JP2003022770A

JP2003022770A - ゲッターミラー膜を形成した蛍光発光管

Info

Publication number: JP2003022770A
Application number: JP2001207365A
Authority: JP
Inventors: Sadahisa Yonezawa; 米沢禎久; Yukio Ogawa; 小川行雄; Seigo Ishige; 石毛省悟
Original assignee: Futaba Corp
Current assignee: Futaba Corp
Priority date: 2001-07-09
Filing date: 2001-07-09
Publication date: 2003-01-24
Also published as: US6979949B2; KR100584379B1; US20030006703A1; TW577100B; KR20030007046A

Abstract

(57)【要約】【課題】ゲッターにレーザー光を照射して任意形状のゲ
ッターミラー膜を形成する。【解決手段】アノード基板１１に取付けた四角形のリ
ングレスゲッター３１に、フロント基板１２の外側から
レーザー光Ｌを照射し、リングレスゲッター３１を蒸発
してゲッターミラー膜３２を形成する。その際、走査線
３３に沿ってレーザー光Ｌの照射点を移動すると、走査
線３３の周囲に四角形のゲッターミラー膜３２が形成さ
れる。ゲッターミラー膜３２には、レーザー光Ｌにより
走査線３３と略同じ形状、略同じ大きさの焼け部３４が
形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本願発明は、ゲッター材層に
照射するレーザー光を走査して所望形状のゲッターミラ
ー膜を形成した蛍光発光管に関する。

【０００２】

【従来の技術】図６は、従来のリング状ゲッターを備え
た蛍光発光管の一種である蛍光表示管の平面図と断面図
である。図６（ａ）は、アノード基板の平面図、図６
（ｂ）は、図６（ａ）Ｙ１−Ｙ１部分の断面図、図６
（ｃ）は、ゲッター材とゲッターミラー膜の平面図であ
る。図において、５１は、ガラス、セラミック等の絶縁
材から成るアノード基板、５２は、ガラス等のフロント
基板、５３１〜５３３は、ガラス等の側面板、Ａは、蛍
光体を塗布したアノード電極、６１１は、ゲッター材、
６１２は、ニッケルメッキした鉄製のリング状容器、５
２１は、表示領域である。リング状ゲッターは、リング
状容器６１２とゲッター材６１１とから成る。リング状
容器６１２は、支持部材６１３に取付け、その支持部材
６１３をアノード基板５１に取付けた押え板６１４に固
着してある。

【０００３】高周波誘導加熱法によりリング状容器６１
２を加熱すると、ゲッター材６１１は、蒸発して矢印方
向へ飛散し、フロント基板５２の内面にゲッターミラー
膜６２を形成する。ゲッターミラー膜６２は、フロント
基板５２の表示領域５２１の外側の限られた場所に形成
しなければならない。

【０００４】図６（ｃ）は、リング状ゲッター材６１１
とゲッターミラー膜６２との関係を示す。ゲッターミラ
ー膜６２にゲッター材６１１を重ねて表示してある。ゲ
ッターミラー膜６２の大きさは、ゲッター材６１１の直
径と、リング状容器６１２の開口面とフロント基板５２
の内面の距離とにより決まる（ゲッター材は、拡がりな
がらゲッターミラー膜を形成するため）。またゲッター
ミラー膜６２の形状は、リング状ゲッター材６１１の形
状により決まる。

【０００５】図７は、直接通電抵抗加熱法により加熱す
るタイプのゲッター例である。図６と同じ部分は、同じ
符号を使用している。図において、７１１は、ゲッター
材、７1２は、通電により発熱する直線状容器、７１３
は、支持部材兼通電用リード部材である。直線状容器７
１２は、支持部材兼通電用リード部材７１３に固着さ
れ、支持部材兼通電用リード部材７１３は、アノード基
板５１に固着されている。支持部材兼通電用リード部材
７１３の両端部は、側面板５３２とアノード基板５１と
に挟持され、外部に引き出されている。この引き出され
ている部分は、直線状容器７１２に通電するための端子
となる。

【０００６】直線状容器７１２は、支持部材兼通電用リ
ード部材７１３により通電すると、その容器自身の抵抗
により発熱し、ゲッター材７１１は、蒸発して矢印方向
へ飛散し、フロント基板５２の内面にゲッターミラー膜
７２を形成する。ゲッターミラー膜７２は、図７（ｃ）
のように楕円形になる。ゲッターミラー膜７２の大きさ
は、図６の場合と同様に、ゲッター材７１１の大きさ
と、ゲッター材７１１とフロント基板５２の内面の距離
とにより決まり、ゲッターミラー膜７２の形状は、ゲッ
ター材７１１の形状で決まる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】図６、図７の場合、ゲ
ッターミラー膜の大きさや形状は、ゲッターの大きさや
形状によって自動的に、一義的に決まってしまい、ゲッ
ターミラー膜の大きさや形状を任意に制御することがで
きない。即ち、ゲッターミラー膜の大きさは、ゲッター
とフロント基板の距離が同じならば、ゲッターの大きさ
で決まるから、ゲッターミラー膜を形成する場所の大き
さに応じて、その場所に適した大きさのゲッターを選定
しなければならない。またゲッターミラー膜の形状は、
ゲッターの形状で決まるから、例えば、ゲッターミラー
膜の形成場所が四角形の場合にも、ゲッターミラー膜
は、円形、楕円形になるため、即ち四角の場所に円形等
のゲッターミラー膜を形成するため、四角の隅の部分は
デッドスペースになる。ゲッターミラー膜は、フロント
基板の表示領域の外に形成しなければならないが、ゲッ
ターの位置が、前後左右上下にずれると、表示領域内に
形成されることがある。その場合には、蛍光表示管は、
不良品となる。そのためゲッター材を充填した容器の取
付けは、高い精度が要求され、位置合わせに長時間を要
する。また容器の取付け精度を低くしたい場合には、ゲ
ッターの位置を表示領域からより離す必要があり、デッ
ドスペースが大きくなる。

【０００８】本願発明は、これらの点に鑑み、ゲッター
の高い取付け精度が必要でなく、ゲッターミラー膜を形
成する段階で、ゲッター材の大きさや形状に関わらず、
所望の大きさや形状のゲッターミラー膜を形成すること
を目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本願発明の蛍光発光管
は、蛍光発光管の外囲器の外側から、外囲器内に取付け
たゲッターにレーザー光を照射し、そのレーザー光の照
射点を所定の形状の走査線に沿って移動し、外囲器のレ
ーザー光が透過した面の内面にその走査線の形状に対応
した形状のゲッターミラー膜を形成し、そのゲッターミ
ラー膜には、走査線と略同じ大きさ、略同じ形状の焼け
部が形成されている。本願発明の蛍光発光管は、前記の
蛍光発光管において、外囲器は、対向する第1基板と第
２基板、及び側面部材から成り、ゲッターは、第1基板
又は第２基板に取付けてある。本願発明の蛍光発光管
は、前記２番目の蛍光発光管において、ゲッターのレー
ザー光照射面と第1基板の内面又は第２基板の内面又は
側面部材の内面との距離は１ｍｍ以下で、レーザー光の
ビームの直径は１００μｍ以下に設定してある。本願発
明の蛍光発光管は、前記各蛍光発光管において、ゲッタ
ーはゲッター材をプレス成形して形成してある。本願発
明の蛍光発光管は、前記各蛍光発光管において、ゲッタ
ーはゲッター材層と金属層との２層から成る。

【００１０】

【発明の実施の形態】図１は、本願発明の第１実施形態
に係り、レーザー光により円形のゲッターミラー膜を形
成した蛍光発光管の一種である蛍光表示管の平面図と断
面図である。図１（ａ）は、アノード基板の平面図、図
１（ｂ）は、図１（ａ）のＸ１−Ｘ１部分の断面図であ
る。図において、１１は、基材となるガラス、セラミッ
ク等の絶縁材から成る透光性又は不透光性を有するアノ
ード基板、１２は、基材となるガラス、セラミック等の
絶縁材から成る透光性を有するフロント基板、１３１〜
１３３は、ガラス、セラミック等の絶縁材から成る透光
性又は不透光性を有する側面板（側面部材）、２１は、
バリューム、アルミニウム等から成るリングレスゲッタ
ー、２２は、ゲッターミラー膜、２３は、レーザー光Ｌ
（ＹＡＧレーザー，ＣＯ₂レーザー等のレーザー光）の
走査線、２４は、ゲッターミラー膜の焼け部、１２１
は、フロント基板１２側の表示領域（ゲッターミラー膜
を形成できない範囲）、Ａは、蛍光体を塗布したアノー
ド電極である。アノード基板１１、フロント基板１２、
及び側面板１３１〜１３３は、蛍光表示管の外囲器を構
成する（図では、側面板１３２に対向する側の側面板は
省略してある）。ここで、アノード基板とフロント基板
との距離が数１００μｍ程度の場合には、ガラスロッド
等を溶融した透光性の側面部材を使用したり、透光性の
封着部材を側面板に使用することも可能である。

【００１１】なお蛍光表示管は、陰極用フィラメント
（電界電子放出型蛍光表示管の場合は、電界電子放出型
カソード）、フィラメント取付け用アンカー、フィラメ
ント取付け用サポート（アンカーやサポートを用いない
タイプもある）、グリッド（２極管タイプの蛍光表示管
は必要でない）、アノード配線、カソード配線、グリッ
ド配線、層間の絶縁層（蛍光表示管のタイプにより必要
でないものもある）等を備えているが、本願発明は、ゲ
ッターの位置、ゲッターミラー膜の形成位置、ゲッター
ミラー膜の形成の仕方に特徴があるので、それらは、省
略してある。

【００１２】ここでリングレスゲッター２１は、従来の
ゲッター材を充填するリング状等の容器を使用しないタ
イプのもので、例えば、ゲッター材粉末を単独でプレス
成形したもの、ゲッター材粉末とアルミニウム等の金属
粉末又は金属層を積層してプレス成形し、ゲッター材層
と金属層との２層構造にしたもの、ゲッター材を金属板
等の補強部材とともにプレス成形したもの等がある。ま
た孔又は溝を形成したゲッターをその孔又は溝を利用し
て基板上に形成した金属層にボンディングワイヤーで固
定するもの、ゲッターの内部又は外部に金属ワイヤーを
内臓又は取付けておき、そのワイヤーを基板上の金属層
に超音波ボンディングで固定するものもある。

【００１３】リングレスゲッター２１は、ガス吸収能力
のある金属（Ｂａ，Ｍｇ等）又はその金属の合金（Ｂａ
Ａｌ合金，ＭｇＡｌ合金等）から成り、反応熱発生用の
添加金属（Ｎｉ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｚｒ等）は、必要に応じ
て混合している。なおゲッターのフラッシュに光エネル
ギー（特にレーザー光）を使用する場合には、添加金属
は省略することができ、その場合には、ゲッターのコス
トを低減できとともに、ゲッターを小型にできる。これ
により蛍光表示管をより小型化、薄型化できる。以下各
実施形態のリングレスゲッターについて同様である。

【００１４】リングレスゲッター２１は、アノード基板
１１にフリットガラスにより固着してある。リングレス
ゲッター２１が、前記２層構造の場合には、アノード基
板１１に、別途スパッター蒸着やスクリーン印刷等によ
り薄膜又は厚膜から成るアルミニウム等の金属層又は金
属膜を形成して、その金属層又は金属膜にリングレスゲ
ッターの金属層を超音波ボンディングにより固着するこ
ともできる。なおその金属層又は金属膜がアルミニウム
の場合、蛍光体層を被着したアノード電極の外部引出し
用配線（アノード配線）と同一工程で形成できるから、
コストを低減でき、かつ製造が容易になる。

【００１５】本実施形態では、直径３ｍｍ、厚み０．３
ｍｍのリングレスゲッター２１を用い、リングレスゲッ
ター２１とフロント基板１２の内面との距離を１．０ｍ
ｍに設定した。なおゲッターミラー膜の面積は、リング
レスゲッター２１とフロント基板１２の内面との距離が
大きくなるほど、レーザー光のビーム径に対して大きく
なる。したがって、レーザー光の走査形状に近いゲッタ
ーミラー膜を形成するには、前記距離をできるだけ小さ
くした方がよい（１．０ｍｍ以下が好適である）。ゲッ
ターミラーの形成には、スキャン方式のレーザーマーカ
ーを使用し、レーザー光Ｌの照射点の移動速度１００ｍ
ｍ／秒、Ｑスイッチ周波数５ｋＨｚ、ランプ電流２０
Ａ、レーザー光Ｌのビーム径５０μｍに設定した。レー
ザー光Ｌのビーム径は、１００μｍ以下であればよい。
なおゲッター膜は、レーザー光の走査線の両側に拡がる
が、そのゲッター膜の拡がりは、レーザー光のビーム径
に比例するから、ゲッター膜の拡がりを小さくするに
は、レーザー光のビーム径をできるだけ小さくすること
が望ましい。

【００１６】透光性を有するフロント基板１２の外側か
らレーザー光Ｌをリングレスゲッター２１に照射し、レ
ーザー光Ｌの照射点を、図６（ｃ）の直径１．５ｍｍの
円形の走査線２３に沿って移動すると、図１（ｄ）のよ
うに、直径３ｍｍのゲッターミラー膜２２が、フロント
基板１２の内面に形成される。ゲッターミラー膜２２の
形状は、走査線２３の形状に対応している。即ち走査線
２３の形状（レーザー光の移動跡）は、円形であるか
ら、ゲッターミラー膜の形状も円形になる。

【００１７】レーザー光Ｌは、フロント基板１２を透過
してリングレスゲッター２１に照射され、蒸発したゲッ
ター材の粒子が矢印方向に飛散して、フロント基板１２
の内面にゲッターミラー膜２２を形成するが、同時にレ
ーザー光Ｌは、その形成されたゲッターミラー膜２２を
照射するから、その照射によって、形成されたゲッター
ミラー膜２２の内、レーザー光Ｌが照射される部分が蒸
発してしまう。レーザー光Ｌは、リングレスゲッター２
１のゲッター材を蒸発するエネルギーをもっているか
ら、ゲッターミラー膜２２のレーザー光が照射された部
分は、瞬時に蒸発する。ゲッターミラー膜２２には、そ
のゲッター材が蒸発してしまった部分、即ち焼け部２４
が形成される。焼け部２４の直径は、略１．５ｍｍで、
走査線２３と略同じ大きさ、同じ形状である。走査線２
３の直径を１．５ｍｍより小さくすると、ゲッターミラ
ー膜２２の直径は、３ｍｍよりも小さくなる。

【００１８】ここで焼け部２４の線幅は、レーザー光Ｌ
のビーム径と略同じ５０μｍ程度である。この程度の焼
け部は、ゲッターミラー膜のゲッター作用を損なうこと
はない。また焼け部２４の形状、大きさは、走査線２３
と略同じであるから、焼け部２４から走査線２３の形
状、大きさを確認できる。即ち、焼け部２４は、走査線
２３の確認に利用できる。以下各実施形態の焼け部につ
いて同様である。

【００１９】リングレスゲッター２１は、フロント基板
１２に取付け、ゲッターミラー膜２２をアノード基板１
１に形成してもよい。

【００２０】図２は、本願発明の第２実施形態に係り、
レーザー光により四角形のゲッターミラー膜を形成した
蛍光表示管の平面図と断面図である。図２（ａ）は、ア
ノード基板の平面図、図２（ｂ）は、図２（ａ）のＸ２
−Ｘ２部分の断面図である。図１と同じ部分は、図１と
同じ符号を使用している。図において、３１は、リング
レスゲッター、３２は、ゲッターミラー膜、３３は、レ
ーザー光の走査線、３４は、焼け部である。

【００２１】本実施形態では、２ｍｍ×５ｍｍ×０．３
ｍｍのリングレスゲッター３１を用い、リングレスゲッ
ター３１とフロント基板１２の内面との距離を１．０ｍ
ｍに設定した。ゲッターミラーの形成には、スキャン方
式のレーザーマーカーを使用し、図１の場合と同じ条件
に設定した。

【００２２】フロント基板１２の外側からレーザー光Ｌ
をリングレスゲッター３１に照射し、レーザー光Ｌの照
射点を、図２（ｃ）の長さ４ｍｍの直線状の走査線３３
に沿って移動すると、図２（ｄ）のように、２ｍｍ×５
ｍｍのゲッターミラー膜３２がフロント基板１２の内面
に形成される。ゲッターミラー膜３２の形状は、走査線
３３の形状に対応している。即ち走査線３３は、直線状
であるから、ゲッターミラー膜３２は、その直線の幅を
広げた形状になる。またゲッターミラー膜３２には、走
査線３３と略同じ長さの４ｍｍの直線状焼け部３４が形
成される。

【００２３】リングレスゲッター３１は、フロント基板
１２に取付け、ゲッターミラー膜３２をアノード基板１
１に形成してもよい。フロント基板１２の内面の内、ゲ
ッターミラー膜の形成可能なスペースは、一般には、四
角形のように角張ったスペースが多いから、本実施形態
の四角形のゲッターミラー膜３２は、フロント基板１２
の内面の空きスペースを有効に活用できる。

【００２４】本実施形態は、側面板１３２が透光性を有
する場合、側面板１３２の外側からリングレスゲッター
３１の側面にレーザー光を照射して、側面板１３２の内
面にもゲッターミラー膜を形成できる。同様にして、側
面板１３３、側面板１３１の内面にもゲッターミラー膜
を形成できる。ゲッターミラー膜の面積は、大きいほ
ど、表示品位等が向上するから好ましい。

【００２５】図３は、図２の実施形態の変形例を示す。
図３（ａ），（ｂ）は、図２（ｃ）のリングレスゲッタ
ー３１の２倍の大きさ（４ｍｍ×５ｍｍ）のリングレス
ゲッター３１１を用い、２ｍｍ離した直線状の走査線３
３１，３３２に沿ってレーザー光の照射点を移動し、走
査線３３１，３３２の形状に対応した形状のゲッターミ
ラー膜３２１，３２２を連続して形成してある。ゲッタ
ーミラー膜３２１，３２２の面積は、図２（ｄ）のゲッ
ターミラー膜３２の２倍（４ｍｍ×５ｍｍ）になる。ゲ
ッターミラー膜３２１，３２２には、走査線３３１，３
３２と略同じ形状、同じ大きさの直線状焼け部３４１，
３４２が形成される。

【００２６】図３（ｃ），（ｄ）は、四角形のリングレ
スゲッター３１２を用い、円形の走査線３３３に沿って
レーザー光の照射点を移動し、走査線３３３の形状に対
応した円形のゲッターミラー膜３２３を形成してある。
即ちゲッターミラー膜３２３の形状は、リングレスゲッ
ター３１２の形状で決まるのではなく、走査線３３３の
形状で決まる。ただリングレスゲッター３１２とゲッタ
ーミラー膜３２３との形状が相違している場合には、ゲ
ッターミラー膜の形成に寄与しないゲッター材が多くな
る。したがってリングレスゲッター３１２とゲッターミ
ラー膜３２３との形状は、同じにするのが好ましい。ま
たリングレスゲッター３１２と走査線３４３の形状を略
同じにする、即ちリングレスゲッター３１２の形状をド
ーナツ状にするのが最も好ましい。逆にゲッターミラー
膜の形成に寄与していないゲッター材は多くなるが、ゲ
ッターの形状や大きさ等を共通にして、コスト低減や製
造装置の共通化、歩留まりの改善等を図ることも可能で
ある。ゲッターミラー膜３２３には、走査線３３３と略
同じ形状、同じ大きさの円形の焼け部３４３が形成され
る。図３（ｅ），（ｆ）は、図２（ｃ）のリングレスゲ
ッター３１の３倍の大きさ（６ｍｍ×５ｍｍ）のリング
レスゲッター３１３を用い、４ｍｍ離した直線状の走査
線３３４，３３５に沿ってレーザー光の照射点を移動
し、走査線３３４，３３５の形状に対応した形状のゲッ
ターミラー膜３２４，３２５を２箇所に形成してある。
ゲッターミラー膜３２４，３２５の面積の合計は、図２
（ｄ）のゲッターミラー膜３２の２倍（４ｍｍ×５ｍ
ｍ）になる。ゲッターミラー膜３２４，３２５には、走
査線３３４，３３５と略同じ形状、同じ大きさの直線状
焼け部３４４，３４５が形成される。走査線３３４，３
３５の間隔は、４ｍｍに限らず任意に選定できる。即ち
走査線３３４，３３５の位置を変えるのみで、所望の場
所にゲッターミラー膜３２４，３２５を形成することが
できる。また走査線３３４，３３５の長さを変えること
により、所望の大きさのゲッターミラー膜３２４，３２
５を形成することができる。この場合、焼け部３４４，
３４５は、走査線３３４，３３５の位置や長さに対応し
て変わる。

【００２７】図４は、本願発明の第３実施形態に係るゲ
ッターミラー膜を形成したフロント基板の平面図であ
る。図４（ａ）は、アノード基板にコ字状（ニ字状でも
よい）のリングレスゲッター（図示せず）を取付け、そ
のリングレスゲッターをコ字状走査線（図示せず）に沿
ってレーザー光の照射点を移動して、コ字状走査線に対
応した形状、即ちコ字状（ニ字状でもよい）のゲッター
ミラー膜４２１を、フロント基板１２の内面の表示領域
１２１の周囲に形成してある。ゲッターミラー膜４２１
には、コ字状走査線と略同じ形状、同じ大きさの直線状
焼け部４３１が形成される。

【００２８】図４（ｂ）は、アノード基板にロ字状のリ
ングレスゲッター（図示せず）を取付け、そのリングレ
スゲッターを、ロ字状走査線（図示せず）に沿ってレー
ザー光の照射点を移動して、そのロ字状走査線に対応し
た形状、即ちロ字状のゲッターミラー膜４２２を、フロ
ント基板１２の内面の表示領域１２１の周囲に形成して
ある。ゲッターミラー膜４２２には、ロ字状走査線と略
同じ形状、同じ大きさの直線状焼け部４３２が形成され
る。ここで、ロ字状とは、ロ字状の一体化されたものだ
けでなく、ロ字状に別体のものを並べて配置したものを
含む枠状配置を指す。これは前記コ字状についても同様
である。

【００２９】本実施形態は、表示領域の周囲の広い範囲
にゲッターミラー膜を形成したから、ゲッターミラー膜
の面積が大きくなる。ゲッターミラー膜の面積が大きく
なると、蛍光表示管内のガス吸収能力が大きくなり、信
頼性が向上する。また蛍光表示管の点灯中ガスが絶えず
蛍光表示管内に放出され、その放出ガスによりゲッター
ミラー膜は消費されるから、ゲッターミラー膜の面積が
大きいほど蛍光表示管の寿命が長くなる。特に、表示領
域を囲むようにゲッターミラー膜をフロント基板、アノ
ード基板又は側面板等に形成すると、ガス吸収の均一化
ができ、蛍光体の発光むらが低減できて表示品位が向上
する。これには、ロ字状等の枠状配置が好適である。

【００３０】ゲッターミラー膜の形状は、前記各実施形
態の形状に限らず、線状（棒状）、三角形、楕円形、文
字形、マーク形等任意の形状が可能である。またリング
レスゲッターの取付け場所やゲッターミラー膜を形成す
る場所に応じて、大きさや形状の異なるゲッターミラー
膜を組み合せて形成することもできる。

【００３１】図５は、本願発明の第４実施形態に係り、
ゲッターの取付け場所とゲッターミラー膜の形成場所を
示す蛍光表示管の断面図である。図１と同じ部分は、図
１と同じ符号を使用している。図において、４５は、金
属層４５１とゲッター材層４５２とから成るリングレス
ゲッター、４８は、ゲッターミラー膜、４７１は、陰極
用フィラメント、４７２は、フィラメント支持部材（例
えば、アンカー、サポート）、１２２は、フェースガラ
スである。

【００３２】図５（ａ）の場合、リングレスゲッター４
５は、支持部材４７２に、例えば超音波ボンディングに
より固着し、ゲッター材層４５２の蒸発面が側面板１３
２と対向するように配置してある。この場合には、透光
性を有する側面板１３２の外側から、レーザー光Ｌをゲ
ッター材層４５２に照射すると、ゲッター材は、蒸発し
て側面板１３２に向かって飛散し、側面板１３２の内面
にゲッターミラー膜４８を形成する。即ち、レーザー光
Ｌが透過した側面板１３２の内面に、ゲッターミラー膜
４８が形成される。

【００３３】図５（ｂ）の場合、リングレスゲッター４
５は、支持部材４７２に固着し、ゲッター材層４５２の
蒸発面がフロント基板１２と対向するように配置してあ
る。この場合には、透光性を有するフロント基板１２の
外側から、レーザー光Ｌをゲッター材層４５２に照射し
て、フロント基板１２の内面にゲッターミラー膜４８を
形成する。

【００３４】図５（ｃ）は、図５（ａ）のフロント基板
１２と側面板１３２等４個の側面板（３個は図示せず）
とを一体に形成した箱型のフェースガラス１２２を使用
している。リングレスゲッター４５は、フェースガラス
１２２のフロント面１２２１に固着し、ゲッター材層４
５２の蒸発面がフェースガラス１２２の側面１２２２と
対向するように配置してある。この場合には、透光性を
有する側面１２２２の外側から、レーザー光Ｌをゲッタ
ー材層４５２に照射して、側面１２２２の内面にゲッタ
ーミラー膜４８を形成する。

【００３５】図５（ｄ）の場合、リングレスゲッター４
５は、アノード基板１１に固着し、ゲッター材層４５２
の蒸発面が側面板１３２と対向するように配置してあ
る。この場合には、透光性を有する側面板１３２の外側
から、レーザー光Ｌをゲッター材層４５２に照射して、
側面板１３２の内面にゲッターミラー４８を形成する。
本実施形態は、前記各実施形態と同様に、レーザー光Ｌ
を所定のパターンに沿って走査する。ゲッターミラー膜
４８には、レーザー光Ｌの走査線と略同じ大きさ、同じ
形状の焼け部が形成される。

【００３６】本実施形態のリングレスゲッター４５は、
円形、楕円形、多角形、リボン状等いずれの形状であっ
てもよい。本実施形態は、フィラメントの支持部材に、
リングレスゲッターを取付ける例について説明したが、
フィラメントの支持部材に限らず、グリッド支持部材、
ダンパー支持部材等他の金属部品であってもよい。

【００３７】前記各実施形態のリングレスゲッターは、
その露出した面にレーザー光を照射するから、基板等に
絶縁層が形成されている場合にも、リングレスゲッター
を基板等に取付けることができる。

【００３８】前記各実施形態は、フロント基板の外側か
ら、アノード基板のリングレスゲッターへレーザー光を
照射して、フロント基板にゲッターミラー膜を形成して
いる（ネサ膜がある場合には、ネサ膜の上に形成す
る）。即ちレーザー光を通す基板とゲッターミラー膜が
形成される基板とが同じである。したがってアノード基
板に絶縁層や配線が施されていて、アノード基板側から
レーザー光を照射できない場合でも、レーザー光により
ゲッターミラー膜を形成できる。即ちアノード基板、フ
ロント基板のいずれか一方の基板がレーザー光を通すこ
とができれば、レーザー光によりゲッターミラー膜を形
成できる。

【００３９】別の方法として、フロント基板にリングレ
スゲッターを取付け、フロント基板の外からリングレス
ゲッターの裏面にレーザー光を照射する方法も考えられ
るが、この場合には、リングレスゲッターが厚いと蒸発
しないし、薄い（薄膜等にする）と、レーザー光のエネ
ルギーや焦点等を高い精度でコントロールしなければフ
ロント基板にクラックが生じることになり、製造が困難
になる。しかしリングレスゲッターが前記した２層構造
の場合には、金属層がレーザー光を反射してしまうか
ら、リングレスゲッターは、蒸発しない。

【００４０】前記各実施形態は、リングレスゲッターに
ついて説明したが、本願発明は、リングレスゲッターに
限らず、リング状容器や直線状容器にゲッター材を充填
したタイプのゲッターにも適用できる。前記各実施形態
は、蛍光表示管について説明したが、本願発明は、蛍光
表示管の外、蛍光表示管の原理を用いた蛍光プリントヘ
ッド用蛍光発光管、ＣＲＴ、プラズマディスプレイ等の
蛍光発光管にも適用できる。

【００４１】

【発明の効果】本願発明は、ゲッターを走査するレーザ
ー光の走査線の長さ、直径（円形の場合）、本数、形状
を適宜選定することにより、走査線の形状に対応した形
状の種々の大きさのゲッターミラー膜を、所望の場所に
形成できるから、ゲッターの取付け場所やゲッターミラ
ー膜を形成する場所の大きさや形状に応じて、ゲッター
ミラー膜の大きさや形状を任意に選択できる。かつ種々
の大きさや形状のゲッターミラー膜を組み合せて形成で
きる。したがって蛍光表示管等の空きスペースを、ゲッ
ターの取付けやゲッターミラー膜の形成に有効に活用で
きる。近年蛍光発光管（電子管）、特に蛍光表示管で
は、表示の高密度化、薄型化、軽量化に伴い、ゲッター
の取付け場所が限られる。このため、ゲッターの取付け
場所の自由度を向上させ、少ないゲッター取付け場所を
できる限り有効に利用してなるべく多くのゲッターミラ
ー膜を形成する必要にせまられている。本願発明は、こ
れらの要求を満足させることができるものである。

【００４２】本願発明は、レーザー光の照射点がゲッタ
ー上を移動する位置、即ち走査線の位置を調整すること
により、ゲッターミラー膜の形成位置を調整できる。し
たがって本願発明は、蛍光表示管等の組立て、排気、封
止が終了して、最終のゲッターミラー膜を形成する段階
で、レーザー光の走査線の位置を決めることができる。
仮にゲッターの取付け位置がずれていても、走査線の位
置を調整することにより、ゲッターミラー膜を所定の位
置に形成できる。従来のようにゲッターミラーの大きさ
や形状が、ゲッターの大きさ、形状、取付け位置により
自動的に、一義的に決まってしまう場合には、ゲッター
の取付け位置がずれていると、ゲッターミラー膜の一部
は、表示領域にも形成されてしまい、蛍光表示管等は、
不良品となってしまう。本願発明は、その不良品の発生
がないから、蛍光表示管等の歩留まりが高くなる。

【００４３】本願発明は、ゲッターミラー膜に焼け部が
生じるが、焼け部の形状は、レーザー光の照射点が移動
する走査線の形状と略一致しているから、焼け部の形状
から走査線の形状を確認することができる。したがっ
て、例えば、完成した蛍光表示管等のゲッターミラー膜
の焼け部の形状や位置を検知することにより、蛍光表示
管等の内部に形成されたゲッターミラー膜の形状や位置
を知ることができる。この焼け部の形状や位置の検知に
より完成した蛍光表示管等のゲッターミラー膜の良、不
良を検査することができる。

【００４４】ゲッター材の蒸発量は、照射するレーザー
光の出力、レーザー光のビーム径（スポット径）により
決まる。そこでレーザー光のビーム径を知りたい場合に
は、完成した蛍光表示管等を破壊してゲッター材に刻ま
れたレーザー光の走査線の幅を計測する方法と、測定用
の模擬管を作成し、その管に測定用ゲッター材を取付
け、レーザー光を照射してゲッター材に刻まれたレーザ
ー光の走査線の幅を計測する方法とがあるが、前者の場
合には、完成した蛍光表示管等を破壊しなければならな
い。また後者の場合には、模擬管を用意しなければなら
ない。これに対して本願発明は、ゲッターミラー膜を形
成する際に形成されるゲッターミラー膜の焼け部の線幅
から、レーザー光のビーム径を簡単に検知できる。した
がって蛍光表示管等の製造工程において、常時レーザー
光のビーム径を検知でき、その検知結果からゲッターミ
ラー膜のゲッター材の量を推計して、ゲッターミラー膜
のゲッター材が不足している場合には、レーザー光をさ
らに照射してゲッターミラー膜のゲッター材を追加する
ことができる。このように本願発明は、蛍光表示管等の
製造工程において、ゲッターミラー膜のゲッター材の量
を監視し、制御できるから、蛍光表示管等の製造が容易
になり、歩留まりが向上する。

【００４５】本願発明のゲッターは、プレス成形により
厚く形成できるから、レーザー光をゲッターに照射した
とき、レーザー光がゲッターを突き抜けることがない。
したがってアノード基板等に形成されている配線等に損
傷を与えることがない。またゲッターが、ゲッター材層
と金属層との２層構造の場合には、金属層がレーザー光
を反射するから、前記損傷防止の効果はさらに大きい。

【００４６】本願発明は、レーザー光が透過する基板と
ゲッターミラー膜が形成される基板とが同じであるか
ら、対向する基板の内、いずれか一方の基板がレーザー
光を透過することができれば、レーザー光によりゲッタ
ーミラー膜を形成できる。本願発明は、レーザー光を使
用してゲッターミラー膜を形成するから、高周波誘導加
熱法による加熱の場合のように、ゲッター以外の部品を
加熱することがない。したがって、ゲッターミラー膜を
形成する際、加熱により他の部品に損傷を与えることが
ない。

【００４７】本願発明は、ゲッターとして、リングレス
ゲッターを使用した場合には、ゲッター材を充填する特
殊な容器や特殊な取付け部材を使用しないから、ゲッタ
ーの構造が簡単になり、取付け作業が容易になる。した
がってゲッターや蛍光表示管等の製造コストを低減でき
る。また本願発明のリングレスゲッターは、構造が簡単
で、小型になるから、蛍光表示管等を薄く、小型にでき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本願発明の第１実施形態に係る円形のゲッター
ミラー膜を形成した蛍光表示管の平面図と断面図であ
る。

【図２】本願発明の第２実施形態に係る四角形のゲッタ
ーミラー膜を形成した蛍光表示管の平面図と断面図であ
る。

【図３】図２のゲッターミラー膜の変形例を示す図であ
る。

【図４】本願発明の第３実施形態に係るコ字状、ロ字状
ゲッターミラー膜を形成したフロント基板の平面図であ
る。

【図５】本願発明の第４実施形態に係り、ゲッターの取
付け場所とゲッターミラー膜の形成場所を示す蛍光表示
管の断面図である。

【図６】従来のリング状ゲッターを取付けた蛍光表示管
の平面図と断面図である。

【図７】従来の直線状ゲッターを取付けた蛍光表示管の
平面図と断面図である。

【符号の説明】

１１ガラスのアノード基板１２ガラスのフロント基板１２２フェイスガラス１２１表示領域１３１、１３２、１３３ガラスの側面板２１，３１，３１１，３１２，３１３，４５リング
レスゲッター２２，３２，３２１，３２２，３２３，３２４，３２
５，４２１，４２２，４８ゲッターミラー膜２３，３３，３３１，３３２，３３３，３３４，３３５
レーザー光の走査線２４，３４，３４１，３４２，３４３，３４４，３４
５，４３１，４３２焼け部４５１金属層４５２ゲッター材層４７１フィラメント４７２フィラメント支持部材Ａアノード電極Ｌレーザー光

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者石毛省悟千葉県茂原市大芝629双葉電子工業株式会社内Ｆターム(参考） 5C012 AA04 5C036 EE14 EF01 EF02 EG50 EH26

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】蛍光発光管の外囲器の外側から、外囲器
内に取付けたゲッターにレーザー光を照射し、そのレー
ザー光の照射点を所定の形状の走査線に沿って移動し、
外囲器のレーザー光が透過した面の内面にその走査線の
形状に対応した形状のゲッターミラー膜を形成し、その
ゲッターミラー膜には、走査線と略同じ大きさ、略同じ
形状の焼け部が形成されていることを特徴とする蛍光発
光管。
【請求項２】請求項１に記載の蛍光発光管において、
外囲器は、対向する第1基板と第２基板、及び側面部材
から成り、ゲッターは、第1基板又は第２基板に取付け
てあることを特徴とする蛍光発光管。
【請求項３】請求項２に記載の蛍光発光管において、
ゲッターのレーザー光照射面と第1基板の内面又は第２
基板の内面又は側面部材の内面との距離は１ｍｍ以下
で、レーザー光のビームの直径は１００μｍ以下である
ことを特徴とする蛍光発光管。
【請求項４】請求項１、請求項２又は請求項３に記載
の蛍光発光管において、ゲッターはゲッター材をプレス
成形して形成してあることを特徴とする蛍光発光管。
【請求項５】請求項４に記載の蛍光発光管において、
ゲッターはゲッター材層と金属層との２層から成ること
を特徴とする蛍光発光管。