JP2003020471A - 赤外線吸収材料、赤外線吸収インク及び印刷パターン - Google Patents
赤外線吸収材料、赤外線吸収インク及び印刷パターンInfo
- Publication number
- JP2003020471A JP2003020471A JP2001208880A JP2001208880A JP2003020471A JP 2003020471 A JP2003020471 A JP 2003020471A JP 2001208880 A JP2001208880 A JP 2001208880A JP 2001208880 A JP2001208880 A JP 2001208880A JP 2003020471 A JP2003020471 A JP 2003020471A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ink
- infrared
- infrared absorbing
- absorbing material
- ytterbium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
Abstract
供し、さらに、印刷膜の時の吸収率が高いインクと、目
視できないが、光学的に認識できるステレス印刷法を提
供する。 【解決手段】 電子顕微鏡写真で観察される二次粒子径
が0.4μm未満であり、かつ、X線回折法で測定され
る結晶子が30nm 以上であり、比表面積BETが1
0m2/g以下であり、波長977nmの光吸収率が7
0%以上であることを特徴とする酸化イッテルビウムを
含んでなる赤外線吸収材料と、該赤外線吸収材料を含む
含む赤外線吸収インクを提供する。
Description
線を利用することにより、目視できないが光学的に認識
できるステレス印刷に用いる赤外線吸収材料と赤外線吸
収材料を含有したインクおよび印刷パターンに関するも
のである。
利用されている。現在のバ−コ−ドは、可視光に吸収が
あるインクを使用している。可視光に吸収があるバ−コ
−ドには、2つの問題がある。バ−コ−ドがデザインを
制約するという問題がある。人が直接バ−コ−ドの場所
を確認できるので、情報の秘密保持ができないという問
題が生じている。問題解決策としてインクの透明化が開
発されている。(特開平7−539467号、特開平8
−143853号、特開平9−104857号、特開平
10−158629号の各公報参照)
材料は、シアニン系色素、ナフトキノン系色素などであ
るが、可視領域に吸収があるために、赤みがかったクリ
−ム色を呈している。有機系赤外線吸収材料は完全な透
明なバ−コ−ドを形成できないという問題がある。
て、特開平7−539467号公報には無機系赤外線吸
収材料であるリン酸イッテルビウムが提案されている。
このものは、平均粒径が0.01〜0.1μm、結晶子
が5〜200nmでかつ、900〜1000nm(ピー
クは970nm)に強い吸収のあるYbPO4を有効成
分としている。結晶子とは、単結晶の大きさ(粒径)で
ある。しかし、リン酸イッテルビウムは、赤外線吸収率
の高い微粒子が製造しにくく、有機溶媒とのなじみが悪
く、インクに分散させにくいという問題がある。
て、特開平8−143853号公報では、イッテルビウ
ムと酸との塩(但し、YbPO4を除く)からなる赤外
線吸収材料、例えば、硫酸イッテルビウム、酢酸イッテ
ルビウムを提案している。硫酸イッテルビウム、酢酸イ
ッテルビウムともに微粒子化すると、赤外線吸収率が低
下する問題があり、実用化に至っていない。
イッテルビウムからなる赤外線吸収材料を提案してい
る。酸化イッテルビウムにすることに有機溶媒とのなじ
みが良く、油性インクに分散させやすいという利点があ
るが、赤外線吸収率が低い。また、特開平10−158
629号公報では、本発明者が波長977nmの吸収率
が60%以上であることを特徴とする酸化イッテルビウ
ムからなる赤外線吸収材料を提案している。しかし、酸
化イッテルビウム40重量部も含む油性インクを用いて
2μm厚さのシルク印刷した時、波長977nmの吸収
率が15%と低く、バ−コ−ドシステムとして用いるに
は問題がある。
収率の高い酸化イッテルビウムを提供し、さらに、印刷
膜の時の吸収率が高いインクと、目視できないが、光学
的に認識できるステレス印刷法を提供する。
ルビウムの粒径と赤外線吸収率の関係に着目し、鋭意検
討した結果、特開平9−104857号公報に記載の酸
化イッテルビウムは、二次粒子径が0.9〜1.3μm
(レーザ回折法、日機装社製FRAで測定)と大きく、
X線回折法で測定される結晶子が30nm未満であるた
め、赤外線吸収率が低いと見出した。また、特開平10
−158629号公報に記載の酸化イッテルビウムは、
電子顕微鏡写真で観察される二次粒子径が0.4〜0.5
μmで、X線回折法で測定される結晶子が30nm未満
であるため、粉体の吸収率が60%以上と高くても、印
刷膜の時の吸収率が低いことを見出した。
微鏡写真で観察される二次粒子径が0.35μm未満で
あり、かつ、X線回折法で測定される結晶子が30nm
以上であり、比表面積BETが10m2/g以下であ
り、波長977nmの光吸収率が70%以上であること
を特徴とする酸化イッテルビウムを含んでなる赤外線吸
収材料と、該赤外線吸収材料を含む赤外線吸収インクに
関して、印刷として、人には見えないが機械には光学的
に認識できるステレス印刷を実用できることを見出し、
本発明に到達した。
ムは、電子顕微鏡写真で観察される二次粒子径は0.3
5μm未満、好ましくは0.05〜0.2μmがよい。
透明にするためには可視光の波長(約0.4μm)以下
の粒径である必要があるためである。二次粒子径は、結
晶子の集合体である。
線回折法で測定させる結晶子が30nm 以上、好まし
くは35〜60nmがよく、好ましくは単結晶の粒子が
望ましい。多結晶粒子の場合、結晶粒径が大きく結晶粒
界が少ないほど、光散乱が少なく吸収率が高くなると考
えられるからである。結晶子とは、単結晶の大きさ(粒
径)であり、X線回折法のWilson法(参考文献:
X線回折ハンドブック、理学電気社)を用いて得ること
ができる。
ET法による比表面積を好ましくは10m2/g以下、
更に好ましくは、3〜6m2/gとする。粒子表面の凹
凸が少ない方が、摩擦が少なく、インクへの含有量を多
くできると考えられるからである。
のような粉体物性を持ち、かつ、好ましくは波長977
nmの光吸収率が70%以上である。なお、光吸収率
は、吸光光度計でBaSO4を標準物質として反射率を
測定し、吸収率=100%−反射率から求める。
ビウムが主成分であればよく、イッテルビウムが高純度
でなく、一部他の希土類が混入していてもよく、特に白
色の希土類酸化物(例えばY2O3、Gd2O3、Lu2O3
等)なら、5重量%程度の混入は問題とならない。
ムの製造方法として、好ましくは、2種類ある。一つ
は、尿素を沈殿剤として用いて、尿素/Ybのモル比が
3〜20の範囲で得られる均質沈殿法で、更に、反応速
度を上げるために、ウレアーゼ等の触媒作用する物質を
用いる方法である。例えば、イッテルビウム化合物(硝
酸イッテルビウム、塩化イッテルビウム等)と尿素の溶
液を加熱し、又はこの溶液に触媒を添加して、得られた
沈殿物を通常800〜1300℃で焼成して酸化イッテ
ルビウムを得る。
の水熱合成法である。この好ましい例としては、0.0
5〜0.5mol/Lの水酸化イッテルビウム溶液でp
H4以上になる溶液を調製し、150〜400℃で0.
5〜24時間水熱処理することにより合成できるものが
挙げられる。
造方法を用いてもよいが、本発明の赤外線吸収材料にな
るように上記特徴を有する酸化イッテルビウム粉体を得
ることができるのであれば、他の公知の製造方法を用い
てもよい。
赤外線吸収材料は、赤外線吸収インクに用いることがで
きる。赤外線吸収インク中の酸化イッテルビウム含有量
は、好ましくは、30重量%以上、70重量%以下であ
る。特に、酸化イッテルビウム含有量が高い程赤外線吸
収率が高くなり、インクの粘度も上昇するが、インクと
して扱える粘度から酸化イッテルビウム含有量が決まる
からである。一般にインク粘度は、印刷方法によってか
わるが、100〜500CP程度であり、この粘度にな
るのは、赤外線吸収材料含有量は30〜70重量%であ
ることが望ましいからである。粘度はB型粘度計で測定
する。赤外線吸収材料が30重量%未満では必要とする
赤外線吸収率にならない場合があり、70重量%を超え
るとインクとして適正な粘度を超えてしまう場合がある
ので、好ましくない。
20重量%以下、更に好ましくは14〜20重量%のバ
インダーを含む。
油性インクの両者ともに用いることができる。水性イン
クの場合、20重量%以下の水溶性バインダーと残部が
溶媒である水になる。ここで、水溶性バインダーとは、
結着用樹脂と分散剤を意味する。結着用樹脂としては、
ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹
脂、エポキシ系樹脂等が良い。分散剤としては、ノニオ
ン系のポリビニルピロリドンやエチルセルロース、ヒド
ロキシプロピルセルロース等、例えばZeneca社製
ソルスパ−スが挙げられる。上記のようにして得られた
インクは、白色製品の包装に使用する樹脂の上にスクリ
ーン印刷を用いて20μm厚さに塗布し乾燥したとき
に、波長977nmの光吸収率が好ましくは20%以
上、更に好ましくは30%〜80%になる。結合樹脂と
分散剤の配合割合は、(20:1)〜(2:1)重量比
がよい。
ンクも製造できる。酸化イッテルビウム含有量は多い
程、赤外線吸収率が高くなるが、インク粘度から酸化イ
ッテルビウム含有量が決まる。油性バインダーも結着用
樹脂と分散剤を意味する。結着用樹脂としては、酢酸ビ
ニル系樹脂、塩酢酸ビニル系樹脂、ポリエステル系樹
脂、ウレタン系樹脂等が良い。分散剤は、上記水性バイ
ンダーと同様なものを用いればよいが、結合樹脂と分散
剤の配合割合は(20:1)〜(2:1)重量比がよ
い。また必要により、硬化剤等を添加してもよい。残部
の有機溶媒としては、トルエン、キシレン等の芳香族、
シクロヘキサノール、酢酸イソブチル等のエステル、イ
ソホロン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン等のケトン類が好ましい。油性イ
ンクも上述の水性インク場合と同様に20μm厚さに塗
布した時に、波長977nmの光吸収率が20%以上、
好ましくは30〜80%がよい。
印刷する時に、下地の紙や樹脂が赤外線を透過する場合
がある。この場合、インクがいくら赤外線を吸収しても
コントラストがでない。そこで、赤外線反射インクを下
地に2〜20μm程度印刷する。その上に赤外線吸収イ
ンクを印刷することにより、コントラストを出す。反射
インクと吸収インクの割合は、印刷膜厚さで1:10〜
10:1重量比が好ましい。または、赤外線反射インク
と赤外線吸収インクを交互に印刷することにより、コン
トラストを出す。このように赤外線反射インクと赤外線
吸収インクを用いて樹脂の上にスクリーン印刷を用いて
印刷し乾燥した印刷膜厚さが10μmのとき、波長97
7nmの光吸収率が30%以上、好ましくは40〜80
%であれば、光散乱が起こらず、人には見えないが機械
には光学的に認識できるステレス印刷を実用できるもの
である。
の測定と同様の条件で波長977nm付近の光反射率が
70%以上の有機物また無機物の反射物質を含有するイ
ンクである。反射物質としては、無機物ではYbを除く
白色希土類酸化物(例えばY 2O3、Gd2O3、Lu2O3
等)、Al2O3、TiO2、SnO2、ZnO、ZrO 2
等から選ばれる一種以上で、粒径が0.5μm以下のも
のを用いることが好ましい。
刷、スクリーン印刷等の一般的な方法でよい。例えば、
スクリーン印刷の場合、スクリーン印刷機に150〜2
50メッシュのスクリーンで赤外線反射インクを印刷す
る。スクリ−ンの開き目で印刷膜厚さを制御する。赤外
線反射インクの上に、バーコードや検知マ−クを赤外線
反射インクで印刷する。発光ダイオ−ド等の光源を用い
て900〜1000nmの光を照射して、1000nm
以上の光を吸収するフィルタ−を付けた受光センサーで
識別する。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例1 (1)酸化イッテルビウムの製造 硝酸イッテルビウム8molと尿素40molを純水に
溶解し、200Lにした。攪拌しながら温度38℃に保
持した。ウレア−ゼを5g投入し、120分保持した。
できた沈殿物をろ過、水洗した後、900℃で2時間焼
成した。できた酸化イッテルビウムの粒径を電子顕微鏡
写真で観察すると、二次粒子が0.1μmであった。X
線回折法のWilson法で結晶子を求めると、38n
mであった。波長977nmの赤外線吸収率を島津製作
所の吸光光度計UV−3100sでBaSO4を標準物
質として反射率を測定し、吸収率=100%−反射率か
ら求め、70%であった。比表面積をBET法で測定す
ると3.9m2/gであった。
に、飽和ポリエステル(東洋紡社製バイロン103)8
g、ポリウレタンエラストマー(日本ポリウレタン社製
N−2304)20g、イソシアネート硬化剤6g、ト
ルエン40g、メチルイソブチルケトン46gを混練機
で混合し油性インクを得た。B型粘度計で粘度を測定し
た。480cpであった。スクリ−ン印刷機(ミノ社製
EA−1515)を用いて200メッシュ版で、白PE
T(160μm)に印刷した。印刷膜厚さ20μmで、
吸光光度計UV−3100sで赤外線吸収率(977n
m)を測定したところ、25%であった。
アクリル系エマルジョン(Zeneca社製BT−17
5)30g、分散剤(Zeneca社製ソルスパ−ス2
7000)8g、純水82gを混練機で混合し水性イン
クを得た。B型粘度計で粘度を測定したところ、320
cpであった。スクリ−ン印刷機(ミノ社製EA−15
15)を用いて200版で、白PET(160μm)に
印刷した。印刷膜厚さ20μmで、吸光光度計UV−3
100sで赤外線吸収率(977nm)を測定したとこ
ろ、22%であった。
溶解し、200Lとした。攪拌しながら温度95℃に1
20分間保持した。できた沈殿物をろ過、水洗した後、
900℃、2時間焼成した。できた酸化イットリウムの
粒径を電子顕微鏡写真で観察すると、二次粒子が0.2
μmであった。X線回折法のWilson法で結晶子を
測定すると25nmであった。波長977nmの赤外線
吸収率を島津製作所の吸光光度計UV−3100sでB
aSO4を標準物質として反射率を測定し、吸収率=1
00%−反射率から求めると、吸収率は0%であった。
比表面積をBET法で測定すると12m2/gであっ
た。 (2)赤外線反射インクの製造と印刷 できた酸化イットリウムを用いて、赤外線反射インクを
試作した。酸化イットリウム80gに、塩酢酸ビニル
(積水化学社製エレックスA)8g、ポリウレタンエラ
ストマー(日本ポリウレタン社製N−2304)20
g、イソシアネート硬化剤6g、イソホロン96gを混
練機で混合した。B型粘度計で粘度を測定すると430
cpであった。スクリ−ン印刷機(ミノ社製EA−15
15)を用いて250メッシュ版で、白PET(160
μm)に印刷膜厚さ10μmに印刷した。この上に実施
例1(2)で試作した油性赤外線吸収インクをクリ−ン
印刷機(ミノ社製EA−1515)を用いて250メッ
シュ版で印刷膜厚さ20μmに印刷した。波長977n
mの赤外線吸収率を測定したところ、35%であった。
平9−104857号公報の実施例1)は、平均粒径1
μmであり、比表面積をBET法で測定すると13m2
/gであった。結晶子は25nm、赤外線吸収率は60
%であった。酸化イッテルビウム−RU品60gに、ア
クリル系エマルジョン(Zeneca社製BT−17
5)30g、分散剤(Zeneca社製ソルスパ−ス2
7000)8g、純水102gを混練機で混合し水性イ
ンクを得た。B型粘度計で粘度を測定したところ、46
0cpであった。スクリ−ン印刷機(ミノ社製EA−1
515)を用いて200メッシュ版で、白PET(16
0μm)に印刷した。印刷膜厚さ20μmで、赤外線吸
収率は16%であった。
吸収率は20%以上であるのに対して、比較例1では、
印刷膜厚さ20μmで赤外線吸収率は20%に満たなか
った。
外線吸収材を提供でき、印刷膜の時の吸収率が高いイン
クと、目視できないが、光学的に認識できるステレス印
刷法を提供できる。
Claims (4)
- 【請求項1】 酸化イッテルビウムを含んでなる赤外線
吸収材料において、該酸化イッテルビウムが、電子顕微
鏡写真で観察される二次粒子径が0.35μm未満であ
り、X線回折法で測定される結晶子が30nm 以上で
あり、BET法による比表面積が10m2/g以下であ
り、波長977nmの光吸収率が70%以上であること
を特徴とする赤外線吸収材料。 - 【請求項2】 30〜70重量%の上記赤外線吸収材料
と、20重量%以下のバインダーと、残部の溶媒とを含
有し、樹脂の上に厚さ20μmに塗布したときの波長9
77nmの光吸収率が20%以上である赤外線吸収イン
ク。 - 【請求項3】 請求項2に記載の赤外線吸収インクを用
いて得られる、波長977nmの光吸収率が30%以上
である印刷パタ−ン。 - 【請求項4】 請求項2に記載の赤外線吸収インクと、
赤外線反射インクとを用いて得られる、波長977nm
の光吸収率が30%以上である印刷パタ−ン。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001208880A JP4677132B2 (ja) | 2001-07-10 | 2001-07-10 | 赤外線吸収材料、赤外線吸収インク及び印刷パターン |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001208880A JP4677132B2 (ja) | 2001-07-10 | 2001-07-10 | 赤外線吸収材料、赤外線吸収インク及び印刷パターン |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003020471A true JP2003020471A (ja) | 2003-01-24 |
JP4677132B2 JP4677132B2 (ja) | 2011-04-27 |
Family
ID=19044620
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001208880A Expired - Fee Related JP4677132B2 (ja) | 2001-07-10 | 2001-07-10 | 赤外線吸収材料、赤外線吸収インク及び印刷パターン |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4677132B2 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0967119A (ja) * | 1995-08-30 | 1997-03-11 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 希土類元素酸化物 |
JPH09104857A (ja) * | 1995-10-11 | 1997-04-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 赤外線吸収材料、赤外線吸収インキおよび不可視パターン |
JPH10158629A (ja) * | 1996-11-29 | 1998-06-16 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 赤外線吸収材料用イッテルビウム酸化物球状微粒子およびその製造方法 |
JPH1135320A (ja) * | 1997-07-17 | 1999-02-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 希土類元素酸化物球状単分散微粒子の製造方法 |
JPH11198537A (ja) * | 1998-01-12 | 1999-07-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 感熱破壊型パターン形成用複合体 |
-
2001
- 2001-07-10 JP JP2001208880A patent/JP4677132B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0967119A (ja) * | 1995-08-30 | 1997-03-11 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 希土類元素酸化物 |
JPH09104857A (ja) * | 1995-10-11 | 1997-04-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 赤外線吸収材料、赤外線吸収インキおよび不可視パターン |
JPH10158629A (ja) * | 1996-11-29 | 1998-06-16 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 赤外線吸収材料用イッテルビウム酸化物球状微粒子およびその製造方法 |
JPH1135320A (ja) * | 1997-07-17 | 1999-02-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 希土類元素酸化物球状単分散微粒子の製造方法 |
JPH11198537A (ja) * | 1998-01-12 | 1999-07-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 感熱破壊型パターン形成用複合体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4677132B2 (ja) | 2011-04-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100773221B1 (ko) | 복합물 입자 | |
KR100993131B1 (ko) | 산화티탄 분산액 조성물, 및 이를 보존하기 위한 방법 및 용기 | |
Karvinen | The effects of trace element doping on the optical properties and photocatalytic activity of nanostructured titanium dioxide | |
US8257612B2 (en) | Compositions having multiple responses to excitation radiation and methods for making same | |
KR100916930B1 (ko) | 세라믹 분산액, 이의 제조방법 및 이를 사용한 친수성피복제 | |
EP3252116B1 (en) | Near-infrared ray absorbing microparticle dispersion solution and production method thereof | |
EP1990312A2 (en) | Security pigments and the process of making thereof | |
DE69701077T2 (de) | Nichtstöchiometrisches Ytterbiumphosphatpulver mit niedrigem Infrarot-Reflexionsvermögen | |
US6479141B1 (en) | Photocatalytic coating composition and product having photocatalytic thin film | |
Darshan et al. | Nucleation and self-assembly dynamics of hierarchical YAlO3: Ce3+ architectures: nano probe for in vitro dermatoglyphics and anti-mimetic applications | |
EP1153999B1 (en) | Photocatalytic coating composition and product having thin photocatalytic film | |
EP2133311B1 (en) | Zirconium oxalate sol | |
JPH1095617A (ja) | 板状酸化チタンおよびその製造方法ならびにそれを含有してなる日焼け止め化粧料、樹脂組成物、塗料組成物、吸着剤、イオン交換剤、複合酸化物前駆体 | |
CN109789396A (zh) | 可见光响应型光催化氧化钛微粒混合物、其分散液、分散液的制造方法、光催化剂薄膜和在表面具有光催化剂薄膜的构件 | |
CN1327437A (zh) | 光吸收图案覆膜制品的制造方法和光吸收图案覆膜制品 | |
CN105899077A (zh) | 抗病毒性组合物、抗病毒剂、光催化剂以及病毒灭活方法 | |
JP4382607B2 (ja) | 酸化チタン粒子 | |
JP2004346261A (ja) | サーモクロミック材料、およびそれを用いたサーモクロミックフィルムまたはサーモクロミックガラス | |
KR100820219B1 (ko) | 광기능성 분체 및 그 용도 | |
JP2003020471A (ja) | 赤外線吸収材料、赤外線吸収インク及び印刷パターン | |
JP2005318999A (ja) | 抗菌性消臭剤およびその製造方法 | |
JP3797812B2 (ja) | 無機蛍光体およびその製造方法 | |
JP4256133B2 (ja) | 針状二酸化チタン微粒子の製造方法 | |
JP2003221230A (ja) | セラミックス分散液およびその製造方法 | |
JP4273392B2 (ja) | 紫外線遮蔽剤として有用な二酸化チタン/チタン酸ストロンチウム複合微粒子およびその製造法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070724 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100803 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100806 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101001 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110106 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110131 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140204 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |