JP2003008157A - Wiring circuit board and base therefor - Google Patents

Wiring circuit board and base therefor

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JP2003008157A
JP2003008157A JP2001192101A JP2001192101A JP2003008157A JP 2003008157 A JP2003008157 A JP 2003008157A JP 2001192101 A JP2001192101 A JP 2001192101A JP 2001192101 A JP2001192101 A JP 2001192101A JP 2003008157 A JP2003008157 A JP 2003008157A
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JP
Japan
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circuit board
wiring circuit
metal foil
base material
resin composition
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JP2001192101A
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Japanese (ja)
Inventor
Hirofumi Fujii
弘文 藤井
Shunichi Hayashi
林  俊一
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Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a base of a wiring circuit board, which makes it possible to effectively prevent warpage and variation in dimensions and is efficiently manufactured without increase in man-hours, and to provide a wiring circuit board using the base for wiring circuit board. SOLUTION: A resin composition of a base containing a polyimide resin precursor and a tertiary amine compound is prepared and applied to metal foil 1. The resin composition is then dried and cured to form a base insulating film 3, thereby obtaining a two-layered base 4. The metal foil 1 of the two- layered base 4 is patterned into a desired wiring circuit pattern to obtain a wiring circuit board 6.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、配線回路基板用基
材および配線回路基板、詳しくは、電子部品や電子機器
などに用いられるフレキシブル配線回路基板として好適
に用いられる配線回路基板、および、その配線回路基板
を製造するために用いられる配線回路基板用基材に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring circuit board base material and a wiring circuit board, and more specifically, a wiring circuit board suitably used as a flexible wiring circuit board used in electronic parts and electronic equipment, and the like. The present invention relates to a printed circuit board base material used for manufacturing a printed circuit board.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、フレキシブル配線回路基板な
どの配線回路基板は、例えば、まず、銅箔上にポリアミ
ック酸樹脂などのポリイミド樹脂前駆体の溶液を塗布
し、その後、乾燥後に硬化(イミド化)させることによ
って2層基材を作製し、次いで、この2層基材の銅箔
を、サブトラクティブ法などの公知のパターンニング法
によってエッチングして、所定の配線回路パターンに形
成することにより製造されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a wiring circuit board such as a flexible wiring circuit board is prepared by, for example, first applying a solution of a polyimide resin precursor such as polyamic acid resin on a copper foil and then curing it after curing (imidization). ) To produce a two-layer base material, and then etching the copper foil of the two-layer base material by a known patterning method such as a subtractive method to form a predetermined wiring circuit pattern. Has been done.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかるに、このように
して製造される配線回路基板では、2層基材の銅箔を、
所定の配線回路パターンにパターンニングした後に、反
りや寸法変化が生じやすいという不具合がある。
However, in the printed circuit board thus manufactured, the copper foil of the two-layer base material is
After patterning into a predetermined wiring circuit pattern, there is a problem that warpage or dimensional change easily occurs.

【0004】そのため、例えば、特開平8−25086
0号公報では、銅箔上に、互いに線膨張係数が異なる複
数のポリイミド樹脂前駆体層を多層として形成すること
により、反りがなく、寸法安定性の良い配線回路基板を
製造することが提案されている。
Therefore, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-25086
No. 0 publication proposes manufacturing a printed circuit board having no warp and good dimensional stability by forming a plurality of polyimide resin precursor layers having different linear expansion coefficients as multilayers on a copper foil. ing.

【0005】しかし、特開平8−250860号公報に
記載の方法では、線膨張係数がそれぞれ異なるポリイミ
ド樹脂前駆体を複数回にわたって積層形成する必要があ
るため、工数が多くなり、非常に手間がかかって効率の
良い生産を実現することができないという不具合を生じ
る。
However, in the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-250860, since it is necessary to laminate the polyimide resin precursors having different linear expansion coefficients a plurality of times, the number of steps is increased and it takes a lot of labor. Therefore, a problem occurs that efficient production cannot be realized.

【0006】本発明は、このような不具合に鑑みなされ
たもので、その目的とするところは、反りや寸法変化が
生じることを有効に防止することができ、しかも、不要
な工数がかからずに効率の良い生産を実現することので
きる、配線回路基板用基材、および、その配線回路基板
用基材が用いられている配線回路基板を提供することに
ある。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to effectively prevent the occurrence of warpage and dimensional change, and to avoid unnecessary man-hours. Another object of the present invention is to provide a wiring circuit board base material and a wiring circuit board using the wiring circuit board base material, which can realize efficient production.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の配線回路基板用基材は、ポリイミド樹脂前
駆体および三級アミン化合物を含有する基材用樹脂組成
物が、金属箔上に塗布されてなることを特徴としてい
る。
In order to achieve the above object, a substrate for a printed circuit board of the present invention is a resin composition for a substrate containing a polyimide resin precursor and a tertiary amine compound, which is a metal foil. It is characterized by being applied on top.

【0008】また、このような本発明の配線回路基板用
基材では、三級アミン化合物が、含窒素複素環化合物で
あることが好ましい。
In such a substrate for a printed circuit board according to the present invention, the tertiary amine compound is preferably a nitrogen-containing heterocyclic compound.

【0009】また、本発明は、このような本発明の配線
回路基板用基材が用いられている配線回路基板をも含ん
でいる。
The present invention also includes a printed circuit board in which such a printed circuit board base material of the present invention is used.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明の配線回路基板用基材は、
ポリイミド樹脂前駆体および三級アミン化合物を含有す
る基材用樹脂組成物が、金属箔上に塗布されることによ
って、形成されている。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The printed circuit board substrate of the present invention comprises:
The base resin composition containing a polyimide resin precursor and a tertiary amine compound is formed on a metal foil by coating.

【0011】本発明に用いられるポリイミド樹脂前駆体
は、硬化することによりポリイミド樹脂となり得る前駆
体樹脂組成物であって、例えば、ポリアミック酸樹脂が
挙げられる。ポリアミック酸樹脂としては、特に限定さ
れないが、通常、下記一般式(1)で示される繰り返し
単位構造を有し、例えば、その重量平均分子量が、50
00〜200000程度、好ましくは、10000〜1
00000程度のものが挙げられる。
The polyimide resin precursor used in the present invention is a precursor resin composition which can be converted into a polyimide resin by curing, and examples thereof include polyamic acid resin. The polyamic acid resin is not particularly limited, but usually has a repeating unit structure represented by the following general formula (1), and for example, its weight average molecular weight is 50
About 00 to 200,000, preferably 10,000 to 1
Approximately 00000 is included.

【0012】[0012]

【化1】 (式中、R1は4価の有機基を示し、R2は2価の有機
基を示す。) 上記式(1)中、R1で示される4価の有機基として
は、例えば、ベンゼン、ナフタレン、ペリレン、ジフェ
ニル、ジフェニルエーテル、ジフェニルスルホン、ジフ
ェニルプロパン、ジフェニルヘキサフルオロプロパン、
ベンゾフェノン、ブタン、シクロブタンなどの骨格を有
する、芳香族、芳香脂肪族、脂肪族、脂環族の4価の有
機基が挙げられる。好ましくは、ベンゼン、ジフェニ
ル、ジフェニルヘキサフルオロプロパン、ベンゾフェノ
ンの骨格を有する4価の有機基が挙げられる。なお、こ
れら4価の有機基は、1種類のみであってもよく、ま
た、2種類以上であってもよい。
[Chemical 1] (In the formula, R1 represents a tetravalent organic group and R2 represents a divalent organic group.) In the above formula (1), examples of the tetravalent organic group represented by R1 include benzene, naphthalene, and Perylene, diphenyl, diphenyl ether, diphenyl sulfone, diphenylpropane, diphenylhexafluoropropane,
Examples thereof include aromatic, araliphatic, aliphatic, and alicyclic tetravalent organic groups having a skeleton such as benzophenone, butane, and cyclobutane. Preferred are tetravalent organic groups having a skeleton of benzene, diphenyl, diphenylhexafluoropropane and benzophenone. In addition, these tetravalent organic groups may be only one kind, or may be two or more kinds.

【0013】また、上記式(1)中、R2で示される2
価の有機基としては、例えば、ジフェニルエーテル、ベ
ンゾフェノン、ジフェニルメタン、ジフェニルプロパ
ン、ジフェニルヘキサフルオロプロパン、ジフェニルス
ルホキシド、ジフェニルスルホン、ジフェニル、ベンゼ
ン、ジフェノキシベンゼンなどの骨格を有する、芳香
族、芳香脂肪族、脂肪族、脂環族の2価の有機基が挙げ
られる。好ましくは、ジフェニルエーテル、ベンゼン、
ジフェノキシベンゼンの骨格を有する2価の有機基が挙
げられる。なお、これら2価の有機基は、1種類のみで
あってもよく、また、2種類以上であってもよい。
Further, in the above formula (1), 2 represented by R2
Examples of the valent organic group include a skeleton such as diphenyl ether, benzophenone, diphenylmethane, diphenylpropane, diphenylhexafluoropropane, diphenyl sulfoxide, diphenyl sulfone, diphenyl, benzene, and diphenoxybenzene, aromatic, araliphatic, and aliphatic. And divalent organic groups of group and alicyclic. Preferably, diphenyl ether, benzene,
A divalent organic group having a skeleton of diphenoxybenzene can be mentioned. Note that these divalent organic groups may be only one type, or may be two or more types.

【0014】このようなポリアミック酸樹脂は、より具
体的には、有機テトラカルボン酸二無水物とジアミンと
を反応させることによって得ることができる。有機テト
ラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット
酸二無水物、3,3',4,4'−ビフェニルテトラカル
ボン酸二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシ
フェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ
プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキ
シフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオ
ロプロパン二無水物、3,3',4,4'−ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボ
キシフェニル)エーテル二無水物、ビス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)スルホン酸二無水物などが挙げられ
る。また、それらは、単独で使用してもよいし、2種以
上を併用してもよい。
More specifically, such a polyamic acid resin can be obtained by reacting an organic tetracarboxylic dianhydride with a diamine. Examples of the organic tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, and 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl). ) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoro Propane dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfonic acid Examples thereof include dianhydride. Further, they may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0015】また、ジアミンとしては、例えば、m−フ
ェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、3,4'
−ジアミノジフェニルエーテル、4,4'−ジアミノジ
フェニルエーテル、4,4'−ジアミノジフェニルスル
ホン、3,3'−ジアミノジフェニルスルホン、2,2
−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)ヘキサ
フルオロプロパン、1,3−ビス(4−アミノフェノキ
シ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)
ベンゼン、2,4−ジアミノトルエン、2,6−ジアミ
ノトルエン、ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジ
アミノ−2,2−ジメチルビフェニル、2,2−ビス
(トリフルオロメチル)−4,4'−ジアミノビフェニ
ルなどが挙げられる。また、それらは、単独で使用して
もよいし、2種以上を併用してもよい。
As the diamine, for example, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 3,4 '
-Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 2,2
-Bis (4-aminophenoxyphenyl) propane,
2,2-bis (4-aminophenoxyphenyl) hexafluoropropane, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy)
Benzene, 2,4-diaminotoluene, 2,6-diaminotoluene, diaminodiphenylmethane, 4,4'-diamino-2,2-dimethylbiphenyl, 2,2-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diamino Biphenyl etc. are mentioned. Further, they may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0016】また、これら有機テトラカルボン酸二無水
物のうち、好ましくは、ピロメリット酸二無水物、3,
3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、
2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,
1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物
が挙げられる。また、これらジアミンのうち、好ましく
は、p−フェニレンジアミン、4,4'−ジアミノジフ
ェニルエーテルが挙げられる。
Of these organic tetracarboxylic dianhydrides, pyromellitic dianhydride, 3,
3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride,
2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,
1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride can be mentioned. Among these diamines, p-phenylenediamine and 4,4′-diaminodiphenyl ether are preferable.

【0017】そして、ポリアミック酸樹脂は、これら有
機テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを、実質的に
等モル比となるような割合で、適宜の有機溶媒、例え
ば、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルア
セトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルホスホルアミドなどの極性
溶媒中で、通常、0〜90℃で1〜48時間反応させる
ことよって、ポリアミック酸の樹脂の溶液として得るよ
うにすればよい。
In the polyamic acid resin, the organic tetracarboxylic dianhydride and the diamine are mixed in a suitable organic solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone at a ratio such that they are substantially equimolar. , N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphoramide, etc. are usually reacted at 0 to 90 ° C. for 1 to 48 hours to obtain a polyamic acid resin. It may be obtained as a solution of.

【0018】また、本発明に用いられる三級アミン化合
物としては、特に制限はないが、例えば、脂肪族三級ア
ミン化合物や、含窒素複素環化合物が挙げられる。脂肪
族三級アミン化合物としては、例えば、トリベンジルア
ミンなどの高沸点三級アミンなどが挙げられる。また、
含窒素複素環化合物としては、例えば、イミダゾール
類、ベンゾイミダゾール類、プリン類、ピリジン類、ピ
リダジン類、ピリミジン類、ピラジン類、トリアジン
類、キノリン類、イソキノリン類、アクリジン類などの
窒素に基づく非共有電子対を有するものが挙げられる。
また、これら三級アミン化合物は、単独で使用してもよ
いし、2種以上を併用してもよい。
The tertiary amine compound used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include an aliphatic tertiary amine compound and a nitrogen-containing heterocyclic compound. Examples of the aliphatic tertiary amine compound include high-boiling tertiary amines such as tribenzylamine. Also,
Examples of the nitrogen-containing heterocyclic compound include non-covalent nitrogen-based compounds such as imidazoles, benzimidazoles, purines, pyridines, pyridazines, pyrimidines, pyrazines, triazines, quinolines, isoquinolines, and acridines. Those having an electron pair are mentioned.
These tertiary amine compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0019】より具体的には、例えば、イミダゾール類
としては、例えば、イミダゾール、N−メチルイミダゾ
ール、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチ
ルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−ベン
ジル−2−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メ
チルイミダゾール、1−アミノエチル−2−メチルイミ
ダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシ
メチルイミダゾールなどが挙げられる。
More specifically, for example, as imidazoles, for example, imidazole, N-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-benzyl-2- Methyl imidazole, 2-phenyl-4-methyl imidazole, 1-aminoethyl-2-methyl imidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethyl imidazole and the like can be mentioned.

【0020】また、例えば、ピリジン類としては、例え
ば、ピリジン、メチルピリジン、ジメチルピリジン、プ
ロピルピリジン、アミノピリジン、p−ジメチルアミノ
ピリジン、N,N−ジメチルアミノピリジンなどが挙げ
られる。
Examples of pyridines include pyridine, methylpyridine, dimethylpyridine, propylpyridine, aminopyridine, p-dimethylaminopyridine, N, N-dimethylaminopyridine and the like.

【0021】これら三級アミン化合物のうち、好ましく
は、含窒素複素環化合物、より好ましくは、イミダゾー
ル類が挙げられる。
Of these tertiary amine compounds, nitrogen-containing heterocyclic compounds are preferable, and imidazoles are more preferable.

【0022】また、三級アミン化合物は、ポリイミド樹
脂前駆体100重量部に対して、通常、0.5〜15重
量部、さらには、1〜10重量部の範囲で配合すること
が好ましい。配合量がこれより少ないと、反りや寸法変
化を有効に防止し得ない場合があり、一方、配合量がこ
れより多いと、ポリイミド樹脂の耐熱性などが低下する
場合がある。
The tertiary amine compound is usually added in an amount of 0.5 to 15 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polyimide resin precursor. If the blending amount is less than this, warping or dimensional change may not be effectively prevented, while if the blending amount is more than this, the heat resistance and the like of the polyimide resin may decrease.

【0023】そして、本発明の基材用樹脂組成物は、ポ
リイミド樹脂前駆体を、例えば、上記したように、ポリ
アミック酸樹脂の溶液として調製した後、三級アミン化
合物を、上記した割合で配合し混合することによって、
調製することができる。
Then, the resin composition for a base material of the present invention is prepared by preparing the polyimide resin precursor as a solution of the polyamic acid resin, for example, as described above, and then blending the tertiary amine compound in the above ratio. Then by mixing,
It can be prepared.

【0024】また、このような本発明の基材用樹脂組成
物には、例えば、1,4−ジヒドロピロジン誘導体など
の感光剤を配合して、感光性の基材用樹脂組成物として
調製してもよい。感光性の基材用樹脂組成物として調製
すれば、露光および現像することによって、所定のパタ
ーンとして形成することができる。なお、感光剤は、ポ
リイミド樹脂前駆体1モルに対して、通常、0.1〜
1.0モルの範囲で配合することが好ましい。また、例
えば、ポリアミック酸樹脂の骨格に、感光性を有する官
能基を導入することによって、感光性の基材用樹脂組成
物を調製することもできる。
Further, such a resin composition for a base material of the present invention is blended with a photosensitizer such as a 1,4-dihydropyrazine derivative to prepare a photosensitive resin composition for a base material. You may. If prepared as a photosensitive resin composition for a substrate, it can be formed into a predetermined pattern by exposure and development. The photosensitizer is usually 0.1 to 0.1 mol per 1 mol of the polyimide resin precursor.
It is preferable to mix it in the range of 1.0 mol. Further, for example, a photosensitive resin composition for a base material can be prepared by introducing a functional group having photosensitivity into the skeleton of the polyamic acid resin.

【0025】さらに、このような本発明の基材用樹脂組
成物には、必要により、エポキシ樹脂、ビスアリルナジ
ックイミド、マレイミドなどを配合してもよい。
Further, such a resin composition for a base material of the present invention may be blended with an epoxy resin, bisallyl nadimide, maleimide or the like, if necessary.

【0026】そして、本発明の配線回路基板用基材は、
このようにして調製された基材用樹脂組成物を、公知の
方法によって、金属箔上に塗布することによって形成す
ることができる。
The printed circuit board base material of the present invention is
The resin composition for a base material thus prepared can be formed by applying it on a metal foil by a known method.

【0027】金属箔としては、配線回路基板の配線材料
となるものであり、例えば、銅、ニッケル、アルミニウ
ム、銅−ベリリウム、リン青銅などの金属またはそれら
の合金の箔などが挙げられる。また、金属箔の表面に
は、無電解ニッケルめっき、有機防錆皮膜、無機防錆皮
膜などが被覆形成されていてもよい。
The metal foil is a wiring material for a wiring circuit board, and examples thereof include a foil of a metal such as copper, nickel, aluminum, copper-beryllium, phosphor bronze, or an alloy thereof. Further, the surface of the metal foil may be coated with electroless nickel plating, an organic anticorrosion film, an inorganic anticorrosion film, or the like.

【0028】次に、図1を参照して、本発明の配線回路
基板用基材の一実施形態である2層基材の作製方法を、
より具体的に説明する。
Next, referring to FIG. 1, a method for producing a two-layer base material, which is one embodiment of the base material for a printed circuit board of the present invention, will be described.
This will be described more specifically.

【0029】2層基材を作製するには、まず、図1
(a)に示すように、金属箔1を用意する。金属箔1と
しては、上記した金属箔が用いられる。また、金属箔1
の厚みは、通常、5〜100μm、さらには、10〜5
0μmであることが好ましい。
To prepare the two-layer substrate, first, referring to FIG.
As shown in (a), a metal foil 1 is prepared. The metal foil described above is used as the metal foil 1. Also, metal foil 1
Has a thickness of usually 5 to 100 μm, further 10 to 5 μm.
It is preferably 0 μm.

【0030】次いで、図1(b)に示すように、この金
属箔1上に、本発明の基材用樹脂組成物を塗布した後、
乾燥させることにより、皮膜2を形成する。皮膜2の形
成は、例えば、上記したように、三級アミン化合物が配
合されるポリアミック酸樹脂の溶液などの基材用樹脂組
成物の溶液を調製し、その溶液を、スピンコータ、バー
コータなどの公知の方法によって塗布し、その後、50
〜120℃で、熱風乾燥などにより加熱乾燥すればよ
い。なお、乾燥後における皮膜2の厚みは、3〜100
μm、さらには、5〜50μmであることが好ましい。
Then, as shown in FIG. 1 (b), after applying the resin composition for a base material of the present invention onto the metal foil 1,
The film 2 is formed by drying. The formation of the coating film 2 is carried out, for example, by preparing a solution of a resin composition for a base material such as a solution of a polyamic acid resin containing a tertiary amine compound, as described above, and using the solution with a known spin coater, bar coater or the like. Method and then 50
It may be dried by heating at ~ 120 ° C by hot air drying or the like. The thickness of the film 2 after drying is 3 to 100.
μm, and more preferably 5 to 50 μm.

【0031】次いで、図1(c)に示すように、加熱乾
燥された皮膜2を硬化(イミド化)させることにより、
基材用樹脂組成物の硬化物からなるベース絶縁皮膜3が
金属箔1上に直接形成される2層基材4を得る。皮膜2
の硬化は、公知の方法でよく、例えば、300℃〜50
0℃で加熱すればよい。これによって、ポリイミド樹脂
前駆体がイミド化されて、主としてポリイミド樹脂から
なるベース絶縁皮膜3が形成され、これによって、2層
基材4を得ることができる。
Then, as shown in FIG. 1 (c), the film 2 that has been heated and dried is cured (imidized),
A two-layer substrate 4 is obtained in which a base insulating film 3 made of a cured product of a resin composition for a substrate is directly formed on the metal foil 1. Film 2
The curing may be performed by a known method, for example, 300 ° C to 50 ° C.
It may be heated at 0 ° C. As a result, the polyimide resin precursor is imidized to form the base insulating film 3 mainly made of polyimide resin, whereby the two-layer base material 4 can be obtained.

【0032】なお、本発明の基材用樹脂組成物を、上記
したように、感光性の基材用樹脂組成物として調製すれ
ば、図1(b)に示す皮膜2を形成した後に、フォトマ
スクを介して活性光線を照射した後、必要により加熱す
ることによって潜像を形成し、これを現像することによ
って、皮膜2を所定のパターンとして形成することがで
き、これを硬化すれば、所定のパターンで形成されるベ
ース絶縁皮膜3が金属箔1上に直接形成される2層基材
4を得ることができる。
When the resin composition for a base material of the present invention is prepared as a photosensitive resin composition for a base material as described above, after the film 2 shown in FIG. After irradiating with actinic rays through a mask, a latent image is formed by heating if necessary, and by developing this, the film 2 can be formed into a predetermined pattern. It is possible to obtain the two-layer base material 4 in which the insulating base film 3 formed in the above pattern is directly formed on the metal foil 1.

【0033】そして、本発明の配線回路基板は、このよ
うにして形成される配線回路基板用基材が用いられてい
る。
The wiring circuit board of the present invention uses the wiring circuit board substrate thus formed.

【0034】すなわち、本発明の配線回路基板用基材を
用いて、配線回路基板を製造するには、例えば、金属箔
を、公知のパターンニング法により、所定の配線回路パ
ターンとして形成すればよい。
That is, in order to manufacture a printed circuit board using the printed circuit board base material of the present invention, for example, a metal foil may be formed into a predetermined printed circuit pattern by a known patterning method. .

【0035】図1には、上記した2層基材の作製に続い
て、その2層基材を用いて、配線回路基板の一実施形態
を製造する方法が示されている。
FIG. 1 shows a method for manufacturing an embodiment of a printed circuit board using the two-layer base material, following the production of the above-mentioned two-layer base material.

【0036】すなわち、配線回路基板6を製造するに
は、まず、図1(d)に示すように、上記のようにして
得られた2層基材4の金属箔1を、所定の配線回路パタ
ーンに形成した後、次いで、図1(e)に示すように、
その所定の配線回路パターンに形成された金属箔1上
に、カバー絶縁皮膜5を被覆すればよい。なお、図1
(d)および(e)は、図1(a)ないし(c)と、上
下方向が逆転して示されている。
That is, in order to manufacture the printed circuit board 6, first, as shown in FIG. 1D, the metal foil 1 of the two-layer base material 4 obtained as described above is put into a predetermined wired circuit. After forming into a pattern, then, as shown in FIG.
The cover insulating film 5 may be coated on the metal foil 1 formed in the predetermined wiring circuit pattern. Note that FIG.
(D) and (e) are shown with the vertical direction reversed from that of FIGS. 1 (a) to 1 (c).

【0037】金属箔1を、所定の配線回路パターンに形
成するには、例えば、サブトラクティブ法などの公知の
パターンニング法を用いればよい。例えば、サブトラク
ティブ法によって所定の配線回路パターンを形成するに
は、まず、図2(a)に示すように、金属箔1上に、フ
ォトレジスト7を積層する。フォトレジスト7の積層
は、例えば、ドライフィルムレジストを公知の方法によ
って積層すればよい。次いで、図2(b)に示すよう
に、フォトレジスト7を、所定のパターンに対応するフ
ォトマスク8を介して露光させ、その後、図2(c)に
示すように、フォトレジスト7を現像する。フォトレジ
スト7の露光および現像は、公知の方法でよく、フォト
レジスト7は、その露光部と未露光部との現像液の溶解
度の差によって、所定のレジストパターンに現像され
る。
To form the metal foil 1 into a predetermined wiring circuit pattern, a known patterning method such as a subtractive method may be used. For example, in order to form a predetermined wiring circuit pattern by the subtractive method, first, as shown in FIG. 2A, a photoresist 7 is laminated on the metal foil 1. The photoresist 7 may be laminated by, for example, laminating a dry film resist by a known method. Next, as shown in FIG. 2B, the photoresist 7 is exposed through a photomask 8 corresponding to a predetermined pattern, and then the photoresist 7 is developed as shown in FIG. 2C. . Exposure and development of the photoresist 7 may be performed by a known method, and the photoresist 7 is developed into a predetermined resist pattern due to the difference in solubility of the developing solution between the exposed portion and the unexposed portion.

【0038】そして、図2(d)に示すように、金属箔
1をエッチングする。金属箔1のエッチングは、エッチ
ング液を用いてウエットエッチングすればよく、エッチ
ング液としては、例えば、塩化第二銅溶液、塩化第二鉄
溶液、過硫酸アンモニウム溶液、アンモニア系アルカリ
溶液などが用いられる。その後、図2(e)に示すよう
に、フォトレジスト7を公知の方法により除去すること
によって、金属箔1を、所定の配線回路パターンとして
形成することができる。
Then, as shown in FIG. 2D, the metal foil 1 is etched. The metal foil 1 may be etched by wet etching using an etching solution, and examples of the etching solution include cupric chloride solution, ferric chloride solution, ammonium persulfate solution, and ammonia-based alkaline solution. After that, as shown in FIG. 2E, the metal foil 1 can be formed as a predetermined wiring circuit pattern by removing the photoresist 7 by a known method.

【0039】このように金属箔1をエッチングして、所
定の回路配線パターンに形成しても、この2層基材4で
は、ベース絶縁皮膜3を形成する基材用樹脂組成物に三
級アミン化合物が配合されているので、その配線回路パ
ターンの形成後において、反りや寸法変化が生じること
が有効に防止される。
Even when the metal foil 1 is thus etched to form a predetermined circuit wiring pattern, in the two-layer base material 4, the base resin composition for forming the base insulating film 3 is added to the tertiary amine. Since the compound is blended, it is possible to effectively prevent warpage and dimensional change after the formation of the wiring circuit pattern.

【0040】なお、このような配線回路パターンの形成
において、所定の配線回路パターンとして形成される金
属箔1上に、電解めっき、無電解めっきなどによって、
例えば、銅、クロム、ニッケル、金、はんだなどの金属
薄膜を形成してもよい。
In forming such a wiring circuit pattern, electrolytic plating, electroless plating or the like is performed on the metal foil 1 formed as a predetermined wiring circuit pattern.
For example, a metal thin film of copper, chromium, nickel, gold, solder or the like may be formed.

【0041】そして、図1(e)に示すカバー絶縁皮膜
5は、例えば、本発明の基材用樹脂組成物を用いて、上
記と同様に、所定の配線回路パターンに形成された金属
箔1上に、塗布した後、乾燥および硬化させることによ
り形成することができる。なお、カバー絶縁皮膜5は、
本発明の基材用樹脂組成物を用いずとも、例えば、予め
用意したポリイミド樹脂などからなる樹脂フィルムを、
接着剤を介して貼着するなどして形成してもよい。この
ようにして形成されるカバー絶縁皮膜5の厚みは、通
常、5〜50μm、さらには、10〜30μmであるこ
とが好ましい。
The cover insulating film 5 shown in FIG. 1 (e) is, for example, the metal foil 1 formed in a predetermined wiring circuit pattern using the resin composition for a base material of the present invention in the same manner as above. It can be formed by applying, drying and curing on the above. The cover insulating film 5 is
Even without using the resin composition for a substrate of the present invention, for example, a resin film made of a polyimide resin or the like prepared in advance,
It may be formed by adhering it via an adhesive. The insulating cover film 5 thus formed usually has a thickness of 5 to 50 μm, preferably 10 to 30 μm.

【0042】また、このようにして製造される配線回路
基板6には、通常、カバー絶縁皮膜5の所定の位置に、
例えば、ドリル穿孔、レーザ加工、エッチングなどの公
知の方法によって、端子接続用のビアホールが形成さ
れ、そのビアホールに、はんだバンプや金めっきなどに
よって接続端子が形成される。
In the printed circuit board 6 thus manufactured, the cover insulating film 5 is usually provided at a predetermined position.
For example, a via hole for terminal connection is formed by a known method such as drilling, laser processing, and etching, and a connection terminal is formed in the via hole by solder bump or gold plating.

【0043】また、カバー絶縁皮膜5の形成において
も、本発明の基材用樹脂組成物を、感光性の基材用樹脂
組成物として調製すれば、上記と同様に、皮膜を形成し
た後に、露光および現像することによって、所定のパタ
ーンのカバー絶縁皮膜5を形成することができ、例え
ば、カバー絶縁皮膜5の形成と同時に、接続端子用のビ
アホールを形成することができる。
Also in the formation of the insulating cover film 5, if the resin composition for a base material of the present invention is prepared as a photosensitive resin composition for a base material, after the film is formed in the same manner as described above, By exposing and developing, the cover insulating film 5 having a predetermined pattern can be formed. For example, a via hole for a connection terminal can be formed at the same time when the cover insulating film 5 is formed.

【0044】そして、このような本発明の配線回路基板
用基材を用いて、配線回路基板を製造すれば、配線回路
基板用基材の金属箔を、所定の配線回路パターンにパタ
ーンニングしても、反りや寸法変化が生じることを有効
に防止することができ、しかも、その製造工程数が従来
と同じであり、効率の良い生産を実現することができ
る。そのため、寸法安定性が良好な配線回路基板を生産
効率良く提供することができる。
When a wired circuit board is manufactured using such a wired circuit board base material of the present invention, the metal foil of the wired circuit board base material is patterned into a predetermined wired circuit pattern. Also, it is possible to effectively prevent warpage and dimensional change, and moreover, the number of manufacturing steps thereof is the same as the conventional one, and efficient production can be realized. Therefore, a printed circuit board having good dimensional stability can be provided with high production efficiency.

【0045】そして、このような本発明の配線回路基板
は、特に制限はないが、例えば、フレキシブル配線回路
基板や回路付サスペンション基板などの電気機器や電子
機器に用いられる配線回路基板として好適に有効に使用
される。
The wiring circuit board of the present invention is not particularly limited, but is preferably effective as a wiring circuit board used in electric equipment and electronic equipment such as flexible wiring circuit boards and suspension boards with circuits. Used for.

【0046】なお、本発明の配線回路基板は、本発明の
配線回路基板用基材が用いられていれば、図1に示す実
施形態に限らず、例えば、多層配線回路基板などであっ
てもよい。
The printed circuit board of the present invention is not limited to the embodiment shown in FIG. 1 as long as the base material for a printed circuit board of the present invention is used, and may be, for example, a multilayer printed circuit board. Good.

【0047】[0047]

【実施例】以下に実施例および比較例を示し、本発明を
さらに具体的に説明するが、本発明は、何ら実施例およ
び比較例に限定されることはない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the Examples and Comparative Examples.

【0048】基材用樹脂組成物の調製 3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物1モルに対して、4,4’−ジアミノジフェニルエー
テル0.15モル、および、p−フェニレンジアミン
0.85モルを、2358gのN−メチル−2−ピロリ
ドン中で反応させることにより、ポリアミック酸樹脂濃
度が15重量%のポリアミック酸樹脂の溶液を調製し
た。
Preparation of Resin Composition for Base Material 0.15 mol of 4,4′-diaminodiphenyl ether and p-based on 1 mol of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride. A solution of polyamic acid resin having a polyamic acid resin concentration of 15% by weight was prepared by reacting 0.85 mol of phenylenediamine in 2358 g of N-methyl-2-pyrrolidone.

【0049】このポリアミック酸樹脂の溶液に、表1に
示す三級アミン化合物を、表1に示す割合でそれぞれ添
加することにより、基材用樹脂組成物A〜Dをそれぞれ
調製した。
Resin compositions A to D for base materials were prepared by adding the tertiary amine compounds shown in Table 1 to the solution of the polyamic acid resin at the ratios shown in Table 1.

【0050】2層基材の作製 厚さ18μmの圧延銅箔のマット面(粗化面)上に、基
材用樹脂組成物A〜Dをそれぞれ塗布し、100℃で2
0分間乾燥した。次いで、これを、真空中(5〜100
Pa)、400℃で硬化(イミド化)させることによ
り、実施例1〜3および比較例1の2層基材をそれぞれ
作製した。なお、得られた各2層基材のポリイミド樹脂
層の厚みは、12.5μmであった。
Preparation of two-layer base material The resin compositions A to D for base materials were respectively applied onto the matte surface (roughened surface) of a rolled copper foil having a thickness of 18 μm, and the temperature was adjusted to 2
Dry for 0 minutes. It is then placed under vacuum (5-100
Pa) and curing (imidization) at 400 ° C. to produce two-layer base materials of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1, respectively. The thickness of the obtained polyimide resin layer of each two-layer substrate was 12.5 μm.

【0051】反り量の評価 実施例1〜3および比較例1の2層基材の銅箔を、塩化
第二鉄水溶液で完全に除去した後、1cm×2cmの試
験片を作製して、反り量を測定した。その結果を表1に
併せて示す。なお、反り量は、図3に概略的に示すよう
に、試験片を水平板上に設置して、その水平板の表面か
ら、試験片の裏面における2cm幅方向の端縁部までの
距離を測定することにより求めた。
Evaluation of Warp Amount After completely removing the copper foil of the two-layer base material of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 with an aqueous solution of ferric chloride, a test piece of 1 cm × 2 cm was prepared and warped. The quantity was measured. The results are also shown in Table 1. In addition, the warp amount is obtained by installing a test piece on a horizontal plate as schematically shown in FIG. 3 and measuring the distance from the front surface of the horizontal plate to the edge portion of the back surface of the test piece in the width direction of 2 cm. It was determined by measuring.

【0052】寸法変化率の評価 実施例1〜3および比較例1の2層基材から、100c
m×100cmの試験片を作製し、次いで、この試験片
の銅箔を、塩化第二鉄水溶液を用いて、ライン幅100
μmおよびライン間100μmのパターンに形成した。
そして、図4に概略的に示すように、パターンの形成前
後における、パターンの幅方向(ラインの直交方向)で
の1辺の長さの寸法変化率(パターン形成前の長さ/パ
ターン形成後の長さ)を測定した。その結果を表1に併
せて示す。
Evaluation of Dimensional Change Rate From the two-layer base materials of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1, 100c
A test piece of m × 100 cm was prepared, and then the copper foil of this test piece was treated with an aqueous solution of ferric chloride to obtain a line width of 100
It was formed in a pattern of 100 μm and a line interval of 100 μm.
Then, as schematically shown in FIG. 4, the dimensional change rate of the length of one side in the width direction of the pattern (the direction orthogonal to the line) before and after the formation of the pattern (length before pattern formation / after pattern formation) Was measured. The results are also shown in Table 1.

【0053】[0053]

【表1】 表1から明らかなように、三級アミン化合物が添加され
ている実施例1〜3の2層基材は、三級アミン化合物が
添加されていない比較例1の2層基材に比べて、反り量
および寸法変化率が、ともに格段に少ないことがわか
る。
[Table 1] As is clear from Table 1, the two-layer base materials of Examples 1 to 3 to which the tertiary amine compound was added were compared with the two-layer base material of Comparative Example 1 to which the tertiary amine compound was not added. It can be seen that both the warp amount and the dimensional change rate are remarkably small.

【0054】[0054]

【発明の効果】本発明の配線回路基板用基材を用いて、
配線回路基板を製造すれば、配線回路基板用基材の金属
箔を、所定の配線回路パターンにパターンニングして
も、反りや寸法変化が生じることを有効に防止すること
ができ、しかも、その製造工程数が従来と同じであり、
効率の良い生産を実現することができる。そのため、寸
法安定性が良好な配線回路基板を生産効率良く提供する
ことができる。
EFFECT OF THE INVENTION By using the substrate for a printed circuit board of the present invention,
When a printed circuit board is manufactured, even if the metal foil of the printed circuit board base material is patterned into a predetermined wired circuit pattern, it is possible to effectively prevent warpage and dimensional change from occurring. The number of manufacturing steps is the same as before,
It is possible to realize efficient production. Therefore, a printed circuit board having good dimensional stability can be provided with high production efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の基材用樹脂組成物を用いて、2層基材
を作製し、その後、その2層基材を用いて配線回路基板
を製造する方法を示す一実施形態の工程図であって、
(a)は、金属箔を用意する工程、(b)は、金属箔上
に、基材用樹脂組成物を塗布した後、乾燥させることに
より、皮膜を形成する工程、(c)は、皮膜を硬化させ
ることにより、ベース絶縁皮膜を形成する工程、(d)
は、金属箔を、所定の配線回路パターンに形成する工
程、(e)は、所定の配線回路パターンに形成された金
属箔上に、カバー絶縁皮膜を被覆する工程を示す。
FIG. 1 is a process chart of one embodiment showing a method for producing a two-layer substrate using the resin composition for a substrate of the present invention and then producing a wired circuit board using the two-layer substrate. And
(A) is a step of preparing a metal foil, (b) is a step of applying a resin composition for a substrate on the metal foil and then drying it to form a film, and (c) is a film. Forming an insulating base film by curing the resin, (d)
Shows a step of forming a metal foil in a predetermined wiring circuit pattern, and (e) shows a step of covering the metal foil formed in the predetermined wiring circuit pattern with a cover insulating film.

【図2】図1(d)の金属箔を所定の配線回路パターン
に形成する工程の詳細を示す工程図であって、(a)
は、金属箔上にフォトレジストを積層する工程、(b)
は、フォトレジストをフォトマスクを介して露光させる
工程、(c)は、フォトレジストを現像する工程、
(d)は、金属箔をエッチングする工程、(e)は、フ
ォトレジストを除去する工程を示す。
FIG. 2 is a process chart showing details of a process of forming the metal foil of FIG. 1 (d) into a predetermined wiring circuit pattern, FIG.
Is a step of laminating a photoresist on the metal foil, (b)
Is a step of exposing the photoresist through a photomask, (c) is a step of developing the photoresist,
(D) shows a step of etching the metal foil, and (e) shows a step of removing the photoresist.

【図3】実施例において、反り量の測定方法を説明する
ための概略説明図である。
FIG. 3 is a schematic explanatory diagram for explaining a method of measuring a warp amount in an example.

【図4】実施例において、寸法変化率の測定方法を説明
するための概略説明図である。
FIG. 4 is a schematic explanatory diagram for explaining a method of measuring a dimensional change rate in an example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 金属箔 2 皮膜 3 ベース絶縁皮膜 4 2層基材 6 配線回路基板 1 metal foil 2 film 3 Base insulation film 4 two-layer base material 6 wired circuit board

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08G 73/10 C08G 73/10 C09D 179/08 C09D 179/08 A Fターム(参考) 4F100 AB01A AB17 AB33A AH03B AH07B AK49B AL05B BA02 BA07 GB43 JL02 JL04 4J038 DJ031 JB01 JB25 JB26 JB31 PB09 PC02 4J043 PA02 PC065 QB31 QC04 SA32 ZA41 ZB50 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C08G 73/10 C08G 73/10 C09D 179/08 C09D 179/08 A F term (reference) 4F100 AB01A AB17 AB33A AH03B AH07B AK49B AL05B BA02 BA07 GB43 JL02 JL04 4J038 DJ031 JB01 JB25 JB26 JB31 PB09 PC02 4J043 PA02 PC065 QB31 QC04 SA32 ZA41 ZB50

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリイミド樹脂前駆体および三級アミン
化合物を含有する基材用樹脂組成物が、金属箔上に塗布
されてなることを特徴とする、配線回路基板用基材。
1. A substrate for a printed circuit board, characterized in that a resin composition for a substrate containing a polyimide resin precursor and a tertiary amine compound is applied onto a metal foil.
【請求項2】 三級アミン化合物が、含窒素複素環化合
物であることを特徴とする、請求項1に記載の配線回路
基板用基材。
2. The substrate for a printed circuit board according to claim 1, wherein the tertiary amine compound is a nitrogen-containing heterocyclic compound.
【請求項3】 請求項1または2に記載の配線回路基板
用基材が用いられていることを特徴とする、配線回路基
板。
3. A wired circuit board, wherein the printed circuit board base material according to claim 1 is used.
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