JP2003007835A - Semiconductor device and method of testing semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device and method of testing semiconductor device

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JP2003007835A
JP2003007835A JP2001191833A JP2001191833A JP2003007835A JP 2003007835 A JP2003007835 A JP 2003007835A JP 2001191833 A JP2001191833 A JP 2001191833A JP 2001191833 A JP2001191833 A JP 2001191833A JP 2003007835 A JP2003007835 A JP 2003007835A
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JP
Japan
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voltage
circuit
semiconductor device
test
internal circuit
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Application number
JP2001191833A
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Japanese (ja)
Inventor
Naoki Handa
直樹 半田
Yoshiki Seiken
良己 成兼
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Hitachi Ltd
Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device, in which an increase of a chip area is restricted, failure of a depression type MOS transistor for output of a step-down circuit is prevented, and is capable of realizing an operation lower limit test of an internal circuit that operates by voltage lower than operating voltage of an external interface circuit, and a method of testing thereof. SOLUTION: The semiconductor device comprises an input/output circuit 1 that operates by power source voltage VCC, an internal circuit 2 that operates by step-down voltage VCL lower than the power source voltage VCC, a step- down circuit 3 that steps down the power source voltage VCC to the step-down voltage VCL, a switching element VCLSW for cutting off the step-down circuit 3 when testing the internal circuit 2, and the like, in which the switching element VCLSW is turned off by setting of a tester to cut off the step-down circuit 3 during the operation lower limit test of the internal circuit 2, test voltage VCLTEST lower than the step-down voltage VCL is applied from outside, and the operation lower limit test of the internal circuit 2 is thus realized.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置のテス
ト技術に関し、特に外部インタフェース回路の動作電圧
より低い電圧で動作する内部回路の動作テストに好適な
半導体装置、およびそのテスト方法に適用して有効な技
術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device test technique, and particularly to a semiconductor device suitable for an operation test of an internal circuit operating at a voltage lower than an operation voltage of an external interface circuit, and a test method thereof. Regarding effective technology.

【0002】[0002]

【従来の技術】本発明者が検討したところによれば、半
導体装置のテスト技術については、たとえば特開平3−
149876号公報に記載される技術などが挙げられ
る。この公報には、内部回路の電源線を内部降圧回路の
出力と外部端子とに切り替えるスイッチ回路を設け、テ
スト時、内部回路の電源線を外部端子側に切り替え、外
部端子からテスト電圧を印加してテストを行うように構
成した半導体集積回路装置の技術が開示されている。
2. Description of the Related Art According to a study conducted by the inventor of the present invention, a semiconductor device test technique is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No.
The technique described in Japanese Patent No. 149876 is mentioned. In this publication, a switch circuit that switches the power supply line of the internal circuit between the output of the internal step-down circuit and the external terminal is provided, and during the test, the power supply line of the internal circuit is switched to the external terminal side and the test voltage is applied from the external terminal. There is disclosed a technology of a semiconductor integrated circuit device configured to perform a test.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明者は、半導体装
置のテスト技術について検討した結果、以下のようなこ
とを明らかとした。たとえば、前記公報の技術は、テス
ト時、外部端子から内部回路の動作電圧より高い電圧を
印加する動作テスト、いわゆるエージングに関するもの
である。
The inventor of the present invention has made clear the following as a result of examining a test technique for a semiconductor device. For example, the technique of the above-mentioned publication relates to an operation test in which a voltage higher than the operation voltage of the internal circuit is applied from an external terminal at the time of test, so-called aging.

【0004】また、本発明者が、本発明の前提として検
討した半導体装置のテスト技術に関するものとして、た
とえば図8に示すような半導体装置(LSI)がある。
図8に示すLSIは、入出力回路1、内部回路2、降圧
回路3などからなり、入出力回路1を電源電圧VCCで
動作させ、内部回路2はチップ内部の電圧変換回路とし
ての降圧回路3で電源電圧VCCを降圧した降圧電圧V
CLで動作させるように構成されている。この図8の構
成では、以下のようなことが明らかとなった。
As a technique for testing a semiconductor device examined by the present inventor as a premise of the present invention, there is a semiconductor device (LSI) as shown in FIG. 8, for example.
The LSI shown in FIG. 8 includes an input / output circuit 1, an internal circuit 2, a step-down circuit 3 and the like. The input / output circuit 1 is operated at a power supply voltage VCC, and the internal circuit 2 is a step-down circuit 3 as a voltage conversion circuit inside the chip. Step-down voltage V obtained by stepping down the power supply voltage VCC with
It is configured to operate in CL. The following is clear from the configuration of FIG.

【0005】(1)降圧回路3は、電源電圧VCCと降
圧電圧VCLの間に、降圧回路3の出力用のデプレッシ
ョン型NMOSトランジスタNDMOSを挟み、このデ
プレッション型NMOSトランジスタNDMOSのゲー
ト電位を制御して降圧電圧VCLを得る構成であるが、
デプレッション型NMOSトランジスタNDMOSは自
分自身の抵抗値で電源電圧が降下しない程度の抵抗値の
低いものが必要である。そこで、入出力回路1の内部に
分散配置して、実質的に大きなゲート幅のトランジスタ
を形成し、抵抗値を低くしている。
(1) In the step-down circuit 3, the depletion type NMOS transistor NDMOS for output of the step-down circuit 3 is sandwiched between the power supply voltage VCC and the step-down voltage VCL, and the gate potential of the depletion type NMOS transistor NDMOS is controlled. Although it is a configuration for obtaining the step-down voltage VCL,
The depletion type NMOS transistor NDMOS needs to have a low resistance value such that the power supply voltage does not drop due to its own resistance value. Therefore, the input / output circuits 1 are dispersedly arranged to form transistors having a substantially large gate width to reduce the resistance value.

【0006】(2)降圧電圧VCLが低下した場合のL
SIの動作テスト、いわゆる動作下限テストを行うため
に、LSIの外部の電源から降圧電圧VCLより低いテ
スト電圧VCLTESTを印加するが、VCL>VCL
TESTの場合、デプレッション型NMOSトランジス
タNDMOSにはVCC→VCLに向かって過電流が流
れ、デプレッション型NMOSトランジスタNDMOS
が破壊してしまう。そこで、電源電圧VCCを下げて、
VCC=VCLTESTとするように電源電圧VCCを
下げて対処している。そのため、電源電圧VCCで動作
する入出力回路1は、電源電圧VCCより低い仕様外の
動作電圧で動作するため、仕様外動作のためのトランジ
スタの追加を行い、チップ面積が増大する要因となって
いる。
(2) L when the step-down voltage VCL drops
To perform an SI operation test, a so-called operation lower limit test, a test voltage VCLTEST lower than the step-down voltage VCL is applied from a power source external to the LSI, but VCL> VCL
In the case of TEST, an overcurrent flows in the depletion type NMOS transistor NDMOS from VCC to VCL, and the depletion type NMOS transistor NDMOS
Will be destroyed. Therefore, lower the power supply voltage VCC,
To cope with this, the power supply voltage VCC is lowered so that VCC = VCLTEST. Therefore, the input / output circuit 1 operating at the power supply voltage VCC operates at an operation voltage outside the specifications lower than the power supply voltage VCC, which causes a transistor to be added for the out-of-specifications operation, which causes a chip area to increase. There is.

【0007】従って、本発明の前提として検討した図8
に示すLSIの構成においては、動作下限テスト時に、
VCLTEST=VCCとなるように、電源電圧VCC
の外部端子に印加する電源の出力電位を製品仕様より下
げているため、入出力回路1に製品仕様外の電源電圧で
動くためのトランジスタを追加する必要があり、チップ
面積が増加する。また、VCC>VCLTESTでは過
電流が流れてデプレッション型NMOSトランジスタN
DMOSが破壊する恐れがある。
Therefore, FIG. 8 examined as a premise of the present invention.
In the LSI configuration shown in,
Power supply voltage VCC so that VCLTEST = VCC
Since the output potential of the power supply applied to the external terminal of is lower than the product specifications, it is necessary to add a transistor to the input / output circuit 1 to operate with a power supply voltage outside the product specifications, which increases the chip area. Further, when VCC> VCLTEST, an overcurrent flows and the depletion type NMOS transistor N
The DMOS may be destroyed.

【0008】そこで、本発明の目的は、チップ面積の増
加を抑え、また電圧変換回路としての降圧回路の出力用
デプレッション型MOSトランジスタの破壊を防ぎ、外
部インタフェース回路の動作電圧より低い電圧で動作す
る内部回路の動作テストを実現することができる半導体
装置、およびそのテスト方法を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to suppress an increase in chip area, prevent destruction of an output depletion type MOS transistor of a step-down circuit as a voltage conversion circuit, and operate at a voltage lower than an operating voltage of an external interface circuit. It is an object of the present invention to provide a semiconductor device capable of realizing an operation test of an internal circuit and a test method thereof.

【0009】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
次のとおりである。
Among the inventions disclosed in the present application, a brief description will be given to the outline of typical ones.
It is as follows.

【0011】本発明は、前記目的を達成するために、
内部回路のテスト時に電圧変換回路としての降圧回路を
遮断するため、第1電圧と第2電圧とを電気的に分離す
るための第2MOSトランジスタを第1電圧と第2電圧
の間に追加する、第2MOSトランジスタは、電源降
下を抑制するように抵抗値を十分に低くなるように配置
する、第2MOSトランジスタは、降圧回路の出力用
の第1MOSトランジスタのように外部インタフェース
回路に分散配置することで、チップ面積の増加を抑えな
がら、十分低い抵抗値を得る、ようにしたものである。
In order to achieve the above object, the present invention provides
A second MOS transistor for electrically separating the first voltage and the second voltage is added between the first voltage and the second voltage in order to cut off the step-down circuit as the voltage conversion circuit at the time of testing the internal circuit. The second MOS transistor is arranged so that its resistance value is sufficiently low so as to suppress the power supply drop. The second MOS transistor is distributed and arranged in the external interface circuit like the first MOS transistor for output of the step-down circuit. In addition, a sufficiently low resistance value is obtained while suppressing an increase in chip area.

【0012】すなわち、本発明による半導体装置は、第
1電圧で動作する外部インタフェース回路と、第1電圧
より低い電位の第2電圧で動作する内部回路とからな
り、第1電圧を第2電圧に降圧するための降圧回路の出
力用の第1MOSトランジスタと、内部回路のテスト時
に降圧回路を遮断するための第2MOSトランジスタと
を有し、第1MOSトランジスタを分散配置し、第2M
OSトランジスタを第1MOSトランジスタの分散配置
に対応して分散配置するものである。
That is, the semiconductor device according to the present invention comprises an external interface circuit which operates at a first voltage and an internal circuit which operates at a second voltage lower than the first voltage. It has a first MOS transistor for output of the step-down circuit for stepping down, and a second MOS transistor for shutting off the step-down circuit at the time of testing the internal circuit.
The OS transistors are arranged in a distributed manner corresponding to the distributed arrangement of the first MOS transistors.

【0013】また、前記半導体装置において、第1MO
Sトランジスタは、デプレッション型MOSトランジス
タからなるものである。
In the semiconductor device, the first MO
The S transistor is a depletion type MOS transistor.

【0014】また、前記半導体装置において、第1MO
Sトランジスタと第2MOSトランジスタとは、第1電
圧と第2電圧との間に直列に接続するものである。さら
に、第2MOSトランジスタは、第1電圧の外部端子側
に接続するようにしたものである。
In the semiconductor device, the first MO
The S transistor and the second MOS transistor are connected in series between the first voltage and the second voltage. Furthermore, the second MOS transistor is connected to the external terminal side of the first voltage.

【0015】また、前記半導体装置において、内部回路
の動作モードを設定するモード設定用外部端子を有し、
内部回路のテスト時は、モード設定用外部端子に接続さ
れるテスト装置からテストモードを設定するものであ
る。さらに、内部回路のテスト時は、第2電圧より低い
電位の第3電圧を印加して、内部回路の動作下限をテス
トするようにしたものである。
Further, the semiconductor device has a mode setting external terminal for setting an operation mode of an internal circuit,
When testing the internal circuit, the test mode is set from a test device connected to the mode setting external terminal. Further, at the time of testing the internal circuit, a third voltage lower than the second voltage is applied to test the lower limit of operation of the internal circuit.

【0016】また、前記半導体装置において、第1MO
Sトランジスタと第2MOSトランジスタとは、外部イ
ンタフェース回路の各セルに分散配置するものである。
さらに、第1MOSトランジスタと第2MOSトランジ
スタとは、半導体装置の外周部に配置するようにしたも
のである。
In the semiconductor device, the first MO
The S transistor and the second MOS transistor are distributed and arranged in each cell of the external interface circuit.
Further, the first MOS transistor and the second MOS transistor are arranged on the outer peripheral portion of the semiconductor device.

【0017】また、前記半導体装置において、内部回路
は、CPU、またはメモリ回路を含むものである。
In the semiconductor device, the internal circuit includes a CPU or a memory circuit.

【0018】また、本発明による半導体装置のテスト方
法は、第1電圧で動作する外部インタフェース回路と、
第1電圧より低い電位の第2電圧で動作する内部回路と
からなり、第1電圧を第2電圧に降圧する降圧回路を遮
断するためのMOSトランジスタを有する半導体装置の
テスト方法であって、内部回路のテスト時に、MOSト
ランジスタにより降圧回路を遮断し、第2電圧より低い
電位の第3電圧を外部から印加して、内部回路の動作下
限をテストするものである。
The semiconductor device testing method according to the present invention comprises an external interface circuit operating at a first voltage,
A method for testing a semiconductor device, comprising: an internal circuit that operates at a second voltage lower than the first voltage; and a MOS transistor for interrupting a step-down circuit that steps down the first voltage to the second voltage. During the circuit test, the step-down circuit is shut off by the MOS transistor, and the third voltage lower than the second voltage is externally applied to test the lower limit of operation of the internal circuit.

【0019】また、前記半導体装置のテスト方法におい
て、内部回路のテスト時は、内部回路の動作モードを設
定するモード設定用外部端子に接続されるテスト装置か
らテストモードを設定するものである。
Further, in the semiconductor device testing method, when the internal circuit is tested, the test mode is set from a test device connected to a mode setting external terminal for setting the operation mode of the internal circuit.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0021】まず、図1により、本発明の一実施の形態
の半導体装置の概略構成の一例を説明する。図1は本実
施の形態の半導体装置を示す概略構成図である。
First, an example of a schematic configuration of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing the semiconductor device of the present embodiment.

【0022】本実施の形態の半導体装置(LSI)は、
たとえば第1電圧である電源電圧VCCで動作する外部
インタフェース回路である入出力回路1と、電源電圧V
CCより低い電位の第2電圧である降圧電圧VCLで動
作する内部回路2と、電源電圧VCCを降圧電圧VCL
に降圧するための降圧回路3と、内部回路2のテスト時
に降圧回路3を遮断するためのスイッチング素子VCL
SWなどから構成されている。なお、降圧回路3は、電
源電圧VCCを降圧電圧VCLへ変換する電圧変換回路
と見なすこともできる。
The semiconductor device (LSI) of this embodiment is
For example, the input / output circuit 1 that is an external interface circuit that operates at the power supply voltage VCC that is the first voltage, and the power supply voltage V
The internal circuit 2 that operates at the step-down voltage VCL that is the second voltage lower than CC, and the power supply voltage VCC that is the step-down voltage VCL
And a switching element VCL for shutting down the step-down circuit 3 when the internal circuit 2 is tested.
It is composed of SW and the like. The step-down circuit 3 can also be regarded as a voltage conversion circuit that converts the power supply voltage VCC into the step-down voltage VCL.

【0023】入出力回路1は、外部とのインタフェース
をとる回路であり、動作モードを切り替えるためのモー
ド切り替え回路4や、入出力バッファなどから構成され
ている。モード切り替え回路4には、スイッチング素子
VCLSWを制御するためのスイッチング制御回路5が
設けられている。
The input / output circuit 1 is a circuit for interfacing with the outside, and is composed of a mode switching circuit 4 for switching the operation mode, an input / output buffer and the like. The mode switching circuit 4 is provided with a switching control circuit 5 for controlling the switching element VCLSW.

【0024】この入出力回路1には、入出力信号用外部
端子I/O1〜I/Onを通じて信号が入力および出力
される。外部から入出力信号用外部端子I/O1〜I/
Onを通じて入力された信号は、入出力回路1を介して
内部回路2に供給される。また、内部回路2からの信号
は、入出力回路1を介し、入出力信号用外部端子I/O
1〜I/Onを通じて外部に出力される。
Signals are input to and output from the input / output circuit 1 through external input / output signal terminals I / O1 to I / On. External input / output signal external terminals I / O1 to I /
The signal input through On is supplied to the internal circuit 2 through the input / output circuit 1. Further, the signal from the internal circuit 2 passes through the input / output circuit 1 and the input / output signal external terminal I / O.
1 to I / On are output to the outside.

【0025】また、入出力回路1には、モード設定用外
部端子MD0〜MD2を通じて外部からモード設定信号
が入力される。外部からモード設定用外部端子MD0〜
MD2を通じて入力されたモード設定信号は、モード切
り替え回路4に入力され、このモード切り替え回路4お
いて、テストモード、ユーザモードなどの各動作モード
の設定信号が生成される。この各動作モードの設定信号
が内部回路2に供給され、内部回路2が所定の動作モー
ドで動作可能となる。また、各動作モードに応じて、ス
イッチング制御回路5においてスイッチング制御信号V
CLSEが生成され、このスイッチング制御信号VCL
SEによりスイッチング素子VCLSWのON/OFF
が制御される。
A mode setting signal is externally input to the input / output circuit 1 through the mode setting external terminals MD0 to MD2. External mode setting external terminals MD0
The mode setting signal input through the MD 2 is input to the mode switching circuit 4, and the mode switching circuit 4 generates a setting signal for each operation mode such as a test mode and a user mode. The setting signal for each operation mode is supplied to the internal circuit 2, and the internal circuit 2 can operate in a predetermined operation mode. In addition, according to each operation mode, the switching control signal V in the switching control circuit 5
CLSE is generated, and this switching control signal VCL
Switching element VCLSW ON / OFF by SE
Is controlled.

【0026】また、入出力回路1には、電源電圧用外部
端子を通じて外部から電源電圧VCCが印加される。ま
た、この入出力回路1には、電源電圧VCCを降圧回路
3を介して降圧した降圧電圧VCL、またはテスト電圧
用外部端子を通じて外部から供給されるテスト電圧VC
LTESTが印加される。テスト電圧VCLTEST
は、内部回路2の動作下限テストなどのテストモード時
に外部から印加される電圧である。
A power supply voltage VCC is applied to the input / output circuit 1 from the outside through an external terminal for power supply voltage. Further, the input / output circuit 1 has a step-down voltage VCL obtained by stepping down the power supply voltage VCC through the step-down circuit 3 or a test voltage VC externally supplied through an external terminal for test voltage.
LTEST is applied. Test voltage VCLTEST
Is a voltage applied from the outside in a test mode such as an operation lower limit test of the internal circuit 2.

【0027】内部回路2は、たとえば一例として、中央
処理装置(CPU)、またはメモリ回路などを含む回路
構成となっている。この内部回路2は、入出力回路1か
ら供給される入力信号を受けて動作し、また動作の結果
を出力信号として入出力回路1に対して出力する。ま
た、内部回路2は、入出力回路1のモード切り替え回路
4から供給される各動作モードの設定信号を受けて、テ
ストモード、ユーザモードなどの所定の動作モードで動
作する。また、この内部回路2には、電源電圧VCCを
降圧回路3を介して降圧した降圧電圧VCL、またはテ
スト電圧用外部端子を通じて外部から供給されるテスト
電圧VCLTESTが印加される。
The internal circuit 2 has a circuit configuration including, for example, a central processing unit (CPU) or a memory circuit. The internal circuit 2 operates by receiving the input signal supplied from the input / output circuit 1, and outputs the result of the operation as an output signal to the input / output circuit 1. Further, the internal circuit 2 receives a setting signal of each operation mode supplied from the mode switching circuit 4 of the input / output circuit 1, and operates in a predetermined operation mode such as a test mode or a user mode. Further, the step-down voltage VCL obtained by stepping down the power supply voltage VCC through the step-down circuit 3 or the test voltage VCLTEST supplied from the outside through the test voltage external terminal is applied to the internal circuit 2.

【0028】降圧回路3は、電源電圧VCCに対して降
圧した降圧電圧VCLを発生するための回路であり、降
圧電圧VCLの出力用のMOSトランジスタであるデプ
レッション型NMOSトランジスタNDMOSと、この
デプレッション型NMOSトランジスタNDMOSのゲ
ート電位を制御するための降圧制御回路6などから構成
されている。このデプレッション型NMOSトランジス
タNDMOSは、降圧制御回路6によりON/OFFが
制御され、内部回路2に対して電源電圧VCCを降圧し
た降圧電圧VCLが印加される。なお、本明細書におい
ては、上記MOSトランジスタは、絶縁ゲート型電界効
果トランジスタを含むものとして理解することができ
る。
The step-down circuit 3 is a circuit for generating a step-down voltage VCL which is step-down with respect to the power supply voltage VCC, and is a depletion type NMOS transistor NDMOS which is a MOS transistor for outputting the step-down voltage VCL and this depletion type NMOS. It is composed of a step-down control circuit 6 and the like for controlling the gate potential of the transistor NDMOS. ON / OFF of the depletion type NMOS transistor NDMOS is controlled by the step-down control circuit 6, and the step-down voltage VCL obtained by stepping down the power supply voltage VCC is applied to the internal circuit 2. In the present specification, the MOS transistor can be understood as including an insulated gate field effect transistor.

【0029】スイッチング素子VCLSWは、内部回路
2の動作下限テスト時に降圧回路3を遮断するためのス
イッチであり、たとえば一例として、PMOSトランジ
スタからなる。このPMOSトランジスタからなるスイ
ッチング素子VCLSWは、入出力回路1のスイッチン
グ制御回路5の制御信号VCLSEによりゲート電位が
制御され、動作下限テスト時にOFFとなり、内部回路
2に対してテスト電圧VCLTESTを外部から印加す
ることが可能となる。
The switching element VCLSW is a switch for shutting off the step-down circuit 3 during the operation lower limit test of the internal circuit 2, and is composed of, for example, a PMOS transistor. The switching element VCLSW composed of the PMOS transistor has its gate potential controlled by the control signal VCLSE of the switching control circuit 5 of the input / output circuit 1 and is turned OFF during the operation lower limit test, and the test voltage VCLTEST is applied to the internal circuit 2 from the outside. It becomes possible to do.

【0030】以上のように構成される半導体装置におい
て、通常動作時は、電源電圧用外部端子から電源電圧V
CC(接地電圧GNDを含む)を印加し、この電源電圧
VCCにより入出力回路1を動作させ、また電源電圧V
CCを降圧回路3を介して降圧した降圧電圧VCLによ
り内部回路2を動作させる。このとき、PMOSトラン
ジスタからなるスイッチング素子VCLSWはON状態
である。
In the semiconductor device configured as described above, during normal operation, the power supply voltage V
CC (including ground voltage GND) is applied, the input / output circuit 1 is operated by this power supply voltage VCC, and the power supply voltage V
The internal circuit 2 is operated by the step-down voltage VCL obtained by stepping down CC through the step-down circuit 3. At this time, the switching element VCLSW including the PMOS transistor is in the ON state.

【0031】また、テスト時は、外部端子にテスト装置
であるテスタを接続し、電源電圧用外部端子から電源電
圧VCC(接地電圧GNDを含む)を印加し、テスト電
圧用外部端子からテスト電圧VCLTESTを印加す
る。このテストにおいて、特に動作下限テスト時は、P
MOSトランジスタからなるスイッチング素子VCLS
WがOFF状態に制御され、降圧回路3が遮断されて降
圧電圧VCLは印加されない。詳細は後述する。
During the test, a tester, which is a test device, is connected to the external terminal, the power supply voltage VCC (including the ground voltage GND) is applied from the power supply voltage external terminal, and the test voltage VCLTEST is applied from the test voltage external terminal. Is applied. In this test, P
Switching element VCLS consisting of MOS transistors
W is controlled to the OFF state, the step-down circuit 3 is cut off, and the step-down voltage VCL is not applied. Details will be described later.

【0032】次に、図2および図3により、本実施の形
態の半導体装置において、入出力回路の構成の一例を説
明する。図2は入出力回路を示す回路図、図3(a),
(b)はそれぞれ入力バッファ、出力バッファのレベル
シフタを示す回路図である。
Next, an example of the configuration of the input / output circuit in the semiconductor device of this embodiment will be described with reference to FIGS. 2 and 3. FIG. 2 is a circuit diagram showing an input / output circuit, FIG.
(B) is a circuit diagram showing the level shifters of the input buffer and the output buffer, respectively.

【0033】入出力回路1は、たとえば図2に一例を示
すように、入出力信号用外部端子I/O1(〜I/O
n)に接続され、外部からの入力信号を波形整形して内
部回路2へ伝達する入力バッファ7と、外部への出力信
号を負荷の大きな外部端子に伝えるための内部動作抵抗
の小さいトランジスタで構成される出力バッファ8など
から構成されている。
The input / output circuit 1 is, for example, as shown in FIG. 2, an input / output signal external terminal I / O1 (to I / O).
n), which is composed of an input buffer 7 for shaping the waveform of an input signal from the outside and transmitting it to the internal circuit 2, and a transistor having a small internal operating resistance for transmitting the output signal to the outside to an external terminal having a large load. The output buffer 8 and the like are provided.

【0034】入力バッファ7は、入出力信号用外部端子
I/O1(〜I/On)と内部回路2との間に直列に接
続される、外部環境対策用の抵抗R1と、CMOSバッ
ファ構成のPMOSトランジスタPM1およびNMOS
トランジスタNM1と、電圧レベルを調整するレベルシ
フタL/S1などから構成されている。CMOSバッフ
ァ構成のPMOSトランジスタPM1およびNMOSト
ランジスタNM1は、電源電圧VCCと接地電圧GND
の間に接続されている。また、レベルシフタL/S1に
は、電源電圧VCC、降圧電圧VCLが印加されてい
る。この電源電圧VCCと降圧電圧VCLとの間に、ス
イッチング素子VCLSWのPMOSトランジスタと降
圧回路3の出力用のデプレッション型NMOSトランジ
スタNDMOSとが直列に接続され、スイッチング素子
VCLSWのPMOSトランジスタが電源電圧VCC側
となるように接続されている。
The input buffer 7 is connected in series between the external terminal for input / output signals I / O1 (to I / On) and the internal circuit 2 and has a resistance R1 for external environment measures and a CMOS buffer structure. PMOS transistor PM1 and NMOS
It is composed of a transistor NM1 and a level shifter L / S1 for adjusting a voltage level. The PMOS transistor PM1 and the NMOS transistor NM1 of the CMOS buffer structure are connected to the power supply voltage VCC and the ground voltage GND.
Connected between. Further, the power supply voltage VCC and the step-down voltage VCL are applied to the level shifter L / S1. A PMOS transistor of the switching element VCLSW and a depletion type NMOS transistor NDMOS for output of the step-down circuit 3 are connected in series between the power supply voltage VCC and the step-down voltage VCCL, and the PMOS transistor of the switching element VCLSW is on the power supply voltage VCC side. Are connected so that

【0035】出力バッファ8は、内部回路2と入出力信
号用外部端子I/O1(〜I/On)との間に直列に接
続される、電圧レベルを調整するレベルシフタL/S2
と、CMOSバッファ構成のPMOSトランジスタPM
2およびNMOSトランジスタNM2と、外部環境対策
用のPMOSトランジスタPM3およびNMOSトラン
ジスタNM3などから構成されている。CMOSバッフ
ァ構成のPMOSトランジスタPM2およびNMOSト
ランジスタNM2は、電源電圧VCCと接地電圧GND
の間に接続されている。外部環境対策用のPMOSトラ
ンジスタPM3は電源電圧VCCと信号線との間に、N
MOSトランジスタNM3は接地電圧GNDと信号線と
の間に、それぞれゲートも電圧側に共通にして接続され
ている。また、レベルシフタL/S2には、電源電圧V
CC、降圧電圧VCLが印加されている。
The output buffer 8 is connected in series between the internal circuit 2 and the input / output signal external terminal I / O1 (to I / On), and is a level shifter L / S2 for adjusting the voltage level.
And a PMOS transistor PM having a CMOS buffer structure
2 and an NMOS transistor NM2, a PMOS transistor PM3 and an NMOS transistor NM3 for external environment countermeasures, and the like. The PMOS transistor PM2 and the NMOS transistor NM2 having the CMOS buffer structure are connected to the power supply voltage VCC and the ground voltage GND.
Connected between. The PMOS transistor PM3 for external environment measures N between the power supply voltage VCC and the signal line.
The gate of the MOS transistor NM3 is commonly connected to the voltage side between the ground voltage GND and the signal line. Further, the level shifter L / S2 has a power supply voltage V
CC and the step-down voltage VCL are applied.

【0036】入力バッファ7のレベルシフタL/S1
は、たとえば図3(a)に一例を示すように、CMOS
構成のPMOSトランジスタPM11およびNMOSト
ランジスタNM11と、PMOSトランジスタPM12
およびNMOSトランジスタNM12とが直列に接続さ
れて構成されている。前段のCMOS構成のPMOSト
ランジスタPM11およびNMOSトランジスタNM1
1は、電源電圧VCCと接地電圧GNDの間に接続され
ている。後段のCMOS構成のPMOSトランジスタP
M12およびNMOSトランジスタNM12は、降圧電
圧VCLと接地電圧GNDの間に接続されている。
Level shifter L / S1 of input buffer 7
Is, for example, as shown in FIG.
PMOS transistor PM11 and NMOS transistor NM11, and PMOS transistor PM12
And an NMOS transistor NM12 are connected in series. The PMOS transistor PM11 and the NMOS transistor NM1 of the CMOS structure in the previous stage
1 is connected between the power supply voltage VCC and the ground voltage GND. The CMOS transistor PMOS transistor P in the latter stage
The M12 and the NMOS transistor NM12 are connected between the step-down voltage VCL and the ground voltage GND.

【0037】出力バッファ8のレベルシフタL/S2
は、たとえば図3(b)に一例を示すように、CMOS
構成のPMOSトランジスタPM21およびNMOSト
ランジスタNM21と、PMOSトランジスタPM22
およびNMOSトランジスタNM22と、これらのCM
OS構成の間に、CMOS構成とこの出力のゲートへの
たすき掛けとの組み合わせ構成で接続される、PMOS
トランジスタPM23〜PM26およびNMOSトラン
ジスタNM23,NM24とが直列に接続されて構成さ
れている。前段のCMOS構成のPMOSトランジスタ
PM21およびNMOSトランジスタNM21は、降圧
電圧VCLと接地電圧GNDの間に接続されている。後
段のCMOS構成のPMOSトランジスタPM22およ
びNMOSトランジスタNM22は、電源電圧VCCと
接地電圧GNDの間に接続されている。また、組み合わ
せ構成のPMOSトランジスタPM23〜PM26およ
びNMOSトランジスタNM23,NM24は、電源電
圧VCCと接地電圧GNDの間に接続されている。
Level shifter L / S2 of output buffer 8
Is, for example, as shown in FIG.
PMOS transistor PM21 and NMOS transistor NM21, and PMOS transistor PM22
And the NMOS transistor NM22 and these CMs
A PMOS connected between the OS structure by a combination of a CMOS structure and a gate of this output.
The transistors PM23 to PM26 and the NMOS transistors NM23 and NM24 are connected in series. The PMOS transistor PM21 and the NMOS transistor NM21 of the CMOS structure in the previous stage are connected between the step-down voltage VCL and the ground voltage GND. The PMOS transistor PM22 and the NMOS transistor NM22 having the CMOS structure in the subsequent stage are connected between the power supply voltage VCC and the ground voltage GND. Further, the PMOS transistors PM23 to PM26 and the NMOS transistors NM23 and NM24 having the combined configuration are connected between the power supply voltage VCC and the ground voltage GND.

【0038】次に、図4により、本実施の形態の半導体
装置において、スイッチング制御回路を含むモード切り
替え回路の構成の一例を説明する。図4はスイッチング
制御回路を含むモード切り替え回路を示す回路図であ
る。
Next, referring to FIG. 4, an example of the configuration of the mode switching circuit including the switching control circuit in the semiconductor device of the present embodiment will be described. FIG. 4 is a circuit diagram showing a mode switching circuit including a switching control circuit.

【0039】モード切り替え回路4は、たとえば図4に
一例を示すように、モード設定用外部端子MD0〜MD
2にそれぞれ一方の入力が接続され、他方の入力にスタ
ンバイ信号STBY−H(5V信号)が入力されるNO
RゲートNOR31〜NOR33と、このNORゲート
NOR31〜NOR33にそれぞれ接続されるインバー
タIV31〜IV33と、このインバータIV31〜I
V33にそれぞれ接続されるレベルシフタL/S31〜
L/S33と、インバータIV31,IV33とレベル
シフタL/S31,L/S33との間に接続されるNA
NDゲートNAND31,NAND32、インバータI
V34,IV35、ノイズキャンセラNC31などから
構成されている。また、ノイズキャンセラNC31の出
力信号線には2段のインバータIV36,IV37が接
続されている。このうち、NANDゲートNAND3
1,NAND32、インバータIV34,IV35、ノ
イズキャンセラNC31などによりスイッチング制御回
路5が構成される。
The mode switching circuit 4 is, for example, as shown in FIG. 4, an external terminal for mode setting MD0 to MD0.
One input is connected to each of 2 and the standby signal STBY-H (5V signal) is input to the other input NO
R gates NOR31 to NOR33, inverters IV31 to IV33 connected to the NOR gates NOR31 to NOR33, and inverters IV31 to I, respectively.
Level shifters L / S31 to respectively connected to V33
L / S33, NA connected between the inverters IV31, IV33 and the level shifters L / S31, L / S33
ND gate NAND31, NAND32, inverter I
It is composed of V34, IV35, noise canceller NC31 and the like. Two-stage inverters IV36 and IV37 are connected to the output signal line of the noise canceller NC31. Of these, NAND gate NAND3
1, the NAND 32, the inverters IV34 and IV35, the noise canceller NC31 and the like constitute the switching control circuit 5.

【0040】このモード切り替え回路4は、NORゲー
トNOR31〜NOR33、インバータIV31〜IV
33や、スイッチング制御回路5を構成するNANDゲ
ートNAND31,NAND32、インバータIV3
4,IV35、ノイズキャンセラNC31などが電源電
圧VCCの電圧系回路内に構成され、レベルシフタL/
S31〜L/S33などが降圧電圧VCLの電圧系回路
内に構成される。また、スタンバイ信号については、テ
スト電圧VCLTESTの外部印加時、降圧電圧VCL
系の回路動作が不安定になり、スタンバイ状態になった
場合、スイッチング素子VCLSWがONし、半導体装
置の破壊に至る恐れがあるので、直接、電源電圧VCC
系のスタンバイ信号STBY−HをNORゲートNOR
31〜NOR33に入力し、スタンバイ状態の制御を行
っている。
The mode switching circuit 4 includes NOR gates NOR31 to NOR33 and inverters IV31 to IV.
33, NAND gates NAND31 and NAND32 that form the switching control circuit 5, and an inverter IV3
4, IV35, noise canceller NC31, etc. are configured in the voltage system circuit of the power supply voltage VCC, and the level shifter L /
S31 to L / S33 and the like are configured in the voltage system circuit of the step-down voltage VCL. Regarding the standby signal, when the test voltage VCLTEST is externally applied, the step-down voltage VCL
When the circuit operation of the system becomes unstable and enters the standby state, the switching element VCLSW may be turned on and the semiconductor device may be destroyed.
System standby signal STBY-H to NOR gate NOR
31 to NOR33 to control the standby state.

【0041】また、モード切り替え回路4では、モード
設定信号MDA0〜MDA2、スイッチング制御信号V
CLSEが生成され、スイッチング制御信号VCLSE
は降圧電圧VCLからは影響を受けない電源電圧VCC
の電圧系回路内で作られる。モード設定信号MDA0〜
MDA2は、それぞれNORゲートNOR31〜NOR
33、インバータIV31〜IV33、NANDゲート
NAND31、インバータIV34を介し、レベルシフ
タL/S31〜L/S33から出力され、内部回路2に
供給される。また、スイッチング制御信号VCLSE
は、インバータIV35、NANDゲートNAND3
2、ノイズキャンセラNC31を介し、インバータIV
36,IV37から出力され、スイッチング素子VCL
SWのON/OFFを制御する。このスイッチング制御
信号VCLSEが“0”のときはスイッチング素子VC
LSWはONになり、“1”のときはOFFとなる。こ
れらのモード設定信号MDA0〜MDA2と、スイッチ
ング制御信号VCLSEとの組み合わせによる動作モー
ドについては後述する。
Further, in the mode switching circuit 4, the mode setting signals MDA0 to MDA2 and the switching control signal V
CLSE is generated and the switching control signal VCLSE is generated.
Is the power supply voltage VCC that is not affected by the step-down voltage VCL
It is made in the voltage system circuit. Mode setting signals MDA0
MDA2 is NOR gates NOR31 to NOR, respectively.
The signal is output from the level shifters L / S31 to L / S33 through the inverter 33, the inverters IV31 to IV33, the NAND gate NAND31, and the inverter IV34, and is supplied to the internal circuit 2. In addition, the switching control signal VCLSE
Is an inverter IV35 and a NAND gate NAND3
2. Inverter IV via noise canceller NC31
36, output from IV37, switching element VCL
Controls ON / OFF of SW. When the switching control signal VCLSE is "0", the switching element VC
LSW is turned on, and when it is "1", it is turned off. The operation mode based on the combination of the mode setting signals MDA0 to MDA2 and the switching control signal VCLSE will be described later.

【0042】次に、図5により、本実施の形態の半導体
装置において、降圧制御回路を含む降圧回路の構成の一
例を説明する。図5は降圧制御回路を含む降圧回路を示
す回路図である。
Next, an example of the configuration of the step-down circuit including the step-down control circuit in the semiconductor device of the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a circuit diagram showing a step-down circuit including a step-down control circuit.

【0043】降圧制御回路6は、たとえば図5に一例を
示すように、スタンバイ信号STBYが入力されるイン
バータIV41と、このインバータIV41の出力によ
りゲート電位が制御されるPMOSトランジスタPM4
1と、このPMOSトランジスタPM41によりゲート
電位が制御されるPMOSトランジスタPM42,PM
43と、各PMOSトランジスタPM42,PM43と
電源電圧VCCの間に接続されるデプレッション型NM
OSトランジスタNDM41,NDM42と、スタンバ
イ信号STBYによりゲート電位が制御されるPMOS
トランジスタPM44およびNMOSトランジスタNM
41,NM42と、このPMOSトランジスタPM44
およびNMOSトランジスタNM41によりゲート電位
が制御されるNMOSトランジスタNM43と、このN
MOSトランジスタNM43によりゲート電位が制御さ
れるPMOSトランジスタPM45と、このPMOSト
ランジスタPM45とテスト電圧VCLTESTとの間
に接続されるNMOSトランジスタNM44と、PMO
SトランジスタPM45によりゲート電位が制御される
NMOSトランジスタNM45,NM46と、スタンバ
イ信号STBYによりゲート電位が制御され、PMOS
トランジスタPM43からの信号線に接続されるNMO
SトランジスタNM47などから構成されている。
For example, as shown in FIG. 5, the step-down control circuit 6 includes an inverter IV41 to which a standby signal STBY is input, and a PMOS transistor PM4 whose gate potential is controlled by the output of the inverter IV41.
1 and PMOS transistors PM42, PM whose gate potential is controlled by the PMOS transistor PM41
43, the depletion type NM connected between the PMOS transistors PM42 and PM43 and the power supply voltage VCC.
OS transistors NDM41 and NDM42, and a PMOS whose gate potential is controlled by a standby signal STBY
Transistor PM44 and NMOS transistor NM
41, NM42 and this PMOS transistor PM44
And an NMOS transistor NM43 whose gate potential is controlled by the NMOS transistor NM41,
A PMOS transistor PM45 whose gate potential is controlled by the MOS transistor NM43, an NMOS transistor NM44 connected between the PMOS transistor PM45 and the test voltage VCLTEST, and a PMO.
The NMOS transistors NM45 and NM46 whose gate potential is controlled by the S transistor PM45, and the gate potential which is controlled by the standby signal STBY are
NMO connected to signal line from transistor PM43
It is composed of an S transistor NM47 and the like.

【0044】この降圧制御回路6の外部において、電源
電圧VCCの電源線とテスト電圧VCLTESTの電源
線との間に、スイッチング制御素子VCLSWのPMO
Sトランジスタと、降圧回路3の出力用のデプレッショ
ン型NMOSトランジスタNDMOSとが直列に接続さ
れて構成され、デプレッション型NMOSトランジスタ
NDMOSはPMOSトランジスタPM43からの信号
線のノード電圧VGによりゲート電位が制御される。ま
た、降圧制御回路6は、内部回路2から供給されるスタ
ンバイ信号STBYにより制御される。このスタンバイ
信号STBYは、チップが低消費電力モードになったと
きに降圧回路3の動作を止める信号である。
Outside the step-down control circuit 6, the PMO of the switching control element VCLSW is provided between the power supply line of the power supply voltage VCC and the power supply line of the test voltage VCLTEST.
An S transistor and a depletion type NMOS transistor NDMOS for output of the step-down circuit 3 are connected in series, and the depletion type NMOS transistor NDMOS has its gate potential controlled by the node voltage VG of the signal line from the PMOS transistor PM43. . Further, the step-down control circuit 6 is controlled by the standby signal STBY supplied from the internal circuit 2. The standby signal STBY is a signal for stopping the operation of the step-down circuit 3 when the chip enters the low power consumption mode.

【0045】次に、図6により、本実施の形態の半導体
装置において、モード切り替え回路による各動作モード
の一例を説明する。図6はモード切り替え回路による各
動作モードを説明するための説明図である。
Next, referring to FIG. 6, an example of each operation mode by the mode switching circuit in the semiconductor device of the present embodiment will be described. FIG. 6 is an explanatory diagram for explaining each operation mode by the mode switching circuit.

【0046】動作モードには、たとえば図6に一例を示
すように、エージングを含む通常のテストを行うための
テストモード(モード0)と、動作下限テストを行うた
めのテストモード(モード1)と、各ユーザの仕様に対
応したシングルチップモードのユーザモード(モード
4)、および外部メモリ拡張モードのユーザモード(モ
ード5)などがある。
As the operation modes, as shown in an example in FIG. 6, a test mode (mode 0) for performing a normal test including aging and a test mode (mode 1) for performing an operation lower limit test. , A single-chip mode user mode (mode 4) corresponding to the specifications of each user, and an external memory expansion mode user mode (mode 5).

【0047】テストモード時は、外部のテスタの設定に
よりモード設定用外部端子MD2=“0”とし、このと
きスイッチング制御信号VCLSEはモード設定用外部
端子MD0の状態で決定される。たとえば、モード設定
用外部端子MD0を“0”にすると、スイッチング制御
信号VCLSEは“0”となり、スイッチング素子VC
LSWはONとなる。これにより、内部回路2と降圧回
路3が接続され、内部降圧有効状態、すなわちテスト電
圧VCLTESTの強制印加不可能状態となる(モード
0)。このモード0がエージングなどを含む通常のテス
トモードであり、このときモード設定信号MDA0〜M
DA2=“0”である。
In the test mode, the mode setting external terminal MD2 is set to "0" by the setting of the external tester, and the switching control signal VCLSE is determined by the state of the mode setting external terminal MD0. For example, when the mode setting external terminal MD0 is set to "0", the switching control signal VCLSE becomes "0", and the switching element VC
LSW is turned on. As a result, the internal circuit 2 and the step-down circuit 3 are connected, and the internal step-down effective state, that is, the test voltage VCLTEST cannot be forcibly applied (mode 0). This mode 0 is a normal test mode including aging, and at this time, the mode setting signals MDA0 to MDA
DA2 = “0”.

【0048】たとえば、このモード0におけるエージン
グ時の動作は以下のようになる。このエージング時の電
圧設定は、電源電圧VCCが直接印加される入出力回路
1には約7V、降圧電圧VCLが印加される内部回路2
には約4.6Vの電圧を印加し、加速テストを行う必要
がある。内部回路2は、電源電圧VCCが高くなっても
約3.2Vにクランプされる降圧電圧VCLが電源のた
め、電源電圧VCCを高くしても加速テスト用の約4.
6Vが印加できない。そこで、前記図1および図5に示
す構成において、テスト電圧VCLTESTの外部端子
より直接、約4.6Vを印加し、加速テストを実施す
る。
For example, the operation during aging in this mode 0 is as follows. Regarding the voltage setting during this aging, the input / output circuit 1 to which the power supply voltage VCC is directly applied is approximately 7 V, and the internal circuit 2 to which the step-down voltage VCL is applied.
It is necessary to apply a voltage of about 4.6 V to the device and perform an acceleration test. The internal circuit 2 uses the step-down voltage VCL that is clamped at about 3.2 V even when the power supply voltage VCC becomes high, so that even if the power supply voltage VCC is increased, about 4.
6V cannot be applied. Therefore, in the configuration shown in FIGS. 1 and 5, about 4.6 V is directly applied from the external terminal of the test voltage VCLTEST to perform the acceleration test.

【0049】このとき、電源電圧VCCと降圧電圧VC
Lの間に電位差が生じるが、降圧電圧VCLとノード電
圧VGに関して、(VG−VCL)がデプレッション型
NMOSトランジスタNDMOSのしきい値電圧Vth
の絶対値より大きいため、ゲート−ソースの電位関係が
MOSトランジスタのON条件にならない。よって、デ
プレッション型NMOSトランジスタNDMOSは自動
的にOFFとなり、VCC−VCL間には過電流が流れ
ず、デプレッション型NMOSトランジスタNDMOS
を破壊することはない。
At this time, the power supply voltage VCC and the step-down voltage VC
Although a potential difference occurs between L and (V−VCL) with respect to the step-down voltage VCL and the node voltage VG, the threshold voltage Vth of the depletion type NMOS transistor NDMOS is
Since it is larger than the absolute value of, the gate-source potential relationship does not satisfy the ON condition of the MOS transistor. Therefore, the depletion type NMOS transistor NDMOS is automatically turned off, an overcurrent does not flow between VCC and VCL, and the depletion type NMOS transistor NDMOS is
Will not destroy.

【0050】以下に、デプレッション型NMOSトラン
ジスタNDMOSがONしない理由を説明する。MOS
トランジスタのON条件は、 ゲート電位−ソース電位≧Vth である。この関係を、デプレッション型NMOSトラン
ジスタNDMOSに当てはめると、 VG−VCL≧VthND となる。VthNDは、デプレッション型NMOSトラ
ンジスタNDMOSのしきい値電圧Vthであり、この
VthNDは標準条件で約−3.0Vである。
The reason why the depletion type NMOS transistor NDMOS is not turned on will be described below. MOS
The ON condition of the transistor is gate potential−source potential ≧ Vth. If this relationship is applied to the depletion type NMOS transistor NDMOS, then VG−VCL ≧ VthND. VthND is the threshold voltage Vth of the depletion type NMOS transistor NDMOS, and this VthND is about -3.0 V under standard conditions.

【0051】降圧電圧VCLは、エージング時にVCL
=4.6Vとすると、通常のクランプ電位より高いた
め、降圧回路3は降圧電圧VCLを下げようと、デプレ
ッション型NMOSトランジスタNDMOSの抵抗が最
も高くなるようにノード電圧VGを下げる。このノード
電圧VGの最小値=約0Vとなる。よって、降圧電圧V
CL=4.6V時にノード電圧VG=0Vと考えると、 VG−VCL=0−4.6=−4.6V となり、デプレッション型NMOSトランジスタNDM
OSのしきい値電圧VthND=−3.0Vより小さ
い。よって、デプレッション型NMOSトランジスタN
DMOSはONしない。
The step-down voltage VCL is VCL during aging.
= 4.6V, the voltage is higher than the normal clamp potential, and therefore the step-down circuit 3 lowers the node voltage VG so that the resistance of the depletion type NMOS transistor NDMOS becomes the highest in order to reduce the step-down voltage VCL. The minimum value of this node voltage VG is about 0V. Therefore, the step-down voltage V
Considering that the node voltage VG = 0V when CL = 4.6V, it becomes VG-VCL = 0-4.6 = -4.6V, which is a depletion type NMOS transistor NDM.
It is smaller than the threshold voltage VthND of the OS = −3.0V. Therefore, the depletion type NMOS transistor N
DMOS does not turn on.

【0052】また、テストモード時に、テスタの設定に
よりモード設定用外部端子MD0を“1”にすると、ス
イッチング制御信号VCLSEは“1”となり、スイッ
チング素子VCLSWはOFFとなる。これにより、内
部回路2から降圧回路3が遮断され、内部降圧無効状
態、すなわちテスト電圧VCLTESTの強制印加可能
状態となる(モード1)。このモード1がテスト電圧V
CLTESTの外部印加テストを許可する動作下限テス
トのモードであり、このときモード設定信号MDA0〜
MDA2=“0”である。このモード設定信号MDA0
〜MDA2は、モード0、モード1ともに値は変化しな
いように設計することで、スイッチング素子VCLSW
の追加に対して設計変更をしなくても、内部回路2は従
来からのテストモードに遷移することが可能である。
Further, in the test mode, when the mode setting external terminal MD0 is set to "1" by the setting of the tester, the switching control signal VCLSE becomes "1" and the switching element VCLSW becomes OFF. As a result, the step-down circuit 3 is cut off from the internal circuit 2, and the internal step-down invalid state is set, that is, the test voltage VCLTEST can be forcibly applied (mode 1). This mode 1 is test voltage V
This is a mode of the operation lower limit test that permits the external application test of CLTEST, and at this time, the mode setting signals MDA0 to
MDA2 = “0”. This mode setting signal MDA0
~ MDA2 is designed so that the value does not change in both mode 0 and mode 1, so that switching element VCLSW
The internal circuit 2 can transit to the conventional test mode without changing the design.

【0053】このモード1における動作下限テスト時の
動作は以下のようになる。この動作下限テスト時は、内
部回路2の動作下限の電圧を印加して行う。通常動作で
は、電源電圧VCCが直接印加される入出力回路1には
約5V、降圧電圧VCLが印加される内部回路2には約
3.2Vの電圧を印加して動作させるため、電源電圧V
CCの保証範囲は約4.5〜5.5Vであり、降圧電圧
VCLの振れ幅はプロセスばらつきなどを含めて約3〜
3.5Vである。そこで、前記図1および図5に示す構
成において、テスト電圧VCLTESTの外部端子より
直接、約3Vより低い電位の約2.9Vを印加し、動作
下限テストを実施する。
The operation in the operation lower limit test in mode 1 is as follows. At the time of this operation lower limit test, the voltage of the operation lower limit of the internal circuit 2 is applied. In normal operation, a voltage of about 5 V is applied to the input / output circuit 1 to which the power supply voltage VCC is directly applied, and a voltage of about 3.2 V is applied to the internal circuit 2 to which the step-down voltage VCL is applied.
The guaranteed range of CC is about 4.5 to 5.5 V, and the swing range of the step-down voltage VCL is about 3 to 5 including process variations.
It is 3.5V. Therefore, in the configuration shown in FIG. 1 and FIG. 5, an operation lower limit test is performed by directly applying an electric potential of about 2.9 V lower than about 3 V from the external terminal of the test voltage VCLTEST.

【0054】また、ユーザモード時は、モード設定用外
部端子MD2=“1”とし、このときは必ずスイッチン
グ制御信号VCLSE=“0”となり、スイッチング素
子VCLSWはONとなる。この状態は、内部回路2と
降圧回路3が接続され、内部降圧有効状態、すなわちテ
スト電圧VCLTESTの強制印加不可能状態である。
たとえば、モード設定用外部端子MD0を“0”にする
と、モード設定信号MDA0=“0”となり、シングル
チップモードとなり(モード4)、またモード設定用外
部端子MD0を“1”にすると、モード設定信号MDA
0=“1”となり、外部メモリ拡張モードとなる(モー
ド5)。
In the user mode, the mode setting external terminal MD2 is set to "1". At this time, the switching control signal VCLSE is set to "0" and the switching element VCLSW is turned on. In this state, the internal circuit 2 and the step-down circuit 3 are connected and the internal step-down effective state, that is, the test voltage VCLTEST cannot be forcibly applied.
For example, when the mode setting external terminal MD0 is set to "0", the mode setting signal MDA0 = "0", the single chip mode is set (mode 4), and when the mode setting external terminal MD0 is set to "1", the mode setting is set. Signal MDA
0 = “1”, and the external memory expansion mode is set (mode 5).

【0055】次に、図7により、本実施の形態の半導体
装置のレイアウトの一例を説明する。図7(a),
(b)は半導体装置のレイアウトを示す概略図と入出力
セルの概略回路図である。
Next, an example of the layout of the semiconductor device of this embodiment will be described with reference to FIG. 7 (a),
(B) is a schematic diagram showing a layout of a semiconductor device and a schematic circuit diagram of an input / output cell.

【0056】半導体装置のレイアウトは、たとえば図7
(a)に一例を示すように、チップの外周部に入出力回
路1が配置され、中央部に内部回路2が配置されてい
る。入出力回路1は、複数の入出力セル9から構成さ
れ、内部回路2の周りに額縁状に分散されて配置されて
いる。この各入出力セル9は、前記図2に示すような回
路構成となっている。
The layout of the semiconductor device is shown in FIG.
As shown in (a), the input / output circuit 1 is arranged on the outer peripheral portion of the chip, and the internal circuit 2 is arranged on the central portion. The input / output circuit 1 is composed of a plurality of input / output cells 9 and is arranged around the internal circuit 2 in a frame shape. Each of the input / output cells 9 has a circuit configuration as shown in FIG.

【0057】特に、各入出力セル9の中には、たとえば
図7(b)に概略を示すように、各入出力セル9にチッ
プの周回配線で配置される電源電圧VCCと降圧電圧V
CLとの間に、直列に接続されたスイッチング素子VC
LSWのPMOSトランジスタと降圧回路3の出力用の
デプレッション型NMOSトランジスタNDMOSが配
置されている。さらに、スイッチング素子VCLSWの
PMOSトランジスタは電源電圧VCC側、デプレッシ
ョン型NMOSトランジスタNDMOSは降圧電圧VC
L側になるように配置され、これらは入出力セル9に分
散されて配置されている。
Particularly, in each of the input / output cells 9, for example, as schematically shown in FIG. 7B, the power supply voltage VCC and the step-down voltage V that are arranged in the input / output cells 9 by the peripheral wiring of the chip.
Switching element VC connected in series with CL
An LSW PMOS transistor and a depletion type NMOS transistor NDMOS for output of the step-down circuit 3 are arranged. Further, the PMOS transistor of the switching element VCLSW is on the power supply voltage VCC side, and the depletion type NMOS transistor NDMOS is the step-down voltage VC.
They are arranged so as to be on the L side, and these are dispersed and arranged in the input / output cells 9.

【0058】たとえば一例として、スイッチング素子V
CLSWのPMOSトランジスタとデプレッション型N
MOSトランジスタNDMOSは、ゲート長は約100
μmであるが、額縁状の入出力セル9に配置すること
で、内部回路2のレイアウト面積に影響を与えることな
く、120ピンの製品でチップ全体で約10000μm
以上を配置することが可能となる。また、スイッチング
素子VCLSWのPMOSトランジスタが配置される入
出力セル9は、数も多く、負荷も大きいため、たとえば
一例として、4辺にバッファを配置し、バッファリング
してスイッチング素子VCLSWを制御することも可能
である。
For example, as an example, the switching element V
CLSW PMOS transistor and depletion type N
The gate length of the MOS transistor NDMOS is about 100.
However, by arranging them in the frame-shaped input / output cells 9, the total chip size is about 10,000 μm for 120-pin products without affecting the layout area of the internal circuit 2.
The above can be arranged. Further, since the number of input / output cells 9 in which the PMOS transistors of the switching elements VCLSW are arranged is large and the load is large, for example, buffers are arranged on four sides and buffering is performed to control the switching elements VCLSW. Is also possible.

【0059】従って、本実施の形態の半導体装置によれ
ば、電源電圧VCCと降圧電圧VCLとを電気的に分離
するためのスイッチング素子VCLSWを電源電圧VC
Cと降圧電圧VCLの間に接続し、スイッチング素子V
CLSWは降圧回路3の出力用のデプレッション型NM
OSトランジスタNDMOSのように入出力回路1に分
散配置することで、チップ面積の増加を抑えながら十分
低い抵抗値を得ることができ、またデプレッション型N
MOSトランジスタNDMOSの破壊を防ぐことができ
る。
Therefore, according to the semiconductor device of the present embodiment, the switching element VCLSW for electrically separating the power supply voltage VCC and the step-down voltage VCL is connected to the power supply voltage VC.
It is connected between C and the step-down voltage VCL, and the switching element V
CLSW is a depletion type NM for the output of the step-down circuit 3.
By disposing the OS transistors NDMOS in the input / output circuit 1 in a distributed manner, it is possible to obtain a sufficiently low resistance value while suppressing an increase in the chip area.
It is possible to prevent destruction of the MOS transistor NDMOS.

【0060】このように、スイッチング素子VCLSW
を配置することで、内部回路2の動作下限テストを降圧
電圧VCL>テスト電圧VCLTESTで実施可能なの
で、入出力回路1に製品仕様外のための回路を追加する
必要がないので、チップサイズの縮小が可能となる。ま
た、入出力回路1にスイッチング素子VCLSWを分散
配置することで、チップ回路の増加を抑えながら、低抵
抗のスイッチング素子VCLSWを配置することが可能
となる。この結果、製品仕様外で動く回路の削除、およ
び面積の増加なしにスイッチング素子VCLSWを配置
することができるので、同じ面積でテストのし易い半導
体装置が設計できる。
Thus, the switching element VCLSW
Since the operation lower limit test of the internal circuit 2 can be performed with the step-down voltage VCL> the test voltage VCLTEST by arranging, the chip size can be reduced because it is not necessary to add a circuit outside the product specifications to the input / output circuit 1. Is possible. Further, by disposing the switching elements VCLSW in the input / output circuit 1 in a distributed manner, it becomes possible to arrange the low resistance switching elements VCLSW while suppressing an increase in the number of chip circuits. As a result, since the switching element VCLSW can be arranged without deleting a circuit that operates outside the product specifications and increasing the area, it is possible to design a semiconductor device that has the same area and is easy to test.

【0061】以上、本発明者によってなされた発明をそ
の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前
記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸
脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. It goes without saying that it is possible.

【0062】たとえば、前記実施の形態においては、C
PU、またはメモリ回路などを含む内部回路の半導体装
置を例に説明したが、本発明は、特にテスト時に内部回
路の電源と入出力回路の電源に別の電位を印加する必要
のある半導体装置や、低抵抗の電源制御MOSトランジ
スタをチップに配置する必要のある半導体装置に良好に
適用することができる。
For example, in the above embodiment, C
Although the semiconductor device having an internal circuit including a PU or a memory circuit has been described as an example, the present invention relates to a semiconductor device in which it is necessary to apply different potentials to the power source of the internal circuit and the power source of the input / output circuit at the time of testing. It can be favorably applied to a semiconductor device in which a low resistance power supply control MOS transistor needs to be arranged on a chip.

【0063】[0063]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
It is as follows.

【0064】(1)内部回路のテスト時に、電源電圧を
降圧電圧に降圧する降圧回路を遮断するためのMOSト
ランジスタを配置することで、動作下限テストを外部か
ら印加する、降圧電圧より低い電位のテスト電圧で実施
することができるので、外部インタフェース回路に製品
仕様外のための回路を追加する必要がない。これによ
り、チップサイズを縮小することが可能となる。
(1) By placing a MOS transistor for shutting down the step-down circuit for stepping down the power supply voltage to the step-down voltage at the time of testing the internal circuit, an operation lower limit test is applied from the outside, and a potential lower than the step-down voltage is applied. Since the test can be performed with the test voltage, it is not necessary to add a circuit outside the product specifications to the external interface circuit. As a result, the chip size can be reduced.

【0065】(2)外部インタフェース回路に、降圧回
路遮断用のMOSトランジスタを分散配置することで、
チップ回路の増加を抑えながら、低抵抗の降圧回路遮断
用のMOSトランジスタを配置することが可能となる。
(2) By disposing MOS transistors for shutting down the step-down circuit in the external interface circuit,
It is possible to dispose a low-resistance MOS transistor for shutting down the step-down circuit while suppressing an increase in the number of chip circuits.

【0066】(3)前記(1),(2)により、製品仕
様外で動作する回路の追加不要、および面積の増加を抑
制して降圧回路遮断用のMOSトランジスタを配置する
ことができるので、同じ面積でテストのし易い半導体装
置を設計することが可能となる。
(3) According to the above (1) and (2), it is possible to arrange the MOS transistor for shutting down the step-down circuit while suppressing the addition of the circuit which operates outside the product specifications and suppressing the increase of the area. It is possible to design a semiconductor device that is easy to test in the same area.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施の形態の半導体装置を示す概略
構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施の形態の半導体装置において、
入出力回路を示す回路図である。
FIG. 2 shows a semiconductor device according to an embodiment of the present invention,
It is a circuit diagram which shows an input / output circuit.

【図3】(a),(b)は本発明の一実施の形態の半導
体装置において、入出力回路の入力バッファ、出力バッ
ファのレベルシフタを示す回路図である。
3A and 3B are circuit diagrams showing level shifters of an input buffer and an output buffer of an input / output circuit in a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施の形態の半導体装置において、
スイッチング制御回路を含むモード切り替え回路を示す
回路図である。
FIG. 4 shows a semiconductor device according to an embodiment of the present invention,
It is a circuit diagram which shows the mode switching circuit containing a switching control circuit.

【図5】本発明の一実施の形態の半導体装置において、
降圧制御回路を含む降圧回路を示す回路図である。
FIG. 5 shows a semiconductor device according to an embodiment of the present invention,
It is a circuit diagram showing a step-down circuit including a step-down control circuit.

【図6】本発明の一実施の形態の半導体装置において、
モード切り替え回路による各動作モードを説明するため
の説明図である。
FIG. 6 shows a semiconductor device according to an embodiment of the present invention,
It is an explanatory view for explaining each operation mode by a mode switching circuit.

【図7】(a),(b)は本発明の一実施の形態の半導
体装置のレイアウトを示す概略図と入出力セルの概略回
路図である。
7A and 7B are a schematic diagram showing a layout of a semiconductor device according to one embodiment of the present invention and a schematic circuit diagram of an input / output cell.

【図8】本発明の前提として検討した半導体装置を示す
概略構成図である。
FIG. 8 is a schematic configuration diagram showing a semiconductor device examined as a premise of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 入出力回路 2 内部回路 3 降圧回路 4 モード切り替え回路 5 スイッチング制御回路 6 降圧制御回路 7 入力バッファ 8 出力バッファ 9 入出力セル VCC 電源電圧 VCL 降圧電圧 VCLSW スイッチング素子 I/O1〜I/On 入出力信号用外部端子 MD0〜MD2 モード設定用外部端子 VCLSE スイッチング制御信号 VCLTEST テスト電圧 NDMOS デプレッション型NMOSトランジスタ R1 抵抗 PM1〜PM3 PMOSトランジスタ NM1〜NM3 NMOSトランジスタ L/S1,L/S2 レベルシフタ PM11,PM12 PMOSトランジスタ NM11,NM12 NMOSトランジスタ PM21〜PM26 PMOSトランジスタ NM21〜NM24 NMOSトランジスタ NOR31〜NOR33 NORゲート IV31〜IV37 インバータ L/S31〜L/S33 レベルシフタ NAND31,NAND32 NANDゲート NC31 ノイズキャンセラ IV41 インバータ PM41〜PM45 PMOSトランジスタ NDM41,NDM42 デプレッション型NMOSト
ランジスタ NM41〜NM47 NMOSトランジスタ
1 Input / output circuit 2 Internal circuit 3 Step-down circuit 4 Mode switching circuit 5 Switching control circuit 6 Step-down control circuit 7 Input buffer 8 Output buffer 9 Input / output cell VCC Power supply voltage VCL Step-down voltage VCLSW Switching elements I / O1 to I / On Input / output Signal external terminal MD0 to MD2 Mode setting external terminal VCLSE Switching control signal VCLTEST Test voltage NDMOS Depletion type NMOS transistor R1 Resistance PM1 to PM3 PMOS transistors NM1 to NM3 NMOS transistors L / S1, L / S2 Level shifters PM11, PM12 PMOS transistor NM11 , NM12 NMOS transistors PM21 to PM26 PMOS transistors NM21 to NM24 NMOS transistors NOR31 to NOR33 NOR gate I 31~IV37 Inverter L / S31~L / S33 shifter NAND31, NAND32 NAND gate NC31 noise canceller IV41 inverter PM41~PM45 PMOS transistor NDM41, NDM42 depletion type NMOS transistor NM41~NM47 NMOS transistor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11C 29/00 651 G01R 31/28 B H01L 27/04 H01L 27/04 B G11C 11/34 341D (72)発明者 成兼 良己 北海道亀田郡七飯町字中島145番地 日立 北海セミコンダクタ株式会社内 Fターム(参考) 2G132 AA08 AB01 AG09 AK07 AK15 5B015 HH00 JJ31 JJ44 KB74 PP02 RR02 RR07 5F038 BB04 CA07 DF01 DF04 DF05 DT02 EZ20 5L106 DD11 DD21 DD36 GG05 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G11C 29/00 651 G01R 31/28 B H01L 27/04 H01L 27/04 B G11C 11/34 341D (72) Inventor Yoshimi Nakane, 145 Nakajima, Nanae-cho, Kameda-gun, Hokkaido F-term inside Hitachi North Sea Semiconductor Co., Ltd. (reference) 2G132 AA08 AB01 AG09 AK07 AK15 5B015 HH00 JJ31 JJ44 KB74 PP02 RR02 RR07 5F038 BB04 CA07 DF01 DF04 DF05 510602 DD02 EZ20 DD21 DD36 GG05

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1電圧で動作する外部インタフェース
回路と、 前記第1電圧より低い電位の第2電圧で動作する内部回
路と、 前記第1電圧を前記第2電圧に変換するための電圧変換
回路の出力用の第1MOSトランジスタと、 前記内部回路のテスト時に前記電圧変換回路を遮断する
ための第2MOSトランジスタとを有し、 前記第1MOSトランジスタは分散配置され、前記第2
MOSトランジスタは前記第1MOSトランジスタの分
散配置に対応して分散配置されることを特徴とする半導
体装置。
1. An external interface circuit that operates at a first voltage, an internal circuit that operates at a second voltage that is lower than the first voltage, and a voltage converter for converting the first voltage into the second voltage. A first MOS transistor for outputting a circuit, and a second MOS transistor for shutting off the voltage conversion circuit at the time of testing the internal circuit, wherein the first MOS transistor is distributed and arranged.
A semiconductor device, wherein the MOS transistors are arranged in a distributed manner corresponding to the distributed arrangement of the first MOS transistors.
【請求項2】 請求項1記載の半導体装置において、 前記第1MOSトランジスタは、デプレッション型MO
Sトランジスタからなることを特徴とする半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the first MOS transistor is a depletion type MO transistor.
A semiconductor device comprising an S transistor.
【請求項3】 請求項1記載の半導体装置において、 前記第1MOSトランジスタと前記第2MOSトランジ
スタとは、前記第1電圧と前記第2電圧との間に直列に
接続されることを特徴とする半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the first MOS transistor and the second MOS transistor are connected in series between the first voltage and the second voltage. apparatus.
【請求項4】 請求項3記載の半導体装置において、 前記第2MOSトランジスタは、前記第1電圧の外部端
子側に接続されることを特徴とする半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 3, wherein the second MOS transistor is connected to the external terminal side of the first voltage.
【請求項5】 請求項1記載の半導体装置において、 前記内部回路の動作モードを設定するモード信号が供給
されるモード設定用外部端子を有し、 前記内部回路のテスト時は、前記モード設定用外部端子
に接続されるテスト装置から出力されるモード信号によ
って、前記内部回路のテストモードが設定されることを
特徴とする半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a mode setting external terminal supplied with a mode signal for setting an operation mode of the internal circuit, wherein the mode setting external terminal is used during a test of the internal circuit. A semiconductor device, wherein a test mode of the internal circuit is set by a mode signal output from a test device connected to an external terminal.
【請求項6】 請求項5記載の半導体装置において、 前記内部回路のテスト時は、前記第2電圧より低い電位
の第3電圧を印加して、前記内部回路の動作がテストさ
れることを特徴とする半導体装置。
6. The semiconductor device according to claim 5, wherein at the time of testing the internal circuit, an operation of the internal circuit is tested by applying a third voltage lower than the second voltage. Semiconductor device.
【請求項7】 請求項1記載の半導体装置において、 前記第1MOSトランジスタと前記第2MOSトランジ
スタとは、前記外部インタフェース回路の各セルに分散
配置されることを特徴とする半導体装置。
7. The semiconductor device according to claim 1, wherein the first MOS transistor and the second MOS transistor are dispersedly arranged in each cell of the external interface circuit.
【請求項8】 請求項7記載の半導体装置において、 前記第1MOSトランジスタと前記第2MOSトランジ
スタとは、前記半導体装置の外周部に配置されることを
特徴とする半導体装置。
8. The semiconductor device according to claim 7, wherein the first MOS transistor and the second MOS transistor are arranged on an outer peripheral portion of the semiconductor device.
【請求項9】 請求項1記載の半導体装置において、 前記内部回路は、CPU、またはメモリ回路を含むこと
を特徴とする半導体装置。
9. The semiconductor device according to claim 1, wherein the internal circuit includes a CPU or a memory circuit.
【請求項10】 第1電圧で動作する外部インタフェー
ス回路と、前記第1電圧より低い電位の第2電圧で動作
する内部回路とからなり、前記第1電圧を前記第2電圧
に降圧する降圧回路を遮断するためのMOSトランジス
タを有する半導体装置のテスト方法であって、 前記内部回路のテスト時に、前記MOSトランジスタに
より前記降圧回路を遮断し、前記第2電圧より低い電位
の第3電圧を外部から印加して、前記内部回路の動作を
テストすることを特徴とする半導体装置のテスト方法。
10. A step-down circuit configured by an external interface circuit operating at a first voltage and an internal circuit operating at a second voltage lower than the first voltage, the step-down circuit for stepping down the first voltage to the second voltage. A method for testing a semiconductor device having a MOS transistor for shutting off a voltage, wherein the step-down circuit is shut off by the MOS transistor during a test of the internal circuit, and a third voltage lower than the second voltage is externally applied. A method for testing a semiconductor device, which comprises applying the voltage to test the operation of the internal circuit.
【請求項11】 請求項10記載の半導体装置のテスト
方法において、 前記内部回路のテスト時は、前記内部回路の動作モード
を設定するモード設定用外部端子に接続されるテスト装
置からテストモードを設定することを特徴とする半導体
装置のテスト方法。
11. The method for testing a semiconductor device according to claim 10, wherein during the test of the internal circuit, a test mode is set from a test device connected to a mode setting external terminal for setting an operation mode of the internal circuit. A method for testing a semiconductor device, comprising:
【請求項12】 請求項5記載の半導体装置において、 前記内部回路のテスト時は、前記第2電圧より高い電位
の第4電圧を印加して、前記内部回路の動作がテストさ
れることを特徴とする半導体装置。
12. The semiconductor device according to claim 5, wherein at the time of testing the internal circuit, a fourth voltage higher than the second voltage is applied to test the operation of the internal circuit. Semiconductor device.
【請求項13】 第1電圧で動作する外部インタフェー
ス回路と、前記第1電圧より低い電位の第2電圧で動作
する内部回路とからなり、前記第1電圧を前記第2電圧
に降圧する降圧回路を遮断するためのMOSトランジス
タを有する半導体装置のテスト方法であって、 前記内部回路のテスト時に、前記MOSトランジスタに
より前記降圧回路を遮断し、前記第2電圧より高い電位
の第4電圧を外部から印加して、前記内部回路の動作を
テストすることを特徴とする半導体装置のテスト方法。
13. A step-down circuit configured by an external interface circuit operating at a first voltage and an internal circuit operating at a second voltage lower than the first voltage, the step-down circuit for stepping down the first voltage to the second voltage. A method for testing a semiconductor device having a MOS transistor for shutting off a voltage, wherein the step-down circuit is shut off by the MOS transistor during a test of the internal circuit, and a fourth voltage higher than the second voltage is externally applied. A method for testing a semiconductor device, which comprises applying the voltage to test the operation of the internal circuit.
【請求項14】 請求項13記載の半導体装置のテスト
方法において、 前記内部回路のテスト時は、前記内部回路の動作モード
を設定するモード設定用外部端子に接続されるテスト装
置からテストモードを設定することを特徴とする半導体
装置のテスト方法。
14. The test method for a semiconductor device according to claim 13, wherein during the test of the internal circuit, a test mode is set from a test device connected to a mode setting external terminal for setting an operation mode of the internal circuit. A method for testing a semiconductor device, comprising:
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03149876A (en) * 1989-11-07 1991-06-26 Hitachi Ltd Semiconductor integrated circuit
JPH03237685A (en) * 1990-02-14 1991-10-23 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor storage device
JPH0439963A (en) * 1990-06-05 1992-02-10 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor device

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03149876A (en) * 1989-11-07 1991-06-26 Hitachi Ltd Semiconductor integrated circuit
JPH03237685A (en) * 1990-02-14 1991-10-23 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor storage device
JPH0439963A (en) * 1990-06-05 1992-02-10 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor device

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