JP2003014911A - 光散乱反射基板及びその製造方法 - Google Patents
光散乱反射基板及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光散乱膜と反射膜の密着性を向上させると共
に、耐久性や耐薬品性を向上させることができる光散乱
反射基板及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 光散乱反射基板１は、ソーダライムシリ
ケート製のガラス基板２と、ガラス基板２上に形成され
た凹凸形状の光散乱膜３と、光散乱膜３の凹凸形状に沿
って成膜された反射膜４とを備える。光散乱膜３は、酸
化珪素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸
化チタン（チタニア）等の無機材料にバインダーとして
有機材料から成る光感光性樹脂を添加したものをガラス
基板２表面に塗布してフォトリソグラフ法により所望の
凹凸形状に成形される。
に、耐久性や耐薬品性を向上させることができる光散乱
反射基板及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 光散乱反射基板１は、ソーダライムシリ
ケート製のガラス基板２と、ガラス基板２上に形成され
た凹凸形状の光散乱膜３と、光散乱膜３の凹凸形状に沿
って成膜された反射膜４とを備える。光散乱膜３は、酸
化珪素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸
化チタン（チタニア）等の無機材料にバインダーとして
有機材料から成る光感光性樹脂を添加したものをガラス
基板２表面に塗布してフォトリソグラフ法により所望の
凹凸形状に成形される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光散乱反射基板及
びその製造方法に関し、特に、液晶ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）等に好適に用いられる光散乱反射基板及びその製造
方法に関する。
びその製造方法に関し、特に、液晶ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）等に好適に用いられる光散乱反射基板及びその製造
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）等で
は、ガラス基板の表面に凹凸形状の有機樹脂製の光散乱
膜を形成した光散乱反射基板が用いられている。光散乱
反射基板は、通常、フォトマスクを使用してアクリル系
の光感光性樹脂の所定部分に光を当てて硬化させ、未硬
化部分を洗い流して凹凸形状を形成するフォトリソグラ
フ法により作製されていた（例えば、特開２００１−１
３４９５号公報）。
は、ガラス基板の表面に凹凸形状の有機樹脂製の光散乱
膜を形成した光散乱反射基板が用いられている。光散乱
反射基板は、通常、フォトマスクを使用してアクリル系
の光感光性樹脂の所定部分に光を当てて硬化させ、未硬
化部分を洗い流して凹凸形状を形成するフォトリソグラ
フ法により作製されていた（例えば、特開２００１−１
３４９５号公報）。
【０００３】フォトリソグラフ法において、光散乱膜と
して使用される光感光性樹脂の多くは有機材料を主成分
としているが、物性の変更を目的に一部無機材料を添加
する場合があった（例えば、特開平１１−３２７１２５
号公報）。
して使用される光感光性樹脂の多くは有機材料を主成分
としているが、物性の変更を目的に一部無機材料を添加
する場合があった（例えば、特開平１１−３２７１２５
号公報）。
【０００４】
【発明が解決しようとしている課題】しかしながら、上
記従来の光散乱反射基板では、光散乱膜自体が１００％
有機材料で構成されており、該光散乱膜上に成膜される
無機材料から成る反射膜と化学的性質や熱膨張率が異な
るので光散乱膜と反射膜との接着性（密着性）が乏し
く、反射膜が容易に剥離しやすいという問題がある。ま
た、有機材料から成る光散乱膜が有機材料内の吸着成分
や内部の未反応成分をガスとして放出するので反射膜が
劣化するという問題もある。
記従来の光散乱反射基板では、光散乱膜自体が１００％
有機材料で構成されており、該光散乱膜上に成膜される
無機材料から成る反射膜と化学的性質や熱膨張率が異な
るので光散乱膜と反射膜との接着性（密着性）が乏し
く、反射膜が容易に剥離しやすいという問題がある。ま
た、有機材料から成る光散乱膜が有機材料内の吸着成分
や内部の未反応成分をガスとして放出するので反射膜が
劣化するという問題もある。
【０００５】さらに、有機材料は、ＬＣＤに要求される
耐久性や耐薬品性に対して十分な余裕がなく、ガラス転
移点（Ｔｇ）や分解温度が低いことから反射膜を成膜す
る工程で基板の加熱処理ができず、基板温度を３００℃
まで加熱する真空蒸着法等が使用できないので、製造方
法の選択が制限されるという問題がある。
耐久性や耐薬品性に対して十分な余裕がなく、ガラス転
移点（Ｔｇ）や分解温度が低いことから反射膜を成膜す
る工程で基板の加熱処理ができず、基板温度を３００℃
まで加熱する真空蒸着法等が使用できないので、製造方
法の選択が制限されるという問題がある。
【０００６】本発明は、光散乱膜と反射膜の密着性を向
上させると共に、耐久性や耐薬品性を向上させることが
できる光散乱反射基板及びその製造方法を提供すること
を目的とする。
上させると共に、耐久性や耐薬品性を向上させることが
できる光散乱反射基板及びその製造方法を提供すること
を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１記載の光散乱反射基板は、基板と、前記基
板上に形成された凹凸形状の光散乱膜と、該光散乱膜上
に形成された反射膜とを有する光散乱反射基板におい
て、前記光散乱膜は無機材料を主成分とすることを特徴
とする。
に、請求項１記載の光散乱反射基板は、基板と、前記基
板上に形成された凹凸形状の光散乱膜と、該光散乱膜上
に形成された反射膜とを有する光散乱反射基板におい
て、前記光散乱膜は無機材料を主成分とすることを特徴
とする。
【０００８】請求項１記載の光散乱反射基板によれば、
光散乱膜は無機材料を主成分とするので、光散乱膜と反
射膜の密着性を向上させると共に耐久性や耐薬品性を向
上させることができる。
光散乱膜は無機材料を主成分とするので、光散乱膜と反
射膜の密着性を向上させると共に耐久性や耐薬品性を向
上させることができる。
【０００９】請求項２記載の光散乱反射基板は、請求項
１記載の光散乱反射基板において、前記無機材料は金属
酸化物から成ることを特徴とする。
１記載の光散乱反射基板において、前記無機材料は金属
酸化物から成ることを特徴とする。
【００１０】請求項２記載の光散乱反射基板によれば、
無機材料は金属酸化物から成るので、光散乱膜と反射膜
の密着性をさらに向上させることができる。
無機材料は金属酸化物から成るので、光散乱膜と反射膜
の密着性をさらに向上させることができる。
【００１１】上記目的を達成するために、請求項３記載
の光散乱反射基板の製造方法は、基板上に光散乱膜を形
成する光散乱膜形成工程と、前記光散乱膜上に反射膜を
形成する反射膜形成工程とを有する光散乱反射基板の製
造方法において、前記光散乱膜は無機材料を主成分と
し、前記光散乱膜形成工程では、前記光散乱膜をフォト
リソグラフ法により所望の凹凸形状に成形することを特
徴とする。
の光散乱反射基板の製造方法は、基板上に光散乱膜を形
成する光散乱膜形成工程と、前記光散乱膜上に反射膜を
形成する反射膜形成工程とを有する光散乱反射基板の製
造方法において、前記光散乱膜は無機材料を主成分と
し、前記光散乱膜形成工程では、前記光散乱膜をフォト
リソグラフ法により所望の凹凸形状に成形することを特
徴とする。
【００１２】請求項３記載の光散乱反射基板の製造方法
によれば、光散乱膜は無機材料を主成分とし、光散乱膜
形成工程では、光散乱膜をフォトリソグラフ法により所
望の凹凸形状に成形するので、光散乱膜と反射膜の密着
性を向上させると共に耐久性や耐薬品性を向上させ、加
えて、光散乱膜を容易に凹凸形状に形成することができ
る。
によれば、光散乱膜は無機材料を主成分とし、光散乱膜
形成工程では、光散乱膜をフォトリソグラフ法により所
望の凹凸形状に成形するので、光散乱膜と反射膜の密着
性を向上させると共に耐久性や耐薬品性を向上させ、加
えて、光散乱膜を容易に凹凸形状に形成することができ
る。
【００１３】上記目的を達成するために、請求項４記載
の光散乱反射基板の製造方法は、基板上に光散乱膜を形
成する光散乱膜形成工程と、前記光散乱膜上に反射膜を
形成する反射膜形成工程とを有する光散乱反射基板の製
造方法において、前記光散乱膜は無機材料を主成分と
し、前記光散乱膜形成工程では、前記光散乱膜を金型を
用いた転写法により所望の凹凸形状に成形することを特
徴とする。
の光散乱反射基板の製造方法は、基板上に光散乱膜を形
成する光散乱膜形成工程と、前記光散乱膜上に反射膜を
形成する反射膜形成工程とを有する光散乱反射基板の製
造方法において、前記光散乱膜は無機材料を主成分と
し、前記光散乱膜形成工程では、前記光散乱膜を金型を
用いた転写法により所望の凹凸形状に成形することを特
徴とする。
【００１４】請求項４記載の光散乱反射基板の製造方法
によれば、光散乱膜は無機材料を主成分とし、光散乱膜
形成工程では、光散乱膜を金型を用いた転写法により所
望の凹凸形状に成形するので、光散乱膜と反射膜の密着
性を向上させると共に耐久性や耐薬品性を向上させ、加
えて、光散乱膜を容易に凹凸形状に形成することができ
る。
によれば、光散乱膜は無機材料を主成分とし、光散乱膜
形成工程では、光散乱膜を金型を用いた転写法により所
望の凹凸形状に成形するので、光散乱膜と反射膜の密着
性を向上させると共に耐久性や耐薬品性を向上させ、加
えて、光散乱膜を容易に凹凸形状に形成することができ
る。
【００１５】上記目的を達成するために、請求項５記載
の光散乱反射基板の製造方法は、基板上に光散乱膜を形
成する光散乱膜形成工程と、前記光散乱膜上に反射膜を
形成する反射膜形成工程とを有する光散乱反射基板の製
造方法において、前記光散乱膜は無機材料を主成分と
し、前記光散乱膜形成工程では、前記光散乱膜を当該光
散乱膜内に微粒子を内包させることにより所望の凹凸形
状に成形することを特徴とする。
の光散乱反射基板の製造方法は、基板上に光散乱膜を形
成する光散乱膜形成工程と、前記光散乱膜上に反射膜を
形成する反射膜形成工程とを有する光散乱反射基板の製
造方法において、前記光散乱膜は無機材料を主成分と
し、前記光散乱膜形成工程では、前記光散乱膜を当該光
散乱膜内に微粒子を内包させることにより所望の凹凸形
状に成形することを特徴とする。
【００１６】請求項５記載の光散乱反射基板の製造方法
によれば、光散乱膜は無機材料を主成分とし、光散乱膜
形成工程では、光散乱膜を当該光散乱膜内に微粒子を内
包させることにより所望の凹凸形状に成形するので、光
散乱膜と反射膜の密着性を向上させると共に耐久性や耐
薬品性を向上させ、加えて、光散乱膜を容易に凹凸形容
に形成することができる。
によれば、光散乱膜は無機材料を主成分とし、光散乱膜
形成工程では、光散乱膜を当該光散乱膜内に微粒子を内
包させることにより所望の凹凸形状に成形するので、光
散乱膜と反射膜の密着性を向上させると共に耐久性や耐
薬品性を向上させ、加えて、光散乱膜を容易に凹凸形容
に形成することができる。
【００１７】請求項６記載の光散乱反射基板の製造方法
は、請求項５記載の光散乱反射基板の製造方法におい
て、前記微粒子は無機材料から成ることを特徴とする。
は、請求項５記載の光散乱反射基板の製造方法におい
て、前記微粒子は無機材料から成ることを特徴とする。
【００１８】請求項６記載の光散乱反射基板の製造方法
によれば、前記微粒子は無機材料から成るので、請求項
５記載の製造方法による効果を確実に奏することができ
る。
によれば、前記微粒子は無機材料から成るので、請求項
５記載の製造方法による効果を確実に奏することができ
る。
【００１９】
【発明の実施の形態】本発明者等は、上記目的を達成す
べく鋭意研究を行った結果、基板と、基板上に形成され
た凹凸形状の光散乱膜と、該光散乱膜上に形成された反
射膜とを有する光散乱反射基板において、光散乱膜は無
機材料を主成分とすると、光散乱膜と反射膜の密着性を
向上させると共に耐久性や耐薬品性を向上させることを
見い出した。
べく鋭意研究を行った結果、基板と、基板上に形成され
た凹凸形状の光散乱膜と、該光散乱膜上に形成された反
射膜とを有する光散乱反射基板において、光散乱膜は無
機材料を主成分とすると、光散乱膜と反射膜の密着性を
向上させると共に耐久性や耐薬品性を向上させることを
見い出した。
【００２０】また、基板上に光散乱膜を形成する光散乱
膜形成工程と、光散乱膜上に反射膜を形成する反射膜形
成工程とを有する光散乱反射基板の製造方法において、
光散乱膜は無機材料を主成分とし、光散乱膜形成工程で
は、光散乱膜をフォトリソグラフ法により所望の凹凸形
状を成形し、光散乱膜を金型を用いた転写法により所望
の凹凸形状に成形し、又は光散乱膜を当該光散乱膜内に
微粒子を内包させることにより所望の凹凸形状に成形す
ると、光散乱膜と反射膜の密着性を向上させると共に耐
久性や耐薬品性を向上させ、加えて、光散乱膜を容易に
凹凸形状に形成できることを見い出した。
膜形成工程と、光散乱膜上に反射膜を形成する反射膜形
成工程とを有する光散乱反射基板の製造方法において、
光散乱膜は無機材料を主成分とし、光散乱膜形成工程で
は、光散乱膜をフォトリソグラフ法により所望の凹凸形
状を成形し、光散乱膜を金型を用いた転写法により所望
の凹凸形状に成形し、又は光散乱膜を当該光散乱膜内に
微粒子を内包させることにより所望の凹凸形状に成形す
ると、光散乱膜と反射膜の密着性を向上させると共に耐
久性や耐薬品性を向上させ、加えて、光散乱膜を容易に
凹凸形状に形成できることを見い出した。
【００２１】以下、本発明の実施の形態に係る光散乱反
射基板について図面を参照して説明する。
射基板について図面を参照して説明する。
【００２２】図１は、本発明の実施の形態に係る光散乱
反射基板の模式構造を示す断面図である。
反射基板の模式構造を示す断面図である。
【００２３】図１において、光散乱反射基板１は、ソー
ダライムシリケート製のガラス基板２と、ガラス基板２
上に形成された凹凸形状の光散乱膜３と、光散乱膜３の
凹凸形状に沿って成膜された反射膜４とを有する。光散
乱膜３と反射膜４とは光散乱反射膜５を構成し、該光散
乱反射膜５は表面の凹凸形状によって光を拡散反射する
機能を備える。
ダライムシリケート製のガラス基板２と、ガラス基板２
上に形成された凹凸形状の光散乱膜３と、光散乱膜３の
凹凸形状に沿って成膜された反射膜４とを有する。光散
乱膜３と反射膜４とは光散乱反射膜５を構成し、該光散
乱反射膜５は表面の凹凸形状によって光を拡散反射する
機能を備える。
【００２４】光散乱膜３には無機材料を主成分としたも
のが好ましい。無機材料は、粒子として入手可能なもの
が好ましいが、特に、酸化珪素（シリカ）、酸化アルミ
ニウム（アルミナ）、酸化チタン（チタニア）等が種類
も多く、入手が容易であるために好適である。
のが好ましい。無機材料は、粒子として入手可能なもの
が好ましいが、特に、酸化珪素（シリカ）、酸化アルミ
ニウム（アルミナ）、酸化チタン（チタニア）等が種類
も多く、入手が容易であるために好適である。
【００２５】また、光散乱膜３には、無機成分同士のバ
インダー（接着剤）として微量の有機成分を添加する。
光散乱膜３をシリカ等の無機材料のみで作製しようする
と、該光散乱膜３が有する凹凸形状を保持するためにガ
ラス基板２の無機成分及び光散乱膜３の無機成分同士を
強固に結合させる必要があり、その際に焼結による高温
処理を必要とする。その結果、ガラス基板２自体の平滑
性が失われるので、これを回避するために無機材料にバ
インダーとして微量の有機成分を添加する。
インダー（接着剤）として微量の有機成分を添加する。
光散乱膜３をシリカ等の無機材料のみで作製しようする
と、該光散乱膜３が有する凹凸形状を保持するためにガ
ラス基板２の無機成分及び光散乱膜３の無機成分同士を
強固に結合させる必要があり、その際に焼結による高温
処理を必要とする。その結果、ガラス基板２自体の平滑
性が失われるので、これを回避するために無機材料にバ
インダーとして微量の有機成分を添加する。
【００２６】有機成分としては、無機成分同士を結合す
ることができる材料であって、入手し易いものが好まし
いが、光散乱膜３を凹凸形状に成形する際の容易さから
光感光性樹脂が好適である。光感光性樹脂はネガ型樹脂
とポジ型樹脂があるが、そのどちらでも使用可能であ
る。例えば、ポジ型樹脂としてはポリビニルフェノール
系の樹脂等が好ましく、ネガ型樹脂としてはスチリルピ
リジン系の樹脂等が好ましい。
ることができる材料であって、入手し易いものが好まし
いが、光散乱膜３を凹凸形状に成形する際の容易さから
光感光性樹脂が好適である。光感光性樹脂はネガ型樹脂
とポジ型樹脂があるが、そのどちらでも使用可能であ
る。例えば、ポジ型樹脂としてはポリビニルフェノール
系の樹脂等が好ましく、ネガ型樹脂としてはスチリルピ
リジン系の樹脂等が好ましい。
【００２７】反射膜４は５０％以上の反射率を有する金
属薄膜が用いられる。金属薄膜の材料としては、アルミ
ニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、若しくはこれらの金属を
主成分とする合金から選択されるが、金属薄膜は単層で
も、複数種類の金属から成る複層でもよい。また、反射
膜４の反射率を向上させるために誘電体から成る増反射
層を金属薄膜に加えてもよい。
属薄膜が用いられる。金属薄膜の材料としては、アルミ
ニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、若しくはこれらの金属を
主成分とする合金から選択されるが、金属薄膜は単層で
も、複数種類の金属から成る複層でもよい。また、反射
膜４の反射率を向上させるために誘電体から成る増反射
層を金属薄膜に加えてもよい。
【００２８】光散乱膜３は、その表面を所望の凹凸形状
に成形する方法としてフォトリソグラフ法により形成さ
れるのが好ましい。フォトリソグラフ法は、図２に示す
ように、（ａ）レジスト塗布、（ｂ）プリベーク、
（ｃ）露光、（ｄ）現像、（ｅ）熱処理、（ｆ）ポスト
ベーク、及び（ｇ）反射膜成膜の各工程から成る。
に成形する方法としてフォトリソグラフ法により形成さ
れるのが好ましい。フォトリソグラフ法は、図２に示す
ように、（ａ）レジスト塗布、（ｂ）プリベーク、
（ｃ）露光、（ｄ）現像、（ｅ）熱処理、（ｆ）ポスト
ベーク、及び（ｇ）反射膜成膜の各工程から成る。
【００２９】（ａ）レジスト塗布工程では、無機材料を
主成分とする光感光性樹脂をガラス基板１の表面にスピ
ンコートで塗布し、（ｂ）プリベーク工程では、光感光
性樹脂が塗布されたガラス基板１をホットプレートによ
りプリベークする。次に、（ｃ）露光工程では、フォト
マスクを用いて光感光性樹脂の露光を行い、（ｄ）現像
工程では、露光された光感光性樹脂の表面を現像液によ
り現像する。（ｅ）熱処理工程では、光感光性樹脂表面
の凹凸形状が大きく変化しない程度に熱溶融（リフロ
ー）を行い、（ｆ）ポストベーク工程では、全体を加熱
することにより樹脂を硬化し、光散乱膜３の凹凸形状を
成形する。さらに、（ｇ）反射膜成膜では、光散乱膜３
上にスパッタリング法や真空蒸着法等を用いて金属や誘
電体等の無機材料から成る反射膜４を成膜し、光散乱反
射基板１を作製する。
主成分とする光感光性樹脂をガラス基板１の表面にスピ
ンコートで塗布し、（ｂ）プリベーク工程では、光感光
性樹脂が塗布されたガラス基板１をホットプレートによ
りプリベークする。次に、（ｃ）露光工程では、フォト
マスクを用いて光感光性樹脂の露光を行い、（ｄ）現像
工程では、露光された光感光性樹脂の表面を現像液によ
り現像する。（ｅ）熱処理工程では、光感光性樹脂表面
の凹凸形状が大きく変化しない程度に熱溶融（リフロ
ー）を行い、（ｆ）ポストベーク工程では、全体を加熱
することにより樹脂を硬化し、光散乱膜３の凹凸形状を
成形する。さらに、（ｇ）反射膜成膜では、光散乱膜３
上にスパッタリング法や真空蒸着法等を用いて金属や誘
電体等の無機材料から成る反射膜４を成膜し、光散乱反
射基板１を作製する。
【００３０】また、光散乱膜３の形成方法としては、ガ
ラス基板２上に無機材料を主成分とした光感光性樹脂を
塗布し、該光感光性樹脂表面に所望形状の金型を用いた
転写法により所望の凹凸形状を成形し、その後加熱硬化
又は光硬化させる方法を用いてもよい。
ラス基板２上に無機材料を主成分とした光感光性樹脂を
塗布し、該光感光性樹脂表面に所望形状の金型を用いた
転写法により所望の凹凸形状を成形し、その後加熱硬化
又は光硬化させる方法を用いてもよい。
【００３１】さらに、光散乱膜３の他の形成方法として
は、ガラス基板２上に無機材料から成る微粒子を内包さ
せた光感光性材料を塗布し、その後乾燥、焼付け工程に
より硬化させる方法を用いてもよい。この方法により作
製された光散乱反射基板１の断面図を図３に示す。
は、ガラス基板２上に無機材料から成る微粒子を内包さ
せた光感光性材料を塗布し、その後乾燥、焼付け工程に
より硬化させる方法を用いてもよい。この方法により作
製された光散乱反射基板１の断面図を図３に示す。
【００３２】図３において、光散乱反射基板１は、ガラ
ス基板２と、ガラス基板２上に形成された凹凸形状の光
散乱膜６と、光散乱膜６の凹凸形状に沿って形成された
反射膜４とを有する。光散乱膜６は、複数の球形の微粒
子７を内包し、この微粒子７によって表面が凹凸形状に
形成される。微粒子７は、形状が微細な球形で粒径が
０．００１〜１μｍ、好ましくは０．００５〜０．０５
μｍであるのがよく、材料としては、シリカ粉末、酸化
珪素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）酸化チ
タン（チタニア）、酸化ジルコニウム（ジルコニア）、
酸化亜鉛、酸化鉛、酸化イットリウム等の無機材料が好
適である。
ス基板２と、ガラス基板２上に形成された凹凸形状の光
散乱膜６と、光散乱膜６の凹凸形状に沿って形成された
反射膜４とを有する。光散乱膜６は、複数の球形の微粒
子７を内包し、この微粒子７によって表面が凹凸形状に
形成される。微粒子７は、形状が微細な球形で粒径が
０．００１〜１μｍ、好ましくは０．００５〜０．０５
μｍであるのがよく、材料としては、シリカ粉末、酸化
珪素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）酸化チ
タン（チタニア）、酸化ジルコニウム（ジルコニア）、
酸化亜鉛、酸化鉛、酸化イットリウム等の無機材料が好
適である。
【００３３】上記方法において、凹凸形状をより精密に
成形する場合は、細かい球形の微粒子７を内包した無機
材料をガラス基板２上に塗布し、該塗布面に所望形状の
金型を密着させつつ焼付けを行うことにより、所望の凹
凸形状を転写するのがよい。
成形する場合は、細かい球形の微粒子７を内包した無機
材料をガラス基板２上に塗布し、該塗布面に所望形状の
金型を密着させつつ焼付けを行うことにより、所望の凹
凸形状を転写するのがよい。
【００３４】上記実施の形態では、光感光性樹脂をバイ
ンダー成分として挙げているが、熱硬化性樹脂をバイン
ダー成分として用いてもよい。この場合、熱硬化性樹脂
を赤外線や電磁誘導加熱で局部的に硬化させ、未硬化部
分は除去する方法により光散乱膜３の凹凸形状を成形す
るようにしてもよい。
ンダー成分として挙げているが、熱硬化性樹脂をバイン
ダー成分として用いてもよい。この場合、熱硬化性樹脂
を赤外線や電磁誘導加熱で局部的に硬化させ、未硬化部
分は除去する方法により光散乱膜３の凹凸形状を成形す
るようにしてもよい。
【００３５】
【実施例】次に、本発明の実施例を具体的に説明する。
【００３６】実施例１
本発明者等は、無機成分としてコロイダルシリカ（日産
化学工業社製ＰＧＭＥＡ−シリカゾル）と、バインダー
としてポリビニルフェノール系レジスト（クラリアント
社製ＡＺ−ＤＸ５４００Ｐ）とを使用してフォトリソグ
ラフ法により光散乱膜３を作製した。
化学工業社製ＰＧＭＥＡ−シリカゾル）と、バインダー
としてポリビニルフェノール系レジスト（クラリアント
社製ＡＺ−ＤＸ５４００Ｐ）とを使用してフォトリソグ
ラフ法により光散乱膜３を作製した。
【００３７】すなわち、コロイダルシリカ（３０ｗｔ％
溶液）７．５ｇとレジスト溶液（溶媒）２ｇとを混合し
た塗布液をソーダライムシリケート製のガラス基板２上
にコーティング（厚さ：１μｍ）した後、溶媒の乾燥
（９０℃、３０ｓｅｃの加熱処理）、露光（フォトマス
クを使用して１０００ｍＪ／ｃｍ2で露光）、増感（光
散乱膜３の凹凸形状のコントラストを向上させるために
９０℃、３０ｓｅｃの加熱処理）、現像（ＰＤＡ５２３
ＡＤ（ＪＳＲ製）による１０ｓｅｃの現像）、リンス
（純水によるシャワー洗浄）、乾燥、及び固定（２００
℃、３０ｍｉｎの加熱処理）の各工程から成るフォトリ
ソグラフ法により光散乱膜３を作製した。この光散乱膜
３上にアルミ製の反射膜４を真空蒸着法により成膜して
光散乱反射基板１を作製し、その密着性（接着性）をク
ロスカットピール試験（ＪＩＳ Ｋ５４００ ３．５）
により評価した。評価結果は、クロスカットで１ｍｍ×
１ｍｍの碁盤目に区分された１００カ所の部分のうち剥
離しなかった部分の数を表１に示した。
溶液）７．５ｇとレジスト溶液（溶媒）２ｇとを混合し
た塗布液をソーダライムシリケート製のガラス基板２上
にコーティング（厚さ：１μｍ）した後、溶媒の乾燥
（９０℃、３０ｓｅｃの加熱処理）、露光（フォトマス
クを使用して１０００ｍＪ／ｃｍ2で露光）、増感（光
散乱膜３の凹凸形状のコントラストを向上させるために
９０℃、３０ｓｅｃの加熱処理）、現像（ＰＤＡ５２３
ＡＤ（ＪＳＲ製）による１０ｓｅｃの現像）、リンス
（純水によるシャワー洗浄）、乾燥、及び固定（２００
℃、３０ｍｉｎの加熱処理）の各工程から成るフォトリ
ソグラフ法により光散乱膜３を作製した。この光散乱膜
３上にアルミ製の反射膜４を真空蒸着法により成膜して
光散乱反射基板１を作製し、その密着性（接着性）をク
ロスカットピール試験（ＪＩＳ Ｋ５４００ ３．５）
により評価した。評価結果は、クロスカットで１ｍｍ×
１ｍｍの碁盤目に区分された１００カ所の部分のうち剥
離しなかった部分の数を表１に示した。
【００３８】
【表１】
【００３９】表１の実施例１が示す通り、光散乱膜３と
反射膜４の密着性は１００／１００となり、良好な密着
性が得られた。また、上記塗布液の溶媒を乾燥させて吸
光分析により測定したところ、無機成分の比率は８８％
であった。
反射膜４の密着性は１００／１００となり、良好な密着
性が得られた。また、上記塗布液の溶媒を乾燥させて吸
光分析により測定したところ、無機成分の比率は８８％
であった。
【００４０】実施例２
無機成分としてシリカ粉末（例えば、アエロジル）と、
バインダーとして透明な熱硬化（又は光硬化）性樹脂
（例えば、エポキシ樹脂）とを使用し、以下の方法によ
り光散乱膜３を作製した。
バインダーとして透明な熱硬化（又は光硬化）性樹脂
（例えば、エポキシ樹脂）とを使用し、以下の方法によ
り光散乱膜３を作製した。
【００４１】すなわち、アエロジル８．５ｇと触媒硬化
型１液性エポキシ樹脂１．５ｇとを混合した塗布液をガ
ラス基板２上にコーティングした後、所望の凹凸形状を
反転させて成る金型をコーティング面側に押しつけて加
熱（又はガラス面から光照射）し、エポキシ樹脂を硬化
させた後に金型を外して冷却することにより所望の凹凸
形状が転写された光散乱膜３を作製した。この光散乱膜
３上にアルミ製の反射膜４を真空蒸着法により成膜して
光散乱反射基板１を作製し、その密着性を上述したクロ
スカットピール試験により測定したところ、表１に示す
通り、良好な密着性（１００／１００）を示した。上記
塗布液を吸光分析により測定したところ、無機成分の比
率は８５％であった。
型１液性エポキシ樹脂１．５ｇとを混合した塗布液をガ
ラス基板２上にコーティングした後、所望の凹凸形状を
反転させて成る金型をコーティング面側に押しつけて加
熱（又はガラス面から光照射）し、エポキシ樹脂を硬化
させた後に金型を外して冷却することにより所望の凹凸
形状が転写された光散乱膜３を作製した。この光散乱膜
３上にアルミ製の反射膜４を真空蒸着法により成膜して
光散乱反射基板１を作製し、その密着性を上述したクロ
スカットピール試験により測定したところ、表１に示す
通り、良好な密着性（１００／１００）を示した。上記
塗布液を吸光分析により測定したところ、無機成分の比
率は８５％であった。
【００４２】実施例３
無機成分としてシリカ粉末（例えば、アエロジル）と、
バインダーとして金属アルコキシド（例えば、テトラエ
トキシシラン：ＴＥＯＳ）とを使用し、以下の方法によ
り光散乱膜３を作製した。
バインダーとして金属アルコキシド（例えば、テトラエ
トキシシラン：ＴＥＯＳ）とを使用し、以下の方法によ
り光散乱膜３を作製した。
【００４３】すなわち、アエロジル６ｇとＴＥＯＳ２
０．８ｇとをエタノール８６ｇ及び純水７、２ｇから成
る混合溶媒に分散してＴＥＯＳを加水分解し、その加水
分解された溶液をガラス基板２上にコーティングして、
乾燥、焼付け工程を行って光散乱膜３を作製した。この
光散乱膜３上にアルミ製の反射膜４を真空蒸着法により
成膜して光散乱反射基板１を作製し、その密着性を上述
したクロスカットピール試験により測定したところ、表
１に示す通り、良好な密着性（１００／１００）を示し
た。
０．８ｇとをエタノール８６ｇ及び純水７、２ｇから成
る混合溶媒に分散してＴＥＯＳを加水分解し、その加水
分解された溶液をガラス基板２上にコーティングして、
乾燥、焼付け工程を行って光散乱膜３を作製した。この
光散乱膜３上にアルミ製の反射膜４を真空蒸着法により
成膜して光散乱反射基板１を作製し、その密着性を上述
したクロスカットピール試験により測定したところ、表
１に示す通り、良好な密着性（１００／１００）を示し
た。
【００４４】比較例１
上記実施例１と同様の方法により有機樹脂（例えば、ア
クリル系樹脂）を使用して光散乱膜３を作製し、該光散
乱膜３上にアルミ製の反射膜４をスパッタリング法によ
り成膜して光散乱反射基板１を作製し、その密着性を上
述のクロスカットピール試験により測定したところ、表
１に示す通り、一部剥離（６０／１００）を示した。
クリル系樹脂）を使用して光散乱膜３を作製し、該光散
乱膜３上にアルミ製の反射膜４をスパッタリング法によ
り成膜して光散乱反射基板１を作製し、その密着性を上
述のクロスカットピール試験により測定したところ、表
１に示す通り、一部剥離（６０／１００）を示した。
【００４５】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、請求項１記
載の光散乱反射基板によれば、光散乱膜は無機材料を主
成分とするので、光散乱膜と反射膜の密着性を向上させ
ると共に耐久性や耐薬品性を向上させることができる。
載の光散乱反射基板によれば、光散乱膜は無機材料を主
成分とするので、光散乱膜と反射膜の密着性を向上させ
ると共に耐久性や耐薬品性を向上させることができる。
【００４６】請求項２記載の光散乱反射基板によれば、
無機材料は金属酸化物から成るので、光散乱膜と反射膜
の密着性をさらに向上させることができる。
無機材料は金属酸化物から成るので、光散乱膜と反射膜
の密着性をさらに向上させることができる。
【００４７】請求項３記載の製造方法によれば、光散乱
膜は無機材料を主成分とし、光散乱膜形成工程では、光
散乱膜をフォトリソグラフ法により所望の凹凸形状に成
形するので、光散乱膜と反射膜の密着性を向上させると
共に耐久性や耐薬品性を向上させ、加えて、光散乱膜を
容易に凹凸形状に形成することができる。
膜は無機材料を主成分とし、光散乱膜形成工程では、光
散乱膜をフォトリソグラフ法により所望の凹凸形状に成
形するので、光散乱膜と反射膜の密着性を向上させると
共に耐久性や耐薬品性を向上させ、加えて、光散乱膜を
容易に凹凸形状に形成することができる。
【００４８】請求項４記載の製造方法によれば、光散乱
膜は無機材料を主成分とし、光散乱膜形成工程では、光
散乱膜を金型を用いた転写法により所望の凹凸形状に成
形するので、光散乱膜と反射膜の密着性を向上させると
共に耐久性や耐薬品性を向上させ、加えて、光散乱膜を
容易に凹凸形状に形成することができる。
膜は無機材料を主成分とし、光散乱膜形成工程では、光
散乱膜を金型を用いた転写法により所望の凹凸形状に成
形するので、光散乱膜と反射膜の密着性を向上させると
共に耐久性や耐薬品性を向上させ、加えて、光散乱膜を
容易に凹凸形状に形成することができる。
【００４９】請求項５記載の製造方法によれば、光散乱
膜は無機材料を主成分とし、光散乱膜形成工程では、光
散乱膜を当該光散乱膜内に微粒子を内包させることによ
り所望の凹凸形状に成形するので、光散乱膜と反射膜の
密着性を向上させると共に耐久性や耐薬品性を向上さ
せ、加えて、光散乱膜を容易に凹凸形状に形成すること
ができる。
膜は無機材料を主成分とし、光散乱膜形成工程では、光
散乱膜を当該光散乱膜内に微粒子を内包させることによ
り所望の凹凸形状に成形するので、光散乱膜と反射膜の
密着性を向上させると共に耐久性や耐薬品性を向上さ
せ、加えて、光散乱膜を容易に凹凸形状に形成すること
ができる。
【００５０】請求項６記載の製造方法によれば、微粒子
は無機材料から成るので、請求項５記載の製造方法によ
る効果を確実に奏することができる。
は無機材料から成るので、請求項５記載の製造方法によ
る効果を確実に奏することができる。
【図１】本発明の実施の形態に係る光散乱反射基板の模
式構造を示す断面図である。
式構造を示す断面図である。
【図２】図１における光散乱膜３を成形するフォトリソ
グラフ法の工程図である。
グラフ法の工程図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る光散乱反射基板の変
形例の模式構造を示す断面図である。
形例の模式構造を示す断面図である。
１ 光散乱反射基板
２ ガラス基板
３，６ 光散乱膜
４ 反射膜
５ 光散乱反射膜
７ 微粒子
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 荻野 悦男
大阪府大阪市中央区北浜四丁目７番28号
日本板硝子株式会社内
Ｆターム(参考） 2H042 BA04 BA15 BA20 DA02 DA04
DA12 DB00 DC02 DC08 DD10
DE04
2H091 FA16Y FA16Z FB04 FB06
FC10 FC19 FC26 GA01 LA16
Claims (6)
- 【請求項１】 基板と、前記基板上に形成された凹凸形
状の光散乱膜と、該光散乱膜上に形成された反射膜とを
有する光散乱反射基板において、前記光散乱膜は無機材
料を主成分とすることを特徴とする光散乱反射基板。 - 【請求項２】 前記無機材料は金属酸化物から成ること
を特徴とする請求項１記載の光散乱反射基板。 - 【請求項３】 基板上に光散乱膜を形成する光散乱膜形
成工程と、前記光散乱膜上に反射膜を形成する反射膜形
成工程とを有する光散乱反射基板の製造方法において、
前記光散乱膜は無機材料を主成分とし、前記光散乱膜形
成工程では、前記光散乱膜をフォトリソグラフ法により
所望の凹凸形状に成形することを特徴とする光散乱反射
基板の製造方法。 - 【請求項４】 基板上に光散乱膜を形成する光散乱膜形
成工程と、前記光散乱膜上に反射膜を形成する反射膜形
成工程とを有する光散乱反射基板の製造方法において、
前記光散乱膜は無機材料を主成分とし、前記光散乱膜形
成工程では、前記光散乱膜を金型を用いた転写法により
所望の凹凸形状に成形することを特徴とする光散乱反射
基板の製造方法。 - 【請求項５】 基板上に光散乱膜を形成する光散乱膜形
成工程と、前記光散乱膜上に反射膜を形成する反射膜形
成工程とを有する光散乱反射基板の製造方法において、
前記光散乱膜は無機材料を主成分とし、前記光散乱膜形
成工程では、前記光散乱膜を当該光散乱膜内に微粒子を
内包させることにより所望の凹凸形状に成形することを
特徴とする光散乱反射基板の製造方法。 - 【請求項６】 前記微粒子は無機材料から成ることを特
徴とする請求項５記載の光散乱反射基板の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001198382A JP2003014911A (ja) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | 光散乱反射基板及びその製造方法 |
| PCT/JP2002/006145 WO2003003076A1 (en) | 2001-06-29 | 2002-06-20 | Light scattering reflection substrate-use photosensitive resin composition, light scattering reflection substrate, and production methods therefor |
| CNA02802740XA CN1468383A (zh) | 2001-06-29 | 2002-06-20 | 光散射/反射基板用感光性树脂组合物、光散射/反射基板、及其制造方法 |
| KR10-2003-7003075A KR20040014996A (ko) | 2001-06-29 | 2002-06-20 | 광산란 반사 기판용 감광성 수지 조성물, 광산란 반사기판, 및 제조 방법 |
| US10/363,442 US20040014834A1 (en) | 2001-06-29 | 2002-06-20 | Light scattering reflection substrate-use photosensitive resin composition, light scattering reflection substrate, and production methods therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001198382A JP2003014911A (ja) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | 光散乱反射基板及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003014911A true JP2003014911A (ja) | 2003-01-15 |
Family
ID=19035845
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001198382A Pending JP2003014911A (ja) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | 光散乱反射基板及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003014911A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7313336B2 (en) | 2004-07-15 | 2007-12-25 | Ricoh Company, Ltd. | Method and apparatus for image forming capable of effectively recycling toner |
| KR101332335B1 (ko) | 2012-11-27 | 2013-11-22 | 박성원 | 광스캐닝성 향상제 조성물 및 물품의 광스캐닝성 향상 방법 |
| US9347651B2 (en) | 2013-07-31 | 2016-05-24 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device |
| WO2017007157A1 (ko) * | 2015-07-08 | 2017-01-12 | 주식회사 원덴탈시스템 | 광스캐닝성 향상제 조성물 및 물품의 광스캐닝성 향상 방법 |
-
2001
- 2001-06-29 JP JP2001198382A patent/JP2003014911A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7313336B2 (en) | 2004-07-15 | 2007-12-25 | Ricoh Company, Ltd. | Method and apparatus for image forming capable of effectively recycling toner |
| KR101332335B1 (ko) | 2012-11-27 | 2013-11-22 | 박성원 | 광스캐닝성 향상제 조성물 및 물품의 광스캐닝성 향상 방법 |
| US9347651B2 (en) | 2013-07-31 | 2016-05-24 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device |
| US9696588B2 (en) | 2013-07-31 | 2017-07-04 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device |
| WO2017007157A1 (ko) * | 2015-07-08 | 2017-01-12 | 주식회사 원덴탈시스템 | 광스캐닝성 향상제 조성물 및 물품의 광스캐닝성 향상 방법 |
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