JP2002535744A - 製造の際の品質の監視 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は殆ど同時の製造工程で製造される、多数の異なる工業製品タイプ（Ｐ、Ｐ′、Ｐ″）の品質を監視する方法に係る。本発明の目的は、固有の表示で制御されるべき個々のパラメータを監視するのではなくて、製造工程で得られる多数の製造データをできるだけ一目で判るように表示することである。そのために、種々の工業製品タイプの殆ど同時の製造は、製造ステーション（Ｓ１）における第１の製品タイプのサンプルからの工業製品パラメータ測定値の平均値を算出し、この平均値をスカラーの形の多元平均ベクトルで記憶することによって監視される。一定時間（Ｔ１）の経過後、多元平均は製造ステーションにおける数種の製品タイプの製造のための状態値（Ｔ^２）ヘ変換される。製造工程からの数個の平均値は一定時間の間に多元平均の個々のスカラーに影響を及ぼす。状態変数はＴ^２ホテリング統計値を用いて計算される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 製造工程において、製品の品質を監視する必要がある。この場合には、品質保
証および品質改善のため、または製造工程の監視のために統計的プロセス制御が
使用される。品質の監視については、原則的に以下の２つの要求がある。 ・機械操作者は、迅速な決定に基づいて機械操作を行う必要があり、これにより
直接に製造ロスおよび計量ロスを評価することができる。 ・品質の監視を委任された人は、迅速で包括的に製造工程および全ての製品の品
質についての状況を把握することが望ましい。この状況の把握は、オンライン制
御で行なう必要はなく、また、むしろ長期的な動向が提示されるべきであり、工
程の変更または誤差分析についての決定の基礎が形成されるべきである。

【０００２】 これまで、製品を管理することができる全てのパラメーターは、固有の図表、
例えば管理カードを用いて監視される必要があった。１つの製品が多数の製造工
程を通過した後で多数の管理カードが必要とされた。多数の種々の製品（製品タ
イプ）が製造ラインを通過する場合には、特に多数の管理カードにより評価する
必要があることが判明する。このために、コンピューターを用いて実現される種
々の数式が存在し、この数式は、管理限界の超過について多数のカードを自動的
に監視し、多くのデータ量をできるだけ一目で判るように表示することを試みて
いる。このために、図２は、ｊ個の異なる製品タイプ（ｐ＝１...ｊ）が通過す
る一連の工程（プロセス流れ図）からの製造工程を示し、この場合それぞれの製
品タイプ”Ｐ”について個々のカード（例えば、図６に記載のシワート（Shewar
t）カード）が作成されている。この方法は、原理的に制限された若干の欠点を
有している。 ・場合によっては、極めて多数の個々のカードは、もはや目視的に一目で判るよ
うに表示されることができない。製造ラインの全工業製品の全体的な品質の監視
を可能にする表示形式は、存在しない。 ・種々の製品タイプ、例えば高度なプラスの相関関係を有しかつ多数の個々のカ
ードを用いて製造の監視を実施する場合には、製造工程がなお統計的な管理下に
あるかどうかは、もはや十分に確実には確認することができない。種々の製品タ
イプの無作為抽出検査の平均値が管理限界内で、高度な相関関係を予想すること
ができる場合よりも極めて広範囲に散在している場合には、製品の１つが限界を
超過しないことが信号化されるとしても、高い確率を有する製造工程は、もはや
統計的な管理下にはない。

【０００３】 即ち、本発明は、数多くの種々の（多数の）製品タイプを殆んどの同時の製造
の際に統計的に監視可能であるように維持し、生じるデータ量を一目で判るよう
に表示し、かつ計量の証言力を向上させるという問題を回避させる。

【０００４】 この問題の解決のために、請求項１、１２または１４が提案される。

【０００５】 剰余生産物管理は、状態量の経過を表示することによって行なわれ、この状態
量の経過により、高い製品タイプ数を有する製造（特定用途向けＩＣ（ASIC）の
製造）において、製造工程および製品の品質は、迅速に一目で判るように管理さ
れることができる。この剰余生産物管理は、それぞれの製造工程において、この
少なくとも１つの製造工程を通過する全ての製品タイプの品質を共に監視しかつ
一目で判るように表示することを可能にする。規定された時間間隔の間に、計量
値は、製造ステーションから集積され、この時間間隔の経過後に初めて最終的な
状態値として表示される。

【０００６】 多数の製品を同時に監視するためには、（製品の平均値の管理のために）剰余
生産物管理を使用することができる。ディスプレーは、製造工程の統計的状態を
証言力をもって描写する。

【０００７】 本発明によれば、高い製品数（幅広の製品スペクトル）を有する製造において
、それぞれの製造工程を通過する全ての製品の品質を迅速で確実に監視し、品質
に関連するデータを目視的に一目で判るように表示することが可能になる。この
場合、剰余生産物管理は、場合によっては製造工程の緩徐な変更についての決定
の基礎として品質の長期の評価にも極めて良好に好適である。

【０００８】 剰余生産物管理についての統計的な基礎により、刊行物に公知のＴ^２ホテリン
グ統計学（Hotelling Statistik）が形成される。この統計的な基礎は、本明細
書中で、”殆んどの同時に”完成された極めて多数の（例えば半導体製造におけ
る）工業製品タイプに対する工業的パラメーターを監視するために使用される（
請求項１２）。

【０００９】 Ｔ^２剰余生産物管理を用いての品質の監視は、公知技術水準と比較して重要な
以下の利点を提供する。 ・工業的製造工程の統計的状態についての迅速で確実な証言が提供される。 ・種々に造形された製品間に存在しうる相関関係は、製出の際に一緒に考慮され
るので、相関関係の強さとは無関係に統計的に明らかな証言が可能である。 ・製造工程における全ての製品の品質は、一目で判るように表示されうる。 ・時間的に圧縮された製出により、長時間の品質管理および長時間の監視、殊に
製造工程における動向の認識が可能になる。

【００１０】 この方法は、製造工程において変化した製品の無作為抽出検査の平均値を使用
する。この平均値は、多元平均値の一部に入れられる。この多元平均値は、実際
にいつでも状態値に換算可能であるが、しかし、規定された時間間隔の後に初め
て、画面に表示されるかまたは図表に表示される最終的な状態値に換算される。
規定された時間間隔は、製造工程から明らかである。この規定された時間間隔は
、最大の時間間隔である（請求項２）が、しかし、第１のタイプ数の製品タイプ
が再び監視される製造ステーションにおいて物理的変化を受けることからも明ら
かになりうる。このことが起こる前に、同じ製品が計量された２つの平均値を生
じるであろう場合には、そのときまでに構成された多元平均値は、最終的な状態
値に換算される。もう１つの判断基準には、規定された時間間隔が予め設定され
うる。監視される全ての製品タイプが既に監視される製造ステーションにおいて
物理的に変化している場合には、全ての製品平均値を多元平均値内で完全なもの
にするためにもはや計量された他の平均値が不必要となった後で、同様に最終的
な状態値が換算されうる。しかし、この見解は、先に記載された判断基準を下廻
った場合であり、監視される製造ステーションにおける製品タイプの次の要求は
、いずれにせよ先に記載された判断基準を満たすであろうし、最終的な状態値の
計算を触発させることになるであろう。

【００１１】 新しい製品平均値が多元平均値に含まれる場合にはいつでも、状態の計算も頻
繁に行うことができる（請求項１０）ことが判明する。この値は、仮定のままで
あり、状態量の最終的な経過曲線には記入されない。

【００１２】 監視される製品タイプの数、即ち”第１のタイプ数”が変化する場合には、新
たに初期設定の運転を行なう必要がある。この場合、使用されるベクトルの次元
は、仮定による製品平均値と同様に変化する（請求項１１）。

【００１３】 仮定による製品平均値は、それぞれの製品タイプに対する予備計算から算出さ
れる値である（請求項９、請求項３）。製品平均値は、制限された範囲内で計量
される平均値を多元平均値（平均値ベクトル）に代替する。計算の際または状態
値の計算を導入する際に製品が監視される製造工程において物理的に変化してい
ない場合には、製品計量値（計量値からの製品平均値）は、所定の製品平均値に
よって代替される。平均値は、減法が使用される場合（請求項３）には、この製
品の計量値が個々の点としての状態量に含まれない、即ち中立のままであること
を生じる。

【００１４】 点状にプロットされた状態値を有する状態量の経過は、信号を出力するために
限界値と比較される（請求項７）。

【００１５】 前記および後記される剰余生産物管理は、一目で判るように製造工程から工業
的に計量されるデータを表示することに関する。画像を用いた表示は、多数の形
式で行なうことができ、オシログラムまたはグラフィックディスプレイを選択す
ることができ、同様に表示内容をカード上に記入することができるかまたはプリ
ンターによって印刷することができる。専ら表示それ自体は、その方法の点で工
業的概念に影響を及ぼすことはなく、この場合この工業的概念は、工業的計量値
から限局され工業的工程に依存して工業的工程の出発、経過および結果をもたら
す。本発明は、既に画像を用いた表示が印刷されるか、提示されるか、または記
入されて存在する場合には、完成されているかまたは完結されており、本発明の
（ヒトによる）評価は、本発明による成果の範囲外である。即ち、ヒトにより評
価される影響力の行使は、重要なものではなく、むしろこの影響力の行使は、完
成された本発明により初めて為されるものである。

【００１６】 図１は、本発明による剰余生産物管理の１例を具体的に示す。

【００１７】 図２は、１例においてシワート（Shewart）カードを作成する際の通常の方法
を示す。

【００１８】 図３は、剰余生産物管理を表示した時点での複数の例を示す。

【００１９】 図４は、製造工程Ｓ１においての計量を示す。

【００２０】 図５は、図１に関連する事象命令制御を示す。

【００２１】 図６は、シワートカードである。

【００２２】 図７は、カード上に記録された、多数の製品に由来する状態量Ｔ^２の線形およ
び対数の図表である。

【００２３】 図８は、カード上に記録された、多数の製品に由来する状態量Ｔ^２の線形およ
び対数の図表である。

【００２４】 概要的に示されているように、図２は、順次に互いに接する工程Ｓ３、Ｓ１お
よびＳ２（ならびに場合によっては他の工程）を有するプロセス流れ図における
工程の監視および多数の製品タイプの監視を示し、この場合製品タイプは、Ｐ、
Ｐ'、Ｐ''およびＰ'''で示されており、但し、運転変数ｐは、１、２、...、ｐ
、...ｊである。それぞれの製品タイプは、多数の平均値ｘを生じる、製品の無
作為抽出検査により算出される”製品平均値”を有する。多数の平均値ｘ_１...
ｘ_Ｎは、

【００２５】

【数１８】 を生じる。多数の製品タイプについてロス番号（ロス日付）が記録されている管
理図表が選択される。製品の多数のパラメーターを監視する場合には、それぞれ
のパラメーターについてかかる図表が作製される。製品平均値と管理限界との比
較により、プロセス流れ図の統計的な監視が生じ、それぞれ３つのパラメーター
を有する１０個の製品タイプの場合には、既に３０枚の管理カードを管理するこ
とが必要とされ、製品およびパラメーターをよりいっそう増加させて監視する場
合には、評価はますます困難になることが明らかになる。図２に示された図表は
、図６の例において拡大されて明示されている。この図６に示されたシワートカ
ードは、ロス日付と呼ばれる時間軸に無作為抽出検査に基づく平均値を示してい
る。特殊な製品または特殊なパラメーターに物理的な影響が及ぼされている場合
には、それぞれ１つの点が明らかとなる。従って、時間軸は、等間隔ではないが
、しかし、この時間軸は、常に監視されるパラメーターが変化したら直ちに対応
配置される点が横座標上に記入されることに関係する。この複数の点の関係によ
り、状態値ｘの経過が生じる。図表は、点状に工程から算出された平均値の関係
を示す。この平均値経過は、点線で記入されている上限Ｕ_ＣＬおよび下限Ｌ_ＣＬ と比較される。７月３日の日付（終わりから２番目の日付）で平均値は、上限を
超過している。

【００２６】 図１に本発明の方法を示し、これについて以下に説明する。この方法では、各
製品タイプの平均値

【００２７】

【数１９】 が共通に影響を受けるため、各製品共通の平均値

【００２８】

【数２０】 が得られ、これにより状態経過の共通の点を得ることができる。図１に記載の４
つの製品タイプからの状態量の経過を示すグラフ２０のみが得られただけでは明
確さに欠けるが、広範囲な製品スペクトル（多数の製品）により確実性が得られ
る。

【００２９】 図１に記載された製品フローを、更に図３に略図として示す。図３には、様々
な直径（径）が循環変化する各製品タイプが記載されている。記載された製品タ
イプ１〜５は製造工程Ｓ１を経る。

【００３０】 複数製品の管理を開始する前に、この複数製品管理により監視すべき測定可能
な製品パラメータを確定する。製品パラメータは、管理対象の全ての製品に対す
る技術的な処理工程により、測定装置により把握されていなければならない。可
能な製品パラメータは、構造体の幅ｄ１、ｄ２、層の厚さｂ１、濃度等である。
図４では、製造ステーションＳ１の後方に測定装置１４が示されており、これに
より出力も行われる。ここで測定ステーションＳ１は、ステーション１により物
理的に変更される場合には通常まず測定を行い、製品パラメータの測定値を得る
ように配置されている。物理的な変更とは、このステーションにおける少なくと
も１つの変更の取り決めを必要とするものであるため、測定が、「生産ステーシ
ョンを経た経過による」プロセス論理により行われる。この処理における具体的
構成単位は製造ステーションＳ１に統合されており、統合測定装置１４によって
実現されていることになる。すなわち、図４における略図は説明のための論理的
構成図に過ぎず、具体的な測定装置の構成を示すものではない。

【００３１】 一種類の１個または複数の製品が、監視のための製造工程Ｓ１を通過し、物理
的変更を受けた後、無作為抽出検査を行う。すなわち１個または複数のウエハで
、Ｎ回の無作為抽出検査による測定、ｍ_１Ｋｍ_Ｎが行われる。このＮ回の無作為
抽出検査から、製品についての無作為抽出検査の平均値

【００３２】

【数２１】 が得られる。

【００３３】

【数２２】 次いで、製造された各製品についても同様の処理が行われ、各製品に特有の無
作為抽出検査の平均値

【００３４】

【数２３】 が得られる、これが１種類の製品の製造平均値として用いられる。 製品は同時に製造されないにもかかわらず、圧縮され（簡潔な）、明確なグラフ
２０を得ることが可能であり、時間Ｔ_１が確定するため、これにより完成した製
品を統合し、「同時製造」と見なすことができる。すなわちこのグラフにより種
々の製品の厚さに対する調整を行うことができる。時間は一定ではないが、測定
値Ｔ_ａ、Ｔ_ｂ、Ｔ_ｃに対して一定となるように示される。 それぞれ製品管理を行う必要のあるすべての製品の平均値によりベクトル

【００３５】

【数２４】 を構成する。製品がステーション中の所定時間内で処理されない場合には、無作
為抽出検査平均値

【００３６】

【数２５】 に既知の製品平均値

【００３７】

【数２６】 を使用する。ベクトル

【００３８】

【数２７】 は一般に、ｊ個の製品を示すものである。

【００３９】

【数２８】

【数２９】 ：ｐ−ｔｅ製品(p=1, 2...j)の無作為抽出検査平均値、すなわち製品平均値が求
められる。全平均値の多次元描写により、ベクトル（平均値ベクトル）が構成さ
れる。このベクトルをＴ^２ホテリング統計に導入する。

【００４０】

【数３０】 Ｇｌ．３．１．１により、ベクトル

【００４１】

【数３１】 から、３．１．４による製品平均値を減じる。

【００４２】

【数３２】 これにより、個々の製品平均値の誤差のみが複数製品管理に影響することにな
る。この結果得られた差のベクトルを、Ｇｌ．３．１．１において、右左から反
転共変行列に乗ずる。次いで無作為抽出検査の回数Ｎを乗じたスカラーを用いて
得られた、所定時間に製造される（とみなされる）製品の組合わせに対するテス
ト分布の値を得る。このＴ^２値は、複数製品管理における状態値として用いられ
る（表示、データ保存、又はカルテ（カード）に記録される）。 テスト分布の値を計算するために、製品平均値

【００４３】

【数３３】 のベクトルと共変行列Ｓを使用する。これらは、複数製品管理を適用する際の、
具体的な使用の場合に設定される。ｋ監視行列（Ｇｌ．３．１．５）が、製品平
均値および共変行列の算出を行うための出発点を形成する。ｋ監視行列は、カル
テ挿入の際に作成されなければならない。これはｊ個の製品に対するＮ回の無作
為抽出検査を含んでいる。

【００４４】

【数３４】 ここで、添え字ｋは監視行列の数と、各製品の無作為抽出検査の数を示しており
、平均値と共変行列の評価のために用いられている。ｋは予備走行とも呼ばれる
。無作為抽出検査の平均値

【００４５】

【数３５】 ｐ−ｔｅ製品用の無作為抽出検査平方偏差Ｓ^２ _ｋｐおよびｋ−ｔｅ予備走行測定
値が、Ｇｌ．３．１．５から下式として求められる。

【００４６】

【数３６】 ｋ−ｔｅ無作為検査における製品ｐ_１と製品ｐ_２の相関共分散Ｓ_{ｋｐ１ｐ２}を以
下に示す。

【００４７】

【数３７】 次工程では、ｋに対する予備走行測定値により無作為抽出検査の平均値を求め、
ｐ−ｔｅ製品に対する製品平均値を求める。Ｒは予備走行値ｋの最大値である。

【００４８】

【数３８】 個々の製品の全製品平均値をベクトルで記載することにより、Ｇｌ．３．１．４
から製品平均値

【００４９】

【数３９】 の目的のベクトルが得られる。

【００５０】

【数４０】 Ｇｌ．３．１．１０とＧｌ．１．１１を行列表示し、目的の対称共変行列Ｓを
得る。

【００５１】

【数４１】 このような監視方法により、全プロセスフローを通過する製品または製品タイ
プの品質を監視し、品質の基準となる誤差をシグナル化する。これにより、製造
工程を通過する製品の非常に多くの品質を、単一の、明確な上述の制御により監
視することが可能となる。ここで、同じ製造工程を通過した製品間の相関関係も
考慮される。更に多数の製品を、異なる製造頻度で得ること、更に全く相違する
順序で製造工程の監視が行われる（Ｓ１として記載）ことが考慮されている。更
に制御図（グラフ）２０を評価することによる、製造工程の統計的安定性判断も
信頼できるものである。

【００５２】 製造において複数製品管理を行う前に、製品の平均値と共変行列用の評価を行
うこともできるが、これを以下に説明する。

【００５３】 以下に複数製品管理の使用が重要とされる分野について更に詳細に説明するた
め、製品経過（生産フロー）の変形例について述べる。

【００５４】 一実施の形態における製造における付加的な特徴は、要求が迅速かつ柔軟にカ
スタムメイド可能という点である。このため、多数の異なる製品、製造パラメー
タ、製造順序、ロスの大きさにより異なる多数の製品を、ある製造フローを通過
させることができ、完全な品質管理と製造工程管理が行われる。

【００５５】 図２に記載した従来の監視コンセプトによると、各製品と監視すべき各工程の
パラメータ用に、例えば図６に示すような管理カルテを更に使用しなければなら
ず、監視限界超過が監視されるものである。多数の製品には非常に多くの管理カ
ルテが用いられるため、管理カルテの監視および評価も必要であった。

【００５６】 一製造工程を通過した各製品に対して一枚の管理カルテが使用され、これを監
視するのではなく、製品平均値からＴ^２値が計算される本発明の方法では、製造
プロセスを通過した全製品に対し複数製品管理が行われる。これにより、全製品
の品質と製造工程の安定性が、迅速かつ明確に監視される。

【００５７】 各製品が同時に単一の製造工程を通過するのではなく、連続的に製造されるた
め、正確なグラフを得るために、所定の調節を行った後の製品の平均値

【００５８】

【数４２】 を統合する。

【００５９】 図３に、単一製造工程を通過する５個の異なる製品（タイプ１〜５）が示され
ている。製品によりロスの程度が異なり、これを大きさの異なる丸印により示す
。複数製品管理を行うため、順次製造される製品タイプ１から製品タイプ５の測
定値は、最大時間Ｔ_ｍａｘに到達するか、または製品の更新がステーションにて
完了するまでの間を総合するものとなる。各期間から複数製品管理またはこれを
示すグラフ２０における点Ｔ_ａ、Ｔ_ｂ、Ｔ_ｃが得られる。即時的期間において直
線的に製造されていない製品は、Ｔ^２値の計算の考慮に入れられず、即時的Ｔ^２ −点には含まれない。

【００６０】 図３は、多数時点ｔ_１、ｔ_２、ｔ_３、ｔ_４およびｔ_５を具体的に示しており、
これにより所定期間Ｔ_１が確定されるが、状態経過２０に関連する測定値Ｔ_ａ、
Ｔ_ｂ、Ｔ^ｃがプロットまたは記載される時点に確定されるものである。これらの
測定値の計算については図５に説明するが、ここで図３との共通の関係を説明す
る。０〜ｔ_１の第一の期間において、製品タイプ１、２および４が製造される。
ここで製品タイプ１が初めに、次いで製品タイプ２および４が同時に製造される
。時点ｔ_１までに製品タイプ１が、製造ステーションＳ１における物理的な変更
を要求すると、図中に示した点Ｔ_ｂが得られ、プロットされる。製品３および５
に関しては、０〜ｔ_１の期間に製造工程Ｓ１において製造の要求がなされないた
め、ここでは製造のための測定値が示されず、図４に記載の装置で測定可能とさ
れている。製品タイプ３および５用に準備され、式３．１．１による計算に準じ
た、上述のような予め得られた平均値を使用する代わりに、大きさが影響する貢
献は行わない。

【００６１】 ｔ_１〜ｔ_２における第二の時間間隔において、製品タイプ１、３、４および５
が製造される。ここでは、製品２は製造されないか、または物理的状態が変化し
ない。このステーションで、製品タイプ３が物理的影響を更新し、式３．１．１
により新しい状態を得、これがＴ_ｃとしてグラフ２０にプロットされる。製品タ
イプ２に対しては、ｔ_１〜ｔ_２の期間に、中立的な、製品平均値を使用する。

【００６２】 ｔ_２〜ｔ_３における時間範囲において、製品タイプ１〜５の全てがステーショ
ン１で物理的な変化を受ける。製品タイプ５に対して作用した直後に、新しい状
態値Ｔ_ｄが得られる。事実上同時に、製品タイプ３が、ステーションＳ１におけ
る新しい物理的変化を要求するため、いずれにせよ製品タイプの物理的処理を繰
り返すまでの時間Ｔ_１が終了したものとみなされる。

【００６３】 上述の３期間から、すでに一度完成した製品の再度の更新処理が、第一の時間
Ｔ_１の終了時点確定していることがわかる。しかしながら監視される製品タイプ
の全てがステーションＳ１で製造されてるため、次に出される要求は全ての場合
に基準を満たしていることになり、Ｔ_１がただちに完了したものとみなされ、グ
ラフ２における状態値がプロットされる。

【００６４】 以下の時間間隔Ｔ_１’は最大時間に等しく、Ｔ_１’＝Ｔｍａｘと設定されてい
る。ここでは製品タイプ１〜３および５が製造される。最大確定期間内に、ステ
ーションＳ１から他の製品タイプの物理的変更が行われないため、状態値Ｔ_ｅの
計算が行われた時に極限値が使用、確定される。製品タイプ４に対してはこの時
間時間Ｔ_１’における製品平均値が採用される。

【００６５】 最後に記載した期間Ｔ_１”では５種全ての製品タイプが完成する。時間ｔ_１、
ｔ_２、ｔ_３による期間よりも短い期間である。この期間は時間ｔ_４とｔ_５との間
に示されているため、状態値Ｔ_ｆは上述の式３．１．１により計算される。

【００６６】 このように得られた、状態値Ｔ２を含むグラフ２０は、製造工程Ｓ１における
製造品質の基準となる。これが、上限値Ｕ_ｃｌと比較され、これを超過すると不
規則性を有するものとされる。

【００６７】 製品タイプの物理的な修正が行われる場合、それぞれ必須とされる状態値の計
算はすぐには行われず、生産フローにより確定された期間の終了後に行われる。
まず、グラフ２０に関連する状態値Ｔ_ａ、Ｔ_ｂ、．．．が必要である。図５のフ
ローチャートにも状態値はその都度計算されることが示されているが、例えばグ
ラフ２０内の曲線には書き込まれない。既に説明した、最長期間か、または製造
工程Ｓ１（製造ステーション）で全ての製品が製造されるまでの期間に相当する
期間Ｔ_１が終了した後に書き込みが行われる。以前に必要とされたグラフ２０に
おける状態値がプロットされず、製造ステーションで更新された同一の製品タイ
プが物理的変更を受けた時点が最新の基準となる。

【００６８】 図４に測定値として記載されている処理量のデータは、半導体製造プロセスか
ら得られた構造体厚さ、または構造体幅を示すものでもよく、平均値ベクトルの
インクリメント補足を構成するものであり、個々の平均値が次第に種々の製造タ
イプの測定値で補充され、式３．１．１により１つの状態値に換算される。計算
が行われるまでの測定値は、一時的に製品平均値に加えられ、結果に対しては中
立的でるである。上記工程によると、平均値ベクトルにおける１つの測定値のみ
が受け入れられ、他の全ての測定値が製品平均値となるように思われる。しかし
ながら、理論的には最大期間Ｔ_ｍａｘでは製品タイプの加工要求が全くないため
、計算１５から製品平均値のみが用いられ、これにより中立的な状態値が算出さ
れる。

【００６９】 また、図３に示された前記方法は、図５の作業系統図の範囲に示すことができ
、この場合この作業系統図は、記載内容を完全に明示するために本明細書中に取
り入れられたものであり、それにより当業者であれば、直ちにこの作業系統図に
示された試問（菱形）および関数（矩形）により状態量の経過を調査する制御プ
ロセスを確認することができる。記載されたプログラム事象命令プランは、ソフ
トウェア技術の事象命令制御の特徴であるが、しかし、相応するハードウェア素
子においても実現されることができる。

【００７０】 出発点”スタート（Start）”は、分散行列および製品平均値（この平均値の
ベクトル）の計算ならびに状態量の経過が比較される限界の計算である。製品の
実際の計量値は、計量の際に図４に示されたどの計量値がなお記載されるべきで
あるのかにより受け取られる。図５の制御により、関数ブロック９０にグラフ２
０での状態量の図表が示されるが、しかし、ループが存在するために繰返し上書
きされ、即ち一時的な性質を有する。また、事象命令８２に基づいて、一時的な
状態量は、アラームの触発に使用され、また、相応する変法においては、アラー
ムの触発および属する事象命令８２は、内部ループの出力後に関数ブロック７１
の前で初めて設定されることができる。

【００７１】 ループ内の関数ブロック７０は、ループの前の入力関数と同一であり、この間
数ブロックは、図４に明示された、プロセスの流れからの計量値の受け取りまた
は図４に特殊に示された製造ステーションＳ１に関連する。

【００７２】 先に図３につき記載された判断基準は、図５の事象命令８１に見い出される。
判断基準の１つを満たす場合には、時間間隔Ｔ_１が確定されているかまたは進行
している。状態グラフ２０に結合点が生じる。

【００７３】 新しい製品をさらに加える場合には、１つの製品は削除されるかまたは計量さ
れるパラメーターが変更され、事象命令８０はループの一端に導入され、再び記
載されたループに合流させるために、初めに”スタート”後について記載したよ
うに開始される。

【００７４】 古い値の相応する過剰蓄積によって平均値ベクトルがステップバイステップで
満たされることは、関数７２または７１中で行なわれる。図表２０の経過の状態
値は、関数９０から明らかになるかまたは前記したように関数７１の範囲内で明
らかになる。

【００７５】 図４からの状態値の表示２０は、図５に詳説された換算部１５の結果である。
換算部１５に影響を及ぼす、プロセスの計量値は、計量ステーション１４、即ち
計量装置として製品タイプ１、２、ｐ〜ｊの一定のパラメーターをステーション
Ｓ１中での物理的影響の後に計量する計量ステーションによって図４に示されて
いる。それぞれの製品タイプは、計量される一定のパラメーターに対応配置され
ている。また、製品タイプの多数のパラメーターを計量することができるが、し
かし、少なくとも１つのパラメーターが必要とされる。無作為抽出検査品から取
り出される計量値により、１つの平均値が形成され、この平均値は、換算部１５
の場合に存在し、この換算部は、図５において関数７２と９０との間で詳説され
ているかまたは方程式３．１．１で詳説されている。

【００７６】 どのようにして物理的パラメーターを計量するかについては、図４には詳説さ
れていない。それというのも、この確定は、製品に依存するからである。半導体
製造の場合には、ＰＡＬまたはＡＳＩＣにおける一定の半導体素子の構造体幅ｂ
１または構造体厚さｄ１、ｄ２は、根拠として使用されることができ、これら構
造体幅または構造体厚さは、それぞれのプロセスによって影響を及ぼされ、どの
プロセスに従うのかにより計量が行なわれる。

【００７７】 図４において、図１に示されたような他の製造工程Ｓ２、Ｓ３等が接続される
ことができることが明らかとなり、この場合この製造工程には、製品タイプ１〜
ｊも通過する。この場合、それぞれの製造工程には、多数の製造工程Ｓ１、Ｓ２
、Ｓ３からのプロセスの流れの統計的管理を保持するために、図表２０が設けら
れている。

【００７８】 図表２０のもたらされる状態経過の１例は、図７、８に記載されており、この
図表は、図６と比較して類似の外観にも拘わらず、本質的に証言力をもち一目で
判るような表示を含んでいる。それというのも、図６のシワートカードの場合よ
りも多くのプロセス情報が個々に置かれた状態点に含まれているからである。異
なるプロセスで４つの異なる層を４つの異なる製品上に施こす場合の炉の例は、
結果的に図７および８に示されており、最後に詳説される。

【００７９】 この方法は、製造法の一目で判る圧縮された図表を生じ、この図表を用いてプ
ロセスの統計的状態および製品の品質が”一瞥して”評価されうる。個々の製品
の製品平均値の組合せに基づき、使用分野は、例えばＳＰＣ代理人またはライン
リーダー（Linienleiter）によって重視された製造工程の分析にある。

【００８０】 統計的な基礎としては、分布が一変量のｔ試験の一般論であるホテリングＴ^２ 統計学が使用される。Ｇｌ．３．１．１は、ホテリング統計学を示す。

【００８１】

【数４３】

【００８２】 グラフにプロットされた剰余生産物管理は、簡易化して表わされており、同様
に古典的な管理カード、仮定による試験も簡易化して表わされている。無作為抽
出検査品の平均値が基礎となる全体の公知の平均値または十分に良好に評価され
た平均値と区別されるかどうかが試験される。試験分布の値が先に確定された管
理限界内にある場合には、”無作為抽出検査品が元来の基礎全体に属する”とい
うのは、仮定であると思われる。プロセスは、高い確率で統計的管理下にある。
試験分布の値が管理限界外にある場合には、高い確率でまさに記載された仮定は
退ける必要がある。このプロセスは、もはや統計的管理下にはない。

【００８３】 管理限界は、タイプＩまたはタイプＩＩの欠陥の確率が極めて少なくなるよう
に選択される。タイプＩの欠陥：仮定は間違って退けられる。タイプＩＩの欠陥
：仮定は間違って取り入れられる。

【００８４】 剰余生産物管理は、製品の組合せについての証言に関連する。限界に違反が生
じた場合には、これは、考察される製造工程が高い確率でもはや統計的管理下に
はないことを意味する。管理限界に違反が生じた場合には、製品の品質に関連し
て、以下の２つの場合を区別することができる：所属する製品平均値を考察した
場合に１個以上の製品が管理限界（例えば、３σ限界）に違反していることが明
らかになるか、或いは多数の製品が同時に管理限界付近にあることが明らかにな
るかの何れか１つである。この場合には、実際に製品は、品質に関連してなお申
し分のない状態であるが、しかし、プロセスの統計的安定性は、それにも拘わら
ず、疑問視される必要がある。それというのも、多数の製品が同時に管理限界付
近にあることは全く考えられないからである。

【００８５】 製品が考察される時間内に完成されない場合には、”測定値”として製品平均
値は、製品の基礎全体の評価される平均値と見なされる。この場合、この製品は
、試験分布の値に影響を及ぼさない。

【００８６】 剰余生産物管理は、管理限界の超過の監視とともになお他の評価可能性を提供
する。プロセスの監視の際に異なる製造頻度のために個々のカードで目視するこ
とができなくなる長期の傾向は、製造工程の日付の時間的に年代順の配置および
表示によって良好に確認することができる。それによって、剰余生産物管理は、
個々のカードを用いての監視と比較して監視すべきプロセスについての多数の情
報を提供する。

【００８７】 監視すべき全ての製品は同一の処理過程を通過するので、完成後に無作為抽出
検査品の計量値から算出される、製品の無作為抽出検査品の平均値は、別の製品
の無作為抽出検査品の平均値と相関関係にある。製品間の相関関係の強さに応じ
て、全ての製品または多数の製品が平均値に対して一定の値にあるという確率は
変化する。製品が互いに強く相関関係にある場合には、１個の製品が製品平均値
と或る程度の偏差を有する限り、多数の別の製品も同様にそれぞれの製品平均値
と大きな偏差を有するという確率は高い。製品間の相関関係が少ない場合には、
この確率は、低下する。従って、製品間の相関関係の強さは、試験分布Ｔ^２の値
および管理限界の位置に対して影響を及ぼす。それ故、製品間の相関関係は一定
になり、場合によっては一定の時間間隔で適合される。

【００８８】 実際の使用のためには、古典的な管理カードの場合のように、所謂ＩＩＮＤ条
件が満たされる。このＩＩＮＤ条件は、管理により分析される日付が互いに無関
係で普通に分布される必要があるという意味である。この要求は、実際にしばし
ば暗黙の前提条件となる。この場合、ＩＩＮＤ条件は、一面で無作為抽出検査品
の平均値の全てのベクトルが互いに無関係であり、他面、個々の製品の無作為抽
出検査品の平均値が多項分布（multinormalverteilt）であるということを意味
する。

【００８９】 剰余生産物管理についての管理限界の正確な位置は、証言力を強くする。古典
的なシワートカードの場合には、管理限界は、例えば平均値の３倍の標準偏差（
３σ限界）よりも遙かに離れている試験分布の値の場合に限界の超過が起こる程
度に設けられている。この挙動は、剰余生産物管理の場合にも達成される。即ち
、現在の製品組合せ物からの製品の１つが３σ限界に違反する場合には、剰余生
産物管理は、限界の超過に応じる。

【００９０】 異なる製品間の相関関係が強すぎない場合には、それぞれの製品タイプを順次
に例えば３σ値に置くことにより、管理限界Ｕ_ＣＬは計算されることができ、一
方、それぞれ別の製品タイプは、製品平均値に置かれる。これらのベクトルは、
ホテリング統計学に投入される。こうして形成された最小のＴ^２状態値は、管理
限界Ｕ_ＣＬである。

【００９１】 剰余生産物管理の関数形式は、実施例につきさらに明示される。そのために、
１つの炉が考慮され、この場合には、異なるプロセスで４つの異なる層厚が４つ
の異なる製品上に施こされる。製品の１つは、しばしば利用される製品タイプに
由来し、別の製品は、小さなロス量を有し、殆んど製造されない。

【００９２】 目標の設定は、全部で４つの製品の層厚を監視することである。圧縮された表
示を得るために、異なる製品が最大で４日間の時間内で製造される場合には、製
品は、剰余生産物管理の際に１つのデータ点に統合される。４つの考慮される製
品の１つ以上の考慮される炉について最大で４日間の時間内で物理的に影響を及
ぼされない（製造されない）場合には、計算すべき状態値（データ点）について
は、特殊な製品の製品平均値が取られ、最大の時間の経過後の状態値が計算され
る。最大の時間は、製造すべき製品に依存して著しく変動することができ、この
最大の時間は、数時間と数日間の間であることができるが、しかし、本明細書中
で考慮される実施例の場合には、熱的に緩徐な炉に基づいてもっと早期に設定さ
れ、記載された４日間が取られる。この場合取られた最大の時間は、図３におい
てそこに示された時間点ｔ_３とｔ_４との間の時間に相当する。

【００９３】 表示のために、平均値、変数および共変値が算出された。これにより、４×４
分散行列が課され（GI.3.15）、逆数にされた（GI.3.16）。

【００９４】

【数４４】 管理限界は、実施例においてＵ_ＣＬ＝５９．２８が選択される。

【００９５】 ４つの製品の中のオシログラム１つがシワートカードで３σ限界を超過した場
合には、常に、図７、８の剰余生産物管理の際に限界違反が明らかになる。１つ
以上の製品が３σ限界付近にある場合には、剰余生産物管理品の状態値も管理限
界Ｕ_ＣＬ付近にある。シワートカードの場合には、その際に遭遇する、限界違反
と一致するという確認は、画像を用いて表示されていない。それというのも、４
つの考慮された製品のシワートカードは、個別的に示されないからである。しか
し、限界Ｕ_ＣＬは、点線で明らかに明示されているので、図５に記載のどの状態
値がアラームを触発するのかは、図７および８につき確認する可能である。

【００９６】 総括的に云えば、剰余生産物管理または剰余生産物管理図表は、古典的な個別
カードに対する補充として融通の利く製造において明らかな利点をもたらすとい
うことができる。製造工程の統計的な安定性は、製品の品質の簡単で一目で判る
ように監視とともに、簡単に一目で判るように監視されることができる。監視す
べきカード数は、剰余生産物管理の導入によって劇的に減少される。剰余生産物
管理は、製品の組合せの時間的圧縮および表示のために、品質管理および長期の
分析に特に好適であり、また傾向の認識に対する基礎として特に好適である。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明による剰余生産物管理の１例を具体的に示す略図。

【図２】 １例においてシワート（Shewart）カードを作成する際の通常の方法を示す略
図。

【図３】 剰余生産物管理を表示した時点での複数の例を示す略図。

【図４】 製造工程Ｓ１においての計量を示す略図。

【図５】 図１に関連する事象命令制御を示す略図。

【図６】 シワートカードを示す略図。

【図７】 カード上に記録された、多数の製品に由来する状態量Ｔ^２の線形および対数の
図表を示す略図。

【図８】 カード上に記録された、多数の製品に由来する状態量Ｔ^２の線形および対数の
図表を示す略図。

【符号の説明】

１０、１１、１２ 計量装置、 １５ 換算部、 ２０ 図表、 ｂ１ 構造
体幅、 ｄ１、ｄ２ 層厚、 ｊ タイプ数、 ｍ_１、ｍ_２、ｍ_Ｎ 計量値、
Ｐ、Ｐ'、Ｐ''およびＰ''' 工業製品タイプ、 Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３ 製造ステー
ション、 Ｔ１ 確定された時間間隔、 Ｔ^２、Ｔ_ａ、Ｔ_ｂ、Ｔ_ｃ 状態量、
Ｔ_ｍａｘ 最大の時間間隔、 Ｕ_ＣＬ 限界値

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 １９９ ０２ ７９５．１ (32)優先日 平成11年１月25日(1999．1．25) (33)優先権主張国 ドイツ（ＤＥ） (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＪＰ，ＵＳ (72)発明者 エヒスナー，リヒアルト ドイツ、Ｄ−90449、ニュルンベルク、ヴ ェルニッツシュトラーセ、17 (72)発明者 チャフタリー，トーマス ドイツ、Ｄ−90762、ヒュルト、ルドルフ −ブライトシャイト−シュトラーセ、16 (72)発明者 シュツルツィツュースキー，ピオトル ドイツ、Ｄ−52134、ヘルツォゲンラト、 アム、シュペーンブルフ、２ (72)発明者 プフィツナー，ロタル ドイツ、Ｄ−91054、エルランゲン、シュ パルドルファーシュトラーセ、57 (72)発明者 シュナイダー，クラウス ドイツ、Ｄ−91088、ブベンロイト、アム、 ザントベルク、33 (72)発明者 ヘニッヒ，ペーター ドイツ、Ｄ−99198、フィーゼルバッハ、 フィンケンヴェーク、３ Ｆターム(参考） 3C100 AA56 BB27 BB33 5H223 AA05 CC08 DD03 DD09 EE30 FF01 FF08

Claims (21)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 製造工程に、多数の連続する製造ステーション（Ｓ１、Ｓ２
   、Ｓ３）を有し、製造ステーションの少なくとも１つ（Ｓ１）に対して状態量（
   Ｔ^２）の経過が点状に算出されかつ表示（２０）され、 （ａ）監視すべき製品タイプの数が第１のタイプ数（ｊ）として確定され、 （ｂ）少なくとも１つの製造ステーション（Ｓ１）中で影響を及ぼされる工業製
   品パラメーター（ｄ１、ｄ２、ｂ１）が確定され、この監視対象の製品タイプ（
   Ｓ１）の少なくとも１つの工業製品パラメーターを測定するための、計量装置（
   １０、１１、１２）がこの製造ステーションに対応配置されている擬似的平行製
   造工程で製造される、多数の殊に異なる工業製品タイプ（Ｐ、Ｐ'、Ｐ''および
   Ｐ'''）の品質を監視する方法であって、 製造工程で （ｃ）製造ステーション（Ｓ１）中で物理的状態が変化した（第１の）製品タイ
   プの無作為抽出検査品を第１のタイプ数の中から取出し、計量装置を用いて無作
   為抽出検査品の確定された工業製品パラメーターについて（第１の）計量値を定
   め、 （ｄ）固有の平均値 【数１】 を計量値から計算し、この平均値 【数２】 を第１のタイプ数に対応配置された多元平均値 【数３】 で記憶させ、 （ｅ）少なくとも１つの他の製品タイプ（Ｐ'）に対する少なくとも１つの他の
   測定値 【数４】 で多次元平均値の 【数５】 の補充を行うために工程（ｃ）および（ｄ）を繰返し、 （ｆ）確定された時間間隔（Ｔ１）の経過後に（初めて）多数の個々の平均値か
   らなる記憶された多元平均値を共に状態値に換算し、経過の点（Ｔ_ａ、Ｔ_ｂ、Ｔ _ｃ ）として状態量（Ｔ^２（ｔ））を記憶させるかまたは画像を用いて表示させる
   ことを特徴とする、多数の殊に異なる工業製品タイプ（Ｐ、Ｐ'、Ｐ''およびＰ'
   ''）の品質を監視する方法。
2. 【請求項２】予め設定された最大の時間間隔（T_ｍａｘ）が終結しているか
   または製品タイプの第１のタイプ数の１つが再び少なくとも１つの第１のタイプ
   数の製造ステーション（Ｓ１）中で物理的に影響を及ぼされ、殊に製品タイプ（
   全て）が製造ステーション（Ｓ１）を通過するように第１の時間間隔を確定する
   ことを特徴とする、請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】 状態値が多元平均値のＴ^２ホテリング統計から算出し、計量
   された多元平均値と所定の平均値ベクトルとの誤差のみを考慮するために、計算
   （１５）の前に多元平均値 【数６】 を予め設定された多元平均値から減算するかまたはこの逆の計算を行なうことを
   特徴とする、請求項１記載の方法。
4. 【請求項４】 予め設定された多元平均値 【数７】 を多数の予備計量値（ｋ）から製造工程中に算出し、殊に製造工程で実現させる
   ことを特徴とする、請求項１から３までのいずれか１項に記載の方法。
5. 【請求項５】 殊にウェファー上に半導体を製造する方法またはそれぞれ予
   め設定された固有の構造体の製品タイプごとのカスタムメイドの特殊な半導体構
   造単位を製造するために、工業製品パラメーターが層厚（ｄ１、ｄ２）、構造体
   幅（ｂ１）、構造体長さまたは故障ファクター、例えば欠陥密度または粒子密度
   ならびに、特に製造中の製品タイプ中、製品タイプに接してかまたは製品タイプ
   上での他の長さの尺度であることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか
   １項に記載の方法。
6. 【請求項６】 殊に製造ステーション（Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３）の最大能力、製
   品タイプ、タイプ数としての製品タイプの数または最大の時間分解能に依存して
   、最大の時間間隔（T_ｍａｘ）が数時間ないし数日間とすることを特徴とする、
   請求項２記載の方法。
7. 【請求項７】 状態量（Ｔ^２；Ｔ_ａ、Ｔ_ｂ、Ｔ_ｃ）の経過と限界値とを比較
   するため、および状態量の経過が少なくとも１つの点で予め設定された限界値（
   Ｕ_ＣＬ）を超過する場合に、信号、殊に報告を発するために、限界値（Ｕ_ＣＬ）
   を確定することを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法
   。
8. 【請求項８】 画像を用いた表示（２０）をモニター上で行なうかまたはカ
   ード上に印刷して行なうことを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項
   に記載の方法。
9. 【請求項９】 対象の製品タイプが最大の時間間隔（T_ｍａｘ）の間に製造
   ステーション（Ｓ１）中でこの製品タイプの物理的状態に影響を及ぼされていな
   い場合に、製品タイプの平均値 【数８】 を製品タイプの第１のタイプ数で当該の工業製品パラメーターに関連した数（ｆ
   ）による換算１５で得られた、測定値の影響なしに予め設定された測定値とする
   ことを特徴とする、請求項１記載の方法。
10. 【請求項１０】 多元平均値に新たに計量された平均値 【数９】 を補充する場合に、記憶された多元平均値をその度ごとに状態量の経過の仮定の
    点に換算する（９０、１５）ことを特徴とする、請求項１記載の方法。
11. 【請求項１１】 第１のタイプ数が変化した場合には、予め設定されたかま
    たはそれぞれ予め設定された平均値 【数１０】 を、監視される全ての製品タイプに対して新たに確定することを特徴とする、請
    求項４または９記載の方法。
12. 【請求項１２】 製造工程に、多数の連続する製造ステーション（Ｓ１、Ｓ
    ２、Ｓ３）を有し、製造ステーションの少なくとも１つ（Ｓ１）に対して状態量
    （Ｔ^２）の経過が点状に算出（２０）され、 （ａ）監視すべき製品の数が第１のタイプ数（ｊ）として確定され、 （ｂ）少なくとも１つの製造ステーション（Ｓ１）中で影響を及ぼされる工業製
    品パラメーター（ｄ１、ｄ２、ｂ１）が確定され、この監視対象の製品タイプ（
    Ｓ１）の少なくとも１つの工業製品パラメーターを測定するための、計量装置（
    １０、１１、１２）がこの製造ステーションに対応配置されている擬似的平行製
    造工程で製造される、多数の殊に異なる工業製品タイプ（Ｐ、Ｐ'、Ｐ''および
    Ｐ'''）の品質を監視する方法であって、 製造工程で （ｃ）製造ステーション（Ｓ１）中で物理的状態が変化した第１の製品の無作為
    抽出検査品を第１のタイプ数の中から取出し、計量装置（１０、１１、１２）を
    用いて確定された工業製品パラメーターについて計量値（ｍ_１、ｍ_２、ｍ_Ｎ）を
    定め、 （ｄ）固有の平均値 【数１１】 を計算し、続けて計量装置による計量値から計算し、この平均値 【数１２】 を第１のタイプ数（ｊ）に対応配置された多元平均値 【数１３】 で記憶させ、 多数の個々の平均値からなる記憶された多元平均値を共に状態値に換算し、状態
    量（Ｔ^２（ｔ））の経過の点（Ｔ_ａ、Ｔ_ｂ、Ｔ_ｃ）として記憶するかまたは画像
    を用いて表示し（２０）、この場合状態値は、Ｔ^２ホテリング統計学について計
    算されることを特徴とする、多数の殊に異なる工業製品（Ｐ、Ｐ'、Ｐ''）の品
    質を監視する方法。
13. 【請求項１３】 計量された平均値ベクトルと所定の平均値ベクトルとの多
    元的な誤差のみを考慮するために、記憶された平均値ベクトルを計算（１５）す
    る前に予め設定された平均値ベクトル 【数１４】 から減算するかまたはこの逆の計算を行なうことを特徴とする、請求項１２記載
    の方法。
14. 【請求項１４】 製造工程に、多数の連続する製造ステーション（Ｓ１、Ｓ
    ２、Ｓ３）を有し、製造ステーションの少なくとも１つ（Ｓ１）に対して状態量
    （Ｔ^２）の経過が点状に算出され、 （ａ）監視すべき製品の数が第１のタイプ数（ｊ）として確定され、このタイプ
    数は１より大きく、 （ｂ）少なくとも１つの製造ステーション（Ｓ１）中で影響を及ぼされる工業製
    品パラメーター（ｄ１、ｄ２、ｂ１）が確定され、この監視対象の製品タイプ（
    Ｓ１）の少なくとも１つの工業製品パラメーターを測定するための、計量装置（
    １０、１１、１２）がこの製造ステーションに対応配置されている擬似的平行製
    造工程で製造される、多数の殊に異なる工業製品タイプ（Ｐ、Ｐ'、Ｐ''および
    Ｐ'''）の品質を監視する方法であって、 製造工程で （ｃ）製造ステーション（Ｓ１）中で物理的状態が変化した第１の製品の無作為
    抽出検査品を第１のタイプ数の中から取出し、確定された工業製品パラメーター
    について計量値（ｍ_１、ｍ_２、ｍ_Ｎ）を定め、 （ｄ）固有の平均値 【数１５】 を計算し、この固有の平均値を計量装置による計量値から計算し、この平均値 【数１６】 を一次元値として第１のタイプ数（ｊ）に対応配置された多元平均値 【数１７】 に記憶させ、 多数の一次元平均値からなる記憶された多元平均値を共に状態値に換算し、状態
    量（Ｔ^２（ｔ））の経過の点（Ｔ_ａ、Ｔ_ｂ、Ｔ_ｃ）として記憶させるかまたは画
    像を用いて表示する（２０）ことを特徴とする、多数の工業製品（Ｐ、Ｐ'、Ｐ'
    '）の品質を監視する方法。
15. 【請求項１５】 工業製品が種々の製品または工業的に異なる製品であるこ
    とを特徴とする、請求項１４記載の方法。
16. 【請求項１６】 監視される工業製品パラメーターが異なる工業製品の、本
    質的に同一なパラメータであることを特徴とする、請求項１５記載の方法。
17. 【請求項１７】 状態値をＴ^２ホテリング統計学により計算することを特徴
    とする、請求項１４記載の方法。
18. 【請求項１８】 少なくとも新たに算出される状態値の記憶および表示（２
    ０）を行なうことを特徴とする、請求項１４記載の方法。
19. 【請求項１９】 処理工程（ｃ）および（ｄ）を監視すべき製品タイプの他
    の１つの同一の工業製品パラメーターについて実施し、この場合”固有の平均値
    ”は、多元平均値の別の位置での”他の固有の平均値”として記憶されることを
    特徴とする、請求項１４記載の方法。
20. 【請求項２０】 一次元平均値（スカラー）の数が一次元平均値において少
    なくとも第１のタイプ数（ｊ）に相当することを特徴とする、請求項１４記載の
    方法。
21. 【請求項２１】 全ての一次元値が実際の測定値およびそれに属する一次元
    平均値を用いた時間的に先行する状態値への時間的に直接に先行する換算以来、
    更新されていない場合には、既に状態値への換算が行なわれていることを特徴と
    する、請求項１４記載の方法。