JP2003031726A - Method for manufacturing semiconductor device - Google Patents

Method for manufacturing semiconductor device

Info

Publication number
JP2003031726A
JP2003031726A JP2001210346A JP2001210346A JP2003031726A JP 2003031726 A JP2003031726 A JP 2003031726A JP 2001210346 A JP2001210346 A JP 2001210346A JP 2001210346 A JP2001210346 A JP 2001210346A JP 2003031726 A JP2003031726 A JP 2003031726A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tape carrier
tape
sprocket
substrate
semiconductor chip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001210346A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsukasa Sato
司 佐藤
Shinichi Kimura
新一 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Akita Electronics Systems Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Akita Electronics Systems Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Akita Electronics Systems Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2001210346A priority Critical patent/JP2003031726A/en
Publication of JP2003031726A publication Critical patent/JP2003031726A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve efficiency in the production of a semiconductor device by preventing a defect or damage when conveying a tape carrier. SOLUTION: A potting device for sealing the semiconductor device such as micro BGA with a resin is provided with a sprocket 8a composed of a sprocket roller 8a1 and holding rollers 8a2 and 8a3 . In the sprocket roller 8a1 , a gear is fitted into a sprocket hole on a tape carrier TC and rotated and the tape carrier TC is conveyed. Under the sprocket roller 8a1 , the holding rollers 8a2 and 8a3 are provided for guiding the tape carrier TC. These rollers are respectively provided at an interval between the upstream side and the downstream side in the conveying direction of the tape carrier TC, so that 4 or 5 pieces of gears in the sprocket roller 8a1 are engaged into the sprocket hole on the tape carrier TC.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
方法に関し、特に、CSP(Chip SizePac
kage)形半導体装置の封止に適用して有効な技術に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device, and more particularly to a CSP (Chip SizePac).
The present invention relates to a technique effectively applied to the encapsulation of a (kage) type semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】たとえば、半導体チップとほぼ同じ外径
寸法のパッケージであるCSP形の半導体装置では、半
導体チップを搭載する基板としてポリイミドなどの樹脂
テープに配線リードが繰り返し形成されたテープキャリ
アが用いられている。
2. Description of the Related Art For example, in a CSP type semiconductor device which is a package having substantially the same outer diameter as a semiconductor chip, a tape carrier in which wiring leads are repeatedly formed on a resin tape such as polyimide is used as a substrate for mounting the semiconductor chip. Has been.

【0003】このCSP形半導体装置の製造装置とし
て、半導体チップ、およびその周辺部をポッティング樹
脂によってポッティングするポッティング装置が知られ
ている。
As a manufacturing apparatus of this CSP type semiconductor device, a potting device for potting a semiconductor chip and its peripheral portion with a potting resin is known.

【0004】ポッティング装置には、半導体チップが搭
載されたテープキャリアを搬送するテープ搬送用のスプ
ロケットローラが設けられている。このスプロケットロ
ーラには、たとえば、エンボリュート型の歯車が設けら
れている。スプロケットローラの直下には、該スプロケ
ットローラの歯車をテープキャリアのスプロケットロー
ラに押し込む受けローラが設けられている。
The potting device is provided with a sprocket roller for transporting a tape, which transports a tape carrier on which a semiconductor chip is mounted. This sprocket roller is provided with, for example, an embossed gear. Immediately below the sprocket roller, a receiving roller for pushing the gear of the sprocket roller into the sprocket roller of the tape carrier is provided.

【0005】そして、テープキャリアの長手方向の両側
に設けられた該テープキャリアを搬送するためのスプロ
ケットホールにスプロケットローラの歯車をはめ込み、
一定の角度だけ回転させることで高精度に樹脂テープを
搬送する。
Then, the gears of the sprocket rollers are fitted in the sprocket holes provided on both sides of the tape carrier in the longitudinal direction for conveying the tape carrier,
The resin tape is conveyed with high accuracy by rotating it by a certain angle.

【0006】なお、この種の半導体装置について詳しく
述べてある例としては、1993年5月31日、日経B
P社発行、香山 晋(監修)、「VLSIパッケージン
グ技術(下)」P173〜P178があり、この文献に
は、BGA(Ball Grid Array)形半導
体装置の構成などが記載されている。
Incidentally, as an example in which this kind of semiconductor device is described in detail, Nikkei B, May 31, 1993.
Published by Company P, Susumu Kayama (supervised), "VLSI packaging technology (bottom)" P173 to P178, and this document describes the configuration of a BGA (Ball Grid Array) type semiconductor device.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
なテープキャリアの搬送技術では、次のような問題点が
あることが本発明者により見い出された。
However, the inventors of the present invention have found that the above-described tape carrier transport technique has the following problems.

【0008】すなわち、スプロケットローラの直下に設
けられた受けローラは、テープキャリアを確実に送りた
い理由からスプロケットローラに対して強く押し込むよ
うに設定されおり、テープキャリアの変形などが生じる
恐れがある。
That is, the receiving roller provided directly below the sprocket roller is set so as to be pushed strongly against the sprocket roller for the purpose of reliably feeding the tape carrier, which may cause deformation of the tape carrier.

【0009】また、製造装置のスペースの制約などから
スプロケットローラを大径化することができない場合、
該スプロケットローラの歯車数が少なくなることに伴
い、テープキャリアのスプロケットホールにはめ込まれ
る歯車数も少なくなってしまい、テープキャリアの送り
不良、はずれ、あるいは破損(パーフォレーション切
れ)などが生じてしまい、半導体装置の製造効率を低下
させてしまうという問題がある。
When it is impossible to increase the diameter of the sprocket roller due to the space limitation of the manufacturing apparatus,
As the number of gears of the sprocket roller decreases, the number of gears fitted in the sprocket holes of the tape carrier also decreases, and the tape carrier may be improperly fed, come off, or be damaged (perforation breakage). There is a problem that the manufacturing efficiency of the device is reduced.

【0010】本発明の目的は、テープキャリアの搬送時
における不良や破損などを防止し、半導体装置の製造効
率を向上することのできる半導体装置の製造方法を提供
することにある。
It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a semiconductor device, which can prevent defects and damage during the transportation of the tape carrier and improve the manufacturing efficiency of the semiconductor device.

【0011】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Among the inventions disclosed in the present application, a brief description will be given to the outline of typical ones.
It is as follows.

【0013】すなわち、本発明の半導体装置の製造方法
は、テープ基板が繰り返し形成されたテープキャリアを
準備する工程と、該テープキャリアのテープ基板に形成
された基板電極に対応するチップ電極が形成された半導
体チップを準備する工程と、テープ基板に半導体チップ
を搭載し、テープ基板の基板電極と半導体チップのチッ
プ電極とを接続する工程と、テープキャリアに設けられ
たスプロケットホールにかみ合ってテープキャリアを搬
送するスプロケットローラと、テープキャリアの搬送方
向の上流側と下流側とに設けられ、テープキャリアを介
してスプロケットローラに接触し、テープキャリアをガ
イドする2つの受けローラとを備え、テープキャリアを
搬送する際にはスプロケットローラを回転駆動させるポ
ッティング装置を用いて、半導体チップが搭載されたテ
ープ基板を樹脂により封止し、加熱して樹脂を硬化させ
る工程とを有するものである。
That is, in the method for manufacturing a semiconductor device of the present invention, a step of preparing a tape carrier on which a tape substrate is repeatedly formed and a chip electrode corresponding to the substrate electrode formed on the tape substrate of the tape carrier are formed. The step of preparing the semiconductor chip, the step of mounting the semiconductor chip on the tape substrate, connecting the substrate electrode of the tape substrate and the chip electrode of the semiconductor chip, and engaging the sprocket hole provided on the tape carrier to form the tape carrier. The tape carrier is equipped with a sprocket roller for carrying, and two receiving rollers provided on the upstream side and the downstream side in the carrying direction of the tape carrier, contacting the sprocket roller via the tape carrier and guiding the tape carrier. A potting device that drives the sprocket roller to rotate. There are, a tape substrate on which a semiconductor chip is mounted is sealed with a resin, and a step for heating to cure the resin.

【0014】また、本発明の半導体装置の製造方法は、
テープ基板が繰り返し形成されたテープキャリアを準備
する工程と、該テープキャリアのテープ基板に形成され
た基板電極に対応するチップ電極が形成された半導体チ
ップを準備する工程と、テープ基板に半導体チップを搭
載し、テープ基板の基板電極と半導体チップのチップ電
極とを接続する工程と、テープキャリアに設けられたス
プロケットホールにかみ合ってテープキャリアを搬送す
るスプロケットローラと、テープキャリアの搬送方向の
上流側と下流側とに設けられ、テープキャリアを介して
スプロケットローラに接触し、テープキャリアをガイド
する2つの受けローラとを備え、それら2つの受けロー
ラは、4個以上のスプロケットローラの歯車がテープキ
ャリアのスプロケットホールにはめ込まれる間隔に設け
られ、テープキャリアを搬送する際にはスプロケットロ
ーラを回転駆動させるポッティング装置を用いて、半導
体チップが搭載されたテープ基板を樹脂により封止し、
加熱して樹脂を硬化させる工程とを有するものである。
The method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention is
A step of preparing a tape carrier on which a tape substrate is repeatedly formed; a step of preparing a semiconductor chip on which a chip electrode corresponding to a substrate electrode formed on the tape substrate of the tape carrier is prepared; The step of mounting and connecting the substrate electrode of the tape substrate and the chip electrode of the semiconductor chip, the sprocket roller that engages with the sprocket hole provided in the tape carrier to convey the tape carrier, and the upstream side in the conveying direction of the tape carrier. And two receiving rollers that are provided on the downstream side and that contact the sprocket roller via the tape carrier and guide the tape carrier. These two receiving rollers have four or more sprocket roller gears of the tape carrier. The tape cassettes are installed at intervals that fit into the sprocket holes. In transporting the A by using a potting apparatus that rotationally drives the sprocket roller, the tape substrate in which a semiconductor chip is mounted is sealed with a resin,
And a step of curing the resin by heating.

【0015】さらに、本発明の半導体装置の製造方法
は、テープ基板が繰り返し形成されたテープキャリアを
準備する工程と、該テープキャリアのテープ基板に形成
された基板電極に対応するチップ電極が形成された半導
体チップを準備する工程と、テープ基板に半導体チップ
を搭載し、テープ基板の基板電極と半導体チップのチッ
プ電極とを接続する工程と、テープキャリアに設けられ
たスプロケットホールにかみ合ってテープキャリアを搬
送するスプロケットローラと、テープキャリアの搬送方
向の上流側と下流側とに設けられ、テープキャリアを介
してスプロケットローラに接触し、テープキャリアをガ
イドする2つの受けローラとを備え、それら2つの受け
ローラは、4個または5個のスプロケットローラの歯車
がテープキャリアのスプロケットホールにはめ込まれる
間隔に設けられ、テープキャリアを搬送する際にはスプ
ロケットローラを回転駆動させるポッティング装置を用
いて、半導体チップが搭載されたテープ基板を樹脂によ
り封止し、加熱して樹脂を硬化させる工程とを有するも
のである。
Further, in the method for manufacturing a semiconductor device of the present invention, a step of preparing a tape carrier on which a tape substrate is repeatedly formed and a chip electrode corresponding to a substrate electrode formed on the tape substrate of the tape carrier are formed. The step of preparing the semiconductor chip, the step of mounting the semiconductor chip on the tape substrate, connecting the substrate electrode of the tape substrate and the chip electrode of the semiconductor chip, and engaging the sprocket hole provided on the tape carrier to form the tape carrier. The sprocket roller for transporting and two receiving rollers provided on the upstream side and the downstream side in the transporting direction of the tape carrier for contacting the sprocket roller via the tape carrier and guiding the tape carrier are provided. The rollers consist of four or five sprocket roller gears with tape carrier A tape substrate with semiconductor chips mounted is sealed with resin using a potting device that is installed in the sprocket hole and rotates the sprocket roller when the tape carrier is transported. And a step of curing the resin.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0017】図1は、本発明の一実施の形態による半導
体装置の断面図、図2、図3は、図1の半導体装置の製
造工程の説明図、図4は、図1の半導体装置における製
造工程のフローチャート、図5は、本発明の一実施の形
態によるポッティング装置の説明図、図6は、図5のポ
ッティング装置に設けられたスプロケット部の説明図で
ある。
FIG. 1 is a sectional view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, FIGS. 2 and 3 are explanatory views of a manufacturing process of the semiconductor device of FIG. 1, and FIG. 4 is a view of the semiconductor device of FIG. 5 is a flow chart of the manufacturing process, FIG. 5 is an explanatory view of the potting device according to one embodiment of the present invention, and FIG. 6 is an explanatory view of a sprocket part provided in the potting device of FIG.

【0018】本実施の形態において、半導体装置1は、
表面実装型の1つであるマイクロBGAである。半導体
装置1には、図1に示すように、テープ基板2が設けら
れている。
In the present embodiment, the semiconductor device 1 is
It is a micro BGA that is one of the surface mount types. As shown in FIG. 1, the semiconductor device 1 is provided with a tape substrate 2.

【0019】このテープ基板2は、フレキシブル配線基
板であり、たとえば、ポリイミドからなるテープ状の樹
脂フィルム2aの上面に接着材を介して配線リード2b
が形成されている。
This tape substrate 2 is a flexible wiring substrate, and for example, wiring leads 2b are formed on the upper surface of a tape-shaped resin film 2a made of polyimide via an adhesive material.
Are formed.

【0020】配線リード2bの一方の端部は、テープ基
板2の外周部近傍に延在し、半導体チップ3のボンディ
ングパッド(チップ電極)3aが接続されるインナリー
ド(基板電極)となっている。
One end of the wiring lead 2b extends in the vicinity of the outer peripheral portion of the tape substrate 2 and serves as an inner lead (substrate electrode) to which the bonding pad (chip electrode) 3a of the semiconductor chip 3 is connected. .

【0021】また、テープ基板2の裏面(半導体装置実
装面)には、電極部2cが所定のピッチでアレイ状に形
成されており、これら電極部2cには、所定の配線リー
ド2bの他方の端部がそれぞれ電気的に接続されてい
る。
Further, on the back surface (semiconductor device mounting surface) of the tape substrate 2, electrode portions 2c are formed in an array at a predetermined pitch, and these electrode portions 2c have the other of the predetermined wiring leads 2b. The ends are electrically connected to each other.

【0022】インナリードを除く配線リード2bの上面
には、弾性材であるエラストマ2dが設けられており、
このエラストマ2dを介して半導体チップ3が搭載され
ている。
An elastomer 2d, which is an elastic material, is provided on the upper surface of the wiring lead 2b excluding the inner lead.
The semiconductor chip 3 is mounted via the elastomer 2d.

【0023】この半導体チップ3の外周部近傍には、ボ
ンディングパッド3aが設けられており、該ボンディン
グパッド3aと配線リード2bのインナリードとがそれ
ぞれ接続されている。
Bonding pads 3a are provided near the outer peripheral portion of the semiconductor chip 3, and the bonding pads 3a and the inner leads of the wiring leads 2b are connected to each other.

【0024】半導体チップ3のボンディングパッド3
a、配線リード2bのインナリード、ならびにその周辺
部には、レジンなどの樹脂4がポッティングされて封止
されている。
Bonding pad 3 of semiconductor chip 3
A resin 4 such as a resin is potted and sealed on a, the inner lead of the wiring lead 2b, and the peripheral portion thereof.

【0025】さらに、テープ基板2の電極部2cには、
球状のはんだバンプ5がそれぞれ形成されている。これ
らはんだバンプ5は、半導体装置1の外部端子となり、
該半導体装置1を実装する際には、電子部品などが実装
される実装基板に形成されたランドなどの電極に重合さ
せて搭載し、リフローを行うことにより電気的に接続さ
れる。
Further, in the electrode portion 2c of the tape substrate 2,
Each of the spherical solder bumps 5 is formed. These solder bumps 5 become external terminals of the semiconductor device 1,
When the semiconductor device 1 is mounted, the semiconductor device 1 is electrically connected by being superposed on an electrode such as a land formed on a mounting substrate on which an electronic component or the like is mounted and then reflowed.

【0026】次に、本実施の形態における半導体装置の
製造工程について、図1、および図2、図3の半導体装
置の製造工程の説明図、図4のフローチャート、図5の
ポッティング装置の説明図、図6のポッティング装置に
設けられたスプロケット部の説明図を用いて説明する。
Next, regarding the manufacturing process of the semiconductor device in the present embodiment, an explanatory view of the manufacturing process of the semiconductor device of FIGS. 1, 2 and 3, a flow chart of FIG. 4, and an explanatory view of the potting device of FIG. 6 will be described with reference to the explanatory view of the sprocket portion provided in the potting device of FIG.

【0027】まず、テープ基板2が繰り返し形成された
テープキャリアTC、ならびにテープ基板2に搭載され
る半導体チップ3をそれぞれ準備する(ステップS10
1)。
First, the tape carrier TC on which the tape substrate 2 is repeatedly formed and the semiconductor chip 3 mounted on the tape substrate 2 are prepared (step S10).
1).

【0028】そして、図2に示すように、テープキャリ
アTCにおけるテープ基板2上に半導体チップ3を搭載
する(ステップS102)。その後、図3に示すよう
に、半導体チップ3に形成されたボンディングパッド3
aとテープ基板2に形成された配線リード2bのインナ
リードとを加熱圧着などによってそれぞれ接続する(ス
テップS103)。
Then, as shown in FIG. 2, the semiconductor chip 3 is mounted on the tape substrate 2 of the tape carrier TC (step S102). Then, as shown in FIG. 3, the bonding pad 3 formed on the semiconductor chip 3
a and the inner lead of the wiring lead 2b formed on the tape substrate 2 are connected by thermocompression bonding or the like (step S103).

【0029】インナリードのボンディングが終了する
と、テープ基板2のインナリード、ならびにその周辺部
に液状の樹脂4をポッティングして塗布し、インナリー
ド、半導体チップ3のボンディングパッド3a、および
その側面などを封止する(ステップS104)。
When the inner lead bonding is completed, the liquid resin 4 is potted and applied to the inner lead of the tape substrate 2 and the peripheral portion thereof, and the inner lead, the bonding pad 3a of the semiconductor chip 3, and the side surface thereof are applied. It is sealed (step S104).

【0030】ここで、樹脂4を塗布するポッティング装
置6について説明する。
Here, the potting device 6 for applying the resin 4 will be described.

【0031】ポッティング装置6は、図5に示すよう
に、左側から右側にかけて、ローダ7、ポッティング部
8、ベーク炉9、モニタ部10、ならびにアンローダ1
1が設けられている。
As shown in FIG. 5, the potting device 6 extends from the left side to the right side of the loader 7, the potting section 8, the baking furnace 9, the monitor section 10, and the unloader 1.
1 is provided.

【0032】ローダ7には、リール7aが収納されてい
る。リール7aには、ステップS102の処理において
半導体チップ3が搭載されたテープキャリアTCが巻き
取られている。
The loader 7 contains a reel 7a. The tape carrier TC on which the semiconductor chip 3 is mounted in the process of step S102 is wound around the reel 7a.

【0033】ポッティング部8には、スプロケット部8
a、ならびに塗布機構8b,8cが設けられている。ス
プロケット部8aは、テープキャリアTCを搬送する。
塗布機構8b,8cは、ノズル先端から液状の樹脂4を
滴下して塗布し、半導体チップ3のボンディングパッド
3a、ならびに配線リード2bのインナリード周辺をポ
ッティング封止する。
The potting portion 8 includes a sprocket portion 8
a and coating mechanisms 8b and 8c are provided. The sprocket part 8a carries the tape carrier TC.
The coating mechanisms 8b and 8c drop and apply the liquid resin 4 from the tip of the nozzle, and potting-seal the bonding pad 3a of the semiconductor chip 3 and the periphery of the inner lead of the wiring lead 2b.

【0034】ベーク炉9は、樹脂4がポッティングされ
たテープキャリアTCをある温度まで加熱し、該ポッテ
ィング樹脂の硬化を促進する。このベーク炉9には、反
転プーリ9a,9bがそれぞれ設けられており、これら
反転プーリ9a,9bによってテープキャリアTCの搬
送方向が反転され、該テープキャリアTCのベーク時間
を稼いでいる。
The bake oven 9 heats the tape carrier TC on which the resin 4 is potted to a certain temperature to accelerate the curing of the potting resin. The bake oven 9 is provided with reversing pulleys 9a and 9b, respectively, and the reversing pulleys 9a and 9b reverse the transport direction of the tape carrier TC, thereby increasing the baking time of the tape carrier TC.

【0035】さらに、反転プーリ9bには、ダンサ9c
が設けられている。このダンサ9cは、搬送されるテー
プキャリアTCのテンションを調整するおもりである。
Further, the reversing pulley 9b includes a dancer 9c.
Is provided. The dancer 9c is a weight that adjusts the tension of the tape carrier TC that is transported.

【0036】モニタ部10には、スプロケット部10
a、ならびにモニタ用カメラなどが設けられている。こ
のモニタ部10は、前述したモニタ用カメラによってベ
ーキングが終了したポッティング封止の状態をモニタす
る。スプロケット部10aは、前述したスプロケット部
8aと同様にテープキャリアTCを搬送する。
The monitor unit 10 includes a sprocket unit 10
a, a monitor camera and the like are provided. The monitor unit 10 monitors the potting-sealed state after baking is completed by the monitor camera. The sprocket part 10a carries the tape carrier TC similarly to the sprocket part 8a described above.

【0037】アンローダ11は、樹脂4のポッティング
封止が終了したテープキャリアTCを収納する。アンロ
ーダ11にはリール11aが収納されており、このリー
ル11aによってテープキャリアTCが巻き取られる。
The unloader 11 accommodates the tape carrier TC for which the potting and sealing of the resin 4 has been completed. The unloader 11 stores a reel 11a, and the reel 11a winds the tape carrier TC.

【0038】また、スプロケット部8aの構成について
説明する。
The structure of the sprocket portion 8a will be described.

【0039】スプロケット部8aは、図6に示すよう
に、スプロケットローラ8a1 、ならびに受けローラ8
2 ,8a3 から構成されている。スプロケットローラ
8a1は、直径約60〜100mm程度の円盤状からな
り、外周部には、たとえば、エンボリュート型の歯車が
設けられている。
As shown in FIG. 6, the sprocket portion 8a includes a sprocket roller 8a 1 and a receiving roller 8a.
It is composed of a 2 and 8a 3 . The sprocket roller 8a 1 has a disk shape with a diameter of about 60 to 100 mm, and an outer peripheral portion is provided with, for example, an embossed gear.

【0040】この歯車をテープキャリアTCの長手方向
の周辺部に設けられた、該テープキャリアTCの送り用
の孔であるスプロケットホールにはめ込み、ステッピン
グモータなどによって制御されたスプロケットローラ8
1 を一定の角度だけ回転させることでテープキャリア
TCを高精度に搬送する。
The gear is fitted into a sprocket hole which is a hole for feeding the tape carrier TC provided in the peripheral portion of the tape carrier TC in the longitudinal direction, and a sprocket roller 8 controlled by a stepping motor or the like.
The tape carrier TC is conveyed with high accuracy by rotating a 1 by a certain angle.

【0041】また、スプロケットローラ8a1 の下方に
は、テープキャリアTCを介して該スプロケットローラ
8a1 に接触する受けローラ8a2 ,8a3 が設けられ
ている。受けローラ8a2 ,8a3 は、スプロケットロ
ーラ8a1 がテープキャリアTCを搬送する際のガイド
機構である。
Below the sprocket roller 8a 1 , there are provided receiving rollers 8a 2 and 8a 3 which come into contact with the sprocket roller 8a 1 via the tape carrier TC. The receiving rollers 8a 2 and 8a 3 are guide mechanisms when the sprocket roller 8a 1 conveys the tape carrier TC.

【0042】これら受けローラ8a2 ,8a3 は、テー
プキャリアTCの搬送方向の上流側と下流側とにそれぞ
れある間隔を空けて設けられている。これら受けローラ
8a 2 ,8a3 を間隔を空けて上流側と下流側とに設け
たことにより、スプロケットローラ8a1 の外周面に接
触するテープキャリアTCの表面積が大きくなる。
These receiving rollers 8a2, 8a3Is the
On the upstream side and the downstream side of the transport direction of the carrier TC respectively.
It is provided with a certain space. These receiving rollers
8a 2, 8a3Are provided on the upstream side and the downstream side with a space
As a result, the sprocket roller 8a1Touches the outer peripheral surface of
The surface area of the tape carrier TC to be touched increases.

【0043】よって、テープキャリアTCのスプロケッ
トホールにはめ込まれるスプロケットローラ8a1 の歯
車の数が4個、または5個程度になり、該テープキャリ
アTCのはずれや破損などを防止することができる。
Therefore, the number of gears of the sprocket roller 8a 1 fitted in the sprocket hole of the tape carrier TC becomes about 4 or 5, and the tape carrier TC can be prevented from being detached or damaged.

【0044】また、受けローラ8a2 ,8a3 は、間隔
を空けすぎるとスプロケットローラ8a1 の外周面に接
触するテープキャリアTCの表面積が大きくなりすぎて
該テープキャリアTCの湾曲が大きくなり、該テープキ
ャリアTCに過度な負荷がかかってしまうことになる。
If the receiving rollers 8a 2 and 8a 3 are spaced too far apart, the surface area of the tape carrier TC that contacts the outer peripheral surface of the sprocket roller 8a 1 becomes too large, and the curvature of the tape carrier TC becomes large. An excessive load will be applied to the tape carrier TC.

【0045】一方、受けローラ8a2 ,8a3 の間隔が
狭すぎると、スプロケットローラ8a1 の外周面に接触
するテープキャリアTCの表面積が小さくなり、該テー
プキャリアTCのスプロケットホールにはめ込まれるス
プロケットローラ8a1 の歯車の数が少なくなってしま
い、搬送不良などが生じる恐れがある。
On the other hand, if the distance between the receiving rollers 8a 2 and 8a 3 is too small, the surface area of the tape carrier TC that contacts the outer peripheral surface of the sprocket roller 8a 1 becomes small, and the sprocket roller fitted into the sprocket hole of the tape carrier TC. Since the number of gears 8a 1 is reduced, there is a possibility that conveyance failure may occur.

【0046】よって、受けローラ8a2 ,8a3 の間隔
は、テープキャリアTCに負荷をかけずに、4個、5個
程度のスプロケットローラ8a1 の歯車がテープキャリ
アTCのスプロケットホールにはめ込まれる程度とす
る。
Therefore, the distance between the receiving rollers 8a 2 and 8a 3 is such that the gears of about four or five sprocket rollers 8a 1 are fitted into the sprocket holes of the tape carrier TC without applying a load to the tape carrier TC. And

【0047】ここでは、スプロケット部8aの構成につ
いて説明したが、スプロケット部10aにおいても、ス
プロケットローラ10a1 、受けローラ10a2 ,10
3からなり、図6のスプロケット部8aと同様の構成
からなっている。
Here, the structure of the sprocket portion 8a has been described, but in the sprocket portion 10a as well, the sprocket roller 10a 1 and the receiving rollers 10a 2 , 10 are provided.
a 3 and has the same structure as the sprocket portion 8a of FIG.

【0048】スプロケット部8a,10aが駆動するこ
とによって、ローダ7から搬送されたテープキャリアT
Cは、塗布機構8b,8cによって樹脂4のポッティン
グが行われた後、ベーク炉9に搬送されてベーキングが
行われ、モニタ部10によって樹脂4の封止状態がモニ
タされてアンローダ11のリール11aに巻き取られて
収納されることになる。
The tape carrier T carried from the loader 7 is driven by driving the sprocket parts 8a and 10a.
After the resin 4 is potted by the coating mechanisms 8b and 8c, C is conveyed to the baking oven 9 for baking, and the monitoring unit 10 monitors the sealed state of the resin 4 and the reel 11a of the unloader 11 is monitored. It will be rolled up and stored.

【0049】そして、テープキャリアTCにおけるテー
プ基板2に形成された電極部2cに、たとえば、一括転
写法などによってはんだバンプ5を形成する(ステップ
S105)。その後、テープキャリアTCを個片切断し
て(ステップS106)、図1に示すような半導体装置
1が製造される。
Then, the solder bumps 5 are formed on the electrode portions 2c formed on the tape substrate 2 of the tape carrier TC by, for example, the batch transfer method (step S105). Then, the tape carrier TC is cut into individual pieces (step S106), and the semiconductor device 1 as shown in FIG. 1 is manufactured.

【0050】それにより、本実施の形態においては、ス
プロケットローラ8a1 ,10a1の外径サイズを変更
することなく、スプロケットローラ8a1 ,10a1
歯車にはめ込まれる歯車数を4個、5個程度にすること
ができるので、該テープキャリアTCのはずれや破損な
どを防止するとともに、高精度に搬送することができ
る。
[0050] Thus, in this embodiment, without changing the outside diameter of the sprocket roller 8a 1, 10a 1, 4 pieces of gears number fitted into the gear sprocket roller 8a 1, 10a 1, 5 pieces Since the tape carrier TC can be adjusted to a certain degree, the tape carrier TC can be prevented from being detached or damaged, and can be conveyed with high accuracy.

【0051】また、スプロケットローラ8a1 ,10a
1 の大口径化が不要となるので、ポッティング装置6の
小型化が可能となるとともに、半導体装置1の製造効率
を向上することができる。
In addition, the sprocket rollers 8a 1 and 10a
Since it is not necessary to increase the diameter of 1 , the potting device 6 can be downsized, and the manufacturing efficiency of the semiconductor device 1 can be improved.

【0052】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を
逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでも
ない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. It goes without saying that it can be changed.

【0053】[0053]

【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed by the present application will be briefly described as follows.
It is as follows.

【0054】(1)スプロケットローラを大口径化する
ことなく、テープキャリアを確実に搬送することができ
る。
(1) The tape carrier can be reliably transported without increasing the diameter of the sprocket roller.

【0055】(2)上記(1)により、半導体装置の製
造コストを小さくし、かつ製造効率を向上させることが
できる。
(2) By the above (1), the manufacturing cost of the semiconductor device can be reduced and the manufacturing efficiency can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施の形態による半導体装置の断面
図である。
FIG. 1 is a sectional view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の半導体装置の製造工程の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of a manufacturing process of the semiconductor device of FIG.

【図3】図2に続く半導体装置の製造工程の説明図であ
る。
FIG. 3 is an explanatory diagram of the manufacturing process of the semiconductor device, following FIG. 2;

【図4】図1の半導体装置における製造工程のフローチ
ャートである。
4 is a flowchart of a manufacturing process in the semiconductor device of FIG.

【図5】発明の一実施の形態によるポッティング装置の
説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram of a potting device according to an embodiment of the invention.

【図6】図5のポッティング装置に設けられたスプロケ
ット部の説明図である。
6 is an explanatory diagram of a sprocket portion provided in the potting device of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体装置 2 テープ基板 2a 樹脂フィルム 2b 配線リード 2c 電極部 2d エラストマ 3 半導体チップ 3a ボンディングパッド(チップ電極) 4 樹脂 5 はんだバンプ 6 ポッティング装置 7 ローダ 7a リール 8 ポッティング部 8a スプロケット部 8a1 スプロケットローラ 8a2 ,8a3 受けローラ 8b,8c 塗布機構 9 ベーク炉 9a,9b 反転プーリ 9c ダンサ 10 モニタ部 10a スプロケット部 10a1 スプロケットローラ 10a2 ,10a3 受けローラ 11 アンローダ 11a リール TC テープキャリア1 semiconductor device 2 tape substrate 2a resin film 2b wiring lead 2c electrode part 2d elastomer 3 semiconductor chip 3a bonding pad (chip electrode) 4 resin 5 solder bump 6 potting device 7 loader 7a reel 8 potting part 8a sprocket part 8a 1 sprocket roller 8a 2 , 8a 3 receiving rollers 8b, 8c coating mechanism 9 bake ovens 9a, 9b reversing pulley 9c dancer 10 monitor section 10a sprocket section 10a 1 sprocket roller 10a 2 , 10a 3 receiving roller 11 unloader 11a reel TC tape carrier

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木村 新一 秋田県南秋田郡天王町天王字長沼64 アキ タ電子株式会社内 Fターム(参考) 5F044 MM03 MM06 MM11 MM27 MM31 MM40 MM48 RR18 RR19 5F061 AA01 BA05 CA04    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Shinichi Kimura             64 Naganuma, Tenno character, Tenno-cho, Minami-Akita-gun, Akita Prefecture             Ta Denshi Co., Ltd. F-term (reference) 5F044 MM03 MM06 MM11 MM27 MM31                       MM40 MM48 RR18 RR19                 5F061 AA01 BA05 CA04

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 テープ基板が繰り返し形成されたテープ
キャリアを準備する工程と、 前記テープキャリアのテープ基板に形成された基板電極
に対応するチップ電極が形成された半導体チップを準備
する工程と、 前記テープ基板に前記半導体チップを搭載し、前記テー
プ基板の基板電極と前記半導体チップのチップ電極とを
接続する工程と、 前記テープキャリアに設けられたスプロケットホールに
かみ合って前記テープキャリアを搬送するスプロケット
ローラと、前記テープキャリアの搬送方向の上流側と下
流側とに設けられ、前記テープキャリアを介して前記ス
プロケットローラに接触し、前記テープキャリアをガイ
ドする2つの受けローラとを備え、前記テープキャリア
を搬送する際には前記スプロケットローラを回転駆動さ
せるポッティング装置を用いて、前記半導体チップが搭
載された前記テープ基板を樹脂により封止し、加熱して
前記樹脂を硬化させる工程とを有することを特徴とする
半導体装置の製造方法。
1. A step of preparing a tape carrier having a tape substrate repeatedly formed, a step of preparing a semiconductor chip having a chip electrode corresponding to a substrate electrode formed on the tape substrate of the tape carrier, Mounting the semiconductor chip on a tape substrate, connecting the substrate electrode of the tape substrate and the chip electrode of the semiconductor chip, and a sprocket roller for engaging the sprocket hole provided in the tape carrier and transporting the tape carrier. And two receiving rollers that are provided on the upstream side and the downstream side in the transport direction of the tape carrier and that contact the sprocket roller via the tape carrier and guide the tape carrier. The potty that drives the sprocket roller to rotate during transport And a method of encapsulating the tape substrate on which the semiconductor chip is mounted with a resin and heating the resin to cure the resin.
【請求項2】 テープ基板が繰り返し形成されたテープ
キャリアを準備する工程と、 前記テープキャリアのテープ基板に形成された基板電極
に対応するチップ電極が形成された半導体チップを準備
する工程と、 前記テープ基板に前記半導体チップを搭載し、前記テー
プ基板の基板電極と前記半導体チップのチップ電極とを
接続する工程と、 前記テープキャリアに設けられたスプロケットホールに
かみ合って前記テープキャリアを搬送するスプロケット
ローラと、前記テープキャリアの搬送方向の上流側と下
流側とに設けられ、前記テープキャリアを介して前記ス
プロケットローラに接触し、前記テープキャリアをガイ
ドする2つの受けローラとを備え、前記2つの受けロー
ラは、4個以上の前記スプロケットローラの歯車が前記
テープキャリアのスプロケットホールにはめ込まれる間
隔に設けられ、前記テープキャリアを搬送する際には前
記スプロケットローラを回転駆動させるポッティング装
置を用いて、前記半導体チップが搭載された前記テープ
基板を樹脂により封止し、加熱して前記樹脂を硬化させ
る工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方
法。
2. A step of preparing a tape carrier in which a tape substrate is repeatedly formed, a step of preparing a semiconductor chip having a chip electrode corresponding to a substrate electrode formed in the tape substrate of the tape carrier, Mounting the semiconductor chip on a tape substrate, connecting the substrate electrode of the tape substrate and the chip electrode of the semiconductor chip, and a sprocket roller for engaging the sprocket hole provided in the tape carrier and transporting the tape carrier. And two receiving rollers provided on the upstream side and the downstream side in the transport direction of the tape carrier, contacting the sprocket roller via the tape carrier and guiding the tape carrier, and the two receiving rollers. The roller has four or more sprocket roller gears with the tape carrier. A) The tape substrate on which the semiconductor chip is mounted is sealed with resin by using a potting device that is provided at an interval to be fitted into the sprocket hole and that drives the sprocket roller to rotate when transporting the tape carrier. And a step of heating to cure the resin, the method for manufacturing a semiconductor device.
【請求項3】 テープ基板が繰り返し形成されたテープ
キャリアを準備する工程と、 前記テープキャリアのテープ基板に形成された基板電極
に対応するチップ電極が形成された半導体チップを準備
する工程と、 前記テープ基板に前記半導体チップを搭載し、前記テー
プ基板の基板電極と前記半導体チップのチップ電極とを
接続する工程と、 前記テープキャリアに設けられたスプロケットホールに
かみ合って前記テープキャリアを搬送するスプロケット
ローラと、前記テープキャリアの搬送方向の上流側と下
流側とに設けられ、前記テープキャリアを介して前記ス
プロケットローラに接触し、前記テープキャリアをガイ
ドする2つの受けローラとを備え、前記2つの受けロー
ラは、4個または5個の前記スプロケットローラの歯車
が前記テープキャリアのスプロケットホールにはめ込ま
れる間隔に設けられ、前記テープキャリアを搬送する際
には前記スプロケットローラを回転駆動させるポッティ
ング装置を用いて、前記半導体チップが搭載された前記
テープ基板を樹脂により封止し、加熱して前記樹脂を硬
化させる工程とを有することを特徴とする半導体装置の
製造方法。
3. A step of preparing a tape carrier having a tape substrate repeatedly formed, a step of preparing a semiconductor chip having a chip electrode corresponding to a substrate electrode formed on the tape substrate of the tape carrier, Mounting the semiconductor chip on a tape substrate, connecting the substrate electrode of the tape substrate and the chip electrode of the semiconductor chip, and a sprocket roller for engaging the sprocket hole provided in the tape carrier and transporting the tape carrier. And two receiving rollers provided on the upstream side and the downstream side in the transport direction of the tape carrier, contacting the sprocket roller via the tape carrier and guiding the tape carrier, and the two receiving rollers. As for the roller, the gears of the four or five sprocket rollers are the tapes. The tape substrate, on which the semiconductor chip is mounted, is sealed with resin by using a potting device which is provided at an interval to be fitted into a sprocket hole of a carrier and which drives the sprocket roller to rotate when the tape carrier is transported. And a step of heating to cure the resin, the method for manufacturing a semiconductor device.
JP2001210346A 2001-07-11 2001-07-11 Method for manufacturing semiconductor device Pending JP2003031726A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001210346A JP2003031726A (en) 2001-07-11 2001-07-11 Method for manufacturing semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001210346A JP2003031726A (en) 2001-07-11 2001-07-11 Method for manufacturing semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003031726A true JP2003031726A (en) 2003-01-31

Family

ID=19045833

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001210346A Pending JP2003031726A (en) 2001-07-11 2001-07-11 Method for manufacturing semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003031726A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100867102B1 (en) * 2006-09-01 2008-11-06 주식회사 탑 엔지니어링 Tape guiding apparatus for molding system

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01100928A (en) * 1987-10-14 1989-04-19 Hitachi Ltd Method and apparatus for sealing
JPH11186345A (en) * 1997-12-19 1999-07-09 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Tab dust remover

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01100928A (en) * 1987-10-14 1989-04-19 Hitachi Ltd Method and apparatus for sealing
JPH11186345A (en) * 1997-12-19 1999-07-09 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Tab dust remover

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100867102B1 (en) * 2006-09-01 2008-11-06 주식회사 탑 엔지니어링 Tape guiding apparatus for molding system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3554682B2 (en) Method and apparatus for manipulating IC chips using chip carrier tape
US11521950B2 (en) Semiconductor manufacturing apparatus and method of manufacturing semiconductor device
KR100625648B1 (en) Sealing Apparatus For Carrier Tape
WO1998012908A1 (en) Method and apparatus for packaging ic chip, and tape-shaped carrier to be used therefor
JP2009194234A (en) Methods of manufacturing semiconductor device and semiconductor electronic component, and semiconductor electronic component
TWI734434B (en) Joining device
JP2003031726A (en) Method for manufacturing semiconductor device
JP2005039206A (en) Semiconductor chip surface mounting method
KR100977395B1 (en) Conveyer belt and conveyer apparatus for semiconductor package transportation and method of clamping semiconductor package using the same
KR100245476B1 (en) Dispensing apparatus comprising parts for automatic attaching/separating cover film and dispensing method using the same
TWI644386B (en) Device handler, and carrier tape winding device therefor
JP2002124527A (en) Method for manufacturing chip electronic component and method for manufacturing dummy wafer used therefor
JP2021111671A (en) Die bonding apparatus, method for manufacturing semiconductor device, and expanding apparatus
JP2003168704A (en) Semiconductor manufacturing device and method of manufacturing semiconductor device using it
JP4440455B2 (en) Bump bonding apparatus and flip chip bonding apparatus
JP3442995B2 (en) Manufacturing method and manufacturing apparatus for electronic component device
JP2007134448A (en) Method of manufacturing semiconductor device
JP2004087792A (en) Guide roller for tab tape
JP2004203505A (en) Tape conveyance device and conveyance method
JPH09223728A (en) Pickup method of pellet
JPH11312694A (en) Transfer method and structure for thin-film wiring tape, semiconductor manufacturing device, and chip mounter
JPH04275444A (en) Tape carrier transfer sprocket or roller
TWM641962U (en) Electronic component carrier tape
TWI289345B (en) Fabrication method of wafer level chip scale package and packaged unit thereof
TW202235200A (en) Heat sink attachment machine

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20060915

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20061215

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080516

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100608

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100616

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20101020