JP2002537440A - ワイヤ式切断装置で使用する切断潤滑組成物 - Google Patents

ワイヤ式切断装置で使用する切断潤滑組成物

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JP2002537440A JP2000599841A JP2000599841A JP2002537440A JP 2002537440 A JP2002537440 A JP 2002537440A JP 2000599841 A JP2000599841 A JP 2000599841A JP 2000599841 A JP2000599841 A JP 2000599841A JP 2002537440 A JP2002537440 A JP 2002537440A
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ワード,アール,イー.
タン,フォン
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ピーピーティー リサーチ,インク.
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Abstract

(57)【要約】 【課題】硬質で脆い材料を切断する多ワイヤ鋸切断機に使用する潤滑組成物を提供すること。 【解決手段】硬質で脆い材料を切断するワイヤ鋸切断装置で使用するための、70重量%までの研磨材料を含んだ潤滑組成物が開示されている。この組成物は高低分子量のポリアルキレングリコールと懸濁剤との混合物内に懸濁されている研磨材料を含んでいる。この組成物の粘度は約50から700cpsである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】
本願発明は新規な切断潤滑組成物に関する。この組成物は、例えば、シリコン
半導体塊、ゲルマニウム、ヒ化ガリウム、ガラス、または花崗岩等の硬質で脆い
材料で成る加工対象物を切断して複数の薄いシート状、スライス状あるいはウェ
ハー状にする装置で使用される。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
そのようなワイヤ式切断装置は普通は固定ピッチにて互いに平行に配線された
細いワイヤの列を含んでいる。加工対象物は、同一方向で互いに平行に延びてい
る0.2mm程の直径の細いワイヤに押しつけられ、対象物とワイヤとの間に研
削液が提供されてその対象物を切削作用によってウェハー状にカットする。すな
わち、研削液に含まれる研磨粒子はワイヤの切断部に移動して切断を助ける。こ
のような切断機は米国特許第3478732号、3525324号、52692
75号、5270271号に解説されており、それら特許内容を本願に援用する
【0003】 そのような切断装置は撚合ループ形態で絡合した一連のワイヤを含むこともで
きる。この形態は花崗岩やシリコン塊の切断に利用できる。加工対象物は撚合ワ
イヤに押しつけられ、研磨剤に助けられて切断加工される。
【0004】 最良の切断品質の達成は、研削液の品質及び切断ワイヤに対象物を押しつける
力等の要素にかかっている。
【0005】 大量生産条件の下での切断品質の最良化を求めて努力が為されている。この“
最良切断品質”とは、半導体装置及び太陽電池に適した製品を生産できるような
凹凸を含まない平面を意味する。大量生産の場合、ワイヤの磨耗速度、切断効率
及び切断潤滑液のリサイクリングも重要な要素である。シトリコットの米国特許
第5099820号は、水中または油中にての炭化ケイ素粒子の懸濁液としての
研削液を開示している。しかし、この先行技術による懸濁液はワイヤに対して安
定した均質潤滑を提供しない。さらに、この組成物においては粒子の均質な懸濁
を維持するためには激しい攪拌を必要とし、懸濁液はすぐに沈殿する。
【0006】 よって、優れた潤滑性と伝熱性とを備えたワイヤ式切断機用の新規な潤滑組成
物が求められている。また、加工対象物を組成物内の研磨粒子でさらに効率的に
切断させるように均質に研磨材料を加工対象物に提供する新規な切断潤滑組成物
も求められている。さらに、優れた潤滑性能と伝熱性能とを備え、切断部で発生
する摩擦熱を取り除き、ワイヤの使用寿命を引き延ばし、作業休止時間を回避さ
せる組成物が求められている。また、研磨粒子が安定して懸濁状態である組成物
が求められている。そのためには、長期に保管された結果の分離現象が、軽い攪
拌で元に戻るような組成物であってもよい。
【0007】
【課題を解決するための手段】
一般的に本願発明は、半導体材料、磁性材料、セラミックス、花崗岩、太陽電
池部材等の硬質で脆い材料である加工対象物の切断に用いられる装置に使用され
る切断潤滑組成物に関する。さらに特定すれば、本願発明の潤滑組成物は、 a)約1から35重量%の懸濁剤と、 b)約65から99重量%のポリアルキレングリコール類の組み合わせ物と、 を含んで成る。
【0008】 このアルキレン基は2から5の炭素原子を含んでいる。それらグリコール類の
組み合わせ物は、約300から600の平均分子量を有した約65から99重量
%のグリコールと、約1000から5000の平均分子量を有した約1から35
重量%のグリコールとを含んで成る。
【0009】 その組成物の粘度は約50から700cpsであり、その潤滑組成物は水溶性
及び/又は水混性である。
【0010】 好適にはそれらグリコール類はポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール、ポリイソブチレングリコール及びそれらのコグリコール類(coglycol)で
成る群から選択されたものである。
【0011】 懸濁剤は極性溶剤、界面活性剤及びシックナー(thickener)等である。有用な
極性溶剤はアルコール、アミド、ラクタム、エステル、ケトン、グリコールエー
テル、塩基性アミン及びスルホキシドから選択される。適当な界面活性剤は陰イ
オン系、陽イオン系及び/又は非イオン系界面活性剤である。適当なシックナー
の例はカルボキシルメチルセルロース、メチルセルロース、ポリアクリル酸、デ
ンプン及び多糖類である。
【0012】 好適な潤滑組成物は、 a)約5から15重量%の懸濁剤と、 b)約15から95重量%のポリエチレングリコール類の組み合わせ物と、 を含んで成る。
【0013】 その組み合わせ物は、平均分子量が約300から500である約80から92
重量%のポリエチレングリコールと、平均分子量が約1000から2000であ
る約1から6重量%のポリエチレングリコールとを含んで成る。
【0014】 組成物の粘度は約50から700cpsである。
【0015】 本願発明の最も好適な潤滑組成物は、 a)約6から10重量%のN-メチルピロリドンと、 b)約90から94重量%のポリエチレングリコール類の組み合わせ物と、 を含んで成る。
【0016】 このポリエチレングリコール類の組み合わせ物は、約400の平均分子量を有
した約87から90重量%のポリエチレングリコールと、約1500の平均分子
量を有した約3から5重量%のポリエチレングリコールとを含んで成る。組成物
の粘度は室温(25℃)で約50から500cpsである。
【0017】 本願発明の潤滑組成物は約1から70重量%の研磨粒子をも含んでおり、硬質
で脆い材料である加工対象物の切断で使用するための切断潤滑組成物を提供する
。その研磨粒子は潤滑組成物によって懸濁状態に保たれ、ワイヤ表面に移動して
均質な切断エッジを提供する。
【0018】 本願発明によれば、切断潤滑組成物は、 A.約30から99重量%の潤滑組成物であって、 a.約1から20重量%の懸濁剤と、 b.アルキレン基が2から5の炭素原子を有している約80から99重量%の
ポリアルキレングリコールの組み合わせ物であって、その組み合わせ物は約20
0から600の平均分子量を有した約80から92重量%のグリコールと、約1
000から5000の平均分子量を有した約1から35重量%のグリコールとを
含んでいる組み合わせ物と、 を含んで成る潤滑組成物を含んでいる。
【0019】 その潤滑組成物には約1から70重量%の研磨粒子が加えられ、その粘度は約
50から700cpsである。
【0020】 本願発明の主要な目的は、生産効率を高め、製品の品質を高めることができる
、硬質で脆い材料を切断する多ワイヤ鋸切断機に使用する潤滑組成物の提供であ
る。
【0021】 本願発明の別目的は、切断ワイヤに研磨材料を均等に分配させる切断潤滑組成
物の提供である。
【0022】 本願発明のさらに別目的は、優れた水溶性と水混性とを有し、毒性が非常に低
い潤滑組成物の提供である。
【0023】 本願発明のさらに別目的は、ワイヤで発生する摩擦熱を伝達する優れた伝熱性
を備えており、切断ワイヤの使用寿命を延ばすことができる切断潤滑組成物の提
供である。
【0024】 本願発明のまたさらに別な目的は、半導体や太陽電池に適した高品質の加工物
の提供である。
【0025】 本願発明のその他の目的及びその理解は以下の説明で得られるであろう。
【0026】
【発明の実施の形態】
本願発明によれば、新規な切断及び/又は潤滑組成物は、脆くて硬質な材料で
提供される塊体を分割する研削タイプ切断ユニットの効率及び生産性を高め、半
導体や太陽電池装置に対して高品質な部材を提供する。本願発明の潤滑組成物は
研磨粒子を懸濁状態に保ち、ワイヤと加工対象物との間に形成される楔形状部に
研磨粒子を均等に搬送させ、あるいは切断部の両側に研磨粒子を均等に提供し、
機械の精度と効率とを大きく改善させる。また、この潤滑組成物は切断ワイヤを
潤滑し、切断面で発生する摩擦熱を吸収する。これらの性能によってワイヤある
いは撚合線体の使用寿命は引き延ばされ、半導体や光電池装置には致命的である
対象物表面の乱れが回避される。
【0027】 本願発明のワイヤ式切断装置で使用される潤滑組成物は、 a)約1から35重量%の懸濁剤と、 b)ポリアルキレングリコールの組み合わせで成る約65から99重量%のグリ
コールベースと、 を含んで成る。
【0028】 アルキレン置換基は2から5の炭素原子を有しており、その組成物の粘度は約
50から700cpsである。
【0029】 そのグリコールベースは、約200から600、さらに好適には約400の平
均分子量を有した約80から11の重量%のポリアルキレングリコールと、約1
000から2000、さらに好適には約1500の平均分子量を有した約1から
20重量%のポリアルキレングリコールとの組み合わせ物を含んで成る。好適に
は、そのグリコールベースは、約85から99重量%のPEG400から600
(平均分子量)と、約1から15重量%のPEG1000から2000(平均分
子量)とを含んで成り、さらに好適には約87から99重量%のPEG400(
平均分子量)と、約1から13重量%のPEG1500(平均分子量)とを含ん
で成る。
【0030】 懸濁剤は極性溶剤、界面活性剤、シックナー、あるいはそれらの混合物から選
択される。
【0031】 懸濁剤として有用な極性溶剤は、アルコール、アミド、ラクタム、エステル、
エーテル、ケトン、グリコールエーテル、塩基性アミンあるいはスルホキシドで
ある。例示的な極性溶剤は、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド(D
MAC)、N-メチルピロリドン、(ガンマ)ブチロラクトン、ジ(エチレング
リコール)エチルエーテル、ジ(プロピレングリコール)メチルエーテル、トリ
(プロピレングリコール)モノメチルエーテルジエタノールアミン、アミノエト
キシエタノール等々である。潤滑組成物に使用する極性溶剤の使用量は約1から
35重量%であり、好適には約3から10重量%である。
【0032】 本願発明の組成物に使用できる界面活性剤は水溶性陰イオン系、非イオン系、
両性イオン系、双性イオン系または陽イオン系界面活性剤である。
【0033】 適した陰イオン界面活性剤は、例えば、アルキル置換ベンゼンスルホン酸のア
ルカリ金属塩、長鎖脂肪族硫酸塩のアルカリ金属塩、アルコール及びアルカリフ
ェノールから誘導されたアルカリ金属エーテル硫酸塩、アルカリ金属スルホ琥珀
酸塩、アルカリ金属サルコシネート、及びアルカリ金属タウリドである。適した
陽イオン界面活性剤は4基臭化アンモニウムと塩化アンモニウムであり、例えば
、セトリミドまたは塩化ベンズアルコニウムのごとき長鎖アルキル基を含んだも
のである。適した両性イオン界面活性剤はいわゆる“ベタイン”型及びイミダゾ
リン型の界面活性剤である。
【0034】 好適な陰イオン界面活性剤は、12から25の炭素原子を有したN,N-ジメ
チル-1-酸化テトラデカンアミンやN,N-ジメチル-1-酸化オクタデカンアミ
ン等のアルキルジメチルアミン酸化物、ソジウムラウロイルサルコシネート、ヘ
キサデシルジフェニルエーテルジスルホン酸のアルカリ金属塩、ドデシルジフェ
ニルエーテルジスルホン酸及びデシルジフェニルエーテルジスルホン酸のごとき
ジフェニルエーテルスルホネート、好適にはC10-C18アルキルベンゼンスルホ
ネートである。商業的に入手可能な陰イオン界面活性剤は、デソトまたはステフ
ァンコーポレーションが市販するC10-C13線状ソジウムアルキルベンゼンスル
ホネート(C11.7線状アルキルベンゼンスルホネート)である。パイロットコー
ポレーションのカルソフトF90 (C10-C13ソジウム線状アルキルアリルスルホネート)、ウィトココーポレー
ションのウィトコネート(1.7%の遊離油と3.0%のSO4を含んだ C12ソジウムアルキルアリルスルホネート)、アルブライト&ウィルソン社のナ
ンサHS80PF及びステパンコーポレーションのステパン剤S-1509-65
(C13カルシウムドデシルベンゼンスルホネート)も利用が可能である。
【0035】 本願発明に利用できる非イオン系界面活性剤は3種の基本タイプであるアルカ
リ酸化濃縮物、アミド及び半極性非イオン系のものである。
【0036】 そのアルカリ酸化濃縮物はアルカリ酸化物の有機疎水性化合物との濃縮で製造
される化合物として広く定義されており、脂肪族あるいはアルキル系芳香族でよ
い。いかなる疎水性基とでも濃縮される親水性またはポリオキシアルキレン基の
長さは簡単に調整が可能であり、親水性と疎水性要素の望むバランスがとれてい
る水溶性化合物が容易に得られる。
【0037】 そのようなアルカリ酸化濃縮物の例を挙げる。
【0038】 1.酸化エチレンでの脂肪族アルコールの濃縮生成物。脂肪族アルコールのア
ルキル鎖は直鎖でも枝鎖でも構わず、一般的に約8から22の炭素原子を含んで
いる。そのようなエトキシル化アルコール(ethoxylated alcohol)の例には、約
6モルの酸化エチレンの1モルのトリデカノールでの濃縮物、1モルのミリスチ
ルアルコールに対して約10モルの酸化エチレンで濃縮されたミリスチルアルコ
ール、ココナツ脂肪アルコールでの酸化エチレンの濃縮生成物(ココナツアルコ
ールは10から14の炭素原子であるアルキル鎖を有した脂肪アルコールの混合
物であり、その濃縮物は、1モルのアルコールに対して約6モルの酸化エチレン
、約9モルの酸化エチレンの前記ココナツアルコールでの濃縮生成物とを含んで
いる)がある。商業的に入手できるこのタイプの非イオン界面活性剤には、ユニ
オンカーバイド社のタージトール15-S-9、シェルケミカルカンパニのネオド
ール23-6.5及びプロクター&ギャンブル社のキョロEOBがある。
【0039】 2.酸化プロピレンのプロピレングリコールとの濃縮で得られる疎水性ベース
での酸化エチレンの濃縮生成物。この化合物の疎水性部分は約1500から18
00の分子量を有しており、もちろん非水溶性である。この疎水性部分のポリオ
キシエチレンモイエティの追加は分子の水溶性を高める。このタイプの化合物の
例には、ワイアンドットケミカルズコーポレーションから商業的に入手できるプ
ルロニック界面活性剤がある。
【0040】 3.酸化プロピレンとエチレンジアミンとの反応で得られる反応物での酸化エ
チレンの濃縮生成物。この生成物の疎水性ベースはエチレンジアミンと過剰酸化
プロピレンとの反応生成物で成り、約2500から約3000の分子量を有して
いる。このベースは酸化エチレンで、約40重量%から約80重量%のポリオキ
シエチレンを含み、約5000から約11000の分子量を有するように濃縮さ
れる。このタイプの非イオン界面活性剤の例にはワイアンドットケミカルズコー
ポレーションから商業的に入手できるテトロニック化合物がある。
【0041】 アミドタイプの非イオン界面活性剤の例には、約8から約18の炭素原子のア
シルモイエティを有した脂肪酸のアンモニア、モノエタノール及びジエタノール
アミドがある。これらアシルモイエティは通常は、例えばココナツオイル、パー
ムオイル、大豆オイル及び獣脂等の天然グリセリドから得られるが、例えば、石
油の酸化あるいはフィッシャ・トロプシュ法による一酸化炭素の水素添加によっ
て合成することもできる。
【0042】 半極性タイプの非イオン界面活性剤の例には酸化アミン、酸化ホスフィン及び
スルホキシドがある。これらの材料は1974年6月25日にベリーに対して発
行された米国特許第3819528号に開示されている。この特許を本願に援用
する。
【0043】 本願発明の実施に使用が可能な両性電解界面活性剤は、約8から約18の炭素
原子の長鎖を有した脂肪族アミンと、例えばカルボキシル、スルホ及びスルファ
トである陰イオン水溶基の誘導体として一般的に記述することができる。この定
義に当てはまる化合物の例にはソジウム-3-ドデシルアミノ-プロピオネート、
ソジウム-3-ドデシルアミノプロパンスルホネート及びドデシルジメチルアンモ
ニウムヘキサノエートがある。
【0044】 本願発明の実施に活用できる双生イオン界面活性剤は、脂肪族第四級アンモニ
ウムとホスホニウム並びに第三級スルホニウム化合物の内部中和誘導体として一
般的に定義される。その脂肪族基は直鎖でも枝鎖でも構わず、脂肪族置換基の1
つは約8から約18の炭素原子を含んでおり、さらに1つは、例えば、カルボキ
シル、スルホ、スルファト、ホスファトあるいはホスフォノである陰イオン水溶
解基を含んでいる。
【0045】 本願発明に利用できる陽イオン界面活性剤は、塩化ステアリルジメチルベンジ
ルアンモニウム、塩化ココナツジメチルベンジルアンモニウム、塩化セチルピリ
ジニウム、塩化セチルトリメチルアンモニウム等である。
【0046】 特に好適な界面活性剤は、それぞれ約1から約6の炭素原子を有した1または
2のアルキル基を有したソジウム及びポタシウムアルキルナフタレンスルホネー
トと、RSO3Mであるパラフィンスルホネート(Rは約8から約22の炭素原
子(好適には約12)を有した第一級または第ニ級アルキル基:Mはアルカリ金
属)である。
【0047】 本願発明に利用できるコグリコールはアルドリッヒケミカルカンパニが商業的
に販売している。
【0048】 好適にはシックナーも潤滑組成物に配合され、幅広い温度範囲にわたる拡散の
ため及び研削組成物に利用されるときに研磨粒子の分離を低減させるために潤滑
剤の一定の粘性と安定性とを維持する。典型的なシックナーには多糖類、多糖類
誘導体、アルキルセルロース、ポリアクリス酸、ポリアクリル酸のアルカリ金属
塩等がある。さらに適したものの例には、キサンタンガム、ラムサンガム、ヒド
ロキシメチルセルロース、カルボキシルメチルセルロース、デンプン、およびソ
ジウムポリアクリレートがある。
【0049】 本願発明に従って切断潤滑組成物を製造するためには、研磨粒子が潤滑組成物
に加えられ、研磨粒子が懸濁状態となるまで激しく攪拌される。
【0050】 ワイヤ式切断機のための切断潤滑組成物を提供するために前述の潤滑組成物に
使用される好適な研磨粒子材料は、アルミナ粉末、ダイアモンド、シリカ、タン
グステンカーバイド、シリコンカーバイド、ボロンカーバイド、あるいは他の適
した硬質研磨材料である。特に好適な研磨粒子材料の1つはシリコンカーバイド
である。一般的に、粒子サイズは1から500ミクロンであり、好適には10か
ら100ミクロンであり、さらに好適には10から……(次のページは出願時に
欠落)。 ……………………………………………………………………………………… 37.0グラム(92.5%)のPEGベースに3.00グラム(7.5%)のN
-メチルピロリドンが加えられて潤滑組成物が得られた。平均粘度は室温にてブ
ルックフィールドLVT粘度測定器#2スピンドルで測定され、約300cps
であった。
【0051】 粘度を約50から700cpsに保つため、界面活性剤及び/又はシックナー
を加えることができる。 例2 ビーカに入った例1の潤滑ベース組成物に、平均粒子サイズ約10から30ミ
クロンである7.06グラム(15%)のシリコンカーバイドが加えられた。攪
拌棒が混合物に入れられ、全てのシリコンカーバイド粒子が懸濁するまで5分以
上激しく攪拌された。
【0052】 例1と例2の手順は反復され、例3から例24の切断潤滑組成物が得られた。
それらの組成は表Iに示されている。 表I %PEG %PEG 懸濁剤 シリコンカーバイド 例 400 1500 % 全体の重量比 溶剤 (7.5%) 3 88.8 3.70 NMP 15 4 88.8 3.70 NMP 50 5 88.8 3.70 GBL 15 6 88.8 3.70 DEGEE 15 7 88.8 3.70 DPGME 15 8 88.8 3.70 TPGEE 15 9 88.8 3.70 DMAC 15 10 88.8 3.70 DMSO 15 11 90.65 1.85 NMP 15 12 89.73 2.77 NMP 15 13 88.8 3.70 NMP 15 14 88.8 3.70 NMP 15 15 88.8 3.70 NMP 15 16 88.8 3.70 DEA 15 シックナー% T-5000 17 95.86 1.50 1.67 15 18 96.00 1.50 2.50 15 界面活性剤% 19 98.5 1.50 ORCO-B-1 1.0 50 20 98.5 1.00 FC-170 0.5 20 21 97.5 2.00 FC-170 0.5 20 22 95.06 1.94 A 3.0 15 23 95.06 1.94 B 3.0 15 24 95.06 1.94 C 3.0 15 25 95.06 1.94 D 3.0 15 溶剤 界面活性剤 NMP= メチルヒ゜ロリト゛ン A=AMAK 1225 & 1689 (5:1) DMSO= シ゛メチルスルホキシト゛ B=AMAK 1225 & 1449 (5:1) DMAC= シ゛メチルアセタミト゛ C=AMAK 1689 GBL= カ゛ンマフ゛チロラクトン D=AMAK 1449 DEGEE=シ゛(エチレンク゛リコール)エチルエーテル DPGME=シ゛(フ゜ロヒ゜レンク゛リコール)メチルエーテル TPGEE=トリ(フ゜ロヒ゜レンク゛リコール)モノエチルエーテル DEA= シ゛エタノールアミン AMAK=アクソ゛ノーヘ゛ル会社 ORCO FC-170=3M会社 T 5000=ローム&ハース会社 表IIは本願発明の潤滑組成物の様々なPEGベース混合物の粘度測定値であ
る。全ての潤滑組成物(シリコンカーバイドを含まず)は7.5重量%のN-メチ
ルピロリドンを含んでいる。潤滑剤に対して、平均粒子サイズ約15ミクロンで
ある15重量%シリコンカーバイドが加えられた。粘度測定値は表に示される温
度でブルックフィールドLVT粘度測定器#2スピンドルで得られた。 表II 分子量 粘度 %PEG 追加PEG %追加PEG (cps)室温 例 400 26 96.30 1500 3.70 629 27 97.24 1500 2.76 499 28 97.46 1500 2.54 495 29 97.69 1500 2.31 456 粘度 25℃ 30 96.30 1450 3.70 243 31 97.22 1450 2.78 208 32 97.69 1450 2.31 104 33 98.15 1450 1.85 76 34 98.61 1450 1.39 74 35 99.07 1450 0.93 70 36 96.30 1500 3.70 480 37 97.22 1500 2.78 346 38 97.46 1500 2.54 214 39 97.69 1500 2.31 263 40 98.38 2000 1.62 213 41 98.61 2000 1.39 193 42 99.91 2000 0.93 137 43 99.54 2000 0.46 63 表IIの組成は記載粘度範囲内で高微粒子含有能力を示している。よって、比
較的に安定した懸濁を提供する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C10M 125/02 C10M 125/02 125/08 125/08 125/10 125/10 125/26 125/26 129/06 129/06 129/16 129/16 129/24 129/24 129/70 129/70 133/06 133/06 133/16 133/16 133/44 133/44 135/08 135/08 145/14 145/14 145/40 145/40 // C10N 10:06 C10N 10:06 10:12 10:12 20:04 20:04 20:06 20:06 Z 30:00 30:00 A 40:00 40:00 Z 40:22 40:22 Fターム(参考) 3C047 FF06 FF09 GG00 3C058 AA05 AA07 AA09 CA04 CB01 CB10 DA02 DA03 4H104 BB02C BB08C BB12C BB31C BB42A BB43A BB44C BE11C BE29C BG05C CB07C CB13A CB19C EA03C EA08C EB04 LA11 PA22 PA50 RA01

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ワイヤ式切断装置にて使用する潤滑組成物であって、 a)約1から35重量%の懸濁剤と、 b)約65から99重量%のポリアルキレングリコール類の組み合わせであっ
    て、そのアルキレン置換基は2から5の炭素原子を有しており、該組み合わせは
    、平均分子量が約200から600である約80から92重量%のグリコールと
    、平均分子量が約1000から5000である約1から35重量%のグリコール
    とで成り、約50から700cpsであるポリアルキレングルコール類と、 を含んで成ることを特徴とする潤滑組成物。
  2. 【請求項2】懸濁剤は極性溶剤、界面活性剤あるいはシックナーまたはそれら
    の混合物から選択されることを特徴とする請求項1記載の組成物。
  3. 【請求項3】極性溶剤はアルコール、アミド、ラクタム、エステル、エーテル
    、ケトン、ラクトン、グリコールエーテル、塩基性アミンあるいはスルホキシド
    またはそれらの混合物であることを特徴とする請求項2記載の組成物。
  4. 【請求項4】ラクタムはN-メチルピロリドンであることを特徴とする請求項
    3記載の組成物。
  5. 【請求項5】グリコールエーテルはジ(メチレングリコール)、エチルエーテ
    ル、ジ(プロピレングリコール)メチルエーテルまたはトリ(プロピレングリコ
    ール)モノメチルエーテルであることを特徴とする請求項3記載の組成物。
  6. 【請求項6】ヅルホキシドはジメチルスルホキシドであることを特徴とする請
    求項3記載の組成物。
  7. 【請求項7】極性溶剤は10重量%まで存在することを特徴とする請求項6記
    載の組成物。
  8. 【請求項8】界面活性剤は陰イオン、陽イオンあるいは非イオン界面活性剤で
    あることを特徴とする請求項2記載の組成物。
  9. 【請求項9】界面活性剤は約0.1から10重量%で存在することを特徴とす
    る請求項8記載の組成物。
  10. 【請求項10】シックナーは多糖類、アルキルセルロース、カルボキシルメチル
    セルロース、デンプン及びポリアクリス酸から選択されることを特徴とする請求
    項2記載の組成物。
  11. 【請求項11】シックナーは約10重量%まで存在することを特徴とする請求項
    2記載の組成物。
  12. 【請求項12】ポリアルキレングリコールはポリエチレングリコール、ポリプロ
    ピレングリコール、ポリイソブチレングリコール及びそれらのコグリコールで成
    る群から選択されることを特徴とする請求項1記載の組成物。
  13. 【請求項13】ポリアルキレングルコールはポリエチレングリコールであること
    を特徴とする請求項12記載の組成物。
  14. 【請求項14】潤滑組成物であって、 a)約0から10重量%の非イオン界面活性剤と、 b)約1から20重量%のN-メチルピロリドンと、 c)約80から99重量%のポリエチレングリコールの組み合わせと、 を含んで成り、該ポリエチレングリコールは、約300から500の平均分子量
    である約87から90重量%のポリエチレングリコールと、約1400から16
    00の平均分子量である約2から5重量%のポリエチレングリコールとで成り、
    約50から700cpsの粘度を有していることを特徴とする潤滑組成物。
  15. 【請求項15】ポリエチレングリコールの組み合わせは約95重量%のポリエチ
    レングリコール400と約5重量%のポリエチレングリコール1500とで成る
    ことを特徴とする請求項12記載の組成物。
  16. 【請求項16】切断潤滑組成物であって、 A.約30から99重量%の潤滑剤であって、 a.約1から20重量%の懸濁剤と、 b.約80から99重量%のポリアルキレングリコールの組み合わせであっ
    て、そのアルキレン基は2から5の炭素原子を有しており、該組み合わせは平均
    分子量が200から600である約80から92重量%のグリコールと、平均分
    子量が約1000から5000である約1から35重量%のグリコールとで成る
    組み合わせと、 を含んで成る潤滑剤と、 B.約1から70重量%の研磨微粒材料と、 を含んで成り、約50から700cpsの粘度を有していることを特徴とする切
    断潤滑組成物。
  17. 【請求項17】組み合わせは約95重量%のポリエチレングリコール400と約
    5重量%のポリエチレングリコール1500とで成ることを特徴とする請求項1
    3記載の組成物。
  18. 【請求項18】研磨材料はアルミナ、ダイヤモンド、シリカ、炭化ホウ素、シリ
    コンカーバイドあるいはタングステンカーバイドであることを特徴とする請求項
    16記載の組成物。
  19. 【請求項19】研磨材料はシリコンカーバイドであることを特徴とする請求項1
    8記載の組成物。
  20. 【請求項20】研磨材料は1から500ミクロンの粒度を有していることを特徴
    とする請求項18記載の組成物。
  21. 【請求項21】約1から50重量%の研磨微粒材料を含んでいることを特徴とす
    る請求項16記載の組成物。
  22. 【請求項22】切断潤滑組成物であって、 a)約15重量%のシリコンカーバイドと、 b)約6.5重量%のN-メチルピロリドンと、 c)約78.5重量%のポリエチレングリコールの組み合わせと、 を含んで成り、 該組み合わせは約86.5から91.5重量%のポリエチレングリコール400
    と、約8.5から13.5重量%のポリエチレングリコール1500とで成り、室
    温にて約600から650の粘度を有していることを特徴とする切断潤滑組成物
  23. 【請求項23】硬質で脆い材料のワイヤ切断方法であって、請求項14の切断潤
    滑組成物を用いて該材料を切断することを特徴とする方法。
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