JP2003012746A - Image recording material and polymer compound used therefor - Google Patents

Image recording material and polymer compound used therefor

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JP2003012746A
JP2003012746A JP2001193251A JP2001193251A JP2003012746A JP 2003012746 A JP2003012746 A JP 2003012746A JP 2001193251 A JP2001193251 A JP 2001193251A JP 2001193251 A JP2001193251 A JP 2001193251A JP 2003012746 A JP2003012746 A JP 2003012746A
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acid
image
alkali
compound
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Japanese (ja)
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Ippei Nakamura
一平 中村
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain both an image recording material capable of forming a high-sensitivity image by an infrared laser and an image having excellent stain prevention of non-image part and scratch resistance of image part and a high image quality, and a new polymer compound having infrared absorption ability used therefor. SOLUTION: The image recording material is characterized in that the material comprises a polymer compound having (A) a structural unit containing an alkali-soluble functional group, (B) a structural unit having a surface orientation functional group and (C) a structural unit having infrared absorption ability, and solubility in an alkali development solution is changed by infrared ray irradiation. A fluorine atom-containing group such as a perfluoroalkenyl group, a polysiloxane group, a >=5C straight or branched chain alkyl group, or the like, may be cited as the surface orientation functional group.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は赤外線レーザの露光
により画像記録可能であり、露光部分の記録層の可溶性
が変化するポジ型或いはネガ型の画像記録材料及びそれ
に用いられる高分子化合物に関し、詳細には、赤外線レ
ーザー等の近赤外領域の露光により書き込み可能であ
り、特にコンピュータ等のディジタル信号から直接製版
できるいわゆるダイレクト製版用の平版印刷版原版に好
適な、赤外線レーザ用の画像記録材料及びそれに好適に
用い得る高分子化合物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a positive-type or negative-type image recording material capable of recording an image by exposure to an infrared laser and changing the solubility of the recording layer in the exposed portion, and a polymer compound used therein. An image recording material for an infrared laser, which is writable by exposure in a near infrared region such as an infrared laser, and is particularly suitable for a lithographic printing plate precursor for so-called direct plate making, which can directly make a plate from a digital signal of a computer or the like, and The present invention relates to a polymer compound that can be preferably used.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、近赤外から赤外に発光領域を持つ
固体レーザ・半導体レーザの発達に伴い、コンピュータ
のディジタルデータから直接製版するシステムとして、
これらの赤外線レーザーを用いるものが注目されてい
る。ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平板印刷
版材料が特開平7−285275号公報に開示されてい
る。この発明は、アルカリ水溶液可溶性樹脂に、光を吸
収し熱を発生する物質と、キノンジアジド化合物類等の
ようなポジ型感光性化合物を添加した画像記録材料であ
り、画像部ではポジ型感光性化合物が、アルカリ水溶液
可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶解阻止剤と
して働き、非画像部では熱により分解して溶解阻止能を
発現しなくなり、現像により除去され得るようになっ
て、画像を形成する。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of solid-state lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from near infrared to infrared, as a system for directly making a plate from computer digital data,
The thing using these infrared lasers attracts attention. A positive type lithographic printing plate material for infrared laser for direct plate making is disclosed in JP-A-7-285275. The present invention is an image recording material in which a substance that absorbs light and generates heat and a positive photosensitive compound such as quinonediazide compounds are added to an alkali aqueous solution soluble resin, and a positive photosensitive compound is used in the image area. However, it acts as a dissolution inhibitor that substantially reduces the solubility of the alkali aqueous solution soluble resin, and in the non-image area it is decomposed by heat so that it does not develop the dissolution inhibiting ability, and it can be removed by development, and the image is Form.

【0003】一方、オニウム塩やアルカリ溶解性の低い
水素結合網を形成可能な化合物はアルカリ可溶性高分子
のアルカリ溶解抑制作用を有することが知られている。
赤外線レーザー対応画像記録材料としては、カチオン性
赤外線吸収色素をアルカリ水可溶高分子の溶解抑制剤と
して用いた組成物がポジ作用を示すことがWO97/39894
に記載されている。このポジ作用は赤外線吸収色素がレ
ーザー光を吸収し、発生する熱で照射部分の高分子膜の
溶解抑制効果を消失させて画像形成を行う作用である。
また、ネガ型の画像形成方法としては、光又は熱により
発生した酸を触媒として露光後の加熱処理により縮合架
橋反応を生起させ、露光部の記録層を硬化させて画像部
を形成する記録方式が挙げられ、このような酸触媒架橋
系の記録層を有する印刷版としては特開平7−2710
29号公報に記載されているような技術が知られてい
る。さらに、光又は熱により発生したラジカルを開始剤
として重合反応を生起させ、露光部の記録層を硬化させ
て画像部を形成する記録方式が挙げられ、このような光
又は熱による重合系の記録層を有する印刷版としては、
特開平8−108621号、特開平9−34110号の
各公報に記載されるような光重合性或いは熱重合性組成
物を感光層として用いる技術が知られている。
On the other hand, it is known that onium salts and compounds capable of forming a hydrogen bond network with low alkali solubility have an alkali dissolution inhibiting action on alkali-soluble polymers.
As an infrared laser compatible image recording material, a composition using a cationic infrared absorbing dye as a dissolution inhibitor of an alkaline water-soluble polymer exhibits a positive action.
It is described in. This positive action is a function in which the infrared absorbing dye absorbs the laser light and the generated heat eliminates the dissolution inhibiting effect of the polymer film in the irradiated portion to form an image.
Further, as a negative type image forming method, a recording method of forming an image part by curing a recording layer in an exposed part by causing a condensation crosslinking reaction by a heat treatment after exposure using an acid generated by light or heat as a catalyst As a printing plate having such an acid-catalyzed cross-linking recording layer, JP-A-7-2710 is known.
A technique described in Japanese Patent Publication No. 29 is known. Further, there is a recording method in which a polymerization reaction is caused by using a radical generated by light or heat as an initiator to cure the recording layer in the exposed area to form an image area. As the printing plate having layers,
Techniques using a photopolymerizable or thermopolymerizable composition as described in JP-A-8-108621 and JP-A-9-34110 as a photosensitive layer are known.

【0004】上記の種々の記録材料の画像形成性につい
て述べれば、感材のレーザー照射表面では画像形成反応
に十分なエネルギーが得られるものの、熱拡散、特に、
支持体として汎用のアルミニウム支持体を用いた場合、
熱伝導性が良好なため支持体への熱拡散が著しく、エネ
ルギーが画像形成に充分に利用されず、低感度であると
いう問題や、感材の深部までは十分な溶解抑制消失効
果、或いは重合による硬化反応の促進効果が得られず、
ポジ型では残膜による非画像の汚れが発生しやすく、ネ
ガ型では十分な画像強度が得られず耐傷性に劣るなどの
問題があった。画像形成材料として用いた場合の膜強度
(画像強度)を簡便に達成する目的で、例えば、US6
124425号には赤外線吸収性の官能基を側鎖に有す
るアルカリ可溶性樹脂の例が記載されている。即ち、ア
ルカリ可溶性樹脂中に光熱変換機能を有する部分構造を
導入して材料中の成分を減らすことにより膜強度を向上
しようとするものである。しかしながら、このアルカリ
可溶性樹脂は分子量が5000以上の高分子化合物であ
るために、基材への密着性が多大になるとと共に、現像
時の処理剤への溶解性が充分でなくなり、特にポジ型の
画像形成材料として用いた場合に、非画像部の溶解性が
低く、除去されるべき記録層が現像処理で充分除去され
ず、残膜となって非画像部に汚れが発生しやすいという
問題を有していた。
The image forming properties of the above various recording materials will be described. Although the laser irradiation surface of the light-sensitive material can obtain sufficient energy for the image forming reaction, thermal diffusion, especially,
When a general-purpose aluminum support is used as the support,
Since the thermal conductivity is good, the heat diffusion to the support is remarkable, the energy is not fully utilized for image formation, and the sensitivity is low. The effect of accelerating the curing reaction cannot be obtained due to
The positive type is liable to cause non-image stains due to the residual film, and the negative type has a problem that sufficient image strength cannot be obtained and the scratch resistance is poor. For the purpose of easily achieving the film strength (image strength) when used as an image forming material, for example, US6
No. 124425 describes an example of an alkali-soluble resin having an infrared absorbing functional group in its side chain. That is, it is intended to improve the film strength by introducing a partial structure having a photothermal conversion function into the alkali-soluble resin to reduce the components in the material. However, since this alkali-soluble resin is a high molecular weight compound having a molecular weight of 5000 or more, its adhesion to the base material becomes great and its solubility in the processing agent at the time of development becomes insufficient. When used as an image forming material, the solubility of the non-image area is low, the recording layer to be removed is not sufficiently removed by the development process, and a residual film is liable to cause stains on the non-image area. Had.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、赤外線レーザにより高感度で画像形成可能であり、
非画像部の汚れ防止性、画像部の耐傷性に優れ、高画質
の画像を形成しうる画像記録材料及びそれに好適に用い
得る赤外線吸収能を有する新規な高分子化合物を提供す
ることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to form an image with high sensitivity by an infrared laser,
An object of the present invention is to provide an image recording material capable of forming a high-quality image with excellent stain resistance in the non-image area and scratch resistance in the image area, and a novel polymer compound having an infrared absorbing ability which can be suitably used for the image recording material.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者は、画像記録材
料の感度及び画像形成性を改良する目的で鋭意研究を重
ねた結果、アルカリ可溶性樹脂中に、赤外線吸収能を有
する構造単位と、表面配向性の構造単位とを導入した高
分子化合物を用いることにより、前記目的を達成し得る
ことを見出し、本発明を完成した。即ち、本発明の画像
記録材料は、(A)アルカリ可溶性の官能基を有する構
造単位、(B)表面配向性の官能基を有する構造単位、
及び、(C)赤外線吸収能を有する構造単位を備える高
分子化合物を含有し、赤外線照射によりアルカリ現像液
に対する溶解性が変化することを特徴とする。また、請
求項2に係る本発明の高分子化合物は、(A)アルカリ
可溶性の官能基を有する構造単位、(B)表面配向性の
官能基を有する構造単位、及び、(C)赤外線吸収能を
有する構造単位を備えることを特徴とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION As a result of intensive studies conducted by the present inventor for the purpose of improving the sensitivity and image forming property of image recording materials, as a result, a structural unit having an infrared absorbing ability in an alkali-soluble resin, The present invention has been completed by finding that the above object can be achieved by using a polymer compound into which a structural unit having surface orientation is introduced. That is, the image recording material of the present invention comprises (A) a structural unit having an alkali-soluble functional group, (B) a structural unit having a surface-orienting functional group,
And (C) a polymer compound having a structural unit having an infrared absorbing ability, which is characterized in that its solubility in an alkali developing solution is changed by infrared irradiation. Further, the polymer compound of the present invention according to claim 2 is (A) a structural unit having an alkali-soluble functional group, (B) a structural unit having a surface-oriented functional group, and (C) an infrared absorbing ability. And a structural unit having

【0007】本発明の作用は明確ではないが、本発明の
画像記録材料に用いる高分子化合物は(B)表面配向性
の構造単位を有するので、平版印刷版原版などの記録層
として用いた場合、記録層の表面近傍に局在する傾向が
あり、支持体基板界面への吸着が起こり難くなるため
に、(C)赤外線吸収能を有する構造単位による高い感
度や画像強度などを維持したまま、非画像部の汚れ性の
みが改善されるものと考えられる。また、アルカリ可溶
性樹脂中の(B)表面配向性の構造単位は比較的表面エ
ネルギーが低く、擦れによる傷つきを効果的に防止する
と共に、溶解抑制能が維持された状態では現像液の浸透
を効果的に抑制しうるため、優れた耐傷性が達成される
ものと考えられる。
Although the action of the present invention is not clear, since the polymer compound used in the image recording material of the present invention has (B) a structural unit having a surface orientation, it is used in a recording layer such as a lithographic printing plate precursor. , Tends to be localized in the vicinity of the surface of the recording layer and is less likely to be adsorbed to the interface between the support and the substrate. Therefore, (C) while maintaining high sensitivity and image strength due to the structural unit having infrared absorbing ability, It is considered that only the stain resistance of the non-image area is improved. Further, (B) the surface-oriented structural unit in the alkali-soluble resin has a relatively low surface energy and effectively prevents scratches due to rubbing, and at the same time the dissolution inhibiting ability is maintained, the penetration of the developer is effective. It is considered that excellent scratch resistance can be achieved because the scratch resistance can be suppressed.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
まず、本発明の画像記録材料に用いられる特定のアルカ
リ可溶性高分子化合物について説明する。 〔(A)アルカリ可溶性の官能基を有する構造単位、
(B)表面配向性の官能基を有する構造単位、及び、
(C)赤外線吸収能を有する構造単位を備える高分子化
合物〕本発明で使用される(A)アルカリ可溶性の官能
基を有する構造単位、(B)表面配向性の官能基を有す
る構造単位、及び、(C)赤外線吸収能を有する構造単
位を備える高分子化合物(以下、適宜、表面配向型赤外
線吸収アルカリ可溶性樹脂と称する)としては、従来公
知の、水不溶性、且つ、アルカリ水溶液に可溶である高
分子化合物の構造中に、表面配向性を有する置換基およ
び赤外線吸収能を有する置換基(構造単位)を各々少な
くとも1種導入したものであれば、如何なるものでもよ
い。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below.
First, the specific alkali-soluble polymer compound used in the image recording material of the present invention will be described. [(A) a structural unit having an alkali-soluble functional group,
(B) a structural unit having a surface-oriented functional group, and
(C) Polymer Compound Comprising Structural Unit Having Infrared Absorption Ability] (A) Structural Unit Having Alkali-Soluble Functional Group, (B) Structural Unit Having Surface-Orienting Functional Group, and , (C) a polymer compound having a structural unit having infrared absorbing ability (hereinafter, appropriately referred to as a surface orientation type infrared absorbing alkali-soluble resin) is a conventionally known water-insoluble and soluble in an alkaline aqueous solution. Any polymer may be used as long as at least one substituent having surface orientation and at least one substituent (structural unit) having infrared absorbing ability are introduced into the structure of a polymer compound.

【0009】ベースとなる水不溶性且つアルカリ水溶性
の高分子化合物(以下、適宜、アルカリ可溶性高分子と
称する)としては、(1)フェノール性水酸基、(2)
スルホンアミド基、(3)活性イミド基のいずれかの官
能基を分子内に有する高分子化合物であることが好まし
く、(1)フェノール性水酸基を分子内に有する高分子
化合物であることが特に好ましいが、これに限定されな
い。このようなアルカリ可溶性高分子としては、例え
ば、特開2000−338651号公報に、(c)アル
カリ可溶性高分子として記載されている化合物などを挙
げることができる。
The base water-insoluble and alkali-water-soluble polymer compound (hereinafter, appropriately referred to as alkali-soluble polymer) includes (1) phenolic hydroxyl group and (2)
A polymer compound having a functional group of either a sulfonamide group or (3) an active imide group in the molecule is preferable, and a polymer compound having (1) a phenolic hydroxyl group in the molecule is particularly preferable. However, it is not limited to this. Examples of such an alkali-soluble polymer include compounds described in JP-A 2000-338651 as (c) alkali-soluble polymer.

【0010】表面配向型赤外線吸収アルカリ可溶性樹脂
として、具体的には、(b)1分子中に表面配向性基、
及び重合可能な不飽和結合をそれぞれ一つ以上有する低
分子化合物からなる重合性モノマー(以下、「(b)表
面配向型モノマーユニット」称する)と、(c)1分子
中に赤外線吸収基、及び重合可能な不飽和結合基をそれ
ぞれ一つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノマ
ー(以下、「(c)赤外線吸収モノマーユニット」と称
する)及び、アルカリ可溶性高分子化合物の好ましい重
合成分である(a−1)フェノール性水酸基を有する重
合性モノマー、(a−2)スルホンアミド基を有する重
合性モノマー、及び(a−3)活性イミド基を有する重
合性モノマーの少なくとも1種と、の共重合体、或いは
これら3種のモノマーと他の重合性モノマーとの共重合
体が挙げられる。さらに、フェノール性水酸基をアルカ
リ可溶性基とする表面配向型赤外線吸収アルカリ可溶性
樹脂としてはノボラック樹脂のようにフェノール化合物
とホルムアルデヒドなどのアルデヒド類を縮合した樹脂
を挙げることができ、その場合、縮合するフェノール化
合物とアルデヒド類のいずれか又は両方に表面配向性の
置換基および赤外線吸収性を有する置換基を有し、結果
として一分子中に、(A)アルカリ可溶性の官能基を有
する構造単位、(B)表面配向性の官能基を有する構造
単位、及び、(C)赤外線吸収能を有する構造単位の全
てを有することになる。
The surface alignment type infrared absorbing alkali-soluble resin is specifically (b) a surface alignment group in one molecule,
And a polymerizable monomer composed of a low molecular weight compound having at least one polymerizable unsaturated bond (hereinafter, referred to as “(b) surface alignment type monomer unit”), (c) an infrared absorbing group in one molecule, and A polymerizable monomer composed of a low molecular weight compound having at least one polymerizable unsaturated bond group (hereinafter referred to as “(c) infrared absorbing monomer unit”) and a preferred polymerization component of an alkali-soluble polymer compound ( a-1) Copolymerization with at least one of a polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, (a-2) a polymerizable monomer having a sulfonamide group, and (a-3) a polymerizable monomer having an active imide group. Examples thereof include a combination or a copolymer of these three kinds of monomers and another polymerizable monomer. Further, as the surface-aligned infrared absorbing alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group as an alkali-soluble group, a resin obtained by condensing a phenol compound such as novolak resin and aldehydes such as formaldehyde can be mentioned. A structural unit having a surface-orienting substituent and an infrared-absorbing substituent in either or both of the compound and the aldehyde, and consequently (A) an alkali-soluble functional group in one molecule, (B ) All of the structural units having a surface-orienting functional group and (C) the structural units having an infrared absorbing ability are included.

【0011】本発明に係る表面配向型赤外線吸収アルカ
リ可溶性樹脂は、以下に例示するような、各機能を有す
る特定のモノマーユニットを構成単位として有していれ
ばよい。このような本発明の表面配向型赤外線吸収アル
カリ可溶性樹脂を得るためには、下記特定のモノマーユ
ニットを各々出発物質として合成を行なう方法をとるこ
ともできるが、出発物質として、下記特定のモノマーユ
ニットから表面配向性の官能基や赤外線吸収性を有する
置換基を除いたモノマーを用いて合成を行い、単独重合
あるいは共重合させて高分子化合物を得た後に、表面配
向性の官能基および赤外線吸収性を有する置換基を高分
子反応によって導入することにより、結果的に下記特定
のモノマーユニットを構成単位にもつ特定のアルカリ水
可溶性高分子を得る方法をとることもできる。
The surface-aligned infrared-absorbing alkali-soluble resin according to the present invention may have a specific monomer unit having each function as a constituent unit, as exemplified below. In order to obtain such a surface-aligned infrared absorbing alkali-soluble resin of the present invention, a method of synthesizing each of the following specific monomer units as a starting material can also be used. From the surface-aligning functional group and the monomer excluding the substituent having infrared-absorbing property was synthesized, and then homopolymerized or copolymerized to obtain a polymer compound. It is also possible to adopt a method in which a specific alkaline water-soluble polymer having the following specific monomer unit as a constitutional unit is eventually obtained by introducing a substituent having a property by a polymer reaction.

【0012】表面配向性および赤外線吸収能を有する置
換基を導入する高分子反応としては、アルカリ可溶性高
分子内の芳香環上を求電子的又は求核的に置換する方法
や、アルカリ可溶性高分子内の水酸基やアミノ基などの
置換基をエステル結合、エーテル結合、(チオ)ウレタ
ン結合、エステル結合、(チオ)ウレア結合、アミド結
合などにより修飾する方法が挙げられる。なかでもアミ
ド結合等の結合により修飾する方法が好ましく、合成の
容易さ、原料入手性の点から、エーテル結合、エステル
結合、(チオ)ウレタン結合により修飾する方法が特に
好ましい。
As the polymer reaction for introducing a substituent having surface orientation and infrared absorption ability, a method of electrophilically or nucleophilically substituting an aromatic ring in an alkali-soluble polymer, or an alkali-soluble polymer is used. Examples thereof include a method of modifying a substituent such as a hydroxyl group or an amino group therein with an ester bond, an ether bond, a (thio) urethane bond, an ester bond, a (thio) urea bond or an amide bond. Among them, the method of modification with a bond such as an amide bond is preferable, and the method of modification with an ether bond, an ester bond, or a (thio) urethane bond is particularly preferable from the viewpoint of ease of synthesis and availability of raw materials.

【0013】本発明に係る表面配向型赤外線吸収アルカ
リ可溶性樹脂に導入する表面配向性を有する置換基とし
ては、画像記録材料を含有する記録層塗布液を調製し、
それを、塗布、乾燥することにより記録層を形成するに
あたり、該表面配向型赤外線吸収アルカリ可溶性樹脂が
表面近傍にシフトし、局在化するような機能を有する、
所謂、表面配向性を有する置換基が好ましい。
As the substituent having surface orientation introduced into the surface orientation type infrared absorbing alkali-soluble resin according to the present invention, a recording layer coating solution containing an image recording material is prepared,
When the recording layer is formed by coating and drying it, the surface-aligned infrared absorbing alkali-soluble resin shifts to the vicinity of the surface and has a function of being localized.
Substituents having so-called surface orientation are preferred.

【0014】このような表面配向性を有する置換基とし
ては、以下のものが好適に例示される。 (a) フッ素原子、(b) トリフルオロメチル基、ペンタフ
ルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、(c) −
(CF2nCF3、−CF2(CF2mH(ここで、nは
3〜20の整数、mは0〜19の整数を示す)で表され
るパーフルオロアルキル基、(d) ペンタフルオロフェニ
ル基、テトラフルオロフェニル基などのフッ素置換アリ
ール基、(e) −C(CF2CF3)=C(CF32、−C
(CF3)=C[CF(CF32]、−C[CF(C
32]=C(CF3)CF2CF2CF3、−C(C
3)=C(CF3)C(CF3)(CF2CF32などの
パーフルオロアルケニル基、(f)複数の−Si−O−S
i−結合を有するポリシロキサン基、(g)炭素数5以上
の直鎖または分岐のアルキル基、等。
The following are suitable examples of the substituent having such surface orientation. (a) Fluorine atom, (b) trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, heptafluoropropyl group, (c) −
(CF 2) n CF 3, -CF 2 (CF 2) m H ( wherein, n represents an integer of 3 to 20, m is an integer of 0 to 19) perfluoroalkyl group represented by, (d ) Fluorine-substituted aryl groups such as pentafluorophenyl group and tetrafluorophenyl group, (e) —C (CF 2 CF 3 ) ═C (CF 3 ) 2 , —C
(CF 3) = C [CF (CF 3) 2], - C [CF (C
F 3) 2] = C ( CF 3) CF 2 CF 2 CF 3, -C (C
F 3 ) = C (CF 3 ) C (CF 3 ) (CF 2 CF 3 ) 2 and other perfluoroalkenyl groups, (f) a plurality of —Si—O—S
A polysiloxane group having an i-bond, (g) a linear or branched alkyl group having 5 or more carbon atoms, and the like.

【0015】これら、(b)表面配向性を有する特定の
モノマーユニットの具体例を、その一般的な構造及び導
入される官能基を具体的に挙げることで以下に例示する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of these (b) specific monomer units having surface orientation will be shown below by specifically listing their general structures and functional groups to be introduced. It is not limited to.

【0016】[0016]

【化1】 [Chemical 1]

【0017】[0017]

【化2】 [Chemical 2]

【0018】[0018]

【化3】 [Chemical 3]

【0019】[0019]

【化4】 [Chemical 4]

【0020】[0020]

【化5】 [Chemical 5]

【0021】[0021]

【化6】 [Chemical 6]

【0022】つぎに、(c)赤外線吸収モノマーユニッ
トについて説明する。本発明で用いられる赤外線吸収モ
ノマーユニットに結合される赤外線吸収能を有するユニ
ットは、上記のアルカリ可溶性高分子と結合形成可能な
官能基を有し、赤外光を吸収し熱を発生する化合物であ
れば特に制限はないが、ポジ型画像記録材料として用い
た場合の画像形成性や溶剤溶解性の点から、シアニン色
素、(チオ)ピリリウム色素、オキソノール色素等のポ
リメチン色素、フタロシアニン色素等の有機色素骨格を
有するユニットが好ましく、特に好ましいポリメチン色
素ユニットとして下記一般式(1)の構造を有する色素
が挙げられる。
Next, the infrared absorbing monomer unit (c) will be described. The unit having infrared absorbing ability to be bonded to the infrared absorbing monomer unit used in the present invention has a functional group capable of forming a bond with the above alkali-soluble polymer, and is a compound that absorbs infrared light and generates heat. There is no particular limitation so long as it is an organic material such as a polymethine dye such as a cyanine dye, a (thio) pyrylium dye, an oxonol dye, or a phthalocyanine dye, from the viewpoint of image forming property and solvent solubility when used as a positive image recording material. A unit having a dye skeleton is preferable, and a particularly preferable polymethine dye unit is a dye having a structure of the following general formula (1).

【0023】[0023]

【化7】 [Chemical 7]

【0024】一般式(1)中、R1、R2は各々独立に炭
素原子数1〜12のアルキル基を表し、アルキル基上に
はアルコキシ基、アリール基、アミド基、アルコキシカ
ルボニル基、水酸基、スルホ基、カルボキシル基より選
択される置換基を有しても良い。Y1、Y2は各々独立に
酸素、硫黄、セレン、ジアルキルメチレン基または−C
H=CH−を表す。Ar1、Ar2は各々独立に芳香族炭
化水素基または複素環基を表し、アルキル基、アルコキ
シ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、アルキ
ル(オキシ)スルホニル基、アリール(オキシ)スルホ
ニル基、ハロゲン置換アルキル基より選択される置換基
を有しても良く、Y1、Y2と隣接した連続2炭素原子で
芳香環を縮環しても良く、ナフタレン骨格を有する炭化
水素基が好ましい。Xは電荷の中和に必要なカウンター
イオンを表し、色素カチオン部がアニオン性の置換基を
有する場合は必ずしも必要ではない。Qはトリメチン
基、ペンタメチン基、ヘプタメチン基、ノナメチン基ま
たはウンデカメチン基を表し、いずれかの炭素原子上を
塩素原子で置換されたものが好ましく、また、連続した
3つのメチン鎖を含むシクロヘキセン環またはシクロペ
ンテン環を有することが安定性の点で好ましい。
In the general formula (1), R 1 and R 2 each independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and on the alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an amide group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxyl group. It may have a substituent selected from a sulfo group and a carboxyl group. Y 1 and Y 2 are each independently oxygen, sulfur, selenium, a dialkylmethylene group or -C.
Represents H = CH-. Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group, and are an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, an alkyl (oxy) sulfonyl group, an aryl (oxy) sulfonyl group, a halogen-substituted group. A hydrocarbon group having a naphthalene skeleton is preferable, which may have a substituent selected from an alkyl group, and an aromatic ring may be condensed with two consecutive carbon atoms adjacent to Y 1 and Y 2 . X represents a counter ion necessary for neutralizing the charge, and is not always necessary when the dye cation portion has an anionic substituent. Q represents a trimethine group, a pentamethine group, a heptamethine group, a nonamethine group or an undecamethine group, which is preferably substituted on any carbon atom with a chlorine atom, and a cyclohexene ring or cyclopentene ring containing three consecutive methine chains. Having a ring is preferable from the viewpoint of stability.

【0025】これら、赤外線吸収能を有する特定のモノ
マーユニットの具体例を、その一般的な構造及び導入さ
れる官能基を具体的に挙げることで以下に例示するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of these specific monomer units having infrared absorbing ability are shown below by specifically listing their general structures and functional groups to be introduced.
The present invention is not limited to these.

【0026】[0026]

【化8】 [Chemical 8]

【0027】[0027]

【化9】 [Chemical 9]

【0028】[0028]

【化10】 [Chemical 10]

【0029】[0029]

【化11】 [Chemical 11]

【0030】[0030]

【化12】 [Chemical 12]

【0031】[0031]

【化13】 [Chemical 13]

【0032】次に、これらの表面配向性ユニットおよび
赤外線吸収性ユニットが導入されるアルカリ水可溶性高
分子化合物の重合成分の代表的な例について述べる。 (a−1)フェノール性水酸基を有する重合性モノマー
としては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽和結合
をそれぞれ1つ以上有する低分子化合物とからなる重合
性モノマー、が挙げられ、例えば、フェノール性水酸基
を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル
酸エステル、メタクリル酸エステル、又はヒドロキシス
チレン等が挙げられる。
Next, typical examples of the polymerization component of the alkaline water-soluble polymer compound into which these surface orientation unit and infrared absorbing unit are introduced will be described. Examples of the polymerizable monomer (a-1) having a phenolic hydroxyl group include a polymerizable monomer composed of a phenolic hydroxyl group and a low molecular weight compound having at least one polymerizable unsaturated bond, and examples thereof include phenolic compounds. Examples thereof include acrylamide having a hydroxyl group, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and hydroxystyrene.

【0033】具体的には、例えば、N−(2−ヒドロキ
シフェニル)アクリルアミド、N−(3−ヒドロキシフ
ェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニ
ル)アクリルアミド、N−(2−ヒドロキシフェニル)
メタクリルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)メ
タクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタ
クリルアミド、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、
m−ヒドロキシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシ
フェニルアクリレート、o−ヒドロキシフェニルメタク
リレート、m−ヒドロキシフェニルメタクリレート、p
−ヒドロキシフェニルメタクリレート、o−ヒドロキシ
スチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシス
チレン、2−(2−ヒドロキシフェニル)エチルアクリ
レート、2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルアクリ
レート、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルアクリ
レート、2−(2−ヒドロキシフェニル)エチルメタク
リレート、2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルメタ
クリレート、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルメ
タクリレート等が挙げられる。これらフェノール性水酸
基を有するモノマーは、2種類以上を組み合わせて使用
してもよい。
Specifically, for example, N- (2-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (3-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (2-hydroxyphenyl).
Methacrylamide, N- (3-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-hydroxyphenyl acrylate,
m-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, o-hydroxyphenyl methacrylate, m-hydroxyphenyl methacrylate, p
-Hydroxyphenyl methacrylate, o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 2- (2-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) Examples thereof include ethyl acrylate, 2- (2-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate and 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate. Two or more kinds of these monomers having a phenolic hydroxyl group may be used in combination.

【0034】(a−2)スルホンアミド基を有する重合
性モノマーとしては、1分子中、窒素原子に少なくとも
1つの水素原子が結合したスルホンアミド基(−NH−
SO 2−)と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ1つ以
上有する低分子化合物とからなる重合性モノマーが挙げ
られ、例えば、アクリロイル基、アリル基、又はビニロ
キシ基と、置換或いはモノ置換アミノスルホニル基又は
置換スルホニルイミノ基とを有する低分子化合物が好ま
しい。このような化合物としては、例えば、特開平8−
123029号に記載の一般式(I)〜(V)で示され
る化合物が挙げられる。 (a−2)スルホンアミド基を有する重合性モノマーと
して具体的には、m−アミノスルホニルフェニルメタク
リレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタ
クリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)
アクリルアミド等を好適に使用することができる。
(A-2) Polymerization having a sulfonamide group
As the volatile monomer, at least one nitrogen atom is present in one molecule.
Sulfonamide group (-NH-
SO 2-) And at least one polymerizable unsaturated bond
The polymerizable monomer composed of the above low molecular weight compound
, For example, an acryloyl group, an allyl group, or vinylo
An oxy group and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or
Low molecular weight compounds having a substituted sulfonylimino group are preferred.
Good Examples of such a compound include, for example, JP-A-8-
Represented by the general formulas (I) to (V) described in No. 123029.
Compounds. (A-2) a polymerizable monomer having a sulfonamide group
Specifically, m-aminosulfonylphenylmethac
Relate, N- (p-aminosulfonylphenyl) meta
Chrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl)
Acrylamide and the like can be preferably used.

【0035】(a−3)活性イミド基を有する重合性モ
ノマーとしては、特開平11−84657号に記載の活
性イミド基を分子内に有するものが好ましく、1分子中
に、活性イミド基と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ
一つ以上有する低分子化合物とからなる重合性モノマー
が挙げられる。 (a−3)活性イミド基を有する重合性モノマーとして
は、具体的には、N−(p−トルエンスルホニル)メタ
クリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリ
ルアミド等を好適に使用することができる。
As the polymerizable monomer (a-3) having an active imide group, those having an active imide group described in JP-A No. 11-84657 in the molecule are preferable, and an active imide group is contained in one molecule. Examples of the polymerizable monomer include a low molecular weight compound having one or more polymerizable unsaturated bonds. As the polymerizable monomer having (a-3) an active imide group, specifically, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be preferably used. .

【0036】アルカリ可溶性高分子を構成する他の重合
性モノマーとしては、例えば、下記(a−4)〜(a−
15)に挙げるモノマーを用いることができるが、これ
らに限定されるものではない。 (a−4)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−
ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有
するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル
類。 (a−5)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミ
ル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリ
ル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシ
ジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。 (a−6)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、
メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリ
ル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シク
ロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2
−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアル
キルメタクリレート。 (a−7)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メ
チロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、
N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルア
クリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、
N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアク
リルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド
等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
Examples of the other polymerizable monomer that constitutes the alkali-soluble polymer include the following (a-4) to (a-
The monomers listed in 15) can be used, but the monomers are not limited to these. (A-4) 2-hydroxyethyl acrylate or 2-
Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as hydroxyethyl methacrylate. (A-5) Alkyl such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, etc. Acrylate. (A-6) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate,
Propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, methacrylic acid-2
-Alkyl methacrylates such as chloroethyl, glycidyl methacrylate, etc. (A-7) acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-ethyl acrylamide,
N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide,
Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide.

【0037】(a−8)エチルビニルエーテル、2−ク
ロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエ
ーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテ
ル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル
等のビニルエーテル類。 (a−9)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテー
ト、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエス
テル類。 (a−10)スチレン、α−メチルスチレン、メチルス
チレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 (a−11)メチルビニルケトン、エチルビニルケト
ン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等の
ビニルケトン類。 (a−12)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブ
タジエン、イソプレン等のオレフィン類。 (a−13)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリル等。 (a−14)マレイミド、N−アクリロイルアクリルア
ミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニ
ルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メ
タクリルアミド等の不飽和イミド。 (a−15)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン
酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
(A-8) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether and phenyl vinyl ether. (A-9) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate. (A-10) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene and chloromethylstyrene. (A-11) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone. (A-12) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene. (A-13) N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like. (A-14) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, and N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide. (A-15) An unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride or itaconic acid.

【0038】(b)表面配向性ユニットおよび(c)赤
外線吸収性ユニットを有するアルカリ水可溶性高分子化
合物としては、赤外線レーザー等による露光での画像形
成性に優れる点で、表面配向性ユニットおよび赤外線吸
収性ユニットを有する重合性モノマーとフェノール性水
酸基を有する重合性モノマーとの重合体の如く、高分子
化合物の構造中に、フェノール性水酸基を有するものが
好ましく、該重合体以外にも、表面配向性ユニットおよ
び赤外線吸収性ユニットがフェノール性水酸基を有する
アルカリ水可溶性高分子化合物に導入されたものを使用
してもよい。このような、フェノール性水酸基を有する
アルカリ水可溶性高分子化合物としては、例えば、フェ
ノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムア
ルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、
m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェ
ノール/クレゾール(m−,p−,又はm−/p−混合
のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボ
ラック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が挙げられる。
The alkaline water-soluble polymer compound having (b) the surface aligning unit and (c) the infrared absorbing unit is excellent in image formability upon exposure with an infrared laser or the like, and thus the surface aligning unit and the infrared ray A polymer having a phenolic hydroxyl group in the structure of a polymer compound, such as a polymer of a polymerizable monomer having an absorptive unit and a polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group, is preferable. It is also possible to use a polymer unit and an infrared absorbing unit introduced into an alkaline water-soluble polymer compound having a phenolic hydroxyl group. Examples of such an alkaline water-soluble polymer compound having a phenolic hydroxyl group include phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin,
Examples thereof include novolak resins such as m- / p-mixed cresol formaldehyde resin and phenol / cresol (m-, p-, or m- / p-mixed) mixed formaldehyde resin, and pyrogallolacetone resin.

【0039】また、フェノール性水酸基を有するアルカ
リ水可溶性高分子化合物としては、更に、米国特許第
4,123,279号明細書に記載されているように、
t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチル
フェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数3〜
8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホル
ムアルデヒドとの縮重合体が挙げられる。表面配向性ユ
ニットおよび赤外線吸収性ユニットを有するアルカリ水
可溶性高分子化合物の共重合の方法としては、従来知ら
れている、グラフト共重合法、ブロック共重合法、ラン
ダム共重合法等を用いることができる。
As the alkaline water-soluble polymer compound having a phenolic hydroxyl group, further, as described in US Pat. No. 4,123,279,
Carbon number 3 ~, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin
Examples thereof include a condensation polymer of phenol and formaldehyde having the alkyl group of 8 as a substituent. As a method of copolymerizing the alkaline water-soluble polymer compound having a surface orientation unit and an infrared absorbing unit, a conventionally known method such as a graft copolymerization method, a block copolymerization method, or a random copolymerization method may be used. it can.

【0040】本発明の表面配向型赤外線吸収アルカリ可
溶性樹脂において、(A)アルカリ可溶性の官能基を有
する構造単位、(B)表面配向性の官能基を有する構造
単位、及び、(C)赤外線吸収能を有する構造単位の各
構造単位の含有量について言えば、その構造単位の基礎
となる(b)表面配向性ユニットを有する重合性モノマ
ーおよび(c)赤外線吸収性ユニットを有する重合性モ
ノマーと、(a)それ以外の重合性モノマーとの配合モ
ル比(表面配向性ユニットを有する重合性モノマーおよ
び赤外線吸収性ユニットを有する重合性モノマーの合
計:それ以外の重合性モノマー、〔(b)+(c)〕:
(a))が、1:99〜75:25であることが好まし
く、5:95〜65:35がより好ましく、最も好まし
くは5:95〜50:50の範囲である。また、高分子
化合物中の(b)表面配向性を有するモノマーユニット
の配合モル比は1〜60%の範囲であることが好まし
く、配合比が少ないと、ポジ型平版印刷版材料の表面に
局在化した最表層を形成し難く、現像ラチチュード、耐
キズ性の改善効果が小さい傾向にあり、逆に多すぎる
と、画像形成性及び塗布液への溶解性が低下する傾向に
あり、いずれも好ましくない。また(c)赤外線吸収性
有するモノマーユニットの配合モル比は、高分子化合物
中に1〜40%の範囲であることが好ましく、配合比が
少ないと、赤外線に対する感度が低下し、画像形成性が
劣化する傾向があり、逆に多すぎると、現像性及び塗布
液への溶解性が低下する傾向にあり、いずれも好ましく
ない。
In the surface alignment type infrared absorbing alkali-soluble resin of the present invention, (A) a structural unit having an alkali-soluble functional group, (B) a structural unit having a surface-aligning functional group, and (C) an infrared absorbing Regarding the content of each structural unit of the structural unit having a function, (b) a polymerizable monomer having a surface alignment unit and (c) a polymerizable monomer having an infrared absorbing unit, which are the basis of the structural unit, (A) Blending molar ratio with other polymerizable monomer (total of polymerizable monomer having surface orientation unit and polymerizable monomer having infrared absorbing unit: other polymerizable monomer, [(b) + ( c)]:
(A)) is preferably 1:99 to 75:25, more preferably 5:95 to 65:35, and most preferably 5:95 to 50:50. Further, the blending molar ratio of the monomer unit (b) having surface orientation in the polymer compound is preferably in the range of 1 to 60%. When the blending ratio is small, the surface of the positive type lithographic printing plate material is locally dispersed. Difficult to form a localized outermost layer, the development latitude, the effect of improving scratch resistance tends to be small, and conversely, if it is too large, the image forming property and the solubility in a coating liquid tend to decrease, and both Not preferable. Further, the blending molar ratio of the infrared absorbing monomer unit (c) is preferably in the range of 1 to 40% in the polymer compound. When the blending ratio is small, the sensitivity to infrared rays is lowered and the image forming property is lowered. If it is too large, on the other hand, the developability and the solubility in the coating solution tend to decrease, and both are not preferable.

【0041】本発明の表面配向型赤外線吸収アルカリ可
溶性樹脂は、その重量平均分子量が500以上であるこ
とが好ましく、1,000〜700,000であること
がより好ましい。また、その数平均分子量が500以上
であることが好ましく、750〜650,000である
ことがより好ましい。分散度(重量平均分子量/数平均
分子量)は1.1〜10であることが好ましい。
The surface-aligned infrared absorbing alkali-soluble resin of the present invention preferably has a weight average molecular weight of 500 or more, more preferably 1,000 to 700,000. The number average molecular weight is preferably 500 or more, more preferably 750 to 650,000. The dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.

【0042】表面配向型赤外線吸収アルカリ可溶性樹脂
は、それぞれ1種類或いは2種類以上併用してもよく、
その合計の含有量が、画像記録材料全固形分中、1〜9
0重量%が好ましく、2〜80重量%がより好ましく、
2〜75重量%が特に好ましい。含有量が1重量%未満
である場合には、耐久性が悪化する傾向にあり、また、
90重量%を超える場合には、感度、画像形成性が低下
する傾向があるため好ましくない。以下に、表面配向型
赤外線吸収アルカリ可溶性樹脂の代表的な化合物を重量
平均分子量極大吸収波長、主成分となるアルカリ可溶性
樹脂構造単位におけるm/p比と共に例示するが、本発
明はこれらに制限されない。
The surface-aligned infrared absorbing alkali-soluble resin may be used alone or in combination of two or more kinds,
The total content is 1 to 9 in the total solid content of the image recording material.
0 wt% is preferable, 2-80 wt% is more preferable,
2-75% by weight is particularly preferred. When the content is less than 1% by weight, durability tends to deteriorate, and
When it exceeds 90% by weight, the sensitivity and the image forming property tend to be deteriorated, which is not preferable. Hereinafter, typical compounds of the surface-aligned infrared-absorbing alkali-soluble resin will be exemplified together with the maximum weight-average molecular weight absorption wavelength and the m / p ratio in the alkali-soluble resin structural unit as the main component, but the present invention is not limited thereto. .

【0043】[0043]

【化14】 [Chemical 14]

【0044】[0044]

【化15】 [Chemical 15]

【0045】[0045]

【化16】 [Chemical 16]

【0046】[0046]

【化17】 [Chemical 17]

【0047】[0047]

【化18】 [Chemical 18]

【0048】[0048]

【化19】 [Chemical 19]

【0049】[0049]

【化20】 [Chemical 20]

【0050】[0050]

【化21】 [Chemical 21]

【0051】[0051]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0052】[0052]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0053】〔その他の成分〕 1.アルカリ可溶性樹脂 本発明の画像記録材料においては、本発明の効果を損な
わない限りにおいて、前記の表面配向型赤外線吸収アル
カリ可溶性樹脂に加えて、従来公知のアルカリ水可溶性
高分子化合物を併用することができる。従来公知のアル
カリ水可溶性高分子化合物としては、前記表面配向性ユ
ニットおよび赤外線吸収性ユニットが導入されるアルカ
リ水可溶性高分子化合物の重合成分として挙げた(a)
アルカリ水可溶性高分子化合物の重合成分モノマーの単
独重合体、或いは複数種を組み合わせた共重合体、ま
た、前記(a)モノマーと他の重合性分との共重合体な
どが挙げられる。この一般的なアルカリ可溶性樹脂の含
有量は、本発明に係る表面配向型赤外線吸収アルカリ可
溶性樹脂に対して0〜95重量%であり、好ましくは5
0〜95重量%であり、さらに好ましくは70〜90重
量%の範囲である。
[Other Components] 1. Alkali-Soluble Resin In the image recording material of the present invention, a conventionally known alkali water-soluble polymer compound may be used in combination with the surface-aligned infrared absorbing alkali-soluble resin as long as the effect of the present invention is not impaired. it can. The conventionally known alkali water-soluble polymer compound is mentioned as the polymerization component of the alkali water-soluble polymer compound into which the surface alignment unit and the infrared absorbing unit are introduced (a).
Examples thereof include a homopolymer of a polymerization component monomer of an alkaline water-soluble polymer compound, a copolymer obtained by combining a plurality of kinds, and a copolymer of the monomer (a) with another polymerizable component. The content of this general alkali-soluble resin is 0 to 95% by weight with respect to the surface alignment type infrared absorbing alkali-soluble resin according to the present invention, preferably 5
It is 0 to 95% by weight, and more preferably 70 to 90% by weight.

【0054】2.赤外線吸収剤 本発明の画像記録材料においては、本発明の効果を損な
わない限りにおいて、前記の表面配向型赤外線吸収アル
カリ可溶性樹脂に加えて、従来公知の赤外線吸収剤を併
用することができる。本発明に併用し得る赤外線吸収剤
としては、記録に使用する光エネルギー照射線を吸収
し、熱を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限は
なく用いることができるが、入手容易な高出力レーザー
への適合性の観点から波長760nmから1200nm
に吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料が好まし
く挙げられる。
2. Infrared absorbing agent In the image recording material of the present invention, a conventionally known infrared absorbing agent can be used in combination with the surface-aligned infrared absorbing alkali-soluble resin as long as the effect of the present invention is not impaired. The infrared absorbent that can be used in the present invention can be used without any limitation in the absorption wavelength range as long as it is a substance that absorbs the light energy radiation used for recording and generates heat. Wavelength 760nm to 1200nm from the viewpoint of compatibility with output lasers
Infrared absorbing dyes or pigments having maximum absorption are preferably mentioned.

【0055】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体、オキソノール染料、ジイ
モニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の
染料が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as "Dye Handbook" (edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, oxonol dyes. , Dyes such as diimonium dyes, aminium dyes, and croconium dyes.

【0056】好ましい染料としては、例えば、特開昭5
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793号、特開昭58−224793号、特
開昭59−48187号、特開昭59−73996号、
特開昭60−52940号、特開昭60−63744号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−1
12792号等に記載されているスクアリリウム色素、
英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。
Preferred dyes are, for example, JP-A-5
Cyanine dyes described in JP-A No. 8-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and JP-A-58-1736.
96, JP-A-58-181690, JP-A-58-1
Methine dyes described in Japanese Patent Application No. 94595, JP-A-Sho 5
8-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996,
Naphthoquinone dyes described in JP-A-60-52940, JP-A-60-63744 and the like, JP-A-58-1
Squarylium dyes described in No. 12792,
Examples thereof include cyanine dyes described in British Patent 434,875.

【0057】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。
The near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and the substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also used. Pyrylium salt, JP-A-57-142645
Trimethine thiapyrylium salt described in U.S. Pat. No. 4,327,169, JP-A Nos. 58-181051, 58-220143, 59-41363 and 59-11363.
-84248, 59-84249, 59-14
Nos. 6063 and 59-146061, pyranium compounds described in JP-A-59-216146, pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and the like. Fair 5-13
The pyrylium compounds disclosed in Nos. 514 and 5-19702 are also preferably used.

【0058】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。
Another preferred example of the dye is represented by the formula (I) in US Pat. No. 4,756,993:
The near infrared absorbing dye described as (II) can be mentioned.

【0059】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノー
ル染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリ
リウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さ
らに、下記一般式(a)〜一般式(e)で示される染料
が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式
(a)で示されるシアニン色素は、本発明の重合性組成
中で使用した場合に、高い重合活性を与え、且つ、安定
性、経済性に優れるため最も好ましい。
Of these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, thiopyrylium dyes, and nickel thiolate complexes. Further, the dyes represented by the following general formulas (a) to (e) are preferable because they are excellent in light-heat conversion efficiency, and particularly, the cyanine dye represented by the following general formula (a) is used in the polymerizable composition of the present invention. This is most preferable because it gives high polymerization activity, and is excellent in stability and economy.

【0060】[0060]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0061】一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロ
ゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表
す。ここで、X2は酸素原子又は、硫黄原子を示し、L1
は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有
する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の
炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、
S、O、ハロゲン原子、Seを示す。
In the general formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2 , X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1
Represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, and a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms containing a hetero atom. Here, the hetero atom means N,
S, O, a halogen atom and Se are shown.

【0062】[0062]

【化25】 [Chemical 25]

【0063】R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子
数1〜12の炭化水素基を示す。感光層塗布液の保存安
定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水
素基であることが好ましく、さらに、R1とR2とは互い
に結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に
好ましい。
R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the photosensitive layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably a hydrocarbon group having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable to form a 6-membered ring.

【0064】Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水
素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベン
ゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい
置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、
ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が
挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なってい
ても良く、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアル
キルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも
異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原
子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基と
しては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボ
キシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及び
8は、それぞれ同じでも異なっていても良く、水素原
子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料
の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-
は、対アニオンを示す。ただし、R1〜R8のいずれかに
スルホ基が置換されている場合は、Za-は必要ない。好
ましいZa-は、感光層塗布液の保存安定性から、ハロゲ
ンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイ
オン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホ
ン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、
ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールス
ルホン酸イオンである。
Ar 1 and Ar 2, which may be the same or different, each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms,
Examples thereof include a halogen atom and an alkoxy group having 12 or less carbon atoms. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4, which may be the same or different, each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. Preferred substituents include an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, a carboxyl group and a sulfo group. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, hydrogen atom is preferable. In addition, Za -
Represents a counter anion. However, when any of R 1 to R 8 is substituted with a sulfo group, Za is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion from the storage stability of the photosensitive layer coating solution, and a perchlorate ion is particularly preferred,
Hexafluorophosphate ion and aryl sulfonate ion.

【0065】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例として
は、以下に例示するものの他、特願平11−31062
3号明細書の段落番号[0017]〜[0019]、特
願2000−224031号明細書の段落番号[001
2]〜[0038]、特願2000−211147号明
細書の段落番号[0012]〜[0023]に記載され
たものを挙げることができる。
In the present invention, specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (a) which can be preferably used include those shown below and Japanese Patent Application No. 11-31062.
Paragraph numbers [0017] to [0019] of the specification No. 3 and paragraph number [001] of the specification of Japanese Patent Application No. 2000-224031.
2] to [0038], and those described in paragraph Nos. [0012] to [0023] of Japanese Patent Application No. 2000-211147.

【0066】[0066]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0067】[0067]

【化27】 [Chemical 27]

【0068】[0068]

【化28】 [Chemical 28]

【0069】[0069]

【化29】 [Chemical 29]

【0070】[0070]

【化30】 [Chemical 30]

【0071】前記一般式(b)中、Lは共役炭素原子数
7以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有して
いてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成して
いてもよい。Zb+は対カチオンを示す。好ましい対カチ
オンとしては、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニ
ウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カチ
オン(Ni+、K+、Li+)などが挙げられる。R9〜R
14及びR15〜R20は互いに独立に水素原子又はハロゲン
原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル
基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選択
される置換基、或いは、これらを2つ若しくは3つ組合
せた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成してい
てもよい。ここで、前記一般式(b)中、Lが共役炭素
原子数7のメチン鎖を表すもの、及び、R9〜R14及び
15〜R20がすべて水素原子を表すものが入手の容易性
と効果の観点から好ましい。
In the general formula (b), L represents a methine chain having a conjugated carbon atom number of 7 or more, and the methine chain may have a substituent, and the substituents are bonded to each other to form a ring structure. You may have. Zb + represents a counter cation. Preferred counter cations include ammonium, iodonium, sulfonium, phosphonium, pyridinium, alkali metal cations (Ni + , K + , Li + ) and the like. R 9 ~ R
14 and R 15 to R 20 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a carbonyl group, a thio group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, or an amino group. Represents a substituent selected from the above, or a substituent in which two or three of them are combined, and may be bonded to each other to form a ring structure. Here, in the general formula (b), L represents a methine chain having 7 conjugated carbon atoms, and R 9 to R 14 and R 15 to R 20 all represent hydrogen atoms, which are easily available. It is preferable from the viewpoint of the effect.

【0072】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(b)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。
In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (b) which can be preferably used include the followings.

【0073】[0073]

【化31】 [Chemical 31]

【0074】[0074]

【化32】 [Chemical 32]

【0075】前記一般式(c)中、Y3及びY4は、それ
ぞれ、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原
子を表す。Mは、共役炭素数5以上のメチン鎖を表す。
21〜R24及びR25〜R28は、それぞれ同じであっても
異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ
基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィ
ニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Z
a-は対アニオンを表し、前記一般式(a)におけるZa-
と同義である。
In the general formula (c), Y 3 and Y 4 each represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom or a tellurium atom. M represents a methine chain having a conjugated carbon number of 5 or more.
R 21 to R 24 and R 25 to R 28 may be the same or different and each is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a carbonyl group or a thiol group. Represents a group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, or an amino group. Also, in the formula Z
a - represents a counter anion, Za in the general formula (a) -
Is synonymous with.

【0076】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(c)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。
In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (c) which can be preferably used include the followings.

【0077】[0077]

【化33】 [Chemical 33]

【0078】[0078]

【化34】 [Chemical 34]

【0079】前記一般式(d)中、R29ないしR31は各
々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示
す。R33及びR34は各々独立に、アルキル基、置換オキ
シ基、又はハロゲン原子を示す。n及びmは各々独立に
0ないし4の整数を示す。R 29とR30、又はR31とR32
はそれぞれ結合して環を形成してもよく、またR29及び
/又はR30はR33と、またR31及び/又はR32はR34
結合して環を形成しても良く、さらに、R33或いはR34
が複数存在する場合に、R33同士あるいはR34同士は互
いに結合して環を形成してもよい。X1及びX2は各々独
立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基であり、
1及びX2の少なくとも一方は水素原子又はアルキル基
を示す。Qは置換基を有していてもよいトリメチン基又
はペンタメチン基であり、2価の有機基とともに環構造
を形成してもよい。Zc-は対アニオンを示し、前記一般
式(a)におけるZa-と同義である。
In the general formula (d), R29Through R31Is each
Independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.
You R33And R34Are each independently an alkyl group or a substituted
Represents a hydrogen atom or a halogen atom. n and m are independent of each other
An integer of 0 to 4 is shown. R 29And R30, Or R31And R32
Each may combine with each other to form a ring, and R29as well as
/ Or R30Is R33And again R31And / or R32Is R34When
May combine with each other to form a ring, and further, R33Or R34
If there are multiple33Each other or R34One another
They may be bonded to each other to form a ring. X1And X2Each is German
By the way, a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group,
X1And X2At least one of is a hydrogen atom or an alkyl group
Indicates. Q is a trimethine group which may have a substituent or
Is a pentamethine group and has a ring structure together with a divalent organic group.
May be formed. Zc-Represents a counter anion, and
Za in formula (a)-Is synonymous with.

【0080】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(d)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。
In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (d) which can be preferably used include the followings.

【0081】[0081]

【化35】 [Chemical 35]

【0082】[0082]

【化36】 [Chemical 36]

【0083】前記一般式(e)中、R35〜R50はそれぞ
れ独立に、置換基を有してもよい水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、ス
ルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オ
ニウム塩構造を示す。Mは2つの水素原子若しくは金属
原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに
含まれる金属原子としては、周期律表のIA、IIA、II
IB、IVB族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、
ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウ
ム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナ
ジウムが好ましい。
In the general formula (e), R 35 to R 50 are each independently a hydrogen atom which may have a substituent, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, A hydroxyl group, a carbonyl group, a thio group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, an amino group, and an onium salt structure are shown. M represents two hydrogen atoms or a metal atom, a halometal group or an oxymetal group, and the metal atom contained therein is IA, IIA or II in the periodic table.
IB, IVB group atoms, first, second and third period transition metals,
Examples of the lanthanoid element include copper, magnesium, iron, zinc, cobalt, aluminum, titanium and vanadium.

【0084】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(e)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。
Specific examples of the dye represented by the general formula (e) which can be preferably used in the invention include the followings.

【0085】[0085]

【化37】 [Chemical 37]

【0086】本発明において赤外線吸収剤として使用さ
れる顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス
(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協
会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC
出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出
版、1984年刊)に記載されている顔料が挙げられ
る。
As the pigment used as the infrared absorber in the present invention, commercially available pigments and color index (CI) handbook, "Latest pigment handbook" (edited by Japan Pigment Technology Association, 1977), "Latest Pigment" Applied Technology "(CMC
Published in 1986), "Printing Ink Technology" published by CMC, published in 1984).

【0087】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。
The types of pigments include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer bound dyes may be mentioned. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dyed lake pigments,
Azine pigment, nitroso pigment, nitro pigment, natural pigment, fluorescent pigment, inorganic pigment, carbon black and the like can be used.
Preferred among these pigments is carbon black.

【0088】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
These pigments may be used without surface treatment or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface-coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of binding a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above surface treatment method is "property and application of metal soap" (Koushobo),
It is described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0089】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の画像感光層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、10μmを越えると画像感
光層の均一性の点で好ましくない。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably 0.1 μm to 1 μm.
It is preferably in the range of. Particle size of pigment is 0.01μ
When it is less than m, it is not preferable from the viewpoint of stability of the dispersion in the coating liquid for the image-sensitive layer, and when it exceeds 10 μm, it is not preferable from the viewpoint of uniformity of the image-sensitive layer.

【0090】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, etc. can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill and a pressure kneader. For details, see "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1
986).

【0091】これらの顔料もしくは染料を併用する場
合、記録層を構成する全固形分に対し0.01〜30重
量%、好ましくは0.1〜10重量%、染料の場合特に
好ましくは0.1〜5重量%、顔料の場合特に好ましく
は0.2〜10重量%の割合で添加することができる。
顔料もしくは染料の添加量が0.01重量%未満である
と感度が低くなり、また30重量%を越えると感光層の
均一性が失われ、記録層の耐久性が悪くなる。
When these pigments or dyes are used in combination, 0.01 to 30% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, based on the total solids constituting the recording layer, and particularly preferably 0.1 to 10% by weight in the case of dyes. ˜5 wt%, and particularly preferably 0.2 to 10 wt% in the case of a pigment.
If the amount of the pigment or dye added is less than 0.01% by weight, the sensitivity will be low, and if it exceeds 30% by weight, the uniformity of the photosensitive layer will be lost and the durability of the recording layer will be deteriorated.

【0092】本発明の画像記録材料の他の成分として
は、赤外線で記録可能な公知の種々の画像記録材料の成
分を適宜選択して用いることができる。本発明の画像記
録材料は、赤外線露光により、アルカリ水溶液に対する
可溶性が変化する記録層を形成するが、このような記録
層は、アルカリ現像性が赤外線の露光により低下するネ
ガ型と逆に現像性が向上するポジ型の2つに分けられ
る。
As the other components of the image recording material of the present invention, various known components of image recording materials which can be recorded by infrared rays can be appropriately selected and used. The image recording material of the present invention forms a recording layer whose solubility in an alkaline aqueous solution is changed by exposure to infrared rays. Such a recording layer has a developability contrary to the negative type in which the alkali developability is lowered by the exposure to infrared rays. Can be divided into two types, positive type.

【0093】ネガ型の記録層としては、公知のネガ型極
性変換材料系(親水性から疎水性へ変化)、ラジカル重
合系、酸触媒架橋系(カチオン重合も含む)記録層が挙
げられる。この中でも特に耐刷性の点でラジカル重合系
と酸触媒架橋系が好ましい。これらは、光照射や加熱に
より発生するラジカル或いは酸が開始剤や触媒となり、
記録層を構成する化合物が重合反応、架橋反応を起こし
硬化して画像部を形成するものである。
Examples of the negative type recording layer include known negative type polarity conversion material type (change from hydrophilic to hydrophobic), radical polymerization type and acid catalyst cross-linking type (including cationic polymerization) recording layers. Of these, the radical polymerization system and the acid catalyst crosslinking system are particularly preferable in terms of printing durability. In these, radicals or acids generated by light irradiation or heating serve as initiators or catalysts,
The compound constituting the recording layer undergoes a polymerization reaction and a crosslinking reaction to cure and form an image portion.

【0094】またポジ型の記録層としては、公知のポジ
型極性変換材料系(疎水性から親水性へ変化)、酸触媒
分解系、相互作用解除系(感熱ポジ)記録層が挙げられ
る。この中でも特にスルホン酸エステルを熱分解してな
るポジ型極性変換材料系と酸触媒分解系、相互作用解除
系が画質の点で好ましい。これらは光照射や加熱により
発生する酸や熱エネルギーそのものにより、層を形成し
ていた高分子化合物の結合が解除されるなどの働きによ
り水やアルカリ水に可溶となり、現像により除去されて
非画像部を形成するものである。以下、それぞれの記録
層について詳細に説明する。
Examples of the positive type recording layer include known positive type polarity conversion material type (change from hydrophobic to hydrophilic) type, acid catalyst decomposition type and interaction releasing type (thermosensitive positive type) recording layer. Among these, a positive polarity conversion material system obtained by thermally decomposing a sulfonic acid ester, an acid catalyst decomposing system, and an interaction releasing system are particularly preferable from the viewpoint of image quality. These are soluble in water or alkaline water due to the action of releasing the bond of the polymer compound forming the layer by the acid generated by light irradiation or heating or the thermal energy itself, and are removed by development to be non-soluble. The image portion is formed. Hereinafter, each recording layer will be described in detail.

【0095】<ラジカル重合層>本発明の画像記録材料
を平版印刷版原版のラジカル重合層として用いる場合、
光又は熱によりラジカルを発生する化合物(以下、ラジ
カル発生剤と称する)と、ラジカル重合しうる化合物
(重合性化合物と称する)とを含有し、例えば、赤外線
レーザなどの照射により露光部においてラジカル発生剤
からラジカルが発生し、それが開始剤となり、重合性化
合物がラジカル重合反応によって硬化し、画像部を形成
する。ここに用いられるラジカル発生剤と重合性化合物
との組合せは、ラジカル重合により形成される膜の強度
が記録層としての要求を満たすものであれば、公知のも
のから適宜選択して用いることができる。また、ラジカ
ル発生剤の反応性向上のために、オニウム塩、還元剤な
どの促進剤を併用することもできる。ラジカル重合層に
使用し得る成分としては、例えば、特開平8−1086
21号公報において、熱重合性記録層の構成成分として
記載された化合物、特開平9−34110号公報におい
て、記録層の構成成分として記載された化合物なども好
ましく使用することができる。
<Radical Polymerization Layer> When the image recording material of the present invention is used as a radical polymerization layer of a lithographic printing plate precursor,
Contains a compound that generates a radical by light or heat (hereinafter referred to as a radical generator) and a compound capable of radical polymerization (referred to as a polymerizable compound), and generates a radical in an exposed area by irradiation with an infrared laser, for example. Radicals are generated from the agent, which serves as an initiator, and the polymerizable compound is cured by a radical polymerization reaction to form an image area. The combination of the radical generator and the polymerizable compound used here can be appropriately selected and used from known ones as long as the strength of the film formed by radical polymerization satisfies the requirements for the recording layer. . Further, in order to improve the reactivity of the radical generator, an accelerator such as an onium salt or a reducing agent may be used in combination. Examples of components that can be used in the radical polymerization layer include, for example, JP-A-8-1086.
Compounds described as constituent components of the thermopolymerizable recording layer in JP-A No. 21-21, and compounds described as constituent components of the recording layer in JP-A No. 9-34110 can also be preferably used.

【0096】(ラジカル発生剤)ラジカル重合層に用い
られるラジカル発生剤としては、一般にラジカル重合に
よる高分子合成反応に用いられる公知のラジカル重合開
始剤を特に制限なく、使用することができ、2,2'-アゾ
ビスイソブチロニトリル,2,2'-アゾビスプロピオニト
リル等のアゾビスニトリル系化合物、過酸化ベンゾイ
ル,過酸化ラウロイル,過酸化アセチル,過安息香酸-t
-ブチル,α-クミルヒドロパーオキサイド,ジ-t-ブチ
ルパーオキサイド,ジイソプロピルパーオキシジカーボ
ネート,t-ブチルパーオキシイソプロピルカーボネー
ト,過酸類,アルキルパーオキシカルバメート類,ニト
ロソアリールアシルアミン類等の有機過酸化物、過硫酸
カリウム、過硫酸アンモニウム、過塩素酸カリウム等の
無機過酸化物、ジアゾアミノベンゼン,p-ニトロベンゼ
ンジアゾニウム,アゾビス置換アルカン類,ジアゾチオ
エーテル類,アリールアゾスルホン類等のアゾ又はジア
ゾ系化合物、ニトロソフェニル尿素、テトラメチルチウ
ラムジスルフィド等のテトラアルキルチウラムジスルフ
ィド類、ジベンゾイルジスルフィド等のジアリールジス
ルフィド類、ジアルキルキサントゲン酸ジスルフィド
類、アリールスルフィン酸類、アリールアルキルスルホ
ン類、1-アルカンスルフィン酸類等を挙げることができ
る。
(Radical Generator) As the radical generator used in the radical polymerization layer, known radical polymerization initiators generally used in polymer synthesis reaction by radical polymerization can be used without particular limitation. 2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobispropionitrile and other azobisnitrile compounds, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, perbenzoic acid-t
-Butyl, α-cumylhydroperoxide, di-t-butylperoxide, diisopropylperoxydicarbonate, t-butylperoxyisopropylcarbonate, peracids, alkylperoxycarbamates, nitrosoarylacylamines, etc. Peroxides, inorganic peroxides such as potassium persulfate, ammonium persulfate and potassium perchlorate, azo or diazo compounds such as diazoaminobenzene, p-nitrobenzenediazonium, azobis-substituted alkanes, diazothioethers and arylazosulfones Compounds, nitrosophenyl urea, tetraalkyl thiuram disulfides such as tetramethyl thiuram disulfide, diaryl disulfides such as dibenzoyl disulfide, dialkylxanthogenic acid disulfides, arylsulfinic acid , Arylalkyl sulfones include a 1-alkanoic sulfinic acids and the like.

【0097】本発明の画像記録材料を赤外線レーザで記
録する場合、レーザのエネルギーにもよるが、露光面の
到達温度が600℃以上にもなるため、活性化エネルギー
の大きいラジカル発生剤でも充分な感度を得ることがで
きる。ラジカル発生剤のラジカル発生のための活性化エ
ネルギーは30Kcal/モル以上であることが好ましく、そ
のようなものとしてアゾビスニトリル系化合物、有機過
酸化物が挙げられる。中でも、常温で安定性に優れ、過
熱時の分解速度が速く、分解時に無色となる化合物が好
ましく、過酸化ベンゾイル、2,2'-アゾビスイソブチロ
ニトリル等を挙げることができる。上記ラジカル発生剤
は単独で用いても2種以上併用しても良く、ラジカル重
合層の全固形分に対し0.5〜30重量%程度、好ましくは
2〜10重量%で用いる。
When the image recording material of the present invention is recorded by an infrared laser, the ultimate temperature of the exposed surface becomes 600 ° C. or more, though it depends on the energy of the laser, and therefore a radical generator having a large activation energy is also sufficient. Sensitivity can be obtained. The activation energy for radical generation of the radical generator is preferably 30 Kcal / mol or more, and examples thereof include azobisnitrile compounds and organic peroxides. Among them, compounds that are excellent in stability at room temperature, have a high decomposition rate when overheated, and become colorless upon decomposition are preferable, and examples thereof include benzoyl peroxide and 2,2′-azobisisobutyronitrile. The above radical generators may be used alone or in combination of two or more, and are used in an amount of about 0.5 to 30% by weight, preferably 2 to 10% by weight, based on the total solid content of the radical polymerization layer.

【0098】また、後述するオニウム塩との相互作用に
よりラジカルを発生する化合物も好適に使用することが
できる。具体的には、ハロゲン化物(α−ハロアセトフ
ェノン類、トリクロロメチルトリアジン類等)、アゾ化
合物、芳香族カルボニル化合物(ベンゾインエステル
類、ケタール類、アセトフェノン類、o−アシルオキシ
イミノケトン類、アシルホスフィンオキサイド類等)、
ヘキサアリールビスイミダゾール化合物、過酸化物など
が挙げられるが、好ましくは、前記特開平9−3411
0号公報の第16頁に(A−1)〜(A−4)として開
示されたビスイミダゾール誘導体が挙げられる。後者の
ラジカル発生剤は、オニウム塩との相互作用により高感
度化を達成している。このラジカル発生剤と併用し得る
オニウム塩としては、同公報の段落番号〔0022〕〜
〔0049〕に記載のホスホニウム塩、スルホニウム
塩、ヨードニウム塩、及びアンモニウム塩の各化合物が
挙げられる。前記オニウム塩の添加量は、オニウム塩の
種類及び使用形態により異なるが、記録層全固形分に対
して0.05〜50重量%であることが好ましい。
Further, a compound which generates a radical by the interaction with an onium salt described later can also be preferably used. Specifically, halides (α-haloacetophenones, trichloromethyltriazines, etc.), azo compounds, aromatic carbonyl compounds (benzoin esters, ketals, acetophenones, o-acyloxyimino ketones, acylphosphine oxides) etc),
Hexaarylbisimidazole compounds, peroxides and the like can be mentioned, but preferably, the above-mentioned JP-A-9-3411.
Examples of the bisimidazole derivatives disclosed as (A-1) to (A-4) on page 16 of JP-A-No. The latter radical generator achieves high sensitivity by interaction with an onium salt. Examples of onium salts that can be used in combination with this radical generator include paragraphs [0022] to
Examples thereof include phosphonium salt, sulfonium salt, iodonium salt, and ammonium salt compounds described in [0049]. The addition amount of the onium salt varies depending on the type and usage of the onium salt, but is preferably 0.05 to 50% by weight based on the total solid content of the recording layer.

【0099】また、後述する<酸架橋剤>内の(酸発生
剤)として好適用いることができるヨードニウム塩、ス
ルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩等のオ
ニウム塩は前記ラジカル発生剤と併用しなくても、単独
でラジカル発生剤として使用することができ、その添加
量は、種類及び使用形態により異なるが、記録層全固形
分に対して0.05〜50重量%であることが好まし
い。
Onium salts such as iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts and diazonium salts, which can be preferably used as the (acid generator) in the below-mentioned <acid crosslinking agent>, are not used together with the radical generator. However, it can be used alone as a radical generator, and its addition amount is preferably 0.05 to 50% by weight with respect to the total solid content of the recording layer, although it varies depending on the type and usage form.

【0100】(重合性化合物)ラジカル発生剤から発生
するラジカルにより重合して硬化する重合可能な高分子
化合物としては、重合性基を有する公知のモノマーが特
に制限なく使用することができる。そのようなモノマー
としては、具体的には、例えば、2−エチルヘキシルア
クリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−
ヒドロキシプロピルアクリレート等の単官能アクリル酸
エステル及びその誘導体あるいはこれらのアクリレート
をメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレ
エート等に代えた化合物;ポリエチレングリコールジア
クリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ビ
スフェノールAジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸
ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物の
ジアクリレート等の2官能アクリル酸エステル及びその
誘導体あるいはこれらのアクリレートを前記と同様にメ
タクリレート等に代えた化合物;あるいはトリメチロー
ルプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、ピロガロールトリアクリレート等
の多官能アクリル酸エステル及びその誘導体あるいはこ
れらのアクリレートをメタクリレート等に代えた化合物
等を挙げることができる。また、適当な分子量のオリゴ
マーにアクリル酸又はメタアクリル酸を導入し、光重合
性を付与した所謂プレポリマーと呼ばれるものも好適に
使用できる。
(Polymerizable Compound) As the polymerizable polymer compound which is polymerized and cured by radicals generated from the radical generator, known monomers having a polymerizable group can be used without particular limitation. Specific examples of such a monomer include 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and 2-ethylhexyl acrylate.
Monofunctional acrylic acid esters such as hydroxypropyl acrylate and their derivatives or compounds obtained by replacing these acrylates with methacrylate, itaconate, crotonate, maleate, etc .; polyethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, bisphenol A diacrylate, hydroxypivalic acid neo Bifunctional acrylic acid esters such as diacrylates of ε-caprolactone adduct of pentyl glycol and their derivatives or compounds in which these acrylates are replaced with methacrylates in the same manner as described above; or trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol Polyfunctional acrylics such as pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and pyrogallol triacrylate Compounds ester and their derivatives or their acrylate is replaced with methacrylate, and the like. Further, a so-called prepolymer in which acrylic acid or methacrylic acid is introduced into an oligomer having an appropriate molecular weight to impart photopolymerization property can also be suitably used.

【0101】この他に、特開昭58−212994号、
同61−6649号、同62−46688号、同62−
48589号、同62−173295号、同62−18
7092号、同63−67189号、特開平1−244
891号等に記載の化合物などを挙げることができ、更
に「11290の化学商品」化学工業日報社,286〜
294頁に記載の化合物、「UV・EB硬化ハンドブッ
ク(原料編)」高分子刊行会,11〜65頁に記載の化
合物なども好適に用いることができる。
In addition to this, JP-A-58-212994,
61-6649, 62-46688, 62-
48589, 62-173295, 62-18.
7092, 63-67189, JP-A-1-244.
Compounds described in No. 891 and the like can be mentioned, and further, “11290 chemical products”, Chemical Industry Daily, 286-
The compounds described on page 294, the compounds described on pages 11 to 65 of "UV / EB curing handbook (raw material edition)", Kobunshi Kogyo Kai, etc. can also be preferably used.

【0102】なかでも、分子内に2個以上のアクリル基
又はメタクリル基を有する化合物が本発明においては好
ましく、更に分子量が10,000以下、より好ましく
は5,000以下のものが望ましい。本発明において
は、重合性化合物は、前記例示したものも含めて重合性
基を有するモノマー、プレポリマーのなかから、目的に
応じて1種あるいは相溶性、親和性に問題がなければ、
2種以上を組合せて用いることができる。エチレン性不
飽和基を有する化合物は、ラジカル重合層中に固形分と
して、好ましくは20〜80重量%、より好ましくは3
0〜60重量%含有される。
Of these, compounds having two or more acryl groups or methacryl groups in the molecule are preferable in the present invention, and those having a molecular weight of 10,000 or less, more preferably 5,000 or less are desirable. In the present invention, the polymerizable compound is a monomer having a polymerizable group, including those exemplified above, or a prepolymer, and if there is no problem with one kind or compatibility or compatibility depending on the purpose,
Two or more kinds can be used in combination. The compound having an ethylenically unsaturated group, as a solid content in the radical polymerization layer, is preferably 20 to 80% by weight, more preferably 3%.
It is contained in an amount of 0 to 60% by weight.

【0103】(バインダー樹脂)記録層には必要に応じ
てバインダー樹脂が用いられる。バインダー樹脂として
は、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹
脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロー
ス系樹脂、オレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、(メ
タ)アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネー
ト、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポ
リスルホン、ポリカプロラクトン樹脂、ポリアクリロニ
トリル樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹
脂、ゴム系樹脂等が挙げられる。又、樹脂内に不飽和結
合を有する樹脂、例えばジアリルフタレート樹脂及びそ
の誘導体、塩素化ポリプロピレンなどは、前述のエチレ
ン性不飽和結合を有する化合物と重合させることが可能
なため用途に応じて好適に用いることができる。バイン
ダー樹脂としては前述の樹脂の中から、1種又は2種以
上のものを組み合わせて用いることができる。これらの
バインダー樹脂は、重合性化合物100重量部に対して
500重量部以下、より好ましくは200重量部以下の
範囲で使用するのが好ましい。このようなラジカル重合
層に、前記特定の赤外線吸収剤を添加することで感度向
上や、ラジカル重合反応の促進を図ることができる。 (その他の化合物)ラジカル重合層には、従来公知の光
重合性化合物と併用される各種添加剤を、本発明の効果
を損なわない限りにおいて、適宜、使用できる。添加剤
として熱重合抑制剤が挙げられる。具体的には、ハイド
ロキノン、ピロガロール、p-メトキシフェノール、カテ
コール、β-ナフトール、2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾー
ル等のキノン系、フェノール系化合物が挙げられ、エチ
レン性不飽和結合を有する重合性化合物とバインダー樹
脂との合計100重量部に対して、10重量部以下で、好ま
しくは0.01〜5重量部程度で用いる。
(Binder Resin) A binder resin is used in the recording layer, if necessary. As the binder resin, polyester resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, polyamide resin, cellulose resin, olefin resin, vinyl chloride resin, (meth) acrylic resin, styrene resin, polycarbonate, polyvinyl alcohol , Polyvinylpyrrolidone, polysulfone, polycaprolactone resin, polyacrylonitrile resin, urea resin, epoxy resin, phenoxy resin, rubber resin and the like. Further, a resin having an unsaturated bond in the resin, for example, a diallyl phthalate resin and its derivative, chlorinated polypropylene, etc., can be polymerized with the above-mentioned compound having an ethylenically unsaturated bond, so that it is suitably used depending on the application. Can be used. As the binder resin, one kind or a combination of two or more kinds of the above-mentioned resins can be used. These binder resins are preferably used in an amount of 500 parts by weight or less, more preferably 200 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the polymerizable compound. By adding the specific infrared absorbing agent to such a radical polymerization layer, it is possible to improve the sensitivity and accelerate the radical polymerization reaction. (Other Compounds) In the radical polymerization layer, various additives used in combination with conventionally known photopolymerizable compounds can be appropriately used as long as the effects of the present invention are not impaired. A thermal polymerization inhibitor is mentioned as an additive. Specific examples include hydroquinone, pyrogallol, p-methoxyphenol, catechol, β-naphthol, quinone-based compounds such as 2,6-di-t-butyl-p-cresol and phenolic compounds, and ethylenically unsaturated bond. It is used in an amount of 10 parts by weight or less, and preferably about 0.01 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total of the polymerizable compound having a.

【0104】酸素クエンチャーとして添加しうる化合物
では、米国特許第4772541号の第11カラム58行目〜第12
カラム35行目に記載の化合物等のN,N-ジアルキルアニリ
ン誘導体が挙げられる。また、膜質向上のため、可塑剤
を用いることができ、例えば、フタル酸エステル類、ト
リメリット酸エステル類、アジピン酸エステル類、その
他飽和或いは不飽和カルボン酸エステル類、クエン酸エ
ステル類、エポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻仁油、ス
テアリン酸エポキシ類、正リン酸エステル類、亜燐酸エ
ステル類、グリコールエステル類等が挙げられる。
Compounds that can be added as oxygen quenchers are described in US Pat. No. 4,772,541, column 11, line 58-12.
N, N-dialkylaniline derivatives such as the compounds described in the 35th column of the column can be mentioned. Further, in order to improve the film quality, a plasticizer can be used, and examples thereof include phthalic acid esters, trimellitic acid esters, adipic acid esters, other saturated or unsaturated carboxylic acid esters, citric acid esters, and epoxidation. Soybean oil, epoxidized linseed oil, stearic acid epoxys, orthophosphoric acid esters, phosphorous acid esters, glycol esters and the like can be mentioned.

【0105】加熱により酸を発生しラジカル発生剤の分
解を促進する添加剤として、酸発生剤を併用することも
好ましい。この酸発生剤については、下記酸架橋層の説
明において詳述するものを用いることができる。前記各
成分を適宜選択して、適当な溶剤に溶解し、支持体上に
塗布することで、ラジカル重合層を形成することができ
るが、その乾燥後の塗布量としては0.01〜5.0g
/m2程度が好ましい。
It is also preferable to use an acid generator in combination as an additive that generates an acid by heating and accelerates the decomposition of the radical generator. As the acid generator, those described in detail in the description of the acid cross-linking layer below can be used. A radical polymerization layer can be formed by appropriately selecting the above components, dissolving them in a suitable solvent, and coating them on a support. The coating amount after drying is 0.01 to 5. 0 g
/ M 2 is preferable.

【0106】なお、記録層としてラジカル重合層を用い
る場合、酸素による重合阻害を防止するために、該層に
隣接して酸素不透過性のオーバーコート層を設けてもよ
い。オーバーコート層の素材としては、ポリビニルアル
コール、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチ
ルセルロース、メチルセルロース、ポリビニルピロリド
ン等の水溶性樹脂が好ましく、膜厚は0.2〜3μm程
度が適当である。オーバーコート層には、必要に応じて
記録に用いる光源からの光を吸収しない染料又は含量を
フィルター剤として添加してもよい。
When a radical polymerization layer is used as the recording layer, an oxygen impermeable overcoat layer may be provided adjacent to the layer in order to prevent polymerization inhibition by oxygen. As a material for the overcoat layer, a water-soluble resin such as polyvinyl alcohol, carboxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, methyl cellulose, or polyvinylpyrrolidone is preferable, and a film thickness of about 0.2 to 3 μm is suitable. If necessary, a dye or a content that does not absorb the light from the light source used for recording may be added to the overcoat layer as a filter agent.

【0107】<酸架橋層>本発明の画像記録材料を酸架
橋層に用いる場合には、光又は熱により酸を発生する化
合物(以下、酸発生剤と称する)と、発生した酸を触媒
として架橋しうる化合物(以下、架橋剤と称する)とを
含有し、さらに、これらを含有する層を形成するため
の、酸の存在下で架橋剤と反応しうるバインダーポリマ
ーを含む。この酸架橋層においては、光照射又は加熱に
より、酸発生剤が分解して発生した酸が、架橋剤の働き
を促進し、架橋剤同士あるいは架橋剤とバインダーポリ
マーとの間で強固な架橋構造が形成され、これにより、
アルカリ可溶性が低下して、現像剤に不溶となる。
<Acid Crosslinking Layer> When the image recording material of the present invention is used in the acid crosslinking layer, a compound capable of generating an acid by light or heat (hereinafter referred to as an acid generator) and the generated acid as a catalyst are used. And a binder polymer capable of reacting with the cross-linking agent in the presence of an acid to form a layer containing these. In this acid cross-linking layer, the acid generated by decomposition of the acid generator by irradiation with light or heating promotes the action of the cross-linking agent, resulting in a strong cross-linking structure between the cross-linking agents or between the cross-linking agent and the binder polymer. Is formed, which results in
Alkali solubility is reduced and it becomes insoluble in the developer.

【0108】このような特性を有する酸架橋剤層として
は、公知の同様の特性を有する層を用いることができ
る。例えば、特開平7−20629号公報に記載される
レゾール樹脂、ノボラック樹脂、潜伏性ブレンステッド
酸、および赤外吸収剤を含んでなる放射線感受性組成物
からなる層が挙げられる。ここで、「潜伏性ブレンステ
ッド酸」とは、分解してブレンステッド酸を生成する先
駆体を指し、本発明における酸発生剤と酸架橋剤との双
方の特性を有する化合物である。ブレンステッド酸は、
レゾール樹脂とノボラック樹脂との間のマトリックス生
成反応を触媒すると考えられており、この目的に適切な
ブレンステッド酸の例としては、トリフルオロメタンス
ルホン酸およびヘキサフルオロホスホン酸である。さら
に、イオン性潜伏性ブレンステッド酸が好ましく、これ
らの例は、オニウム塩、特にヨードニウム、スルホニウ
ム、ホスホニウム、セレノニウム、ジアゾニウム、およ
びアルソニウム塩を包含する。非イオン性潜伏性ブレン
ステッド酸もまた好適に用いることができ、例えば、下
記の化合物:RCH2X、RCHX2、RCX3 、R(C
2X)2 、およびR(CH2X)3 、(式中、Xは、C
l、Br、F、もしくはCF3、SO3 であり、Rは、
芳香族基、脂肪族基もしくは芳香族基および脂肪族基の
結合体である)を挙げることができる。
As the acid cross-linking agent layer having such characteristics, known layers having similar characteristics can be used. For example, a layer made of a radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, a latent Bronsted acid, and an infrared absorber described in JP-A-7-20629 can be mentioned. Here, the "latent Bronsted acid" refers to a precursor that decomposes to produce Bronsted acid, and is a compound having both properties of the acid generator and the acid crosslinking agent in the present invention. Bronsted acid
It is believed to catalyze the matrix-forming reaction between the resole resin and the novolac resin, and examples of Bronsted acids suitable for this purpose are trifluoromethanesulfonic acid and hexafluorophosphonic acid. Furthermore, ionic latent Bronsted acids are preferred, examples of which include onium salts, especially iodonium, sulfonium, phosphonium, selenonium, diazonium, and arsonium salts. Nonionic latent Bronsted acids can also be preferably used, for example, the following compounds: RCH 2 X, RCHX 2 , RCX 3 , R (C
H 2 X) 2 , and R (CH 2 X) 3 , where X is C
1, Br, F, or CF 3 , SO 3 , and R is
An aromatic group, an aliphatic group, or a combination of an aromatic group and an aliphatic group).

【0109】また、特開平11−95415号公報に記
載の酸架橋性化合物と高分子量結合剤とを含有する記録
層も好適なものとして挙げられる。これは、活性光線の
照射により酸を発生し得る化合物、例えば、ジアゾニウ
ム、ホスホニウム、スルホニウム、及びヨードニウムの
などの塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン−ジアジ
ドスルホニルクロリド、及び有機金属/有機ハロゲン化
合物と、前記酸の存在下で架橋しうる結合を少なくとも
1つ有する化合物、例えば、官能基としてアルコキシメ
チル基、メチロール基、アセトキシメチル基等を少なく
とも2個有するアミノ化合物、官能基としてアルコキシ
メチル基、メチロール基、アセトキシメチル基等を有す
る少なくとも2置換の芳香族化合物、レゾール樹脂及び
フラン樹脂、特定の単量体から合成されるアクリル樹脂
など、とを含有する感光層であり、これを使用すること
ができる。
Further, a recording layer containing an acid-crosslinkable compound and a high molecular weight binder described in JP-A No. 11-95415 is also preferable. This is a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays, for example, a salt such as diazonium, phosphonium, sulfonium, and iodonium, an organohalogen compound, an orthoquinone-diazidosulfonyl chloride, and an organometallic / organohalogen compound, A compound having at least one bond capable of crosslinking in the presence of the acid, for example, an amino compound having at least two functional groups such as an alkoxymethyl group, a methylol group and an acetoxymethyl group, an alkoxymethyl group as a functional group, a methylol group A photosensitive layer containing at least a di-substituted aromatic compound having an acetoxymethyl group, a resole resin and a furan resin, an acrylic resin synthesized from a specific monomer, and the like, which can be used. .

【0110】本発明に係る酸架橋層には、酸発生剤、架
橋剤及びバインダーポリマー、その他が含まれるが、次
に、これらの化合物について個々に説明する。 (酸発生剤)本発明において光又は熱により酸を発生す
る化合物(酸発生剤)とは、赤外線の照射や、100℃
以上の加熱によって分解し酸を発生する化合物を指す。
発生する酸としては、スルホン酸、塩酸等のpKaが2
以下の強酸であることが好ましい。本発明において好適
に用いられる酸発生剤としては、ヨードニウム塩、スル
ホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩等のオニ
ウム塩が挙げられる。具体的には、US4,708,9
25号や特開平7−20629号に記載されている化合
物を挙げることができる。特に、スルホン酸イオンを対
イオンとするヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾ
ニウム塩が好ましい。ジアゾニウム塩としては、米国特
許第3,867,147号記載のジアゾニウム化合物、
米国特許第2,632,703号明細書記載のジアゾニ
ウム化合物や特開平1−102456号及び特開平1−
102457号の各公報に記載されているジアゾ樹脂も
好ましい。また、US5,135,838号やUS5,
200,544号に記載されているベンジルスルホナー
ト類も好ましい。さらに、特開平2−100054号、
特開平2−100055号及び特開平9−197671
号に記載されている活性スルホン酸エステルやジスルホ
ニル化合物類も好ましい。他にも、特開平7−2710
29号に記載されている、ハロアルキル置換されたS−
トリアジン類も好ましい。
The acid cross-linking layer according to the present invention contains an acid generator, a cross-linking agent, a binder polymer, and the like. Next, these compounds will be individually described. (Acid Generator) In the present invention, the compound (acid generator) which generates an acid by light or heat means irradiation with infrared rays or 100 ° C.
It means a compound that decomposes to generate an acid by the above heating.
As the acid generated, pKa of sulfonic acid, hydrochloric acid, etc. is 2
The following strong acids are preferred. Examples of the acid generator preferably used in the present invention include onium salts such as iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts and diazonium salts. Specifically, US 4,708,9
The compounds described in JP-A No. 25 and JP-A No. 7-20629 can be mentioned. Particularly, iodonium salts, sulfonium salts, and diazonium salts having sulfonate ion as a counter ion are preferable. Examples of the diazonium salt include diazonium compounds described in US Pat. No. 3,867,147,
The diazonium compounds described in U.S. Pat. No. 2,632,703, JP-A-1-102456, and JP-A-1-102456
The diazo resin described in each publication of 102457 is also preferable. Also, US 5,135,838 and US 5,
The benzyl sulfonates described in 200,544 are also preferred. Furthermore, JP-A No. 2-100054,
JP-A 2-100055 and JP-A 9-197671
Also preferred are the active sulfonic acid esters and disulfonyl compounds described in No. In addition, JP-A-7-2710
29, haloalkyl-substituted S-
Triazines are also preferred.

【0111】これらの酸発生剤は、酸架橋層全固形分に
対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜40重
量%、より好ましくは0.5〜30重量%の割合で酸架
橋層中に添加される。添加量が0.01重量%未満の場
合は、画像が得られない。また添加量が50重量%を越
える場合は、印刷時非画像部に汚れを発生する。
These acid generators are added in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 40% by weight, more preferably 0.5 to 30% by weight, based on the total solid content of the acid crosslinking layer. It is added to the crosslinked layer. If the addition amount is less than 0.01% by weight, an image cannot be obtained. On the other hand, if the addition amount exceeds 50% by weight, stains are generated on the non-image area during printing.

【0112】これらの化合物は単独で使用してもよく、
また2種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、こ
こに挙げた酸発生剤は、紫外線照射によっても分解でき
るため、このような形態の記録層を用いれば、赤外線だ
けではなく紫外線の照射によっても画像記録可能であ
る。
These compounds may be used alone,
Moreover, you may use it in combination of 2 or more type. Since the acid generators listed here can be decomposed by irradiation with ultraviolet rays, the use of the recording layer having such a form enables image recording not only by infrared rays but also by irradiation with ultraviolet rays.

【0113】(酸架橋剤)本発明に係る酸架橋層に用い
得る架橋剤は、酸により架橋する化合物であれば、特に
制限はないが、下記一般式(I)で表されるフェノール
誘導体(以下、適宜、低分子フェノール誘導体と称す
る)、下記一般式(II)で表される、環上に2又は3個
のヒドロキシメチル基を有するフェノール環を分子内に
3個以上有する多核型フェノール性架橋剤、及び、前記
低分子フェノール誘導体と多核型フェノール性架橋剤及
び/又はレゾール樹脂との混合物、などが好ましく使用
される。
(Acid Crosslinking Agent) The crosslinking agent which can be used in the acid crosslinking layer according to the present invention is not particularly limited as long as it is a compound capable of being crosslinked by an acid, but the phenol derivative represented by the following general formula (I) ( Hereinafter, appropriately referred to as a low molecular weight phenol derivative), a polynuclear phenolic compound having 3 or more phenol rings having 2 or 3 hydroxymethyl groups on the ring represented by the following general formula (II) in the molecule A cross-linking agent and a mixture of the low molecular weight phenol derivative and a polynuclear phenolic cross-linking agent and / or a resole resin are preferably used.

【0114】[0114]

【化38】 [Chemical 38]

【0115】式中、Ar1 は、置換基を有していても良
い芳香族炭化水素環を示す。R1 およびR2 は、それぞ
れ同じでも異なっていても良く、水素原子または炭素数
12個以下の炭化水素基を示す。R3 は、水素原子また
は炭素数12個以下の炭化水素基を示す。mは、2〜4
の整数を示す。nは、1〜3の整数を示す。Xは2価の
連結基を示し、Yは前記の部分構造を有する1価乃至4
価の連結基或いは末端が水素原子である官能基を示し、
ZはYが末端基である場合には存在せず、或いは、Yの
連結基の数に応じて存在する1価乃至4価の連結基又は
官能基を示す。
In the formula, Ar 1 represents an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent. R 1 and R 2, which may be the same or different, each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. R 3 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. m is 2 to 4
Indicates an integer. n shows the integer of 1-3. X represents a divalent linking group, and Y represents a monovalent to tetravalent group having the above partial structure.
A valent linking group or a functional group whose terminal is a hydrogen atom,
Z represents a monovalent to tetravalent linking group or a functional group which does not exist when Y is a terminal group or exists depending on the number of Y linking groups.

【0116】[0116]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0117】式中、Aは、炭素数1〜20のr価の炭化
水素連結基を示し、rは3〜20の整数を示す。pは、
2〜3の整数を示す。一般式(I)で表されるフェノー
ル誘導体については、本願出願人が先に提出した特願平
11−352210号明細書段落番号〔0098〕〜
〔0155〕に詳述されており、一般式(II)で表され
る、環上に2又は3個のヒドロキシメチル基を有するフ
ェノール環を分子内に3個以上有する多核型フェノール
性架橋剤についても、同明細書段落番号〔0156〕〜
〔0165〕に詳述されている。
In the formula, A represents an r-valent hydrocarbon linking group having 1 to 20 carbon atoms, and r represents an integer of 3 to 20. p is
An integer of 2-3 is shown. Regarding the phenol derivative represented by the general formula (I), the applicant of the present application has previously filed Japanese Patent Application No. 11-352210, paragraph number [0098] to
As described in detail in [0155], the polynuclear phenolic cross-linking agent represented by the general formula (II) and having 3 or more phenol rings having 2 or 3 hydroxymethyl groups on the ring in the molecule Also, paragraph number [0156] to the same specification
This is described in detail in [0165].

【0118】これらの架橋剤は単独で使用してもよく、
また2種類以上を組み合わせて使用してもよい。本発明
において、架橋剤は全酸架橋層固形分中、5〜70重量
%、好ましくは10〜65重量%の添加量で用いられ
る。架橋剤の添加量が5重量%未満であると画像記録し
た際の画像部の膜強度が悪化し、また、70重量%を越
えると保存時の安定性の点で好ましくない。
These crosslinking agents may be used alone,
Moreover, you may use it in combination of 2 or more types. In the present invention, the crosslinking agent is used in an amount of 5 to 70% by weight, preferably 10 to 65% by weight, based on the total solid content of the acid crosslinking layer. If the addition amount of the cross-linking agent is less than 5% by weight, the film strength of the image portion when an image is recorded is deteriorated, and if it exceeds 70% by weight, the stability during storage is not preferable.

【0119】本発明の酸架橋層に用い得るバインダーポ
リマーとしては、ヒドロキシ基またはアルコキシ基が直
接結合した芳香族炭化水素環を側鎖又は主鎖に有するポ
リマーが挙げられる。アルコキシ基としては、感度の観
点から、炭素数20個以下のものが好ましい。また、芳
香族炭化水素環としては、原料の入手性から、ベンゼン
環、ナフタレン環またはアントラセン環が好ましい。こ
れらの芳香族炭化水素環は、ヒドロキシ基またはアルコ
キシ基以外の置換基、例えば、ハロゲン基、シアノ基等
の置換基を有していても良いが、感度の観点から、ヒド
ロキシ基またはアルコキシ基以外の置換基を有さない方
が好ましい。
Examples of the binder polymer that can be used in the acid cross-linking layer of the present invention include polymers having a side chain or main chain of an aromatic hydrocarbon ring to which a hydroxy group or an alkoxy group is directly bonded. The alkoxy group preferably has 20 or less carbon atoms from the viewpoint of sensitivity. Further, as the aromatic hydrocarbon ring, a benzene ring, a naphthalene ring or an anthracene ring is preferable from the availability of raw materials. These aromatic hydrocarbon rings may have a substituent other than a hydroxy group or an alkoxy group, for example, a substituent such as a halogen group or a cyano group, but from the viewpoint of sensitivity, other than a hydroxy group or an alkoxy group. It is preferable not to have a substituent of.

【0120】本発明において、好適に用いることができ
るバインダーポリマーは、下記一般式(III)で表され
る構成単位を有するポリマー、又はノボラック樹脂等の
フェノール樹脂である。
In the present invention, the binder polymer which can be preferably used is a polymer having a constitutional unit represented by the following general formula (III) or a phenol resin such as a novolac resin.

【0121】[0121]

【化40】 [Chemical 40]

【0122】式中、Ar2 は、ベンゼン環、ナフタレン
環またはアントラセン環を示す。R 4 は、水素原子また
はメチル基を示す。R5 は、水素原子または炭素数20
個以下のアルコキシ基を示す。X1 は、単結合または、
C、H、N、O、Sより選ばれた1種以上の原子を含
み、かつ炭素数0〜20個の2価の連結基を示す。k
は、1〜4の整数を示す。
In the formula, Ar2 Is a benzene ring, naphthalene
Indicates a ring or anthracene ring. R FourIs a hydrogen atom or
Represents a methyl group. RFive Is a hydrogen atom or 20 carbon atoms
Not more than 30 alkoxy groups are shown. X1 is a single bond or
Contain at least one atom selected from C, H, N, O and S
And a divalent linking group having 0 to 20 carbon atoms. k
Represents an integer of 1 to 4.

【0123】本発明では、バインダーポリマーとして、
一般式(III)で表される構成単位のみから成る単独重
合体を用いても良いが、この特定構成単位とともに、他
の公知のモノマーより誘導される構成単位を有する共重
合体を用いても良い。これらを用いた共重合体中に含ま
れる一般式(III)で表される構成単位の割合は、50
〜100重量%であることが好ましく、さらに好ましく
は60〜100重量%である。また、本発明で使用され
るポリマーの重量平均分子量は好ましくは5000以上
であり、さらに好ましくは1万〜30万の範囲であり、
数平均分子量は好ましくは1000以上であり、さらに
好ましくは2000〜25万の範囲である。多分散度
(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好まし
く、さらに好ましくは1.1〜10の範囲である。これ
らのポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマ
ー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダム
ポリマーであることが好ましい。
In the present invention, as the binder polymer,
A homopolymer consisting only of the structural unit represented by the general formula (III) may be used, or a copolymer having a structural unit derived from another known monomer may be used together with the specific structural unit. good. The proportion of the structural unit represented by the general formula (III) contained in the copolymer using these is 50
It is preferably ˜100% by weight, more preferably 60-100% by weight. The weight average molecular weight of the polymer used in the present invention is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000,
The number average molecular weight is preferably 1,000 or more, more preferably 2000 to 250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, more preferably 1.1 to 10. These polymers may be random polymers, block polymers, graft polymers, etc., but are preferably random polymers.

【0124】次に、ノボラック類について述べる。本発
明で好適に用いられるノボラック樹脂は、フェノールノ
ボラック、o−、m−、p−の各種クレゾールノボラッ
ク、及びその共重合体、ハロゲン原子、アルキル基等で
置換されたフェノールを利用したノボラックが挙げられ
る。これらのノボラック樹脂の重量平均分子量は、好ま
しくは1000以上であり、さらに好ましくは2000
〜2万の範囲であり、数平均分子量は好ましくは100
0以上であり、さらに好ましくは2000〜15000
の範囲である。多分散度は1以上が好ましくは、さらに
好ましくは1.1〜10の範囲である。
Next, the novolaks will be described. Examples of the novolak resin preferably used in the present invention include phenol novolak, o-, m-, p-various cresol novolaks, and copolymers thereof, and halogen-based novolaks using phenol substituted with an alkyl group. To be The weight average molecular weight of these novolac resins is preferably 1000 or more, more preferably 2000.
The number average molecular weight is preferably 100.
0 or more, more preferably 2000 to 15000
Is the range. The polydispersity is preferably 1 or more, more preferably 1.1 to 10.

【0125】また、バインダーポリマーとして、環内に
不飽和結合を有する複素環基を有するポリマーを用いる
ことも好ましい態様である。ここで、複素環とは、環系
を構成する原子の中に、炭素以外のヘテロ原子を1個以
上含むものをいう。用いられるヘテロ原子としては、窒
素原子、酸素原子、硫黄原子、珪素原子が好ましい。こ
のような複素環基を有するポリマーを用いることによ
り、本複素環に存在するローンペアの機能により、化学
構造的に反応し易くなり、耐刷性の良好な膜が形成され
ると考えられる。
Further, it is also a preferable embodiment to use a polymer having a heterocyclic group having an unsaturated bond in the ring as the binder polymer. Here, the term “heterocycle” refers to one in which at least one heteroatom other than carbon is included in the atoms constituting the ring system. The hetero atom used is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom or a silicon atom. It is considered that the use of the polymer having such a heterocyclic group facilitates the chemical structural reaction due to the function of the lawn pair existing in the present heterocycle, and forms a film having good printing durability.

【0126】以上説明した本発明で使用されるバインダ
ーポリマーは単独で用いても2種類以上を混合して用い
てもよい。これらポリマーは、酸架橋層の全固形分に対
し20〜95重量%、好ましくは40〜90重量%の割
合で添加される。添加量が20重量%未満の場合は、画
像形成した際、画像部の強度が不足する。また添加量が
95重量%を越える場合は、画像形成されない。
The binder polymers used in the present invention described above may be used alone or in combination of two or more kinds. These polymers are added in a proportion of 20 to 95% by weight, preferably 40 to 90% by weight, based on the total solid content of the acid crosslinked layer. When the addition amount is less than 20% by weight, the strength of the image area is insufficient when an image is formed. If the addition amount exceeds 95% by weight, no image is formed.

【0127】この酸架橋層においても、赤外線吸収剤を
含有することで感度向上を図ることができる。この酸架
橋層の形成に際して、塗布性、膜質の向上などの目的で
界面活性剤などの種々の添加物を併用することができ
る。
Also in this acid cross-linking layer, the sensitivity can be improved by containing the infrared absorber. When forming the acid cross-linked layer, various additives such as a surfactant can be used together for the purpose of improving coatability and film quality.

【0128】またポジ型の記録層としては相互作用解除
系(感熱ポジ)、酸触媒分解系、極性変換系が挙げられ
る。以下順に述べる。 <相互作用解除系(感熱ポジ)>相互作用解除系は前記
の表面配向型赤外線吸収アルカリ可溶性樹脂さらに、所
望により、一般的な公知のアルカリ可溶性樹脂と前記の
一般的な赤外線吸収剤により構成される。
Examples of the positive type recording layer include an interaction releasing system (heat-sensitive positive), an acid catalyst decomposition system, and a polarity conversion system. These are described below in order. <Interaction-releasing system (heat-sensitive positive)> The interaction-releasing system is composed of the above-mentioned surface-aligned infrared-absorbing alkali-soluble resin and, if desired, a general known alkali-soluble resin and the above-mentioned general infrared absorbing agent. It

【0129】ポジ型の記録層に使用できるアルカリ可溶
性樹脂としては、前記したように、高分子中の主鎖およ
び/または側鎖に酸性基を含有する単独重合体、これら
の共重合体またはこれらの混合物を包含する。中でも、
下記(1)〜(6)に挙げる酸性基を高分子の主鎖およ
び/または側鎖中に有するものが、アルカリ性現像液に
対する溶解性の点、溶解抑制能発現の点で好ましい。
As the alkali-soluble resin which can be used in the positive type recording layer, as mentioned above, a homopolymer having an acidic group in the main chain and / or side chain in the polymer, a copolymer thereof or a copolymer thereof is used. A mixture of Above all,
Those having an acidic group listed in the following (1) to (6) in the main chain and / or side chain of the polymer are preferable from the viewpoint of solubility in an alkaline developer and manifestation of dissolution inhibiting ability.

【0130】(1)フェノール基(−Ar−OH) (2)スルホンアミド基(−SO2 NH−R) (3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド
基」という。) 〔−SO2 NHCOR、−SO2 NHSO2 R、−CO
NHSO2 R〕 (4)カルボン酸基(−CO2 H) (5)スルホン酸基(−SO3 H) (6)リン酸基(−OPO3 2
(1) Phenol group (-Ar-OH) (2) Sulfonamide group (-SO 2 NH-R) (3) Substituted sulfonamide acid group (hereinafter referred to as "active imide group") [- SO 2 NHCOR, -SO 2 NHSO 2 R, -CO
NHSO 2 R] (4) carboxylic acid group (-CO 2 H) (5) sulfonic acid group (-SO 3 H) (6) phosphoric acid group (-OPO 3 H 2)

【0131】<酸触媒分解系>化学増幅層は、記録層の
最上層の露光面に形成されることが好ましく、光または
熱の作用により酸を発生する化合物(酸発生剤)、およ
び発生した酸を触媒として化学結合を開裂しアルカリ現
像液に対する溶解性が増大する化合物(酸分解性化合
物)とを必須成分とする。化学増幅層には、さらに、こ
のを形成するためのバインダー成分である高分子化合物
を含有してもよく、下記酸分解性化合物自体が、バイン
ダー成分の機能を果たす高分子化合物又はその前駆体で
あってもよい。
<Acid-catalyzed Decomposition System> The chemical amplification layer is preferably formed on the exposed surface of the uppermost layer of the recording layer, and it is a compound (acid generator) which generates an acid by the action of light or heat, and A compound (acid-decomposable compound) that cleaves a chemical bond by using an acid as a catalyst to increase the solubility in an alkali developing solution is an essential component. The chemical amplification layer may further contain a polymer compound which is a binder component for forming this, and the following acid-decomposable compound itself is a polymer compound which functions as a binder component or a precursor thereof. It may be.

【0132】〔酸分解性化合物〕本発明において、酸を
触媒として化学結合を開裂しアルカリ現像液に対する溶
解性が増大する化合物とは、分子内に酸で分解し得る結
合基を有する化合物と言い代えることができる。このよ
うな化合物は、特開平9−171254号公報に
「(b)酸で分解結合を少なくとも1つ有する化合物」
として記載されたものを用いることができる。酸で分解
し得る結合としては、例えば、−(CH2CH2O)n
基(nは2〜5の整数を表す)等を好ましく挙げること
ができる。このような化合物中、感度及び現像性の観点
から、下記一般式(1)で表される化合物を用いること
が好ましい。
[Acid-decomposable compound] In the present invention, a compound that cleaves a chemical bond with an acid as a catalyst to increase the solubility in an alkali developing solution is a compound having a bond group capable of being decomposed by an acid in the molecule. It can be replaced. Such a compound is described in JP-A No. 9-171254, "(b) Compound having at least one decomposable bond with an acid".
Can be used. The coupling capable of being decomposed by an acid, for example, - (CH 2 CH 2 O ) n -
A group (n represents an integer of 2 to 5) and the like can be preferably mentioned. Among such compounds, it is preferable to use the compound represented by the following general formula (1) from the viewpoint of sensitivity and developability.

【0133】[0133]

【化41】 [Chemical 41]

【0134】〔式中、R、R1及びR2は、各々水素原
子、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5
のアルコキシ基、スルホ基、カルボキシル基又はヒドロ
キシル基を表し、p、q及びrは、各々1〜3の整数を
表し、m及びnは、各々1〜5の整数を表す。〕
[In the formula, R, R 1 and R 2 are each a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
Represents an alkoxy group, a sulfo group, a carboxyl group or a hydroxyl group, p, q and r each represent an integer of 1 to 3, and m and n each represent an integer of 1 to 5. ]

【0135】前記一般式(1)において、R、R1及び
2が表すアルキル基は直鎖でも分岐でもよく、例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、tert−ブチル基、ペンチル基等が挙げら
れ、アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキ
シ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、
tert−ブトキシ基、ペントキシ基等が挙げられ、ス
ルホ基及びカルボキシル基はその塩を包含する。一般式
(1)で表される化合物のうち、m及びnが1又は2で
ある化合物が特に好ましい。一般式(1)で表される化
合物は公知の方法で合成することができる。
In the general formula (1), the alkyl group represented by R, R 1 and R 2 may be linear or branched, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group and a tert-butyl group. , A pentyl group and the like, and examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group,
Examples thereof include a tert-butoxy group and a pentoxy group, and the sulfo group and the carboxyl group include salts thereof. Among the compounds represented by the general formula (1), compounds in which m and n are 1 or 2 are particularly preferable. The compound represented by the general formula (1) can be synthesized by a known method.

【0136】その他、本発明に適用し得る酸分解性化合
物としては、特開昭48−89603号、同51−12
0714号、同53−133429号、同55−129
95号、同55−126236号、同56−17345
号に記載のC−O−C結合を有する化合物、特開昭60
−37549号、同60−121446号に記載のSi
−O−C結合を有する化合物、特開昭60−3625
号、同60−10247号に記載されているその他の酸
分解化合物を挙げることができ、さらに特開昭62−2
22246号に記載されているSi−N結合を有する化
合物、特開昭62−251743号に記載されている炭
酸エステル、特開昭62−209451号に記載されて
いるオルト炭酸エステル、特開昭62−280841号
に記載されているオルトチタン酸エステル、特開昭62
−280842号に記載されているオルトケイ酸エステ
ル、特開昭63−010153号、特開平9−1712
54号、同10−55067号、同10−111564
号、同10−87733号、同10−153853号、
同10−228102号、同10−268507号、同
282648号、同10−282670号、EP−08
84547Alに記載されているアセタール、ケタール
及びオルトカルボン酸エステル、特開昭62−2440
38号に記載されているC−S結合を有する化合物を用
いることが出来る。
Other acid-decomposable compounds applicable to the present invention include JP-A-48-89603 and 51-12.
0714, 53-333429, 55-129.
No. 95, No. 55-126236, No. 56-17345.
Compounds having C--O--C bond described in JP-A-60-
-37549, Si described in No. 60-12146
Compound having --O--C bond, JP-A-60-3625
Other acid-decomposable compounds described in JP-A No. 60-10247 and JP-A-62-2 can be mentioned.
Compounds having an Si-N bond described in JP-A No. 22246, carbonic acid esters described in JP-A No. 62-251743, orthocarbonic acid esters described in JP-A No. 62-209451, and JP-A-62. -280841 orthotitanate, JP-A-62-62
Orthosilicic acid esters described in JP-A-280842, JP-A-63-010153 and JP-A-9-1712.
No. 54, No. 10-55067, No. 10-111564.
No. 10-87733, No. 10-153853,
No. 10-228102, No. 10-268507, No. 282648, No. 10-282670, EP-08.
84547 Al, acetals, ketals and orthocarboxylic acid esters, JP-A-64-2440.
The compound having a C—S bond described in No. 38 can be used.

【0137】上記酸分解性化合物の中でも特に、特開昭
53−133429号、同56−17345号、同60
−121446号、同60−37549号、同62−2
09451号、同63−010153号、特開平9−1
71254号、同10−55067号、同10−111
564号、同10−87733号、同10−15385
3号、同10−228102号、同10−268507
号、同282648号、同10−282670号、EP
0884647Al各明細書に記載されているC−O−
C結合を有する化合物、Si−O−C結合を有する化合
物、オルト炭酸エステル、アセタール類、ケタール類及
びシリルエーテル類が好ましい。この酸分解性化合物の
中でも、主鎖中に繰り返しアセタール又はケタール部分
を有し、アルカリ現像液中でその溶解度が発生した酸に
より上昇する高分子化合物が好ましく用いられる。
Among the above acid-decomposable compounds, JP-A Nos. 53-133429, 56-17345 and 60 are particularly preferable.
-121446, 60-37549, and 62-2
09451, 63-0101053, JP-A-9-1
71254, 10-55067, 10-111.
No. 564, No. 10-87733, No. 10-15385.
No. 3, No. 10-228102, No. 10-268507
No. 282648, No. 10-282670, EP
0884647Al C-O-described in each specification
Compounds having a C bond, compounds having a Si—O—C bond, orthocarbonates, acetals, ketals and silyl ethers are preferable. Among these acid-decomposable compounds, a polymer compound having an acetal or ketal moiety in the main chain repeatedly and whose solubility in an alkaline developer is increased by the acid generated is preferably used.

【0138】これらの酸分解性化合物は、1種のみを用
いても、2種以上を組合せて用いてもよい。また、添加
量としては、化学増幅層全固形分に対し5〜70重量
%、好ましくは10〜50重量%、より好ましくは15
〜35重量%の割合で層中に添加される。添加量が5重
量%未満の場合は、非画像部の汚れが発生し易くなり、
また添加量が70重量%を越える場合は、画像部の膜強
度が不充分となり、いずれも好ましくない。
These acid-decomposable compounds may be used alone or in combination of two or more. The amount of addition is 5 to 70% by weight, preferably 10 to 50% by weight, more preferably 15% by weight based on the total solid content of the chemical amplification layer.
It is added to the layer in a proportion of ˜35% by weight. If the addition amount is less than 5% by weight, stains on non-image areas are likely to occur,
On the other hand, if the addition amount exceeds 70% by weight, the film strength of the image area becomes insufficient, which is not preferable.

【0139】(溶解抑制剤)本発明の画像記録材料を用
いて、ポジ型記録層を形成するにあたっては、更に、オ
ニウム塩、o−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン
化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物等の熱分解性
であり、分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解
性を実質的に低下させる物質を併用することができる。
これらの化合物の添加は、画像部の現像液への溶解阻止
性の向上を図る観点から好ましい。オニウム塩としては
ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨ
ードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アル
ソニウム塩等を挙げる事ができる。オニウム塩は、画像
記録材料を構成する全固形分に対して、1〜50重量%
添加するのが好ましく、5〜30重量%添加するのがよ
り好ましく、10〜30重量%添加するのが特に好まし
い。
(Dissolution Inhibitor) In forming a positive recording layer using the image recording material of the present invention, an onium salt, an o-quinonediazide compound, an aromatic sulfone compound, an aromatic sulfonic acid ester compound and the like are further added. A substance that is thermally decomposable and that substantially reduces the solubility of the alkali-soluble resin when not decomposed can be used in combination.
Addition of these compounds is preferable from the viewpoint of improving the dissolution inhibiting property of the image area in the developing solution. Examples of onium salts include diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, arsonium salts and the like. The onium salt is 1 to 50% by weight based on the total solid content of the image recording material.
It is preferably added, more preferably 5 to 30% by weight, and particularly preferably 10 to 30% by weight.

【0140】また、さらに、感度を向上させる目的で、
環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用するこ
ともできる。上記の環状酸無水物、フェノール類および
有機酸類の画像記録材料中に占める割合は、0.05〜
20重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15重
量%、特に好ましくは0.1〜10重量%である。
Further, for the purpose of further improving the sensitivity,
Cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids can also be used together. The ratio of the above cyclic acid anhydride, phenols and organic acids in the image recording material is 0.05 to
It is preferably 20% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight, and particularly preferably 0.1 to 10% by weight.

【0141】また、これら以外にも、エポキシ化合物、
ビニルエーテル類、さらには特開平8−276558号
公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノール化
合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合物及
び本発明者らが先に提案した特開平11−160860
号公報に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する架橋性化
合物等を目的に応じて適宜添加することができる。
In addition to these, epoxy compounds,
Vinyl ethers, further, a phenol compound having a hydroxymethyl group described in JP-A-8-276558, a phenol compound having an alkoxymethyl group, and JP-A-11-160860 previously proposed by the present inventors.
The cross-linking compound having an alkali dissolution suppressing action described in JP-A No. 2003-242242 can be appropriately added depending on the purpose.

【0142】また、本発明における画像記録材料中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭62−251740号公報や特開平3−208514
号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特
開昭59−121044号公報、特開平4−13149
号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加す
ることができる。
Further, in the image recording material of the present invention, in order to extend the stability of processing against developing conditions, JP-A-62-251740 and JP-A-3-208514 are used.
Nonionic surfactants as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149.
Amphoteric surfactants such as those described in the publication can be added.

【0143】本発明における画像記録材料中には、露光
による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、
画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
更に本発明の画像記録材料中には必要に応じ、塗膜の柔
軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、
ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸ト
リブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタ
ル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレ
ジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイ
ン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタク
リル酸のオリゴマーおよびポリマー等が用いられる。
In the image recording material of the present invention, a printout agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure,
Dyes or pigments as image colorants can be added.
If necessary, a plasticizer is added to the image recording material of the present invention in order to impart flexibility to the coating film. For example,
Butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, oligomers of acrylic acid or methacrylic acid. And polymers are used.

【0144】本発明の画像記録材料を含む記録層塗布液
や、保護層等の所望の層の塗布液用成分を溶媒に溶かし
て、適当な支持体上に塗布することにより平版印刷版原
版を製造することができる。ここで使用する溶媒として
は、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチル
エチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテー
ト、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチル
アセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、
水等を挙げることができるがこれに限定されるものでは
ない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用され
る。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度
は、好ましくは1〜50重量%である。また塗布、乾燥
後に得られる支持体上の記録層塗布量(固形分)は、用
途によって異なるが、感光性印刷版についていえば一般
的に0.5〜5.0g/m2 が好ましい。塗布量が少な
くなるにつれて、見かけの感度は大になるが、記録層の
皮膜特性は低下する。塗布する方法としては、種々の方
法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗
布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ
塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等
を挙げることができる。
A lithographic printing plate precursor is prepared by dissolving a coating liquid for a recording layer containing the image recording material of the present invention or a coating liquid component for a desired layer such as a protective layer in a solvent and coating it on a suitable support. It can be manufactured. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy. Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene,
Examples thereof include water, but are not limited thereto. These solvents may be used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. The coating amount (solid content) of the recording layer obtained on the support after coating and drying varies depending on the use, but is generally preferably 0.5 to 5.0 g / m 2 for the photosensitive printing plate. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the recording layer deteriorate. Various methods can be used for coating, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

【0145】本発明の画像記録材料を用いた記録層塗布
液中には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば
特開昭62−170950号公報に記載されているよう
なフッ素系界面活性剤を添加することができる。好まし
い添加量は、全画像記録材料の0.01〜1重量%さら
に好ましくは0.05〜0.5重量%である。
In the coating solution for the recording layer using the image recording material of the present invention, a surfactant for improving the coating property, for example, a fluorine-based agent as described in JP-A-62-170950. Surfactants can be added. The preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight, and more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the entire image recording material.

【0146】本発明の記録層を平版印刷版原版に適用す
る場合に使用される支持体としては、寸度的に安定な板
状物が用いられ、例えば、紙、プラスチック(例えば、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラ
ミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜
鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セ
ルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネー
ト、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフィ
ルム等が含まれる。
As a support used when the recording layer of the present invention is applied to a lithographic printing plate precursor, a dimensionally stable plate-like material is used, and examples thereof include paper and plastic (eg, paper).
Polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) laminated paper, metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper laminated with the above metal, or vapor-deposited, or a plastic film is included.

【0147】本発明の平版印刷版原版に用いられる支持
体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板
が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価
であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニ
ウム板は、純アルミニウム板およびアルミニウムを主成
分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミ
ニウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフ
ィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素に
は、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合
金中の異元素の含有量は高々10重量%以下である。本
発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウ
ムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製
造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでも
よい。このように本発明に適用されるアルミニウム板
は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知
公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することがで
きる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよ
そ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15m
m〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3m
mである。
As the support used in the lithographic printing plate precursor according to the invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a slight amount of a foreign element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by weight. Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in terms of refining technology, and thus may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and conventionally known and publicly known aluminum plates can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 m.
m-0.4 mm, particularly preferably 0.2 mm-0.3 m
m.

【0148】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開
示されているように両者を組み合わせた方法も利用する
ことができる。この様に粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理および中和処
理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高め
るために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽
極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮
膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には
硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が
用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によ
って適宜決められる。
Prior to the roughening of the aluminum plate, if desired, a degreasing treatment for removing the rolling oil on the surface is carried out with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution. The surface roughening treatment of the aluminum plate is carried out by various methods. For example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically melting the surface and a method of selectively melting the surface chemically. It is performed by the method. As the mechanical method, known methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method and a buff polishing method can be used. As an electrochemical graining method, there is a method of performing alternating current or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolytic solution. Further, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 54-63902, a method in which both are combined can be used. The thus roughened aluminum plate is subjected to alkali etching treatment and neutralization treatment, if necessary, and then, if desired, subjected to anodization treatment in order to enhance water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used, and sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is generally used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

【0149】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2 より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,7
14,066号、同第3,181,461号、第3,2
80,734号および第3,902,734号に開示さ
れているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸
ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支
持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、ま
たは電解処理される。他に特公昭36−22063号公
報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウムおよび米
国特許第3,276,868号、同第4,153,46
1号、同第4,689,272号に開示されているよう
なポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられ
る。
The treatment conditions for anodic oxidation cannot be unconditionally specified because they vary depending on the electrolyte used, but generally the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A. / Dm 2 , voltage 1 to 100 V, electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are suitable. If the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , printing durability may be insufficient, or the non-image area of the planographic printing plate may be easily scratched.
So-called "scratch stains" tend to occur in which ink adheres to the scratched portion during printing. After being subjected to anodizing treatment, the aluminum surface is optionally subjected to hydrophilic treatment. Examples of the hydrophilic treatment used in the present invention include US Pat.
No. 14,066, No. 3,181,461, No. 3,2
There are alkali metal silicate (eg sodium silicate aqueous solution) methods such as those disclosed in 80,734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolyzed. In addition, potassium fluorozirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 and US Pat. Nos. 3,276,868 and 4,153,46.
The method of treating with polyvinylphosphonic acid as disclosed in No. 1 and No. 4,689,272 is used.

【0150】本発明の平版印刷版原版は、支持体上に本
発明の画像記録材料を含む記録層を設けたものである
が、必要に応じてその間に下塗層を設けることができ
る。下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、
例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、
アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミ
ノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェ
ニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホ
ン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およ
びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基
を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アル
キルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置
換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホ
スフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホス
フィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラ
ニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの
塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等か
ら選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。
The lithographic printing plate precursor according to the invention has a recording layer containing the image recording material of the invention on a support, and an undercoat layer may be provided between them if necessary. Various organic compounds are used as the undercoat layer component,
For example, carboxymethyl cellulose, dextrin,
Gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, optionally substituted phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid Organic phosphonic acid such as acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthylphosphoric acid, organic phosphoric acid such as alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid, phenylphosphinic acid which may have a substituent, naphthylphosphinic acid, It is selected from organic phosphinic acids such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochlorides of amines having a hydroxy group such as triethanolamine hydrochloride. You may use it.

【0151】上記のようにして作製された平版印刷版原
版は、通常、像露光、現像処理を施される。像露光に用
いられる活性光線の光源としては、波長720〜120
0nmの赤外線を放射する固体レーザー、半導体レーザ
ー等が挙げられる。本発明においては、近赤外から赤外
領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半
導体レーザが特に好ましい。
The lithographic printing plate precursor prepared as described above is usually subjected to image exposure and development. As a light source of actinic rays used for image exposure, wavelengths of 720 to 120
Solid-state lasers, semiconductor lasers, and the like that emit infrared rays of 0 nm are included. In the present invention, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid laser and a semiconductor laser are particularly preferable.

【0152】本発明の平版印刷版原版の現像液および補
充液としては従来より知られているアルカリ水溶液が使
用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム、第3リン酸ナトリウム、第3リン酸カリウム、第3
リン酸アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、第2リン
酸カリウム、第2リン酸アンモニウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ほう
酸ナトリウム、ほう酸カリウム、ほう酸アンモニウム、
水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム、水酸化カリウ
ムおよび水酸化リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げら
れる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、ト
リエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロ
ピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイ
ソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジア
ミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。
As the developer and replenisher for the lithographic printing plate precursor according to the invention, conventionally known alkaline aqueous solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium silicate, sodium triphosphate, potassium triphosphate, tertiary
Ammonium phosphate, dibasic sodium phosphate, dibasic potassium phosphate, dibasic ammonium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, boric acid Ammonium,
Inorganic alkali salts such as sodium hydroxide, ammonium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide are mentioned. Further, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkaline agents such as ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used.

【0153】これらのアルカリ剤は単独もしくは2種以
上を組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中
で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カ
リウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸塩
の成分である酸化珪素SiO2 とアルカリ金属酸化物
2 Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能となる
ためであり、例えば、特開昭54−62004号公報、
特公昭57−7427号公報に記載されているようなア
ルカリ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。
These alkaline agents may be used alone or in combination of two or more. Among these alkaline agents, a particularly preferable developer is an aqueous silicate solution such as sodium silicate or potassium silicate. The reason is that silicon oxide SiO 2 which is a component of silicate and alkali metal oxide
This is because the developing property can be adjusted by the ratio and concentration of M 2 O. For example, JP-A-54-62004,
An alkali metal silicate as described in JP-B-57-7427 is effectively used.

【0154】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量のPS版を処理できるこ
とが知られている。本発明においてもこの補充方式が好
ましく適用される。現像液および補充液には、現像性の
促進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像部の親イ
ンキ性を高める目的で、必要に応じて種々の界面活性剤
や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤として
は、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界
面活性剤が挙げられる。更に現像液および補充液には必
要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜
硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等
の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を
加えることもできる。上記現像液および補充液を用いて
現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有す
るリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化
液で後処理される。本発明の画像記録材料を印刷版とし
て使用する場合の後処理としては、これらの処理を種々
組み合わせて用いることができる。
Further, in the case of developing using an automatic processor, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than the developing solution.
It is known that a large amount of PS plate can be processed by replacing the developing solution in the developing tank for a long period of time without adding the developing solution to the developing solution. Also in the present invention, this replenishment system is preferably applied. Various surfactants and organic solvents can be added to the developing solution and the replenishing solution, if necessary, for the purpose of promoting or suppressing the developing property, dispersing the development residue and enhancing the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Further, in the developing solution and the replenishing solution, if necessary, a reducing agent such as sodium salt and potassium salt of inorganic acid such as hydroquinone, resorcin, sulfurous acid and bisulfite, an organic carboxylic acid, a defoaming agent and a water softener. It can also be added. The printing plate developed with the above-mentioned developing solution and replenishing solution is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. As the post-treatment when the image recording material of the present invention is used as a printing plate, various combinations of these treatments can be used.

【0155】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用
いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処
理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽およ
びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬
送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノ
ズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最
近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール
などによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知
られている。このような自動処理においては、各処理液
に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処
理することができる。また、実質的に未使用の処理液で
処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
In recent years, automatic developing machines for printing plates have been widely used in the plate making / printing industry in order to rationalize and standardize the plate making work. This automatic developing machine is generally composed of a developing section and a post-processing section, and is composed of a device for conveying a printing plate, each processing liquid tank and a spraying device, which conveys an exposed printing plate horizontally while pumping it up with each pump. The processing liquid is sprayed from a spray nozzle for development processing. Further, recently, a method has also been known in which a printing plate is dipped and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with the processing liquid for processing. In such automatic processing, it is possible to perform processing while supplementing each processing solution with a replenishing solution according to the processing amount, operating time, and the like. Further, a so-called disposable processing method of processing with a substantially unused processing liquid can be applied.

【0156】本発明の画像記録材料を用いた感光性平版
印刷版原版について説明する。画像露光し、現像し、水
洗及び/又はリンス及び/又はガム引きして得られた平
版印刷版に不必要な画像部(例えば原画フィルムのフィ
ルムエッジ跡など)がある場合には、その不必要な画像
部の消去が行われる。このような消去は、例えば特公平
2−13293号公報に記載されているような消去液を
不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したの
ちに水洗することにより行う方法が好ましいが、特開平
59−174842号公報に記載されているようなオプ
ティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部
に照射したのち現像する方法も利用できる。
The photosensitive lithographic printing plate precursor using the image recording material of the present invention will be described. Unnecessary if there are unnecessary image areas (for example, film edge traces of the original film) on the lithographic printing plate obtained by imagewise exposure, development, washing with water and / or rinsing and / or gumming. The image area is erased. Such erasing is preferably performed, for example, by applying an erasing liquid as described in Japanese Patent Publication No. 2-13293 to the unnecessary image portion, leaving it for a predetermined time as it is, and then rinsing with water. A method described in JP-A-59-174842, in which an active ray guided by an optical fiber is applied to an unnecessary image portion and then developed, can also be used.

【0157】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニング処理する場合には、該バーニング処理前
に、特公昭61−2518号、同55−28062号、
特開昭62−31859号、同61−159655号の
各公報に記載されているような整面液で処理することが
好ましい。その方法としては、該整面液を浸み込ませた
スポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整
面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方
法や、自動コーターによる塗布などが適用される。ま
た、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラ
ーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結
果を与える。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after applying a desensitizing gum if desired, but when a lithographic printing plate having higher printing durability is desired, Is subjected to a burning process. When the planographic printing plate is subjected to a burning treatment, before the burning treatment, Japanese Patent Publication Nos. 61-2518, 55-28062,
It is preferable to treat with a surface-adjusting solution as described in JP-A Nos. 62-31859 and 61-159655. As the method, with a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting solution, it is applied on the lithographic printing plate, or by immersing the printing plate in a vat filled with the surface-adjusting solution, Application by an automatic coater is applied. Further, making the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating gives more preferable results.

【0158】整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8
g/m2 (乾燥重量)が適当である。整面液が塗布され
た平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニング
プロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販
売されているバーニングプロセッサー:「BP−130
0」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好まし
い。
The coating amount of the surface conditioning solution is generally 0.03 to 0.8.
g / m 2 (dry weight) is suitable. The planographic printing plate coated with the surface-adjusting solution is dried if necessary, and then a burning processor (for example, a burning processor sold by Fuji Photo Film Co., Ltd .: “BP-130”).
0 ") and so on. The heating temperature and time in this case depend on the types of components forming the image,
The range of 180 to 300 ° C. and the range of 1 to 20 minutes are preferable.

【0159】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行われて
いる処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合には、ガム引きな
どのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。こ
の様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印
刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
The lithographic printing plate which has been subjected to the burning treatment can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming, if necessary, but the surface treatment containing a water-soluble polymer compound etc. When a liquid is used, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The planographic printing plate obtained by such treatment is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0160】[0160]

〔合成例〕[Synthesis example]

(合成例1、DB−1の合成)クレゾール−ホルムアル
デヒド樹脂(m−クレゾール:p−クレゾールモル比
6:4)24.0gをメタノール200mlに溶解し、
さらにナトリウムメトキシド0.54gを加え、室温で
10分間攪拌した。攪拌後、溶媒を減圧留去し、フェノ
ール骨格の一部(約5%)が解離してフェノキシドとな
ったクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂を得た。さら
に、該樹脂をN,N−ジメチルホルムアルデヒド150
mlに溶解し、下記シアニン染料A7.6gを加え、室
温で5時間攪拌した。攪拌後、反応溶液を水1500m
lに注ぎ込み、析出物をろ取し、水洗後、減圧乾燥する
ことで赤外線吸収性基を有する高分子化合物(DB−1
A)を得た。さらに、得られた(DB−1A)をN,N
−ジメチルホルムアルデヒド150mlに溶解し、ヘキ
サフルオロプロペントリマー9.0gを加え、水冷しな
がらトリエチルアミン2.0gをゆっくり加え、室温で
5時間攪拌した。反応液を希塩酸500mlに注ぎ込
み、分離物をろ取、水洗、乾燥することにより表面配向
型赤外線吸収アルカリ可溶性樹脂(DB−1)36.5
gを得た。得られた(DB−1)をPETフィルム上に
成膜して測定した吸収の吸収極大は815nmであり、
標準ポリスチレンを用いたGPC測定による重量平均分
子量は約9,000であった。
(Synthesis Example 1, synthesis of DB-1) 24.0 g of cresol-formaldehyde resin (m-cresol: p-cresol molar ratio 6: 4) was dissolved in 200 ml of methanol,
Further, 0.54 g of sodium methoxide was added, and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes. After stirring, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a cresol-formaldehyde resin in which a part (about 5%) of the phenol skeleton was dissociated into a phenoxide. Further, the resin is treated with N, N-dimethylformaldehyde 150
After dissolving in ml, the following cyanine dye A (7.6 g) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 5 hours. After stirring, the reaction solution was treated with water 1500 m.
1, the precipitate was collected by filtration, washed with water, and dried under reduced pressure to obtain a polymer compound having an infrared absorbing group (DB-1
A) was obtained. Furthermore, the obtained (DB-1A) was added to N, N
-Dissolved in 150 ml of dimethylformaldehyde, 9.0 g of hexafluoropropene trimer was added, 2.0 g of triethylamine was slowly added while cooling with water, and the mixture was stirred at room temperature for 5 hours. The reaction solution was poured into 500 ml of diluted hydrochloric acid, and the separated product was collected by filtration, washed with water, and dried to obtain a surface-aligned infrared absorbing alkali-soluble resin (DB-1) 36.5.
g was obtained. The absorption maximum of absorption measured by depositing the obtained (DB-1) on a PET film is 815 nm,
The weight average molecular weight measured by GPC using standard polystyrene was about 9,000.

【0161】[0161]

【化42】 [Chemical 42]

【0162】(合成例2、DB−3の合成)クレゾール
−ホルムアルデヒド樹脂(m−クレゾール:p−クレゾ
ールモル比6:4)24.0gをメタノール200ml
に溶解し、さらにナトリウムメトキシド0.54gを加
え、室温で10分間攪拌した。攪拌後、溶媒を減圧留去
し、フェノール骨格の一部(約5%)が解離してフェノ
キシドとなったクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂を得
た。さらに、該樹脂をN,N−ジメチルホルムアルデヒ
ド150mlに溶解し、上記シアニン染料A7.6gを
加え、室温で5時間攪拌した。攪拌後、反応溶液を水1
500mlに注ぎ込み、析出物をろ取し、水洗後、減圧
乾燥することで赤外線吸収性基を有する高分子化合物
(DB−3A)を得た。得られた(DB−3A)とアセ
トン400mlを混合し、トリエチルアミン1.0gを
加え、10分間攪拌した。さらに、パーフルオロオクタ
ノイルクロリド4.3gを水冷しながら徐々に滴下し、
室温で4時間攪拌した。反応溶液を水8000mlに注
ぎ込み、析出物をろ取、水洗、乾燥することにより表面
配向型赤外線吸収アルカリ可溶性樹脂(DB−3)3
2.1gを得た。(DB−3)をPETフィルム上に成
膜して測定した吸収の吸収極大は815nmであり、標
準ポリスチレンを用いたGPC測定による重量平均分子
量は約7,000であった。
(Synthesis Example 2, Synthesis of DB-3) 24.0 g of cresol-formaldehyde resin (m-cresol: p-cresol molar ratio 6: 4) was added to 200 ml of methanol.
, 0.54 g of sodium methoxide was added, and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes. After stirring, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a cresol-formaldehyde resin in which a part (about 5%) of the phenol skeleton was dissociated into a phenoxide. Further, the resin was dissolved in 150 ml of N, N-dimethylformaldehyde, 7.6 g of the above cyanine dye A was added, and the mixture was stirred at room temperature for 5 hours. After stirring, add 1 part of the reaction solution to water.
The mixture was poured into 500 ml, the precipitate was collected by filtration, washed with water, and dried under reduced pressure to obtain a polymer compound (DB-3A) having an infrared absorbing group. The obtained (DB-3A) was mixed with 400 ml of acetone, 1.0 g of triethylamine was added, and the mixture was stirred for 10 minutes. Further, 4.3 g of perfluorooctanoyl chloride was gradually added dropwise while cooling with water,
Stir at room temperature for 4 hours. The reaction solution was poured into 8000 ml of water, and the precipitate was collected by filtration, washed with water and dried to obtain a surface-aligned infrared absorbing alkali-soluble resin (DB-3) 3
2.1 g was obtained. The absorption maximum of absorption measured by depositing (DB-3) on a PET film was 815 nm, and the weight average molecular weight by GPC measurement using standard polystyrene was about 7,000.

【0163】(合成例3、DB−5の合成)窒素雰囲気
下、60%水素化ナトリウム0.4gをヘキサンで2回
洗浄し、減圧乾燥した。テトラヒドロフラン5mlを加
え、洗浄された水素化ナトリウムの懸濁液とし、氷冷し
ながらポリ(4−ヒドロキシスチレン)(丸善石油化学
(株)製)12.0gのテトラヒドロフラン(150m
l)溶液を15分かけて滴下し、ポリ(4−ヒドロキシ
スチレン)のフェノール性水酸気の一部(約10%)が
解離したフェノキシドを発生させた。室温で10分間攪
拌した後、上記シアニン染料A7.6gを加え、室温で
5時間攪拌した。攪拌後、反応溶液を水1500mlに
注ぎ込み、析出物をろ取し、水洗後、減圧乾燥すること
で赤外線吸収性基を有する高分子化合物(DB−5A)
を得た。さらに、得られた(DB−5A)をN,N−ジ
メチルホルムアルデヒド100mlに溶解し、ヘキサフ
ルオロプロペントリマー6.8gを加え、水冷しながら
トリエチルアミン1.5gをゆっくり加え、室温で6時
間攪拌した。反応液を希塩酸300mlに注ぎ込み、分
離物をろ取、水洗、乾燥することにより表面配向型赤外
線吸収アルカリ可溶性樹脂(DB−5)24.3gを得
た。得られた(DB−5)をPETフィルム上に成膜し
て測定した吸収の吸収極大は815nmであり、標準ポ
リスチレンを用いたGPC測定による重量平均分子量は
約13,000であった。
(Synthesis Example 3, Synthesis of DB-5) In a nitrogen atmosphere, 0.4 g of 60% sodium hydride was washed twice with hexane and dried under reduced pressure. Tetrahydrofuran (5 ml) was added to the washed sodium hydride suspension, and while cooling with ice, poly (4-hydroxystyrene) (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) 12.0 g of tetrahydrofuran (150 m)
1) The solution was added dropwise over 15 minutes to generate phenoxide in which a part (about 10%) of the phenolic hydroxy of poly (4-hydroxystyrene) was dissociated. After stirring at room temperature for 10 minutes, 7.6 g of the above cyanine dye A was added, and the mixture was stirred at room temperature for 5 hours. After stirring, the reaction solution was poured into 1500 ml of water, the precipitate was collected by filtration, washed with water, and dried under reduced pressure to give a polymer compound having an infrared absorbing group (DB-5A).
Got Further, the obtained (DB-5A) was dissolved in 100 ml of N, N-dimethylformaldehyde, 6.8 g of hexafluoropropene trimer was added, 1.5 g of triethylamine was slowly added while cooling with water, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. The reaction solution was poured into 300 ml of diluted hydrochloric acid, and the separated product was collected by filtration, washed with water, and dried to obtain 24.3 g of a surface-aligned infrared absorbing alkali-soluble resin (DB-5). The absorption maximum of absorption measured by depositing the obtained (DB-5) on a PET film was 815 nm, and the weight average molecular weight by GPC measurement using standard polystyrene was about 13,000.

【0164】(合成例4、DB−9の合成)クレゾール
−ホルムアルデヒド樹脂(m−クレゾール:p−クレゾ
ールモル比6:4)24.0gをメタノール200ml
に溶解し、さらにナトリウムメトキシド0.54gを加
え、室温で10分間攪拌した。攪拌後、溶媒を減圧留去
し、フェノール骨格の一部(約5%)が解離してフェノ
キシドとなったクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂を得
た。さらに、該樹脂をN,N−ジメチルホルムアルデヒ
ド150mlに溶解し、上記シアニン染料A7.6gを
加え、室温で5時間攪拌した。攪拌後、反応溶液を水1
500mlに注ぎ込み、析出物をろ取し、水洗後、減圧
乾燥することで赤外線吸収性基を有する高分子化合物
(DB−9A)を得た。得られた(DB−9A)とアセ
トン400mlを混合し、トリエチルアミン4.0gを
加え、10分間攪拌した。さらに、塩化ステアロイル1
2.1gとアセトン6gの混合物を水冷しながら徐々に
滴下し、室温で5時間攪拌した。反応溶液を水8000
mlに注ぎ込み、析出物をろ取、水洗、乾燥することに
より表面配向型赤外線吸収アルカリ可溶性樹脂(DB−
9)38.2gを得た。(DB−9)をPETフィルム
上に成膜して測定した吸収の吸収極大は815nmであ
り、標準ポリスチレンを用いたGPC測定による重量平
均分子量は約6,000であった。
(Synthesis Example 4, Synthesis of DB-9) 24.0 g of cresol-formaldehyde resin (m-cresol: p-cresol molar ratio 6: 4) was added to 200 ml of methanol.
, 0.54 g of sodium methoxide was added, and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes. After stirring, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a cresol-formaldehyde resin in which a part (about 5%) of the phenol skeleton was dissociated into a phenoxide. Further, the resin was dissolved in 150 ml of N, N-dimethylformaldehyde, 7.6 g of the above cyanine dye A was added, and the mixture was stirred at room temperature for 5 hours. After stirring, add 1 part of the reaction solution to water.
The mixture was poured into 500 ml, the precipitate was collected by filtration, washed with water, and dried under reduced pressure to obtain a polymer compound (DB-9A) having an infrared absorbing group. The obtained (DB-9A) was mixed with 400 ml of acetone, 4.0 g of triethylamine was added, and the mixture was stirred for 10 minutes. Furthermore, stearoyl chloride 1
A mixture of 2.1 g and acetone 6 g was gradually added dropwise while cooling with water, and the mixture was stirred at room temperature for 5 hours. The reaction solution is water 8000
It is then poured into a glass plate, and the precipitate is collected by filtration, washed with water and dried to obtain a surface alignment type infrared absorbing alkali-soluble resin (DB-
9) 38.2 g was obtained. The absorption maximum of absorption measured by forming (DB-9) on a PET film was 815 nm, and the weight average molecular weight by GPC measurement using standard polystyrene was about 6,000.

【0165】〔基板の作製〕厚み0.3mmのアルミニ
ウム板(材質1050)をトリクロロエチレンで洗浄し
て脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミ
ス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗
浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶
液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに
20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目
立て表面のエッチング量は約3g/m 2であった。次に
この板を7%硫酸を電解液として電流密度15A/dm
2で3g/m2の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、
乾燥し、さらに、珪酸ナトリウム2.5重量%水溶液で
30℃で10秒処理し、下記下塗り液を塗布し、塗膜を
80℃で15秒間乾燥し基板を得た。乾燥後の塗膜の被
覆量は12mg/m2であった。
[Production of Substrate] Aluminum 0.3 mm thick
Wash the aluminum plate (material 1050) with trichlorethylene.
After degreasing with a nylon brush and 400 mesh
Grain this surface with a water-suspension and wash it thoroughly with water.
Clean 25% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ℃
Immerse in the liquid for 9 seconds to perform etching, wash with water, and then
It was immersed in 20% nitric acid for 20 seconds and washed with water. The grain at this time
The amount of etching on the vertical surface is about 3g / m 2Met. next
This plate has a current density of 15 A / dm with 7% sulfuric acid as an electrolyte.
2At 3 g / m2After providing the DC anodized film of, washed with water,
Dried and then with a 2.5% by weight aqueous solution of sodium silicate
Treat at 30 ° C for 10 seconds, apply the following undercoat liquid, and apply the coating film
A substrate was obtained by drying at 80 ° C. for 15 seconds. Covering the coating after drying
Coverage is 12 mg / m2Met.

【0166】 〔下塗り液〕 ・下記化合物 0.3g ・メタノール 100g ・水 1g[0166] [Undercoat liquid]   ・ The following compound 0.3g   ・ Methanol 100g   ・ Water 1g

【0167】[0167]

【化43】 [Chemical 43]

【0168】(実施例1)得られた基板に、本発明の画
像記録材料からなる以下の感光液1を塗布量が1.0g
/m2(乾燥後)になるよう塗布したのち、TABAI
社製、PERFECT OVEN PH200にてWi
nd Controlを7に設定して140度で50秒
間乾燥し、平版印刷版原版1を得た。
(Example 1) A coating amount of 1.0 g of the following photosensitive solution 1 comprising the image recording material of the present invention was applied to the obtained substrate.
/ M 2 (after drying), then apply TABAI
Wi-Fi router, PERFECT OVEN PH200
The nd Control was set to 7 and dried at 140 ° C. for 50 seconds to obtain a lithographic printing plate precursor 1.

【0169】 〔感光液1〕 表面配向型赤外線吸収アルカリ可溶性樹脂(DB−1) 0.75g 特開平11−288093記載の特定の共重合体1 2.37g 2−メトキシ−4−(N−フェニルアミノ)ベンゼン ジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート 0.03g テトラヒドロ無水フタル酸 0.19g エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシ−β− ナフタレンスルホン酸にしたもの 0.05g フッ素系界面活性剤(メガファックF176PF、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.035g フッ素系界面活性剤(メガファックMCF−312、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.05g パラトルエンスルホン酸 0.008g ビス−p−ヒドロキシフェニルスルホン 0.063g ステアリル酸n−ドデシル 0.06g γ−ブチロラクトン 13g メチルエチルケトン 24g 1−メトキシ−2−プロパノール 11g[0169] [Photosensitive liquid 1]   Surface-oriented infrared absorbing alkali-soluble resin (DB-1) 0.75g   2.37 g of the specific copolymer 1 described in JP-A-11-288093   2-methoxy-4- (N-phenylamino) benzene   Diazonium hexafluorophosphate 0.03g   Tetrahydrophthalic anhydride 0.19g   The counter ion of ethyl violet was 6-hydroxy-β-     Naphthalenesulfonic acid 0.05g   Fluorine-based surfactant (MegaFac F176PF,     Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) 0.035g   Fluorine-based surfactant (MegaFac MCF-312,     Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) 0.05g   Paratoluenesulfonic acid 0.008g   Bis-p-hydroxyphenyl sulfone 0.063 g   N-Dodecyl stearate 0.06g   γ-butyrolactone 13 g   Methyl ethyl ketone 24g   1-methoxy-2-propanol 11g

【0170】(実施例2)得られた基板に以下の感光液
2を塗布量が1.6g/m2になるよう塗布したのち、
実施例1と同様の条件で乾燥し、平版印刷版原版2を得
た。 〔感光液2〕 m,p−クレゾールノボラック 1.80g (m/p比=6/4、重量平均分子量8000、未反応クレゾール0.5重量% 含有) オクチルフェノールノボラック(重量平均分子量:2500) 0.015g 表面配向型赤外線吸収アルカリ可溶性樹脂(DB−1) 0.56g 2−メトキシ−4−(N−フェニルアミノ)ベンゼン ジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート 0.03g テトラヒドロ無水フタル酸 0.10g エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシ−β− ナフタレンスルホン酸にしたもの 0.063g フッ素系界面活性剤(メガファックF176PF、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.035g フッ素系界面活性剤(メガファックMCF−312、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.13g ビス−p−ヒドロキシフェニルスルホン 0.08g メチルエチルケトン 16g 1−メトキシ−2−プロパノール 10g
Example 2 The following photosensitive solution 2 was applied to the obtained substrate so that the coating amount was 1.6 g / m 2 , and
The planographic printing plate precursor 2 was obtained by drying under the same conditions as in Example 1. [Photosensitive solution 2] m, p-cresol novolak 1.80 g (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 8000, containing unreacted cresol 0.5% by weight) octylphenol novolac (weight average molecular weight: 2500) 015 g Surface-aligned infrared absorbing alkali-soluble resin (DB-1) 0.56 g 2-methoxy-4- (N-phenylamino) benzene diazonium hexafluorophosphate 0.03 g Tetrahydrophthalic anhydride 0.10 g Ethyl violet counterion 6-hydroxy-β-naphthalene sulfonic acid 0.063 g Fluorosurfactant (Megafuck F176PF, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.035 g Fluorosurfactant (Megafuck MCF-312) , Manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. 0.1 g bis -p- hydroxyphenyl sulfone 0.08g Methyl ethyl ketone 16g 1-methoxy-2-propanol 10g

【0171】(実施例3〜6)実施例1の感光液1にお
いて、m,p−クレゾールノボラックおよび合成例4の
フェノールオリゴマー(IR−10)の代わりに以下の
表1に記載のアルカリ可溶性樹脂を用いた以外は実施例
1と同様にして平版印刷版原版3〜6を得た。
Examples 3 to 6 In the photosensitive solution 1 of Example 1, instead of the m, p-cresol novolac and the phenol oligomer (IR-10) of Synthesis Example 4, an alkali-soluble resin shown in Table 1 below was used. Lithographic printing plate precursors 3 to 6 were obtained in the same manner as in Example 1 except that was used.

【0172】[0172]

【表1】 [Table 1]

【0173】(比較例1)実施例1の感光液1におい
て、m,p−クレゾールノボラックの量を0.474g
に変更し、フェノールオリゴマー(IR−10)の代わ
りに上記シアニン染料Aを0.155g用いた他は実施
例1と同様にして平版印刷版原版7を得た。
Comparative Example 1 In the photosensitive solution 1 of Example 1, the amount of m, p-cresol novolac was 0.474 g.
Except that 0.155 g of the above cyanine dye A was used instead of the phenol oligomer (IR-10), and a lithographic printing plate precursor 7 was obtained in the same manner as in Example 1.

【0174】(比較例2)実施例1の感光液1におい
て、表面配向型赤外線吸収アルカリ可溶性樹脂(DB−
1)の代わりに合成例1の赤外線吸収性基を有する高分
子化合物(DB−1A)0.58gおよび感光液4で用
いたm,p−クレゾールノボラック0.17gを用いた
他は実施例1と同様にして平版印刷版原版8を得た。
(Comparative Example 2) In the photosensitive solution 1 of Example 1, a surface alignment type infrared absorbing alkali-soluble resin (DB-
Example 1 except that 0.58 g of the polymer compound (DB-1A) having an infrared absorbing group of Synthesis Example 1 and 0.17 g of m, p-cresol novolac used in Photosensitive Solution 4 were used instead of 1). A lithographic printing plate precursor 8 was obtained in the same manner as.

【0175】(比較例3)実施例2の感光液2におい
て、表面配向型赤外線吸収アルカリ可溶性樹脂(DB−
1)の代わりにシアニン染料A0.105gおよび感光
液2で用いたm,p−クレゾールノボラック0.45g
を用いた他は実施例2と同様にして平版印刷版原版9を
得た。
(Comparative Example 3) In the photosensitive solution 2 of Example 2, a surface alignment type infrared absorbing alkali-soluble resin (DB-
0.105 g of cyanine dye A instead of 1) and 0.45 g of m, p-cresol novolak used in Photosensitive Solution 2
A lithographic printing plate precursor 9 was obtained in the same manner as in Example 2 except that was used.

【0176】(実施例7、比較例4) 〔基板の作製〕実施例1で用いた基板に以下の感光液A
を塗布し、100℃で2分間乾燥して、(A)層を形成
した。乾燥後の塗布量は0.8g/m2であった。その
後、以下の感光液B−1,2を塗布し、100℃で2分
間乾燥して、(B)層(上層)を形成し、平版印刷版原
版10、11を得た。乾燥後の感光液の合計塗布量は
1.2g/m2であった。
(Example 7, Comparative Example 4) [Production of Substrate] The following photosensitive solution A was applied to the substrate used in Example 1.
Was applied and dried at 100 ° C. for 2 minutes to form a layer (A). The coating amount after drying was 0.8 g / m 2 . Then, the following photosensitive solutions B-1 and B-2 were applied and dried at 100 ° C. for 2 minutes to form a layer (B) (upper layer) to obtain lithographic printing plate precursors 10 and 11. The total coating amount of the photosensitive liquid after drying was 1.2 g / m 2 .

【0177】 〔感光液A〕 ・共重合体1 0.75g ・フタロシアニン染料B 0.04g ・p−トルエンスルホン酸 0.002g ・テトラヒドロ無水フタル酸 0.05g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを1−ナフタレン スルホン酸アニオンにした染料 0.015g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.02g ・γ―ブチロラクトン 8g ・メチルエチルケトン 7g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7g[0177] [Photosensitive solution A]   ・ Copolymer 1 0.75 g   ・ Phthalocyanine dye B 0.04 g   -P-toluenesulfonic acid 0.002 g   ・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.05g   ・ The counter anion of Victoria Pure Blue BOH is 1-naphthalene     Dye 0.015g made into sulfonate anion   -Fluorine-based surfactant (MegaFac F-177,     Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) 0.02g   ・ Γ-Butyrolactone 8g   ・ Methyl ethyl ketone 7g   ・ 1-Methoxy-2-propanol 7 g

【0178】[0178]

【化44】 [Chemical 44]

【0179】 〔感光液B−1,2〕 ・ノボラック樹脂 (表2に記載の化合物、表2に記載の量) ・表面配向型赤外線吸収アルカリ可溶性樹脂(DB−9) またはシアニン染料A (表2に記載の化合物、表2に記載の量) ・ステアリン酸n−ドデシル 0.01g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.05g ・メチルエチルケトン 7g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7g[0179] [Photosensitive liquid B-1, 2]   Novolak resin (compounds listed in Table 2, amount listed in Table 2)   ・ Surface alignment type infrared absorbing alkali-soluble resin (DB-9)       Or cyanine dye A (compounds listed in Table 2, amount listed in Table 2)   -Stearate n-dodecyl 0.01 g   -Fluorine-based surfactant (MegaFac F-177,     Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) 0.05g   ・ Methyl ethyl ketone 7g   ・ 1-Methoxy-2-propanol 7 g

【0180】[0180]

【表2】 [Table 2]

【0181】[平版印刷版原版の評価] 〔耐キズ性テスト〕得られた本発明の平版印刷版原版1
〜6、10及び比較例の平版印刷版原版7、8、9、1
1をロータリー・アブレーション・テスター(TOYO
SEIKI社製)を用い、250gの加重下、アブレー
ザーフェルトCS5で40回摩擦した。その後、富士写
真フイルム(株)製現像液DT−1(1:8で希釈した
もの)及び富士写真フイルム(株)製フィニッシャーF
P2W(1:1で希釈したもの)を仕込んだ富士写真フ
イルム(株)製PSプロセッサー900Hを用い、液温
30度、現像時間12秒にて現像した。このときの現像
液の電導度は45mS/cmであった。
[Evaluation of lithographic printing plate precursor] [Scratch resistance test] Obtained lithographic printing plate precursor 1 of the invention
To 6, 10 and lithographic printing plate precursors 7, 8, 9, 1 of Comparative Examples
1 is a rotary ablation tester (TOYO
SEIKI) was used and rubbed 40 times with Abraser Felt CS5 under a load of 250 g. Then, Fuji Photo Film Co., Ltd. developer DT-1 (diluted 1: 8) and Fuji Photo Film Co., Ltd. Finisher F
Using a PS processor 900H manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. charged with P2W (diluted at 1: 1), development was carried out at a liquid temperature of 30 degrees and a development time of 12 seconds. The electric conductivity of the developing solution at this time was 45 mS / cm.

【0182】耐キズ性の評価は以下の基準により行っ
た。 甲:摩擦した部分の感光膜の光学濃度が全く変化しなか
ったもの 乙:摩擦した部分の感光膜の光学濃度が目視で僅かに観
測されたもの 丙:摩擦した部分の感光膜の光学濃度が非摩擦部の2/
3以下になったもの耐キズ性評価の結果を表3に示し
た。
The scratch resistance was evaluated according to the following criteria. Party A: The optical density of the photosensitive film in the rubbed part did not change at all. B: The optical density of the photosensitive film in the rubbed part was slightly observed visually. 丙: The optical density of the photosensitive film in the rubbed part was 2 / of non-rubbing part
Table 3 shows the results of the scratch resistance evaluation for those with a score of 3 or less.

【0183】[0183]

【表3】 [Table 3]

【0184】表3に明らかなように、本発明の画像記録
材料を記録層として用いた平版印刷版原版は、耐傷性に
優れていることがわかった。
As is clear from Table 3, the lithographic printing plate precursor using the image recording material of the present invention as the recording layer was found to have excellent scratch resistance.

【0185】〔画像形成性の評価〕得られた本発明の平
版印刷版原版1〜7及び比較例の平版印刷版原版7、
8、10をCreo社製Trendsetterにてビ
ーム強度9w、ドラム回転速度150rpmでテストパ
ターンを画像状に描き込みを行った。まず、上記の条件
で露光した平版印刷版原版1〜10を、富士写真フイル
ム(株)製現像液DT−1(1:9.5で希釈したも
の)及び富士写真フイルム(株)製フィニッシャーFP
2W(1:1で希釈したもの)を仕込んだ富士写真フイ
ルム(株)製PSプロセッサー900Hを用い、液温を
30℃に保ち、現像時間12秒で現像した。この時の現
像液の電導度はそれぞれ40mS/cmであった。
[Evaluation of Image Formability] The lithographic printing plate precursors 1 to 7 of the invention and the lithographic printing plate precursor 7 of Comparative Examples thus obtained,
Test patterns 8 and 10 were drawn in an image form with a Trendsetter manufactured by Creo at a beam intensity of 9 w and a drum rotation speed of 150 rpm. First, the lithographic printing plate precursors 1 to 10 exposed under the above-mentioned conditions were developed by Fuji Photo Film Co., Ltd. developer DT-1 (diluted by 1: 9.5) and Fuji Photo Film Co., Ltd. finisher FP.
Using a PS processor 900H manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. charged with 2 W (diluted 1: 1), the liquid temperature was kept at 30 ° C. and the development time was 12 seconds. The electric conductivity of the developer at this time was 40 mS / cm.

【0186】露光時のアブレーションの有無を目視で確
認した。また、現像後の露光部(非画像部)に現像不良
の記録層残膜に起因する汚れや着色がないかを目視で観
察した。結果を表4に示す。
The presence or absence of ablation during exposure was visually confirmed. In addition, the exposed area (non-image area) after development was visually observed for stains or coloration due to the residual film of the recording layer that had poor development. The results are shown in Table 4.

【0187】[0187]

【表4】 [Table 4]

【0188】表4に明らかなように、本発明の画像記録
材料を記録層に用いた平版印刷版原版は、現像後の非画
像部に汚れのない高画質の画像が形成され、アブレーシ
ョンの発生も認められず画像形成性に優れていることが
わかった。上記各実施例より、本発明の表面配向型赤外
線吸収アルカリ可溶性樹脂を含有するが記録材料は、赤
外線レーザにより高感度で記録可能であり、耐傷性に優
れ、非画像部に汚れのない高画質の画像が形成され、か
つアブレーションの発生も抑制することができることが
わかった。即ち、本発明の表面配向型赤外線吸収アルカ
リ可溶性樹脂は画像記録材料として有用であった。
As is clear from Table 4, in the lithographic printing plate precursor using the image recording material of the present invention in the recording layer, a high quality image without stain is formed on the non-image area after development, and ablation occurs. It was found that the image forming property was excellent. From each of the above examples, the recording material containing the surface-aligned infrared-absorbing alkali-soluble resin of the present invention can be recorded with high sensitivity by an infrared laser, is excellent in scratch resistance, and has a high image quality without stains in the non-image area. It was found that the image was formed and the occurrence of ablation was suppressed. That is, the surface alignment type infrared absorbing alkali-soluble resin of the present invention was useful as an image recording material.

【0189】[0189]

【発明の効果】本発明の画像記録材料は、赤外線レーザ
に対して高感度で記録可能であり、非画像部の汚れ防止
性、画像部の耐傷性に優れ、高画質の画像を形成しうる
という効果を奏する。また、この画像記録材料に好適に
用い得る本発明の赤外線吸収能を有する新規な高分子化
合物は、画像記録材料として有用である。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The image recording material of the present invention is capable of recording with high sensitivity to an infrared laser, is excellent in stain resistance of the non-image area and is excellent in scratch resistance of the image area, and can form a high quality image. Has the effect. Further, the novel polymer compound having an infrared absorbing ability of the present invention, which can be suitably used for this image recording material, is useful as an image recording material.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)アルカリ可溶性の官能基を有する
構造単位、(B)表面配向性の官能基を有する構造単
位、及び、(C)赤外線吸収能を有する構造単位を備え
る高分子化合物を含有し、赤外線照射によりアルカリ現
像液に対する溶解性が変化する画像記録材料。
1. A polymer compound comprising (A) a structural unit having an alkali-soluble functional group, (B) a structural unit having a surface-orienting functional group, and (C) a structural unit having an infrared absorbing ability. An image recording material which contains and whose solubility in an alkali developing solution changes upon irradiation with infrared rays.
【請求項2】 (A)アルカリ可溶性の官能基を有する
構造単位、(B)表面配向性の官能基を有する構造単
位、及び、(C)赤外線吸収能を有する構造単位を備え
る高分子化合物。
2. A polymer compound comprising (A) a structural unit having an alkali-soluble functional group, (B) a structural unit having a surface-orienting functional group, and (C) a structural unit having an infrared absorbing ability.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2020080371A1 (en) * 2018-10-17 2020-04-23 富士フイルム株式会社 Lithographic printing original plate and lithographic printing plate production method

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