JP2013079329A - Curable resin composition, curable resin composition tablet, molded product, package for semiconductor, semiconductor part and light-emitting diode - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable resin composition which gives a cured product having a low linear expansion coefficient.SOLUTION: The curable resin composition includes, as necessary components: (A) an organic compound having at least two carbon-carbon double bonds, reactive with a SiH group, in a molecule; (B) a compound containing at least two SiH groups in a molecule; (C) a hydrosilylation catalyst; (D) a (meth)acrylic polymer having at least one carbon-carbon double bonds, reactive with a SiH group, in a molecule; and (E) an inorganic filler. When the composition is molded on one face of a metal substrate, the warpage can be reduced.

Description

本発明は、硬化性樹脂組成物、硬化性樹脂組成物タブレット、成形体、半導体のパッケージ、半導体部品及び発光ダイオードに関する。   The present invention relates to a curable resin composition, a curable resin composition tablet, a molded body, a semiconductor package, a semiconductor component, and a light emitting diode.

従来、半導体には種々の形状の硬化性樹脂を用いたパッケージが適用されている。こうしたパッケージには半導体とパッケージ外部との電気的な接続のため、パッケージの強度保持のため、あるいは半導体から発生する熱をパッケージ外部へ伝えるなどのために、種々の金属材料が用いられ、硬化性樹脂と一体成形される場合が多い。   Conventionally, packages using curable resins of various shapes are applied to semiconductors. Various metal materials are used for these packages in order to make electrical connection between the semiconductor and the outside of the package, to maintain the strength of the package, or to transfer heat generated from the semiconductor to the outside of the package. Often molded integrally with resin.

しかし、樹脂は一般に線膨張係数が大きく、一般に小さな線膨張係数を有する金属材料と線膨張係数が整合しにくいことから、加熱成形時、後硬化時、あるいは半導体部品として使用中における種々の加熱−冷却を伴う工程において反り、剥離、割れ、半導体へのダメージなどといった問題を生ずる場合がある。   However, since the resin generally has a large linear expansion coefficient, and the coefficient of linear expansion is generally difficult to match that of a metal material having a small linear expansion coefficient, various types of heating during heat molding, post-curing, or in use as a semiconductor component- Problems such as warpage, peeling, cracking, and damage to the semiconductor may occur in the process involving cooling.

特に線膨張の不整合に伴う反りに関しては、金属の両面に均等になるように硬化性樹脂を成形することにより反りの低減をはかる方法もある。   In particular, there is a method for reducing warpage by forming a curable resin so as to be uniform on both surfaces of a metal with respect to warpage due to mismatch of linear expansion.

しかし、近年半導体から発生する熱量の増大により放熱性の高い設計が求められるようになっており、熱をパッケージの外へ有効に導くために、半導体素子を接着する金属がパッケージの底面を形成するようなパッケージ設計がなされるようになってきている(特許文献1、2)。   However, in recent years, a design with high heat dissipation has been required due to an increase in the amount of heat generated from a semiconductor. In order to effectively conduct heat to the outside of the package, the metal bonding the semiconductor element forms the bottom surface of the package. Such package design has been made (Patent Documents 1 and 2).

その場合、上記のような反りの低減化をとることができず、反りの問題が重要となってくる。   In that case, it is not possible to reduce the warp as described above, and the problem of warp becomes important.

これまで樹脂による反りの低減に関しては、樹脂の線膨張を低減させて一体成形する金属の線膨張に近づけること、樹脂を低弾性率化することなどにより対策がとられてきた。   In the past, measures have been taken to reduce the warpage caused by the resin by reducing the linear expansion of the resin to approach the linear expansion of the metal that is integrally formed, or by reducing the elastic modulus of the resin.

しかし、線膨張を低減させるために無機フィラーを大量に充填すると樹脂の成形時の流動性が低下して成型加工性を損なうため限界があり、また低弾性化すると樹脂の強度が低下して半導体素子を保護するというパッケージとしての主要機能を損なうことにもなる。以上のことから、半導体のパッケージにおいて反りを低減化できる硬化性樹脂が求められている。   However, if a large amount of inorganic filler is filled in order to reduce the linear expansion, there is a limit because the fluidity at the time of molding of the resin is lowered and the moldability is impaired, and if the elasticity is lowered, the strength of the resin is lowered and the semiconductor is lowered. This also impairs the main function of the package for protecting the element. In view of the above, there is a demand for a curable resin that can reduce warpage in a semiconductor package.

一方、半導体から発生する熱(半導体が発光ダイオードの場合はさらに光)が増大してきており、半導体のパッケージ用樹脂の耐熱性(耐光性)がよりいっそう求められるようになってきている。これらの要求に対して、耐熱性が高い、ヒドロシリル化反応によって硬化する樹脂が半導体のパッケージ用樹脂として適用されてきている(特許文献1、3)。   On the other hand, heat generated from a semiconductor (light further when the semiconductor is a light-emitting diode) has been increasing, and the heat resistance (light resistance) of a semiconductor package resin has been further demanded. Responding to these requirements, resins that have high heat resistance and are cured by a hydrosilylation reaction have been applied as semiconductor packaging resins (Patent Documents 1 and 3).

特許文献3には構成成分の一つとして(A)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物が開示され、2種以上を併用して使用してもよいとされているが、本発明でいう(A)成分と(D)成分に相当する該化合物の特定の組合せにより、反りが低減できるということは全く開示されていなかった。   Patent Document 3 discloses (A) an organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups as one of the constituent components. Although it may be used, it has not been disclosed at all that the warpage can be reduced by a specific combination of the compounds corresponding to the components (A) and (D) in the present invention.

特開2010−62272号公報JP 2010-62272 A 特開2009−302241号公報JP 2009-302241 A 特開2005−146191号公報JP 2005-146191 A

従って、本発明の課題は、低い線膨張係数を有する硬化物を与える硬化性樹脂組成物を提供することであり、それを用いて金属と一体成形された反りの低減された半導体のパッケージおよびそれを用いて製造された半導体を提供することである。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a curable resin composition that provides a cured product having a low coefficient of linear expansion, and a semiconductor package with reduced warpage integrally formed with a metal using the same, and It is providing the semiconductor manufactured using this.

かかる課題を解決するために本発明者らは鋭意研究の結果、(A)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する分子量1000未満の有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、(D)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも1個含有する分子量1000以上の(メタ)アクリル系重合体、(E)無機充填材、を必須成分として硬化性樹脂組成物とすることにより上記課題を達成できることを見出し本発明に至った。 In order to solve such a problem, the present inventors have intensively studied, and (A) an organic compound having a molecular weight of less than 1000 and containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups, (B) Compound containing at least two SiH groups in one molecule, (C) hydrosilylation catalyst, (D) containing at least one carbon-carbon double bond reactive with SiH groups in one molecule The present inventors have found that the above problems can be achieved by using a (meth) acrylic polymer having a molecular weight of 1000 or more and (E) an inorganic filler as essential components to form a curable resin composition.

すなわち、本発明は以下の構成を有するものである。   That is, the present invention has the following configuration.

(1).(A)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する分子量1000未満の有機化合物、
(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物、
(C)ヒドロシリル化触媒、
(D)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも1個含有する分子量1000以上の(メタ)アクリル系重合体、
(E)無機充填材、
を必須成分として含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。
(1). (A) an organic compound having a molecular weight of less than 1000 and containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups in one molecule;
(B) a compound containing at least two SiH groups in one molecule;
(C) a hydrosilylation catalyst,
(D) a (meth) acrylic polymer having a molecular weight of 1000 or more and containing at least one carbon-carbon double bond having reactivity with a SiH group in one molecule;
(E) inorganic filler,
Is contained as an essential component. Curable resin composition characterized by the above-mentioned.

(2).(D)成分がビニル基を末端に有する(メタ)アクリル系重合体である(1)に記載の硬化性樹脂組成物。   (2). (D) The curable resin composition according to (1), wherein the component is a (meth) acrylic polymer having a vinyl group at the terminal.

(3).(D)成分がアクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸セチルからなる群より選ばれる少なくとも1種のモノマーから構成され、重量平均分子量が5,000以上100,000以下であることを特徴とする(2)に記載の硬化性樹脂組成物。
(4).(D)成分を構成するモノマーの50mol%以上がアクリル酸ブチルであることを特徴とする(3)に記載の硬化性組成物。
(5).(D)成分が直鎖状骨格であり、分子鎖の両末端にビニル基を有することを特徴とする(3)あるいは(4)のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
(6).(E)成分が球状シリカである(1)〜(5)のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。
(3). The component (D) is composed of at least one monomer selected from the group consisting of ethyl acrylate, butyl acrylate, isobutyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, and cetyl acrylate, and has a weight average molecular weight of 5,000. The curable resin composition as described in (2) above, which is 100,000 or less.
(4). (D) 50 mol% or more of the monomer which comprises a component is butyl acrylate, The curable composition as described in (3) characterized by the above-mentioned.
(5). (D) The curable resin composition according to any one of (3) and (4), wherein the component is a linear skeleton and has vinyl groups at both ends of the molecular chain.
(6). (E) Curable resin composition in any one of (1)-(5) whose component is spherical silica.

(7).更に(F)白色顔料を含有する(1)〜(6)のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。   (7). Furthermore, (F) Curable resin composition in any one of (1)-(6) containing a white pigment.

(8).(F)成分の平均粒子径が1.0μm以下である(7)に記載の硬化性樹脂組成物。   (8). (F) Curable resin composition as described in (7) whose average particle diameter of a component is 1.0 micrometer or less.

(9).(F)成分が酸化チタンである(7)または(8)に記載の硬化性樹脂組成物。   (9). (F) The curable resin composition according to (7) or (8), wherein the component is titanium oxide.

(10).(F)成分が有機シロキサンにより表面処理された酸化チタンである(9)に記載の硬化性樹脂組成物。   (10). (F) Curable resin composition as described in (9) whose component is titanium oxide surface-treated with organosiloxane.

(11).(F)成分が無機化合物で表面処理された酸化チタンである(9)に記載の硬化性樹脂組成物。   (11). (F) The curable resin composition according to (9), wherein the component is titanium oxide surface-treated with an inorganic compound.

(12).(F)成分がアルミニウム化合物で表面処理されている(11)に記載の硬化性樹脂組成物。   (12). (F) The curable resin composition according to (11), wherein the component is surface-treated with an aluminum compound.

(13).(F)成分が酸化亜鉛、酸化ジルコニア、酸化ストロンチウム、酸化ニオブ、窒化ホウ素、チタン酸バリウム及び硫酸バリウムから選ばれる少なくとも一種である(7)または(8)に記載の硬化性樹脂組成物。   (13). (F) The curable resin composition according to (7) or (8), wherein the component is at least one selected from zinc oxide, zirconia oxide, strontium oxide, niobium oxide, boron nitride, barium titanate and barium sulfate.

(14).更に、(G)金属石鹸を含有する(1)〜(13)のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。   (14). Furthermore, (G) Curable resin composition in any one of (1)-(13) containing metal soap.

(15).(G)成分がステアリン酸金属塩である(14)に記載の硬化性樹脂組成物。   (15). (G) Curable resin composition as described in (14) whose component is a stearic acid metal salt.

(16).(G)成分がステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸アルミニウムからなる群より選択される1つ以上である(15)に記載の硬化性樹脂組成物。   (16). (G) The curable resin composition according to (15), wherein the component is one or more selected from the group consisting of calcium stearate, magnesium stearate, zinc stearate, and aluminum stearate.

(17).(A)成分および(B)成分の合計の重量に対する(D)成分の重量が30重量%以上である(1)〜(16)のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。   (17). Curable resin composition in any one of (1)-(16) whose weight of (D) component with respect to the total weight of (A) component and (B) component is 30 weight% or more.

(18).硬化性樹脂組成物全体に占める(E)成分及び(F)成分の合計の量が70重量%以上である(1)〜(17)のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。   (18). The curable resin composition according to any one of (1) to (17), wherein the total amount of the component (E) and the component (F) in the entire curable resin composition is 70% by weight or more.

(19).硬化性樹脂組成物全体に占める(F)成分の含有量が10重量%以上である(7)〜(18)のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。   (19). The curable resin composition according to any one of (7) to (18), wherein the content of the component (F) in the entire curable resin composition is 10% by weight or more.

(20).硬化性樹脂組成物全体に占める(G)成分の含有量が0.01〜5重量%である(14)〜(19)のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。   (20). The curable resin composition according to any one of (14) to (19), wherein the content of the component (G) in the entire curable resin composition is 0.01 to 5% by weight.

(21).硬化後の460nm及び480nmにおける分光反射率が80R%以上であり、180℃72時間の耐熱試験後の分光反射率の保持率(耐熱試験後の分光反射率/初期の分光反射率×100)が90%以上である(1)〜(20)のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。   (21). Spectral reflectance at 460 nm and 480 nm after curing is 80 R% or more, and retention ratio of spectral reflectance after heat resistance test at 180 ° C. for 72 hours (spectral reflectance after heat resistance test / initial spectral reflectance × 100) is Curable resin composition in any one of (1)-(20) which is 90% or more.

(22).硬化させてなる成形体の表面の波長460nm及び480nmの分光反射率が90%以上である(1)〜(21)のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。   (22). The curable resin composition according to any one of (1) to (21), wherein the spectral reflectance at a wavelength of 460 nm and 480 nm on the surface of the molded product obtained by curing is 90% or more.

(23).発光ダイオード用のリードフレームの片面に成形してパッケージとした場合の、パッケージの反りが±1.00mm以下である(1)〜(21)のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。   (23). The curable resin composition according to any one of (1) to (21), wherein the package warpage is ± 1.00 mm or less when the package is formed on one side of a lead frame for a light emitting diode.

(24).半導体のパッケージに用いられる(1)〜(22)のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。   (24). The curable resin composition according to any one of (1) to (22), which is used for a semiconductor package.

(25).(1)〜(23)のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物のうち、(F)白色顔料を必須成分として含有する硬化性樹脂組成物からなるタブレットであって、
(A)成分および(B)成分の少なくとも一方が23℃における粘度が50Pa秒以下の液体であり、
(E)成分と(F)成分の合計の含有量が70〜95重量%であり、
(E)成分と(F)成分の合計に占める12μm以下の粒子の割合が40体積%以上であることを特徴とする硬化性樹脂組成物タブレット。
(25). Of the curable resin composition according to any one of (1) to (23), (F) a tablet comprising a curable resin composition containing a white pigment as an essential component,
At least one of component (A) and component (B) is a liquid having a viscosity at 23 ° C. of 50 Pa seconds or less,
The total content of the component (E) and the component (F) is 70 to 95% by weight,
The ratio of the particle | grains of 12 micrometers or less to the sum total of (E) component and (F) component is 40 volume% or more, The curable resin composition tablet characterized by the above-mentioned.

(26).(1)〜(23)のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物を硬化してなり、表面の波長460nm及び480nmの分光反射率が90%以上であることを特徴とする成形体。   (26). (1) A molded product obtained by curing the curable resin composition according to any one of (23), and having a surface spectral reflectance of 90% or more at wavelengths of 460 nm and 480 nm.

(27).(24)に記載の硬化性樹脂組成物を用いて成形したことを特徴とする半導体のパッケージ。   (27). A semiconductor package formed using the curable resin composition according to (24).

(28).(24)に記載の硬化性樹脂組成物を用いて金属と一体成形したことを特徴とする半導体のパッケージ。   (28). A semiconductor package, which is integrally formed with a metal using the curable resin composition according to (24).

(29).硬化性樹脂組成物とリードフレームとをトランスファーモールドにより一体成形した(27)または(28)に記載の半導体のパッケージ。   (29). The semiconductor package according to (27) or (28), wherein the curable resin composition and the lead frame are integrally formed by transfer molding.

(30).半導体のパッケージが実質的に金属の片面に樹脂が成形されてなるパッケージである、(27)〜(29)のいずれかに記載の半導体のパッケージ。   (30). The semiconductor package according to any one of (27) to (29), wherein the semiconductor package is a package formed by substantially molding a resin on one side of a metal.

(31).(24)に記載の硬化性樹脂組成物を用いてトランスファー成形されたことを特徴とする半導体のパッケージ。   (31). A semiconductor package, which is transfer molded using the curable resin composition according to (24).

(32).(27)〜(31)のいずれかに記載の半導体のパッケージを用いて製造された半導体部品。   (32). (27) A semiconductor component manufactured using the semiconductor package according to any one of (31).

(33).(27)〜(31)のいずれかに記載の半導体のパッケージを用いて製造された発光ダイオード。   (33). A light-emitting diode manufactured using the semiconductor package according to any one of (27) to (31).

本発明の硬化性樹脂組成物を用いれば、低い線膨張係数を有する硬化物を与える硬化性樹脂組成物を得ることができるため、それを用いて金属と一体成形された反りの低減された半導体のパッケージおよびそれを用いて製造された半導体を作製できる。 By using the curable resin composition of the present invention, it is possible to obtain a curable resin composition that gives a cured product having a low linear expansion coefficient. Therefore, a semiconductor that is integrally molded with a metal and that has a reduced warpage. And a semiconductor manufactured using the same package.

成形品の概念図である。It is a conceptual diagram of a molded article.

以下、本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明の硬化性樹脂組成物は、
(A)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する分子量1000未満の有機化合物、
(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物、
(C)ヒドロシリル化触媒、
(D)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも1個含有する分子量1000以上の(メタ)アクリル系重合体、
(E)無機充填材、を必須成分として含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物である。
以下、各成分について説明する。
The curable resin composition of the present invention is
(A) an organic compound having a molecular weight of less than 1000 and containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups in one molecule;
(B) a compound containing at least two SiH groups in one molecule;
(C) a hydrosilylation catalyst,
(D) a (meth) acrylic polymer having a molecular weight of 1000 or more and containing at least one carbon-carbon double bond having reactivity with a SiH group in one molecule;
(E) A curable resin composition containing an inorganic filler as an essential component.
Hereinafter, each component will be described.

((A)成分)
(A)成分はSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する分子量1000未満の有機化合物であれば特に限定されない。
((A) component)
The component (A) is not particularly limited as long as it is an organic compound having a molecular weight of less than 1000 and containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups in one molecule.

((A)成分の骨格)
有機化合物としてはポリシロキサン−有機ブロックコポリマーやポリシロキサン−有機グラフトコポリマーのようなシロキサン単位(Si−O−Si)を含むものではなく、構成元素としてC、H、N、O、S及びハロゲン以外の元素を含まない化合物がより好ましい。
シロキサン単位を含むものの場合は、半導体のパッケージとリードフレームや封止樹脂との接着性が低くなりやすいという問題がある。
(Skeleton of component (A))
Organic compounds do not contain siloxane units (Si-O-Si), such as polysiloxane-organic block copolymers and polysiloxane-organic graft copolymers, and elements other than C, H, N, O, S and halogen A compound containing no element is more preferable.
In the case of those containing siloxane units, there is a problem that the adhesiveness between the semiconductor package and the lead frame or the sealing resin tends to be low.

((A)成分の炭素−炭素二重結合)
SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合の結合位置は特に限定されず、分子内のどこに存在してもよい。
(Carbon-carbon double bond of component (A))
The bonding position of the carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group is not particularly limited, and may be present anywhere in the molecule.

(A)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合としては特に限定されないが、下記一般式(I)   (A) Although it does not specifically limit as a carbon-carbon double bond reactive with SiH group of a component, The following general formula (I)

Figure 2013079329
Figure 2013079329

(式中R1は水素原子あるいはメチル基を表す。)で示される基が反応性の点から好適である。また、原料の入手の容易さからは、 A group represented by the formula (wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group) is preferred from the viewpoint of reactivity. In addition, from the availability of raw materials,

Figure 2013079329
Figure 2013079329

で示される基が特に好ましい。 Is particularly preferred.

(A)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合としては、下記一般式(II)   As the carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group of the component (A), the following general formula (II)

Figure 2013079329
Figure 2013079329

(式中R2は水素原子あるいはメチル基を表す。)で示される脂環式の基が、硬化物の耐熱性が高いという点から好適である。また、原料の入手の容易さからは、 An alicyclic group represented by the formula (wherein R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group) is preferred from the viewpoint that the heat resistance of the cured product is high. In addition, from the availability of raw materials,

Figure 2013079329
Figure 2013079329

で示される脂環式の基が特に好ましい。 The alicyclic group represented by is particularly preferable.

((A)成分の炭素−炭素二重結合と骨格の結合基)
SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合は(A)成分の骨格部分に直接結合していてもよく、2価以上の置換基を介して共有結合していても良い。2価以上の置換基としては炭素数0〜10の置換基であれば特に限定されないが、構成元素としてC、H、N、O、S、およびハロゲン以外の元素を含まないものが好ましい。これらの置換基の例としては、
((A) Component carbon-carbon double bond and skeleton bond group)
The carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group may be directly bonded to the skeleton portion of the component (A) or may be covalently bonded via a divalent or higher valent substituent. The divalent or higher valent substituent is not particularly limited as long as it is a substituent having 0 to 10 carbon atoms, but preferably does not contain elements other than C, H, N, O, S and halogen as constituent elements. Examples of these substituents include

Figure 2013079329
Figure 2013079329

Figure 2013079329
Figure 2013079329

が挙げられる。また、これらの2価以上の置換基の2つ以上が共有結合によりつながって1つの2価以上の置換基を構成していてもよい。
以上のような骨格部分に共有結合する基の例としては、ビニル基、アリル基、メタリル基、アクリル基、メタクリル基、2−ヒドロキシ−3−(アリルオキシ)プロピル基、2−アリルフェニル基、3−アリルフェニル基、4−アリルフェニル基、2−(アリルオキシ)フェニル基、3−(アリルオキシ)フェニル基、4−(アリルオキシ)フェニル基、2−(アリルオキシ)エチル基、2,2−ビス(アリルオキシメチル)ブチル基、3−アリルオキシ−2,2−ビス(アリルオキシメチル)プロピル基、
Is mentioned. Moreover, two or more of these divalent or higher valent substituents may be connected by a covalent bond to constitute one divalent or higher valent substituent.
Examples of the group covalently bonded to the skeleton as described above include vinyl group, allyl group, methallyl group, acrylic group, methacryl group, 2-hydroxy-3- (allyloxy) propyl group, 2-allylphenyl group, 3 -Allylphenyl group, 4-allylphenyl group, 2- (allyloxy) phenyl group, 3- (allyloxy) phenyl group, 4- (allyloxy) phenyl group, 2- (allyloxy) ethyl group, 2,2-bis (allyl) Oxymethyl) butyl group, 3-allyloxy-2,2-bis (allyloxymethyl) propyl group,

Figure 2013079329
Figure 2013079329

が挙げられる。 Is mentioned.

(A)成分の具体的な例としては、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、ペンタエリスリトールトリアリルエーテル、1,1,2,2−テトラアリロキシエタン、ジアリリデンペンタエリスリット、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、1,2,4−トリビニルシクロヘキサン、ジビニルベンゼン類(純度50〜100%のもの、好ましくは純度80〜100%のもの)、ジビニルビフェニル、1,3−ジイソプロペニルベンゼン、1,4−ジイソプロペニルベンゼン、およびそれらのオリゴマー、フェノール系、ビスフェノール系、ベンゼン、ナフタレン等の芳香族炭化水素系:直鎖系、脂環系等の脂肪族炭化水素系:複素環系の化合物およびこれらの混合物等が挙げられる。   Specific examples of the component (A) include diallyl phthalate, triallyl trimellitate, diethylene glycol bisallyl carbonate, trimethylolpropane diallyl ether, pentaerythritol triallyl ether, 1,1,2,2-tetraallyloxyethane. Diarylidene pentaerythritol, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, 1,2,4-trivinylcyclohexane, divinylbenzenes (having a purity of 50 to 100%, preferably having a purity of 80 to 100%) , Divinylbiphenyl, 1,3-diisopropenylbenzene, 1,4-diisopropenylbenzene, and oligomers thereof, phenolic, bisphenolic, benzene, naphthalene and other aromatic hydrocarbons: linear, alicyclic Aliphatic hydrocarbons System: The compounds of heterocyclic and mixtures thereof.

Figure 2013079329
Figure 2013079329

Figure 2013079329
Figure 2013079329

の他、従来公知のエポキシ樹脂のグリシジル基の一部あるいは全部をアリル基に置き換えたもの等が挙げられる。 In addition, there may be mentioned those in which part or all of the glycidyl group of a conventionally known epoxy resin is replaced with an allyl group.

(A)成分としては、上記のように骨格部分とアルケニル基とに分けて表現しがたい、低分子量化合物も用いることができる。これらの低分子量化合物の具体例としては、ブタジエン、イソプレン、オクタジエン、デカジエン等の脂肪族鎖状ポリエン化合物系、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロオクタジエン、ジシクロペンタジエン、トリシクロペンタジエン、ノルボルナジエン等の脂肪族環状ポリエン化合物系、ビニルシクロペンテン、ビニルシクロヘキセン等の置換脂肪族環状オレフィン化合物系等が挙げられる。   As the component (A), low molecular weight compounds that are difficult to express separately as described above for the skeleton portion and the alkenyl group can also be used. Specific examples of these low molecular weight compounds include aliphatic chain polyene compound systems such as butadiene, isoprene, octadiene and decadiene, fats such as cyclopentadiene, cyclohexadiene, cyclooctadiene, dicyclopentadiene, tricyclopentadiene and norbornadiene. Examples thereof include aromatic cyclic polyene compound systems and substituted aliphatic cyclic olefin compound systems such as vinylcyclopentene and vinylcyclohexene.

((A)成分の好ましい要件)
(A)成分としては、耐熱性をより向上し得るという観点からは、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を(A)成分1gあたり0.001mol以上含有するものが好ましく、1gあたり0.005mol以上含有するものがより好ましく、0.008mol以上含有するものがさらに好ましい。
(Preferred requirements for component (A))
The component (A) preferably contains 0.001 mol or more of a carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group per 1 g of the component (A) from the viewpoint of further improving the heat resistance. What contains 0.005 mol or more per is more preferable, and what contains 0.008 mol or more is still more preferable.

(A)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合の数は、平均して1分子当たり少なくとも2個あればよいが、力学強度をより向上したい場合には2を越えることが好ましく、3個以上であることがより好ましい。(A)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合の数が1分子内当たり1個以下の場合は、(B)成分と反応してもグラフト構造となるのみで架橋構造とならない。   The number of carbon-carbon double bonds having reactivity with the SiH group of component (A) should be on average at least two per molecule, but may exceed 2 if it is desired to further improve the mechanical strength. Preferably, it is 3 or more. When the number of carbon-carbon double bonds having reactivity with the SiH group of component (A) is 1 or less per molecule, only a graft structure is formed even if it reacts with component (B). Don't be.

(A)成分としては反応性が良好であるという観点からは、1分子中にビニル基を1個以上含有していることが好ましく、1分子中にビニル基を2個以上含有していることがより好ましい。また貯蔵安定性が良好となりやすいという観点からは、1分子中にビニル基を6個以下含有していることが好ましく、1分子中にビニル基を4個以下含有していることがより好ましい。   From the viewpoint of good reactivity as the component (A), it is preferable that one or more vinyl groups are contained in one molecule, and two or more vinyl groups are contained in one molecule. Is more preferable. Further, from the viewpoint that the storage stability tends to be good, it is preferable that 6 or less vinyl groups are contained in one molecule, and it is more preferable that 4 or less vinyl groups are contained in one molecule.

(A)成分としては、力学的耐熱性が高いという観点および原料液の糸引き性が少なく成形性、取扱い性が良好であるという観点、(E)成分および(F)成分などの粉体との均一な混合が容易という点、および硬化性樹脂組成物タブレットとした際の成形性が良好であるという観点からは、分子量が900未満のものが好ましく、700未満のものがより好ましく、500未満のものがさらに好ましい。   As the component (A), the viewpoint that the mechanical heat resistance is high, the viewpoint that the raw material liquid has little stringiness, the moldability and the handleability are good, and the powders such as the component (E) and the component (F) From the viewpoint of easy uniform mixing and good moldability when used as a curable resin composition tablet, those having a molecular weight of less than 900 are preferred, those having a molecular weight of less than 700 are more preferred, and less than 500 Are more preferred.

(A)成分としては、他の成分との均一な混合、および良好な作業性を得るためには、粘度としては23℃において1000ポイズ未満のものが好ましく、300ポイズ未満のものがより好ましく、30ポイズ未満のものがさらに好ましい。粘度はE型粘度計によって測定することができる。   As the component (A), in order to obtain uniform mixing with other components and good workability, the viscosity is preferably less than 1000 poise at 23 ° C., more preferably less than 300 poise, More preferred is less than 30 poise. The viscosity can be measured with an E-type viscometer.

(A)成分としては、耐光性がより高いという観点から、フェノール性水酸基および/あるいはフェノール性水酸基の誘導体を有する化合物の含有量が少ないものが好ましく、フェノール性水酸基および/あるいはフェノール性水酸基の誘導体を有する化合物を含まないものが好ましい。本発明におけるフェノール性水酸基とはベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等に例示される芳香族炭化水素核に直接結合した水酸基を示し、フェノール性水酸基の誘導体とは上述のフェノール性水酸基の水素原子をメチル基、エチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、アセトキシ基等のアシル基等により置換された基を示す。   As the component (A), those having a low content of a compound having a phenolic hydroxyl group and / or a derivative of a phenolic hydroxyl group are preferable from the viewpoint of higher light resistance. A phenolic hydroxyl group and / or a derivative of a phenolic hydroxyl group is preferable. What does not contain the compound which has is preferable. In the present invention, the phenolic hydroxyl group means a hydroxyl group directly bonded to an aromatic hydrocarbon nucleus exemplified by a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, etc., and a phenolic hydroxyl group derivative means a hydrogen atom of the above-mentioned phenolic hydroxyl group. A group substituted by an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group, an alkenyl group such as a vinyl group or an allyl group, an acyl group such as an acetoxy group, or the like.

また、特に耐光性が良好であるという観点からは、芳香環の(A)成分中の成分重量比が50重量%以下であるものが好ましく、40重量%以下のものがより好ましく、30重量%以下のものがさらに好ましい。最も好ましいのは芳香族炭化水素環を含まないものである。   Further, from the viewpoint of particularly good light resistance, the weight ratio of the component (A) in the aromatic ring is preferably 50% by weight or less, more preferably 40% by weight or less, and more preferably 30% by weight. The following are more preferable. Most preferred are those that do not contain an aromatic hydrocarbon ring.

得られる硬化物の着色が少なく、耐光性が高いという観点からは、(A)成分としてはビニルシクロヘキセン、ジシクロペンタジエン、ビニルノルボルネン、トリアリルイソシアヌレート、2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパンのジアリルエーテル、1,2,4−トリビニルシクロヘキサンが好ましく、トリアリルイソシアヌレート、2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパンのジアリルエーテル、1,2,4−トリビニルシクロヘキサンが特に好ましい。   From the viewpoint that the resulting cured product is less colored and has high light resistance, the component (A) includes vinylcyclohexene, dicyclopentadiene, vinylnorbornene, triallyl isocyanurate, 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl). Preferred is diallyl ether of propane, 1,2,4-trivinylcyclohexane, particularly preferred is triallyl isocyanurate, diallyl ether of 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane, and 1,2,4-trivinylcyclohexane. .

((A)成分の好ましい構造1)
(A)成分としては、耐熱性および耐光性が特に高いという観点からは、下記一般式(III)
(Preferred structure 1 of component (A))
As the component (A), from the viewpoint of particularly high heat resistance and light resistance, the following general formula (III)

Figure 2013079329
Figure 2013079329

(式中R1は炭素数1〜50の一価の有機基を表し、それぞれのR1は異なっていても同一であってもよい。)で表される化合物が好ましい。 (Wherein R 1 represents a monovalent organic group having 1 to 50 carbon atoms, and each R 1 may be different or the same).

上記一般式(III)のR1としては、得られる硬化物の耐熱性がより高くなりうるという観点からは、炭素数1〜20の一価の有機基であることが好ましく、炭素数1〜10の一価の有機基であることがより好ましく、炭素数1〜4の一価の有機基であることがさらに好ましい。これらの好ましいR1の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、ビニル基、アリル基、グリシジル基、 As R < 1 > of the said general formula (III), it is preferable that it is a C1-C20 monovalent organic group from a viewpoint that the heat resistance of the hardened | cured material obtained can become higher, and C1-C1 10 monovalent organic groups are more preferable, and monovalent organic groups having 1 to 4 carbon atoms are more preferable. Examples of these preferable R 1 are methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, phenyl group, benzyl group, phenethyl group, vinyl group, allyl group, glycidyl group,

Figure 2013079329
Figure 2013079329

等が挙げられる。 Etc.

上記一般式(III)のR1としては、パッケージとリードフレームあるいは封止剤との接着性が良好になりうる、あるいは得られるパッケージの力学強度が高くなり得るという観点からは、3つのR1のうち少なくとも1つがエポキシ基を一つ以上含む炭素数1〜50の一価の有機基であることが好ましく、 The R 1 in the general formula (III) includes three R 1 from the viewpoint that the adhesiveness between the package and the lead frame or the sealing agent can be improved, or the mechanical strength of the obtained package can be increased. It is preferable that at least one of them is a monovalent organic group having 1 to 50 carbon atoms including one or more epoxy groups,

Figure 2013079329
Figure 2013079329

で表されるエポキシ基を1個以上含む炭素数1〜50の一価の有機基であることがより好ましい。これらの好ましいR1の例としては、グリシジル基、 It is more preferable that it is a C1-C50 monovalent organic group containing 1 or more of epoxy groups represented by these. Examples of these preferable R 1 include a glycidyl group,

Figure 2013079329
Figure 2013079329

等が挙げられる。 Etc.

上記一般式(III)のR1としては、得られる硬化物の耐熱性が良好になりうるという観点からは、2個以下の酸素原子を含みかつ構成元素としてC、H、Oのみを含む炭素数1〜50の一価の有機基であることが好ましく、炭素数1〜50の一価の炭化水素基であることがより好ましい。これらの好ましいR1の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、ビニル基、アリル基、グリシジル基、 R 1 in the general formula (III) is a carbon containing two or less oxygen atoms and containing only C, H, and O as constituent elements from the viewpoint that the heat resistance of the resulting cured product can be improved. A monovalent organic group having 1 to 50 carbon atoms is preferable, and a monovalent hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms is more preferable. Examples of these preferable R 1 are methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, phenyl group, benzyl group, phenethyl group, vinyl group, allyl group, glycidyl group,

Figure 2013079329
Figure 2013079329

等が挙げられる。 Etc.

上記一般式(III)のR1としては、反応性が良好になるという観点からは、3つのR1のうち少なくとも1つが R 1 in the general formula (III) is at least one of three R 1 from the viewpoint of good reactivity.

Figure 2013079329
Figure 2013079329

で表される基を1個以上含む炭素数1〜50の一価の有機基であることが好ましく、下記一般式(IV) It is preferable that it is a C1-C50 monovalent organic group containing 1 or more groups represented by general formula (IV) below.

Figure 2013079329
Figure 2013079329

(式中R2は水素原子あるいはメチル基を表す。)で表される基を1個以上含む炭素数1〜50の一価の有機基であることがより好ましく、 3つのR1のうち少なくとも2つが下記一般式(V) More preferably (wherein R 2 represents. A hydrogen atom or a methyl group) is a monovalent organic group having 1 to 50 carbon atoms containing at least one group represented, at least of the three R 1 Two are the following general formula (V)

Figure 2013079329
Figure 2013079329

(式中R3は直接結合あるいは炭素数1〜48の二価の有機基を表し、R4は水素原子あるいはメチル基を表す。)で表される有機化合物(複数のR3およびR4はそれぞれ異なっていても同一であってもよい。)であることがさらに好ましい。 (Wherein R 3 represents a direct bond or a divalent organic group having 1 to 48 carbon atoms, and R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group) (a plurality of R 3 and R 4 are More preferably, they may be the same or different.

上記一般式(V)のR3は、直接結合あるいは炭素数1〜48の二価の有機基であるが、得られるパッケージの耐熱性がより高くなりうるという観点からは、直接結合あるいは炭素数1〜20の二価の有機基であることが好ましく、直接結合あるいは炭素数1〜10の二価の有機基であることがより好ましく、直接結合あるいは炭素数1〜4の二価の有機基であることがさらに好ましい。これらの好ましいR3の例としては、 R 3 in the general formula (V) is a direct bond or a divalent organic group having 1 to 48 carbon atoms. From the viewpoint that the heat resistance of the resulting package can be further increased, the direct bond or the carbon number It is preferably a divalent organic group having 1 to 20, more preferably a direct bond or a divalent organic group having 1 to 10 carbon atoms, and a direct bond or a divalent organic group having 1 to 4 carbon atoms. More preferably. Examples of these preferred R 3 include

Figure 2013079329
Figure 2013079329

等が挙げられる。 Etc.

上記一般式(V)のR3としては、得られるパッケージの耐熱性が良好になりうるという観点からは、直接結合あるいは2つ以下の酸素原子を含みかつ構成元素としてC、H、Oのみを含む炭素数1〜48の二価の有機基であることが好ましく、直接結合あるいは炭素数1〜48の二価の炭化水素基であることがより好ましい。これらの好ましいR3の例としては、 As R 3 in the general formula (V), from the viewpoint that the heat resistance of the resulting package can be improved, only C, H, or O is included as a constituent element including a direct bond or two or less oxygen atoms. A divalent organic group having 1 to 48 carbon atoms is preferable, and a direct bond or a divalent hydrocarbon group having 1 to 48 carbon atoms is more preferable. Examples of these preferred R 3 include

Figure 2013079329
Figure 2013079329

が挙げられる。 Is mentioned.

上記一般式(V)のR4は、水素原子あるいはメチル基であるが、反応性が良好であるという観点からは、水素原子が好ましい。 R 4 in the general formula (V) is a hydrogen atom or a methyl group, and a hydrogen atom is preferable from the viewpoint of good reactivity.

ただし、上記のような一般式(III)で表される有機化合物の好ましい例においても、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有することは必要である。耐熱性をより向上し得るという観点からは、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に3個以上含有する有機化合物であることがより好ましい。   However, in the preferred examples of the organic compound represented by the general formula (III) as described above, it is necessary to contain at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with the SiH group in one molecule. is there. From the viewpoint that heat resistance can be further improved, an organic compound containing three or more carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups in one molecule is more preferable.

以上のような一般式(III)で表される有機化合物の好ましい具体例としては、トリアリルイソシアヌレート、   Preferable specific examples of the organic compound represented by the general formula (III) as described above include triallyl isocyanurate,

Figure 2013079329
Figure 2013079329

等が挙げられる。 Etc.

((A)成分の好ましい構造2)
また、(B)成分と良好な相溶性を有するという観点、および(A)成分の揮発性が低くなり、得られるパッケージからのアウトガスの問題が生じ難いという観点からは、(A)成分の例として上記したような、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物から選ばれた1種以上の化合物と、SiH基を有する化合物(β)との反応物も好ましい。
(Preferred structure 2 of component (A))
In addition, from the viewpoint of having good compatibility with the component (B), and from the viewpoint that the volatility of the component (A) is low and the problem of outgas from the resulting package is less likely to occur, examples of the component (A) As described above, at least one compound selected from organic compounds containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups in one molecule, and a compound having a SiH group (β) A reaction product with is also preferred.

((β)成分)
(β)成分は、SiH基を有する化合物であり、SiH基を有する鎖状及び/又は環状のポリオルガノシロキサンもその例である。
具体的には、例えば
((Β) component)
The component (β) is a compound having a SiH group, and a chain and / or cyclic polyorganosiloxane having a SiH group is an example.
Specifically, for example

Figure 2013079329
Figure 2013079329

Figure 2013079329
Figure 2013079329

が挙げられる。 Is mentioned.

ここで、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物との相溶性が良くなりやすいという観点から、下記一般式(VI)   Here, from the viewpoint that compatibility with an organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with the SiH group in one molecule is likely to be improved, the following general formula (VI)

Figure 2013079329
Figure 2013079329

(式中、R1は炭素数1〜6の有機基を表し、nは3〜10の数を表す。)で表される、1分子中に少なくとも3個のSiH基を有する環状ポリオルガノシロキサンが好ましい。 (Wherein R 1 represents an organic group having 1 to 6 carbon atoms, and n represents a number of 3 to 10). Cyclic polyorganosiloxane having at least three SiH groups in one molecule. Is preferred.

一般式(VI)で表される化合物中の置換基R1は、C、H、O以外の構成元素を含まないものが好ましく、炭化水素基であることがより好ましく、メチル基であることがさらに好ましい。 The substituent R 1 in the compound represented by the general formula (VI) preferably does not contain a constituent element other than C, H, and O, more preferably a hydrocarbon group, and a methyl group. Further preferred.

入手容易性等から、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンであることが好ましい。   In view of availability, 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane is preferable.

(β)成分のその他の例として、ビスジメチルシリルベンゼンなどのSiH基を有する化合物をあげることができる。   Other examples of the (β) component include compounds having a SiH group such as bisdimethylsilylbenzene.

上記したような各種(β)成分は単独もしくは2種以上のものを混合して用いることが可能である。   Various (β) components as described above can be used alone or in admixture of two or more.

(SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物と(β)成分の反応)
次に、本発明の(A)成分として、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物と(β)成分をヒドロシリル化反応して得ることができる化合物を用いる場合の、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物と(β)成分とのヒドロシリル化反応に関して説明する。
(Reaction of an organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH group in one molecule and (β) component)
Next, as component (A) of the present invention, an organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds reactive with SiH groups in one molecule and (β) component are obtained by hydrosilylation reaction. The hydrosilylation reaction between an organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups in one molecule and the (β) component in the case of using a compound capable of reacting with SiH will be described.

尚、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物と(β)成分をヒドロシリル化反応すると、本発明の(A)成分を含む複数の化合物の混合物が得られることがあるが、そこから(A)成分を分離することなく混合物のままで用いて本発明の硬化性樹脂組成物を作成することもできる。   A hydrosilylation reaction of an organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds reactive with a SiH group in one molecule and the (β) component results in a plurality of compounds containing the component (A) of the present invention. However, the curable resin composition of the present invention can also be prepared by using the mixture as it is without separating the component (A).

SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物と(β)成分をヒドロシリル化反応させる場合の、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物と(β)成分の混合比率は、特に限定されないが、反応中のゲル化が抑制できるという点においては、一般に、混合するSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物中のSiH基との反応性を有する炭素−炭素二重結合の総数(X)と、混合する(β)成分中のSiH基の総数(Y)との比が、X/Y≧2であることが好ましく、X/Y≧3であることがより好ましい。また(A)成分の(B)成分との相溶性がよくなりやすいという点からは、10≧X/Yであることが好ましく、5≧X/Yであることがより好ましい。   Carbon-carbon double having reactivity with SiH group when hydrosilylation reaction of organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds reactive with SiH group in one molecule and (β) component The mixing ratio of the organic compound containing at least two bonds in one molecule and the (β) component is not particularly limited, but generally is reactive with the SiH group to be mixed in that gelation during the reaction can be suppressed. In the (β) component to be mixed with the total number (X) of carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups in an organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds in one molecule The ratio of the total number of SiH groups (Y) is preferably X / Y ≧ 2, more preferably X / Y ≧ 3. Moreover, it is preferable that it is 10> = X / Y from the point that compatibility with (B) component of (A) component becomes easy, and it is more preferable that it is 5> = X / Y.

SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物と(β)成分をヒドロシリル化反応させる場合には適当な触媒を用いてもよい。触媒としては、例えば次のようなものを用いることができる。白金の単体、アルミナ、シリカ、カーボンブラック等の担体に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトン等との錯体、白金−オレフィン錯体(例えば、Pt(CH2=CH22(PPh32、Pt(CH2=CH22Cl2)、白金−ビニルシロキサン錯体(例えば、Pt(ViMe2SiOSiMe2Vi)n、Pt[(MeViSiO)4m)、白金−ホスフィン錯体(例えば、Pt(PPh34、Pt(PBu34)、白金−ホスファイト錯体(例えば、Pt[P(OPh)34、Pt[P(OBu)34)(式中、Meはメチル基、Buはブチル基、Viはビニル基、Phはフェニル基を表し、n、mは、整数を示す。)、ジカルボニルジクロロ白金、カールシュテト(Karstedt)触媒、また、アシュビー(Ashby)の米国特許第3159601号及び3159662号明細書中に記載された白金−炭化水素複合体、ならびにラモロー(Lamoreaux)の米国特許第3220972号明細書中に記載された白金アルコラート触媒が挙げられる。更に、モディック(Modic)の米国特許第3516946号明細書中に記載された塩化白金−オレフィン複合体も本発明において有用である。 In the case of hydrosilylation reaction of an organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH group in one molecule and the (β) component, an appropriate catalyst may be used. As the catalyst, for example, the following can be used. Platinum simple substance, alumina, silica, carbon black or the like supported on solid platinum, chloroplatinic acid, a complex of chloroplatinic acid and alcohol, aldehyde, ketone or the like, platinum-olefin complex (for example, Pt (CH 2 = CH 2 ) 2 (PPh 3 ) 2 , Pt (CH 2 = CH 2 ) 2 Cl 2 ), platinum-vinylsiloxane complex (for example, Pt (ViMe 2 SiOSiMe 2 Vi) n , Pt [(MeViSiO) 4 ]) m ), platinum-phosphine complexes (eg, Pt (PPh 3 ) 4 , Pt (PBu 3 ) 4 ), platinum-phosphite complexes (eg, Pt [P (OPh) 3 ] 4 , Pt [P (OBu) 3 ] 4) (in the formula, Me represents a methyl group, Bu a butyl group, Vi is vinyl group, Ph represents a phenyl group, n, m is an integer.), dicarbonyl dichloroplatinum, Karushuteto Karstedt catalyst, as well as the platinum-hydrocarbon complexes described in Ashby US Pat. Nos. 3,159,601 and 3,159,622, and Lamoreaux US Pat. No. 3,220,972. And platinum alcoholate catalysts. In addition, platinum chloride-olefin complexes described in Modic US Pat. No. 3,516,946 are also useful in the present invention.

また、白金化合物以外の触媒の例としては、RhCl(PPh)3、RhCl3、RhAl23、RuCl3、IrCl3、FeCl3、AlCl3、PdCl2・2H2O、NiCl2、TiCl4、等が挙げられる。 Examples of catalysts other than platinum compounds include RhCl (PPh) 3 , RhCl 3 , RhAl 2 O 3 , RuCl 3 , IrCl 3 , FeCl 3 , AlCl 3 , PdCl 2 .2H 2 O, NiCl 2 , TiCl 4. , Etc.

これらの中では、触媒活性の点から塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体等が好ましい。また、これらの触媒は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。   Of these, chloroplatinic acid, platinum-olefin complexes, platinum-vinylsiloxane complexes and the like are preferable from the viewpoint of catalytic activity. Moreover, these catalysts may be used independently and may be used together 2 or more types.

触媒の添加量は特に限定されないが、十分な硬化性を有し、かつ硬化性樹脂組成物のコストを比較的低く抑えるため好ましい添加量の下限は、(β)成分のSiH基1モルに対して10-8モル、より好ましくは10-6モルであり、好ましい添加量の上限は(β)成分のSiH基1モルに対して10-1モル、より好ましくは10-2モルである。 Although the addition amount of the catalyst is not particularly limited, the lower limit of the preferable addition amount is sufficient with respect to 1 mol of SiH groups of the (β) component in order to have sufficient curability and keep the cost of the curable resin composition relatively low. 10 -8 mol Te, more preferably 10 -6 mole, preferable amount of the upper limit is 10 -1 moles per mole of the SiH group (beta) component, more preferably 10 -2 moles.

また、上記触媒には助触媒を併用することが可能であり、例としてトリフェニルホスフィン等のリン系化合物、ジメチルマレート等の1,2−ジエステル系化合物、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−ブチン等のアセチレンアルコール系化合物、単体の硫黄等の硫黄系化合物、トリエチルアミン等のアミン系化合物等が挙げられる。助触媒の添加量は特に限定されないが、ヒドロシリル化触媒1モルに対しての好ましい添加量の下限は、10-2モル、より好ましくは10-1モルであり、好ましい添加量の上限は102モル、より好ましくは10モルである。 In addition, a cocatalyst can be used in combination with the above catalyst. Examples thereof include phosphorus compounds such as triphenylphosphine, 1,2-diester compounds such as dimethyl malate, 2-hydroxy-2-methyl-1 -Acetylene alcohol compounds such as butyne, sulfur compounds such as simple sulfur, amine compounds such as triethylamine, and the like. The addition amount of the cocatalyst is not particularly limited, but the lower limit of the preferable addition amount with respect to 1 mol of the hydrosilylation catalyst is 10 −2 mol, more preferably 10 −1 mol, and the upper limit of the preferable addition amount is 10 2. Mol, more preferably 10 mol.

反応させる場合のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物、(β)成分、触媒の混合の方法としては、各種方法をとることができるが、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物に触媒を混合したものを、(β)成分に混合する方法が好ましい。SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物、(β)成分の混合物に触媒を混合する方法だと反応の制御が困難である。(β)成分と触媒を混合したものにSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物を混合する方法をとる場合は、触媒の存在下(β)成分が混入している水分と反応性を有するため、変質することがある。   Various methods can be used as a method of mixing the organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds reactive with the SiH group in the case of reaction, the (β) component, and the catalyst. However, a method in which a catalyst is mixed with an organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds reactive with SiH groups in one molecule is mixed with the (β) component. If the catalyst is mixed with a mixture of an organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with the SiH group in one molecule and the (β) component, it is difficult to control the reaction. In the case of adopting a method of mixing an organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups into a mixture of component (β) and a catalyst, in the presence of the catalyst ( Since β) is reactive with moisture mixed therein, it may be altered.

反応温度としては種々設定できるが、この場合好ましい温度範囲の下限は30℃、より好ましくは50℃であり、好ましい温度範囲の上限は200℃、より好ましくは150℃である。反応温度が低いと十分に反応させるための反応時間が長くなり、反応温度が高いと実用的でない。反応は一定の温度で行ってもよいが、必要に応じて多段階あるいは連続的に温度を変化させてもよい。 反応時間、反応時の圧力も必要に応じ種々設定できる。   The reaction temperature can be variously set. In this case, the lower limit of the preferable temperature range is 30 ° C., more preferably 50 ° C., and the upper limit of the preferable temperature range is 200 ° C., more preferably 150 ° C. If the reaction temperature is low, the reaction time for sufficiently reacting becomes long, and if the reaction temperature is high, it is not practical. The reaction may be carried out at a constant temperature, but the temperature may be changed in multiple steps or continuously as required. Various reaction times and pressures during the reaction can be set as required.

ヒドロシリル化反応の際に溶媒を使用してもよい。使用できる溶剤はヒドロシリル化反応を阻害しない限り特に限定されるものではなく、具体的に例示すれば、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、1, 4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、クロロホルム、塩化メチレン、1, 2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒を好適に用いることができる。溶媒は2種類以上の混合溶媒として用いることもできる。溶媒としては、トルエン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、クロロホルムが好ましい。使用する溶媒量も適宜設定できる。   A solvent may be used during the hydrosilylation reaction. Solvents that can be used are not particularly limited as long as they do not inhibit the hydrosilylation reaction. Specific examples include hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, hexane, heptane, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1, Ether solvents such as 3-dioxolane and diethyl ether, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, and halogen solvents such as chloroform, methylene chloride and 1,2-dichloroethane can be preferably used. The solvent can also be used as a mixed solvent of two or more types. As the solvent, toluene, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane and chloroform are preferable. The amount of solvent to be used can also be set as appropriate.

その他、反応性を制御する目的等のために種々の添加剤を用いてもよい。   In addition, various additives may be used for the purpose of controlling reactivity.

SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物と(β)成分を反応させた後に、溶媒あるいは/および未反応のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物あるいは/および(β)成分を除去することもできる。これらの揮発分を除去することにより、得られる(A)成分が揮発分を有さないため(B)成分との硬化の場合に揮発分の揮発によるボイド、クラックの問題が生じにくい。除去する方法としては例えば、減圧脱揮の他、活性炭、ケイ酸アルミニウム、シリカゲル等による処理等が挙げられる。減圧脱揮する場合には低温で処理することが好ましい。この場合の好ましい温度の上限は100℃であり、より好ましくは60℃である。高温で処理すると増粘等の変質を伴いやすい。   After reacting (β) component with an organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds reactive with SiH group in one molecule, it has reactivity with solvent and / or unreacted SiH group Organic compounds containing at least two carbon-carbon double bonds per molecule and / or (β) component can also be removed. By removing these volatile components, the obtained component (A) does not have a volatile component, so that in the case of curing with the component (B), problems of voids and cracks due to the volatilization of the volatile components are less likely to occur. Examples of the removal method include treatment with activated carbon, aluminum silicate, silica gel and the like in addition to vacuum devolatilization. When devolatilizing under reduced pressure, it is preferable to treat at a low temperature. The upper limit of the preferable temperature in this case is 100 ° C, more preferably 60 ° C. When treated at high temperatures, it tends to be accompanied by alterations such as thickening.

以上のような、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物と(β)成分の反応物である(A)成分の例としては、ビスフェノールAジアリルエーテルと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、ビニルシクロヘキセンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、ジビニルベンゼンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、ジシクロペンタジエンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、トリアリルイソシアヌレートと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレートと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、ビニルノルボルネンとビスジメチルシリルベンゼンとの反応物等を挙げることができる。   Examples of the component (A) which is a reaction product of the organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with the SiH group in one molecule and the component (β) are bisphenol. A reaction product of diallyl ether and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, reaction product of vinylcyclohexene and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, divinylbenzene and 1,3,5, Reaction product of 7-tetramethylcyclotetrasiloxane, reaction product of dicyclopentadiene and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, triallyl isocyanurate and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane Reaction of diallyl monoglycidyl isocyanurate and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane Applied Physics, mention may be made of reaction products of vinyl norbornene and bis dimethylsilyl benzene.

((A)成分のその他の反応性基)
(A)成分としてはその他の反応性基を有していてもよい。この場合の反応性基としては、エポキシ基、アミノ基、ラジカル重合性不飽和基、カルボキシル基、イソシアネート基、ヒドロキシル基、アルコキシシリル基等が挙げられる。これらの官能基を有している場合には得られる硬化性樹脂組成物の接着性が高くなりやすく、得られる硬化物の強度が高くなりやすい。接着性がより高くなりうるという点からは、これらの官能基のうちエポキシ基が好ましい。また、得られる硬化物の耐熱性が高くなりやすいという点においては、反応性基を平均して1分子中に1個以上有していることが好ましい。
(Other reactive groups of component (A))
(A) As a component, you may have another reactive group. Examples of the reactive group in this case include an epoxy group, an amino group, a radical polymerizable unsaturated group, a carboxyl group, an isocyanate group, a hydroxyl group, and an alkoxysilyl group. When it has these functional groups, the adhesiveness of the obtained curable resin composition tends to be high, and the strength of the obtained cured product tends to be high. Of these functional groups, an epoxy group is preferable from the viewpoint that the adhesiveness can be further increased. Moreover, it is preferable to have 1 or more reactive groups in one molecule on average from the point that the heat resistance of the obtained cured product tends to be high.

((A)成分の混合)
(A)成分は、単独もしくは2種以上のものを混合して用いることが可能である。
(Mixing of component (A))
(A) component can be used individually or in mixture of 2 or more types.

((B)成分)
(B)成分は、1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物である。
(B)成分については1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物であれば特に制限がなく、例えば国際公開WO96/15194に記載される化合物で、1分子中に少なくとも2個のSiH基を有するもの等が使用できる。
((B) component)
The component (B) is a compound containing at least two SiH groups in one molecule.
The component (B) is not particularly limited as long as it is a compound containing at least two SiH groups in one molecule. For example, the compound described in International Publication WO 96/15194 is at least two SiH groups in one molecule. Those having a group can be used.

これらのうち、入手性の面からは、1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する鎖状及び/又は環状オルガノポリシロキサンが好ましく、(A)成分との相溶性が良いという観点からは、さらに、下記一般式(VI)   Among these, from the viewpoint of availability, a chain and / or cyclic organopolysiloxane having at least two SiH groups in one molecule is preferable, and from the viewpoint of good compatibility with the component (A), Furthermore, the following general formula (VI)

Figure 2013079329
Figure 2013079329

(式中、R1は炭素数1〜6の有機基を表し、nは3〜10の数を表す。)で表される、1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する環状オルガノポリシロキサンが好ましい。 (Wherein R 1 represents an organic group having 1 to 6 carbon atoms, and n represents a number of 3 to 10). Cyclic organopolysiloxane having at least two SiH groups in one molecule. Is preferred.

一般式(VI)で表される化合物中の置換基R1は、C、H、Oから構成されるものであることが好ましく、炭化水素基であることがより好ましく、メチル基であることがさらに好ましい。 The substituent R 1 in the compound represented by the general formula (VI) is preferably composed of C, H and O, more preferably a hydrocarbon group, and a methyl group. Further preferred.

一般式(VI)で表される化合物としては、入手容易性の観点からは、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンであることが好ましい。   From the viewpoint of availability, the compound represented by the general formula (VI) is preferably 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane.

(B)成分の分子量は特に制約はなく任意のものが好適に使用できるが、より流動性を発現しやすく、(E)成分および(F)成分などの粉体と均一に混合しやすいという観点からは低分子量のものが好ましく用いられる。この場合、好ましい分子量の下限は50であり、好ましい分子量の上限は100,000、より好ましくは1,000、さらに好ましくは700である。   The molecular weight of the component (B) is not particularly limited, and any one can be suitably used. However, the viewpoint that the fluidity is more easily expressed and the powder such as the component (E) and the component (F) is easily mixed uniformly. Are preferably those having a low molecular weight. In this case, the lower limit of the preferred molecular weight is 50, and the upper limit of the preferred molecular weight is 100,000, more preferably 1,000, and still more preferably 700.

(B)成分としては、他の成分、特に(E)成分および(F)成分などの粉体との均一な混合を容易にするため、更に詳しくは均一な混合のために融点以上に加熱して液体化させる必要がないことから、23℃において液体であることが好ましく、その粘度としては23℃において50Pa秒以下のものが好ましく、20Pa秒以下のものがより好ましく、5Pa秒以下のものがさらに好ましい。粘度はE型粘度計によって測定することができる。   As component (B), in order to facilitate uniform mixing with other components, particularly powders such as component (E) and component (F), more specifically, heating above the melting point for uniform mixing. The liquid is preferably liquid at 23 ° C., and its viscosity is preferably 50 Pa seconds or less at 23 ° C., more preferably 20 Pa seconds or less, and more preferably 5 Pa seconds or less. Further preferred. The viscosity can be measured with an E-type viscometer.

(B)成分は単独もしくは2種以上のものを混合して用いることが可能である。   Component (B) can be used alone or in combination of two or more.

((B)成分の好ましい構造)
(A)成分と良好な相溶性を有するという観点、および(B)成分の揮発性が低くなり得られる硬化性樹脂組成物からのアウトガスの問題が生じ難いという観点からは、(B)成分は、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に1個以上含有する有機化合物(α)と、1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する化合物(β)を、ヒドロシリル化反応して得ることができる化合物であることが好ましい。
(Preferred structure of component (B))
From the viewpoint of having good compatibility with the component (A), and from the viewpoint that the problem of outgas from the curable resin composition that can be reduced in volatility of the component (B) is less likely to occur, the component (B) An organic compound (α) containing at least one carbon-carbon double bond reactive with a SiH group in one molecule and a compound (β) having at least two SiH groups in one molecule are hydrosilylated. It is preferable that the compound is obtained by a chemical reaction.

((α)成分)
ここで(α)成分は上記した(A)成分である、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物と同じもの(α1)も用いることができる。(α1)成分を用いると得られる硬化物の架橋密度が高くなり力学強度が高い硬化物となりやすい。
((Α) component)
Here, the component (α) is the component (A) described above, and the same component (α1) as the organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds reactive with the SiH group in one molecule is used. Can do. When the component (α1) is used, the resulting cured product has a high crosslink density and tends to be a cured product having high mechanical strength.

その他、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に1個含有する有機化合物(α2)も用いることができる。(α2)成分を用いると得られる硬化物が低弾性となりやすい。   In addition, an organic compound (α2) containing one carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group in one molecule can also be used. When the (α2) component is used, the obtained cured product tends to have low elasticity.

((α2)成分)
(α2)成分としては、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に1個含有する有機化合物であれば特に限定されないが、(B)成分が(A)成分と相溶性がよくなるという点においては、化合物としてはポリシロキサン−有機ブロックコポリマーやポリシロキサン−有機グラフトコポリマーのようなシロキサン単位(Si−O−Si)を含むものではなく、構成元素としてC、H、N、O、S、およびハロゲンのみを含むものであることが好ましい。
((Α2) component)
The component (α2) is not particularly limited as long as it is an organic compound containing one carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group in one molecule, but the component (B) is in phase with the component (A). In terms of improved solubility, the compound does not contain a siloxane unit (Si—O—Si) such as a polysiloxane-organic block copolymer or polysiloxane-organic graft copolymer, and C, H, N as constituent elements. , O, S, and halogen are preferred.

(α2)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合の結合位置は特に限定されず、分子内のどこに存在してもよい。   The bonding position of the carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group of the (α2) component is not particularly limited and may be present anywhere in the molecule.

(α2)成分の化合物は、重合体系の化合物と単量体系化合物に分類できる。
重合体系化合物としては例えば、ポリシロキサン系、ポリエーテル系、ポリエステル系、ポリアリレート系、ポリカーボネート系、飽和炭化水素系、不飽和炭化水素系、ポリアクリル酸エステル系、ポリアミド系、フェノール−ホルムアルデヒド系(フェノール樹脂系)、ポリイミド系の化合物を用いることができる。
The (α2) component compound can be classified into a polymer compound and a monomer compound.
Examples of the polymer compound include polysiloxane, polyether, polyester, polyarylate, polycarbonate, saturated hydrocarbon, unsaturated hydrocarbon, polyacrylate ester, polyamide, phenol-formaldehyde ( Phenol resin type) and polyimide type compounds can be used.

また単量体系化合物としては例えば、フェノール系、ビスフェノール系、ベンゼン、ナフタレン等の芳香族炭化水素系:直鎖系、脂環系等の脂肪族炭化水素系:複素環系の化合物、シリコン系の化合物およびこれらの混合物等が挙げられる。   Examples of monomer compounds include aromatic hydrocarbons such as phenols, bisphenols, benzene, and naphthalene: aliphatic hydrocarbons such as straight-chain and alicyclics: heterocyclic compounds, and silicon-based compounds. Examples thereof include compounds and mixtures thereof.

(α2)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合としては特に限定されないが、下記一般式(I)   Although it does not specifically limit as a carbon-carbon double bond which has the reactivity with SiH group of ((alpha) 2) component, The following general formula (I)

Figure 2013079329
Figure 2013079329

(式中R1は水素原子あるいはメチル基を表す。)で示される基が反応性の点から好適である。また、原料の入手の容易さからは、 A group represented by the formula (wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group) is preferred from the viewpoint of reactivity. In addition, from the availability of raw materials,

Figure 2013079329
Figure 2013079329

で示される基が特に好ましい。
(α2)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合としては、下記一般式(II)
Is particularly preferred.
As the carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group of the component (α2), the following general formula (II)

Figure 2013079329
Figure 2013079329

(式中R2は水素原子あるいはメチル基を表す。)で示される脂環式の基が、硬化物の耐熱性が高いという点から好適である。また、原料の入手の容易さからは、 An alicyclic group represented by the formula (wherein R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group) is preferred from the viewpoint that the heat resistance of the cured product is high. In addition, from the availability of raw materials,

Figure 2013079329
Figure 2013079329

で示される脂環式の基が特に好ましい。 The alicyclic group represented by is particularly preferable.

SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合は(α2)成分の骨格部分に直接結合していてもよく、2価以上の置換基を介して共有結合していても良い。2価以上の置換基としては炭素数0〜10の置換基であれば特に限定されないが、(B)成分が(A)成分と相溶性がよくなりやすいという点においては、構成元素としてC、H、N、O、S、およびハロゲンのみを含むものが好ましい。これらの置換基の例としては、   The carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group may be directly bonded to the skeleton portion of the (α2) component, or may be covalently bonded via a divalent or higher substituent. The divalent or higher valent substituent is not particularly limited as long as it is a substituent having 0 to 10 carbon atoms. However, in terms that the component (B) is easily compatible with the component (A), C, Those containing only H, N, O, S and halogen are preferred. Examples of these substituents include

Figure 2013079329
Figure 2013079329

Figure 2013079329
Figure 2013079329

が挙げられる。また、これらの2価以上の置換基の2つ以上が共有結合によりつながって1つの2価以上の置換基を構成していてもよい。 Is mentioned. Moreover, two or more of these divalent or higher valent substituents may be connected by a covalent bond to constitute one divalent or higher valent substituent.

以上のような骨格部分に共有結合する基の例としては、ビニル基、アリル基、メタリル基、アクリル基、メタクリル基、2−ヒドロキシ−3−(アリルオキシ)プロピル基、2−アリルフェニル基、3−アリルフェニル基、4−アリルフェニル基、2−(アリルオキシ)フェニル基、3−(アリルオキシ)フェニル基、4−(アリルオキシ)フェニル基、2−(アリルオキシ)エチル基、2、2−ビス(アリルオキシメチル)ブチル基、3−アリルオキシ−2、2−ビス(アリルオキシメチル)プロピル基、   Examples of the group covalently bonded to the skeleton as described above include vinyl group, allyl group, methallyl group, acrylic group, methacryl group, 2-hydroxy-3- (allyloxy) propyl group, 2-allylphenyl group, 3 -Allylphenyl group, 4-allylphenyl group, 2- (allyloxy) phenyl group, 3- (allyloxy) phenyl group, 4- (allyloxy) phenyl group, 2- (allyloxy) ethyl group, 2,2-bis (allyl) Oxymethyl) butyl group, 3-allyloxy-2, 2-bis (allyloxymethyl) propyl group,

Figure 2013079329
Figure 2013079329

が挙げられる。 Is mentioned.

(α2)成分の具体的な例としては、プロペン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、1−ドデセン、1−ウンデセン、出光石油化学社製リニアレン、4,4−ジメチル−1−ペンテン、2−メチル−1−ヘキセン、2,3,3−トリメチル−1−ブテン、2,4,4−トリメチル−1−ペンテン等のような鎖状脂肪族炭化水素系化合物類、シクロヘキセン、メチルシクロヘキセン、メチレンシクロヘキサン、ノルボルニレン、エチリデンシクロヘキサン、ビニルシクロヘキサン、カンフェン、カレン、αピネン、βピネン等のような環状脂肪族炭化水素系化合物類、スチレン、αメチルスチレン、インデン、フェニルアセチレン、4−エチニルトルエン、アリルベンゼン、4−フェニル−1−ブテン等のような芳香族炭化水素系化合物、アルキルアリルエーテル、アリルフェニルエーテル等のアリルエーテル類、グリセリンモノアリルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、4−ビニル−1,3−ジオキソラン−2−オン等の脂肪族系化合物類、1,2−ジメトキシ−4−アリルベンゼン、o−アリルフェノール等の芳香族系化合物類、モノアリルジベンジルイソシアヌレート、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート等の置換イソシアヌレート類、ビニルトリメチルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリフェニルシラン等のシリコン化合物等が挙げられる。さらに、片末端アリル化ポリエチレンオキサイド、片末端アリル化ポリプロピレンオキサイド等のポリエーテル系樹脂、片末端アリル化ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、片末端アリル化ポリブチルアクリレート、片末端アリル化ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、等の片末端にビニル基を有するポリマーあるいはオリゴマー類等も挙げることができる。   Specific examples of the component (α2) include propene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, 1-dodecene, 1-undecene, Idemitsu Petrochemical's linearene, 4,4-dimethyl-1-pentene, 2-methyl-1-hexene, 2,3,3-trimethyl-1-butene, 2,4,4-trimethyl-1-pentene, etc. Chain aliphatic hydrocarbon compounds such as cyclohexene, methylcyclohexene, methylenecyclohexane, norbornylene, ethylidenecyclohexane, vinylcyclohexane, camphene, carene, α-pinene, β-pinene and the like, Styrene, α-methylstyrene, indene, phenylacetylene, 4-ethynyltoluene, allylbenzene, 4- Aromatic hydrocarbon compounds such as phenyl-1-butene, allyl ethers such as alkyl allyl ether and allyl phenyl ether, glycerin monoallyl ether, ethylene glycol monoallyl ether, 4-vinyl-1,3-dioxolane- Substitution of aliphatic compounds such as 2-one, aromatic compounds such as 1,2-dimethoxy-4-allylbenzene, o-allylphenol, monoallyl dibenzyl isocyanurate, monoallyl diglycidyl isocyanurate, etc. Examples include isocyanurates, silicon compounds such as vinyltrimethylsilane, vinyltrimethoxysilane, and vinyltriphenylsilane. Furthermore, polyether resins such as one-end allylated polyethylene oxide and one-end allylated polypropylene oxide, hydrocarbon resins such as one-end allylated polyisobutylene, one-end allylated polybutyl acrylate, one-end allylated polymethyl methacrylate Examples thereof also include polymers or oligomers having a vinyl group at one end, such as acrylic resins.

(α2)成分の構造は線状でも枝分かれ状でもよく、分子量は特に制約はなく種々のものを用いることができる。分子量分布も特に制限ないが、混合物の粘度が低くなり成形性が良好となりやすいという点においては、分子量分布が3以下であることが好ましく、2以下であることがより好ましく、1.5以下であることがさらに好ましい。   The structure of the (α2) component may be linear or branched, and the molecular weight is not particularly limited, and various types can be used. The molecular weight distribution is not particularly limited, but the molecular weight distribution is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and more preferably 1.5 or less in that the viscosity of the mixture is low and the moldability is likely to be good. More preferably it is.

(α2)成分のガラス転位温度が存在する場合はこれについても特に限定はなく種々のものが用いられるが、得られる硬化物が強靭となりやすいという点においては、ガラス点移転温度は100℃以下であることが好ましく、50℃以下であることがより好ましく、0℃以下であることがさらに好ましい。好ましい樹脂の例としてはポリブチルアクリレート樹脂等が挙げられる。逆に得られる硬化物の耐熱性が高くなるという点においては、ガラス転位温度は100℃以上であることが好ましく、120℃以上であることがより好ましく、150℃以上であることがさらに好ましく、170℃以上であることが最も好ましい。ガラス転位温度は動的粘弾性測定においてtanδが極大を示す温度として求めることができる。   In the case where the glass transition temperature of the component (α2) is present, there is no particular limitation on this, and various materials are used. However, the glass point transfer temperature is 100 ° C. or lower in that the obtained cured product tends to be tough. Preferably, it is 50 ° C. or lower, and more preferably 0 ° C. or lower. Examples of preferred resins include polybutyl acrylate resins. Conversely, the glass transition temperature is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher, further preferably 150 ° C. or higher, in that the heat resistance of the cured product obtained is increased. Most preferably, it is 170 ° C. or higher. The glass transition temperature can be determined as a temperature at which tan δ exhibits a maximum in dynamic viscoelasticity measurement.

(α2)成分としては、得られる硬化物の耐熱性が高くなるという点においては、炭化水素化合物であることが好ましい。この場合好ましい炭素数の下限は7であり、好ましい炭素数の上限は10である。   The component (α2) is preferably a hydrocarbon compound in that the heat resistance of the resulting cured product is increased. In this case, the preferable lower limit of the carbon number is 7, and the preferable upper limit of the carbon number is 10.

(α2)成分としてはその他の反応性基を有していてもよい。この場合の反応性基としては、エポキシ基、アミノ基、ラジカル重合性不飽和基、カルボキシル基、イソシアネート基、ヒドロキシル基、アルコキシシリル基等が挙げられる。これらの官能基を有している場合には得られる硬化性樹脂組成物の接着性が高くなりやすく、得られる硬化物の強度が高くなりやすい。接着性がより高くなりうるという点からは、これらの官能基のうちエポキシ基が好ましい。また、得られる硬化物の耐熱性が高くなりやすいという点においては、反応性基を平均して1分子中に1個以上有していることが好ましい。具体的にはモノアリルジグリシジルイソシアヌレート、アリルグリシジルエーテル、アリロキシエチルメタクリレート、アリロキシエチルアクリレート、ビニルトリメトキシシラン等が挙げられる。   The component (α2) may have other reactive groups. Examples of the reactive group in this case include an epoxy group, an amino group, a radical polymerizable unsaturated group, a carboxyl group, an isocyanate group, a hydroxyl group, and an alkoxysilyl group. When it has these functional groups, the adhesiveness of the obtained curable resin composition tends to be high, and the strength of the obtained cured product tends to be high. Of these functional groups, an epoxy group is preferable from the viewpoint that the adhesiveness can be further increased. Moreover, it is preferable to have 1 or more reactive groups in one molecule on average from the point that the heat resistance of the obtained cured product tends to be high. Specific examples include monoallyl diglycidyl isocyanurate, allyl glycidyl ether, allyloxyethyl methacrylate, allyloxyethyl acrylate, vinyltrimethoxysilane, and the like.

上記のような(α1)成分あるいは/および(α2)成分としては単一のものを用いてもよいし、複数のものを組み合わせて用いてもよい。   As the above (α1) component and / or (α2) component, a single component may be used, or a plurality of components may be used in combination.

((β)成分)
(β)成分は、1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する化合物であり、鎖状及び/又は環状のポリオルガノシロキサンもその例である。
((Β) component)
The component (β) is a compound having at least two SiH groups in one molecule, and chain and / or cyclic polyorganosiloxanes are also examples.

具体的には、例えば   Specifically, for example

Figure 2013079329
Figure 2013079329

Figure 2013079329
Figure 2013079329

が挙げられる。 Is mentioned.

ここで、(α)成分との相溶性が良くなりやすいという観点から、下記一般式(VI)   Here, from the viewpoint of easy compatibility with the component (α), the following general formula (VI)

Figure 2013079329
Figure 2013079329

(式中、R1は炭素数1〜6の有機基を表し、nは3〜10の数を表す。)で表される、1分子中に少なくとも3個のSiH基を有する環状ポリオルガノシロキサンが好ましい。 (Wherein R 1 represents an organic group having 1 to 6 carbon atoms, and n represents a number of 3 to 10). Cyclic polyorganosiloxane having at least three SiH groups in one molecule. Is preferred.

上記一般式(VI)で表される化合物中の置換基R1は、C、H、Oから構成されるものであることが好ましく、炭化水素基であることがより好ましく、メチル基であることがさらに好ましい。
入手容易性等から、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンであることが好ましい。
The substituent R 1 in the compound represented by the general formula (VI) is preferably composed of C, H, and O, more preferably a hydrocarbon group, and a methyl group. Is more preferable.
In view of availability, 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane is preferable.

(β)成分のその他の例として、ビスジメチルシリルベンゼンなどのSiH基を有する化合物をあげることができる。   Other examples of the (β) component include compounds having a SiH group such as bisdimethylsilylbenzene.

上記したような各種(β)成分は単独もしくは2種以上のものを混合して用いることが可能である。   Various (β) components as described above can be used alone or in admixture of two or more.

((α)成分と(β)成分の反応)
次に、本発明の(B)成分として、(α)成分と(β)成分をヒドロシリル化反応して得ることができる化合物を用いる場合の、(α)成分と(β)成分とのヒドロシリル化反応に関して説明する。
(Reaction of (α) component and (β) component)
Next, hydrosilylation of (α) component and (β) component in the case of using a compound obtained by hydrosilylation reaction of (α) component and (β) component as component (B) of the present invention The reaction will be described.

尚、(α)成分と(β)成分をヒドロシリル化反応すると、本発明の(B)成分を含む複数の化合物の混合物が得られることがあるが、そこから(B)成分を分離することなく混合物のままで用いて本発明の硬化性樹脂組成物を作成することもできる。   In addition, when the (α) component and the (β) component are subjected to a hydrosilylation reaction, a mixture of a plurality of compounds containing the (B) component of the present invention may be obtained, but without separating the (B) component therefrom. The curable resin composition of the present invention can also be prepared using the mixture as it is.

(α)成分と(β)成分をヒドロシリル化反応させる場合の(α)成分と(β)成分の混合比率は、特に限定されないが、得られる(B)成分と(A)成分とのヒドロシリル化による硬化物の強度を考えた場合、(B)成分のSiH基が多い方が好ましいため、一般に混合する(α)成分中のSiH基との反応性を有する炭素−炭素二重結合の総数(X)と、混合する(β)成分中のSiH基の総数(Y)との比が、Y/X≧2であることが好ましく、Y/X≧3であることがより好ましい。また(B)成分の(A)成分との相溶性がよくなりやすいという点からは、10≧Y/Xであることが好ましく、5≧Y/Xであることがより好ましい。   The mixing ratio of the (α) component and the (β) component when the (α) component and the (β) component are subjected to a hydrosilylation reaction is not particularly limited, but the hydrosilylation of the obtained (B) component and (A) component is not limited. In view of the strength of the cured product due to the above, since it is preferable that the component (B) has a larger amount of SiH groups, the total number of carbon-carbon double bonds having reactivity with the SiH groups in the component (α) to be mixed ( The ratio of X) to the total number of SiH groups (Y) in the (β) component to be mixed is preferably Y / X ≧ 2, and more preferably Y / X ≧ 3. Moreover, it is preferable that it is 10> = Y / X from the point that compatibility with the (A) component of (B) component becomes easy, and it is more preferable that it is 5> = Y / X.

(α)成分と(β)成分をヒドロシリル化反応させる場合には適当な触媒を用いてもよい。触媒としては、例えば次のようなものを用いることができる。白金の単体、アルミナ、シリカ、カーボンブラック等の担体に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトン等との錯体、白金−オレフィン錯体(例えば、Pt(CH2=CH22(PPh32、Pt(CH2=CH22Cl2)、白金−ビニルシロキサン錯体(例えば、Pt(ViMe2SiOSiMe2Vi)n、Pt[(MeViSiO)4m)、白金−ホスフィン錯体(例えば、Pt(PPh34、Pt(PBu34)、白金−ホスファイト錯体(例えば、Pt[P(OPh)34、Pt[P(OBu)34)(式中、Meはメチル基、Buはブチル基、Viはビニル基、Phはフェニル基を表し、n、mは、整数を示す。)、ジカルボニルジクロロ白金、カールシュテト(Karstedt)触媒、また、アシュビー(Ashby)の米国特許第3159601号及び3159662号明細書中に記載された白金−炭化水素複合体、ならびにラモロー(Lamoreaux)の米国特許第3220972号明細書中に記載された白金アルコラート触媒が挙げられる。更に、モディック(Modic)の米国特許第3516946号明細書中に記載された塩化白金−オレフィン複合体も本発明において有用である。 When the (α) component and the (β) component are subjected to a hydrosilylation reaction, an appropriate catalyst may be used. As the catalyst, for example, the following can be used. Platinum simple substance, alumina, silica, carbon black or the like supported on solid platinum, chloroplatinic acid, a complex of chloroplatinic acid and alcohol, aldehyde, ketone or the like, platinum-olefin complex (for example, Pt (CH 2 = CH 2 ) 2 (PPh 3 ) 2 , Pt (CH 2 = CH 2 ) 2 Cl 2 ), platinum-vinylsiloxane complex (for example, Pt (ViMe 2 SiOSiMe 2 Vi) n , Pt [(MeViSiO) 4 ]) m ), platinum-phosphine complexes (eg, Pt (PPh 3 ) 4 , Pt (PBu 3 ) 4 ), platinum-phosphite complexes (eg, Pt [P (OPh) 3 ] 4 , Pt [P (OBu) 3 ] 4) (in the formula, Me represents a methyl group, Bu a butyl group, Vi is vinyl group, Ph represents a phenyl group, n, m is an integer.), dicarbonyl dichloroplatinum, Karushuteto Karstedt catalyst, as well as the platinum-hydrocarbon complexes described in Ashby US Pat. Nos. 3,159,601 and 3,159,622, and Lamoreaux US Pat. No. 3,220,972. And platinum alcoholate catalysts. In addition, platinum chloride-olefin complexes described in Modic US Pat. No. 3,516,946 are also useful in the present invention.

また、白金化合物以外の触媒の例としては、RhCl(PPh)3、RhCl3、RhAl23、RuCl3、IrCl3、FeCl3、AlCl3、PdCl2・2H2O、NiCl2、TiCl4、等が挙げられる。 Examples of catalysts other than platinum compounds include RhCl (PPh) 3 , RhCl 3 , RhAl 2 O 3 , RuCl 3 , IrCl 3 , FeCl 3 , AlCl 3 , PdCl 2 .2H 2 O, NiCl 2 , TiCl 4. , Etc.

これらの中では、触媒活性の点から塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体等が好ましい。また、これらの触媒は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。   Of these, chloroplatinic acid, platinum-olefin complexes, platinum-vinylsiloxane complexes and the like are preferable from the viewpoint of catalytic activity. Moreover, these catalysts may be used independently and may be used together 2 or more types.

触媒の添加量は特に限定されないが、十分な硬化性を有し、かつ硬化性樹脂組成物のコストを比較的低く抑えるため好ましい添加量の下限は、(β)成分のSiH基1モルに対して10-8モル、より好ましくは10-6モルであり、好ましい添加量の上限は(β)成分のSiH基1モルに対して10-1モル、より好ましくは10-2モルである。 Although the addition amount of the catalyst is not particularly limited, the lower limit of the preferable addition amount is sufficient with respect to 1 mol of SiH groups of the (β) component in order to have sufficient curability and keep the cost of the curable resin composition relatively low. 10 -8 mol Te, more preferably 10 -6 mole, preferable amount of the upper limit is 10 -1 moles per mole of the SiH group (beta) component, more preferably 10 -2 moles.

また、上記触媒には助触媒を併用することが可能であり、例としてトリフェニルホスフィン等のリン系化合物、ジメチルマレート等の1,2−ジエステル系化合物、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−ブチン等のアセチレンアルコール系化合物、単体の硫黄等の硫黄系化合物、トリエチルアミン等のアミン系化合物等が挙げられる。助触媒の添加量は特に限定されないが、ヒドロシリル化触媒1モルに対しての好ましい添加量の下限は、10-2モル、より好ましくは10-1モルであり、好ましい添加量の上限は102モル、より好ましくは10モルである。 In addition, a cocatalyst can be used in combination with the above catalyst. Examples thereof include phosphorus compounds such as triphenylphosphine, 1,2-diester compounds such as dimethyl malate, 2-hydroxy-2-methyl-1 -Acetylene alcohol compounds such as butyne, sulfur compounds such as simple sulfur, amine compounds such as triethylamine, and the like. The addition amount of the cocatalyst is not particularly limited, but the lower limit of the preferable addition amount with respect to 1 mol of the hydrosilylation catalyst is 10 −2 mol, more preferably 10 −1 mol, and the upper limit of the preferable addition amount is 10 2. Mol, more preferably 10 mol.

反応させる場合の(α)成分、(β)成分、触媒の混合の方法としては、各種方法をとることができるが、(α)成分に触媒を混合したものを、(β)成分に混合する方法が好ましい。(α)成分、(β)成分の混合物に触媒を混合する方法だと反応の制御が困難である。(β)成分と触媒を混合したものに(α)成分を混合する方法をとる場合は、触媒の存在下(β)成分が混入している水分と反応性を有するため、変質することがある。   Various methods can be used for mixing the (α) component, the (β) component, and the catalyst in the reaction, and the (α) component mixed with the catalyst is mixed with the (β) component. The method is preferred. If the catalyst is mixed with the mixture of the (α) component and the (β) component, it is difficult to control the reaction. When the method of mixing the (β) component with the mixture of the (β) component and the catalyst, the (β) component is reactive in the presence of the catalyst and may be altered due to its reactivity with water. .

反応温度としては種々設定できるが、この場合好ましい温度範囲の下限は30℃、より好ましくは50℃であり、好ましい温度範囲の上限は200℃、より好ましくは150℃である。反応温度が低いと十分に反応させるための反応時間が長くなり、反応温度が高いと実用的でない。反応は一定の温度で行ってもよいが、必要に応じて多段階あるいは連続的に温度を変化させてもよい。 反応時間、反応時の圧力も必要に応じ種々設定できる。   The reaction temperature can be variously set. In this case, the lower limit of the preferable temperature range is 30 ° C., more preferably 50 ° C., and the upper limit of the preferable temperature range is 200 ° C., more preferably 150 ° C. If the reaction temperature is low, the reaction time for sufficiently reacting becomes long, and if the reaction temperature is high, it is not practical. The reaction may be carried out at a constant temperature, but the temperature may be changed in multiple steps or continuously as required. Various reaction times and pressures during the reaction can be set as required.

ヒドロシリル化反応の際に溶媒を使用してもよい。使用できる溶剤はヒドロシリル化反応を阻害しない限り特に限定されるものではなく、具体的に例示すれば、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、1, 4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、クロロホルム、塩化メチレン、1, 2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒を好適に用いることができる。溶媒は2種類以上の混合溶媒として用いることもできる。溶媒としては、トルエン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、クロロホルムが好ましい。使用する溶媒量も適宜設定できる。
その他、反応性を制御する目的等のために種々の添加剤を用いてもよい。
A solvent may be used during the hydrosilylation reaction. Solvents that can be used are not particularly limited as long as they do not inhibit the hydrosilylation reaction. Specific examples include hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, hexane, heptane, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1, Ether solvents such as 3-dioxolane and diethyl ether, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, and halogen solvents such as chloroform, methylene chloride and 1,2-dichloroethane can be preferably used. The solvent can also be used as a mixed solvent of two or more types. As the solvent, toluene, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane and chloroform are preferable. The amount of solvent to be used can also be set as appropriate.
In addition, various additives may be used for the purpose of controlling reactivity.

(α)成分と(β)成分を反応させた後に、溶媒あるいは/および未反応の(α)成分あるいは/および(β)成分を除去することもできる。これらの揮発分を除去することにより、得られる(B)成分が揮発分を有さないため(A)成分との硬化の場合に揮発分の揮発によるボイド、クラックの問題が生じにくい。除去する方法としては例えば、減圧脱揮の他、活性炭、ケイ酸アルミニウム、シリカゲル等による処理等が挙げられる。減圧脱揮する場合には低温で処理することが好ましい。この場合の好ましい温度の上限は100℃であり、より好ましくは60℃である。高温で処理すると増粘等の変質を伴いやすい。   After reacting the (α) component and the (β) component, the solvent or / and the unreacted (α) component or / and the (β) component can be removed. By removing these volatile components, the component (B) obtained does not have volatile components, so that the problem of voids and cracks due to volatilization of the volatile components hardly occurs in the case of curing with the component (A). Examples of the removal method include treatment with activated carbon, aluminum silicate, silica gel and the like in addition to vacuum devolatilization. When devolatilizing under reduced pressure, it is preferable to treat at a low temperature. The upper limit of the preferable temperature in this case is 100 ° C, more preferably 60 ° C. When treated at high temperatures, it tends to be accompanied by alterations such as thickening.

以上のような、(α)成分と(β)成分の反応物である(B)成分の例としては、ビスフェノールAジアリルエーテルと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、ビニルシクロヘキセンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、ジビニルベンゼンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、ジシクロペンタジエンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、トリアリルイソシアヌレートと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレートと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、アリルグリシジルエーテルと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、αメチルスチレンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、モノアリルジグリシジルイソシアヌレートと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、ビニルノルボルネンとビスジメチルシリルベンゼンとの反応物等を挙げることができる。   Examples of the component (B) that is a reaction product of the component (α) and the component (β) as described above include a reaction product of bisphenol A diallyl ether and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, Reaction product of vinylcyclohexene and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, reaction product of divinylbenzene and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, dicyclopentadiene and 1,3,5, Reaction product of 7-tetramethylcyclotetrasiloxane, reaction product of triallyl isocyanurate and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, diallyl monoglycidyl isocyanurate and 1,3,5,7-tetramethylcyclo Reactant of tetrasiloxane, allyl glycidyl ether and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasilo A reaction product of xane, a reaction product of α-methylstyrene and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, a reaction product of monoallyldiglycidyl isocyanurate and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, Examples include a reaction product of vinyl norbornene and bisdimethylsilylbenzene.

((A)成分と(B)成分の混合)
(A)成分と(B)成分の組合せについては(A)成分の例として挙げたものおよびそれらの各種混合物/(B)成分の例として挙げたものおよびそれらの各種混合物、の各種組み合わせを挙げることができる。
(Mixing of component (A) and component (B))
Regarding combinations of component (A) and component (B), various combinations of those listed as examples of component (A) and their various mixtures / examples of component (B) and their various mixtures are listed. be able to.

(A)成分と(B)成分の混合比率は、必要な強度を失わない限りは特に限定されないが、(B)成分中のSiH基の数(Y)の(A)成分中の炭素−炭素二重結合の数(X)に対する比において、好ましい範囲の下限はY/X≧0.3、より好ましくはY/X≧0.5、さらに好ましくはY/X≧0.7であり、好ましい範囲の上限は3≧Y/X、より好ましくは2≧Y/X、さらに好ましくは1.5≧Y/Xである。好ましい範囲からはずれた場合には十分な強度が得られなかったり、熱劣化しやすくなる場合がある。   The mixing ratio of the component (A) and the component (B) is not particularly limited as long as the necessary strength is not lost, but the number of SiH groups in the component (B) (Y) is the carbon-carbon in the component (A). In the ratio to the number of double bonds (X), the lower limit of the preferred range is Y / X ≧ 0.3, more preferably Y / X ≧ 0.5, and even more preferably Y / X ≧ 0.7, which is preferable. The upper limit of the range is 3 ≧ Y / X, more preferably 2 ≧ Y / X, and even more preferably 1.5 ≧ Y / X. When it deviates from the preferred range, sufficient strength may not be obtained or thermal deterioration may easily occur.

((C)成分)
(C)成分はヒドロシリル化触媒である。
ヒドロシリル化触媒としては、ヒドロシリル化反応の触媒活性があれば特に限定されないが、例えば、白金の単体、アルミナ、シリカ、カーボンブラック等の担体に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトン等との錯体、白金−オレフィン錯体(例えば、Pt(CH2=CH22(PPh32、Pt(CH2=CH22Cl2)、白金−ビニルシロキサン錯体(例えば、Pt(ViMe2SiOSiMe2Vi)n、Pt[(MeViSiO)4m)、白金−ホスフィン錯体(例えば、Pt(PPh34、Pt(PBu34)、白金−ホスファイト錯体(例えば、Pt[P(OPh)34、Pt[P(OBu)34)(式中、Meはメチル基、Buはブチル基、Viはビニル基、Phはフェニル基を表し、n、mは、整数を示す。)、ジカルボニルジクロロ白金、カールシュテト(Karstedt)触媒、また、アシュビー(Ashby)の米国特許第3159601号および3159662号明細書中に記載された白金−炭化水素複合体、ならびにラモロー(Lamoreaux)の米国特許第3220972号明細書中に記載された白金アルコラート触媒が挙げられる。さらに、モディック(Modic)の米国特許第3516946号明細書中に記載された塩化白金−オレフィン複合体も本発明において有用である。
((C) component)
Component (C) is a hydrosilylation catalyst.
The hydrosilylation catalyst is not particularly limited as long as it has a catalytic activity for the hydrosilylation reaction. For example, a platinum simple substance, a support made of alumina, silica, carbon black or the like on which solid platinum is supported, chloroplatinic acid, platinum chloride Complexes of acids with alcohols, aldehydes, ketones, etc., platinum-olefin complexes (eg Pt (CH 2 ═CH 2 ) 2 (PPh 3 ) 2 , Pt (CH 2 ═CH 2 ) 2 Cl 2 ), platinum-vinyl Siloxane complexes (for example, Pt (ViMe 2 SiOSiMe 2 Vi) n , Pt [(MeViSiO) 4 ] m ), platinum-phosphine complexes (for example, Pt (PPh 3 ) 4 , Pt (PBu 3 ) 4 ), platinum-phos Fight complexes (e.g., Pt [P (OPh) 3 ] 4, Pt [P (OBu) 3] 4) ( in the formula, Me represents a methyl group, Bu a butyl group, Vi represents a vinyl group Ph represents a phenyl group, and n and m represent integers.), Dicarbonyldichloroplatinum, Karstedt catalyst, and also described in Ashby US Pat. Nos. 3,159,601 and 3,159,662. Platinum-hydrocarbon complexes, as well as platinum alcoholate catalysts described in Lamoreaux US Pat. No. 3,220,972. In addition, platinum chloride-olefin complexes described in Modic US Pat. No. 3,516,946 are also useful in the present invention.

また、白金化合物以外の触媒の例としては、RhCl(PPh)3、RhCl3、RhAl23、RuCl3、IrCl3、FeCl3、AlCl3、PdCl2・2H2O、NiCl2、TiCl4、等が挙げられる。 Examples of catalysts other than platinum compounds include RhCl (PPh) 3 , RhCl 3 , RhAl 2 O 3 , RuCl 3 , IrCl 3 , FeCl 3 , AlCl 3 , PdCl 2 .2H 2 O, NiCl 2 , TiCl 4. , Etc.

これらの中では、触媒活性の点から塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体等が好ましい。また、これらの触媒は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。   Of these, chloroplatinic acid, platinum-olefin complexes, platinum-vinylsiloxane complexes and the like are preferable from the viewpoint of catalytic activity. Moreover, these catalysts may be used independently and may be used together 2 or more types.

触媒の添加量は特に限定されないが、十分な硬化性を有し、かつ硬化性樹脂組成物のコストを比較的低く抑えるため好ましい添加量の下限は、(B)成分のSiH基1モルに対して10−8モル、より好ましくは10−6モルであり、好ましい添加量の上限は(β)成分のSiH基1モルに対して10−1モル、より好ましくは10−2モルである。 Although the addition amount of the catalyst is not particularly limited, the lower limit of the preferable addition amount is sufficient with respect to 1 mol of SiH groups of the component (B) in order to have sufficient curability and keep the cost of the curable resin composition relatively low. 10 −8 mol, more preferably 10 −6 mol, and the upper limit of the preferable addition amount is 10 −1 mol, more preferably 10 −2 mol, relative to 1 mol of SiH group of the component (β).

また、上記触媒には助触媒を併用することが可能であり、例としてトリフェニルホスフィン等のリン系化合物、ジメチルマレート等の1,2−ジエステル系化合物、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−ブチン等のアセチレンアルコール系化合物、単体の硫黄等の硫黄系化合物、トリエチルアミン等のアミン系化合物等が挙げられる。助触媒の添加量は特に限定されないが、ヒドロシリル化触媒1モルに対しての好ましい添加量の下限は、10-2モル、より好ましくは10−1モルであり、好ましい添加量の上限は10モル、より好ましくは10モルである。 In addition, a cocatalyst can be used in combination with the above catalyst. Examples thereof include phosphorus compounds such as triphenylphosphine, 1,2-diester compounds such as dimethyl malate, 2-hydroxy-2-methyl-1 -Acetylene alcohol compounds such as butyne, sulfur compounds such as simple sulfur, amine compounds such as triethylamine, and the like. The addition amount of the cocatalyst is not particularly limited, but the lower limit of the preferable addition amount with respect to 1 mol of the hydrosilylation catalyst is 10 −2 mol, more preferably 10 −1 mol, and the upper limit of the preferable addition amount is 10 2. Mol, more preferably 10 mol.

((D)成分)
本発明の(D)成分は、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも1個含有する分子量1000以上の(メタ)アクリル系重合体である。(D)成分を用いることにより(E)成分の無機充填材と混合した場合に、より小さな線膨張係数を有する硬化物を与える硬化性樹脂組成物とすることができる。(D)成分の製造方法は特に限定されないが、制御ラジカル重合を用いることが好ましい。制御ラジカル重合は、限定はされないが、リビングラジカル重合が好ましく、原子移動ラジカル重合がより好ましい。
((D) component)
The component (D) of the present invention is a (meth) acrylic polymer having a molecular weight of 1000 or more and containing at least one carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group in one molecule. By using the component (D), a curable resin composition that gives a cured product having a smaller linear expansion coefficient when mixed with the inorganic filler of the component (E) can be obtained. Although the manufacturing method of (D) component is not specifically limited, It is preferable to use controlled radical polymerization. Controlled radical polymerization is not limited, but living radical polymerization is preferred, and atom transfer radical polymerization is more preferred.

(制御ラジカル重合)
ラジカル重合法は、重合開始剤としてアゾ系化合物、過酸化物などを用いて、特定の官能基を有するモノマーとビニル系モノマーとを単に共重合させる「一般的なラジカル重合法」に対し、「制御ラジカル重合法」は末端などの制御された位置に特定の官能基を導入することが可能である。
(Controlled radical polymerization)
The radical polymerization method uses an azo compound, a peroxide or the like as a polymerization initiator and simply copolymerizes a monomer having a specific functional group and a vinyl monomer, The “controlled radical polymerization method” can introduce a specific functional group at a controlled position such as a terminal.

「制御ラジカル重合法」は、更に、特定の官能基を有する連鎖移動剤を用いて重合を行なうことにより末端に官能基を有するビニル系重合体が得られる「連鎖移動剤法」と、重合生長末端が停止反応などを起こさずに生長することにより、ほぼ設計どおりの分子量の重合体が得られる「リビングラジカル重合法」とに分類することができる。   The “controlled radical polymerization method” further includes a “chain transfer agent method” in which a vinyl polymer having a functional group at a terminal is obtained by performing polymerization using a chain transfer agent having a specific functional group; It can be classified as a “living radical polymerization method” in which a polymer having a molecular weight almost as designed is obtained by growing the terminal without causing a termination reaction or the like.

「リビングラジカル重合法」は、重合速度が高く、ラジカル同士のカップリングなどによる停止反応が起こりやすいため制御が難しいとされるラジカル重合でありながら、停止反応が起こりにくく、分子量分布の狭い(Mw/Mnが1.1〜1.5程度)重合体が得られるとともに、モノマーと開始剤の仕込み比によって分子量は自由にコントロールすることができる。   The “living radical polymerization method” is a radical polymerization that is difficult to control because it has a high polymerization rate and is likely to cause a termination reaction due to coupling between radicals. However, the termination reaction is difficult to occur and the molecular weight distribution is narrow (Mw / Mn is about 1.1 to 1.5), a polymer is obtained, and the molecular weight can be freely controlled by the charging ratio of the monomer and the initiator.

従って「リビングラジカル重合法」は、分子量分布が狭く、粘度が低い重合体を得ることができる上に、特定の官能基を有するモノマーを重合体のほぼ任意の位置に導入することができるため、上記特定の官能基を有するビニル系重合体の製造方法としてはより好ましいものである。   Accordingly, the “living radical polymerization method” can obtain a polymer having a narrow molecular weight distribution and a low viscosity, and a monomer having a specific functional group can be introduced at almost any position of the polymer. The method for producing the vinyl polymer having the specific functional group is more preferable.

なお、リビング重合とは、狭義においては、末端が常に活性を持ち続けて分子鎖が生長していく重合のことをいうが、一般には、末端が不活性化されたものと活性化されたものが平衡状態にありながら生長していく擬リビング重合も含まれる。本発明における定義も後者である。   In the narrow sense, living polymerization refers to polymerization in which the terminal always has activity and the molecular chain grows, but in general, the terminal is inactivated and the terminal is activated. Pseudo-living polymerization in which is grown while in equilibrium. The definition in the present invention is also the latter.

リビングラジカル重合法を実現するために各種の方法が提案されており、いずれも重合体成長末端から可逆的にラジカル活性種が発生する機構が提唱されているが、本発明で用いられる(D)成分の製造方法としては特に限定されず公知の方法を用いることができる。これらリビングラジカル重合法のうち、有機ハロゲン化物を開始剤として用いる方法が、重合体末端が各種官能基に変換しやすい有機ハロゲン化物構造となるために好ましい。また、有機ハロゲン化物を開始剤として用いる方法は、開始剤として入手容易な化合物を用いることができるため、リビングラジカル重合を実現するための特殊な試材を重合体成長末端と等量(等モル)必要とする方法に比べると好ましい。有機ハロゲン化物を開始剤として用いる場合、これと組み合わせて用いる触媒は特に限定されないが、有機ハロゲン化物がラジカル活性種との平衡状態となるためには触媒は可逆的に酸化還元されるものが好ましい。   Various methods have been proposed to realize the living radical polymerization method, and all of them have proposed a mechanism for reversibly generating radically active species from the polymer growth terminal (D). It does not specifically limit as a manufacturing method of a component, A well-known method can be used. Among these living radical polymerization methods, a method using an organic halide as an initiator is preferable because an organic halide structure in which a polymer terminal can be easily converted into various functional groups. In addition, since a method using an organic halide as an initiator can use an easily available compound as an initiator, a special sample for realizing living radical polymerization can be used in an amount equivalent to the polymer growth terminal (equimolar amount). ) Compared to the required method. When an organic halide is used as an initiator, the catalyst used in combination with this is not particularly limited. However, in order for the organic halide to be in an equilibrium state with a radical active species, it is preferable that the catalyst be reversibly redox. .

すなわち本発明で用いられる(D)成分の製造方法としては、特に限定されないが、触媒の可逆的酸化還元を伴いながら有機ハロゲン化物がラジカル活性種との平衡状態になって重合が進行していくものが好ましく、この中でも原子移動ラジカル重合法が特に好ましい。   That is, the method for producing the component (D) used in the present invention is not particularly limited, but the polymerization proceeds with the organic halide in an equilibrium state with the radical active species with the reversible oxidation-reduction of the catalyst. Among them, the atom transfer radical polymerization method is particularly preferable.

(D)成分の(メタ)アクリル系重合体に用いることのできるモノマー成分としては、特に制限なくはなく、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸4−ヒドロキシブチル、アクリル酸t−ブチル、アクリル酸セチル、アクリル酸2−メトキシエチル、アクリル酸3−メトキシブチル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸ステアリル、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、目メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸2−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸トリデシル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸ジグリシジル、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、ジメタクリル酸エチレングリコール、ジメタクリル酸トリエチレングリコール、ジメタクリル酸テトラエチレングリコール、ジメタクリル酸1,3−ブチレングリコール、トリメタクリル酸トリメチロールプロパンなどをあげることができる。 これらの内、本発明の効果がより得られやすいという点においては、(D)成分の構造としては、ビニル基を末端に有する直鎖状骨格であって、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸セチルからなる群より選ばれる少なくとも1種のモノマーから構成される骨格のものが好ましい。そのうちアクリル酸ブチルが平均して50mol%以上導入された骨格を持つものがより好ましく、70mol%以上がさらに好ましく、80mol%以上が特に好ましい。さらにビニル基を両末端に有する直鎖状骨格がより好ましい。両末端にビニル基が存在することにより架橋点間分子量が大きく取れるため硬化物の靭性が向上することが期待される。同様に(D)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合のうち少なくとも1個は分子鎖の末端にあることが好ましく、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合の全てが分子鎖末端にあることがより好ましい。   The monomer component that can be used in the (D) component (meth) acrylic polymer is not particularly limited, and includes methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, isobutyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, t-butyl acrylate, cetyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, tetraethylene glycol diacrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, Tripropylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, 2-hydroxy Tyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, methacryl Isobutyl acid, t-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, octyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, tridecyl methacrylate, stearyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, methacryl Diglycidyl acid, tetrahydrofurfuryl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, dimeta Acrylic acid tetraethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butylene glycol, etc. trimethylolpropane trimethacrylate and the like. Among these, in the point that the effect of the present invention is more easily obtained, the structure of the component (D) is a linear skeleton having a vinyl group at the end, and includes methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic A skeleton composed of at least one monomer selected from the group consisting of butyl acrylate, isobutyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, and cetyl acrylate is preferred. Among them, those having a skeleton in which 50 mol% or more of butyl acrylate is introduced on average are more preferable, 70 mol% or more are more preferable, and 80 mol% or more are particularly preferable. Further, a linear skeleton having vinyl groups at both ends is more preferable. It is expected that the toughness of the cured product will be improved since the molecular weight between the crosslinking points can be increased due to the presence of vinyl groups at both ends. Similarly, at least one of the carbon-carbon double bonds having reactivity with the SiH group of component (D) is preferably at the end of the molecular chain, and the carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group is preferably present. More preferably, all are at the molecular chain ends.

(D)成分の分子量としては、重量平均分子量(Mw)が2,000以上であることが好ましく、5,000以上であることがより好ましく、10,000以上であることがさらに好ましい。分子量が高い場合にはさらに得られる硬化物が低応力となりやすい。また、(D)成分の分子量としては1,000,000以下であることが好ましく、100,000以下であることがより好ましく、50,000以下であることが特に好ましい。分子量が大きい場合には(A)成分との相溶性が得られにくくなる。   As the molecular weight of component (D), the weight average molecular weight (Mw) is preferably 2,000 or more, more preferably 5,000 or more, and even more preferably 10,000 or more. When the molecular weight is high, the obtained cured product tends to have low stress. The molecular weight of component (D) is preferably 1,000,000 or less, more preferably 100,000 or less, and particularly preferably 50,000 or less. When the molecular weight is large, it becomes difficult to obtain compatibility with the component (A).

分子量分布(Mw/Mn)は1.8未満が好ましく、1.5未満がさらに好ましい。Mw/Mnは小さい(1に近い)ほど分子量がそろっていることを意味し、耐熱性を悪くする原因となる揮発しやすい低分子量成分が少なく、樹脂成分の粘度がMw/Mnが大きい場合に比較して低く抑えられるためフィラー含量を広範囲に変更できるので好ましい。
(D)成分の(メタ)アクリル系重合体は、直鎖状、環状、分枝状、部分ネットワークを有するもの等種々のものが用いられるが、直鎖状のものが好ましい。
The molecular weight distribution (Mw / Mn) is preferably less than 1.8, more preferably less than 1.5. Mw / Mn is smaller (closer to 1) means that the molecular weight is equal, and there are few low molecular weight components that are likely to volatilize causing poor heat resistance, and the viscosity of the resin component is large when Mw / Mn is large. This is preferable because the filler content can be changed over a wide range because it can be kept low.
As the (D) component (meth) acrylic polymer, various types such as linear, cyclic, branched, and partial networks are used, and linear ones are preferred.

(D)成分の量としては、(A)成分および(B)成分の合計の重量に対する(D)成分の重量が30重量%以上であることが好ましく、50重量%以上であることがより好ましく、80重量%以上であることがさらに好ましい。   The amount of the component (D) is preferably 30% by weight or more, more preferably 50% by weight or more based on the total weight of the component (A) and the component (B). 80% by weight or more is more preferable.

(A)成分、(B)成分、(D)成分の混合比率は、必要な強度を失わない限りは特に限定されないが、(B)成分中のSiH基の数(Y)の(A)成分および(D)成分中のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合の数(X)に対する比において、好ましい範囲の下限はY/X≧0.3、より好ましくはY/X≧0.5、さらに好ましくはY/X≧0.7であり、好ましい範囲の上限は3≧Y/X、より好ましくは2≧Y/X、さらに好ましくは1.5≧Y/Xである。好ましい範囲からはずれた場合には十分な強度が得られなかったり、熱劣化しやすくなる場合がある。   The mixing ratio of the component (A), the component (B), and the component (D) is not particularly limited as long as the required strength is not lost, but the component (A) having the number of SiH groups (Y) in the component (B). And the ratio of the number of carbon-carbon double bonds (X) having reactivity with SiH groups in component (D) is preferably Y / X ≧ 0.3, more preferably Y / X ≧ 0. 0.5, more preferably Y / X ≧ 0.7, and the upper limit of the preferred range is 3 ≧ Y / X, more preferably 2 ≧ Y / X, and even more preferably 1.5 ≧ Y / X. When it deviates from the preferred range, sufficient strength may not be obtained or thermal deterioration may easily occur.

(E)成分は無機充填材である。
(E)成分は、得られる硬化物の強度や硬度を高くしたり、線膨張率を低減化したりする効果を有する。
The component (E) is an inorganic filler.
The component (E) has an effect of increasing the strength and hardness of the obtained cured product and reducing the linear expansion coefficient.

(E)成分の無機充填材としては各種のものが用いられるが、例えば、石英、ヒュームドシリカ、沈降性シリカ、無水ケイ酸、溶融シリカ、結晶性シリカ、超微粉無定型シリカ等のシリカ系無機充填材、アルミナ、ジルコン、酸化チタン、酸化亜鉛、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化アルミ、炭化ケイ素、ガラス繊維、アルミナ繊維、炭素繊維、マイカ、黒鉛、カーボンブラック、グラファイト、ケイソウ土、白土、クレー、タルク、水酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、チタン酸カリウム、ケイ酸カルシウム、無機バルーン、銀粉等の無機充填材をはじめとして、エポキシ系等の従来の封止材の充填材として一般に使用あるいは/および提案されている無機充填材等を挙げることができる。無機充填材としては、半導体素子へダメージを与え難いという観点からは、低放射線性であることが好ましい。   As the inorganic filler of the component (E), various types are used. For example, silica-based materials such as quartz, fumed silica, precipitated silica, silicic anhydride, fused silica, crystalline silica, and ultrafine powder amorphous silica. Inorganic filler, alumina, zircon, titanium oxide, zinc oxide, silicon nitride, boron nitride, aluminum nitride, silicon carbide, glass fiber, alumina fiber, carbon fiber, mica, graphite, carbon black, graphite, diatomaceous earth, white clay, clay , Talc, aluminum hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium sulfate, barium titanate, potassium titanate, calcium silicate, inorganic balloons, conventional fillers such as epoxy, as well as silver powder Inorganic fillers that are generally used and / or proposed as fillers for That. The inorganic filler is preferably low radiation from the viewpoint of hardly damaging the semiconductor element.

無機充填材は適宜表面処理してもよい。表面処理としては、アルキル化処理、トリメチルシリル化処理、シリコーン処理、カップリング剤による処理等が挙げられる。   The inorganic filler may be appropriately surface treated. Examples of the surface treatment include alkylation treatment, trimethylsilylation treatment, silicone treatment, treatment with a coupling agent, and the like.

この場合のカップリング剤の例としては、シランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、分子中に有機基と反応性のある官能基と加水分解性のケイ素基を各々少なくとも1個有する化合物であれば特に限定されない。有機基と反応性のある基としては、取扱い性の点からエポキシ基、メタクリル基、アクリル基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、ビニル基、カルバメート基から選ばれる少なくとも1個の官能基が好ましく、硬化性及び接着性の点から、エポキシ基、メタクリル基、アクリル基が特に好ましい。加水分解性のケイ素基としては取扱い性の点からアルコキシシリル基が好ましく、反応性の点からメトキシシリル基、エトキシシリル基が特に好ましい。   Examples of the coupling agent in this case include a silane coupling agent. The silane coupling agent is not particularly limited as long as it is a compound having at least one functional group reactive with an organic group and one hydrolyzable silicon group in the molecule. The group reactive with the organic group is preferably at least one functional group selected from an epoxy group, a methacryl group, an acrylic group, an isocyanate group, an isocyanurate group, a vinyl group, and a carbamate group from the viewpoint of handling. From the viewpoints of adhesion and adhesiveness, an epoxy group, a methacryl group, and an acrylic group are particularly preferable. As the hydrolyzable silicon group, an alkoxysilyl group is preferable from the viewpoint of handleability, and a methoxysilyl group and an ethoxysilyl group are particularly preferable from the viewpoint of reactivity.

好ましいシランカップリング剤としては、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、2−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等のエポキシ官能基を有するアルコキシシラン類:3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、アクリロキシメチルトリメトキシシラン、アクリロキシメチルトリエトキシシラン等のメタクリル基あるいはアクリル基を有するアルコキシシラン類が例示できる。   Preferred silane coupling agents include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4- Epoxycyclohexyl) alkoxysilanes having an epoxy functional group such as ethyltriethoxysilane: 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyl Methacrylic or acrylic groups such as triethoxysilane, methacryloxymethyltrimethoxysilane, methacryloxymethyltriethoxysilane, acryloxymethyltrimethoxysilane, acryloxymethyltriethoxysilane Alkoxysilanes which can be exemplified.

その他にも無機充填材を添加する方法が挙げられる。例えばアルコキシシラン、アシロキシシラン、ハロゲン化シラン等の加水分解性シランモノマーあるいはオリゴマーや、チタン、アルミニウム等の金属のアルコキシド、アシロキシド、ハロゲン化物等を、本発明の硬化性樹脂組成物に添加して、硬化性樹脂組成物中あるいは硬化性樹脂組成物の部分反応物中で反応させ、硬化性樹脂組成物中で無機充填材を生成させる方法も挙げることができる。   In addition, the method of adding an inorganic filler is mentioned. For example, a hydrolyzable silane monomer or oligomer such as alkoxysilane, acyloxysilane or halogenated silane, or an alkoxide, acyloxide or halide of a metal such as titanium or aluminum is added to the curable resin composition of the present invention. A method of reacting in a curable resin composition or a partial reaction product of the curable resin composition to produce an inorganic filler in the curable resin composition can also be mentioned.

以上のような無機充填材のうち硬化反応を阻害し難く、線膨張係数の低減化効果が大きく、リードフレームとの接着性が高くなりやすいという観点からは、シリカ系無機充填材が好ましい。さらに、成形性、電気特性等の物性バランスがよいという点において溶融シリカが好ましく、パッケージの熱伝導性が高くなり易く放熱性の高いパッケージ設計が可能になるという点においては結晶性シリカが好ましい。より放熱性が高くなり易いという点ではアルミナが好ましい。また、パッケージ樹脂の光の反射率が高く、得られる発光ダイオードの光取りだし効率が高くなりやすいという点においては、酸化チタンが好ましい。その他、補強効果が高くパッケージの強度が高くなり易いという点においてはガラス繊維、チタン酸カリウム、ケイ酸カルシウムが好ましい。   Of the inorganic fillers as described above, a silica-based inorganic filler is preferable from the viewpoint that it is difficult to inhibit the curing reaction, has a large effect of reducing the linear expansion coefficient, and tends to have high adhesion to the lead frame. Furthermore, fused silica is preferable in terms of a good balance of physical properties such as moldability and electrical characteristics, and crystalline silica is preferable in terms of easy package thermal conductivity and high heat dissipation. Alumina is preferable in that heat dissipation tends to be higher. Titanium oxide is preferred in that the light reflectance of the package resin is high and the light extraction efficiency of the resulting light emitting diode tends to be high. In addition, glass fiber, potassium titanate, and calcium silicate are preferable in that the reinforcing effect is high and the strength of the package tends to be high.

無機充填材の平均粒径や粒径分布としては、エポキシ系等の従来の封止材の充填材として使用あるいは/および提案されているものをはじめ、特に限定なく各種のものが用いられるが、通常用いられる平均粒径の下限は0.1μm、流動性が良好になりやすいという点から好ましくは0.5μmであり、通常用いられる平均粒径の上限は120μm、流動性が良好になりやすいという点から好ましくは60μm、より好ましくは15μmである。   As the average particle size and particle size distribution of the inorganic filler, various types are used without particular limitation, including those used or / and proposed as fillers for conventional sealing materials such as epoxy type, The lower limit of the average particle size usually used is 0.1 μm, preferably 0.5 μm from the viewpoint that the fluidity tends to be good, and the upper limit of the average particle size usually used is 120 μm, the fluidity tends to be good. From the viewpoint, it is preferably 60 μm, more preferably 15 μm.

無機充填材の比表面積についても、エポキシ系等の従来の封止材の充填材として使用あるいは/および提案されているものをはじめ、各種設定できる。   The specific surface area of the inorganic filler can also be set in various ways including those used and / or proposed as fillers for conventional sealing materials such as epoxy.

無機充填材の形状としては、破砕状、片状、球状、棒状等、各種のものが用いられる。アスペクト比も種々のものが用いられる。得られる硬化物の強度が高くなりやすいという点においてはアスペクト比が10以上のものが好ましい。また、樹脂の等方性収縮の点からは繊維状よりは粉末状が好ましい。あるいは、高充填時にも成形時の流れ性がよくなり易いという点においては球状のものが好ましい。これら無機充填材は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。   As the shape of the inorganic filler, various types such as a crushed shape, a piece shape, a spherical shape, and a rod shape are used. Various aspect ratios are used. The aspect ratio of 10 or more is preferable in that the strength of the obtained cured product tends to increase. From the viewpoint of isotropic shrinkage of the resin, a powder form is preferable to a fiber form. Or the spherical thing is preferable at the point that the fluidity | liquidity at the time of shaping | molding becomes easy also at the time of high filling. These inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more.

(E)成分の量は特に限定されないが、硬化性樹脂組成物全体に占める(E)成分の合計の量が70重量%以上であることが好ましく、80重量%以上であることがより好ましく、90重量%以上であることがさらに好ましい。(E)成分の量が少ないと、強度や硬度を高くしたり、線膨張率を低減化するという効果が得られにくくなる。   The amount of the component (E) is not particularly limited, but the total amount of the component (E) in the entire curable resin composition is preferably 70% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, More preferably, it is 90% by weight or more. When the amount of the component (E) is small, it is difficult to obtain the effects of increasing the strength and hardness and reducing the linear expansion coefficient.

(E)成分の無機充填材の混合の順序としては、各種方法をとることができるが、硬化性樹脂組成物の中間原料の貯蔵安定性が良好になりやすいという点においては、(A)成分に(C)成分および無機充填材を混合したものと、(B)成分を混合する方法が好ましい。(B)成分に(C)成分および/または無機充填材を混合したものに(A)成分を混合する方法をとる場合は、(C)成分存在下および/または非存在下において(B)成分が環境中の水分および/または無機充填材との反応性を有するため、貯蔵中等に変質することもある。また、反応成分である(A)成分、(B)成分、(C)成分がよく混合され安定した成形物が得られやすいという点においては、(A)成分、(B)成分、(C)成分を混合したものと無機充填材とを混合することが好ましい。   As the order of mixing the inorganic filler of the component (E), various methods can be used, but in the point that the storage stability of the intermediate raw material of the curable resin composition tends to be good, the component (A) A method of mixing the component (C) and the inorganic filler with the component (B) is preferable. When the method of mixing the component (A) with the component (B) mixed with the component (C) and / or the inorganic filler, the component (B) is present in the presence and / or absence of the component (C). Has a reactivity with moisture and / or inorganic fillers in the environment, and may be altered during storage. In addition, (A) component, (B) component, (C) in that (A) component, (B) component, and (C) component which are reaction components are well mixed and a stable molded product is easily obtained. It is preferable to mix a mixture of components and an inorganic filler.

(E)成分の無機充填材を混合する手段としては、従来エポキシ樹脂等に用いられおよび/または提案されている種々の手段を用いることができる。例えば、2本ロールまたは3本ロール、遊星式撹拌脱泡装置、ホモジナイザー、ディゾルバー、プラネタリーミキサー等の撹拌機、プラストミル等の溶融混練機等が挙げられる。これらのうち、高充填であっても無機充填材の十分な分散性が得られやすいという点においては、3本ロール、溶融混練機が好ましい。無機充填材の混合は、常温で行ってもよいし加熱して行ってもよい。また、常圧下に行ってもよいし減圧状態で行ってもよい。高充填であっても無機充填材の十分な分散性が得られやすいという点においては、加熱状態で混合することが好ましく、無機充填材表面の塗れ性を向上し十分な分散性が得られやすいという点においては減圧状態で混合することが好ましい。   As means for mixing the inorganic filler of component (E), various means conventionally used and / or proposed for epoxy resins and the like can be used. For example, a two-roll or three-roll, a planetary stirring and defoaming device, a stirrer such as a homogenizer, a dissolver and a planetary mixer, a melt kneader such as a plast mill, and the like can be mentioned. Of these, a triple roll and a melt kneader are preferred in that sufficient dispersibility of the inorganic filler is easily obtained even with high filling. The mixing of the inorganic filler may be performed at normal temperature or may be performed by heating. Moreover, you may carry out under a normal pressure and may carry out in a pressure-reduced state. In view of the fact that sufficient dispersibility of the inorganic filler can be easily obtained even at high filling, it is preferable to mix in a heated state, and it is easy to obtain sufficient dispersibility by improving the wettability of the inorganic filler surface. Therefore, it is preferable to mix in a reduced pressure state.

((F)成分)
本発明の硬化性樹脂組成物は、白色顔料((F)成分)を含有することが望ましい。
(F)成分は白色顔料であり、得られる硬化物の光線反射率を高める効果を有する。
(F)成分としては種々のものを用いることができ、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニア、酸化ストロンチウム、酸化ニオブ、窒化ホウ素、チタン酸バリウム、硫化亜鉛、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、中空ガラス粒子、などが挙げられる。中でも、取り扱いの容易性や入手性、コストの観点から酸化チタンまたは酸化亜鉛が好ましい。
((F) component)
The curable resin composition of the present invention preferably contains a white pigment (component (F)).
The component (F) is a white pigment and has an effect of increasing the light reflectance of the obtained cured product.
Various components can be used as the component (F), for example, titanium oxide, zinc oxide, magnesium oxide, antimony oxide, zirconia oxide, strontium oxide, niobium oxide, boron nitride, barium titanate, zinc sulfide, barium sulfate. , Magnesium carbonate, hollow glass particles, and the like. Among these, titanium oxide or zinc oxide is preferable from the viewpoint of ease of handling, availability, and cost.

(F)成分の酸化チタンとしては種々のものを用いることができ、アナターゼ型であってもルチル型であってもよいが、光触媒作用がなく硬化性樹脂組成物が安定になりやすいという点ではルチル型であることが好ましい。   Various components can be used as the component (F) titanium oxide, which may be anatase type or rutile type, but it is not photocatalytic and the curable resin composition is likely to be stable. A rutile type is preferred.

(F)成分の平均粒径としても種々のものが用いられるが、得られる硬化物の光線反射率が高くなりやすく、また硬化性樹脂組成物タブレットがより硬くなるという観点から、1.0μm以下のものが好ましく、0.30μm以下のものがより好ましく、0.25μm以下のものが最も好ましい。一方、硬化性樹脂組成物の流動性が高いという点では、0.05μm以上であることが好ましく、0.1μm以上であることがより好ましい。平均粒径は、レーザー回折散乱式粒度分布計を用いて測定することができる。   (F) Although various things are used also as an average particle diameter of a component, 1.0 micrometer or less from a viewpoint that the light reflectivity of the hardened | cured material obtained becomes high easily and a curable resin composition tablet becomes harder. Are preferred, those with 0.30 μm or less are more preferred, and those with 0.25 μm or less are most preferred. On the other hand, in terms of high fluidity of the curable resin composition, it is preferably 0.05 μm or more, and more preferably 0.1 μm or more. The average particle diameter can be measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer.

(F)成分の酸化チタンの製造方法としても硫酸法、塩素法などいずれの方法により製造されたものも使用できる。   As the method for producing the component (F) titanium oxide, those produced by any method such as sulfuric acid method and chlorine method can be used.

(F)成分は表面処理が施されていても良い。(F)成分の表面処理では、(F)成分の表面に無機化合物、有機化合物から選ばれる少なくとも1種を被覆する。無機化合物としては、例えば、アルミニウム化合物、ケイ素化合物、ジルコニウム化合物、スズ化合物、チタニウム化合物、アンチモン化合物等が挙げられ、また、有機化合物としては、多価アルコール、アルカノールアミン又はその誘導体、有機シロキサン等の有機ケイ素化合物、高級脂肪酸又はその金属塩、有機金属化合物等が挙げられる。(F)成分の表面に無機化合物や有機化合物を被覆する場合は、湿式法や乾式法の公知の方法を用いて、例えば酸化チタンの乾式粉砕の際、スラリー化した際あるいは湿式粉砕した際に行うことができる。他にも、液相法、気相法等、種々の方法が挙げられる。
これらのなかでは、得られる硬化物の光線反射率が高く、耐熱耐光性が良好になることから有機シロキサン処理で処理されていることが好ましい。また、有機シロキサン処理された酸化チタンを含有させることは、光取り出し効率が高く、長期間使用しても光取り出し効率が低下しない優良な発光ダイオードを作製するうえでも好適である。
その場合の有機シロキサン処理剤としては種々のものが適用される。例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリメチルハイドロジェンシロキサン、あるいはそれらの共重合体などのポリシロキサン類、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ヘプタメチルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、などのシクロシロキサン類、トリメチルクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、メチルトリクロロシランなどのクロロシラン類、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、2−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等のエポキシ官能基を有するシラン類、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、アクリロキシメチルトリメトキシシラン、アクリロキシメチルトリエトキシシラン等のメタクリル基あるいはアクリル基を有するシラン類、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリアセトキシシラン等のビニル基を有するシラン類、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等のメルカプトシラン類、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−[ビス(β−ヒドロキシエチル)]アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(β−アミノエチル)アミノプロピルジメトキシメチルシラン、N−(トリメトキシシリルプロピル)エチレンジアミン、N−(ジメトキシメチルシリルイソプロピル)エチレンジアミン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ基を有するシラン類、イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネート基を有するシラン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン等のアルキル基を有するシラン類、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン等のその他のシラン類等の各種シラン類で例示されるシランカップリング剤や、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシラザンなどを挙げることができる。これらの表面処理剤としては炭素−炭素二重結合を含まないものであることが好ましく、炭素−炭素二重結合を含むと耐熱性が低下しやすくなる。また、有機シロキサン以外の表面処理を併用することも可能であり、Al、Zr、Zn等で処理することもできる。
The component (F) may be subjected to surface treatment. In the surface treatment of the component (F), the surface of the component (F) is coated with at least one selected from an inorganic compound and an organic compound. Examples of inorganic compounds include aluminum compounds, silicon compounds, zirconium compounds, tin compounds, titanium compounds, antimony compounds, and the like, and examples of organic compounds include polyhydric alcohols, alkanolamines or derivatives thereof, and organic siloxanes. Examples thereof include organosilicon compounds, higher fatty acids or metal salts thereof, and organometallic compounds. When the surface of the component (F) is coated with an inorganic compound or an organic compound, a known method such as a wet method or a dry method is used, for example, when dry pulverizing titanium oxide, when slurrying, or when wet pulverizing. It can be carried out. In addition, there are various methods such as a liquid phase method and a gas phase method.
Among these, the cured product obtained is preferably treated with an organic siloxane treatment because the light reflectance is high and the heat and light resistance is improved. In addition, the inclusion of an organosiloxane-treated titanium oxide is suitable for producing an excellent light-emitting diode that has high light extraction efficiency and does not decrease light extraction efficiency even when used for a long period of time.
In this case, various organic siloxane treating agents are used. For example, polysiloxanes such as polydimethylsiloxane, polymethylphenylsiloxane, polymethylhydrogensiloxane, or copolymers thereof, hexamethylcyclotrisiloxane, heptamethylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7-tetra Cyclosiloxanes such as methylcyclotetrasiloxane, chlorosilanes such as trimethylchlorosilane, dimethyldichlorosilane, methyltrichlorosilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 2- (3 , 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane and other silanes having an epoxy functional group, 3-methacryloxypropyltrimethyl Xysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, methacryloxymethyltrimethoxysilane, methacryloxymethyltriethoxysilane, acryloxymethyltrimethoxysilane, Silanes having a methacrylic group or an acrylic group such as acryloxymethyltriethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, vinyltriacetoxysilane, etc. Silanes, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane and other mercaptosilanes, γ-aminopropyltriethoxy Γ- [bis (β-hydroxyethyl)] aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ- (β-aminoethyl) aminopropyldimethoxymethylsilane, Silanes having amino groups, such as N- (trimethoxysilylpropyl) ethylenediamine, N- (dimethoxymethylsilylisopropyl) ethylenediamine, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, isocyanate Silanes having an isocyanate group such as propyltrimethoxysilane and isocyanatepropyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltrimethoxy Silane coupling agents exemplified by various silanes such as silanes having alkyl groups such as silane and octyltriethoxysilane, and other silanes such as γ-chloropropyltrimethoxysilane and γ-anilinopropyltrimethoxysilane And hexamethyldisiloxane and hexamethyldisilazane. These surface treatment agents preferably contain no carbon-carbon double bonds, and if they contain carbon-carbon double bonds, the heat resistance tends to decrease. Further, a surface treatment other than the organic siloxane can be used in combination, and treatment with Al, Zr, Zn, or the like can also be performed.

また、無機化合物により表面処理されていてもよい。無機化合物による表面処理について特に限定されず、アルミニウム化合物、ケイ素化合物、ジルコニウム化合物、等種々の表面処理が用いられる。酸化チタンは、耐久性向上、媒体との親和性向上のため、あるいは、粒子形状の崩れを防止するなどの目的で無機化合物、有機化合物で表面処理する場合があるが、(F)成分を無機化合物で表面処理することで、硬化性樹脂組成物に含まれる成分との親和性が向上し、(F)成分の硬化性樹脂組成物に対する分散性が良くなり硬化物の強度が向上すると考えられる。   Moreover, it may be surface-treated with an inorganic compound. The surface treatment with an inorganic compound is not particularly limited, and various surface treatments such as an aluminum compound, a silicon compound, and a zirconium compound are used. Titanium oxide may be surface-treated with an inorganic compound or an organic compound for the purpose of improving durability, improving affinity with the medium, or preventing the collapse of the particle shape, but the component (F) is inorganic. It is considered that the surface treatment with the compound improves the affinity with the component contained in the curable resin composition, improves the dispersibility of the component (F) in the curable resin composition, and improves the strength of the cured product. .

表面処理の方法としても各種方法を適用することができ、湿式法、乾式法、液相法、気相法等、種々の方法が例示できる。   Various methods can be applied as the surface treatment method, and various methods such as a wet method, a dry method, a liquid phase method, and a gas phase method can be exemplified.

(F)成分の量としては、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物全体に占める(F)成分の量が10重量%以上であることが好ましく、15重量%以上であることがより好ましく、20重量%以上であることがさらに好ましい。10重量%未満であると、得られる硬化物の光線反射率が低下することがある。
(F)成分を使用するのは白色の硬化性樹脂組成物を作製する場合であるが、表示デバイスのブラックマトリックスなどに適用する場合には、黒色の硬化性樹脂組成物を使用することができる。
この場合に用いることのできる、黒色顔料しては、無機顔料及び有機顔料のいずれでもよく、1種を単独で又は2種以上の顔料を混合したものを用いてもよい。無機顔料としては、例えば、カーボンブラック、黒鉛、鉄黒、チタンカーボン、チタンブラック、二酸価マンガン、銅クロムマンガン酸化物を挙げることができる。着色力を向上する観点から、カーボンブラック又はチタンブラックが好ましい。さらに、光学濃度及び電気抵抗値を大きくできる観点から、チタンブラックがより好ましい。また、表面を樹脂等で被覆したカーボンブラック又はチタンブラックを使用することもできる。アニリンブラック、アントラキノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料などを用いることもできる。
また金属複合酸化物系の黒色顔料としては、銅−クロム−マンガン系複合酸化物黒色顔料、銅の酸化物、マンガンの酸化物、コバルトの酸化物およびアルミニウムの酸化物を含有することを特徴とする複合酸化物黒色顔料であり、顔料を構成する銅、マンガン、コバルトおよびアルミニウムの割合が、これらの金属の合計を100モル%とした場合、銅が5〜30モル%、マンガンが5〜30モル%、コバルトが15〜40モル%、そしてアルミニウムが25〜50モル%である複合酸化物黒色顔料も使用することができる。
The amount of the component (F) is not particularly limited, but the amount of the component (F) in the entire curable resin composition is preferably 10% by weight or more, more preferably 15% by weight or more, More preferably, it is 20% by weight or more. If it is less than 10% by weight, the light reflectance of the resulting cured product may be lowered.
The component (F) is used when a white curable resin composition is prepared, but when applied to a black matrix of a display device, the black curable resin composition can be used. .
As the black pigment that can be used in this case, either an inorganic pigment or an organic pigment may be used, or a single pigment or a mixture of two or more pigments may be used. Examples of the inorganic pigment include carbon black, graphite, iron black, titanium carbon, titanium black, manganese diacid value, and copper chromium manganese oxide. From the viewpoint of improving coloring power, carbon black or titanium black is preferable. Furthermore, titanium black is more preferable from the viewpoint of increasing the optical density and the electrical resistance value. Carbon black or titanium black whose surface is coated with a resin or the like can also be used. Aniline black, anthraquinone black pigment, perylene black pigment and the like can also be used.
The metal composite oxide black pigment contains a copper-chromium-manganese composite oxide black pigment, copper oxide, manganese oxide, cobalt oxide and aluminum oxide. When the ratio of copper, manganese, cobalt and aluminum constituting the pigment is 100 mol%, the copper is 5 to 30 mol% and the manganese is 5 to 30 Complex oxide black pigments with mol%, cobalt 15-40 mol% and aluminum 25-50 mol% can also be used.

((E)成分および(F)成分)
(E)成分および(F)成分の合計量は特に限定されないが、硬化性樹脂組成物全体に占める(E)成分および(F)成分の合計の量が85重量%以上であることが好ましく、90重量%以上であることがより好ましい。
((E) component and (F) component)
The total amount of the component (E) and the component (F) is not particularly limited, but the total amount of the component (E) and the component (F) in the entire curable resin composition is preferably 85% by weight or more. More preferably, it is 90% by weight or more.

(E)成分および(F)成分の合計量が少ないと、強度や硬度を高くしたり、線膨張率を低減化するという効果が得られにくくなる。   When the total amount of the component (E) and the component (F) is small, it is difficult to obtain the effects of increasing the strength and hardness and reducing the linear expansion coefficient.

(F)成分の混合の順序としては、各種方法をとることができるが、好ましい態様は、既に説明した(E)と同様である。また、(F)成分と(E)成分とは同時に添加してもよい。   As the mixing order of the component (F), various methods can be used, but the preferred embodiment is the same as (E) described above. Moreover, you may add (F) component and (E) component simultaneously.

(F)成分を混合する手段としては、(E)成分を混合する手段と同様の手段を用いることかできる。   As means for mixing the component (F), the same means as the means for mixing the component (E) can be used.

((G)成分)
本発明の硬化性樹脂組成物は、金属石鹸((G)成分)を含有することが望ましい。
(G)成分は、硬化性樹脂組成物の離型性をはじめとする成型性を改良するために添加される。
((G) component)
The curable resin composition of the present invention desirably contains a metal soap (component (G)).
(G) A component is added in order to improve the moldability including the mold release property of a curable resin composition.

(G)成分としては、従来使用されている各種金属石鹸があげられる。ここでいう金属石鹸とは、一般に長鎖脂肪酸と金属イオンが結合したものであり、脂肪酸に基づく無極性あるいは低極性の部分と、金属との結合部分に基づく極性の部分を一分子中に併せて持っていれば使用できる。長鎖脂肪酸としては、例えば炭素数1〜18の飽和脂肪酸、炭素数3〜18の不飽和脂肪酸、脂肪族ジカルボン酸などが挙げられる。これらの中では、入手性が容易であり工業的実現性が高いという点からは炭素数1〜18の飽和脂肪酸が好ましく、さらに、離型性の効果が高いという点からは炭素数6〜18の飽和脂肪酸がより好ましい。金属イオンとしては、アルカリ金属、アルカリ土類金属の他に亜鉛、コバルト、アルミニウム、ストロンチウム等が挙げられる。金属石鹸をより具体的に例示すれば、ステアリン酸リチウム、12−ヒドロキシステアリン酸リチウム、ラウリン酸リチウム、オレイン酸リチウム、2−エチルヘキサン酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、12−ヒドロキシステアリン酸ナトリウム、ラウリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム、2−エチルヘキサン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、12−ヒドロキシステアリン酸カリウム、ラウリン酸カリウム、オレイン酸カリウム、2−エチルヘキサン酸カリウム、ステアリン酸マグネシウム、12−ヒドロキシステアリン酸マグネシウム、ラウリン酸マグネシウム、オレイン酸マグネシウム、2−エチルヘキサン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、12−ヒドロキシステアリン酸カルシウム、ラウリン酸カルシウム、オレイン酸カルシウム、2−エチルヘキサン酸カルシウム、ステアリン酸バリウム、12−ヒドロキシステアリン酸バリウム、ラウリン酸バリウム、ステアリン酸亜鉛、12−ヒドロキシステアリン酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、オレイン酸亜鉛、2−エチルヘキサン酸亜鉛、ステアリン酸鉛、12−ヒドロキシステアリン酸鉛、ステアリン酸コバルト、ステアリン酸アルミニウム、オレイン酸マンガン、リシノール酸バリウム、などが例示される。これらの金属石鹸の中では、入手性が容易であり、安全性が高く工業的実現性が高いという点からステアリン酸金属塩類が好ましく、特に経済性の点から、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸亜鉛からなる群から選択される1つ以上のものが最も好ましい。   Examples of the component (G) include various conventionally used metal soaps. The metal soap here is generally a combination of long-chain fatty acids and metal ions. The nonpolar or low polarity part based on fatty acids and the polar part based on the metal binding part are combined in one molecule. Can be used. Examples of the long chain fatty acid include saturated fatty acids having 1 to 18 carbon atoms, unsaturated fatty acids having 3 to 18 carbon atoms, and aliphatic dicarboxylic acids. Among these, saturated fatty acids having 1 to 18 carbon atoms are preferable from the viewpoint of easy availability and high industrial feasibility, and 6 to 18 carbon atoms from the viewpoint of high effect of releasability. The saturated fatty acid is more preferable. Examples of metal ions include zinc, cobalt, aluminum, strontium, and the like in addition to alkali metals and alkaline earth metals. Specific examples of metal soaps include lithium stearate, lithium 12-hydroxystearate, lithium laurate, lithium oleate, lithium 2-ethylhexanoate, sodium stearate, sodium 12-hydroxystearate, lauric acid Sodium, sodium oleate, sodium 2-ethylhexanoate, potassium stearate, potassium 12-hydroxystearate, potassium laurate, potassium oleate, potassium 2-ethylhexanoate, magnesium stearate, magnesium 12-hydroxystearate, Magnesium laurate, magnesium oleate, magnesium 2-ethylhexanoate, calcium stearate, calcium 12-hydroxystearate, calcium laurate , Calcium oleate, calcium 2-ethylhexanoate, barium stearate, barium 12-hydroxystearate, barium laurate, zinc stearate, zinc 12-hydroxystearate, zinc laurate, zinc oleate, 2-ethylhexane Examples include zinc acid, lead stearate, lead 12-hydroxystearate, cobalt stearate, aluminum stearate, manganese oleate, barium ricinoleate, and the like. Among these metal soaps, metal stearates are preferred from the viewpoint of easy availability, safety and industrial feasibility, and calcium stearate, magnesium stearate, stearin are particularly preferred from the viewpoint of economy. Most preferred is one or more selected from the group consisting of zinc acid.

この金属石鹸の添加量としては特に制限はないが、好ましい量の下限は硬化性樹脂組成物全体100重量部に対して0.01重量部、より好ましくは0.025重量部、さらに好ましくは0.05重量部であり、好ましい量の上限は硬化性樹脂組成物全体100重量部に対して5重量部、より好ましくは4重量部である。添加量が多すぎる場合は硬化物の物性の低下をきたし、少なすぎると金型離型性が得られないことがある。   Although there is no restriction | limiting in particular as addition amount of this metal soap, The minimum of a preferable amount is 0.01 weight part with respect to 100 weight part of the whole curable resin composition, More preferably, it is 0.025 weight part, More preferably, it is 0. The upper limit of the preferable amount is 5 parts by weight, more preferably 4 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the entire curable resin composition. When the addition amount is too large, the physical properties of the cured product are deteriorated.

(添加剤)
本発明の硬化性樹脂組成物には種々の添加剤を添加することができる。
(Additive)
Various additives can be added to the curable resin composition of the present invention.

(硬化遅延剤)
本発明の硬化性樹脂組成物の保存安定性を改良する目的、あるいは製造過程でのヒドロシリル化反応の反応性を調整する目的で、硬化遅延剤を使用することができる。硬化遅延剤としては、脂肪族不飽和結合を含有する化合物、有機リン化合物、有機イオウ化合物、窒素含有化合物、スズ系化合物、有機過酸化物等が挙げられ、これらを併用してもかまわない。
(Curing retarder)
A curing retarder can be used for the purpose of improving the storage stability of the curable resin composition of the present invention or adjusting the reactivity of the hydrosilylation reaction during the production process. Examples of the curing retarder include a compound containing an aliphatic unsaturated bond, an organic phosphorus compound, an organic sulfur compound, a nitrogen-containing compound, a tin-based compound, and an organic peroxide, and these may be used in combination.

脂肪族不飽和結合を含有する化合物としては、3−ヒドロキシ−3−メチル−1−ブチン、3−ヒドロキシ−3−フェニル−1−ブチン、1−エチニル−1−シクロヘキサノール等のプロパギルアルコール類、エン−イン化合物類、ジメチルマレート等のマレイン酸エステル類等が例示される。有機リン化合物としては、トリオルガノフォスフィン類、ジオルガノフォスフィン類、オルガノフォスフォン類、トリオルガノフォスファイト類等が例示される。有機イオウ化合物としては、オルガノメルカプタン類、ジオルガノスルフィド類、硫化水素、ベンゾチアゾール、チアゾール、ベンゾチアゾールジサルファイド等が例示される。窒素含有化合物としては、アンモニア、1〜3級アルキルアミン類、アリールアミン類、尿素、ヒドラジン等が例示される。スズ系化合物としては、ハロゲン化第一スズ2水和物、カルボン酸第一スズ等が例示される。有機過酸化物としては、ジ−tert−ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、過安息香酸t−ブチル等が例示される。   Examples of the compound containing an aliphatic unsaturated bond include propargyl alcohols such as 3-hydroxy-3-methyl-1-butyne, 3-hydroxy-3-phenyl-1-butyne and 1-ethynyl-1-cyclohexanol. And maleate esters such as ene-yne compounds and dimethyl malate. Examples of the organophosphorus compound include triorganophosphine, diorganophosphine, organophosphon, and triorganophosphite. Examples of organic sulfur compounds include organomercaptans, diorganosulfides, hydrogen sulfide, benzothiazole, thiazole, benzothiazole disulfide and the like. Examples of the nitrogen-containing compound include ammonia, primary to tertiary alkylamines, arylamines, urea, hydrazine and the like. Examples of tin compounds include stannous halide dihydrate and stannous carboxylate. Examples of the organic peroxide include di-tert-butyl peroxide, dicumyl peroxide, benzoyl peroxide, and t-butyl perbenzoate.

これらの硬化遅延剤のうち、遅延活性が良好で原料入手性がよいという観点からは、ベンゾチアゾール、チアゾール、ジメチルマレート、3−ヒドロキシ−3−メチル−1−ブチン、1−エチニル−1−シクロヘキサノールが好ましい。   Among these curing retarders, from the viewpoint of good retarding activity and good raw material availability, benzothiazole, thiazole, dimethyl malate, 3-hydroxy-3-methyl-1-butyne, 1-ethynyl-1- Cyclohexanol is preferred.

硬化遅延剤の添加量は種々設定できるが、使用するヒドロシリル化触媒1molに対する好ましい添加量の下限は10−1モル、より好ましくは1モルであり、好ましい添加量の上限は10モル、より好ましくは50モルである。 The addition amount of the curing retarder can be selected at various levels, the preferred amount of the lower limit is 10 -1 moles with respect to hydrosilylation catalyst 1mol used, more preferably 1 mol, the upper limit of the preferable amount is 10 3 mol, more preferably Is 50 moles.

また、これらの硬化遅延剤は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。   Moreover, these hardening retarders may be used independently and may be used together 2 or more types.

(接着性改良剤)
本発明の硬化性樹脂組成物には、接着性改良剤を添加することもできる。接着性改良剤としては一般に用いられている接着剤の他、例えば種々のカップリング剤、エポキシ化合物、フェノール樹脂、クマロン−インデン樹脂、ロジンエステル樹脂、テルペン−フェノール樹脂、α−メチルスチレン−ビニルトルエン共重合体、ポリエチルメチルスチレン、芳香族ポリイソシアネート等を挙げることができる。
(Adhesion improver)
An adhesion improver can also be added to the curable resin composition of the present invention. In addition to commonly used adhesives as adhesion improvers, for example, various coupling agents, epoxy compounds, phenol resins, coumarone-indene resins, rosin ester resins, terpene-phenol resins, α-methylstyrene-vinyltoluene A copolymer, polyethylmethylstyrene, aromatic polyisocyanate, etc. can be mentioned.

カップリング剤としては例えばシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤等が挙げられる。
カップリング剤の例や好ましい例は、上記したものと同じである。 カップリング剤の添加量としては種々設定できるが、[(A)成分+(B)成分]100重量部に対しての好ましい添加量の下限は0.1重量部、より好ましくは0.5重量部であり、好ましい添加量の上限は50重量部、より好ましくは25重量部である。添加量が少ないと接着性改良効果が表れず、添加量が多いと硬化物物性に悪影響を及ぼす場合がある。
Examples of coupling agents include silane coupling agents and titanate coupling agents.
Examples and preferred examples of the coupling agent are the same as those described above. The addition amount of the coupling agent can be variously set, but the lower limit of the preferable addition amount with respect to 100 parts by weight of [(A) component + (B) component] is 0.1 parts by weight, more preferably 0.5 parts by weight. The upper limit of the preferable addition amount is 50 parts by weight, more preferably 25 parts by weight. When the addition amount is small, the effect of improving the adhesiveness does not appear, and when the addition amount is large, the physical properties of the cured product may be adversely affected.

エポキシ化合物としては、例えば、ノボラックフェノール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、2,2’−ビス(4−グリシジルオキシシクロヘキシル)プロパン、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカーボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)−5,5−スピロ−(3,4−エポキシシクロヘキサン)−1,3−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート、1,2−シクロプロパンジカルボン酸ビスグリシジルエステル、トリグリシジルイソシアヌレート、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート等を挙げることができる。   Examples of the epoxy compound include novolak phenol type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, and 2,2′-bis (4-glycidyloxycyclohexyl). Propane, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, vinyl cyclohexylene dioxide, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) -5,5-spiro- (3,4-epoxycyclohexane) -1,3-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexyl) adipate, 1,2-cyclopropanedicarboxylic acid bisglycidyl ester, triglycidyl isocyanurate, monoallyl diglycidyl iso Cyanurate, mention may be made of diallyl monoglycidyl isocyanurate and the like.

エポキシ化合物の添加量としては種々設定できるが、[(A)成分+(B)成分]100重量部に対しての好ましい添加量の下限は1重量部、より好ましくは3重量部であり、好ましい添加量の上限は50重量部、より好ましくは25重量部である。添加量が少ないと接着性改良効果が表れず、添加量が多いと硬化物物性に悪影響を及ぼす場合がある。   Although the addition amount of the epoxy compound can be variously set, the lower limit of the preferable addition amount with respect to 100 parts by weight of [(A) component + (B) component] is preferably 1 part by weight, more preferably 3 parts by weight. The upper limit of the addition amount is 50 parts by weight, more preferably 25 parts by weight. When the addition amount is small, the effect of improving the adhesiveness does not appear, and when the addition amount is large, the physical properties of the cured product may be adversely affected.

また、これらのカップリング剤、シランカップリング剤、エポキシ化合物等は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。   These coupling agents, silane coupling agents, epoxy compounds, etc. may be used alone or in combination of two or more.

また、本発明においてはカップリング剤やエポキシ化合物の効果を高めるために、さらにシラノール縮合触媒を用いることができ、接着性の向上および/あるいは安定化が可能である。このようなシラノール縮合触媒としては特に限定されないが、ほう素系化合物あるいは/およびアルミニウム系化合物あるいは/およびチタン系化合物が好ましい。シラノール縮合触媒となるアルミニウム系化合物としては、アルミニウムトリイソプロポキシド、sec−ブトキシアルミニウムジイソフロポキシド、アルミニウムトリsec−ブトキシド等のアルミニウムアルコキシド類:、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロポキシド、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルミキレートM(川研ファインケミカル製、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロポキシド)、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)等のアルミニウムキレート類等が例示でき、取扱い性の点からアルミニウムキレート類がより好ましい。シラノール縮合触媒となるチタン系化合物としては、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタン等のテトラアルコキシチタン類:チタンテトラアセチルアセトナート等のチタンキレート類:オキシ酢酸やエチレングリコール等の残基を有する一般的なチタネートカップリング剤が例示できる。   In the present invention, a silanol condensation catalyst can be further used to enhance the effect of the coupling agent or the epoxy compound, and the adhesion can be improved and / or stabilized. Such a silanol condensation catalyst is not particularly limited, but is preferably a boron compound or / and an aluminum compound or / and a titanium compound. Examples of the aluminum compound used as the silanol condensation catalyst include aluminum alkoxides such as aluminum triisopropoxide, sec-butoxyaluminum diisoflopoxide, aluminum trisec-butoxide, ethyl acetoacetate aluminum diisopropoxide, aluminum tris ( Ethyl acetoacetate), aluminum chelate M (manufactured by Kawaken Fine Chemicals, alkyl acetoacetate aluminum diisopropoxide), aluminum tris (acetylacetonate), aluminum monoacetylacetonate bis (ethylacetoacetate), etc. Aluminum chelates are more preferable from the viewpoint of handleability. Titanium compounds used as silanol condensation catalysts include tetraalkoxy titaniums such as tetraisopropoxy titanium and tetrabutoxy titanium: titanium chelates such as titanium tetraacetylacetonate: general residues having residues such as oxyacetic acid and ethylene glycol And titanate coupling agents.

シラノール縮合触媒となるほう素系化合物としては、ほう酸エステルが挙げられる。ほう酸エステルとしては下記一般式(VII)、(VIII)で示されるものを好適に用いることが出来る。   Examples of the boron compound that serves as a silanol condensation catalyst include boric acid esters. As the borate ester, those represented by the following general formulas (VII) and (VIII) can be preferably used.

Figure 2013079329
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Figure 2013079329
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(式中R1は炭素数1〜48の有機基を表す。) (In the formula, R 1 represents an organic group having 1 to 48 carbon atoms.)

ほう酸エステルの具体例として、ほう酸トリ−2−エチルヘキシル、ほう酸ノルマルトリオクタデシル、ほう酸トリノルマルオクチル、ほう酸トリフェニル、トリメチレンボレート、トリス(トリメチルシリル)ボレート、ほう酸トリノルマルブチル、ほう酸トリ−sec−ブチル、ほう酸トリ−tert−ブチル、ほう酸トリイソプロピル、ほう酸トリノルマルプロピル、ほう酸トリアリル、ほう酸トリエチル、ほう酸トリメチル、ほう素メトキシエトキサイドを好適に用いることができる。これらほう酸エステルは1種類のみを用いてもよく、2種類以上を混合して用いても良い。混合は事前に行っても良く、また硬化物作成時に混合しても良い。これらほう酸エステルのうち、容易に入手でき工業的実用性が高いという点からは、ほう酸トリメチル、ほう酸トリエチル、ほう酸トリノルマルブチルが好ましく、なかでもほう酸トリメチルがより好ましい。 硬化時の揮発性を抑制できるという点からは、ほう酸ノルマルトリオクタデシル、ほう酸トリノルマルオクチル、ほう酸トリフェニル、トリメチレンボレート、トリス(トリメチルシリル)ボレート、ほう酸トリノルマルブチル、ほう酸トリ−sec−ブチル、ほう酸トリ−tert−ブチル、ほう酸トリイソプロピル、ほう酸トリノルマルプロピル、ほう酸トリアリル、ほう素メトキシエトキサイドが好ましく、なかでもほう酸ノルマルトリオクタデシル、ほう酸トリ−tert−ブチル、ほう酸トリフェニル、ほう酸トリノルマルブチルがより好ましい。揮発性の抑制、および作業性がよいという点からは、ほう酸トリノルマルブチル、ほう酸トリイソプロピル、ほう酸トリノルマルプロピルが好ましく、なかでもほう酸トリノルマルブチルがより好ましい。高温下での着色性が低いという点からは、ほう酸トリメチル、ほう酸トリエチルが好ましく、なかでもほう酸トリメチルがより好ましい。   Specific examples of boric acid esters include tri-2-ethylhexyl borate, normal trioctadecyl borate, trinormal octyl borate, triphenyl borate, trimethylene borate, tris (trimethylsilyl) borate, trinormal butyl borate, tri-sec-butyl borate, Tri-tert-butyl borate, triisopropyl borate, trinormalpropyl borate, triallyl borate, triethyl borate, trimethyl borate, and boron methoxyethoxide can be preferably used. These borate esters may be used alone or in combination of two or more. Mixing may be performed in advance or may be performed at the time of producing a cured product. Of these borate esters, trimethyl borate, triethyl borate, and trinormal butyl borate are preferable, and trimethyl borate is more preferable among them because it is easily available and has high industrial practicality. From the point that the volatility at the time of curing can be suppressed, normal trioctadecyl borate, trinormal octyl borate, triphenyl borate, trimethylene borate, tris (trimethylsilyl) borate, trinormal butyl borate, tri-sec-butyl borate, boric acid Tri-tert-butyl, triisopropyl borate, tripropylpropyl borate, triallyl borate, and boron methoxyethoxide are preferred. Among these, normal trioctadecyl borate, tri-tert-butyl borate, triphenyl borate, and tributyl normal borate are more preferred. preferable. From the viewpoint of suppression of volatility and good workability, trinormal butyl borate, triisopropyl borate and trinormal propyl borate are preferable, and trinormal butyl borate is more preferable. From the viewpoint of low colorability at high temperatures, trimethyl borate and triethyl borate are preferred, and trimethyl borate is more preferred.

シラノール縮合触媒を用いる場合の使用量は種々設定できるが、カップリング剤あるいは/およびエポキシ化合物エポキシ化合物100重量部に対しての好ましい添加量の下限は0.1重量部、より好ましくは1重量部であり、好ましい添加量の上限は50重量部、より好ましくは30重量部である。添加量が少ないと接着性改良効果が表れず、添加量が多いと硬化物物性に悪影響を及ぼす場合がある。また、これらのシラノール縮合触媒は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。   The amount used in the case of using a silanol condensation catalyst can be variously set, but the lower limit of the preferred addition amount with respect to 100 parts by weight of the coupling agent and / or epoxy compound epoxy compound is 0.1 parts by weight, more preferably 1 part by weight. The upper limit of the preferable addition amount is 50 parts by weight, more preferably 30 parts by weight. When the addition amount is small, the effect of improving the adhesiveness does not appear, and when the addition amount is large, the physical properties of the cured product may be adversely affected. These silanol condensation catalysts may be used alone or in combination of two or more.

また、本発明においては接着性改良効果をさらに高めるために、さらにシラノール源化合物を用いることができ、接着性の向上および/あるいは安定化が可能である。このようなシラノール源としては、例えばトリフェニルシラノール、ジフェニルジヒドロキシシラン等のシラノール化合物、ジフェニルジメトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン類等を挙げることができる。   In the present invention, a silanol source compound can be further used in order to further enhance the effect of improving adhesiveness, and the adhesiveness can be improved and / or stabilized. Examples of such a silanol source include silanol compounds such as triphenylsilanol and diphenyldihydroxysilane, and alkoxysilanes such as diphenyldimethoxysilane, tetramethoxysilane, and methyltrimethoxysilane.

シラノール源化合物を用いる場合の使用量は種々設定できるが、カップリング剤あるいは/およびエポキシ化合物エポキシ化合物100重量部に対しての好ましい添加量の下限は0.1重量部、より好ましくは1重量部であり、好ましい添加量の上限は50重量部、より好ましくは30重量部である。添加量が少ないと接着性改良効果が表れず、添加量が多いと硬化物物性に悪影響を及ぼす場合がある。   The amount used in the case of using a silanol source compound can be variously set, but the lower limit of the preferable addition amount with respect to 100 parts by weight of the coupling agent and / or epoxy compound is 0.1 parts by weight, more preferably 1 part by weight. The upper limit of the preferable addition amount is 50 parts by weight, more preferably 30 parts by weight. When the addition amount is small, the effect of improving the adhesiveness does not appear, and when the addition amount is large, the physical properties of the cured product may be adversely affected.

また、これらのシラノール源化合物は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。   Moreover, these silanol source compounds may be used independently and may be used together 2 or more types.

本発明においてはカップリング剤やエポキシ化合物の効果を高めるために、カルボン酸類あるいは/および酸無水物類を用いることができ、接着性の向上および/あるいは安定化が可能である。このようなカルボン酸類、酸無水物類としては特に限定されないが、   In the present invention, carboxylic acids and / or acid anhydrides can be used to enhance the effect of the coupling agent or epoxy compound, and adhesion can be improved and / or stabilized. Such carboxylic acids and acid anhydrides are not particularly limited,

Figure 2013079329
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、2−エチルヘキサン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、メチルシクロヘキサンジカルボン酸、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、メチルハイミック酸、ノルボルネンジカルボン酸、水素化メチルナジック酸、マレイン酸、アセチレンジカルボン酸、乳酸、リンゴ酸、クエン酸、酒石酸、安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、桂皮酸、フタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフタレンカルボン酸、ナフタレンジカルボン酸、およびそれらの単独あるいは複合酸無水物が挙げられる。 2-ethylhexanoic acid, cyclohexanecarboxylic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, methylcyclohexanedicarboxylic acid, tetrahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, methylheimic acid, norbornene dicarboxylic acid, hydrogenated methylnadic acid, maleic acid, acetylenedicarboxylic acid , Lactic acid, malic acid, citric acid, tartaric acid, benzoic acid, hydroxybenzoic acid, cinnamic acid, phthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalenecarboxylic acid, naphthalenedicarboxylic acid, and single or complex acid anhydrides thereof Can be mentioned.

これらのカルボン酸類あるいは/および酸無水物類のうち、ヒドロシリル化反応性を有し硬化物からの染み出しの可能性が少なく得られる硬化物の物性を損ない難いという点においては、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有するものが好ましい。好ましいカルボン酸類あるいは/および酸無水物類としては、例えば、 Of these carboxylic acids and / or acid anhydrides, they react with SiH groups in that they have hydrosilylation reactivity and are unlikely to impair the physical properties of the resulting cured product with little possibility of seepage from the cured product. What contains the carbon-carbon double bond which has property is preferable. Preferred carboxylic acids and / or acid anhydrides include, for example,

Figure 2013079329
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テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸およびそれらの単独あるいは複合酸無水物等が挙げられる。 Examples thereof include tetrahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, and single or complex acid anhydrides thereof.

カルボン酸類あるいは/および酸無水物類を用いる場合の使用量は種々設定できるが、カップリング剤あるいは/およびエポキシ化合物エポキシ化合物100重量部に対しての好ましい添加量の下限は0.1重量部、より好ましくは1重量部であり、好ましい添加量の上限は50重量部、より好ましくは10重量部である。添加量が少ないと接着性改良効果が表れず、添加量が多いと硬化物物性に悪影響を及ぼす場合がある。   The amount used in the case of using carboxylic acids or / and acid anhydrides can be variously set, but the lower limit of the preferred addition amount with respect to 100 parts by weight of the coupling agent or / and epoxy compound epoxy compound is 0.1 parts by weight, More preferably, it is 1 part by weight, and the upper limit of the preferable addition amount is 50 parts by weight, more preferably 10 parts by weight. When the addition amount is small, the effect of improving the adhesiveness does not appear, and when the addition amount is large, the physical properties of the cured product may be adversely affected.

また、これらのカルボン酸類あるいは/および酸無水物類は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。   Moreover, these carboxylic acids or / and acid anhydrides may be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化性樹脂組成物には、上記のシラン化合物を使用することができる。シラン化合物は、リードとの密着性向上に寄与し、パッケージとリードの界面からの水分の浸入の防止に効果的である。これを例示すると、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン等が挙げられ、中でも特にジメチルジメトキシシランが好ましい。   The silane compound described above can be used in the curable resin composition of the present invention. The silane compound contributes to improvement in adhesion to the lead and is effective in preventing moisture from entering from the interface between the package and the lead. Illustrative examples include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, methylphenyldiethoxysilane, and the like, with dimethyldimethoxysilane being particularly preferred.

(熱硬化性樹脂の硬化物)
熱硬化樹脂は樹脂を硬化させたものを、粉砕して粒子状態で混合してもよい。熱硬化性樹脂を分散させて用いる場合は、平均粒子径は種々設定できるが、好ましい平均粒子径の下限は10nmであり、好ましい平均粒子径の上限は10μmである。粒子系の分布はあってもよく、単一分散であっても複数のピーク粒径を持っていてもよいが、硬化性樹脂組成物の粘度が低く成形性が良好となりやすいという観点からは粒子径の変動係数が10%以下であることが好ましい。
(Hardened thermosetting resin)
As the thermosetting resin, a cured resin may be pulverized and mixed in a particle state. When the thermosetting resin is used in a dispersed state, the average particle diameter can be variously set, but the lower limit of the preferable average particle diameter is 10 nm, and the upper limit of the preferable average particle diameter is 10 μm. The particle system may be distributed, and may be monodispersed or have a plurality of peak particle diameters. However, from the viewpoint that the viscosity of the curable resin composition is low and the moldability tends to be good. The diameter variation coefficient is preferably 10% or less.

(熱可塑性樹脂)
本発明の硬化性樹脂組成物には特性を改質する等の目的で、種々の熱可塑性樹脂を添加することも可能である。熱可塑性樹脂としては種々のものを用いることができるが、例えば、メチルメタクリレートの単独重合体あるいはメチルメタクリレートと他モノマーとのランダム、ブロック、あるいはグラフト重合体等のポリメチルメタクリレート系樹脂(例えば日立化成社製オプトレッツ等)、ブチルアクリレートの単独重合体あるいはブチルアクリレートと他モノマーとのランダム、ブロック、あるいはグラフト重合体等のポリブチルアクリレート系樹脂等に代表されるアクリル系樹脂、ビスフェノールA、3,3,5−トリメチルシクロヘキシリデンビスフェノール等をモノマー構造として含有するポリカーボネート樹脂等のポリカーボネート系樹脂(例えば帝人社製APEC等)、ノルボルネン誘導体、ビニルモノマー等を単独あるいは共重合した樹脂、ノルボルネン誘導体を開環メタセシス重合させた樹脂、あるいはその水素添加物等のシクロオレフィン系樹脂(例えば、三井化学社製APEL、日本ゼオン社製ZEONOR、ZEONEX、JSR社製ARTON等)、エチレンとマレイミドの共重合体等のオレフィン−マレイミド系樹脂(例えば東ソー社製TI−PAS等)、ビスフェノールA、ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレン等のビスフェノール類やジエチレングリコール等のジオール類とテレフタル酸、イソフタル酸、等のフタル酸類や脂肪族ジカルボン酸類を重縮合させたポリエステル等のポリエステル系樹脂(例えば鐘紡社製O−PET等)、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等の他、天然ゴム、EPDMといったゴム状樹脂が例示されるがこれに限定されるものではない。
(Thermoplastic resin)
Various thermoplastic resins can be added to the curable resin composition of the present invention for the purpose of modifying the properties. Various thermoplastic resins can be used. For example, a homopolymer of methyl methacrylate or a polymethyl methacrylate resin such as a random, block or graft polymer of methyl methacrylate and other monomers (for example, Hitachi Chemical) Optretz, etc.), acrylic resins represented by polybutyl acrylate resins such as butyl acrylate homopolymers or random, block or graft polymers of butyl acrylate and other monomers, bisphenol A, 3, A polycarbonate resin such as a polycarbonate resin containing 3,5-trimethylcyclohexylidenebisphenol or the like as a monomer structure (for example, APEC manufactured by Teijin Limited), a norbornene derivative, a vinyl monomer, or the like is copolymerized alone or copolymerized. Cycloolefin resins such as fat, norbornene derivative ring-opening metathesis polymer, or hydrogenated products thereof (for example, APEL manufactured by Mitsui Chemicals, ZEONOR, ZEONEX manufactured by Nippon Zeon, ARTON manufactured by JSR, etc.), ethylene and Olefin-maleimide resins such as maleimide copolymers (eg TI-PAS manufactured by Tosoh Corporation), bisphenols such as bisphenol A and bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene, and diols such as diethylene glycol Polyester resins such as polyester obtained by polycondensation of phthalic acids and aliphatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid and isophthalic acid (for example, O-PET manufactured by Kanebo Co., Ltd.), polyethersulfone resins, polyarylate resins, polyvinyl acetal resins, Polyethylene resin Polypropylene resins, polystyrene resins, polyamide resins, silicone resins, other like fluorine resin, not natural rubber, but the rubber-like resin is exemplified such EPDM is not limited thereto.

熱可塑性樹脂としては、分子中にSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合あるいは/およびSiH基を有していてもよい。得られる硬化物がより強靭となりやすいという点においては、分子中にSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合あるいは/およびSiH基を平均して1分子中に1個以上有していることが好ましい。   As a thermoplastic resin, you may have the carbon-carbon double bond or / and SiH group which have a reactivity with SiH group in a molecule | numerator. In the point that the obtained cured product tends to be tougher, the molecule has one or more carbon-carbon double bonds or / and SiH groups having reactivity with SiH groups in the molecule on average. It is preferable.

熱可塑性樹脂としてはその他の架橋性基を有していてもよい。この場合の架橋性基としては、エポキシ基、アミノ基、ラジカル重合性不飽和基、カルボキシル基、イソシアネート基、ヒドロキシル基、アルコキシシリル基等が挙げられる。得られる硬化物の耐熱性が高くなりやすいという点においては、架橋性基を平均して1分子中に1個以上有していることが好ましい。   The thermoplastic resin may have other crosslinkable groups. Examples of the crosslinkable group in this case include an epoxy group, an amino group, a radical polymerizable unsaturated group, a carboxyl group, an isocyanate group, a hydroxyl group, and an alkoxysilyl group. From the viewpoint that the heat resistance of the obtained cured product tends to be high, it is preferable to have one or more crosslinkable groups per molecule on average.

熱可塑性樹脂の分子量としては、特に限定はないが、(A)成分や(B)成分との相溶性が良好となりやすいという点においては、数平均分子量が10000以下であることが好ましく、5000以下であることがより好ましい。逆に、得られる硬化物が強靭となりやすいという点においては、数平均分子量が10000以上であることが好ましく、100000以上であることがより好ましい。分子量分布についても特に限定はないが、混合物の粘度が低くなり成形性が良好となりやすいという点においては、分子量分布が3以下であることが好ましく、2以下であることがより好ましく、1.5以下であることがさらに好ましい。   The molecular weight of the thermoplastic resin is not particularly limited, but the number average molecular weight is preferably 10,000 or less, in terms of easy compatibility with the component (A) or the component (B), and is preferably 5000 or less. It is more preferable that On the contrary, the number average molecular weight is preferably 10,000 or more, and more preferably 100,000 or more in that the obtained cured product tends to be tough. The molecular weight distribution is not particularly limited, but the molecular weight distribution is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, in that the viscosity of the mixture tends to be low and the moldability tends to be good. More preferably, it is as follows.

熱可塑性樹脂の配合量としては特に限定はないが、好ましい使用量の下限は硬化性樹脂組成物全体の5重量%、より好ましくは10重量%であり、好ましい使用量の上限は硬化性樹脂組成物中の50重量%、より好ましくは30重量%である。添加量が少ないと得られる硬化物が脆くなりやすいし、多いと耐熱性(高温での弾性率)が低くなりやすい。   The blending amount of the thermoplastic resin is not particularly limited, but the lower limit of the preferable amount used is 5% by weight of the entire curable resin composition, more preferably 10% by weight, and the upper limit of the preferable amount used is the curable resin composition. 50% by weight in the product, more preferably 30% by weight. When the addition amount is small, the obtained cured product tends to be brittle, and when it is large, the heat resistance (elastic modulus at high temperature) tends to be low.

熱可塑性樹脂としては単一のものを用いてもよいし、複数のものを組み合わせて用いてもよい。   A single thermoplastic resin may be used, or a plurality of thermoplastic resins may be used in combination.

熱可塑性樹脂は(A)成分あるいは/および(B)成分に溶かして均一な状態として混合してもよいし、粉砕して粒子状態で混合してもよいし、溶媒に溶かして混合する等して分散状態としてもよい。得られる硬化物がより透明になりやすいという点においては、(A)成分あるいは/および(B)成分に溶かして均一な状態として混合することが好ましい。この場合も、熱可塑性樹脂を(A)成分あるいは/および(B)成分に直接溶解させてもよいし、溶媒等を用いて均一に混合してもよいし、その後溶媒を除いて均一な分散状態あるいは/および混合状態としてもよい。   The thermoplastic resin may be dissolved in the component (A) or / and the component (B) and mixed in a uniform state, pulverized and mixed in a particle state, or dissolved in a solvent and mixed. It may be in a dispersed state. In the point that the obtained hardened | cured material tends to become more transparent, it is preferable to melt | dissolve in (A) component or / and (B) component, and to mix as a uniform state. Also in this case, the thermoplastic resin may be directly dissolved in the component (A) or / and the component (B), or may be mixed uniformly using a solvent or the like, and then the solvent is removed and uniform dispersion is performed. It is good also as a state or / and a mixed state.

熱可塑性樹脂を分散させて用いる場合は、平均粒子径は種々設定できるが、好ましい平均粒子径の下限は10nmであり、好ましい平均粒子径の上限は10μmである。粒子系の分布はあってもよく、単一分散であっても複数のピーク粒径を持っていてもよいが、硬化性樹脂組成物の粘度が低く成形性が良好となりやすいという観点からは粒子径の変動係数が10%以下であることが好ましい。   When the thermoplastic resin is dispersed and used, the average particle diameter can be variously set, but the lower limit of the preferable average particle diameter is 10 nm, and the upper limit of the preferable average particle diameter is 10 μm. The particle system may be distributed, and may be monodispersed or have a plurality of peak particle diameters. However, from the viewpoint that the viscosity of the curable resin composition is low and the moldability tends to be good. The diameter variation coefficient is preferably 10% or less.

(老化防止剤)
本発明の硬化性樹脂組成物には老化防止剤を添加してもよい。老化防止剤としては、ヒンダートフェノール系等一般に用いられている老化防止剤の他、クエン酸やリン酸、硫黄系老化防止剤等が挙げられる。
(Anti-aging agent)
An aging inhibitor may be added to the curable resin composition of the present invention. Examples of the anti-aging agent include citric acid, phosphoric acid, sulfur-based anti-aging agent and the like in addition to the anti-aging agents generally used such as hindered phenol type.

ヒンダートフェノール系老化防止剤としては、チバスペシャリティーケミカルズ社から入手できるイルガノックス1010をはじめとして、各種のものが用いられる。   As the hindered phenol-based anti-aging agent, various types such as Irganox 1010 available from Ciba Specialty Chemicals are used.

硫黄系老化防止剤としては、メルカプタン類、メルカプタンの塩類、スルフィドカルボン酸エステル類や、ヒンダードフェノール系スルフィド類を含むスルフィド類、ポリスルフィド類、ジチオカルボン酸塩類、チオウレア類、チオホスフェイト類、スルホニウム化合物、チオアルデヒド類、チオケトン類、メルカプタール類、メルカプトール類、モノチオ酸類、ポリチオ酸類、チオアミド類、スルホキシド類等が挙げられる。また、これらの老化防止剤は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。   Sulfur-based antioxidants include mercaptans, mercaptan salts, sulfide carboxylates, sulfides including hindered phenol sulfides, polysulfides, dithiocarboxylates, thioureas, thiophosphates, sulfonium Examples thereof include compounds, thioaldehydes, thioketones, mercaptals, mercaptols, monothioacids, polythioacids, thioamides, and sulfoxides. Moreover, these anti-aging agents may be used independently and may be used together 2 or more types.

(ラジカル禁止剤)
本発明の硬化性樹脂組成物にはラジカル禁止剤を添加してもよい。ラジカル禁止剤としては、例えば、2,6−ジ−tert−ブチル−3−メチルフェノール(BHT)、2,2’−メチレン−ビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、テトラキス(メチレン−3(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)メタン等のフェノール系ラジカル禁止剤や、フェニル−β−ナフチルアミン、α−ナフチルアミン、N,N’−第二ブチル−p−フェニレンジアミン、フェノチアジン、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン等のアミン系ラジカル禁止剤等が挙げられる。また、これらのラジカル禁止剤は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。
(Radical inhibitor)
A radical inhibitor may be added to the curable resin composition of the present invention. Examples of radical inhibitors include 2,6-di-tert-butyl-3-methylphenol (BHT), 2,2′-methylene-bis (4-methyl-6-tert-butylphenol), tetrakis (methylene- Phenol radical inhibitors such as 3 (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate) methane, phenyl-β-naphthylamine, α-naphthylamine, N, N′-secondary butyl-p- Examples include amine radical inhibitors such as phenylenediamine, phenothiazine, N, N′-diphenyl-p-phenylenediamine, and the like. Moreover, these radical inhibitors may be used alone or in combination of two or more.

(紫外線吸収剤)
本発明の硬化性樹脂組成物には紫外線吸収剤を添加してもよい。紫外線吸収剤としては、例えば2(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジン)セバケート等が挙げられる。
また、これらの紫外線吸収剤は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。
(UV absorber)
An ultraviolet absorber may be added to the curable resin composition of the present invention. Examples of the ultraviolet absorber include 2 (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidine) sebacate and the like. Can be mentioned.
Moreover, these ultraviolet absorbers may be used independently and may be used together 2 or more types.

(溶剤)
本発明の硬化性樹脂組成物は溶剤に溶解して用いることも可能である。使用できる溶剤は特に限定されるものではなく、具体的に例示すれば、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、1, 4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、クロロホルム、塩化メチレン、1, 2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒を好適に用いることができる。溶媒としては、トルエン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、クロロホルムが好ましい。
(solvent)
The curable resin composition of the present invention can be used by dissolving in a solvent. Solvents that can be used are not particularly limited, and specific examples include hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, hexane, heptane, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, diethyl ether, and the like. An ether solvent, a ketone solvent such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone, and a halogen solvent such as chloroform, methylene chloride, and 1,2-dichloroethane can be preferably used. As the solvent, toluene, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane and chloroform are preferable.

使用する溶媒量は適宜設定できるが、用いる硬化性樹脂組成物1gに対しての好ましい使用量の下限は0.1mLであり、好ましい使用量の上限は10mLである。使用量が少ないと、低粘度化等の溶媒を用いることの効果が得られにくく、また、使用量が多いと、材料に溶剤が残留して熱クラック等の問題となり易く、またコスト的にも不利になり工業的利用価値が低下する。
これらの、溶媒は単独で使用してもよく、2種類以上の混合溶媒として用いることもできる。
Although the amount of solvent to be used can be set as appropriate, the lower limit of the preferable usage amount relative to 1 g of the curable resin composition to be used is 0.1 mL, and the upper limit of the preferable usage amount is 10 mL. If the amount used is small, it is difficult to obtain the effect of using a solvent such as a low viscosity, and if the amount used is large, the solvent tends to remain in the material, causing problems such as thermal cracks, and also from a cost standpoint. It is disadvantageous and the industrial utility value decreases.
These solvents may be used alone or as a mixed solvent of two or more.

(発光ダイオードのための添加剤)
さらに、本発明の硬化性樹脂組成物には必要に応じて、種々の発光ダイオード特性改善のための添加剤を添加してもよい。添加剤としては例えば、発光素子からの光を吸収してより長波長の蛍光を出す、セリウムで付活されたイットリウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体等の蛍光体や、特定の波長を吸収するブルーイング剤等の着色剤、光を拡散させるための酸化チタン、酸化アルミニウム、メラミン樹脂、CTUグアナミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等のような拡散材、アルミノシリケート等の金属酸化物、窒化アルミニウム、窒化ボロン等の金属窒化物等の熱伝導性充填材等を挙げることができる。
発光ダイオード特性改善のための添加剤は均一に含有させても良いし、含有量に傾斜を付けて含有させてもよい。
(Additive for light emitting diode)
Furthermore, you may add the additive for various light emitting diode characteristic improvement to the curable resin composition of this invention as needed. Examples of additives include phosphors such as yttrium, aluminum, and garnet phosphors activated with cerium that absorb light from the light emitting element to emit longer wavelength fluorescence, and blue that absorbs a specific wavelength. Coloring agents such as ing agents, diffusion materials such as titanium oxide, aluminum oxide, melamine resin, CTU guanamine resin, benzoguanamine resin for diffusing light, metal oxides such as aluminosilicate, aluminum nitride, boron nitride, etc. Examples thereof include thermally conductive fillers such as metal nitrides.
The additive for improving the characteristics of the light emitting diode may be contained uniformly, or the content may be added with a gradient.

(離型剤)
本発明の硬化性樹脂組成物には成形時の離型性を改良するために種々の離型剤を添加してもよい。離型剤としては、既に説明した(G)成分や、ワックス類等が挙げられる。ワックス類としては、天然ワックス、合成ワックス、酸化または非酸化のポリオレフィン、ポリエチレンワックス等が例示できる。尚、離型剤を添加しなくても十分な離型性が得られる場合には離型剤は用いない方がよい。
(Release agent)
Various releasing agents may be added to the curable resin composition of the present invention in order to improve the releasing property at the time of molding. Examples of the release agent include the component (G) already described and waxes. Examples of waxes include natural wax, synthetic wax, oxidized or non-oxidized polyolefin, and polyethylene wax. In addition, it is better not to use a release agent when sufficient release properties can be obtained without adding a release agent.

(その他添加剤)
本発明の硬化性樹脂組成物には、その他、着色剤、難燃剤、難燃助剤、界面活性剤、消泡剤、乳化剤、レベリング剤、はじき防止剤、アンチモン−ビスマス等のイオントラップ剤、チクソ性付与剤、粘着性付与剤、保存安定改良剤、オゾン劣化防止剤、光安定剤、増粘剤、可塑剤、反応性希釈剤、酸化防止剤、熱安定化剤、導電性付与剤、帯電防止剤、放射線遮断剤、核剤、リン系過酸化物分解剤、滑剤、顔料、金属不活性化剤、熱伝導性付与剤、物性調整剤等を本発明の目的および効果を損なわない範囲において添加することができる。
(Other additives)
In addition, the curable resin composition of the present invention includes a colorant, a flame retardant, a flame retardant aid, a surfactant, an antifoaming agent, an emulsifier, a leveling agent, an anti-fogging agent, an ion trapping agent such as antimony-bismuth, Thixotropic agent, tackifier, storage stability improver, ozone degradation inhibitor, light stabilizer, thickener, plasticizer, reactive diluent, antioxidant, heat stabilizer, conductivity enhancer, Antistatic agents, radiation blocking agents, nucleating agents, phosphorus peroxide decomposing agents, lubricants, pigments, metal deactivators, thermal conductivity-imparting agents, physical property modifiers, and the like that do not impair the purpose and effect of the present invention Can be added.

(Bステージ化)
本発明の硬化性樹脂組成物は、各成分および添加剤等の配合物をそのまま用いてもよいし、加熱等により部分的に反応(Bステージ化)させてから使用してもよい。Bステージ化することにより粘度調整が可能であり、トランスファー成形性を調整することもできる。また、硬化収縮をより抑制する効果もある。
(B stage)
The curable resin composition of the present invention may be used as it is by blending each component and additives, or may be used after being partially reacted (B-staged) by heating or the like. Viscosity can be adjusted by using B-stage, and transfer moldability can also be adjusted. In addition, there is an effect of further suppressing curing shrinkage.

(硬化性樹脂組成物性状)
本発明の硬化性樹脂組成物としては上記したように各種組み合わせのものが使用できるが、トランスファー成形などによる成形性が良好であるという点においては、硬化性樹脂組成物としては150℃以下の温度で流動性を有するものが好ましい。
(Curable resin composition properties)
As described above, various combinations can be used as the curable resin composition of the present invention. However, the curable resin composition has a temperature of 150 ° C. or less in terms of good moldability by transfer molding or the like. And those having fluidity are preferred.

硬化性樹脂組成物の硬化性については、任意に設定できるが、成形サイクルが短くできるという点においては120℃におけるゲル化時間が120秒以内であることが好ましく、60秒以内であることがより好ましい。また、150℃におけるゲル化時間が60秒以内であることが好ましく、30秒以内であることがより好ましい。また、100℃におけるゲル化時間が180秒以内であることが好ましく、120秒以内であることがより好ましい。   The curability of the curable resin composition can be arbitrarily set, but the gelation time at 120 ° C. is preferably within 120 seconds, more preferably within 60 seconds in that the molding cycle can be shortened. preferable. Further, the gelation time at 150 ° C. is preferably within 60 seconds, and more preferably within 30 seconds. Further, the gelation time at 100 ° C. is preferably within 180 seconds, and more preferably within 120 seconds.

この場合のゲル化時間は、以下のようにして調べられる。設定温度に調整したホットプレート上に厚み50μmのアルミ箔を置き、その上に硬化性樹脂組成物100mgを置いてゲル化するまでの時間を測定してゲル化時間とする。   The gelation time in this case is examined as follows. An aluminum foil having a thickness of 50 μm is placed on a hot plate adjusted to a set temperature, and 100 mg of the curable resin composition is placed thereon, and the time until gelation is measured is defined as the gelation time.

硬化性樹脂組成物が使用される製造工程において、硬化性樹脂組成物中へのボイドの発生および硬化性樹脂組成物からのアウトガスによる工程上の問題が生じ難いという観点においては、硬化中の重量減少が5重量%以下であることが好ましく、3重量%以下であることがより好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。   In the manufacturing process in which the curable resin composition is used, the weight during the curing is from the viewpoint that the generation of voids in the curable resin composition and the process problems due to the outgas from the curable resin composition hardly occur. The decrease is preferably 5% by weight or less, more preferably 3% by weight or less, and further preferably 1% or less.

硬化中の重量減少は以下のように調べられる。熱重量分析装置を用いて封止剤10mgを室温から150℃まで10℃/分の昇温速度で昇温して、減少した重量の初期重量の割合として求めることができる。   The weight loss during curing is examined as follows. Using a thermogravimetric analyzer, 10 mg of the sealant is heated from room temperature to 150 ° C. at a rate of temperature increase of 10 ° C./min, and can be determined as a ratio of the initial weight of the reduced weight.

また、電子材料等として用いた場合にシリコーン汚染の問題を起こし難いという点においては、この場合の揮発成分中のSi原子の含有量が1%以下であることが好ましい。   In addition, when used as an electronic material or the like, it is preferable that the content of Si atoms in the volatile component in this case is 1% or less in that the problem of silicone contamination hardly occurs.

(硬化物性状)
耐熱性が良好であるという観点からは、硬化性樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物のTgが100℃以上となるものが好ましく、150℃以上となるものがより好ましい。
(Curing property)
From the viewpoint of good heat resistance, the cured product obtained by curing the curable resin composition preferably has a Tg of 100 ° C. or higher, more preferably 150 ° C. or higher.

この場合、Tgは以下のようにして調べられる。3mmx5mmx30mmの角柱状試験片を用いて引張りモード、測定周波数10Hz、歪0.1%、静/動力比1.5、昇温側度5℃/分の条件にて測定した動的粘弾性測定(アイティー計測制御社製DVA−200使用)のtanδのピーク温度をTgとする。   In this case, Tg is examined as follows. Dynamic viscoelasticity measurement using a 3 mm x 5 mm x 30 mm prismatic test piece under the conditions of tensile mode, measurement frequency 10 Hz, strain 0.1%, static / power ratio 1.5, temperature rising side 5 ° C / min ( Let Tg be the peak temperature of tan δ of DVA-200 manufactured by IT Measurement & Control Co.).

また、リードフレーム等にイオンマイグレーション等の問題が生じ難く信頼性が高くなるという点においては、硬化物からの抽出イオン含有量が10ppm未満であることが好ましく、5ppm未満であることがより好ましく、1ppm未満であることがさらに好ましい。   In addition, in terms of high reliability and less likely to cause problems such as ion migration in the lead frame and the like, the content of ions extracted from the cured product is preferably less than 10 ppm, more preferably less than 5 ppm, More preferably, it is less than 1 ppm.

この場合、抽出イオン含有量は以下のようにして調べられる。裁断した硬化物1gを超純水50mlとともにテフロン(登録商標)製容器に入れて密閉し、121℃、2気圧、20時間の条件で処理する。得られた抽出液をICP質量分析法(横河アナリティカルシステムズ社製HP−4500使用)によって分析し、得られたNaおよびKの含有量の値を、用いた硬化物中の濃度に換算して求める。一方同じ抽出液をイオンクロマト法(ダイオネクス社製DX−500使用、カラム:AS12−SC)によって分析し、得られたClおよびBrの含有量の値を、用いた硬化物中の濃度に換算して求める。以上のように得られたNa、K、Cl、Brの硬化物中の含有量を合計して抽出イオン含有量とする。   In this case, the extracted ion content is examined as follows. 1 g of the cut cured product is put in a Teflon (registered trademark) container together with 50 ml of ultrapure water and sealed, and treated under conditions of 121 ° C., 2 atm and 20 hours. The obtained extract was analyzed by ICP mass spectrometry (using HP-4500 manufactured by Yokogawa Analytical Systems), and the obtained Na and K content values were converted to the concentration in the cured product used. Ask. On the other hand, the same extract was analyzed by ion chromatography (using Dionex DX-500, column: AS12-SC), and the resulting Cl and Br content values were converted to the concentration in the cured product used. Ask. The contents of Na, K, Cl, and Br obtained as described above in the cured product are totaled to obtain the extracted ion content.

硬化物の線膨張係数としては、特に制約はないが、リードフレーム等の金属やセラミック等との接着性が良好になりやすいという点においては、23℃から150℃までの平均線膨張係数が30ppm以下であることが好ましく、20ppm以下であることがより好ましく、10ppm以下であることがより好ましい。   The linear expansion coefficient of the cured product is not particularly limited, but the average linear expansion coefficient from 23 ° C. to 150 ° C. is 30 ppm in that the adhesion to a metal such as a lead frame or ceramic is likely to be good. Or less, more preferably 20 ppm or less, and even more preferably 10 ppm or less.

また、本発明の硬化性樹脂組成物は、硬化後の460nm及び480nmにおける分光反射率が80R%以上であり、180℃72時間の耐熱試験後の分光反射率の保持率(耐熱試験後の分光反射率/初期の分光反射率×100)が90%以上であることが望ましい。
硬化物の分光反射率は以下のように調べられる。
微小面分光色差計(日本電色工業社製VSS400)を用いて波長400nm〜700nm(20nm間隔)における分光反射率を測定した。ここで各波長における測定値は、パッケージ上面の任意の4箇所(測定面積0.1mmφ)の測定値の平均値を採用した。
分光反射率は、発光ダイオードの光取りだし効率が高くなりやすいという点においては、420〜700nmの波長帯域において75%以上が好ましく、80%以上であることがより好ましい。
Further, the curable resin composition of the present invention has a spectral reflectance at 460 nm and 480 nm after curing of 80 R% or more, and a retention ratio of spectral reflectance after a heat test at 180 ° C. for 72 hours (spectrum after heat test). (Reflectance / initial spectral reflectance × 100) is desirably 90% or more.
The spectral reflectance of the cured product is examined as follows.
Spectral reflectances at wavelengths of 400 nm to 700 nm (20 nm intervals) were measured using a micro-surface spectral color difference meter (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. VSS400). Here, as the measurement values at each wavelength, an average value of measurement values at arbitrary four locations (measurement area 0.1 mmφ) on the upper surface of the package was adopted.
The spectral reflectance is preferably 75% or more in the wavelength band of 420 to 700 nm, and more preferably 80% or more in that the light extraction efficiency of the light emitting diode tends to be high.

また、耐熱試験(例えば、180℃のオーブンで72時間加熱する試験)後の分光反射率の初期の分光反射率に対する保持率を下記計算式によって求めた。
保持率(%)=(耐熱試験後の分光反射率)/(初期の分光反射率)×100
保持率は、電子材料として用いた場合に信頼性が高いといった点においては、80%以上であることが好ましく、85%以上であることがより好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。
Moreover, the retention rate with respect to the initial spectral reflectance of the spectral reflectance after the heat resistance test (for example, a test of heating in an oven at 180 ° C. for 72 hours) was obtained by the following calculation formula.
Retention rate (%) = (spectral reflectance after heat test) / (initial spectral reflectance) × 100
The retention rate is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and still more preferably 90% or more in terms of high reliability when used as an electronic material.

また、本発明の硬化性樹脂組成物を硬化して得た成形体としては、表面の波長460nm及び480nmの分光反射率が90%以上であることが好ましく、95%以上であることがより好ましく、97%以上であることがさらに好ましく、99%以上であることが特に好ましい。   Further, as a molded body obtained by curing the curable resin composition of the present invention, the spectral reflectance at the surface wavelengths of 460 nm and 480 nm is preferably 90% or more, and more preferably 95% or more. 97% or more is more preferable, and 99% or more is particularly preferable.

(硬化性樹脂組成物タブレット)
本発明の硬化性樹脂組成物は、(A)〜(E)成分に加えて、少なくとも(F)成分を含有する場合は、硬化性樹脂組成物タブレットとすることができる。
具体的には、硬化性樹脂組成物タブレットは、少なくとも一方が23℃における粘度が50Pa秒以下の液体である(A)成分および(B)成分、(A)成分と(B)成分を硬化させるための(C)成分、共に粉体である(E)成分および(F)成分、更には、(D)成分を含有することを特徴とする。
(Curable resin composition tablet)
When the curable resin composition of the present invention contains at least the component (F) in addition to the components (A) to (E), the curable resin composition tablet can be formed.
Specifically, at least one of the curable resin composition tablet cures the component (A) and the component (B), the component (A) and the component (B) that are liquids having a viscosity at 23 ° C. of 50 Pa seconds or less. (C) component, (E) component and (F) component which are both powder, Furthermore, (D) component is contained, It is characterized by the above-mentioned.

この硬化性樹脂組成物タブレットは、高温で(A)成分および(B)成分が粘度低下することによって硬化性樹脂組成物全体が流動可能となり、さらに加熱を続けると硬化反応が進行して所望の形状に成形することが可能である。   This curable resin composition tablet is capable of flowing the entire curable resin composition due to a decrease in viscosity of the component (A) and the component (B) at a high temperature. It can be formed into a shape.

成形方法としては、特に限定されず、硬化性樹脂組成物の成形に一般的であるトランスファー成形や圧縮成形などの成形方法を用いることができる。これらの成形方法を用いる場合、原料である硬化性樹脂組成物がペースト状や粘土状であると、一定した形状を保持できず、互着や一体化、変形したりするため、計量や搬送、成形機への供給が非常に困難となる。一方、タブレット形状であると、計量や搬送、成形機への供給が容易となり、自動化も可能となって生産性が大幅に向上する。ここで言うタブレットとは、室温において一定した形状を保持し、経時的な形状の変化が実質的になく、また互いに接触させたときに互着や一体化することのない固体のことを意味する。   The molding method is not particularly limited, and a molding method such as transfer molding or compression molding, which is generally used for molding a curable resin composition, can be used. When using these molding methods, if the curable resin composition as a raw material is in the form of a paste or clay, it cannot maintain a constant shape and is attached, integrated, or deformed. Supply to the molding machine becomes very difficult. On the other hand, the tablet shape makes it easy to measure, transport, and supply to a molding machine, and can be automated, greatly improving productivity. As used herein, a tablet means a solid that retains a constant shape at room temperature, has substantially no change in shape over time, and does not stick together or become integrated when brought into contact with each other. .

本発明のタブレットの形状は、特に限定されず、円柱状、角柱状、円盤状、球状などの形状を含むが、トランスファー成形に一般的な円柱状が好ましい。   The shape of the tablet of the present invention is not particularly limited, and includes a columnar shape, a prismatic shape, a disk shape, a spherical shape, and the like, and a general columnar shape for transfer molding is preferable.

本発明の硬化性樹脂組成物タブレットに占める(E)成分および(F)成分の合計の割合(以下、充填率と言うことがある)としては、70〜95重量%であることが好ましい。充填率における(E)成分と(F)成分の配分については特に限定されず、自由に設定できる。   The total ratio of the component (E) and the component (F) in the curable resin composition tablet of the present invention (hereinafter sometimes referred to as a filling rate) is preferably 70 to 95% by weight. The distribution of the (E) component and the (F) component in the filling rate is not particularly limited and can be set freely.

充填率が70重量%以下であると、得られる硬化物の熱膨張率が大きくなって成形体の寸法変化が問題となることや、得られる硬化性樹脂組成物が硬いペースト状や粘土状となりタブレット化ができなくなる問題がある。充填率が95重量%以上であると、高温での粘度が高くなりすぎて成形性が低下することや、得られるタブレットが脆くなりすぎることがある。   When the filling rate is 70% by weight or less, the coefficient of thermal expansion of the resulting cured product becomes large, causing a problem of dimensional change of the molded product, and the resulting curable resin composition becomes a hard paste or clay. There is a problem that can not be tableted. When the filling rate is 95% by weight or more, the viscosity at high temperature becomes too high and the moldability may be lowered, and the resulting tablet may become too brittle.

本発明の硬化性樹脂組成物において、(A)成分および(B)成分の少なくとも一方が常温で液体であると、充填率が低い場合には、ペースト状や粘土状となりやすい。この場合、タブレットにはならないが高温での成形性は良好となりやすい傾向がある。一方、充填率が高い場合には、流動させる成分が少ないため、フレーク状や粉状になりやすい。これらは圧縮することでタブレット状に押し固めることが可能であるが、高温での流動性に乏しく成形性が低下しやすい傾向がある。これまで、充填率を単純に増加させていくだけでは、タブレット化と成形性を両立させることが困難であった。   In the curable resin composition of the present invention, when at least one of the component (A) and the component (B) is liquid at room temperature, it tends to be in the form of a paste or clay when the filling rate is low. In this case, the tablet does not become a tablet, but the moldability at high temperature tends to be good. On the other hand, when the filling rate is high, since there are few components to be flowed, it tends to be flaky or powdery. These can be compressed into a tablet shape by being compressed, but they tend to have poor fluidity at high temperatures and easily deteriorate moldability. Until now, it has been difficult to achieve both tableting and moldability by simply increasing the filling rate.

しかしながら本発明の硬化性樹脂組成物では、(E)成分および(F)成分を合計した粉体のうち、12μm以下の粒子の占める割合を40体積%以上とすることで、タブレット化と成形性を両立できることを見出した。   However, in the curable resin composition of the present invention, the proportion of particles of 12 μm or less in the total powder of the component (E) and the component (F) is 40% by volume or more, so that tableting and moldability are achieved. It was found that both can be achieved.

この理由としては推測ではあるが次のように考えられる。液体と粒子の混合系において、液体成分は粒子の表面を被覆していると考えられ、全ての粒子を被覆した余分の液体成分が変形に寄与していると思われる。そのため、充填率が同じであっても、小粒子の割合が多いほど総表面積が大きくなって被覆に費やされる液体成分が増加し、変形しにくくなっていると考えられる。液体の粘度は高温になると顕著に低下するため、高温では小粒子の割合に対する流動性の変化が小さいが、低温では粘度が高いために、小粒子が多いとペースト状や粘土状のように流動することができずにフレーク状や粉状になることが考えられる。   The reason for this is speculated as follows. In the mixed system of liquid and particles, it is considered that the liquid component covers the surface of the particle, and the extra liquid component covering all the particles seems to contribute to the deformation. For this reason, even if the filling rate is the same, the larger the proportion of small particles, the larger the total surface area and the more liquid components that are consumed for coating. Since the viscosity of the liquid decreases significantly at high temperatures, the change in fluidity with respect to the proportion of small particles is small at high temperatures, but the viscosity is high at low temperatures, so when there are many small particles, it flows like paste or clay. It can be considered that the flakes or powders cannot be obtained.

言い換えると、粒子中の小粒子の割合を増やすことで、硬化性樹脂組成物の高温での流動性を維持したまま、常温での状態を固くすることができることになる。このことは、常温で固体のエポキシ樹脂やシリコーン系樹脂を用いた文献(特開2008−112977号公報や、特開2009−155415号公報)、また、粒子の粒度分布まで言及せず平均粒径のみを記載している特許文献3からは想到できない。   In other words, by increasing the proportion of small particles in the particles, the state at room temperature can be hardened while maintaining the fluidity of the curable resin composition at high temperatures. This means that the average particle size without reference to the literature (Japanese Patent Laid-Open No. 2008-112977 or Japanese Patent Laid-Open No. 2009-155415) using an epoxy resin or a silicone resin that is solid at room temperature It cannot be conceived from Patent Document 3 which describes only the above.

(半導体のパッケージ)
本発明で言う半導体のパッケージとは、半導体素子あるいは/および外部取出し電極等を支持固定あるいは/および保護するために設けられた部材である。半導体素子を直接被覆せず、外部取り出し電極等を支持固定するものや発光ダイオードのリフレクターのような半導体素子の周囲や底面を形成するものであってもよい。
(Semiconductor package)
The semiconductor package referred to in the present invention is a member provided for supporting and / or protecting a semiconductor element or / and an external extraction electrode. The semiconductor element may not be directly covered but may be one that supports and fixes an external extraction electrode or the like, or that forms the periphery or bottom surface of a semiconductor element such as a light emitting diode reflector.

この場合の半導体素子としては各種のものが挙げられる。例えばIC、LSI等の集積回路、トランジスター、ダイオード、発光ダイオード等の素子の他、CCD等の受光素子等を挙げることができる。   In this case, various types of semiconductor elements can be mentioned. For example, an integrated circuit such as an IC or LSI, an element such as a transistor, a diode, or a light emitting diode, or a light receiving element such as a CCD can be used.

形状についても特定されないが、半導体のパッケージが実質的に金属の片面に樹脂が成形されている形状を有する場合(MAPタイプ)において特に本発明の効果が得られやすい。   Although the shape is not specified, the effect of the present invention is particularly easily obtained when the semiconductor package has a shape in which a resin is substantially molded on one side of a metal (MAP type).

尚、上記のように本発明の半導体のパッケージが半導体素子を直接被覆しないような場合などにおいては、さらに封止剤を用いて封止することもでき、例えば従来用いられるエポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ユリア樹脂、イミド樹脂等の封止樹脂を用いることができる。また、特開2002−80733、特開2002−88244で提案されているような、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個有する脂肪族系有機化合物、1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する化合物、およびヒドロシリル化触媒を含有する硬化性樹脂組成物からなる封止剤を用いてもよく、この封止剤を用いる方が、パッケージ樹脂との接着性が高いという点、および透明性が高く本発明のパッケージの耐光性が高いという効果が顕著であるという点において、好ましい。一方、樹脂封止を用いず、ガラス等でカバーしてハーメチック封止により封止することも可能である。   In addition, in the case where the semiconductor package of the present invention does not directly cover the semiconductor element as described above, it can be further sealed with a sealing agent, for example, a conventionally used epoxy resin, silicone resin, A sealing resin such as an acrylic resin, a urea resin, or an imide resin can be used. Further, aliphatic organic compounds having at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups as proposed in JP-A Nos. 2002-80733 and 2002-88244, A sealant made of a curable resin composition containing a compound having at least two SiH groups in the molecule and a hydrosilylation catalyst may be used. Adhesion with the package resin is better when this sealant is used. It is preferable in that it is highly effective and the effect of high transparency and high light resistance of the package of the present invention is remarkable. On the other hand, it is possible to cover with glass or the like and seal with hermetic sealing without using resin sealing.

また発光ダイオードや受光素子の場合などにおいてはさらにレンズを適用することも可能であり、封止剤をレンズ形状に成形してレンズ機能を持たせることも可能である。   Further, in the case of a light emitting diode or a light receiving element, a lens can be further applied, and a sealing agent can be molded into a lens shape to have a lens function.

(成形方法)
本発明で言う半導体パッケージの成形方法としては各種の方法が用いられる。例えば、射出成形、トランスファー成形、RIM成形、キャスティング成形、プレス成形、コンプレッション成形等、熱可塑性樹脂やエポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の熱硬化性樹脂に一般に用いられる各種成形方法が用いられる。これらの内、成形サイクルが短く成形性が良好であるという点においてはトランスファー成形が好ましい。成形条件も任意に設定可能であり、例えば成形温度についても任意であるが、硬化が速く成形サイクルが短く成形性が良好になりやすいという点においては100℃以上、より好ましくは120℃以上、さらに好ましくは150℃以上の温度が好ましい。上記のような各種方法によって成形した後、必要に応じて後硬化(アフターキュア)することも任意である。後硬化した方が耐熱性が高くなり易い。
(Molding method)
Various methods are used as a method for forming a semiconductor package in the present invention. For example, various molding methods generally used for thermosetting resins such as thermoplastic resins, epoxy resins, and silicone resins, such as injection molding, transfer molding, RIM molding, casting molding, press molding, compression molding, and the like are used. Of these, transfer molding is preferred in that the molding cycle is short and the moldability is good. The molding conditions can be arbitrarily set, for example, the molding temperature is also arbitrary. However, in terms of fast curing and a short molding cycle, the moldability tends to be good, more preferably 100 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher. A temperature of 150 ° C. or higher is preferable. After molding by the various methods as described above, post-curing (after-curing) is optional as required. Post-curing tends to increase the heat resistance.

成形は一定の温度で行ってもよいが、必要に応じて多段階あるいは連続的に温度を変化させてもよい。一定の温度で行うより多段階的あるいは連続的に温度を上昇させながら反応させた方が歪のない均一な硬化物が得られやすいという点において好ましい。また、一定温度で行う方が成形サイクルを短くできるという点において好ましい。   Molding may be performed at a constant temperature, but the temperature may be changed in multiple steps or continuously as required. It is preferable to carry out the reaction while raising the temperature in a multistage manner or continuously, as compared with the case where the temperature is constant, in that a uniform cured product without distortion can be easily obtained. Moreover, it is preferable to perform at a constant temperature in that the molding cycle can be shortened.

硬化時間も種々設定できるが、高温短時間で反応させるより、比較的低温長時間で反応させた方が歪のない均一な硬化物が得られやすいという点において好ましい。逆に、高温短時間で反応させる方が成形サイクルを短くできるという点において好ましい。   Although various curing times can be set, it is preferable to react at a relatively low temperature for a long time rather than reacting at a high temperature for a short time because a uniform cured product without distortion can be easily obtained. Conversely, the reaction at a high temperature in a short time is preferable in that the molding cycle can be shortened.

成形時の圧力も必要に応じ種々設定でき、常圧、高圧、あるいは減圧状態で成形することもできる。ボイドの発生を抑制したり、充填性をよくしたり、場合によって発生する揮発分を除きやすいという点においては、減圧状態で硬化させることが好ましい。成形体へのクラックを防止できるという点においては、加圧状態で硬化させることが好ましい。   The pressure at the time of molding can be variously set as required, and the molding can be performed at normal pressure, high pressure, or reduced pressure. It is preferable to cure under reduced pressure in terms of suppressing the generation of voids, improving the filling property, and easily removing volatile components generated in some cases. In terms of preventing cracks in the molded body, it is preferable to cure under pressure.

(発光ダイオードの用途)
本発明の半導体は従来公知の各種の用途に用いることができる。具体的には、ロジック、メモリーなどのLSI、各種センサー、受発光デバイスなどをあげることができる。また、半導体が発光ダイオードの場合も従来公知の各種の用途に用いることができる。具体的には、例えば液晶表示装置等のバックライト、照明、センサー光源、車両用計器光源、信号灯、表示灯、表示装置、面状発光体の光源、ディスプレイ、装飾、各種ライト等を挙げることができる。
(Application of light emitting diode)
The semiconductor of the present invention can be used for various known applications. Specific examples include LSIs such as logic and memory, various sensors, light emitting and receiving devices, and the like. Also, when the semiconductor is a light emitting diode, it can be used for various known applications. Specifically, for example, backlights such as liquid crystal display devices, illumination, sensor light sources, vehicle instrument light sources, signal lights, display lights, display devices, planar light source, display, decoration, various lights, etc. it can.

(反り)
本発明の硬化性樹脂組成物は、発光ダイオード用のリードフレームの片面に成形してパッケージとした場合の、パッケージの反りが±1.0mm以下であることが望ましい。
(warp)
The curable resin composition of the present invention desirably has a package warpage of ± 1.0 mm or less when formed into a package by molding on one side of a lead frame for a light emitting diode.

この場合の反りはJIS C 6481に記載の最大反りの測定方法に基づき測定される。半導体パッケージを一辺の中央で垂直に吊り下げ、その辺に平行に直定規を当てる。直定規は半導体パッケージの凹面に当て、直定規と半導体パッケージの基材面との最大の隔たりを金属製直尺で1.0mmの単位まで測定する。半導体パッケージの凹面に樹脂が成形されている場合は、直定規と半導体パッケージに成形された樹脂面との最大の隔たりを金属製直尺で1.0mmの単位まで測定し、その値から樹脂の厚み分を引いた値を、1.0mmの単位に四捨五入する。
他の辺についても順次測定し、最も大きな隔たりを反りとする。尚、反りの測定に用いる半導体パッケージは、実施例の(成型方法)で示した半導体パッケージを用いた。
The warpage in this case is measured based on the maximum warpage measuring method described in JIS C 6481. A semiconductor package is suspended vertically at the center of one side, and a straight ruler is applied parallel to that side. The straight ruler is applied to the concave surface of the semiconductor package, and the maximum distance between the straight ruler and the substrate surface of the semiconductor package is measured to a unit of 1.0 mm with a metal straight scale. If the resin is molded on the concave surface of the semiconductor package, measure the maximum distance between the straight ruler and the resin surface molded on the semiconductor package to a unit of 1.0 mm with a metal linear scale. The value obtained by subtracting the thickness is rounded off to the nearest 1.0 mm.
The other sides are also measured sequentially, and the greatest gap is warped. In addition, the semiconductor package shown by the (molding method) of an Example was used for the semiconductor package used for the measurement of curvature.

以下に、本発明の実施例および比較例を示すが、本発明は以下によって限定されるものではない。 Examples and Comparative Examples of the present invention are shown below, but the present invention is not limited to the following.

(合成例1)
5Lの四つ口フラスコに、攪拌装置、滴下漏斗、冷却管をセットした。このフラスコにトルエン1800g、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン1440gを入れ、120℃のオイルバス中で加熱、攪拌した。トリアリルイソシアヌレート200g、トルエン200g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)1.44mlの混合液を50分かけて滴下した。得られた溶液をそのまま6時間加温、攪拌した後、未反応の1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン及びトルエンを減圧留去した。1H−NMRの測定によりこのものは1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのSiH基の一部がトリアリルイソシアヌレートと反応した以下の構造を有するものであることがわかった。
(Synthesis Example 1)
A stirrer, a dropping funnel, and a condenser tube were set in a 5 L four-necked flask. Into this flask, 1800 g of toluene and 1440 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane were placed, heated and stirred in an oil bath at 120 ° C. A mixed solution of 200 g of triallyl isocyanurate, 200 g of toluene and 1.44 ml of a xylene solution of platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) was added dropwise over 50 minutes. The resulting solution was heated and stirred as it was for 6 hours, and unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane and toluene were distilled off under reduced pressure. 1 H-NMR measurement revealed that this had the following structure in which a part of the SiH group of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane reacted with triallyl isocyanurate.

Figure 2013079329
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(合成例2)
2Lオートクレーブにトルエン720g、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン240gを入れ、気相部を窒素で置換した後、ジャケット温50℃で加熱、攪拌した。アリルグリシジルエーテル171g、トルエン171g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)0.049gの混合液を90分かけて滴下した。滴下終了後にジャケット温を60℃に上げて40分反応、1H−NMRでアリル基の反応率が95%以上であることを確認した。トリアリルイソシアヌレート17g、トルエン17gの混合液を滴下した後、ジャケット温を105℃に上げて、トリアリルイソシアヌレート66g、トルエン66g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)0.033gの混合液を30分かけて滴下した。滴下終了から4時間後に1H−NMRでアリル基の反応率が95%以上であることを確認し、冷却により反応を終了した。1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの未反応率は0.8%だった。未反応の1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとトルエンとアリルグリシジルエーテルの副生物(アリルグリシジルエーテルのビニル基の内転移物(シス体およびトランス体))が合計5,000ppm以下となるまで減圧留去し、無色透明の液体を得た。1H−NMRの測定によりこのものは1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのSiH基の一部がアリルグリシジルエーテル及びトリアリルイソシアヌレートと反応したものであり平均的に以下の構造を有するものであることがわかった。
(Synthesis Example 2)
720 g of toluene and 240 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane were placed in a 2 L autoclave, the gas phase was replaced with nitrogen, and then heated and stirred at a jacket temperature of 50 ° C. A mixed solution of 171 g of allyl glycidyl ether, 171 g of toluene and 0.049 g of a xylene solution of platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) was added dropwise over 90 minutes. After completion of dropping, the jacket temperature was raised to 60 ° C. for 40 minutes, and 1 H-NMR confirmed that the reaction rate of allyl group was 95% or more. After dropwise addition of 17 g of triallyl isocyanurate and 17 g of toluene, the jacket temperature was raised to 105 ° C., and xylene solution of triallyl isocyanurate 66 g, toluene 66 g and a platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) 033 g of the mixed solution was added dropwise over 30 minutes. Four hours after the completion of the dropwise addition, it was confirmed by 1 H-NMR that the reaction rate of the allyl group was 95% or more, and the reaction was terminated by cooling. The unreacted rate of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane was 0.8%. The total amount of unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, toluene and allyl glycidyl ether by-products (inner transition products of allylic glycidyl ether vinyl group (cis- and trans-isomers)) is 5,000 ppm or less in total. The solution was distilled off under reduced pressure until a colorless and transparent liquid was obtained. As a result of 1 H-NMR measurement, this is one in which a part of SiH group of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane is reacted with allyl glycidyl ether and triallyl isocyanurate, and on average, the following structure It was found that

Figure 2013079329
Figure 2013079329

(a+b=3、c+d=3、e+f=3、a+c+e=3.5、b+d+f=5.5) (A + b = 3, c + d = 3, e + f = 3, a + c + e = 3.5, b + d + f = 5.5)

(合成例3) アクリル酸n−ブチル100部を脱酸素した。反応容器の内部を脱酸素し、臭化第一銅0.84部、脱酸素したアクリル酸n−ブチルのうち20部、アセトニトリル8.8部、2,5−ジブロモアジピン酸ジエチル1.8部を添加して80℃で混合した。これにペンタメチルジエチレントリアミン(以下、トリアミンと略す)0.017部を添加し、重合反応を開始した。残りのアクリル酸n−ブチル80部を逐次添加し、重合反応を進めた。重合途中、適宜トリアミンを追加して重合速度を調整し、内温を約80℃〜約90℃に調整しながら重合を進行させた。モノマー転化率(重合反応率)が約95%以上の時点で反応容器内を減圧にして揮発分を除去した。これにアセトニトリル35部、1,7−オクタジエン21部を添加して80℃で8時間撹拌した後、反応容器内を減圧にして揮発分を除去した。これを溶剤で希釈し、ろ過助剤を加えてろ過した。ろ液に対して吸着剤を添加して加熱撹拌後、濾過した。ろ液を濃縮した後、吸着剤存在下で約190℃に高温加熱し、脱ハロゲン化処理及び吸着処理を行った。これを溶剤で希釈してろ過した後、揮発分を減圧除去することで、両末端に炭素−炭素二重結合基を有するアクリル系重合体を得た。この重合体の数平均分子量は25000、分子量分布は1.3、重合体1分子当たりに導入された平均の炭素−炭素二重結合基数は2.0であった。
(配合例1〜2)
表1の内容に従って各成分を配合して組成物A及びBを調製した。
(Synthesis Example 3) 100 parts of n-butyl acrylate was deoxygenated. The inside of the reaction vessel was deoxygenated, 0.84 parts of cuprous bromide, 20 parts of deoxygenated n-butyl acrylate, 8.8 parts of acetonitrile, 1.8 parts of diethyl 2,5-dibromoadipate And mixed at 80 ° C. To this, 0.017 part of pentamethyldiethylenetriamine (hereinafter abbreviated as triamine) was added to initiate the polymerization reaction. The remaining 80 parts of n-butyl acrylate was sequentially added to proceed the polymerization reaction. During the polymerization, triamine was appropriately added to adjust the polymerization rate, and the polymerization was allowed to proceed while adjusting the internal temperature to about 80 ° C to about 90 ° C. When the monomer conversion rate (polymerization reaction rate) was about 95% or more, the inside of the reaction vessel was depressurized to remove volatile components. To this, 35 parts of acetonitrile and 21 parts of 1,7-octadiene were added and stirred at 80 ° C. for 8 hours, and then the inside of the reaction vessel was decompressed to remove volatile components. This was diluted with a solvent, filtered and added with a filter aid. An adsorbent was added to the filtrate, heated and stirred, and then filtered. After concentrating the filtrate, it was heated to about 190 ° C. in the presence of an adsorbent and subjected to dehalogenation treatment and adsorption treatment. After diluting this with a solvent and filtering, the volatile matter was removed under reduced pressure to obtain an acrylic polymer having carbon-carbon double bond groups at both ends. The number average molecular weight of this polymer was 25000, the molecular weight distribution was 1.3, and the average number of carbon-carbon double bond groups introduced per polymer molecule was 2.0.
(Formulation Examples 1-2)
Compositions A and B were prepared by blending each component according to the contents of Table 1.

Figure 2013079329
Figure 2013079329

Figure 2013079329
Figure 2013079329

(実施例1および比較例1)
表2に記載した各成分の配合量に従って、合計約100gになるように秤取り、下記の要領にて本発明の硬化性樹脂組成物を調製した。
別途調製した表1に記載の組成物A、B、および(D)成分の混合液をカップ状の容器に秤取り、あらかじめ混合しておいた(F)成分および(E)成分の混合粉体を少量ずつ加えてプラスチック製スパチュラで混練した。得られた硬化性樹脂組成物はやや湿った粉状であったが、丸棒状の冶具にて押し延ばした後、折り重ねて再度押し延ばす作業を繰り返すと、徐々に湿潤化してきて湿ったフレーク状に均一化した。
(Example 1 and Comparative Example 1)
According to the compounding amount of each component described in Table 2, the curable resin composition of the present invention was prepared according to the following procedure.
Separately prepared mixture of composition A, B and component (D) shown in Table 1 was weighed into a cup-shaped container, and mixed powder of component (F) and component (E) previously mixed Was added little by little and kneaded with a plastic spatula. The obtained curable resin composition was slightly moist powder, but after being stretched with a round bar-shaped jig and then repeatedly folded and stretched again, it gradually became wetted and moistened flakes. To be uniform.

(タブレット化)
作製した硬化性樹脂組成物を、金属製の杵と臼からなるタブレット製造冶具で圧縮してタブレットとした。
(Tablet)
The produced curable resin composition was compressed into a tablet by a tablet production jig composed of a metal punch and mortar.

具体的にはφ13mmの臼の中に実施例2及び比較例1で得られた白色コンパウンド(やや湿った粉状〜フレーク状)を所定量入れ、100kg/cm2の圧力で杵で上から5秒間圧縮することにより、所定体積のタブレットを得た。   Specifically, a predetermined amount of the white compound obtained in Example 2 and Comparative Example 1 (slightly moist powder to flake) is placed in a 13 mm diameter mortar, and boiled at a pressure of 100 kg / cm 2 for 5 seconds from above. The tablet of predetermined volume was obtained by compressing.

(測定例1)
硬化性樹脂組成物を170℃にてプレス成形し、得られた成形体をオーブン中で、180℃/1時間の条件で後硬化させた。このサンプルについて熱機械分析(TMA)を用いて線膨張係数を測定した。TMAの測定方法は、下記の通りである。
(Measurement Example 1)
The curable resin composition was press-molded at 170 ° C., and the obtained molded body was post-cured in an oven at 180 ° C./1 hour. The linear expansion coefficient of this sample was measured using thermomechanical analysis (TMA). The measuring method of TMA is as follows.

内寸法20×20×4.0mmの厚みに成形したタブレット状サンプルをダイヤモンドカッターで20×10×4.0mmに切断し、20mm方向についてBRUKER製 熱分析装置TMA4000SAを用いて、圧縮モードで昇温速度5℃/分にて280℃まで加熱、20分ホールド、室温まで冷却、と変化させたときの寸法変化を測定した。このデータから70〜180の範囲における、平均の線膨張係数αをそれぞれ求めた。   A tablet-like sample molded to a thickness of 20 × 20 × 4.0 mm is cut into a 20 × 10 × 4.0 mm with a diamond cutter, and the temperature is increased in a compression mode using a BRUKER thermal analyzer TMA4000SA in the 20 mm direction. The dimensional change was measured when changing to heating to 280 ° C. at a rate of 5 ° C./min, holding for 20 minutes, and cooling to room temperature. The average linear expansion coefficient α in the range of 70 to 180 was determined from this data.

表2に示されるとおり、本発明の硬化性樹脂組成物を用いれば、線膨張係数が小さいことがわかる。   As shown in Table 2, it can be seen that the linear expansion coefficient is small when the curable resin composition of the present invention is used.

(MAP品の成形方法)
Agメッキした縦50mm、横55mm、厚み0.25mmのCu製の発光ダイオード用リードフレームを準備する。成形後のMAP(Mold Array Package:半導体のパッケージが実質的に金属の片面に樹脂が成形されている形状を有するタイプ)は縦15列、横12列で合計180個のリフレクターが含まれる。各リフレクターは上面φ2.1mm、底面φ1.8mm(テーパー角度:15度)、高さ0.55mmで、横方向直径に沿って右端から0.45mmのところに幅0.20mmの本発明の硬化性樹脂組成物を硬化させた白色コンパウンドからなる電極スリットが縦に設けられている。各リフレクター間の間隔は縦横直径方向ともに1.1mmである。リードフレームおよび金型は、上記の要件を満足するリードフレーム付きリフレクターが作製できれば、特に制約はない。成形品の概念図を図1に示した。
(MAP product molding method)
An Ag-plated lead frame for a light emitting diode made of Cu having a length of 50 mm, a width of 55 mm, and a thickness of 0.25 mm is prepared. A molded MAP (Mold Array Package: a type in which a semiconductor package has a shape in which a resin is substantially formed on one side of a metal) includes a total of 180 reflectors in 15 rows and 12 rows. Each reflector has a top surface of 2.1 mm, a bottom surface of 1.8 mm (taper angle: 15 degrees), a height of 0.55 mm, a width of 0.20 mm from the right end along the transverse diameter, and a width of 0.20 mm. The electrode slit which consists of a white compound which hardened the conductive resin composition is provided vertically. The interval between the reflectors is 1.1 mm in both the vertical and horizontal diameter directions. The lead frame and the mold are not particularly limited as long as a reflector with a lead frame that satisfies the above requirements can be manufactured. A conceptual diagram of the molded product is shown in FIG.

トランスファー成形は、アピックヤマダ株式会社製G−Lineマニュアルプレスを用いて実施した。型締力30ton、注入圧力8MPa、注入速度3mm/s。白色コンパウンド5.0gを計量、円柱状に賦形(上記に記載したタブレット化)しシリンダー内へ装填し成形した。成形条件は、170℃、150秒とした。成形後、熱風オーブンにて180℃、1時間後硬化(アフターキュア)した。   Transfer molding was performed using a G-Line manual press manufactured by Apic Yamada Corporation. Clamping force 30 ton, injection pressure 8 MPa, injection speed 3 mm / s. A white compound (5.0 g) was weighed, shaped into a cylindrical shape (tablet as described above), loaded into a cylinder, and molded. The molding conditions were 170 ° C. and 150 seconds. After molding, it was post-cured (aftercured) at 180 ° C. for 1 hour in a hot air oven.

(反り)
MAP品の反りは成形部を上にして平滑な面に置いたとき、成形部が真横から見た状態凹になっている場合を順反り、凸になっている場合を逆反りと定義した。反りの程度はMAP品を平滑な面に置き、面から離れている4辺のうちで最も距離がある値(mm)を数値化した。
(warp)
When the molded part is placed on a smooth surface with the molded part facing up, the warp is defined as a forward warp when the molded part is concave when viewed from the side, and the reverse warp is defined as a convex part. As for the degree of warpage, the MAP product was placed on a smooth surface, and the value (mm) having the longest distance among the four sides away from the surface was quantified.

実施例1と比較例1を比較すると、特定の(A)成分及び(D)成分を組合わせた実施例1の場合に、反りが1.0mm以下の半導体パッケージが得られることがわかる。   Comparing Example 1 and Comparative Example 1, it can be seen that a semiconductor package having a warpage of 1.0 mm or less is obtained in Example 1 in which specific (A) component and (D) component are combined.

一方、比較例1は特許文献3に記載された構成になっているが、反りが大きく、生産ラインに適用するのは困難なことが分かる。   On the other hand, although the comparative example 1 is the structure described in patent document 3, it turns out that curvature is large and it is difficult to apply to a production line.

(耐久試験用の平板の作製)
表2の硬化性樹脂組成物を、PETフィルムを離型フィルムとし、内寸法が80mmx50mmであり厚み0.5mmのステンレス鋼(SUS304)製の長方形型枠を用いて、170℃/3分の条件でプレス成形した。作成した長方形板状のプレス成形体をオーブン中で180℃/1時間の条件で後硬化させた。
(Preparation of flat plate for durability test)
The conditions of 170 ° C./3 minutes using a rectangular mold made of stainless steel (SUS304) having a PET film as a release film, an internal dimension of 80 mm × 50 mm, and a thickness of 0.5 mm, for the curable resin composition of Table 2. And press-molded. The formed rectangular plate-shaped press-molded body was post-cured in an oven at 180 ° C./1 hour.

(耐久試験)
耐久試験として、下記の方法により耐熱試験、及び耐光試験を行った。なお、耐久試験前にサンプルの波長460nm及び480nmの分光反射率を測定し、初期反射率とした。
(An endurance test)
As the durability test, a heat resistance test and a light resistance test were performed by the following methods. Before the endurance test, the spectral reflectance of the sample at wavelengths of 460 nm and 480 nm was measured and used as the initial reflectance.

(耐熱試験)
上記の通り作製したサンプルを、180℃に温度設定した対流式オーブン内(空気中)で24時間養生した。その後、波長460nm及び480nmの分光反射率を測定した。
(Heat resistance test)
The sample produced as described above was cured for 24 hours in a convection oven (in air) set at 180 ° C. Thereafter, spectral reflectances at wavelengths of 460 nm and 480 nm were measured.

(耐光試験:メタリング)
スガ試験機(株)製、メタリングウェザーメーター(形式M6T)を用いた。上記の通り作成したサンプルを、ブラックパネル温度120℃、放射照度0.53kW/mで、積算放射照度50MJ/mまで照射し、その後、波長460nm及び480nmの分光反射率を測定した。
(Light resistance test: Metalling)
A metering weather meter (model M6T) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. was used. The samples prepared as described above, black panel temperature 120 ° C., irradiance 0.53 kW / m 2, was irradiated to the integrated irradiance 50 MJ / m 2, followed by measuring the spectral reflectance of the wavelength 460nm and 480 nm.

Claims (33)

(A)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する分子量1000未満の有機化合物、
(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物、
(C)ヒドロシリル化触媒、
(D)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも1個含有する分子量1000以上の(メタ)アクリル系重合体、
(E)無機充填材、
を必須成分として含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。
(A) an organic compound having a molecular weight of less than 1000 and containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups in one molecule;
(B) a compound containing at least two SiH groups in one molecule;
(C) a hydrosilylation catalyst,
(D) a (meth) acrylic polymer having a molecular weight of 1000 or more and containing at least one carbon-carbon double bond having reactivity with a SiH group in one molecule;
(E) inorganic filler,
Is contained as an essential component. Curable resin composition characterized by the above-mentioned.
(D)成分がビニル基を末端に有する(メタ)アクリル系重合体である請求項1に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 1, wherein the component (D) is a (meth) acrylic polymer having a vinyl group at the terminal. (D)成分がアクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸セチルからなる群より選ばれる少なくとも1種のモノマーから構成され、重量平均分子量が5,000以上100,000以下であることを特徴とする請求項2に記載の硬化性樹脂組成物。 The component (D) is composed of at least one monomer selected from the group consisting of ethyl acrylate, butyl acrylate, isobutyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, and cetyl acrylate, and has a weight average molecular weight of 5,000. The curable resin composition according to claim 2, wherein the curable resin composition is 100,000 or less. (D)成分を構成するモノマーの50mol%以上がアクリル酸ブチルであることを特徴とする請求項3に記載の硬化性組成物。 (D) 50 mol% or more of the monomer which comprises a component is butyl acrylate, The curable composition of Claim 3 characterized by the above-mentioned. (D)成分が直鎖状骨格であり、分子鎖の両末端にビニル基を有することを特徴とする請求項3あるいは請求項4のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 3 or 4, wherein the component (D) is a linear skeleton and has vinyl groups at both ends of the molecular chain. (E)成分が球状シリカである請求項1〜5のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 (E) A component is spherical silica, The curable resin composition of any one of Claims 1-5. 更に(F)白色顔料を含有する請求項1〜6のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 Furthermore, (F) Curable resin composition of any one of Claims 1-6 containing a white pigment. (F)成分の平均粒子径が1.0μm以下である請求項7に記載の硬化性樹脂組成物。 The average particle diameter of (F) component is 1.0 micrometer or less, The curable resin composition of Claim 7. (F)成分が酸化チタンである請求項7または8に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 7 or 8, wherein the component (F) is titanium oxide. (F)成分が有機シロキサンにより表面処理された酸化チタンである請求項9に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 9, wherein the component (F) is titanium oxide surface-treated with an organosiloxane. (F)成分が無機化合物で表面処理された酸化チタンである請求項9に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 9, wherein the component (F) is titanium oxide surface-treated with an inorganic compound. (F)成分がアルミニウム化合物で表面処理されている請求項11に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 11, wherein the component (F) is surface-treated with an aluminum compound. (F)成分が酸化亜鉛、酸化ジルコニア、酸化ストロンチウム、酸化ニオブ、窒化ホウ素、チタン酸バリウム及び硫酸バリウムから選ばれる少なくとも一種である請求項7または8に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 7 or 8, wherein the component (F) is at least one selected from zinc oxide, zirconia oxide, strontium oxide, niobium oxide, boron nitride, barium titanate and barium sulfate. 更に、(G)金属石鹸を含有する請求項1〜13のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 Furthermore, the curable resin composition of any one of Claims 1-13 containing (G) metal soap. (G)成分がステアリン酸金属塩である請求項14に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 14, wherein the component (G) is a metal stearate. (G)成分がステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸アルミニウムからなる群より選択される1つ以上である請求項15に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 15, wherein the component (G) is one or more selected from the group consisting of calcium stearate, magnesium stearate, zinc stearate, and aluminum stearate. (A)成分および(B)成分の合計の重量に対する(D)成分の重量が30重量%以上である請求項1〜16のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The weight of (D) component with respect to the total weight of (A) component and (B) component is 30 weight% or more, The curable resin composition of any one of Claims 1-16. 硬化性樹脂組成物全体に占める(E)成分及び(F)成分の合計の量が70重量%以上である請求項1〜17のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 1 to 17, wherein the total amount of the component (E) and the component (F) in the entire curable resin composition is 70% by weight or more. 硬化性樹脂組成物全体に占める(F)成分の含有量が10重量%以上である請求項7〜18のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 19. The curable resin composition according to claim 7, wherein the content of the component (F) in the entire curable resin composition is 10% by weight or more. 硬化性樹脂組成物全体に占める(G)成分の含有量が0.01〜5重量%である請求項14〜19のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The content of the component (G) in the entire curable resin composition is 0.01 to 5% by weight, The curable resin composition according to any one of claims 14 to 19. 硬化後の460nm及び480nmにおける分光反射率が80R%以上であり、180℃72時間の耐熱試験後の分光反射率の保持率(耐熱試験後の分光反射率/初期の分光反射率×100)が90%以上である請求項1〜20のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 Spectral reflectance at 460 nm and 480 nm after curing is 80 R% or more, and retention ratio of spectral reflectance after heat resistance test at 180 ° C. for 72 hours (spectral reflectance after heat resistance test / initial spectral reflectance × 100) is It is 90% or more, The curable resin composition of any one of Claims 1-20. 硬化させてなる成形体の表面の波長470nm480nmの分光反射率が90%以上である請求項1〜21のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 1 to 21, wherein a spectral reflectance at a wavelength of 470 nm and 480 nm on the surface of the molded product obtained by curing is 90% or more. 発光ダイオード用のリードフレームの片面に成形してパッケージとした場合の、パッケージの反りが±1.0mm以下である請求項1〜22のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 1 to 22, wherein the package warpage is ± 1.0 mm or less when the package is formed on one side of a lead frame for a light emitting diode. 半導体のパッケージに用いられる請求項1〜23のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 1 to 23, which is used for a semiconductor package. 請求項1〜24のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物のうち、(F)白色顔料を必須成分として含有する硬化性樹脂組成物からなるタブレットであって、
(A)成分および(B)成分の少なくとも一方が23℃における粘度が50Pa秒以下の液体であり、
(E)成分と(F)成分の合計の含有量が70〜95重量%であり、
(E)成分と(F)成分の合計に占める12μm以下の粒子の割合が40体積%以上であることを特徴とする硬化性樹脂組成物タブレット。
Of the curable resin composition according to any one of claims 1 to 24, (F) a tablet comprising a curable resin composition containing a white pigment as an essential component,
At least one of component (A) and component (B) is a liquid having a viscosity at 23 ° C. of 50 Pa seconds or less,
The total content of the component (E) and the component (F) is 70 to 95% by weight,
The ratio of the particle | grains of 12 micrometers or less to the sum total of (E) component and (F) component is 40 volume% or more, The curable resin composition tablet characterized by the above-mentioned.
請求項1〜23のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物を硬化してなり、表面の波長480nmの分光反射率が90%以上であることを特徴とする成形体。 24. A molded article obtained by curing the curable resin composition according to any one of claims 1 to 23, and having a spectral reflectance of 90% or more at a surface wavelength of 480 nm. 請求項24に記載の硬化性樹脂組成物を用いて成形したことを特徴とする半導体のパッケージ。 A semiconductor package formed using the curable resin composition according to claim 24. 請求項24に記載の硬化性樹脂組成物を用いて金属と一体成形したことを特徴とする半導体のパッケージ。 A semiconductor package, which is integrally formed with a metal using the curable resin composition according to claim 24. 硬化性樹脂組成物とリードフレームとをトランスファーモールドにより一体成形した請求項27または28に記載の半導体のパッケージ。 29. The semiconductor package according to claim 27 or 28, wherein the curable resin composition and the lead frame are integrally formed by transfer molding. 半導体のパッケージが実質的に金属の片面に樹脂が成形されてなるパッケージである、請求項27〜29のいずれか1項に記載の半導体のパッケージ。 30. The semiconductor package according to any one of claims 27 to 29, wherein the semiconductor package is a package formed by substantially molding a resin on one side of a metal. 請求項24に記載の硬化性樹脂組成物を用いてトランスファー成形されたことを特徴とする半導体のパッケージ。 A semiconductor package, which is transfer molded using the curable resin composition according to claim 24. 請求項27〜31のいずれか1項に記載の半導体のパッケージを用いて製造された半導体部品。 A semiconductor component manufactured using the semiconductor package according to claim 27. 請求項27〜31のいずれか1項に記載の半導体のパッケージを用いて製造された発光ダイオード。




32. A light-emitting diode manufactured using the semiconductor package according to claim 27.




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