable composition, or may be formed by post-processing after curing the curable composition.

【0110】本発明の発光ダイオードは、種々のタイプ
とすることができ、例えば、ランプタイプ、SMDタイ
プ、チップタイプ等いずれのタイプでもよい。SMDタ
イプ、チップタイプのパッケージ基板としては、種々の
ものが用いられ、例えば、エポキシ樹脂、BTレジン、
セラミック等が挙げられる。
The light emitting diode of the present invention can be of various types, for example, any type such as a lamp type, an SMD type and a chip type. Various types of SMD type and chip type package substrates are used, such as epoxy resin, BT resin,
Examples include ceramics.

【0111】その他、本発明の発光ダイオードには従来
公知の種々の方式が適用できる。例えば、発光素子背面
に光を反射あるいは集光する層を設ける方式、封止樹脂
の黄変に対応して補色着色部を底部に形成させる方式、
主発光ピークより短波長の光を吸収する薄膜を発光素子
上に設ける方式、発光素子を軟質あるいは液状の封止材
で封止した後周囲を硬質材料でモールディングする方
式、発光素子からの光を吸収してより長波長の蛍光を出
す蛍光体を含む材料で発光素子を封止した後周囲をモー
ルディングする方式、蛍光体を含む材料をあらかじめ成
形してから発光素子とともにモールドする方式、特開平
6−244458に記載のとおりモールディング材を特
殊形状として発光効率を高める方式、輝度むらを低減さ
せるためにパッケージを2段状の凹部とする方式、発光
ダイオードを貫通孔に挿入して固定する方式、発光素子
表面に主発光波長より短い波長の光を吸収する薄膜を形
成する方式、発光素子をはんだバンプ等を用いたフリッ
プチップ接続等によってリード部材等と接続して基板方
向から光を取出す方式、等を挙げることができる。
In addition, various conventionally known methods can be applied to the light emitting diode of the present invention. For example, a method in which a layer for reflecting or condensing light is provided on the back surface of the light emitting element, a method in which a complementary color coloring portion is formed on the bottom in response to yellowing of the sealing resin,
A method in which a thin film that absorbs light of a wavelength shorter than the main emission peak is provided on the light emitting element, a method in which the light emitting element is sealed with a soft or liquid encapsulating material and then the surroundings are molded with a hard material, and light from the light emitting element is A method in which a light emitting element is sealed with a material containing a phosphor that absorbs and emits fluorescence of a longer wavelength, and then the periphery is molded, a method in which a material containing the phosphor is molded in advance and then molded with the light emitting element. -244458, a molding material having a special shape to improve light emission efficiency, a method in which a package is formed into a two-step recess for reducing uneven brightness, a method in which a light emitting diode is inserted and fixed in a through hole, and light emission is performed. By a method of forming a thin film that absorbs light of a wavelength shorter than the main emission wavelength on the element surface, flip-chip connection of the light emitting element using solder bumps, etc. Method in which light is taken out from the substrate direction by connecting the lead member or the like Te, and the like.

【0112】本発明の発光ダイオードは従来公知の各種
の用途に用いることができる。具体的には、例えばバッ
クライト、照明、センサー光源、車両用計器光源、信号
灯、表示灯、表示装置、面状発光体の光源、ディスプレ
イ、装飾、各種ライト等を挙げることができる。
The light emitting diode of the present invention can be used in various conventionally known applications. Specifically, examples thereof include a backlight, an illumination, a sensor light source, a vehicle instrument light source, a signal light, an indicator light, a display device, a light source of a planar light emitter, a display, a decoration, and various lights.

【0113】[0113]

【実施例】以下に、本発明の実施例および比較例を示す
が、本発明は以下によって限定されるものではない。 (合成例1)200mLの二口フラスコに、磁気攪拌
子、冷却管をセットした。このフラスコにトルエン50
g、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金と
して3wt%含有)11.3μL、トリアリルイソシア
ヌレート5.0g、1、3、5、7−テトラメチルシク
ロテトラシロキサン37.04gを加えて、90℃のオ
イルバス中で30分加温、攪拌した。さらに130℃の
オイルバス中で2時間加熱還流させた。1−エチニル−
1−シクロヘキサノール176mgを加えた。未反応の
1、3、5、7−テトラメチルシクロテトラシロキサン
およびトルエンを減圧留去した。1H−NMRによりこ
のものは1、3、5、7−テトラメチルシクロテトラシ
ロキサンのSiH基の一部がトリアリルイソシアヌレー
トと反応したもの(部分反応物Aと称す)であることが
わかった。 (合成例2)5lのセパラブルフラスコの重合容器内を
窒素置換した後、臭化銅11.3gを量り取り、アセト
ニトリル(モレキュラーシーブスで乾燥後窒素バブリン
グしたもの)180mLを加えた。5分間70℃で加熱
攪拌した後、再び室温に冷却し、開始剤2,5−ジブロ
モアジピン酸ジエチル5.7g、アクリル酸-n-ブチル
804.6gを加えた。80℃で加熱攪拌し、配位子ジ
エチレントリアミン1.6mlを加えて重合を開始し
た。重合開始から一定時間ごとに、重合溶液からサンプ
リング用として重合溶液約0.2mlを抜き取り、サン
プリング溶液のガスクロマトグラム分析によりアクリル
酸-n-ブチルの転化率を決定した。トリアミンを随時加
えることで重合速度を制御した。アクリル酸-n-ブチル
の転化率が95%の時点で、メタクリル酸メチル34
5.7g、塩化銅7.8g、ジエチレントリアミン1.
6ml、トルエン(モレキュラーシーブスで乾燥後窒素
バブリングしたもの)1107.9mlを加えた。同様
にして、メタクリル酸メチルの転化率を決定した。メタ
クリル酸メチルの転化率が85%、アクリル酸-n-ブチ
ルの転化率が98%の時点で、トルエン1500mlを
加え、水浴で反応器を冷却して反応を終了させた。反応
中常に重合溶液は緑色であった。
EXAMPLES Examples and comparative examples of the present invention will be shown below, but the present invention is not limited thereto. (Synthesis example 1) A magnetic stir bar and a cooling tube were set in a 200 mL two-necked flask. Toluene 50 in this flask
g, a xylene solution of a platinum vinyl siloxane complex (containing 3 wt% as platinum) 11.3 μL, 5.0 g of triallyl isocyanurate, 37.04 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, and 90 ° C. The mixture was heated and stirred in the oil bath for 30 minutes. Further, it was heated under reflux in an oil bath at 130 ° C. for 2 hours. 1-ethynyl-
176 mg of 1-cyclohexanol was added. Unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane and toluene were distilled off under reduced pressure. By 1 H-NMR, it was found that this product was obtained by reacting a part of SiH groups of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane with triallyl isocyanurate (referred to as partial reaction product A). . (Synthesis Example 2) The inside of a polymerization vessel of a 5 l separable flask was replaced with nitrogen, 11.3 g of copper bromide was weighed out, and 180 mL of acetonitrile (dried with molecular sieves and then subjected to nitrogen bubbling) was added. After heating and stirring at 70 ° C. for 5 minutes, the mixture was cooled to room temperature again, and 5.7 g of diethyl 2,5-dibromoadipate as an initiator and 804.6 g of n-butyl acrylate were added. The mixture was heated and stirred at 80 ° C., and 1.6 ml of the ligand diethylenetriamine was added to initiate polymerization. About 0.2 ml of the polymerization solution for sampling was sampled from the polymerization solution at regular intervals from the start of the polymerization, and the conversion rate of -n-butyl acrylate was determined by gas chromatogram analysis of the sampling solution. The polymerization rate was controlled by adding triamine from time to time. When the conversion rate of n-butyl acrylate was 95%, methyl methacrylate 34
5.7 g, copper chloride 7.8 g, diethylenetriamine 1.
6 ml and 1107.9 ml of toluene (dried with molecular sieves and then bubbled with nitrogen) were added. Similarly, the conversion rate of methyl methacrylate was determined. When the conversion rate of methyl methacrylate was 85% and the conversion rate of -n-butyl acrylate was 98%, 1500 ml of toluene was added, and the reactor was cooled in a water bath to terminate the reaction. The polymerization solution was always green during the reaction.

【0114】反応溶液を活性アルミナで濾過することに
より銅錯体を除去した。得られた濾液を多量のメタノー
ルに加えて重合体を沈殿させ、得られた重合体を60℃
で24時間真空乾燥することにより、ブロック共重合体
を得た(重合体Aと称す)。得られた重合体の分析方法
および結果は以下のとおり。
The copper complex was removed by filtering the reaction solution through activated alumina. The obtained filtrate was added to a large amount of methanol to precipitate the polymer, and the obtained polymer was heated at 60 ° C.
By vacuum-drying for 24 hours, a block copolymer was obtained (referred to as polymer A). The analysis method and results of the obtained polymer are as follows.

【0115】(分子量・分子量分布)クロロホルムを移
動相として、ポリスチレンゲルカラムを使用したGPC
測定を行い、ポリスチレン換算の分子量を求めた。
(Molecular weight / molecular weight distribution) GPC using polystyrene gel column with chloroform as mobile phase
The measurement was performed to determine the polystyrene-equivalent molecular weight.

【0116】(BAとMMAの組成比(wt%))1H-
NMRにより、ブロック共重合体中のポリアクリル酸ブ
チルとポリメタアクリル酸メチルの重量分率を確認し
た。
(Composition ratio of BA and MMA (wt%)) 1 H-
The weight fractions of polybutyl acrylate and methyl polymethacrylate in the block copolymer were confirmed by NMR.

【0117】数平均分子量=11500、重量平均分子
量/数平均分子量=1.50、BA/MMA=70/3
0 (合成例3)アクリル酸-n-ブチル115.72g、メ
タクリル酸メチル60.00g、メタクリル酸アリル2
0.16g、n-ドデシルメルカプタン6.46g、ア
ゾビスイソブチロニトリル2.0g、トルエン400m
Lよりなる溶液を、50mLのトルエンを還流させた1
Lフラスコ内へ窒素雰囲気下で滴下漏斗より約2時間か
けて滴下した。滴下終了後、さらに2時間反応させた。
該反応溶液をエバポレートし、さらに80℃で3時間減
圧乾燥することにより、淡黄色の粘稠な液状オリゴマー
約195gを得た(重合体Bと称す)。ヨウ素価滴定に
よるアリル基のモル数は0.0818mol/100
g、VPOによる分子量は2950で1分子あたり平均
2.4個のアリル基が導入されたことが分かった。 (合成例4)アクリル酸-n-ブチル162.90g、メ
タクリル酸アリル18.78g、n-ドデシルメルカプ
タン6.02g、アゾビスイソブチロニトリル1.87
g、トルエン370mLよりなる溶液を、50mLのト
ルエンを還流させた1Lフラスコ内へ窒素雰囲気下で滴
下漏斗より約2時間かけて滴下した。滴下終了後、さら
に2時間反応させた。該反応溶液をエバポレートするこ
とにより、無色の粘稠な液状オリゴマー約178gを得
た(重合体Cと称す)。 (合成例5)メタクリル酸-n-ブチル170.00g、
n-ドデシルメルカプタン1.00g、アゾビスイソブ
チロニトリル2.00g、トルエン400mLよりなる
溶液を、50mLのトルエンを還流させた1Lフラスコ
内へ窒素雰囲気下で滴下漏斗より約2時間かけて滴下し
た。滴下終了後、さらに2時間反応させた。該反応溶液
をエバポレートすることにより、ほぼ無色の重合体約1
60gを得た(重合体Dと称す)。 (実施例1)トリアリルイソシアヌレート4.0gと、
合成例2で合成した重合体A0.7gと、白金ビニルシ
ロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含
有)30mgを混合した。これに合成例1で合成した部
分反応物A6.0gと1-エチニルシクロヘキサノール
30mgをあらかじめ混合したものを加えて混合して硬
化性組成物とした。このものを、2枚のガラス板に3m
m厚みのシリコーンゴムシートをスペーサーとしてはさ
みこんで作成したセルに流し、60℃/6時間、70℃
/1時間、80℃/1時間、120℃/1時間加熱を行
い無色透明のシート状硬化物を得た。 (実施例2)合成例2で合成した重合体A0.7gのか
わりに合成例3で合成した重合体B4.0gを用いた以
外は実施例1と同様にして無色透明のシート状硬化物を
得た。 (実施例3)合成例2で合成した重合体A0.7gのか
わりに合成例4で合成した重合体C4.0gを用いた以
外は実施例1と同様にして無色透明のシート状硬化物を
得た。 (実施例4)合成例2で合成した重合体A0.7gのか
わりに合成例5で合成した重合体D1.0gを用いた以
外は実施例1と同様にして無色透明のシート状硬化物を
得た。 (比較例)試販アクリル板(ポリメチルメタクリレー
ト)5.62gをアセトン100gに溶解した。そこに
トリアリルイソシアヌレート22.48gを加えてエバ
ポレートし、ポリメチルメタクリレート15重量%とト
リアリルイソシアヌレート85重量%の透明均一混合物
を得た。この混合物0.85gと合成例1で合成した部
分反応物A(合成例1で示したように部分反応物Aは本
発明の(C)成分としての白金ビニルシロキサン錯体を
含有している。)1.08gとを混合したが、ポリメチ
ルメタクリレートが析出した状態となり均一に混合する
ことができなかった。 (実施例5)実施例1乃至4のいずれかの方法のように
して作成したシート状硬化物を適当な形状に切断し、キ
ャンタイプ用の金属キャップに設けた光透過用窓の部分
に固定する。一方で、MOCVD(有機金属気相成長)
法によりサファイア基板上に形成した、SiとZnがド
ープされたInGaN活性層をn型とp型のAlGaN
クラッド層で挟んだダブルへテロ構造の発光素子を用意
する。続いて、この発光素子をキャンタイプ用の金属の
ステムに載置した後、p電極、n電極をそれぞれのリー
ドにAu線でワイヤーボンディングする。これを上記の
キャンタイプ用の金属キャップで気密封止する。この様
にしてキャンタイプの発光ダイオードを作成することが
できる。 (実施例6)洗浄したサファイヤ基板上にMOCVD
(有機金属気相成長)法により、アンドープの窒化物半
導体であるn型GaN層、Siドープのn型電極が形成
されn型コンタクト層となるGaN層、アンドープの窒
化物半導体であるn型GaN層、次に発光層を構成する
バリア層となるGaN層、井戸層を構成するInGaN
層、バリア層となるGaN層(量子井戸構造)、発光層
上にMgがドープされたp型クラッド層としてAlGa
N層、Mgがドープされたp型コンタクト層であるGa
N層を順次積層させる。エッチングによりサファイア基
板上の窒化物半導体に同一面側で、pn各コンタクト層
表面を露出させる。各コンタクト層上に、スパッタリン
グ法を用いてAlを蒸着し、正負各電極をそれぞれ形成
させる。出来上がった半導体ウエハーをスクライブライ
ンを引いた後、外力により分割させ発光素子である発光
素子を形成させる。
Number average molecular weight = 1500, weight average molecular weight / number average molecular weight = 1.50, BA / MMA = 70/3
0 (Synthesis Example 3) 115.72 g of acrylic acid-n-butyl, 60.00 g of methyl methacrylate, allyl methacrylate 2
0.16 g, n-dodecyl mercaptan 6.46 g, azobisisobutyronitrile 2.0 g, toluene 400 m
The solution of L was refluxed with 50 mL of toluene 1
It dripped into the L flask under a nitrogen atmosphere from a dropping funnel over about 2 hours. After the dropping was completed, the reaction was continued for 2 hours.
The reaction solution was evaporated and further dried under reduced pressure at 80 ° C. for 3 hours to obtain about 195 g of a pale yellow viscous liquid oligomer (referred to as polymer B). The number of moles of allyl group determined by iodine value titration is 0.0818 mol / 100.
g, the molecular weight by VPO was 2950, and it was found that an average of 2.4 allyl groups was introduced per molecule. Synthesis Example 4 162.90 g of n-butyl acrylate, 18.78 g of allyl methacrylate, 6.02 g of n-dodecyl mercaptan, 1.87 of azobisisobutyronitrile
A solution of g and 370 mL of toluene was dropped into a 1 L flask in which 50 mL of toluene was refluxed under a nitrogen atmosphere from a dropping funnel over about 2 hours. After the dropping was completed, the reaction was continued for 2 hours. By evaporating the reaction solution, about 178 g of a colorless viscous liquid oligomer was obtained (referred to as polymer C). (Synthesis example 5) 170.00 g of -n-butyl methacrylate,
A solution consisting of 1.00 g of n-dodecyl mercaptan, 2.00 g of azobisisobutyronitrile, and 400 mL of toluene was dropped into a 1 L flask in which 50 mL of toluene was refluxed under a nitrogen atmosphere from a dropping funnel over about 2 hours. . After the dropping was completed, the reaction was continued for 2 hours. The reaction solution was evaporated to give about 1 colorless polymer.
60 g was obtained (referred to as polymer D). (Example 1) 4.0 g of triallyl isocyanurate,
0.7 g of the polymer A synthesized in Synthesis Example 2 and 30 mg of a xylene solution of a platinum vinyl siloxane complex (containing 3 wt% as platinum) were mixed. To this, a mixture of 6.0 g of the partial reaction product A synthesized in Synthesis Example 1 and 30 mg of 1-ethynylcyclohexanol was added in advance and mixed to obtain a curable composition. This is 3m on 2 glass plates
Pour a m-thick silicone rubber sheet into a cell made by sandwiching it as a spacer, 60 ℃ / 6 hours, 70 ℃
/ 1 hour, 80 ° C / 1 hour, 120 ° C / 1 hour heating to obtain a colorless transparent sheet-like cured product. (Example 2) A colorless transparent sheet-like cured product was prepared in the same manner as in Example 1 except that 4.0 g of the polymer B synthesized in Synthesis Example 3 was used instead of 0.7 g of the polymer A synthesized in Synthesis Example 2. Obtained. (Example 3) A colorless and transparent sheet-like cured product was prepared in the same manner as in Example 1 except that 4.0 g of the polymer C synthesized in Synthesis Example 4 was used instead of 0.7 g of the polymer A synthesized in Synthesis Example 2. Obtained. Example 4 A colorless transparent sheet-like cured product was prepared in the same manner as in Example 1 except that 1.0 g of the polymer D synthesized in Synthesis Example 5 was used in place of 0.7 g of the polymer A synthesized in Synthesis Example 2. Obtained. Comparative Example 5.62 g of a trial sale acrylic plate (polymethylmethacrylate) was dissolved in 100 g of acetone. 22.48 g of triallyl isocyanurate was added thereto and evaporated to obtain a transparent uniform mixture of 15% by weight of polymethylmethacrylate and 85% by weight of triallyl isocyanurate. 0.85 g of this mixture and the partial reaction product A synthesized in Synthesis Example 1 (as shown in Synthesis Example 1, the partial reaction product A contains a platinum vinyl siloxane complex as the component (C) of the present invention). Although 1.08 g was mixed, polymethyl methacrylate was deposited and could not be mixed uniformly. (Embodiment 5) The sheet-shaped cured product prepared by the method of any of Embodiments 1 to 4 is cut into an appropriate shape and fixed to the light transmitting window portion provided on the can type metal cap. To do. On the other hand, MOCVD (metal organic chemical vapor deposition)
Si and Zn-doped InGaN active layer formed on a sapphire substrate by the n-type
A light emitting element having a double hetero structure sandwiched between clad layers is prepared. Then, after mounting this light emitting element on a can type metal stem, the p electrode and the n electrode are wire-bonded to the respective leads by Au wires. This is hermetically sealed with the can type metal cap described above. In this way, a can type light emitting diode can be produced. (Example 6) MOCVD on a cleaned sapphire substrate
An n-type GaN layer that is an undoped nitride semiconductor, a GaN layer that forms an n-type contact layer by forming an Si-doped n-type electrode, and an n-type GaN that is an undoped nitride semiconductor by the (metal organic chemical vapor deposition) method. Layer, then a GaN layer that will become a barrier layer that constitutes the light emitting layer, and InGaN that constitutes a well layer
Layer, a GaN layer (quantum well structure) serving as a barrier layer, and an AlGa layer as a p-type cladding layer doped with Mg on the light emitting layer.
Ga which is an N layer and a p-type contact layer doped with Mg
N layers are sequentially stacked. The surface of each pn contact layer is exposed on the same side of the nitride semiconductor on the sapphire substrate by etching. Al is vapor-deposited on each contact layer by a sputtering method to form positive and negative electrodes, respectively. After the scribe line is drawn on the completed semiconductor wafer, it is divided by an external force to form a light emitting element which is a light emitting element.

【0118】表面に銀でメッキされた鉄入り銅から構成
されるマウントリードのカップ底面上に、ダイボンド樹
脂としてエポキシ樹脂組成物を利用して上記発光素子を
ダイボンドする。これを170℃で75分加熱しエポキ
シ樹脂組成物を硬化させ発光素子を固定する。次に、発
光素子の正負各電極と、マウントリード及びインナーリ
ードとをAu線によりワイヤーボンディングさせ電気的
導通を取る。
The above light emitting device is die-bonded onto the bottom surface of the cup of the mount lead made of copper containing iron plated with silver on the surface by using an epoxy resin composition as a die-bonding resin. This is heated at 170 ° C. for 75 minutes to cure the epoxy resin composition and fix the light emitting element. Next, the positive and negative electrodes of the light emitting element and the mount lead and the inner lead are wire-bonded with an Au wire to establish electrical conduction.

【0119】実施例1乃至4と同様にして調整した硬化
性組成物を砲弾型の型枠であるキャスティングケース内
に注入させる。上記の発光素子がカップ内に配置された
マウントリード及びインナーリードの一部をキャスティ
ングケース内に挿入し100℃1時間の初期硬化を行
う。キャスティングケースから発光ダイオードを抜き出
し、窒素雰囲気下において120℃1時間で硬化を行
う。これにより砲弾型等のランプタイプの発光ダイオー
ドを作成することができる。 (実施例7)実施例1乃至4に記載の方法で硬化性組成
物および発光素子を作成する。
The curable composition prepared in the same manner as in Examples 1 to 4 is poured into a casting case which is a shell type mold. A part of the mount lead and the inner lead in which the above light emitting device is arranged in the cup is inserted into the casting case, and initial curing is performed at 100 ° C. for 1 hour. The light emitting diode is extracted from the casting case and cured at 120 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere. Thereby, a lamp type light emitting diode such as a shell type can be produced. Example 7 A curable composition and a light emitting device are prepared by the method described in Examples 1 to 4.

【0120】エッチングにより一対の銅箔パターンをガ
ラスエポキシ樹脂上に形成させることによって、リード
電極を持った基板を形成する。発光素子をエポキシ樹脂
を用いてガラスエポキシ樹脂上にダイボンドする。発光
素子の各電極と、各リード電極とをそれぞれAu線でワ
イヤボンディングし電気的導通を取る。基板上にマスク
兼側壁としてとして貫通孔があいたガラスエポキシ樹脂
をエポキシ樹脂により固定配置させる。この状態で真空
装置内に配置させると共に発光素子が配置されたガラス
エポキシ樹脂基板上に硬化性組成物をディスペンスし、
貫通孔を利用したキャビティ内に硬化性組成物を充填す
る。この状態で、100℃1時間、さらに150℃1時
間硬化させる。各発光ダイオードチップごとに分割させ
ることでチップタイプ発光ダイオードを作成することが
できる。 (実施例8)実施例1乃至4に記載の方法で硬化性組成
物および発光素子を作成する。
By forming a pair of copper foil patterns on the glass epoxy resin by etching, a substrate having lead electrodes is formed. The light emitting element is die-bonded onto a glass epoxy resin using an epoxy resin. Each electrode of the light emitting element and each lead electrode are wire-bonded with an Au wire to establish electrical continuity. A glass epoxy resin having a through hole as a mask and a side wall is fixedly arranged on the substrate by the epoxy resin. In this state, the curable composition is dispensed on the glass epoxy resin substrate on which the light emitting element is disposed while being disposed in the vacuum device,
The curable composition is filled in the cavity using the through holes. In this state, it is cured at 100 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 1 hour. A chip type light emitting diode can be produced by dividing each light emitting diode chip. Example 8 A curable composition and a light emitting device are prepared by the method described in Examples 1 to 4.

【0121】インサート成形によりPPS樹脂を用いて
チップタイプ発光ダイオードのパッケージを形成させ
る。パッケージ内は、発光素子が配される開口部を備
え、銀メッキした銅板を外部電極として配置させる。パ
ッケージ内部で発光素子をエポキシ樹脂を用いてダイボ
ンドして固定する。導電性ワイヤーであるAu線を発光
素子の各電極とパッケージに設けられた各外部電極とに
それぞれワイヤーボンディングし電気的に接続させる。
パッケージ開口部内にモールド部材として硬化性組成物
を充填する。この状態で、100℃1時間、さらに15
0℃1時間硬化させる。この様にして、チップタイプ発
光ダイオードを作成することができる。
A chip type light emitting diode package is formed using PPS resin by insert molding. The package has an opening in which a light emitting element is arranged, and a silver-plated copper plate is arranged as an external electrode. The light emitting element is fixed inside the package by die-bonding with an epoxy resin. An Au wire, which is a conductive wire, is wire-bonded to each electrode of the light emitting element and each external electrode provided on the package to be electrically connected.
A curable composition is filled in the package opening as a mold member. In this state, 100 ℃ for 1 hour, then 15
Cure at 0 ° C. for 1 hour. In this way, a chip type light emitting diode can be manufactured.

【0122】[0122]

【発明の効果】本発明の組成物は相溶性が良好であるた
めこれを硬化させてなる材料は、光学的透明性が高く、
光劣化が少なく、強靭性を有する光学用材料に適した材
料である。
Since the composition of the present invention has good compatibility, the material obtained by curing the composition has high optical transparency,
It is a material suitable for optical materials that has little toughness and has toughness.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08L 83/05 G02B 1/04 G02B 1/04 5/30 5/30 G02F 1/1333 500 G02F 1/1333 500 1/1335 1/1335 C08K 5/54 Fターム(参考) 2H049 BA02 BB28 BB39 BC22 2H090 JB03 JC06 JD01 JD08 JD13 2H091 FB02 FB13 FC01 GA01 LA02 LA04 LA06 4F071 AA33 AA67 AB06 AC12 AC16 AE02 AE03 BA02 BB01 BC01 4J002 BG041 BG051 CP042 DA118 DE148 DJ018 EU196 EX007 EZ008 FD146 FD158 GP00Front page continuation (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C08L 83/05 G02B 1/04 G02B 1/04 5/30 5/30 G02F 1/1333 500 G02F 1/1333 500 1 / 1335 1/1335 C08K 5/54 F-term (reference) 2H049 BA02 BB28 BB39 BC22 2H090 JB03 JC06 JD01 JD08 JD13 2H091 FB02 FB13 FC01 GA01 LA02 LA04 LA06 4F071 AA33 AA67 AB06 AC12 AC16 AE02 AE03 BA02 BB01 BC01 4J002 BG041 BG051 CP042 DA118 DE148 DJ018 EU196 EX007 EZ008 FD146 FD158 GP00

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(A)トリアリルイソシアヌレート、
(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する
ケイ素化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、(D)熱可
塑性樹脂、を必須成分として含有する組成物からなる光
学材料用組成物であって、(D)成分がブチルアクリレ
ート系重合体、ブチルメタクリレート系重合体、メチル
メタクリレート/ブチルアクリレート系共重合体から選
ばれる1種または複数種の重合体であることを特徴とす
る光学材料用組成物。
1. (A) triallyl isocyanurate,
A composition for an optical material comprising (B) a silicon compound containing at least two SiH groups in one molecule, (C) a hydrosilylation catalyst, and (D) a thermoplastic resin as essential components. And (D) component is one or more polymers selected from butyl acrylate-based polymers, butyl methacrylate-based polymers, and methyl methacrylate / butyl acrylate-based copolymers. object.
【請求項2】(B)成分が1,3,5,7−テトラメチ
ルテトラシクロシロキサンとトリアリルイソシアヌレー
トの反応物である請求項1に記載の光学材料用組成物。
2. The composition for optical materials according to claim 1, wherein the component (B) is a reaction product of 1,3,5,7-tetramethyltetracyclosiloxane and triallyl isocyanurate.
【請求項3】光学用材料が液晶用フィルムである請求項
1あるいは2に記載の光学材料用組成物。
3. The composition for optical materials according to claim 1, wherein the optical material is a liquid crystal film.
【請求項4】光学用材料が液晶用プラスチックセルであ
る請求項1あるいは2に記載の光学材料用組成物。
4. The composition for optical materials according to claim 1, wherein the optical material is a plastic cell for liquid crystals.
【請求項5】光学用材料が発光ダイオードの封止材であ
る請求項1あるいは2に記載の光学材料用組成物。
5. The composition for optical materials according to claim 1, wherein the optical material is a sealing material for a light emitting diode.
【請求項6】請求項1乃至5のいずれか一項に記載の光
学用材料用組成物をあらかじめ混合し、組成物中のSi
H基と反応性を有する炭素−炭素二重結合とSiH基の
一部または全部およびを反応させることによって硬化さ
せてなる光学用材料。
6. An optical material composition according to any one of claims 1 to 5 is mixed in advance to obtain Si in the composition.
An optical material obtained by curing by reacting a carbon-carbon double bond reactive with an H group and a part or all of a SiH group.
【請求項7】請求項1乃至5にいずれか一項に記載の光
学用材料用組成物をあらかじめ混合し、組成物中のSi
H基と反応性を有する炭素−炭素二重結合とSiH基の
一部または全部を反応させることによる請求項6に記載
の光学用材料の製造方法。
7. The composition for optical material according to claim 1 is mixed in advance to obtain Si in the composition.
The method for producing an optical material according to claim 6, wherein a carbon-carbon double bond reactive with an H group is reacted with a part or all of the SiH group.
【請求項8】請求項6に記載の光学用材料を用いた液晶
表示装置。
8. A liquid crystal display device using the optical material according to claim 6.
【請求項9】請求項6に記載の光学用材料を用いた発光
ダイオード。
9. A light emitting diode using the optical material according to claim 6.
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JP2003073549A (en) * 2001-09-05 2003-03-12 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Curable composition for optical material, the optical material, method for producing the optical material and light emitting diode using the optical material
JP2004002823A (en) * 2002-04-26 2004-01-08 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Composition for optical material, optical material, manufacturing method for the opical material, and light-emitting diode using the same
JP2005112925A (en) * 2003-10-03 2005-04-28 Kaneka Corp Curable composition
JP2005112740A (en) * 2003-10-03 2005-04-28 Kaneka Corp Curing agent, curable composition and cured material prepared by curing the same
JP2005146191A (en) * 2003-11-19 2005-06-09 Kaneka Corp Curable resin composition for semiconductor package and semiconductor
JP2005307064A (en) * 2004-04-23 2005-11-04 Kaneka Corp Method for producing curable composition
WO2006027956A1 (en) * 2004-09-08 2006-03-16 Kaneka Corporation Resin composition for optical material
JP2006089528A (en) * 2004-09-21 2006-04-06 Nippon Shokubai Co Ltd Led sealant, light emitting diode including the same and curable composition
JP2006206918A (en) * 2002-04-26 2006-08-10 Kaneka Corp Composition for optical material, optical material and method for producing the same
JPWO2008066157A1 (en) * 2006-11-30 2010-03-11 新日鐵化学株式会社 Polarizing plate protective film, polarizing plate and resistive touch panel
US8012599B2 (en) 2003-06-16 2011-09-06 Jfe Steel Corporation Surface-treated steel sheet with excellent corrosion resistance and method for manufacturing same
JP2013079329A (en) * 2011-10-04 2013-05-02 Kaneka Corp Curable resin composition, curable resin composition tablet, molded product, package for semiconductor, semiconductor part and light-emitting diode
JP2013155381A (en) * 2013-04-17 2013-08-15 Kaneka Corp Curable resin composition for semiconductor package, and semiconductor

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50100A (en) * 1973-05-02 1975-01-06
JPH06145526A (en) * 1992-11-13 1994-05-24 Toshiba Silicone Co Ltd Curable polyorganosiloxane composition
JPH08134360A (en) * 1994-11-04 1996-05-28 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Curable composition
JPH09291214A (en) * 1996-04-25 1997-11-11 Nippon Paint Co Ltd Curing resin composition and its cured product
JPH1180250A (en) * 1997-04-18 1999-03-26 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Polymer, manufacture thereof and curable composition therefrom
JP2000136275A (en) * 1998-11-02 2000-05-16 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Curable composition for encapsulant for luminous display unit and production of luminous display unit
JP2002080733A (en) * 2000-04-21 2002-03-19 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Composition for optical material, material for optical use, method for producing the same and liquid crystal display device and led produced by using the material
JP2002327126A (en) * 2001-02-23 2002-11-15 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Composition for optical material, optical material, method for producing the same and liquid crystal display device and light-emitting diode using the same
JP2002341101A (en) * 2001-02-23 2002-11-27 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Composition for optical material, optical material, method for producing the same and liquid crystal display and light emitting diode each using the same
JP2005232462A (en) * 2001-02-23 2005-09-02 Kaneka Corp Composition for optical material, optical material, method for producing the same and liquid crystal display device using the same
JP2005232463A (en) * 2001-02-23 2005-09-02 Kaneka Corp Composition for optical material, optical material, method for producing the same and liquid crystal display device using the same

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50100A (en) * 1973-05-02 1975-01-06
JPH06145526A (en) * 1992-11-13 1994-05-24 Toshiba Silicone Co Ltd Curable polyorganosiloxane composition
JPH08134360A (en) * 1994-11-04 1996-05-28 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Curable composition
JPH09291214A (en) * 1996-04-25 1997-11-11 Nippon Paint Co Ltd Curing resin composition and its cured product
JPH1180250A (en) * 1997-04-18 1999-03-26 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Polymer, manufacture thereof and curable composition therefrom
JP2000136275A (en) * 1998-11-02 2000-05-16 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Curable composition for encapsulant for luminous display unit and production of luminous display unit
JP2002080733A (en) * 2000-04-21 2002-03-19 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Composition for optical material, material for optical use, method for producing the same and liquid crystal display device and led produced by using the material
JP2002327126A (en) * 2001-02-23 2002-11-15 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Composition for optical material, optical material, method for producing the same and liquid crystal display device and light-emitting diode using the same
JP2002341101A (en) * 2001-02-23 2002-11-27 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Composition for optical material, optical material, method for producing the same and liquid crystal display and light emitting diode each using the same
JP2005232462A (en) * 2001-02-23 2005-09-02 Kaneka Corp Composition for optical material, optical material, method for producing the same and liquid crystal display device using the same
JP2005232463A (en) * 2001-02-23 2005-09-02 Kaneka Corp Composition for optical material, optical material, method for producing the same and liquid crystal display device using the same

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003073549A (en) * 2001-09-05 2003-03-12 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Curable composition for optical material, the optical material, method for producing the optical material and light emitting diode using the optical material
JP2006206918A (en) * 2002-04-26 2006-08-10 Kaneka Corp Composition for optical material, optical material and method for producing the same
JP2004002823A (en) * 2002-04-26 2004-01-08 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Composition for optical material, optical material, manufacturing method for the opical material, and light-emitting diode using the same
US8012599B2 (en) 2003-06-16 2011-09-06 Jfe Steel Corporation Surface-treated steel sheet with excellent corrosion resistance and method for manufacturing same
JP2005112740A (en) * 2003-10-03 2005-04-28 Kaneka Corp Curing agent, curable composition and cured material prepared by curing the same
JP2005112925A (en) * 2003-10-03 2005-04-28 Kaneka Corp Curable composition
JP2005146191A (en) * 2003-11-19 2005-06-09 Kaneka Corp Curable resin composition for semiconductor package and semiconductor
JP2010047773A (en) * 2003-11-19 2010-03-04 Kaneka Corp Curable resin composition for packaging of semiconductor, and semiconductor
JP2005307064A (en) * 2004-04-23 2005-11-04 Kaneka Corp Method for producing curable composition
JP4504077B2 (en) * 2004-04-23 2010-07-14 株式会社カネカ Method for producing curable composition
WO2006027956A1 (en) * 2004-09-08 2006-03-16 Kaneka Corporation Resin composition for optical material
JP2006089528A (en) * 2004-09-21 2006-04-06 Nippon Shokubai Co Ltd Led sealant, light emitting diode including the same and curable composition
JPWO2008066157A1 (en) * 2006-11-30 2010-03-11 新日鐵化学株式会社 Polarizing plate protective film, polarizing plate and resistive touch panel
JP5143015B2 (en) * 2006-11-30 2013-02-13 新日鉄住金化学株式会社 Polarizing plate protective film, polarizing plate and resistive touch panel
JP2013079329A (en) * 2011-10-04 2013-05-02 Kaneka Corp Curable resin composition, curable resin composition tablet, molded product, package for semiconductor, semiconductor part and light-emitting diode
JP2013155381A (en) * 2013-04-17 2013-08-15 Kaneka Corp Curable resin composition for semiconductor package, and semiconductor

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