JP2003002652A - 磁性クラスレート化合物及びその製造方法 - Google Patents
磁性クラスレート化合物及びその製造方法Info
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Abstract
物性の多様性、材料設計制御の高精度性を図ることがで
きる磁性クラスレート化合物及びその製造方法を提供す
る。 【解決手段】 GeのタイプIのクラスレート化合物に
d−ブロック元素としてMnを導入した化合物を合成し
た。これらの化合物群においては、磁性電子スピンと伝
導電子が相互作用することにより、種々の電子状態が非
線型的に変化する電子状態の変化が得られる。また、伝
導電子の量をCuを用いて僅かに変化させることによ
り、室温付近まで磁場誘起の強磁性特性が存在する物性
を示すことがわかった。
Description
産業上の利用分野に関するものであり、高性能デバイス
を作るための半導体、金属、絶縁体素材として使用され
るMnを含む磁性クラスレート化合物及びその製造方法
に関するものである。
素子(演算論理回路素子、記憶素子、光電変換素子な
ど)および光通信技術を担っているレーザー素子は、シ
リコン、ゲルマニウム、ガリウム砒素などの III−V族
化合物半導体、および硫化亜鉛などのII−VI族化合物半
導体を利用して作られている。そして、かかる素子の性
能は、主に素子のLSI化による微細化技術の進歩と共
に進展してきた。
微細化による性能向上はあまり期待できず、素子性能
は、素子を構成する素材の基本的性能により規定される
度合いがより一層強くなってきている。
考えると、従来の電子材料素材とは大きく異なる物性を
示す新素材の開発が望まれている。
見出す1つの考えとして、自然に作り出されるナノ構造
クラスタ/クラスレート物質(化合物)を用いることが
挙げられる。
構成する元素間の結合様式が従来の物質とは大きく異な
るため、高周波フォノンなどを介した超伝導性や磁性の
制御が可能である。また、欠陥の数をクラスタ/クラス
レート構造の完全性により軽減できるため、物質のもつ
基本性能を大きく向上させることができる。
タ/クラスレートの例としては、これまでシリコンにお
いて、ある条件の下では、アルカリ金属元素が導入され
た特異な形状の構造を単位とした結晶(シリコンクラス
レート)を形成することが知られていた。(例えば、ク
ロス等、ジャーナル オブ ソリッド ステート ケミ
ストリー、2巻、570ページ、1970年)。
だけがシリコンクラスレート物質を構成するかご構造を
有するM20およびM24(ここでMはSiを表す)の
かご中に内包される形のものであり、得られる化合物の
電子物性は、アルカリ金属元素の導入量を制御すること
で半導体から金属物性までキャリアの導入量に依存して
変化させることはできるが、主な電子物性はクラスレー
トのネットワーク構造でほぼ完全に決定されてしまう。
利用できる可能性は少なく、エレクトロニクスの分野で
広く活用されることは望めなかった。このため、ナノ構
造を制御できる有望な材料系であるにも係わらず、これ
らの報告が行われて以来20年以上を経過しても、その
材料の進展には大きな変化は期待できなかった。
包されるアルカリ金属元素であるNaおよびK以外に
も、アルカリ土類元素であるBaがSi24クラスタ内部
に内包されたNa2 Ba6 Si46を合成できることが報
告された。(山中等、フラーレン サイエンス アンド
テクノロジー、3巻、21ページ、1995年)。ま
た、高圧下では、Ba8 Si46が合成できることも最近
報告されている。しかも、これらBaを導入した材料で
は金属化および超伝導性が発現している。
施した場合でも超伝導などの特殊な物性は発現しない。
従って、この超伝導性は、クラスタという特有な構造の
ために発現したものである。この結果は、これらのクラ
スタにおいてBaやNaなどの元素を含有させることに
よって、物性の多様性を発現させることができることを
示唆しているものである。
ことによる物性の変化は、これらの元素のd軌道とSi
46クラスレートの価電子帯を形成する軌道とが混成し、
その結果得られるナノ結晶の電子状態を大きく変化させ
ることによると考えられている。
ス分野で応用する可能性があることを示したものとして
注目される。従って、この特性は、先に述べたように、
アルカリ土類元素の導入で生じるバンド構造の変化によ
って発現したものと解釈されている。
レート物質に種々の電子機能を付け加えて広くエレクト
ロニクスの分野で活用するために、Baだけでなく、他
の種々の元素、特に、磁性金属元素をIV族クラスレート
に導入し、物性の多様化、材料設計制御の高精度化を図
ることができる磁性クラスレート化合物及びその製造方
法を提供することを目的とする。
成するために、 〔1〕構成単位がゲルマニウム元素のクラスタであるG
e20とGe24から構成されるクラスレート化合物であっ
て、Ba、Mn、Cuをドーパント元素として用いて構
成される、Bax Mny Ge46-zで表されることを特徴
とする。
スタであるGe20とGe24から構成されるクラスレート
化合物の製造方法において、Ba、Mn、Cuをドーパ
ント元素として用いるとともに、Ba、Mn、Geを所
望の量的関係で混合し、高周波加熱することによりBa
x Mny Ge46-zで表されるクラスレート化合物を製造
することを特徴とする。
物の製造方法において、前記高周波加熱は、不活性雰囲
気下で溶融加熱することを特徴とする。
レート化合物の製造方法において、アルゴンプラズマで
再加熱処理することで均一性を上げることを特徴とす
る。
て詳細に説明する。
びに14面体(Ge24)から構成されるクラスレート化
合物(タイプI)に磁性元素としてMnを結晶格子に組
み込み、Baから供給される伝導電子の量を別の結晶サ
イトに導入されたCuを用いて制御すると、磁場誘起の
遍歴強磁性で転移点が室温以上の物性を示す磁性物性を
作り出せることに着目した。
電子が、わずかな磁場の影響により強磁性的な電子スピ
ンの配向を生じることにより、磁化率が強磁性的特徴を
示す物性である。
状態を微細に変調することにより、臨界温度が高い遍歴
強磁性を達成したものである。すなわち、Baからだけ
の場合は、結晶格子あたり10分の1程度の精度でしか
伝導電子を変化させることはできないが、Cuを特別な
結晶サイトに導入した場合は、それよりも一桁高い精度
で伝導電子の量を調節することが可能であることがわか
った。これは、BaがBa1個に対して1.5個の電子
を伝導系に供与するのに比較して、Cuは伝導系に僅か
しか関与していないという違いによるものである。
クラスレート化合物にd−ブロック元素としてMnを導
入した化合物を新規に合成した。これらの化合物群にお
いては、磁性電子スピンと伝導電子が相互作用すること
により、種々の電子状態が非線型的に変化する電子状態
の変化が得られる。また、伝導電子の量をCuを用いて
僅かに変化させることにより、室温付近まで磁場誘起の
強磁性特性が存在する物性を示すことがわかった。次世
代の磁気センサーなどの電子材料への応用が期待され
る。
単位がゲルマニウム元素のクラスタであるGe20とGe
24から構成されるクラスレート化合物において、Ba、
Mn、Cuをドーパント元素として用いて構成されるB
ax Mny Ge46-zで表される磁性クラスレート化合物
である。
製造方法は次の通りである。
あるGe20とGe24から構成されるクラスレート化合物
の製造方法において、Ba、Mn、Cuをドーパント元
素として用いるとともに、Ba、Mn、Geを所望の量
的関係で混合し、高周波加熱することによりBax Mn
y Ge46-zで表されるクラスレート化合物を製造する。
元素の結合様式はそれぞれ従来のゲルマニウム結晶にみ
られるsp3結合様式ではなく、マジックナンバーであ
る20および24個のゲルマニウム元素から構成される
ゲルマニウムクラスタ単位がそれぞれの結晶の構成単位
になることを反映して、sp3とsp2の中間に位置す
る特別な結合様式をとっている。
は、それぞれ(Ge)20あるいは(Ge)24クラス
タの中にBaが内包され、GeクラスタをGeあるいは
Mnが結びつけているという結合形態を有している。ま
た、Cuを僅かに加えることにより、電子状態のバラン
スを高精度に調節できる特徴を有している。即ち、Cu
の量がこの物質系の特性に影響を与えている。
する組成の物質を混合して、高周波加熱装置でアルゴン
等の不活性雰囲気下で溶融加熱することで生成する。
ることで均一性を上げることができることを見出した。
性クラスレート化合物の結晶構造を示す図であり、図1
(a)はGe20とGe24から構成されるクラスレート化
合物の結晶構造を示す図、図1(b)はそのクラスレー
ト化合物にBa、Mn、Cuをドーパント元素として用
いて構成されるBax Mny Ge46-zで表される磁性ク
ラスレート化合物の結晶構造を示す図である。
されるクラスレート構造に導入することは困難である
が、本発明では、その分量を結晶格子単位当たり2個程
度に抑え、しかも、高周波加熱およびアルゴンプラズマ
下で十分に溶融加熱する工程を施すことにより、合成で
きることを見出した。
ことで、電子状態のバランスを高精度に調節して、室温
以上の臨界温度を示す磁場誘起の遍歴強磁性物質を製造
できることを見出した。
イヤモンド構造を有する従来のGe結晶とは異なり、ク
ラスレートの特異な結合様式により本質的に分散の狭い
バンド構造を示す。このバンド構造は、Baのd軌道と
Geクラスレートのバンドを形成する軌道との混成によ
り大きく変調を受けることが可能である。
n元素の磁性電子と相互作用する過程を通じて、新規な
磁性および電気伝導現象の発現が期待できる。
より高精度に制御できる。従って、従来の結晶とは異な
り、同じ物質でドーピングの制御により、絶縁体から種
々のバンドギャップを有する半導体、さらには強磁性及
び反強磁性にまで及んでその物性を変化させることがで
きる。
在比の多い元素を利用して、高機能の電子素子を作製で
きる可能性を示している。また、バンド分散の狭い特徴
は、外部からの作用に対する変化が極めて鋭敏であり、
このような物性によって従来に無いセンシング機能ある
いは従来の材料より大きな磁気抵抗変化(例えば、巨大
磁気抵抗)特性などを発現させることができる。
タ結晶は炭素およびシリコン原子では生成しない。それ
は現在のところ、歪みが大きく、不安定であると解釈さ
れている。Geクラスタだけが歪みの観点からMnを取
り込むことができる。
の結晶構造において、12面体のゲルマニウムクラスタ
は格子の頂点に位置している。
タが位置しているが、このクラスタは頂点のクラスタに
比較すると90°回転している。これらの12面体のク
ラスタを接続する位置をGe,Mnが2:4で占有して
いる。クラスタを接続する位置のMnとGeの一部を僅
かにCuで置き換えたものが、本発明の新しいクラスタ
結晶である。
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
よれば、以下のような効果を奏することができる。
マニウムクラスレートという従来の結晶とは大きく異な
る構造を基本構造にもつ物質を合成して、絶縁体から種
々のバンドギャップを有する半導体、更には金属および
強磁性ならびに反強磁性と大きくその物性を変化させる
ことのできる磁性クラスレート化合物を提供することが
できる。
性を変化させることができ、低価格で電子素子を作るこ
とができる。
特徴的な分散の狭いバンド構造は、従来よりも外部から
の変化に対し大きな磁気および電導度の変化を示す可能
性があり、特に、その特性を利用したセンサーや磁気抵
抗素子に適用することができる。
ート化合物の結晶構造を示す図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 構成単位がゲルマニウム元素のクラスタ
であるGe20とGe 24から構成されるクラスレート化合
物であって、Ba、Mn、Cuをドーパント元素として
用いて構成される、Bax Mny Ge46-zで表されるこ
とを特徴とする磁性クラスレート化合物。 - 【請求項2】 構成単位がゲルマニウム元素のクラスタ
であるGe20とGe 24から構成されるクラスレート化合
物の製造方法において、 Ba、Mn、Cuをドーパント元素として用いるととも
に、Ba、Mn、Geを所望の量的関係で混合し、高周
波加熱することにより、Bax Mny Ge46-zで表され
るクラスレート化合物を製造することを特徴とする磁性
クラスレート化合物の製造方法。 - 【請求項3】 請求項2記載のクラスレート化合物の製
造方法において、前記高周波加熱は、不活性雰囲気下で
溶融加熱することを特徴とする磁性クラスレート化合物
の製造方法。 - 【請求項4】 請求項2又は3記載のクラスレート化合
物の製造方法において、アルゴンプラズマで再加熱処理
することで均一性を上げることを特徴とする磁性クラス
レート化合物の製造方法。
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---|---|---|---|---|
KR101041751B1 (ko) | 2009-01-30 | 2011-06-17 | 한국과학기술원 | 산소분자의 주입에 의한 클라트레이트 하이드레이트의 자성을 변화시키는 방법 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09183607A (ja) * | 1995-12-28 | 1997-07-15 | Nec Corp | クラスレート化合物およびその製造方法 |
JP2001044519A (ja) * | 1999-08-03 | 2001-02-16 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | クラスレート化合物と高効率熱電材料およびそれらの製造方法と高効率熱電材料を用いた熱電モジュール |
JP2001064006A (ja) * | 1999-08-26 | 2001-03-13 | Yamaguchi Industrial Promotion Foundation | Siクラスレート化合物及びその製造方法、並びに熱電材料 |
JP2001270710A (ja) * | 2000-03-28 | 2001-10-02 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | クラスレート化合物の製造方法 |
JP2001335309A (ja) * | 2000-05-24 | 2001-12-04 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | クラスレート化合物半導体およびその製造方法 |
JP2002029728A (ja) * | 2000-07-12 | 2002-01-29 | Japan Science & Technology Corp | シリコンおよびゲルマニウムクラスレート化合物およびその製造方法 |
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2001
- 2001-06-20 JP JP2001186266A patent/JP4998968B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09183607A (ja) * | 1995-12-28 | 1997-07-15 | Nec Corp | クラスレート化合物およびその製造方法 |
JP2001044519A (ja) * | 1999-08-03 | 2001-02-16 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | クラスレート化合物と高効率熱電材料およびそれらの製造方法と高効率熱電材料を用いた熱電モジュール |
JP2001064006A (ja) * | 1999-08-26 | 2001-03-13 | Yamaguchi Industrial Promotion Foundation | Siクラスレート化合物及びその製造方法、並びに熱電材料 |
JP2001270710A (ja) * | 2000-03-28 | 2001-10-02 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | クラスレート化合物の製造方法 |
JP2001335309A (ja) * | 2000-05-24 | 2001-12-04 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | クラスレート化合物半導体およびその製造方法 |
JP2002029728A (ja) * | 2000-07-12 | 2002-01-29 | Japan Science & Technology Corp | シリコンおよびゲルマニウムクラスレート化合物およびその製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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