JP2003001963A - 平版印刷原版およびその製造方法 - Google Patents

平版印刷原版およびその製造方法

Info

Publication number
JP2003001963A
JP2003001963A JP2001189530A JP2001189530A JP2003001963A JP 2003001963 A JP2003001963 A JP 2003001963A JP 2001189530 A JP2001189530 A JP 2001189530A JP 2001189530 A JP2001189530 A JP 2001189530A JP 2003001963 A JP2003001963 A JP 2003001963A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
acid
support
lithographic printing
roughening treatment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001189530A
Other languages
English (en)
Inventor
Mutsumi Matsuura
睦 松浦
Akio Uesugi
彰男 上杉
Hideki Miwa
英樹 三輪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2001189530A priority Critical patent/JP2003001963A/ja
Publication of JP2003001963A publication Critical patent/JP2003001963A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐刷性に優れ、ブラン汚れ及びポツ汚れ等
が発生することの無いレーザ製版型の平版印刷原版とそ
の製造方法の提供。 【解決手段】アルミニウム板の少なくとも一方の面に粗
面化処理を施してなる平版印刷板用支持体であって、前
記粗面化処理において、平均粒径が5〜70μmであ
り、粒子中のSiO2の含有量が60重量%以上である
研磨材粒子を供給しつつ、回転ブラシで擦る機械的粗面
化処理を施し、次いでエッチング処理を施し、さらに酸
性電解液中で電解処理する電解粗面化処理を施してなる
平版印刷板用支持体と、前記支持体における前記粗面化
処理を施した粗面化面に積層されたポジ型赤外線レーザ
感光層とを備える平版印刷原版、およびその製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷原版およ
びその製造方法に関し、特に、赤外線レーザで直接印刷
画像を書き込むことができるとともに、オフセット印刷
機のブランケット胴にも印刷紙面にも汚れを生じさせな
い平版印刷版が得られる平版印刷原版およびその製造方
法が提供される。
【0002】
【従来の技術】平版印刷版の支持体は、一般的に、アル
ミニウム板又はアルミニウム合金板など(以下、「アル
ミニウム板等」という。)の表面に、ローラ状ワイヤブ
ラシなどによる機械的粗面化処理を施し、次いでアルカ
リ溶液によるエッチング処理、電解粗面化処理、及び陽
極酸化処理などを順次施すことにより製造される。
【0003】前記機械的粗面化処理においては、粒子状
の研磨材を水などに懸濁させたスラリー状の研磨剤を供
給しつつローラ状ワイヤブラシなどにより研磨するのが
一般的であった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記製
造方法においては、機械的粗面化処理において、アルミ
ニウム板などの表面に、前記ローラ状ワイヤブラシに擦
られた長さ1mm程度の傷、及び研磨材が刺さることに
よる多数の凹みが形成され、前記傷及び凹みが、その後
のエッチング処理及び電解粗面化処理などによっても除
去されずに残ることがあった。
【0005】このような支持体に感光層を形成した平版
印刷原版から作製された刷版は、耐刷性が低く、前記刷
版を用いて印刷を行うと、印刷機のブランケットロール
における非画像部にインキが付着する所謂ブラン汚れが
生じたり、前記刷版において研磨材が刺さって生じた傷
にインキが入って生じるポツ汚れなどが印刷紙面の非画
像部に発生したりすることがあった。
【0006】本発明は、前記事実を考慮し、耐刷性に優
れ、ブラン汚れ及びポツ汚れなどが発生することの無い
平版印刷原版とその製造方法を提供することを目的とす
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、アルミニウム板の少なくとも一方の面に粗面化処理
を施してなる平版印刷版用支持体であって、前記粗面化
処理において、平均粒径が5〜70μmであり、SiO
2粒子の含有量が60重量%以上である研磨材粒子を供
給しつつ、回転ブラシで擦る機械的粗面化処理を施し、
次いでエッチング処理を施し、さらに酸性電解液中で電
解処理する電解粗面化処理を施してなる平版印刷版用支
持体と、前記支持体における前記粗面化処理を施した粗
面化面に積層されてなり、赤外線レーザを照射すると現
像液への溶解性が増大するポジ型赤外線レーザ感光層と
を備えてなることを特徴とする平版印刷原版に関する。
【0008】前記平版印刷原版においては、前記ポジ型
赤外線レーザ感光層に赤外線レーザ光を照射すると、前
記赤外線レーザ光を照射した部分のみが現像液に溶ける
ようになる。
【0009】したがって、前記ポジ型赤外線レーザ感光
層において、印刷画像を形成しようとする部分を残して
赤外線レーザ光で走査・露光し、次いで現像すれば、印
刷画像の部分のみが残存し、非画像部は現像液に溶解す
るから、赤外線レーザ光で走査することにより、直接に
印刷画像を形成できる。
【0010】また、前記平版印刷原版は、可視光には殆
ど感じないから、露光・現像を暗室で行なう必要が無
い。
【0011】さらに、前記平版印刷原版を露光・現像し
た平版印刷版は、耐刷性に優れ、印刷枚数が多くなって
もブラン汚れやポツ汚れなどが生じることがない。
【0012】また、前記研磨材粒子は、SiO2の含有
量が多いから、硬度が高く、前記機械的粗面化処理にお
いて粉砕されることが少ない。
【0013】さらに、前記電解粗面化処理により、前記
支持体の粗面化面の全面に、細孔が密集してハニカム状
を呈するハニカムピットが形成されるから、前記平版印
刷原版を露光・現像した平版印刷版は、非画像部の保水
性に優れている。
【0014】請求項2に記載の発明は、前記酸性電解液
が、主要な酸成分として硝酸を含有してなる平版印刷原
版に関する。
【0015】前記平版印刷原版における支持体は、前記
粗面化処理において、前記アルミニウム板を、主要な酸
成分として硝酸を含有する酸性電解液中で電解粗面化処
理したものである。
【0016】請求項3に記載の発明は、前記支持体が、
未エッチ率が50%以下であり、平均直径が0.3〜3
μmのピットが全面に形成された粗面化面を有してなる
平版印刷原版に関する。
【0017】前記平版印刷原版は、粗面化面の保水性に
特に優れている。
【0018】請求項4に記載の発明は、前記酸性電解液
が、主要な酸成分として塩酸を含有してなる平版印刷原
版に関する。
【0019】前記平版印刷原版における支持体は、前記
粗面化処理において、前記アルミニウム板を、主要な酸
成分として塩酸を含有する酸性電解液中で電解粗面化処
理したものである。
【0020】前記平版印刷原版は、前記電解粗面化に必
要な電気量が少なくて済むという特長を有している。
【0021】請求項5に記載の発明は、前記支持体が、
未エッチ率が50%以下であり、平均直径が0.1〜
1.5μmのピットが全面に形成された粗面化面を有し
てなる平版印刷原版である。
【0022】前記平版印刷原版は、前記電解粗面化に必
要な電気量が少なくて済むだけでなく、粗面化面の保水
性に特に優れている。
【0023】請求項6に記載の発明は、前記支持体が、
前記アルミニウム板を粗面化処理した後に陽極酸化処理
を施し、前記粗面化面に陽極酸化皮膜を形成してなる平
版印刷原版に関する。
【0024】前記平版印刷原版を露光・現像した平版印
刷版は、耐刷力に優れ、印刷枚数が多くなっても印刷紙
面に外観不良が発生することが無いから、耐刷性及び印
刷紙面の画質が厳しく要求される新聞用及び週刊誌用の
オフセット刷版として特に好適である。
【0025】請求項7に記載の発明は、前記アルミニウ
ム板が、Cu量が0.005重量%以下であり、Al含
有量が99.7重量%以上である平版印刷原版である。
【0026】前記平版印刷原版においては、高純度のア
ルミニウムからなるアルミニウム板を使用しているか
ら、アルミニウム板中の不純物が表面に析出してブラン
汚れおよびポツ汚れの原因になることが防止できる。
【0027】請求項8に記載の発明は、アルミニウム板
の少なくとも一方の面を粗面化処理して支持体を作製す
る粗面化工程と、赤外線レーザを照射すると現像液への
溶解性が増大するポジ型赤外線レーザ感光層を、前記平
版印刷版用支持体における前記粗面化処理を施した粗面
化面に積層する感光層形成工程とを備えてなり、前記粗
面化工程において、平均粒径が5〜70μmであり、粒
子中のSiO2の含有量が60重量%以上である研磨材
粒子を供給しつつ、回転ブラシで擦る機械的粗面化処理
を施すことを特徴とする平版印刷原版の製造方法に関す
る。
【0028】前記製法方法によれば、前記請求項1〜8
に記載の平版印刷原版が能率的に製造できる。
【0029】
【発明の実施の形態】前述のように、本発明の平版印刷
原版は、アルミニウム板の少なくとも一方の面に粗面化
処理を施した支持体の粗面化面にポジ型赤外線レーザ感
光層を積層した平版印刷原版である。以下、前記支持体
および前記ポジ型赤外線レーザ感光層について詳細に説
明する。
【0030】1.支持体 前記支持体は、前述のように、前記アルミニウム板の少
なくとも一方の面に機械的粗面化処理を含む粗面化処理
を施すことにより、製造される。
【0031】前記アルミニウム板としては、たとえば純
アルミニウム及びアルミニウム合金(以下「アルミニウ
ム等」という。)の板ないしシートなどが使用される。
【0032】前記アルミニウム等としては、たとえばJ
IS A−1050材、JIS A−1100材、JI
S A−3003材、JIS A−3103材、及びJ
ISA−5005材などが挙げられる。
【0033】以下、前記粗面化処理について詳細に説明
する。
【0034】1−1 粗面化処理 A.機械的粗面化処理 前記機械的粗面化処理においては、特定の範囲の平均粒
径及び粒径分布を有し、SiO2粒子を主成分とする研
磨材粒子を前記アルミニウム板における少なくとも一方
の面に供給しつつ、回転ブラシで擦る。
【0035】前記機械的粗面化処理において使用される
研磨材粒子は、平均粒径が5〜70μmの範囲であり、
8〜40μmの範囲が好ましく、8〜30μmの範囲が
最も好ましい。
【0036】前記研磨材粒子におけるSiO2粒子の含
有量は、60重量%以上が望ましい。
【0037】機械的粗面化工程において前述の研磨材粒
子を使用すれば、アルミニウムウェブ10の表面に研磨
材粒子が食い込んだり、前記表面が粒径の大きな研磨材
粒子によって抉られたりすることがないから、オフセッ
ト印刷機のゴム胴が汚れる所謂ブラン汚れ、及び印刷紙
面のポツ汚れなどに繋がる大きな傷が支持体の表面につ
くことがない。
【0038】前記研磨材粒子は、たとえばスラリーなど
として使用することができる。前記スラリーとしては、
前記研磨材粒子を5〜70重量%程度の濃度で水中に懸
濁させた懸濁液などが挙げられる。前記懸濁液には、他
に、増粘剤、界面活性剤などの分散剤、及び防腐剤など
を配合してもよい。
【0039】機械的粗面化処理は、たとえば、回転ブラ
シとして、円筒形の胴の表面にブラシ毛を多数植設した
ローラ状ブラシを備える研磨装置を用いて行うことがで
きる。
【0040】前記研磨装置としては、図1に示すよう
に、本発明におけるアルミニウム板の一例であるアルミ
ニウムウェブ10の搬送経路に沿った仮想面である搬送
面Tの上方に配設された2本のローラ状ブラシ2と、ロ
ーラ状ブラシ2のそれぞれに対し、前記搬送面Tを挟ん
で反対側に設けられた2対の支持ローラ4A、4Bとを
備える研磨装置が挙げられる。支持ローラ4Aは、搬送
方向(矢印aで示す。)に対して、ローラ状ブラシ2よ
りも下流側に配置され、支持ローラ4Bは、搬送方向a
に対して、ローラ状ブラシ2よりも上流側に配置されて
いる。
【0041】前記研磨装置においては、更に、前記搬送
面Tよりも上方において、それぞれのローラ状ブラシ2
の上流側に、前記研磨材粒子のスラリーを供給する研磨
材スラリー供給槽6が設けられている。
【0042】前記研磨装置においては、ローラ状ブラシ
2と支持ローラ4A、4Bとの組の数は2つには限定さ
れない。前記研磨装置としては、ローラ状ブラシ2と支
持ローラ4A、4Bとの組を1つだけ有するものも使用
でき、又、前記組を3つ以上有するものも使用できる。
ローラ状ブラシ2と支持ローラ4A、4Bとの組を1つ
だけ有する研磨装置においては、研磨材スラリー供給槽
6をローラ状ブラシ2の上流側に1つ設ければよく、前
記組を3つ以上有する研磨装置においては、研磨材スラ
リー供給槽6を、それぞれの組につき、1つづつ設けれ
ばよい。
【0043】ローラ状ブラシ2としては、搬送面Tに対
して平行であり、搬送方向aに対して直角な軸線を有す
る胴2Aと、胴2Aの側面に、半径方向に沿って外方向
に向かって植設されたブラシ毛2Bとを有する芯付ブラ
シローラを挙げることができる。
【0044】ブラシ毛2Bは、直径が0.15〜1.3
5mmであることが好ましく、長さが10〜100mm
の範囲であることが好ましい。ブラシ毛2Bは、胴2A
に、30〜5,000本/cm2の植毛密度で植設され
ていることが好ましい。ブラシ毛2Bの直径及び植設密
度が前記範囲のローラ状ブラシを使用すれば、前記機械
的粗面化処理において、アルミニウム板の表面に所謂ブ
ラン汚れに繋がるような大きく不均一な傷がつくことが
ない。
【0045】ブラシ毛2Bとしては、ナイロン、プロピ
レン、及び塩化ビニル樹脂などの合成樹脂からなる合成
樹脂毛、牛毛、豚毛、及び馬毛などの動物毛、並びに羊
毛などの天然繊維からなる毛などのブラシ材が挙げられ
る。
【0046】ブラシ毛2Bは、胴2Aに、1本づつ植設
してもよく、複数本、たとえば10〜5000本づつ束
ねて植設してもよい。
【0047】ローラ状ブラシ2の回転速度は、100〜
1000回転/分程度が好ましく、又、回転方向bは、
アルミニウムウェブ10における研磨面において、アル
ミニウムウェブ10の搬送方向aと同方向であっても反
対方向であってもよい。
【0048】前記研磨装置においては、アルミニウムウ
ェブ10は、下面から支持ローラ4A及び4Bにより支
持され、上面において、ブラシ毛2Bによって擦られて
粗面化される。
【0049】アルミニウムウェブ10などのアルミニウ
ム板には、機械的粗面化処理に引きづついて、後述する
エッチング処理及び電解粗面化処理の少なくとも一方を
施すことができる。又、電解粗面化処理の後に更に第2
回目のエッチング処理を施してもよい。更に、第1回目
のエッチング処理、第1回目のデスマット処理、電解粗
面化処理、第2回目のエッチング処理、及び第2回目の
デスマット処理をこの順で施してもよい。
【0050】B.エッチング処理 エッチング処理は、通常、アルカリ溶液を用いて行な
う。
【0051】前記アルカリ溶液としては、苛性アルカリ
及びアルカリ金属塩の溶液などが挙げられる。前記溶液
における苛性アルカリ及びアルカリ金属塩の濃度は0.
01〜30重量%が好ましく、温度は20〜90℃の範
囲が好ましい。
【0052】苛性アルカリとしては、苛性ソーダ及び苛
性カリなどが挙げられる。
【0053】前記アルカリ金属塩としては、メタ珪酸ソ
ーダ、珪酸ソーダ、メタ珪酸カリ、及び珪酸カリなどの
アルカリ金属珪酸塩、炭酸ソーダ及び炭酸カリなどのア
ルカリ金属炭酸塩、アルミン酸ソーダ及びアルミン酸カ
リなどのアルカリ金属アルミン酸塩、グルコン酸ソーダ
及びグルコン酸カリなどのアルカリ金属アルドン酸塩、
並びに第二燐酸ソーダ、第二燐酸カリ、第三燐酸ソー
ダ、及び第三燐酸カリなどのアルカリ金属燐酸水素塩な
どが挙げられる。前記アルカリ溶液としては、エッチン
グ速度が速い点、及び安価である点から苛性アルカリの
溶液が特に好ましい。
【0054】エッチング量は、0.1〜20g/m2
範囲が好ましく、1〜15g/m2の範囲が特に好まし
く、2〜10g/m2の範囲が最も好ましい。エッチン
グ時間は、5秒〜5分の範囲が好ましい。エッチング量
及びエッチング時間が前記範囲内であれば、機械的粗面
化処理で支持体の表面に形成された凹凸が適度に残存す
るから、非画像部における保水性が高く、非画像部にイ
ンキが付着してブラン汚れなどの外観不良を生じさせる
ことのない平版印刷原版の支持体となる支持体が得られ
る。
【0055】エッチング処理は、アルミニウム板のエッ
チング処理に通常に使用されるエッチング槽を用いて行
うことができる。前記エッチング槽としては、バッチ式
及び連続式の何れも使用できる。また、前記アルミニウ
ム板の粗面化面に前記アルカリ溶液を噴霧することによ
り、前記エッチング処理を行なってもよい。
【0056】尚、エッチング処理と次の電解粗面化処理
との間に、アルミニウム板の表面に残存し、アルカリ溶
液に不要な残滓を除去する第1回目のデスマット処理を
行ってもよい。第1回目のデスマット処理は、たとえば
エッチング処理後のアルミニウム板を水洗し、次いで硝
酸、燐酸、硫酸、クロム酸などの強酸、又はこれらの混
合物で処理することにより、行うことができる。
【0057】C.電解粗面化処理 電解粗面化処理においては、前記エッチング処理された
アルミニウム板を、たとえば酸性電解液中で交流を印加
して交流電解する。
【0058】酸性電解液としては、たとえば、硫酸、塩
酸、及び硝酸の少なくとも1種を含有する電解液が挙げ
られる。前記酸性電解液中の硫酸、塩酸、及び硝酸の濃
度は、電解条件などに応じて適宜定めることができる
が、合計で0.3〜15重量%の範囲が好ましい。前記
酸性電解液には、他に、必要に応じて蓚酸、酢酸、クエ
ン酸、酒石酸、及び乳酸などの有機酸類、燐酸、クロム
酸、硝酸塩、塩化物、アミン類、並びにアルデヒド類な
どを配合してもよい。酸性電解液は、アルミニウムイオ
ンを含んでいてもよいが、アルミニウムイオンの含有量
は50g/リットル以下が好ましい。酸性電解液の温度
も又、電解条件などに応じて適宜定めることができる
が、30〜80℃の範囲が好ましい。
【0059】アルミニウム板に印加する交流の周波数
は、0.1〜100Hzの範囲が好ましく、電圧は、陽
極時電圧を基準にして10〜50Vの範囲が好ましい。
陰極時電圧は、陽極時電圧と同一であってもよく、陽極
時電圧よりも小さくてもよい。
【0060】電流密度は、5〜100A/dm2の範囲
が好ましく、陽極電気量は、20〜600クーロン/d
2の範囲が好ましい。
【0061】前記交流は、正弦波電流であってもよく、
矩形波電流であってもよく、特開昭52−58602号
公報に記載されているような台形波電流であってもよ
い。
【0062】前記交流電解処理においては、バッチ式及
び連続式の交流電解槽が使用できる。前記連続式交流電
解槽としては、たとえば 図2に示す形態のものが挙げ
られる。
【0063】前記連続式交流電解槽は、図2に示すよう
に、酸性電解液が貯留される電解槽12Aが内部に設け
られた電解槽本体12と、電解槽12A内部において、
水平方向に伸びる軸線の周りに回転可能に形成され、矢
印aの方向、即ち図2における左方から右方に向かって
アルミニウムウェブ10を送るウェブ送りローラ14と
を備えている。
【0064】電解槽12Aは、周面が、ウェブ送りロー
ラ14を囲むように略円筒状に形成され、前記周面上に
は、ウェブ送りローラ14を挟んで2組の電極群16A
及び16Bが設けられている。
【0065】電極群16A及び16Bにおいては、何れ
も電極16Cと絶縁板16Dとが交互に配置され、交流
電源ACから交流電流が供給される。
【0066】電解槽12Aの上部は、アルミニウムウェ
ブ10が通過できるように開口部12Bが形成され、開
口部12Bには、電解槽12Aに酸性電解液を補充する
電解液供給管18が設けられている。
【0067】電解槽12Aの上方には、アルミニウムウ
ェブ10を電解槽12A内部に案内する上流側案内ロー
ラ20と、電解槽12A内で電解処理されたアルミニウ
ムウェブ10を電解槽12Aの外部に案内する一群の下
流側案内ローラ22とが配設されている。
【0068】電解槽本体12における電解槽12Aの下
流側には、アルミニウムウェブ10に接触しつつ、電流
を供給する給電電極24が設けられている。給電電極2
4も、ダイオードDiを介して交流電源ACに接続され
ている。
【0069】給電電極24の下流側には、電解槽12A
からの酸性電解液が溢れ出て排出される電解液排出管2
6が設けられている。
【0070】図2における左方から、上流側案内ローラ
20によって電解槽12A内部に案内されたアルミニウ
ムウェブ10は、ウェブ送りローラ14によって図2に
おける反時計回りの方向に送られる。そして、下流側案
内ローラ22によって電解槽12Aの外に導かれる。
【0071】電解槽12Aを出たアルミニウムウェブ1
0は、給電電極24に接触しつつ、図2における右方に
送られるから、アルミニウムウェブ10には、交流電源
ACからの交流電流がダイオードDiで整流された直流
が給電電極24から印加される。一方、電極群16A及
び16Bには、何れも交流電源ACから交流電流が印加
される。したがって、アルミニウムウェブ10は、電解
槽12Aの内部で交流電解される。
【0072】電解粗面化処理の後に、第2回目のエッチ
ング処理を行うことができる。
【0073】第2回目のエッチング処理は、pH10以
上のアルカリ溶液中で行なうことができる。前記アルカ
リ溶液としては、具体的には、前記エッチング処理のと
ころで述べたアルカリ溶液と同様の溶液が挙げられる。
アルカリ溶液の温度は25〜60℃の範囲が好ましい。
エッチング量は、0.1〜5g/m2が好ましい。エッ
チング時間は、エッチング量、アルカリ溶液の組成、及
び前記アルカリ溶液の液温などに応じて適宜定めること
ができるが、たとえば1〜10秒の範囲が好ましい。
【0074】前記エッチング処理を行った後のアルミニ
ウム板を、温度が25〜65℃であり、硫酸の濃度が5
〜40重量%の硫酸水溶液に浸漬して第2回目のデスマ
ット処理を行なってもよい。
【0075】1−2 陽極酸化処理 陽極酸化処理においては、前記粗面化処理が施されたア
ルミニウム板を、常法に従って陽極酸化処理する。
【0076】陽極酸化処理においては、たとえば硫酸、
燐酸、蓚酸、クロム酸、及びアミドスルホン酸の少なく
とも1種を含有する電解液中で、前記アルミニウム板に
直流又は脈流を印加する。
【0077】陽極酸化処理に使用される電解液として
は、前記電解液のほかに、硫酸、燐酸、蓚酸、クロム
酸、及びアミドスルホン酸の少なくとも1種とアルミニ
ウムイオンとを含有するものも挙げられる。
【0078】電解液における電解質の濃度は、1〜80
重量%の範囲が好ましく、温度は、5〜70℃の範囲が
好ましい。
【0079】陽極酸化処理は、陽極酸化皮膜の量が0.
1〜10g/m2になるように行なうことが、支持体の
耐磨耗性、ひいては前記支持体を支持体とする平版印刷
原版の耐久性の点から好ましく、電流密度は、0.5〜
60A/dm2の範囲が好ましく、電圧は、1〜100
Vの範囲が好ましい。電解時間は1秒〜5分の範囲が好
ましい。
【0080】2.平版印刷原版 本発明の平版印刷原版において、前記支持体の粗面化面
上に形成されるポジ型赤外線レーザ感光層については、
以下の通りである。
【0081】A.ポジ型赤外線レーザ感光層 ポジ型赤外線レーザ感光層は、赤外線レーザを照射する
などして加熱することにより、アルカリ可溶化する層で
あり、前記性質を有する赤外線レーザ用ポジ型感光性組
成物(以下、単に「感光性組成物」という。)を含有す
る。
【0082】前記感光性組成物は、少なくとも、(A)
アルカリ可溶性高分子化合物(以下、「(A)成分とい
うことがある。」)、(B)アルカリ溶解阻害性化合物
(以下、「(B)成分ということがある。」)、および
(C)光発熱性化合物(以下、「(C)成分ということ
がある。」)を含有し、更に必要に応じて、(D)その
他の成分(以下、「(D)成分ということがある。」)
を含有する。
【0083】(A)成分 (A)成分としては、従来公知のアルカリ溶液に可溶な
高分子化合物を用いることができるが、分子内に、フェ
ノール性水酸基、スルホンアミド基、および活性イミド
基のうち、少なくとも1種の官能基を有する高分子化合
物が好ましい。
【0084】前記高分子化合物としては、例えば、
(1)フェノール性水酸記を有するフェノール基含有高
分子化合物、(2)スルホンアミド基を有するスルホン
アミド基含有高分子化合物、および(3)活性イミド基
を有する活性イミド基含有高分子化合物が挙げられる
が、これらの高分子化合物には限定されない。
【0085】(1)フェノール基含有高分子化合物とし
ては、フェノール、クレゾール、およびピロガロールな
どのフェノール系化合物と、ケトンまたはアセトンとの
重縮合物である主鎖フェノール型高分子化合物が挙げら
れる。前記主鎖フェノール型高分子化合物としては、例
えば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデ
ヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド
樹脂、フェノール/クレゾール(m−、p−およびm−
/p−混合のいずれでもよい。)混合ホルムアルデヒド
樹脂などのノボラック樹脂、およびピロガロールアセト
ン樹脂などが挙げられる。
【0086】フェノール基含有高分子化合物としては、
この他に、側鎖にフェノール性水酸基を有する側鎖フェ
ノール型高分子化合物が挙げられる。
【0087】側鎖フェノール型高分子化合物としては、
重合反応可能な不飽和結合であるエチレン性不飽和結合
とフェノール性水酸基とをそれぞれ一つ以上有するフェ
ノール基含有ビニルモノマーの単独重合体および共重合
体などが挙げられる。
【0088】前記フェノール基含有ビニルモノマーとし
ては、例えば、フェノール性水酸基を有する(メタ)ア
クリルアミドであるフェノール基含有(メタ)アクリル
アミド、フェノール性水酸基を有する(メタ)アクリル
酸エステルであるフェノール基含有(メタ)アクリル酸
エステル、およびヒドロキシスチレンなどのようにスチ
レンまたはその誘導体のフェニル基に1個以上の水酸基
が結合した水酸基含有スチレン系化合物などが挙げられ
る。
【0089】フェノール基含有(メタ)アクリルアミド
としては、具体的には、N−(2−ヒドロキシフェニ
ル)アクリルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)
アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アク
リルアミド、N−(2−ヒドロキシフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)メタクリル
アミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルア
ミドなどが挙げられる。
【0090】フェノール基含有(メタ)アクリル酸エス
テルとしては、具体的には、o−ヒドロキシフェニルア
クリレート、m−ヒドロキシフェニルアクリレート、p
−ヒドロキシフェニルアクリレート、o−ヒドロキシフ
ェニルメタクリレート、m−ヒドロキシフェニルメタク
リレート、p−ヒドロキシフェニルメタクリレート、o
−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−
ヒドロキシスチレン、2−(2−ヒドロキシフェニル)
エチルアクリレート、2−(3−ヒドロキシフェニル)
エチルアクリレート、2−(4−ヒドロキシフェニル)
エチルアクリレート、2−(2−ヒドロキシフェニル)
エチルメタクリレート、2−(3−ヒドロキシフェニ
ル)エチルメタクリレート、2−(4−ヒドロキシフェ
ニル)エチルメタクリレートなどを好適に使用すること
ができる。
【0091】かかるフェノール基含有高分子化合物は、
2種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0092】更に、米国特許第4,123,279号明
細書に記載されているように、t−ブチルフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基
として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合
体を併用してもよい。
【0093】(2)スルホンアミド基含有高分子化合物
としては、例えば、スルホンアミド基を有するスルホン
アミド基含有モノマーの単独重合体および共重合体など
が挙げられる。
【0094】スルホンアミド基含有モノマーとしては、
例えば、1分子中に、窒素原子上に少なくとも一つの水
素原子が結合したスルホンアミド基である−NH−SO
2−とエチレン性不飽和結合とをそれぞれ一つ以上有す
るスルホンアミド基含有ビニルモノマーが挙げられる。
その中でも、アクリロイル基、アリル基またはビニロキ
シ基と、モノ置換アミノスルホニル基または置換スルホ
ニルイミノ基とを有する化合物が好ましい。このような
化合物としては、例えば、下記一般式(I)〜(III)
で示される化合物が挙げられる。
【0095】
【化1】
【0096】(式中、X1およびX2は、それぞれ−O−
または−NR7−を示す。R1およびR 4は、それぞれ水
素原子または−CH3を表す。R2、R5、およびR9は、
それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜12のア
ルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、また
はアラルキレン基を表す。R3、およびR7は、水素原子
またはそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜1
2のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基または
アラルキル基を表す。また、R6は、それぞれ置換基を
有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基またはアラルキル基を示す。R
8は、水素原子または−CH3を表す。)前記スルホンア
ミド基含有モノマーとしては、具体的には、m−アミノ
スルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−ア
ミノスルホニルフェニル)アクリルアミドなどを好適に
使用することができる。
【0097】(3)活性イミド基含有高分子化合物は、
下記式で表される活性イミド基を分子内に有するものが
好ましい。このような高分子化合物としては、1分子中
に、エチレン性不飽和結合と下記式で表される活性イミ
ド基とをそれぞれ一つ以上有するモノマーである活性イ
ミド基含有ビニルモノマーの単独重合体および共重合体
などが挙げられる。
【0098】
【化2】
【0099】前記活性イミド基含有高分子化合物として
は、具体的には、N−(p−トルエンスルホニル)メタ
クリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリ
ルアミドなどを好適に使用することができる。
【0100】アルカリ可溶性高分子化合物(A)として
は、前記フェノール基含有ビニルモノマー、前記スルホ
ンアミド基含有ビニルモノマー、および前記活性イミド
基含有ビニルモノマーから選択される2種類以上のモノ
マーの共重合体、ならびに、前記フェノール基含有ビニ
ルモノマー、前記スルホンアミド基含有ビニルモノマ
ー、および前記活性イミド基含有ビニルモノマーから選
択されるモノマーであるアルカリ可溶性付与モノマーと
その他のモノマーとの共重合体が好適に挙げられる。
【0101】アルカリ可溶性高分子化合物(A)が、前
記フェノール基含有ビニルモノマー、前記スルホンアミ
ド基含有ビニルモノマー、および前記活性イミド基含有
ビニルモノマーから選択される2種類以上のモノマーの
共重合体である場合には、前記フェノール基含有ビニル
モノマーと、前記スルホンアミド基含有ビニルモノマー
および前記活性イミド基含有ビニルモノマーの合計との
共重合比は、重量比で50:50から5:95の範囲に
あるのが好ましく、40:60から10:90の範囲に
あるのがより好ましい。
【0102】アルカリ可溶性高分子化合物(A)が、前
記アルカリ可溶性付与モノマーとその他のモノマーとの
共重合体である場合には、前記アルカリ可溶性付与モノ
マーの共重合比が、仕込みモル比で10モル%以上のも
のが好ましく、20モル%以上のものがより好ましい。
前記アルカリ可溶性付与モノマーの共重合比が10モル
%以上であれば、充分なアルカリ可溶性が得られ、した
がって、現像ラチチュードの向上効果が十分達成され
る。
【0103】前記アルカリ可溶性付与モノマーと共重合
させるモノマーとしては、例えば、下記(1)〜(1
2)に挙げるモノマーを用いることができるが、これら
に限定されるものではない。
【0104】(1)2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレートなどの脂肪族
水酸基を有する水酸基含有(メタ)アクリル酸エステル
類。
【0105】(2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル
酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、
アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、
グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノエチルア
クリレートなどのアクリル酸アルキルエステル類。
【0106】(3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、
メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリ
ル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリ
ル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、
N−ジメチルアミノエチルメタクリレートなどのメタク
リル酸アルキルエステル類。
【0107】(4)アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリ
ルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロ
ヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリ
ルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフ
ェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアク
リルアミドなどのアクリルアミドおよびメタクリルアミ
ド。
【0108】(5)エチルビニルエーテル、2−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなど
のビニルエーテル類。
【0109】(6)ビニルアセテート、ビニルクロロア
セテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニルなどのビ
ニルエステル類。
【0110】(7)スチレン、α−メチルスチレン、メ
チルスチレン、クロロメチルスチレンなどのスチレン
類。
【0111】(8)メチルビニルケトン、エチルビニル
ケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン
などのビニルケトン類。
【0112】(9)エチレン、プロピレン、イソブチレ
ン、ブタジエン、イソプレンなどのオレフィン類。
【0113】(10)N−ビニルピロリドン、N−ビニ
ルカルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリルなどの含窒素ビニル化合物類。
【0114】(11)マレイミド、N−アクリロイルア
クリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プ
ロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾ
イル)メタクリルアミドなどの不飽和イミド類。
【0115】(12)アクリル酸、メタクリル酸、無水
マレイン酸、イタコン酸などの不飽和カルボン酸類。
【0116】本発明においてアルカリ可溶性高分子化合
物が、前記アルカリ可溶性付与モノマーの単独重合体ま
たは共重合体である場合、重量平均分子量は、2,00
0以上であり、数平均分子量は、500以上であるもの
が好ましい。重量平均分子量は、5,000〜300,
000であり、数平均分子量は、800〜250,00
0であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が
1.1〜10であれば、より好ましい。
【0117】また、アルカリ可溶性高分子化合物(A)
がフェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールアルデ
ヒド樹脂などの主鎖フェノール型高分子化合物である場
合には、重量平均分子量が500〜20,000であ
り、数平均分子量が200〜10,000であるものが
好ましい。
【0118】アルカリ可溶性高分子化合物(A)は、単
独で用いても、2種類以上を組み合わせて用いてもよ
い。アルカリ可溶性高分子化合物(A)は、ポジ型赤外
線レーザ感光層の全固形分中、好ましくは30〜99重
量%、より好ましくは40〜95重量%、特に好ましく
は50〜90重量%を占めることが好ましい。アルカリ
可溶性高分子化合物の添加量が30重量%以上であれ
ば、感光層の耐久性は良好であり、また、99重量%以
下であれば、感度および耐久性の両面で好ましい。
【0119】(B)成分 (B)成分、すなわちアルカリ溶解阻害性化合物(B)
は、前記アルカリ可溶性高分子化合物(A)と相溶する
ことにより、前記アルカリ可溶性高分子化合物(A)の
アルカリ水溶液への可溶性を低下させるが、加熱により
該可溶性低下作用が減少する化合物である。
【0120】アルカリ溶解阻害性化合物(B)は、分子
内に存在する水素結合性の官能基の働きにより、アルカ
リ可溶性高分子化合物(A)との相溶性が良好であるか
ら、アルカリ可溶性高分子化合物(A)とともに適宜の
溶媒に溶解させることにより、均一な塗布液を形成でき
るが、アルカリ可溶性高分子化合物(A)との相互作用
により、アルカリ可溶性高分子化合物(A)のアルカリ
可溶性を抑制する機能を有する。
【0121】また、この化合物は、加熱によりこの可溶
性低下作用が消滅するが、(B)成分自体が加熱により
分解する化合物である場合、分解に十分なエネルギーが
レーザの出力や照射時間などの条件によって付与されな
いと、可溶性の抑制作用の低下が不十分となり、ポジ型
赤外線レーザ感光層の感度が低下するおそれがあるた
め、(B)成分の熱分解温度は150℃以上であること
が好ましい。
【0122】本発明に用いられる好適な(B)成分とし
ては、例えば、スルホン化合物、アンモニウム塩、ホス
ホニウム塩、アミド化合物などの前記(A)成分と相互
作用する化合物が挙げられる。(B)成分は、上述した
ように、(A)成分との相互作用を考慮して適宜選択さ
れるべきであり、具体的には、例えば、(A)成分とし
てノボラック樹脂を単独で用いる場合、後に例示するシ
アニン染料Aなどが好適に用いられる。
【0123】(A)成分と(B)成分との配合比は、通
常、99/1〜75/25の範囲であるのが好ましい。
(A)成分と(B)成分との配合比が前記範囲内であれ
ば、(B)成分と(A)成分とが適度に相互作用するか
ら、(B)成分によって(A)成分のアルカリ可溶性を
阻害できるから、良好な画像が形成でき、しかも、充分
な感度が得られる。
【0124】(C)成分 光発熱性化合物(C)、すなわち(C)成分は、赤外線
レーザ光を吸収して発熱する化合物であり、700nm
以上、好ましくは750〜1200nmの赤外域に光吸
収域があり、この範囲の波長の光において、光/熱変換
能を発現する化合物が挙げられる。
【0125】前記化合物としては、具体的には、この波
長域の光を吸収し熱を発生する顔料および染料などが挙
げられる。
【0126】前記顔料としては、市販の顔料またはカラ
ーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」
(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応
用技術」(CMC出版、1986年刊)および「印刷イ
ンキ技術」(CMC出版、1984年刊)に記載されて
いる顔料が利用できる。
【0127】前記顔料について、さらに詳説する。
【0128】前記顔料には、例えば、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、ポリマー
結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、
アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フ
タロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン
およびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリ
ドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系
顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン
顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔
料、無機顔料、カーボンブラックなどがある。
【0129】前記顔料のうち、最も好ましいものとして
は、カーボンブラックが挙げられる。
【0130】これらの顔料は、表面処理をせずに用いて
もよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカッ
プリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート)を
顔料表面に結合させる方法などが挙げられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)およ
び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)
に記載されている。
【0131】前記顔料の粒径は、0.01μm以上であ
れば、分散物が感光層塗布液中で安定であり、10μm
以下であれば、均一なポジ型赤外線レーザ感光層が形成
できるから好ましい。前記顔料の粒径は、0.05〜1
μmの範囲がより好ましく、0.1〜1μmの範囲が特
に好ましい。
【0132】前記顔料を分散する方法としては、インク
製造やトナー製造などに用いられる公知の分散技術が使
用できる。分散機としては、例えば、超音波分散器、サ
ンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、
ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コ
ロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニー
ダーが挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(C
MC出版、1986年刊)に記載がある。
【0133】前記染料としては、市販の染料および文献
(例えば、「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和4
5年刊)に記載されている公知のものが利用できる。具
体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンア
ゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カ
ルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シア
ニン染料などの染料を用いることができる。
【0134】さらに具体的には、前記染料としては、特
開昭58−125246号公報、特開昭59−8435
6号公報、特開昭59−202829号公報、特開昭6
0−78787号公報などに記載されているシアニン染
料、特開昭58−173696号公報、特開昭58−1
81690号公報、特開昭58−194595号公報な
どに記載されているメチン染料、特開昭58−1127
93号公報、特開昭58−224793号公報、特開昭
59−48187号公報、特開昭59−73996号公
報、特開昭60−52940号公報、特開昭60−63
744号公報などに記載されているナフトキノン染料、
特開昭58−112792号公報などに記載されている
スクワリリウム色素、英国特許第434,875号明細
書に記載のシアニン染料、米国特許第5,380,63
5号明細書に記載のジヒドロペリミジンスクアリリウム
染料を挙げることができる。
【0135】また、前記染料として米国特許第5,15
6,938号明細書に記載の近赤外吸収増感剤も好適に
用いられ、また、米国特許第3,881,924号明細
書に記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウ
ム塩、特開昭57−142645号公報(米国特許第
4,327,169号明細書)に記載のトリメチンチア
ピリリウム塩、特開昭58−181051号公報、特開
昭58−220143号公報、特開昭59−41363
号公報、特開昭59−84248号公報、特開昭59−
84249号公報、特開昭59−146063号公報、
特開昭59−146061号公報に記載されているピリ
リウム系化合物、特開昭59−216146号公報に記
載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号明
細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩などや、特
公平5−13514号公報、特公平5−19702号公
報に開示されているピリリウム化合物、Epoligh
tIII−178、Epolight III−13
0、Epolight III−125、Epolig
ht IV−62Aなどが特に好ましく用いられる。
【0136】また、前記染料として特に好ましい別の例
として、米国特許第4,756,993号明細書中に式
(I)または(II)として記載されている近赤外吸収
染料を挙げることができる。
【0137】これらの顔料または染料は、感光層の全固
形分に対して、好ましくは0.01〜50重量%、より
好ましくは0.1〜10重量%、染料の場合、特に好ま
しくは0.5〜10重量%、顔料の場合、特に好ましく
は3.1〜10重量%の割合で前記感光性組成物中に添
加することができる。顔料または染料の添加量が0.0
1重量%以上であれば、感度が悪化することが無く、ま
た、50重量%以下であれば、ポジ型赤外線レーザ感光
層の均一性が失われることがなく、耐久性の高いポジ型
赤外線レーザ感光層が得られる。
【0138】これらの(C)成分は、他の成分と同一の
層に添加してもよいし、別の層を設け、そこへ添加して
もよい。別の層を設けてそこに添加する場合、(B)成
分を含む層に隣接する層に添加するのが好ましい。
【0139】また、(A)成分と同一の層に配合しても
よいが、前記層とは別の層に配合してもよい。
【0140】(B+C)成分 前記ポジ型赤外線レーザ感光層においては、(B)成分
と(C)成分とを配合する代りに、前記(B)成分の特
性と前記(C)成分の特性とを有する一つの化合物(以
下、「(B+C)成分」ともいう。)を配合することも
できる。(B+C)成分としては、例えば、下記一般式
(Z)で表されるものが挙げられる。
【0141】
【化3】
【0142】(前記一般式(Z)中、R1〜R4は、それ
ぞれ独立に水素原子、または置換基を有してもよい炭素
数1〜12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、シクロアルキル基もしくはアリール基を表し、R1
とR2およびR3とR4はそれぞれ結合して環構造を形成
していてもよい。ここで、R1〜R4としては、具体的に
は、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、ドデ
シル基、ナフチル基、ビニル基、アリル基、シクロヘキ
シル基などが挙げられる。また、これらの基が置換基を
有する場合、その置換基としては、ハロゲン原子、カル
ボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、カル
ボキシル基、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル
などが挙げられる。
【0143】R5〜R10は、それぞれ独立に置換基を有
してもよい炭素数1〜12のアルキル基を表し、具体的
には、メチル基、エチル基、フェニル基、ドデシル基、
ナフチル基、ビニル基、アリル基、シクロヘキシル基な
どが挙げられる。また、これらの基が置換基を有する場
合、その置換基としては、ハロゲン原子、カルボニル
基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシ
ル基、カルボン酸エステル、スルホン酸エステルなどが
挙げられる。
【0144】R11〜R13は、それぞれ独立に、水素原
子、ハロゲン原子、または置換基を有してもよい炭素数
1〜8のアルキル基を表し、R12は、R11またはR13
結合して環構造を形成していてもよく、m>2の場合
は、複数のR12同士が結合して環構造を形成していても
よい。R11〜R13としては、具体的には、塩素原子、シ
クロヘキシル基、R12同士が結合してなるシクロペンチ
ル環、シクロヘキシル環などが挙げられる。また、これ
らの基が置換基を有する場合、その置換基としては、ハ
ロゲン原子、カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、ス
ルホニル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル、ス
ルホン酸エステルなどが挙げられる。また、mは1〜8
の整数を表し、好ましくは1〜3である。
【0145】R14およびR15は、それぞれ独立に、水素
原子、ハロゲン原子または置換基を有してもよい炭素数
1〜8のアルキル基を表し、R14はR15と結合して環構
造を形成していてもよく、m>2の場合は、複数のR14
同士が結合して環構造を形成していてもよい。R14およ
びR15としては、具体的には、塩素原子、シクロヘキシ
ル基、R14同士が結合してなるシクロペンチル環、シク
ロヘキシル環などが挙げられる。また、これらの基が置
換基を有する場合、その置換基としては、ハロゲン原
子、カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル
基、カルボキシル基、カルボン酸エステル、スルホン酸
エステルなどが挙げられる。また、mは1〜8の整数を
表し、好ましくは1〜3である。) 前記一般式(Z)において、X-は、アニオンを表す。
アニオンとなる化合物の具体例としては、過塩素酸、四
フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフ
タレンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン
酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼン
スルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン
酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼ
ンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フ
ルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−
メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼン
スルホン酸、パラトルエンスルホン酸が挙げられる。こ
れらの中でも、特に六フッ化リン酸、トリイソプロピル
ナフタレンスルホン酸や、2,5−ジメチルベンゼンス
ルホン酸などのアルキル芳香族スルホン酸が好ましい。
【0146】前記一般式(Z)で表される化合物は、一
般にシアニン染料と呼ばれる化合物であり、具体的に
は、以下に示す化合物が好適に用いられるが、本発明は
この具体例により限定されるものではない。
【0147】
【化4】
【0148】前記(B+C)成分は、光を吸収して熱を
発生する性質、すなわち(C)成分の特性を有し、しか
も700〜1200nmの赤外域に吸収域をもち、更に
アルカリ可溶性高分子化合物との相溶性も良好な塩基性
染料であり、しかも、分子内にアンモニウム基、イミニ
ウム基などのアルカリ可溶性高分子化合物と相互作用す
る基を有するから、(B)成分としても作用する。した
がって、前記(B+C)成分は、前記(A)成分、すな
わちアルカリ可溶性高分子化合物と相互作用してそのア
ルカリ可溶性を制御することができるから、本発明にお
いて好適に用いることができる。
【0149】本発明において、(B)成分および(C)
成分に代えて、前記(B+C)成分を用いる場合、添加
量は、(A)成分に対して、99/1〜70/30の範
囲であるのが感度の観点から好ましく、99/1〜75
/25の範囲であるのがより好ましい。
【0150】(D)その他の成分 前記感光性組成物には、更に必要に応じて、種々の添加
剤を添加することができる。例えば、感度を向上させる
目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類、ス
ルホニル化合物類を併用することもできる。
【0151】環状酸無水物としては、例えば、米国特許
第4,115,128号明細書に記載されている無水フ
タル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水
フタル酸、3,6−エンドオキシ−Δ4−テトラヒドロ
無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイ
ン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイ
ン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸が挙げられ
る。
【0152】フェノール類としては、例えば、ビスフェ
ノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノ
ール、2,4,4´−トリヒドロキシベンゾフェノン、
2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒド
ロキシベンゾフェノン、4,4´,4″−トリヒドロキ
シトリフェニルメタン、4,4´,3”,4”−テトラ
ヒドロキシ−3,5,3´,5´−テトラメチルトリフ
ェニルメタンが挙げられる。
【0153】有機酸類としては、例えば、特開昭60−
88942号公報、特開平2−96755号公報などに
記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アル
キル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカ
ルボン酸類が挙げられる。具体的には、例えば、p−ト
ルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−
トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン
酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジ
フェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−
トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、
テレフタル酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボ
ン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アス
コルビン酸、ビスヒドロキシフェニルスルホン、メチル
フェニルスルホン、ジフェニルジスルホンが挙げられ
る。
【0154】上記の環状酸無水物、フェノール類、有機
酸類およびスルホニル化合物類の前記感光性組成物の固
形分中に占める割合は、0.05〜20重量%が好まし
く、0.1〜15重量%がより好ましく、0.1〜10
重量%が特に好ましい。
【0155】また、前記感光性組成物中には、現像条件
に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−25
1740号公報や特開平3−208514号公報に記載
されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−1
21044号公報や特開平4−13149号公報に記載
されているような両性界面活性剤を添加することができ
る。
【0156】前記非イオン界面活性剤の具体例として
は、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパル
ミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノ
グリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ルが挙げられる。
【0157】前記両性界面活性剤の具体例としては、ア
ルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミ
ノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキ
シエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタ
インやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例え
ば、商品名「アモーゲンK」、第一工業社製)が挙げら
れる。
【0158】上記非イオン界面活性剤および両性界面活
性剤の前記感光性組成物の固形分中に占める割合は、
0.05〜15重量%が好ましく、0.1〜5重量%が
より好ましい。
【0159】前記感光性組成物中には、さらに、露光に
よる加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画
像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
【0160】焼き出し剤としては、露光による加熱によ
って酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成しう
る有機染料との組み合わせが例示される。具体的には、
特開昭50−36209号公報、特開昭53−8128
号公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4
−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組み合わ
せや、特開昭53−36223号公報、特開昭54−7
4728号公報、特開昭60−3626号公報、特開昭
61−143748号公報、特開昭61−151644
号公報および特開昭63−58440号公報に記載され
ているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料との組
み合わせが挙げられる。かかるトリハロメチル化合物と
しては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物と
があり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画
像を与える。
【0161】画像着色剤としては、前述の塩形成性有機
染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有
機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性
染料が挙げられる。具体的には、例えば、オイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業社製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタル
バイオレット(C.I.42555)、メチルバイオレ
ット(C.I.42535)、エチルバイオレット、ロ
ーダミンB(C.I.145170B)、マラカイトグ
リーン(C.I.42000)、メチレンブルー(C.
I.52015)が挙げられる。また、特開昭62−2
93247号公報および特開平5−313359号公報
に記載されている染料は特に好ましい。
【0162】これらの染料は、前記感光性組成物の固形
分に対し、好ましくは0.01〜10重量%、より好ま
しくは0.1〜3重量%の割合で前記感光性組成物中に
添加することができる。
【0163】また、前記感光性組成物中には、必要に応
じ、塗膜の柔軟性などを付与するために可塑剤が加えら
れる。前記可塑剤としては、例えば、ブチルフタリル、
ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル
酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、
フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリ
ブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロ
フルフリル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマ
ーおよびポリマーが用いられる。
【0164】前記感光性組成物中には、さらに、キノン
ジアジド類、ジアゾ化合物などの光により分解する化合
物を添加してもよい。これらの化合物の添加量は、前記
感光性組成物の固形分に対し、1〜5重量%が好まし
い。
【0165】ポジ型赤外線レーザ感光層は、通常、前記
感光性組成物の溶液である感光層形成溶液、具体的には
前記(A)成分〜(C)成分、または前記(A)成分と
前記(B+C)成分に加えて、必要に応じて(D)成分
を溶媒に溶かした溶液を前記支持体上に塗布し、乾燥す
ることにより形成できる。
【0166】前記溶媒としては、例えば、エチレンジク
ロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メ
タノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノ
ール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−
2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,
N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−
メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、γ−ブチロラクトン、トルエンを挙げることができ
るが、これらに限定されるものではない。これらの溶媒
は単独でまたは混合して使用される。
【0167】前記感光層形成溶液の上記成分(添加剤を
含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%で
ある。
【0168】また、前記感光層形成溶液の支持体上への
塗布量は、乾燥後において0.5〜5.0g/m2であ
るのが好ましい。
【0169】前記感光層形成溶液の塗布方法としては、
種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコー
ター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、デ
ィップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール
塗布が挙げられる。塗布量が少なくなるにつれて、ポジ
型赤外線レーザ感光層の見掛けの感度は大きくなるが、
皮膜特性は低下する。
【0170】前記感光層形成溶液中に、塗布性を向上さ
せるための界面活性剤、例えば、特開昭62−1709
50号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤
を添加することができる。好ましい添加量は前記感光層
形成溶液の全固形分に対して0.01〜1重量%であ
り、より好ましくは0.05〜0.5重量%である。
【0171】B.中間層その他 本発明の平版印刷版原版においては、前記支持体の表面
に、前記支持体と前記ポジ型赤外線レーザ感光層との間
の接着を改善する中間層を設けてもよい。前記中間層
は、アルカリ易溶性であることが好ましい。
【0172】前記中間層としては、モノマー単位の少な
くとも一部が酸基を有する重合体を含有するものが好ま
しく、モノマー単位の少なくとも一部が、酸基およびオ
ニウム基の少なくとも一方を有する重合体を含有するも
のが、より好ましい。
【0173】以下、前記重合体について説明する。
【0174】前記重合体を構成するモノマー単位が有す
る酸基としては、酸解離指数(pKa)が7以下の酸基
が好ましく、より好ましくは−COOH、−SO3H、
−OSO3H、−PO32、−OPO32、−CONH
SO2、−SO2NHSO2−であり、特に好ましくは−
COOHである。
【0175】また、オニウム基として好ましいものは、
周期律表15族(第VA族)または16族(第IVA
族)の原子を含有するオニウム基であり、より好ましく
は窒素原子、リン原子またはイオウ原子を含有するオニ
ウム基であり、特に好ましくは窒素原子を含有するオニ
ウム基である。
【0176】本発明に用いられる重合体は、主鎖構造
が、アクリル樹脂やメタクリル樹脂やポリスチレンのよ
うなビニル系ポリマーが有するビニル型、ウレタン樹
脂、ポリエステルまたはポリアミドであることを特徴と
する重合体化合物である。
【0177】より好ましくは、この重合体の主鎖構造が
アクリル樹脂やメタクリル樹脂やポリスチレンのような
ビニル系ポリマーであることを特徴とする重合体化合物
である。特に好ましくは、酸基またはオニウム基を有す
るモノマーを単独重合または共重合した重合体化合物が
挙げられる。
【0178】酸基を有するモノマー、すなわち酸基含有
モノマーとしては、下記の一般式(1)または(2)で
表される化合物が挙げられる。
【0179】
【化5】
【0180】(式中、Aは2価の連結基を表す。Bは芳
香族基または置換芳香族基を表す。DおよびEはそれぞ
れ独立して2価の連結基を表す。Gは3価の連結基を表
す。XおよびX´はそれぞれ独立してpKaが7以下の
酸基、またはそのアルカリ金属塩もしくはアンモニウム
塩を表す。R1は、水素原子、アルキル基、またはハロ
ゲン原子を表す。a、b、dおよびeはそれぞれ独立し
て0または1を表す。tは1〜3の整数である。) 酸基含有モノマーの中で、好ましいものとしては、前記
一般式(1)または(2)において、Aが−COO−ま
たは−CONH−であり、Bが、フェニレン基または置
換フェニレン基であり、その置換基が、水酸基、ハロゲ
ン原子、またはアルキル基であり、DおよびEが、それ
ぞれ独立してアルキレン基、または分子式がCn
2nO、Cn2nS若しくはCn2n+1Nで表される2価の
連結基であり、Gが、Cn2n-1、Cn2n-1O、Cn
2n-1S、またはCn2nNの分子式で表される3価の連
結基であり(ただし、nは1〜12の整数である。)、
XおよびX´が、それぞれ独立してカルボン酸基、スル
ホン酸基、ホスホン酸基、硫酸モノエステル基、または
リン酸モノエステル基であり、R1が、水素原子または
アルキル基を表し、a、b、dおよびeはそれぞれ独立
して0または1を表すが、aとbは、同時には0ではな
い化合物が挙げられる。
【0181】酸基含有モノマーの中で特に好ましいもの
は、一般式(1)において、Bが、フェニレン基または
置換フェニレン基であり、その置換基が、水酸基または
炭素数1〜3のアルキル基であり、DおよびEが、それ
ぞれ炭素数1〜2のアルキレン基または酸素原子で連結
した炭素数1〜2のアルキレン基であり、R1が、水素
原子またはアルキル基であり、Xが、カルボン酸基であ
り、aが0であり、bが1の化合物である。
【0182】このような化合物としては、具体的には、
アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン
酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、および
以下の化学式
【0183】
【化6】
【0184】
【化7】
【0185】
【化8】
【0186】で示されるものが挙げられる。なお、前記
[化6]、[化7]、および[化8]において、Xは、
ハロゲン原子を示す。
【0187】オニウム基を有するモノマー、すなわちオ
ニウム基含有モノマーとしては、例えば、下記一般式
(3)、(4)または(5)で表されるものが挙げられ
る。
【0188】
【化9】
【0189】(式中、Jは2価の連結基を表す。Kは芳
香族基または置換芳香族基を表す。Mは2価の連結基を
表す。Y1は周期率表15族(第VA族)の原子を表
し、Y2は周期率表16族(第VIA族)の原子を表
す。Z-は対アニオンを表す。R2は水素原子、アルキル
基またはハロゲン原子を表す。R3、R4、R5、および
7は、それぞれ独立に、水素原子、または置換基が結
合してもよいアルキル基、芳香族基もしくはアラルキル
基を表し、R6はアルキリジン基または置換アルキリジ
ンを表す。R3とR4またはR6とR7とはそれぞれ結合し
て環を形成してもよい。j、kおよびmはそれぞれ独立
して0または1を表す。uは1〜3の整数を表す。) オニウム基含有モノマーの中で、より好ましいものとし
ては、前記一般式(3)〜(5)において、Jが−CO
O−または−CONH−であり、Kがフェニレン基また
は置換フェニレン基であり、その置換基が、水酸基、ハ
ロゲン原子、またはアルキル基であり、Mが、アルキレ
ン基、または分子式がCn2nO、Cn 2nS若しくはC
n2n+1Nで表される2価の連結基であり(nは1〜1
2の整数を表す)、Y1が窒素原子またはリン原子であ
り、Y2がイオウ原子であり、Z-がハロゲンイオン、P
6 -、BF4 -、またはR8SO3 -であり、R2が水素原子
またはアルキル基であり、R3、R4、R5、およびR7
それぞれ水素原子、または置換基が結合してもよい炭素
数1〜10のアルキル基、芳香族基もしくはアラルキル
基であり、R6が、炭素数1〜10のアルキリジン基ま
たは置換アルキリジン基であるが、R3とR4、およびR
6とR7とがそれぞれ結合して環を形成してもよく、j、
k、およびmがそれぞれ0または1であるが、jとkは
同時に0ではなく、R8が、置換基が結合してもよい炭
素数1〜10のアルキル基、芳香族基またはアラルキル
基である化合物が挙げられる。
【0190】オニウム基含有モノマーの中で、特に好ま
しいものとしては、前記一般式(3)〜(5)におい
て、Kが、フニレン基または置換基として炭素数1〜3
のアルキル基を有する置換フェニレン基であり、Mが、
炭素数1〜2のアルキレン基または酸素原子で連結した
炭素数1〜2のアルキレン基であり、Z-が塩素イオン
またはR8SO3 -であり、R2が水素原子またはメチル基
であり、jが0であり、kが1であり、R8が炭素数1
〜3のアルキル基である化合物が挙げられる。
【0191】オニウム基含有モノマーの具体例を以下に
示す。ただし、本発明で使用できるオニウム基含有モノ
マーは、この具体例に限定されるものではない。
【0192】
【化10】
【0193】
【化11】
【0194】
【化12】
【0195】酸基含有モノマーおよびオニウム基含有モ
ノマーは、何れも、単独で用いても、2種以上組み合わ
せて用いてもよい。更に、前記重合体としては、使用し
たモノマーの種類、仕込みモノマー組成比、および分子
量の少なくとも1つが異なるものを2種以上混合して用
いてもよい。前記重合体は、前記酸基含有モノマーの単
独重合体または共重合体であるときは、前記酸基含有モ
ノマーに由来するモノマー単位を1モル%以上含むのが
好ましく、5モル%以上含むのがより好ましい。また、
オニウム基含有モノマの単独重合体または共重合体のと
きは、前記重合体は、前記オニウム基含有モノマーに由
来するモノマー単位を1モル%以上含むのが好ましく、
5モル%以上含むのがより好ましい。
【0196】更に、これらの重合体は、以下の(1)〜
(14)に示すモノマーから選ばれる少なくとも1種に
由来するモノマー単位を有してもよい。
【0197】(1)N−(4−ヒドロキシフェニル)
(メタ)アクリルアミドなどの芳香族水酸基含有(メ
タ)アクリルアミド類、o−、m−、p−ヒドロキシス
チレン、o−、m−ブロモ−p−ヒドロキシスチレン、
o−、m−クロル−p−ヒドロキシスチレンなどのビド
ロキシスチレン類、およびo−、m−、p−ヒドロキシ
フェニル(メタ)アクリレートなどの芳香族水酸基含有
(メタ)アクリル酸エステル類、(2)アクリル酸、メ
タクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸およびそのハ
ーフエステル、イタコン酸、無水イタコン酸およびその
ハーフエステルなどの不飽和カルボン酸類、(3)N−
(o−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド、N
−(m−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド、
N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミ
ド、N−〔1−(3−アミノスルホニル)ナフチル〕ア
クリルアミド、N−(2−アミノスルホニルエチル)ア
クリルアミドなどのアクリルアミド類、N−(o−アミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−
(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、
N−〔1−(3−アミノスルホニル)ナフチル〕メタク
リルアミド、N−(2−アミノスルホニルエチル)メタ
クリルアミドなどのメタクリルアミド類、また、o−ア
ミノスルホニルフェニルアクリレート、m−アミノスル
ホニルフェニルアクリレート、p−アミノスルホニルフ
ェニルアクリレート、1−(3−アミノスルホニルフェ
ニルナフチル)アクリレートなどのアクリル酸エステル
類などの不飽和スルホンアミド、o−アミノスルホニル
フェニルメタクリレート、m−アミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、p−アミノスルホニルフェニルメタ
クリレート、1−(3−アミノスルホニルフェニルナフ
チル)メタクリレートなどのメタクリル酸エステル類な
どの不飽和スルホンアミド、(4)トシルアクリルアミ
ドおよびトシルメタクリルアミドのように置換基があっ
てもよいフェニルスルホニル(メタ)アクリルアミド、
(5)2−ヒドロキシエチルアクリレートおよび2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレートのように脂肪族水酸基を
有する(メタ)アクリル酸エステル類、(6)アクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、ア
クリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシ
ル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸オクチル、
アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸
−2−クロロエチル、アクリル酸4−ヒドロキシブチ
ル、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノエチ
ルアクリレートなどの(置換)アクリル酸エステル類、
(7)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸フェニ
ル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロ
エチル、メタクリル酸4−ヒドロキシブチル、グリシジ
ルメタクリレート、N−ジメチルアミノエチルメタクリ
レートなどの(置換)メタクリル酸エステル類、(8)
アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールア
クリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、N−
エチルアクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド、
N−ヘキシルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリル
アミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−シク
ロヘキシルメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチルア
クリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、
N−フェニルアクリルアミド、N−フェニルメタクリル
アミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−ベンジルメ
タクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、
N−ニトロフェニルメタクリルアミド、N−エチル−N
−フェニルアクリルアミドおよびN−エチル−N−フェ
ニルメタクリルアミドなどの(メタ)アクリルアミド
類、(9)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビ
ニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロ
ピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチル
ビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなどのビニル
エーテル類、(10)ビニルアセテート、ビニルクロロ
アセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニルなどの
ビニルエステル類、(11)スチレン、α−メチルスチ
レン、メチルスチレン、クロロメチルスチレンなどのス
チレン類、(12)メチルビニルケトン、エチルビニル
ケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン
などのビニルケトン類、(13)エチレン、プロピレ
ン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレンなどのオレ
フィン類、(14)N−ビニルピロリドン、N−ビニル
カルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリルなどの(メタ)アクリロニトリ
ル類。
【0198】なお、前記重合体は、モノマー(1)〜
(14)に由来するモノマー単位を有する場合には、前
記酸基含有モノマーまたは前記オニウム基含有モノマー
に由来するモノマー単位を1モル%以上含むのが好まし
く、5モル%以上含むのがより好ましい。中間層におい
て、酸基含有モノマーに由来するモノマー単位を20モ
ル%以上有する重合体を用いると、アルカリ現像時の溶
解除去が一層促進される。そして、オニウム基含有モノ
マーに由来するモノマー単位を1モル%以上有する重合
体を用いると、酸基との相乗効果により中間層とポジ型
赤外線レーザ感光層との密着性が一層向上する。
【0199】更に、前記中間層においては、仕込みモノ
マー組成比および分子量の少なくとも一方が異なる重合
体を2種以上混合して用いてもよい。
【0200】つぎに、前記重合体の代表的な例を以下に
示す。なお、モノマー単位の組成比はモル百分率を表
す。
【0201】
【化13】
【0202】
【化14】
【0203】
【化15】
【0204】
【化16】
【0205】
【化17】
【0206】前記重合体は、一般にはラジカル連鎖重合
法を用いて製造することができる(“Textbook
of Polymer Science”3rd e
d.(1984)F.W.Billmeyer,A W
iley−Interscience Publica
tion参照)。
【0207】前記重合体の分子量は広範囲であってもよ
いが、光散乱法を用いて測定した重量平均分子量(M
w)が500〜2,000,000であるのが好まし
く、1,000〜600,000の範囲であるのがより
好ましい。また、NMRで測定した末端基と側鎖官能基
との積分強度より算出される数平均分子量(Mn)が3
00〜500,000であるのが好ましく、500〜1
00,000の範囲であるのがより好ましい。分子量が
上記の範囲内であれば、支持体と中間層との密着力が充
分であるから、充分な耐刷性が得られるが、前記密着力
が過大になって非画像部の感光層残渣を十分に除去する
ことができなくなることがないから好ましい。
【0208】また、この重合体中に含まれる未反応モノ
マー量は、20重量%以下が好ましく、10重量%以下
がより好ましい。
【0209】上記範囲の分子量を有する重合体は、対応
するモノマーを共重合する際に、重合開始剤および連鎖
移動剤を併用し、前記重合開始剤および前記連鎖移動剤
の添加量を調整することにより合成できる。
【0210】連鎖移動剤とは、重合反応において連鎖移
動反応により、反応の活性点を移動させる物質のことを
いい、その移動反応の起こりやすさは、連鎖移動定数C
sで表される。本発明で用いられる連鎖移動剤の連鎖移
動定数Cs×104(60℃)は、0.01以上が好ま
しく、0.1以上がより好ましく、1以上が特に好まし
い。
【0211】連鎖移動剤の具体例としては、四塩化炭
素、四臭化炭素などのハロゲン化合物、イソプロピルア
ルコール、イソブチルアルコールなどのアルコール類、
2−メチル−1−ブテン、2,4−ジフェニル−4−メ
チル−1−ペンテンなどのオレフィン類、エタンチオー
ル、ブタンチオール、ドデカンチオール、メルカプトエ
タノール、メルカプトプロパノール、メルカプトプロピ
オン酸メチル、メルカプトプロピオン酸エチル、メルカ
プトプロピオン酸、チオグリコール酸、エチルジスルフ
ィド、sec−ブチルジスルフィド、2−ヒドロキシエ
チルジスルフィド、チオサルチル酸、チオフェノール、
チオクレゾール、ベンジルメルカプタン、フェネチルメ
ルカプタンなどの含硫黄化合物が挙げられるが、これら
に限定されるものではない。
【0212】前記連鎖移動剤としては、特に、前記含硫
黄化合物が好ましく、最も好ましいものとしては、前記
含硫黄化合物のうちのエタンチオール、ブタンチオー
ル、ドデカンチオール、メルカプトエタノール、メルカ
プトプロパノール、メルカプトプロピオン酸メチル、メ
ルカプトプロピオン酸エチル、メルカプトプロピオン
酸、チオグリコール酸、エチルジスルフィド、sec−
ブチルジスルフィド、2−ヒドロキシエチルジスルフィ
ドが挙げられる。
【0213】重合開始剤としては、ラジカル重合の際に
一般によく用いられる過酸化物、アゾ化合物、レドック
ス開始剤をそのまま利用することができる。これらの中
でアゾ化合物が特に好ましい。
【0214】つぎに、本発明に用いられる重合体の合成
例を示す。
【0215】〔合成例1〕 <重合体(No.1)の合成>p−ビニル安息香酸(北
興化学工業(株)製)50.4g、トリエチル(p−ビ
ニルベンジル)アンモニウムクロリド15.2g、メル
カプトエタノール1.9gおよびメタノール153.1
gを2L容の三つ口フラスコに取り、窒素気流下で攪拌
しながら加熱し、60℃に保った。
【0216】この溶液に、2,2´−アゾビス(イソ酪
酸)ジメチル2.8gを加え、そのまま30分間攪拌を
続けた。その後、この反応液に、p−ビニル安息香酸2
01.5g、トリエチル(p−ビニルベンジル)アンモ
ニウムクロリド60.9g、メルカプトエタノール7.
5gおよび2,2´−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル1
1.1gをメタノール612.3gに溶解させた溶液を
2時間かけて滴下した。
【0217】滴下終了後、温度を65℃に上げ、窒素気
流下10時間攪拌を続けた。反応終了後、室温まで放冷
すると、この反応液の収量は1132gであり、固形分
濃度は30.5重量%であった。更に、得られた生成物
の数平均分子量(Mn)を、 13C−NMRスペクトルよ
り求めた結果、その値は2100であった。
【0218】〔合成例2〕 <重合体(No.2)の合成>トリエチル(p−ビニル
ベンジル)アンモニウムクロリドの代わりに、トリエチ
ル(ビニルベンジル)アンモニウムクロリドのm/p体
(2/1)混合物を用い、メルカプトエタノールの代わ
りにメルカプトプロピオン酸エチルを用いた以外は、合
成例1と同様の操作を行い、数平均分子量(Mn)4,
800の重合体を得た。 〔合成例3〕 <重合体(No.25)の合成>p−ビニル安息香酸
(北興化学工業社製)146.9g(0.99mo
l)、ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリド
44.2g(0.21mol)および2−メトキシエタ
ノール446gを1L容の三つ口フラスコに取り、窒素
気流下攪拌しながら、加熱し75℃に保った。
【0219】つぎに、2,2−アゾビス(イソ酪酸)ジ
メチル2,76g(12mmol)を加え、攪拌を続け
た。
【0220】2時間後、2,2−アゾビス(イソ酪酸)
ジメチル2,76g(12mmol)を追加した。更
に、2時間後、2,2−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル
2.76g(12mmol)を追加した。
【0221】2時間攪拌した後、室温まで放冷した。こ
の反応液を攪拌下、12Lの酢酸エチル中に注いだ。析
出する固体をろ取し、乾燥した。その収量は189.5
gであった。得られた固体は光散乱法で分子量測定を行
った結果、重量平均分子量(Mw)は3.2万であっ
た。
【0222】本発明に用いられる他の重合体も同様の方
法で合成される。
【0223】また、前記中間層には、前記重合体に加
え、下記一般式(6)で示される化合物を添加すること
もできる。
【0224】
【化18】
【0225】(式中、R1は炭素数6〜14のアリーレ
ン基を表し、mおよびnは独立して1〜3の整数を表
す。) 前記化合物(6)においては、R1で表されるアリーレ
ン基の炭素数は6〜14であるのが好ましく、6〜10
であるのがより好ましい。このようなアリーレン基とし
ては、例えば、フェニレン基、ナフチル基、アンスリル
基、フェナスリル基が挙げられる。前記アリーレン基
は、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のア
ルケニル基、炭素数2〜10のアルキニル基、炭素数6
〜10のアリール基、カルボン酸エステル基、アルコキ
シ基、フェノキシ基、スルホン酸エステル基、ホスホン
酸エステル基、スルホニルアミド基、ニトロ基、ニトリ
ル基、アミノ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、エチレ
ンオキサイド基、プロピレンオキサイド基、トリエチル
アンモニウムクロライド基などで置換されていてもよ
い。
【0226】化合物(6)の具体的な例としては、例え
ば、3−ヒドロキシ安息香酸、4−ヒドロキシ安息香
酸、サリチル酸、1−ヒドロキシー2−ナフトエ酸、2
−ヒドロキシー1−ナフトエ酸、2−ヒドロシキー3−
ナフトエ酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、10−ヒ
ドロキシ−9−アントラセンカルボン酸が挙げられる。
ただし、上記の具体例に限定されるものではない。ま
た、化合物(6)は、単独で用いてもよく、2種以上混
合して用いてもよい。
【0227】前記中間層は、前記支持体上に、種々の方
法により設けることができる。
【0228】前記方法としては、例えば、 a.メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなど
の有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤、またはこれらの
有機溶剤と水との混合溶剤に前記重合体を溶解させ、さ
らに、必要に応じて化合物(6)を溶解させた中間層形
成溶液を支持体上に塗布し乾燥して前記中間層を設ける
塗布方法、および b.前記支持体を、前記中間層形成液に浸漬した後、水
洗および乾燥して前記中間層を設ける方法などを挙げる
ことができる。
【0229】前者の方法で中間層形成溶液を塗布する場
合には、前記中間層形成溶液の固形分濃度は、0.00
5〜10重量%の範囲が好ましく、バーコーター塗布、
回転塗布、スプレー塗布、およびカーテン塗布などのい
ずれの方法でも塗布できる。
【0230】一方、後者の方法で中間層形成溶液を塗布
する場合は、前記中間層形成溶液における固形分溶液
は、0.005〜20重量%、特に0.01%〜10重
量%の範囲が好ましく、浸漬温度は、0〜70℃、特に
5〜60℃の範囲が好ましく、浸せき時間は、0.1秒
〜5分、特に0.5〜120秒の範囲が好ましい。
【0231】前記中間層形成溶液には、アンモニア、ト
リエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、
塩酸、リン酸、硫酸、硝酸などの無機酸、ニトロベンゼ
ンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸などの有機スルホ
ン酸、フェニルホスホン酸などの有機ホスホン酸、安息
香酸、クマル酸、リンゴ酸などの有機カルボン酸など、
種々の有機酸性物質、ナフタレンスルホニルクロライ
ド、ベンゼンスルホニルクロライドなどの有機クロライ
ドなどを添加して、pHをpH=0〜12、好ましくは
pH=0〜6の範囲に調整することができる。
【0232】また、前記中間層形成溶液には、平版印刷
版の調子再現性改良のために紫外光や可視光、赤外光な
どを吸収する物質を添加することもできる。
【0233】前記中間層の乾燥後の被覆量は、1〜10
0mg/m2が適当であり、好ましくは2〜70mg/
2である。被覆量が前記範囲内であれば、支持体とポ
ジ型赤外線レーザ感光層との密着性が改善されるから、
得られる平版印刷原版を製版した平版は、良好な耐刷性
を有している。
【0234】
【実施例】以下、本発明について、実施例を用いて具体
的に説明する。 (実施例1〜27) 1.支持体の作製 1−1 粗面化処理 A.機械的粗面化処理 アルミニウム板(アルミニウム板、厚さ0.3mm)に
おける一方の面を、図1に示す研磨装置を用いて機械的
粗面化処理した。
【0235】ローラ状ブラシ2としてナイロンブラシ8
号を用いた。前記ナイロンブラシ8号は、外径が600
mmであり、ブラシ毛2Bの直径が0.5mmであり、
長さが50mmであり、植毛密度が400本/cm2で
あった。
【0236】研磨圧力は、0.5A/100mmであ
り、ローラ状ブラシ2Bの周速は、470m/分であっ
た。
【0237】研磨材粒子として、表1に示す平均粒径お
よびSiO2含有量を有する粒子を用いた。前記研磨材
粒子を400g/リットルの割合で水で懸濁させた懸濁
液を、研磨材スラリー供給槽6から、200リットル/
分の割合でアルミニウムウェブ10の研磨面上に供給し
た。アルミニウム板の搬送速度は、30m/分であっ
た。
【0238】B.エッチング処理 機械的粗面化処理を施したアルミニウム板を、前記送り
速度で、液温60℃、濃度10重量%の苛性ソーダ溶液
が貯留された連続式エッチング槽を通過させ、エッチン
グ量が10g/m2になるようにエッチング処理した。
【0239】エッチング処理後のアルミニウム板を水槽
に通して水洗し、更に濃度30重量%、液温60℃の硫
酸水溶液が貯留された連続式デスマット処理槽に通過さ
せて第1回目のデスマット処理を行った。
【0240】C.電解粗面化処理 図2に示す連続式交流電解槽に酸性電解液として希硝酸
または希塩酸を満たし、デスマット処理後のアルミニウ
ム板を連続的に通過させつつ、交流電解粗面化処理を行
なった。
【0241】希硝酸中で電解粗面化処理を行なう場合
は、液温60℃、硝酸濃度2重量%の希硝酸を用い、周
波数60Hz、電流密度20A/dm2、陽極電気量2
00クーロン/cm2、電圧20Vの交流を印加して交
流電解し、電解粗面化処理を行った。そして、電解粗面
化処理を行ったアルミニウム板を、液温35℃、濃度1
0重量%の苛性ソーダ溶液中を、エッチング量が1.5
g/m2になるように連続的に通過させて第2のエッチ
ング処理を行った。第2回目のエッチング処理を行なっ
たアルミニウム板を水洗し、液温60℃、濃度30重量
%の希硫酸中を、連続的に通過させて第2回目のデスマ
ット処理を施した。
【0242】一方、希塩酸中で電解粗面化処理を行なう
場合には、液温40℃、塩酸濃度2重量%の希塩酸を用
い、周波数60Hz、電流密度20A/dm2、陽極電
気量100クーロン/cm2、電圧20Vの交流を印加
して交流電解した。そして、電解粗面化処理を行ったア
ルミニウム板を、液温35℃、濃度10重量%の苛性ソ
ーダ溶液中を、エッチング量が0.5g/m2になるよ
うに連続的に通過させて第2のエッチング処理を行っ
た。第2回目のエッチング処理を行なったアルミニウム
板を水洗し、液温60℃、濃度30重量%の希硫酸中
を、連続的に通過させて第2回目のデスマット処理を施
した。
【0243】1−2 陽極酸化処理 粗面化処理後のアルミニウム板を、液温30℃、濃度1
0重量%の希硫酸の溶液中に連続的に浸漬し、電流密度
が10A/dm2になるように、40Vの直流電流を印
加し、陽極酸化皮膜量が2g/m2になるように陽極酸
化処理を行って支持体を作製した。
【0244】2.平版印刷原版の作製 前記支持体を、濃度が3重量%であり、液温が70℃で
ある珪酸ソーダ溶液に30秒間浸漬して表面を親水化し
た。
【0245】ついで、前記支持体における粗面化面に、
下記の組成の感光層形成溶液すなわち感光層塗布液を、
乾燥後の塗布量が1.0g/m2になるように塗布して
乾燥させ、ポジ型赤外線レーザ感光層を形成した。
【0246】 <感光層塗布液1組成> ・カプリン酸 …0.03g ・後述する特定の共重合体1 …0.75g ・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量3,50 0、未反応クレゾール0.5重量%含有) …0.25g ・p−トルエンスルホン酸 …0.003g ・テトラヒドロ無水フタル酸 …0.03g ・下記構造式で表されるシアニン染料A …0.017g
【0247】
【化19】
【0248】 ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレンスルホン酸アニオ ンにした染料 …0.015g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本インキ化学工業社製) …0.05g ・γ−ブチルラクトン …10g ・メチルエチルケトン …10g ・1−メトキシ−2−プロパノール … 1g <特定の共重合体1>攪拌機、冷却管および滴下ロート
を備えた500mL容の三つ口フラスコに、メタクリル
酸31.0g(0.36mol)、クロロギ酸エチル3
9.lg(0.36mol)、およびアセトニトリル2
00mLを入れ、氷水浴で冷却しながら混合物を攪拌し
た。
【0249】この混合物にトリエチルアミン36.4g
(0.36mol)を約1時間かけて滴下ロートにより
滴下した。滴下終了後、氷水浴を取り去り、室温下で3
0分間混合物を攪拌した。
【0250】この反応混合物に、p−アミノベンゼンス
ルホンアミド51.7g(0.30mol)を加え、油
浴にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌した。反
応終了後、この混合物を水1Lにこの水を攪拌しながら
投入し、30分間得られた混合物を攪拌した。この混合
物をろ過して析出物を取り出し、これを水500mLで
スラリーにした後、このスラリーをろ過し、得られた固
体を乾燥することによりN−(p−アミノスルホニルフ
ェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られた(収量
46.9g)。
【0251】つぎに、攪拌機、冷却管および滴下ロート
を備えた20mL容の三つ口フラスコに、N−(p−ア
ミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド4.61g
(0.0192mol)、メタクリル酸エチル2.94
g(0.0258mol)、アクリロニトリル0.80
g(0.015mol)およびN,N−ジメチルアセト
アミド20gを入れ、湯水浴により65℃に加熱しなが
ら混合物を攪拌した。この混合物に「V−65」(和光
純薬(株)製)0.15gを加え、65℃に保ちながら
窒素気流下で、混合物を2時間攪拌した。この反応混合
物に更にN−(p−アミノスルホニルフェニル)メタク
リルアミド4.61g、メタクリル酸エチル2.94
g、アクリロニトリル0.80g、N,N−ジメチルア
セトアミドおよび「V−65」0.15gの混合物を2
時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後、更
に、得られた混合物を65℃で2時間攪拌した。反応終
了後、メタノール40gを混合物に加え、冷却し、得ら
れた混合物を水2Lにこの水を攪拌しながら投入し、3
0分混合物を攪拌した後、析出物をろ過により取り出
し、乾燥することにより15gの白色固体の特定の共重
合体1を得た。
【0252】得られた特定の共重合体1の重量平均分子
量をゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測
定したところ、53,000(ポリスチレン標準)であ
った。
【0253】3.露光、現像 得られた平板印刷原版を、常法に従って赤外線レーザで
印刷画像を書き込み、現像した。
【0254】4.評 価 以上のようにして作製した平版印刷版について以下の手
順に従って耐刷性及び汚れ性を評価した。結果を表1に
示す。
【0255】<耐刷性>小森印刷機(株)製のリスロン
26型印刷機を用いて印刷を行ない、正常に印刷されな
くなるまでの印刷枚数を以って耐刷性を評価した。印刷
枚数が多いほど耐刷性が良好なことを示す。
【0256】<汚れ性>三菱重工(株)のダイヤ1F−
2型印刷機を用いて1000枚印刷後、印刷を停止して
平版印刷原版を外した。印刷機から外した平版印刷原版
を30分間静置した後、再度前記印刷機に装着して10
0枚印刷し、このときの前記印刷機におけるゴムロール
の胴、及び印刷紙面の汚れを観察した。
【0257】(比較例1〜3)実施例1〜27と同様の
アルミニウム板を用い、機械的粗面化工程において、研
磨材として平均粒径が表1に示す通りのSiO2を主体
とする粉末を用いたほかは、実施例1〜27と同様にし
て平版印刷版用支持体を作成した。
【0258】前記支持体の表面に、実施例1〜27と同
様の手順に従ってポジ型赤外線レーザ感光層を形成して
平版印刷原版を作製し、露光及び現像を行ってオフセッ
ト印刷版用の刷版を作製した。
【0259】前記刷版を用いて、実施例1〜27と同様
にして印刷特性を評価した。結果を表1に示す。
【0260】
【表1】
【0261】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
耐刷性に優れ、ブラン汚れ及びポツ汚れなどが発生する
ことの無い平版印刷原版とその製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明に係る平版印刷原版に使用され
る支持体の製造において、アルミニウム板の機械的粗面
化処理に使用される研磨装置の一例を示す概略図であ
る。
【図2】図2は、前記支持体の製造において、前記アル
ミニウム板の電解粗面化処理に使用される連続式交流電
解槽の一例を示す概略図である。
【符号の説明】
10 アルミニウムウェブ
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/00 503 G03F 7/00 503 7/004 501 7/004 501 505 505 7/032 7/032 7/09 501 7/09 501 (72)発明者 三輪 英樹 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA12 AB03 AC08 AD03 CB14 CB15 CB17 CB29 CC20 DA18 DA20 FA03 FA17 2H096 AA07 BA09 BA16 CA03 EA04 GA08 2H114 AA04 AA14 AA23 BA02 BA10 DA04 DA09 DA10 DA15 DA41 DA64 DA75 EA03 EA04 GA03 GA04 GA05 GA08 GA09 GA36

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アルミニウム板の少なくとも一方の面
    に粗面化処理を施してなる平版印刷版用支持体であっ
    て、前記粗面化処理において、平均粒径が5〜70μm
    であり、粒子中のSiO2の含有量が60重量%以上で
    ある研磨材粒子を供給しつつ、回転ブラシで擦る機械的
    粗面化処理を施し、 次いでエッチング処理を施し、さらに酸性電解液中で電
    解処理する電解粗面化処理を施してなる平版印刷版用支
    持体と、 前記支持体における前記粗面化処理を施した粗面化面に
    積層されてなり、赤外線レーザを照射すると現像液への
    溶解性が増大するポジ型赤外線レーザ感光層とを備えて
    なることを特徴とする平版印刷原版。
  2. 【請求項2】 前記酸性電解液は、主要な酸成分とし
    て硝酸を含有してなる請求項1に記載の平版印刷原版。
  3. 【請求項3】 前記支持体は、粗面化面における未エ
    ッチ率が50%以下であり、平均ピット径が0.3〜3
    μmである請求項2に記載の平版印刷原版。
  4. 【請求項4】 前記酸性電解液は、主要な酸成分とし
    て塩酸を含有してなる請求項1に記載の平版印刷原版。
  5. 【請求項5】 前記支持体は、粗面化面における未エ
    ッチ率が50%以下であり、平均ピット径が0.1〜
    1.5μmである請求項4に記載の平版印刷原版。
  6. 【請求項6】 前記支持体は、前記アルミニウム板を
    粗面化処理した後に陽極酸化処理を施し、前記粗面化面
    に陽極酸化皮膜を形成してなる請求項1〜5の何れか1
    項に記載の平版印刷原版。
  7. 【請求項7】 前記アルミニウム板は、Cu量が0.0
    05重量%以下であり、Al含有量が99.7重量%以
    上である請求項1〜6の何れか1項に記載の平版印刷原
    版。
  8. 【請求項8】 アルミニウム板の少なくとも一方の面
    を粗面化処理して支持体を作製する粗面化工程と、 赤外線レーザを照射すると現像液への溶解性が増大する
    ポジ型赤外線レーザ感光層を、前記平版印刷版用支持体
    における前記粗面化処理を施した粗面化面に積層する感
    光層形成工程とを備えてなり、 前記粗面化工程において、平均粒径が5〜70μmであ
    り、粒子中のSiO2の含有量が60重量%以上である
    研磨材粒子を供給しつつ、回転ブラシで擦る機械的粗面
    化処理を施すことを特徴とする平版印刷原版の製造方
    法。
JP2001189530A 2001-06-22 2001-06-22 平版印刷原版およびその製造方法 Pending JP2003001963A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001189530A JP2003001963A (ja) 2001-06-22 2001-06-22 平版印刷原版およびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001189530A JP2003001963A (ja) 2001-06-22 2001-06-22 平版印刷原版およびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003001963A true JP2003001963A (ja) 2003-01-08

Family

ID=19028435

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001189530A Pending JP2003001963A (ja) 2001-06-22 2001-06-22 平版印刷原版およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003001963A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7413844B2 (en) 2005-03-17 2008-08-19 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate support and method of manufacturing the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7413844B2 (en) 2005-03-17 2008-08-19 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate support and method of manufacturing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3635203B2 (ja) 平版印刷版用原版
US20020094490A1 (en) Support for lithographic printing plate and presensitized plate
JP4498177B2 (ja) ポジ型感光性組成物及びそれを用いた画像記録材料
US6716567B2 (en) Supporting body for lithography block and original lithography block
JP2006205557A (ja) 平版印刷版用支持体
JP3787334B2 (ja) 平版印刷版原版
JP3836581B2 (ja) 平版印刷版の製版方法
JP2001350261A (ja) 平版印刷版原版
JP2003149799A (ja) 赤外線レーザ用平版印刷版
JP2003001963A (ja) 平版印刷原版およびその製造方法
JP2002316486A (ja) 平版印刷版用支持体
JP4359446B2 (ja) 平版印刷版原版
JP4275873B2 (ja) 平版印刷版原版
JPH1184657A (ja) 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物
JP3964816B2 (ja) 平版印刷版用支持体及び平版印刷版原版
JP4117204B2 (ja) 平版印刷版用原版
JP4349736B2 (ja) 平版印刷版用原版
JP4373823B2 (ja) 平版印刷版原版
JP4056889B2 (ja) 平版印刷版原版
JP2006078900A (ja) 平版印刷版原版
JP5266177B2 (ja) 平版印刷版原版
JP2003195490A (ja) 平版印刷版原版
JP2004271974A (ja) 感光性平版印刷版の現像液疲労度検出方法および現像液管理方法
JP2003103949A (ja) 平版印刷版用支持体及びそれを用いた平版印刷版原版
JP2002072458A (ja) 平版印刷版