JP2002535238A - Ohバリアを有する光ファイバ母材及びその製造方法 - Google Patents
Ohバリアを有する光ファイバ母材及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2002535238A JP2002535238A JP2000595945A JP2000595945A JP2002535238A JP 2002535238 A JP2002535238 A JP 2002535238A JP 2000595945 A JP2000595945 A JP 2000595945A JP 2000595945 A JP2000595945 A JP 2000595945A JP 2002535238 A JP2002535238 A JP 2002535238A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- layer
- cladding layer
- refractive index
- fiber preform
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C13/00—Fibre or filament compositions
- C03C13/04—Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
- G02B6/03694—Multiple layers differing in properties other than the refractive index, e.g. attenuation, diffusion, stress properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
- G02B6/03616—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference
- G02B6/03622—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 2 layers only
- G02B6/03627—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 2 layers only arranged - +
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/31—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/10—Internal structure or shape details
- C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/10—Internal structure or shape details
- C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
- C03B2203/24—Single mode [SM or monomode]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
光ファイバ母材及びその製造方法を提供する。サブストレートチューブ11と、サブストレートチューブの内部のクラッド層12と、クラッド層の屈折率より大きく、コアの中心に向かっていくほど増加された値を有するクラッド層の内部にあるコア層13と、OH拡散係数が低い物質を蒸着してサブストレートチューブ内に含まれたOHをクラッド層へ浸透することを防止するために、サブストレートチューブとクラッド層との間に形成された第1バリアとからなる。本発明において、P2O5のない外部OHバリア及び内部OHバリアは、蒸着過程が遂行される間、サブストレートチューブとクラッド層との間及びクラッド層とコア層との間でそれぞれ蒸着される。また、屈折率は、コア層での中心へ向かっていくほど増加する。
Description
【0001】
本発明は、内付け化学気相蒸着法(Modified Chemical Vapor Deposition;M
CVD)で形成された光ファイバ母材に関し、特に、OHバリアを有する光ファ
イバ母材及びその製造方法に関する。
CVD)で形成された光ファイバ母材に関し、特に、OHバリアを有する光ファ
イバ母材及びその製造方法に関する。
【0002】
単位母材から線引された長さが長い光ファイバを線引する利点のために、光フ
ァイバの生産性を増加させるためには大口径の母材を製造しなければならない。
内付け化学気相蒸着法による光ファイバ母材を製造する場合、蒸着されるコア層
をどのぐらい厚くすることができるかが大口径の母材を制作する鍵になる。しか
し、大口径の母材を制作する場合において、チューブ凝縮及び増加されたチュー
ブ厚さのために前記コア層に熱が十分に伝達されない。その結果、コア層のガラ
ス化(sintering and consolidation)が利かない問題が発生する。
ァイバの生産性を増加させるためには大口径の母材を製造しなければならない。
内付け化学気相蒸着法による光ファイバ母材を製造する場合、蒸着されるコア層
をどのぐらい厚くすることができるかが大口径の母材を制作する鍵になる。しか
し、大口径の母材を制作する場合において、チューブ凝縮及び増加されたチュー
ブ厚さのために前記コア層に熱が十分に伝達されない。その結果、コア層のガラ
ス化(sintering and consolidation)が利かない問題が発生する。
【0003】 単一モード光ファイバは、クラッド層及びコア層を蒸着して形成される。ディ
プレストクラディング−単一モード(Depressed Cladding - Single Mode;DC-
SM)タイプの場合、光ファイバ母材の製造のために、クラッド層は、蒸着温度
及び屈折率を減少させるために、P2O5、GeO2、及びFでドーピングされた
SiO2(シリカ)を蒸着して形成される。光を伝送するコア層は、GeO2でドー
ピングされたSiO2を蒸着して形成され、前記蒸着されたクラッド層及びコア
層は、凝縮されてクロージングされる。
プレストクラディング−単一モード(Depressed Cladding - Single Mode;DC-
SM)タイプの場合、光ファイバ母材の製造のために、クラッド層は、蒸着温度
及び屈折率を減少させるために、P2O5、GeO2、及びFでドーピングされた
SiO2(シリカ)を蒸着して形成される。光を伝送するコア層は、GeO2でドー
ピングされたSiO2を蒸着して形成され、前記蒸着されたクラッド層及びコア
層は、凝縮されてクロージングされる。
【0004】 内付け化学気相蒸着法による光ファイバ母材を製造する工程において、蒸着さ
れた層の厚さが厚くなるに従って、蒸着工程でチューブの自己凝縮(self-collap
se)が発生し、結果的に、前記蒸着された層の厚さがさらに増加する。また、厚
く蒸着された層をガラス化するために、高温のバーナーが必要である。さらに、
凝縮及びクロージング工程時間が長くなって、サブストレートチューブが長時間
高温に露出するようになる。従って、300kmまたはより長い光ファイバを線
引できる母材の形成が難しい。
れた層の厚さが厚くなるに従って、蒸着工程でチューブの自己凝縮(self-collap
se)が発生し、結果的に、前記蒸着された層の厚さがさらに増加する。また、厚
く蒸着された層をガラス化するために、高温のバーナーが必要である。さらに、
凝縮及びクロージング工程時間が長くなって、サブストレートチューブが長時間
高温に露出するようになる。従って、300kmまたはより長い光ファイバを線
引できる母材の形成が難しい。
【0005】 また、クラッド層とコア層との直径比(b/a)を小さくして母材を制作する場
合、OH吸収損失が急激に上昇する。すなわち、サブストレートチューブ(subst
rate tube)に含まれた微量の水分(一般的に、数ppm程度)が蒸着層に浸透しつ
つ、クラッド層に蒸着されたSiO2またはP2O5と結合してP-O-HまたはS
i-O-H結合を形成する。コア層にまで浸透したOHは、SiO2またはGeO2 と結合してSi-OまたはGe-O結合を解除し、その代わり、Si-O-Hまたは
Ge-O-H結合を形成する。
合、OH吸収損失が急激に上昇する。すなわち、サブストレートチューブ(subst
rate tube)に含まれた微量の水分(一般的に、数ppm程度)が蒸着層に浸透しつ
つ、クラッド層に蒸着されたSiO2またはP2O5と結合してP-O-HまたはS
i-O-H結合を形成する。コア層にまで浸透したOHは、SiO2またはGeO2 と結合してSi-OまたはGe-O結合を解除し、その代わり、Si-O-Hまたは
Ge-O-H結合を形成する。
【0006】 このようなO-HまたはP-O-H結合は、特定の波長領域の吸収バンドによる
光損失を追加的に発生させる。単一モード光ファイバの場合において、光損失に
大きく影響する波長領域は、O-H結合の場合、1.24μm及び1.385μmの
帯域であり、P-O-H結合の場合、1.2〜1.8μmの帯域である。また、コア
領域に浸透したOHは、非架橋酸素(Non-bridging Oxygen;NBO)を形成する
。その結果、コア層に密度のばらつき(density fluctuation)が発生して散乱損
失(scattering loss)が増加する。
光損失を追加的に発生させる。単一モード光ファイバの場合において、光損失に
大きく影響する波長領域は、O-H結合の場合、1.24μm及び1.385μmの
帯域であり、P-O-H結合の場合、1.2〜1.8μmの帯域である。また、コア
領域に浸透したOHは、非架橋酸素(Non-bridging Oxygen;NBO)を形成する
。その結果、コア層に密度のばらつき(density fluctuation)が発生して散乱損
失(scattering loss)が増加する。
【0007】 また、蒸着層が厚くなるにつれて蒸着工程と同時に進行するガラス化工程の間
チューブの内外径が収縮する。従って、最適の直径比(クラッド直径/コア直径 =
b/a)を確保し難く、これにより、OH拡散を防止するのに十分の層の厚さを
確保できないので、OHによる損失が大きく増加する。
チューブの内外径が収縮する。従って、最適の直径比(クラッド直径/コア直径 =
b/a)を確保し難く、これにより、OH拡散を防止するのに十分の層の厚さを
確保できないので、OHによる損失が大きく増加する。
【0008】 従来技術において、サブストレートチューブからコア層へのOHの浸透を防止
するためには、クラッド層の厚さを厚く形成しなければならない。しかし、この
ような方法を利用して大口径の母材を制作する場合、チューブ収縮(tube contra
ction)によって最適の直径比を確保し難く、コア層の蒸着工程の間、チューブ層
の厚さの増加によって熱伝達効率性を減少させる。従って、高温のバーナーが使
用され、チューブが高温に長時間露出することにより、OHによる損失が一層大
きくなる。
するためには、クラッド層の厚さを厚く形成しなければならない。しかし、この
ような方法を利用して大口径の母材を制作する場合、チューブ収縮(tube contra
ction)によって最適の直径比を確保し難く、コア層の蒸着工程の間、チューブ層
の厚さの増加によって熱伝達効率性を減少させる。従って、高温のバーナーが使
用され、チューブが高温に長時間露出することにより、OHによる損失が一層大
きくなる。
【0009】 前述した従来技術の光ファイバ及び母材の例として、次のような米国特許が挙
げられる。 アサム(Asam)などによる米国特許第4,114,980号明細書の題名「Low Lo
ss Multilayer Optical Fiber」には、蒸着シリカチューブから形成された光フ
ァイバについて記述されている。OHの移動を防止するために、シリカチューブ
とクラッド層との間にバリア層を挿入する。
げられる。 アサム(Asam)などによる米国特許第4,114,980号明細書の題名「Low Lo
ss Multilayer Optical Fiber」には、蒸着シリカチューブから形成された光フ
ァイバについて記述されている。OHの移動を防止するために、シリカチューブ
とクラッド層との間にバリア層を挿入する。
【0010】 ブラスジク(Blaszyk)などによる米国特許第4,385,802号明細書の題名
「Long Wavelength,Low-Loss Optical Waveguide」には、コアを有する光ファ
イバ、P2O5を有する第1内部クラッド層、及びP2O5をコアに拡散することを
防止するために、第1内部クラッド層とコアとの間に位置した第2内部クラッド
層について記述されている。
「Long Wavelength,Low-Loss Optical Waveguide」には、コアを有する光ファ
イバ、P2O5を有する第1内部クラッド層、及びP2O5をコアに拡散することを
防止するために、第1内部クラッド層とコアとの間に位置した第2内部クラッド
層について記述されている。
【0011】 コヘン(Cohen)などによる米国特許第4,447,127号の題名「Low Loss Si
ngle Mode Fiber」には、二重クラッド光ファイバについて記述されている。 ル・セルジェント(Le Sergent)などによる米国特許第5,090,979号の題
名「Method of Manufacturing An Optical Fiber Preform Having Doped Claddi
ng」には、光ファイバの母材について記述されている。前記母材は、支持層、基
板層、コア、及びクラッドを有する。
ngle Mode Fiber」には、二重クラッド光ファイバについて記述されている。 ル・セルジェント(Le Sergent)などによる米国特許第5,090,979号の題
名「Method of Manufacturing An Optical Fiber Preform Having Doped Claddi
ng」には、光ファイバの母材について記述されている。前記母材は、支持層、基
板層、コア、及びクラッドを有する。
【0012】 アントス(Antos)などによる米国特許第5,838,866号明細書の題名「Opt
ical Fiber Resistant To Hydrogen-Induced Attenuation」には、中心コアを有
する光ファイバ、ゲルマニウムジオキサイド(germanium dioxide)を含む内部ク
ラッド領域、及び外部クラッド領域について記述されている。
ical Fiber Resistant To Hydrogen-Induced Attenuation」には、中心コアを有
する光ファイバ、ゲルマニウムジオキサイド(germanium dioxide)を含む内部ク
ラッド領域、及び外部クラッド領域について記述されている。
【0013】 オー(Oh)などによる米国特許第5,942,296号明細書の題名「Optical Fi
ber Preform」には、蒸着層及びクラッド層を有し、クラッドとして使用される
第1石英チューブ、及び前記第1石英チューブをジャケッティングする第2石英
チューブから形成された光ファイバ母材について記述されている。前記第1石英
チューブの使用は、OH濃度を減少させる。 しかし、このような米国特許に記述された発明が前述した問題を解決すること
はできない。
ber Preform」には、蒸着層及びクラッド層を有し、クラッドとして使用される
第1石英チューブ、及び前記第1石英チューブをジャケッティングする第2石英
チューブから形成された光ファイバ母材について記述されている。前記第1石英
チューブの使用は、OH濃度を減少させる。 しかし、このような米国特許に記述された発明が前述した問題を解決すること
はできない。
【0014】
従って、本発明の目的は、改善した光ファイバ母材を提供することにある。 本発明の他の目的は、光ファイバ母材を製造する改善した方法を提供すること
にある。 本発明のまた他の目的は、より大きい光ファイバ母材を提供することにある。
にある。 本発明のまた他の目的は、より大きい光ファイバ母材を提供することにある。
【0015】 本発明のさらに他の目的は、300km以上の光ファイバが線引できる光ファ
イバ母材を提供することにある。 本発明のなお他の目的は、ファイバから線引された単一モード光ファイバの屈
折率の分布が改善した光ファイバ母材及びその製造方法を提供することにある。
イバ母材を提供することにある。 本発明のなお他の目的は、ファイバから線引された単一モード光ファイバの屈
折率の分布が改善した光ファイバ母材及びその製造方法を提供することにある。
【0016】 本発明のなおかつ他の目的は、小さい直径比を有する光ファイバを形成する光
ファイバ母材を提供することにある。 本発明のなおかつ他の目的は、ヒドロキシルによる低い光損失を有する光ファ
イバを形成する光ファイバ母材を提供することにある。
ファイバ母材を提供することにある。 本発明のなおかつ他の目的は、ヒドロキシルによる低い光損失を有する光ファ
イバを形成する光ファイバ母材を提供することにある。
【0017】 前記のような目的を達成するために、光ファイバ母材を提供する。前記光ファ
イバ母材は、サブストレートチューブと、クラッド層と、前記クラッド層の屈折
率より大きく、前記コアの中心に向かっていくほど増加された値を有するコア層
と、OH拡散係数が低い物質を蒸着して前記サブストレートチューブ内に含まれ
たOHを前記クラッド層へ浸透することを防止するために、前記サブストレート
チューブと前記クラッド層との間に形成された第1バリアとからなることを特徴
とする。
イバ母材は、サブストレートチューブと、クラッド層と、前記クラッド層の屈折
率より大きく、前記コアの中心に向かっていくほど増加された値を有するコア層
と、OH拡散係数が低い物質を蒸着して前記サブストレートチューブ内に含まれ
たOHを前記クラッド層へ浸透することを防止するために、前記サブストレート
チューブと前記クラッド層との間に形成された第1バリアとからなることを特徴
とする。
【0018】
以下、本発明に従う好適な実施形態を添付図面を参照しつつ詳細に説明する。
下記説明において、本発明の要旨のみを明瞭にするために公知の機能及び構成に
対する詳細な説明は省略する。
下記説明において、本発明の要旨のみを明瞭にするために公知の機能及び構成に
対する詳細な説明は省略する。
【0019】 図1は、一般的なDC-SM光ファイバの屈折率プロファイルを示す。図1に
おいて、参照番号11は、サブストレートチューブ、参照番号12は、クラッド
層、参照番号13は、コア層を示す。前記サブストレートチューブに対して、参
照符号ΔN+は、コア層の屈折率差を、参照符号ΔN-は、クラッド層の屈折率差
を示す。参照文字aは、コア層の直径を、bはクラッド層の直径を示す。
おいて、参照番号11は、サブストレートチューブ、参照番号12は、クラッド
層、参照番号13は、コア層を示す。前記サブストレートチューブに対して、参
照符号ΔN+は、コア層の屈折率差を、参照符号ΔN-は、クラッド層の屈折率差
を示す。参照文字aは、コア層の直径を、bはクラッド層の直径を示す。
【0020】 クラッド層12を形成するために蒸着されたP2O5は、比較的低い570℃の
温度で溶けるので、P2O5を他の物質とともに使用することにより、工程温度を
減少させることができ、蒸着効率も増加させることができる。一方、P2O5は、
大きい吸湿性を有するので、サブストレートチューブ11に含まれているOHを
コア層13に伝達するOHブリッジとしての役割を行う。その結果、コア層13
でのOHによる損失が増加するようになる。
温度で溶けるので、P2O5を他の物質とともに使用することにより、工程温度を
減少させることができ、蒸着効率も増加させることができる。一方、P2O5は、
大きい吸湿性を有するので、サブストレートチューブ11に含まれているOHを
コア層13に伝達するOHブリッジとしての役割を行う。その結果、コア層13
でのOHによる損失が増加するようになる。
【0021】 図2Aは、本発明によるDC-SM光ファイバの屈折率プロファイルを示す。
図2Aにおいて、参照番号21は、サブストレートチューブを、参照番号24は
、第1バリアである外部クラッド層を、参照番号22は、中間クラッド層を、参
照番号25は、第2バリアである内部クラッド層を、参照番号23は、コア層を
示す。前記サブストレートチューブ21に比べて、参照符号ΔN+は、コア層2
3の屈折率差を、参照符号ΔN−は、中間クラッド層22の屈折率差を示す。参
照文字aは、コア層23の直径を、bは中間クラッド層22の直径を示す。
図2Aにおいて、参照番号21は、サブストレートチューブを、参照番号24は
、第1バリアである外部クラッド層を、参照番号22は、中間クラッド層を、参
照番号25は、第2バリアである内部クラッド層を、参照番号23は、コア層を
示す。前記サブストレートチューブ21に比べて、参照符号ΔN+は、コア層2
3の屈折率差を、参照符号ΔN−は、中間クラッド層22の屈折率差を示す。参
照文字aは、コア層23の直径を、bは中間クラッド層22の直径を示す。
【0022】 図2Aに示すように、本発明による光ファイバ母材は、それぞれ異なる化学組
成からなる3つのクラッド層を有する。すなわち、第1バリアとしての外部クラ
ッド層24、第2バリアとしての中間クラッド層22、及び内部クラッド層25
から構成される。
成からなる3つのクラッド層を有する。すなわち、第1バリアとしての外部クラ
ッド層24、第2バリアとしての中間クラッド層22、及び内部クラッド層25
から構成される。
【0023】 前記外部クラッド層24は、高いOH濃度を有するサブストレートチューブ2
1とOHの伝達媒介体であるP2O5を含む中間クラッド層22との間に位置し、
サブストレートチューブ21内のOHを中間クラッド層22へ浸透することを防
止する。また、内部クラッド層25は、中間クラッド層22とコア層23との間
に位置し、サブストレートチューブ21から中間クラッド層22へ浸透したOH
または中間クラッド層22の蒸着工程の間、化学物質に含まれた水分によるOH
が光導波領域であるコア層23に浸透することを防止する。
1とOHの伝達媒介体であるP2O5を含む中間クラッド層22との間に位置し、
サブストレートチューブ21内のOHを中間クラッド層22へ浸透することを防
止する。また、内部クラッド層25は、中間クラッド層22とコア層23との間
に位置し、サブストレートチューブ21から中間クラッド層22へ浸透したOH
または中間クラッド層22の蒸着工程の間、化学物質に含まれた水分によるOH
が光導波領域であるコア層23に浸透することを防止する。
【0024】 サブストレートチューブのOH含有量は、数十ppb程度であり、蒸着用シリ
カのOH含有量は、数ppbである。また、シリカは、蒸着用化学物質のうちO
H成分に対して構造的に一番安定した物質であり、高温でOH浸透を効率的に遮
断できる。従って、外部クラッド層24及び内部クラッド層25は、P2O5を含
んでおらず、これらの屈折率は、SiO2またはSiO2+GeO2を利用して制
御される。
カのOH含有量は、数ppbである。また、シリカは、蒸着用化学物質のうちO
H成分に対して構造的に一番安定した物質であり、高温でOH浸透を効率的に遮
断できる。従って、外部クラッド層24及び内部クラッド層25は、P2O5を含
んでおらず、これらの屈折率は、SiO2またはSiO2+GeO2を利用して制
御される。
【0025】 光ファイバ母材の屈折率の特性を調べてみると、コア層23の屈折率は、中間
クラッド層22の屈折率より大きく、また、コアの中心に向かっていくほど一定
の比率で増加する。光ファイバが急速に線引されるとき、急冷による熱応力(the
rmal stress)が発生する。ここで、コア層23の屈折率は、境界部分の屈折率Δ
Noから中心部分の屈折率ΔNまで増加し、これにより、熱応力による光ファイ
バの光損失及び機械的な特性の劣化を防止できる。そこで、低損失及び小さい直
径比の特性を有する光ファイバを高速で獲得できる。例えば、コア層の外周での
屈折率は、コア層23の中心部分での屈折率の75〜99%であることが望まし
い。
クラッド層22の屈折率より大きく、また、コアの中心に向かっていくほど一定
の比率で増加する。光ファイバが急速に線引されるとき、急冷による熱応力(the
rmal stress)が発生する。ここで、コア層23の屈折率は、境界部分の屈折率Δ
Noから中心部分の屈折率ΔNまで増加し、これにより、熱応力による光ファイ
バの光損失及び機械的な特性の劣化を防止できる。そこで、低損失及び小さい直
径比の特性を有する光ファイバを高速で獲得できる。例えば、コア層の外周での
屈折率は、コア層23の中心部分での屈折率の75〜99%であることが望まし
い。
【0026】 外部クラッド層24及び内部クラッド層25の屈折率は、サブストレートチュ
ーブ21またはコア層23の屈折率よりは大きくないように調整され、中間クラ
ッド層22の屈折率と同一であるか、またはほとんど等しいように調整される。
ーブ21またはコア層23の屈折率よりは大きくないように調整され、中間クラ
ッド層22の屈折率と同一であるか、またはほとんど等しいように調整される。
【0027】 一般的に、サブストレートチューブ内の蒸着層のOH濃度は、1/1000ま
たはそれ以下である。クラッド蒸着工程の間、工程温度を低めるためにクラッド
層を蒸着するにP2O5を使用する。P2O5は、大きい吸湿性を有するので、サブ
ストレートチューブからコア層にOHを伝達するブリッジとしての役割を行う。
その結果、コア層でのOHによる損失が増加する。従って、OH拡散係数が低い
物質でドーピングされたOHバリアは、高いOH濃度を有するサブストレートチ
ューブとOHの伝達媒介体であるP2O5を含むクラッド層との間、そして、クラ
ッド層とコア層との間で蒸着されて、サブストレートチューブからコア層へのO
H拡散を防止するようになる。
たはそれ以下である。クラッド蒸着工程の間、工程温度を低めるためにクラッド
層を蒸着するにP2O5を使用する。P2O5は、大きい吸湿性を有するので、サブ
ストレートチューブからコア層にOHを伝達するブリッジとしての役割を行う。
その結果、コア層でのOHによる損失が増加する。従って、OH拡散係数が低い
物質でドーピングされたOHバリアは、高いOH濃度を有するサブストレートチ
ューブとOHの伝達媒介体であるP2O5を含むクラッド層との間、そして、クラ
ッド層とコア層との間で蒸着されて、サブストレートチューブからコア層へのO
H拡散を防止するようになる。
【0028】 図2Bは、本発明による完成した光ファイバ母材の縦断面を示す図であって、
サブストレートチューブ21a、外部クラッド層24a、中間クラッド層22a
、内部クラッド層25a、及びコア23aを説明する。母材の製造方法において
、SiCl4、GeCl4、POCl3、及びBCl3を含む高純度キャリアガス及
び酸素は、ガラスサブストレートチューブ21aに注入される。その後、サブス
トレートチューブ21aが加熱されると、熱酸化によってサブストレートチュー
ブ21aの内部表面上にスート(soot)のような酸化物が蒸着される。
サブストレートチューブ21a、外部クラッド層24a、中間クラッド層22a
、内部クラッド層25a、及びコア23aを説明する。母材の製造方法において
、SiCl4、GeCl4、POCl3、及びBCl3を含む高純度キャリアガス及
び酸素は、ガラスサブストレートチューブ21aに注入される。その後、サブス
トレートチューブ21aが加熱されると、熱酸化によってサブストレートチュー
ブ21aの内部表面上にスート(soot)のような酸化物が蒸着される。
【0029】 本発明において、吸湿性が大きいP2O5を使用せず、OH拡散係数が低い物質
を蒸着して外部クラッド層を形成し、熱伝達特性及び屈折率を考慮して工程温度
を減少させ、蒸着効率性を増加させることができる物質をさらにドーピングして
中間クラッド層を形成する。その後、吸湿性が大きいP2O5を使用せず、OH拡
散係数が低い物質を蒸着して内部クラッド層を形成する。光信号を伝達するコア
層は、そのコアの中心に向かっていくほど一定の比率で屈折率が増加するように
形成される。従って、各蒸着層の異なる組成物で原料ガスを注入して混合バルブ
及び遮断バルブを制御する。
を蒸着して外部クラッド層を形成し、熱伝達特性及び屈折率を考慮して工程温度
を減少させ、蒸着効率性を増加させることができる物質をさらにドーピングして
中間クラッド層を形成する。その後、吸湿性が大きいP2O5を使用せず、OH拡
散係数が低い物質を蒸着して内部クラッド層を形成する。光信号を伝達するコア
層は、そのコアの中心に向かっていくほど一定の比率で屈折率が増加するように
形成される。従って、各蒸着層の異なる組成物で原料ガスを注入して混合バルブ
及び遮断バルブを制御する。
【0030】 蒸着工程において、OHブリッジ物質P2O5のない内部クラッド層25a及び
外部クラッド層24aを蒸着させることにより、コア蒸着、凝縮、またはクロー
ジング工程が行われる間、サブストレートチューブ21aからコア層23aへの
OH浸透を効率的に防止できる。従って、最適の直径比(b/a)を保持しつつも
、コア層でのOH吸収バンドによる損失を最小にできる。また、直径比を減少さ
せられるので、工程時間も減少させることができる。ここで、クラッド層の直径
bとコア層の直径aの比(b/a)が1.1〜3.0であることが望ましい。
外部クラッド層24aを蒸着させることにより、コア蒸着、凝縮、またはクロー
ジング工程が行われる間、サブストレートチューブ21aからコア層23aへの
OH浸透を効率的に防止できる。従って、最適の直径比(b/a)を保持しつつも
、コア層でのOH吸収バンドによる損失を最小にできる。また、直径比を減少さ
せられるので、工程時間も減少させることができる。ここで、クラッド層の直径
bとコア層の直径aの比(b/a)が1.1〜3.0であることが望ましい。
【0031】 一方、蒸着と同時に進行する焼結工程でスート粒子(soot particle)がガラス
化されるとき、内部表面張力による自己凝縮が発生する。高い粘性度を有するサ
ブストレートチューブと相対的に低い粘性度を有するクラッド層との間にチュー
ブの粘性度と類似の粘性度を有するバッファ層が存在することにより、チューブ
の抑止力を増加させられ、チューブの収縮を減少させることができる。
化されるとき、内部表面張力による自己凝縮が発生する。高い粘性度を有するサ
ブストレートチューブと相対的に低い粘性度を有するクラッド層との間にチュー
ブの粘性度と類似の粘性度を有するバッファ層が存在することにより、チューブ
の抑止力を増加させられ、チューブの収縮を減少させることができる。
【0032】 MCVD法を利用して光ファイバ母材を製造する場合、直径比が小さいほど全
体の工程時間を短縮させ、大口径の母材の制作に有利である。従来では、直径比
を小さくすると、OH損失が急激に増加して光ファイバの品質に悪影響を及ぼす
ので、通常的に直径比がほぼ3.0程度である。しかし、本発明による直径比が
3.0またはそれ以下、例えば、1.1〜3.0である場合、OH吸収損失を減少
させられ、熱応力による損失も最小にできる。
体の工程時間を短縮させ、大口径の母材の制作に有利である。従来では、直径比
を小さくすると、OH損失が急激に増加して光ファイバの品質に悪影響を及ぼす
ので、通常的に直径比がほぼ3.0程度である。しかし、本発明による直径比が
3.0またはそれ以下、例えば、1.1〜3.0である場合、OH吸収損失を減少
させられ、熱応力による損失も最小にできる。
【0033】 前述の如く、本発明の詳細な説明では具体的な実施形態を参照して詳細に説明
してきたが、本発明の範囲は前記実施形態によって限られるべきではなく、本発
明の範囲内で様々な変形が可能であるということは、当該技術分野における通常
の知識を持つ者には明らかである。
してきたが、本発明の範囲は前記実施形態によって限られるべきではなく、本発
明の範囲内で様々な変形が可能であるということは、当該技術分野における通常
の知識を持つ者には明らかである。
【0034】
【発明の効果】 以上から述べてきたように、本発明によるOHバリアを有する光ファイバ母材
及びその製造方法に従うと、蒸着工程において、サブストレートチューブとクラ
ッド層との間、及びクラッド層とコア層との間でP2O5を含まない外部OHバリ
ア及び内部OHバリアを蒸着させ、コア層の屈折率は、コアの中心に向かってい
くほど増加する。従って、コア蒸着、凝縮、またはクロージング工程が行われる
間、サブストレートチューブからコア層へのOH浸透を効率的に防止できる。さ
らに、光ファイバの高速線引による光特性の劣化も防止できる。
及びその製造方法に従うと、蒸着工程において、サブストレートチューブとクラ
ッド層との間、及びクラッド層とコア層との間でP2O5を含まない外部OHバリ
ア及び内部OHバリアを蒸着させ、コア層の屈折率は、コアの中心に向かってい
くほど増加する。従って、コア蒸着、凝縮、またはクロージング工程が行われる
間、サブストレートチューブからコア層へのOH浸透を効率的に防止できる。さ
らに、光ファイバの高速線引による光特性の劣化も防止できる。
【図1】 一般的なディプレストクラッド単一モード光ファイバの屈折率プ
ロファイルを示す図である。
ロファイルを示す図である。
【図2A】 本発明によるディプレストクラッド単一モード光ファイバの屈
折率プロファイルを示す図である。
折率プロファイルを示す図である。
【図2B】 本発明による完成した光ファイバ母材の縦断面を示す図である
。
。
11,21,21a サブストレートチューブ 12 クラッド層 13,23,23a コア層 22,22a 中間クラッド層 24,24a 外部クラッド層 25,25a 内部クラッド層 a コア層の直径 b クラッド層の直径
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成13年3月28日(2001.3.28)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マン−セオク・セオ 大韓民国・キョンギ−ド・442−470・スウ ォン−シ・パルタル−グ・ヨウントン−ド ン・(番地なし)・シンナムシル・ジュコ ン・エーピーティ・#501−1302 Fターム(参考) 2H050 AB05Z AB08Y AB10Y AC09 AC38 AD03 4G021 EA02 EB19 4G062 LB03 LB06
Claims (23)
- 【請求項1】 光ファイバ母材において、 サブストレートチューブと、 前記サブストレートチューブの内部のクラッド層と、 前記クラッド層の屈折率より大きく、前記コアの中心に向かっていくほど増加
された値を有する前記クラッド層の内部にあるコア層と、 OH拡散係数が低い物質を蒸着して前記サブストレートチューブ内に含まれた
OHを前記クラッド層へ浸透することを防止するために、前記サブストレートチ
ューブと前記クラッド層との間に形成された第1バリアと からなることを特徴とする光ファイバ母材。 - 【請求項2】 OH拡散係数が低い物質を蒸着して前記クラッド層に含まれ
たOHを前記コア層へ浸透することを防止するために、前記クラッド層と前記コ
ア層との間に形成された第2バリアをさらに備えることを特徴とする請求項1記
載の光ファイバ母材。 - 【請求項3】 前記第1バリア及び第2バリア中のいずれか1つは、SiO 2 またはSiO2+GeO2の組成物で形成されることを特徴とする請求項1記載
の光ファイバ母材。 - 【請求項4】 前記第1バリア及び第2バリア中のいずれか1つは、Si
O2またはSiO2+GeO2の組成物で形成されることを特徴とする請求項2記
載の光ファイバ母材。 - 【請求項5】 前記第1バリア及び第2バリア中のいずれか1つは、前記サ
ブストレートチューブ及び前記コア層のいずれか一方の屈折率より大きくない屈
折率を有することを特徴とする請求項1記載の光ファイバ母材。 - 【請求項6】 前記第1バリア及び第2バリア中のいずれか1つは、前記
サブストレートチューブ及び前記コア層のいずれか一方の屈折率より大きくない
屈折率を有することを特徴とする請求項2記載の光ファイバ母材。 - 【請求項7】 前記クラッド層と前記コア層との直径比は、約1.1〜3.0
の範囲内にあることを特徴とする請求項1記載の光ファイバ母材。 - 【請求項8】 前記コア層の外周の屈折率は、前記コア層の中心での屈折率
の約75〜99%の範囲内にあることを特徴とする請求項1記載の光ファイバ母
材。 - 【請求項9】 光ファイバ母材の製造方法において、 サブストレートチューブの内部表面上に低いOH拡散係数を有する物質を蒸着
して第1バリアを形成するステップと、 前記第1バリアにクラッド層を形成するステップと、 前記コア層の中心に向かっていくほど増加する屈折率を有するように蒸着によ
るコア層を形成して光信号を伝送するステップと、 からなることを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項10】 前記クラッド層の形成ステップと前記コア層の形成ステッ
プとの間で、低いOH拡散係数を有する物質を蒸着して第2バリアを形成するス
テップをさらに備えることを特徴とする請求項9記載の光ファイバ母材の製造方
法。 - 【請求項11】 前記第1バリア及び第2バリア中のいずれか1つは、Si
O2またはSiO2+GeO2の組成で形成されることを特徴とする請求項9記載
の光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項12】 前記第1バリア及び第2バリア中のいずれかは、SiO2
またはSiO2+GeO2の組成で形成されることを特徴とする請求項10記載の
光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項13】 光ファイバ母材において、 コアの外周からコアの中心まで緩慢に増加するコアの屈折率を有する円筒形コ
アと、 SiO2は含まれており、P2O5は含まれておらず、前記コア層の屈折率より
小さい前記コアを囲む内部クラッド層と、 SiO2及びP2O5を含み、前記コア層の屈折率より小さく、前記内部クラッ
ド層の屈折率とほぼ同一である前記内部クラッド層を囲む中間クラッド層と、 SiO2は含まれており、P2O5は含まれておらず、前記コア層の屈折率より
小さく、前記内部クラッド層の屈折率とほぼ同一である、前記中間クラッド層を
囲む外部クラッド層と、 前記内部クラッド層、中間クラッド層及び外部クラッド層の屈折率より大きい
前記外部クラッド層を囲むサブストレートチューブと、 からなることを特徴とする光ファイバ母材。 - 【請求項14】 前記内部クラッド層は、前記内部クラッド層の屈折率を調
整するためのGeO2をさらに備えることを特徴とする請求項13記載の光ファ
イバ母材。 - 【請求項15】 前記外部クラッド層は、前記外部クラッド層の屈折率を調
整するためのGeO2をさらに備えることを特徴とする請求項13記載の光ファ
イバ母材。 - 【請求項16】 前記コア層の外周での屈折率は、前記コア層の中心での屈
折率の75〜99%の範囲内にあることを特徴とする請求項13記載の光ファイ
バ母材。 - 【請求項17】 前記外部クラッド層と前記コア層との直径比は、約1.1
〜3.0の範囲内にあることを特徴とする請求項13記載の光ファイバ母材。 - 【請求項18】 光ファイバを製造する方法において、 SiO2が含まれており、P2O5が含まれていない外部クラッド蒸着層をサブ
ストレートチューブの内部表面上に内付け化学気相蒸着法によって蒸着し、前記
サブストレートチューブよりさらに低い屈折率を有する外部クラッド層を形成す
るステップと、 SiO2及びP2O5を含む中間クラッド蒸着層を前記外部クラッド蒸着層の内
部表面上に蒸着して、前記外部クラッド層の屈折率とほぼ同一である屈折率を有
する中間クラッド蒸着層を形成するステップと、 SiO2が含まれており、P2O5が含まれていない内部クラッド蒸着層を前記
中間クラッド蒸着層の内部表面上に蒸着して、前記外部クラッド層及び中間クラ
ッド層の屈折率とほぼ同一である屈折率を有する内部クラッド層を形成するステ
ップと、 コアの外周からコアの中心まで多様な組成物を有するコア蒸着層を前記内部ク
ラッド層の内部表面上に蒸着して、前記外部クラッド層、中間クラッド層、及び
内部クラッド層の屈折率より大きい屈折率を有し、前記外周から中心まで緩慢に
増加する屈折率を有するコアを形成し、前記光ファイバの熱的ストレスによる光
損失を防止するステップと、 前記蒸着された層を有する前記サブストレートチューブをコラップスさせて光
ファイバ母材を形成するステップと からなることを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項19】 外部クラッド蒸着層を蒸着する前記ステップは、SiO2
+GeO2を蒸着して前記外部クラッド層の屈折率を制御することをさらに含む
ことを特徴とする請求項18記載の光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項20】 内部クラッド蒸着層を蒸着する前記ステップは、SiO2
+GeO2を蒸着して前記内部クラッド層の屈折率を制御することをさらに含む
ことを特徴とする請求項18記載の光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項21】 前記光ファイバ母材での前記外部クラッド層と前記コア層
との直径比は、約1.1〜3.0の範囲内にあることを特徴とする請求項18記載
のことを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項22】 前記光ファイバ母材の前記コア層の外周での屈折率は、前
記コア層の中心での屈折率の75〜99%の範囲内にあることを特徴とする請求
項18記載の光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項23】 前記光ファイバ母材を迅速に線引して光ファイバを形成す
ることを特徴とする請求項18記載の光ファイバ母材の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990002696A KR100322131B1 (ko) | 1999-01-28 | 1999-01-28 | 오.에이치.차단층을 구비한 광섬유 모재 및 그 제조방법 |
KR1999/2696 | 1999-01-28 | ||
PCT/KR2000/000062 WO2000044683A1 (en) | 1999-01-28 | 2000-01-27 | Optical fiber preform having oh barrier and fabrication method thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002535238A true JP2002535238A (ja) | 2002-10-22 |
Family
ID=19572598
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000595945A Pending JP2002535238A (ja) | 1999-01-28 | 2000-01-27 | Ohバリアを有する光ファイバ母材及びその製造方法 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6530244B1 (ja) |
EP (1) | EP1173390A4 (ja) |
JP (1) | JP2002535238A (ja) |
KR (1) | KR100322131B1 (ja) |
CN (1) | CN1188364C (ja) |
AR (1) | AR022216A1 (ja) |
AU (1) | AU752956B2 (ja) |
BR (1) | BR0007736A (ja) |
CA (1) | CA2360918A1 (ja) |
MX (1) | MXPA01007641A (ja) |
RU (1) | RU2230044C2 (ja) |
WO (1) | WO2000044683A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005049516A1 (ja) | 2003-11-18 | 2005-06-02 | Fujikura Ltd. | 光ファイバ裸線の線引方法、光ファイバ素線の製造方法、光ファイバ素線 |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020005051A1 (en) * | 2000-04-28 | 2002-01-17 | Brown John T. | Substantially dry, silica-containing soot, fused silica and optical fiber soot preforms, apparatus, methods and burners for manufacturing same |
DE10030264A1 (de) * | 2000-06-20 | 2002-01-03 | Deutsche Telekom Ag | Lichtwellenleiter auf Quarzglasbasis und Verfahren zu seiner Herstellung |
US20050120752A1 (en) * | 2001-04-11 | 2005-06-09 | Brown John T. | Substantially dry, silica-containing soot, fused silica and optical fiber soot preforms, apparatus, methods and burners for manufacturing same |
KR100496143B1 (ko) * | 2002-12-10 | 2005-06-17 | 삼성전자주식회사 | 수산화기 차단층을 포함하는 광섬유 모재 |
US20040159124A1 (en) * | 2003-02-14 | 2004-08-19 | Atkins Robert M. | Optical fiber manufacture |
FR2863605B1 (fr) * | 2003-12-15 | 2006-04-28 | Cit Alcatel | Procede de recharge plasma autour d'un tube dope au fluor |
FR2893149B1 (fr) | 2005-11-10 | 2008-01-11 | Draka Comteq France | Fibre optique monomode. |
FR2899693B1 (fr) * | 2006-04-10 | 2008-08-22 | Draka Comteq France | Fibre optique monomode. |
US7620282B2 (en) * | 2006-08-31 | 2009-11-17 | Corning Incorporated | Low bend loss single mode optical fiber |
EP1942081B1 (en) * | 2007-01-02 | 2011-11-09 | Draka Comteq B.V. | Extended baking process for quartz glass deposition tubes. |
CN102099711B (zh) | 2007-11-09 | 2014-05-14 | 德雷卡通信技术公司 | 抗微弯光纤 |
FR2930997B1 (fr) | 2008-05-06 | 2010-08-13 | Draka Comteq France Sa | Fibre optique monomode |
US7773848B2 (en) | 2008-07-30 | 2010-08-10 | Corning Incorporated | Low bend loss single mode optical fiber |
JP5567694B2 (ja) * | 2010-02-09 | 2014-08-06 | オーエフエス ファイテル,エルエルシー | 曲げ最適化マルチモードファイバのdmd特性の改善 |
CN110028235B (zh) * | 2019-03-01 | 2020-09-08 | 江苏永鼎股份有限公司 | 一种基于连熔石英套管的光纤预制棒及其制造方法 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4909816A (en) * | 1974-02-22 | 1990-03-20 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories | Optical fiber fabrication and resulting product |
US4114980A (en) * | 1976-05-10 | 1978-09-19 | International Telephone And Telegraph Corporation | Low loss multilayer optical fiber |
JPS5395649A (en) * | 1977-02-02 | 1978-08-22 | Hitachi Ltd | Production of optical fiber |
US4184859A (en) * | 1978-06-09 | 1980-01-22 | International Telephone And Telegraph Corporation | Method of fabricating an elliptical core single mode fiber |
US4230396A (en) * | 1978-07-31 | 1980-10-28 | Corning Glass Works | High bandwidth optical waveguides and method of fabrication |
US4227806A (en) * | 1978-10-16 | 1980-10-14 | Western Electric Company, Inc. | Methods for non-destructively determining parameters of an optical fiber preform |
GB2062610B (en) * | 1979-10-29 | 1983-03-09 | Standard Telephones Cables Ltd | Single mode optical fibres |
JPS5858293B2 (ja) * | 1980-01-22 | 1983-12-24 | 日本電信電話株式会社 | 光ファイバ母材の製造方法 |
US4385802A (en) * | 1980-06-09 | 1983-05-31 | Corning Glass Works | Long wavelength, low-loss optical waveguide |
US4447127A (en) | 1982-04-09 | 1984-05-08 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Low loss single mode fiber |
JPS593035U (ja) * | 1982-06-30 | 1984-01-10 | カヤバ工業株式会社 | 緩衝器のスプリング受構造 |
DE3232888A1 (de) * | 1982-09-04 | 1984-03-08 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren zur herstellung eines lichtwellenleiters |
JPS59156928A (ja) * | 1983-02-22 | 1984-09-06 | Showa Electric Wire & Cable Co Ltd | 光フアイバ用プリフオ−ムの製造方法 |
US4528009A (en) * | 1983-06-01 | 1985-07-09 | Corning Glass Works | Method of forming optical fiber having laminated core |
DE3510023A1 (de) * | 1985-03-20 | 1986-09-25 | Licentia Gmbh | Einwelliger lichtwellenleiter aus quarzglas und verfahren zu dessen herstellung |
DE3731604A1 (de) * | 1987-09-19 | 1989-03-30 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zur herstellung einer monomode-lichtleitfaser |
FR2650584B1 (fr) | 1989-08-02 | 1993-12-17 | Cie Generale D Electricite | Procede de fabrication d'une fibre optique a gaine dopee |
US5058976A (en) * | 1990-08-03 | 1991-10-22 | At&T Bell Laboratories | System comprising Er-doped optical fiber |
KR0162604B1 (ko) | 1994-10-07 | 1999-04-15 | 김광호 | 광 섬유 모재 제조 방법 |
US5838866A (en) | 1995-11-03 | 1998-11-17 | Corning Incorporated | Optical fiber resistant to hydrogen-induced attenuation |
CN1101000C (zh) * | 1996-03-28 | 2003-02-05 | 三菱丽阳株式会社 | 分布的折光指数型光导纤维及其制作方法和具有海一岛结构的多芯光导纤维 |
CA2225889A1 (en) * | 1996-12-27 | 1998-06-27 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Dispersion-shifted fiber |
JP3830636B2 (ja) * | 1997-10-14 | 2006-10-04 | 株式会社フジクラ | 分散シフト光ファイバ |
BR9911392A (pt) * | 1998-06-25 | 2001-09-18 | Samsung Electronics Co Ltd | Pré-configuração de fibra ótica apresentando barreira de oh e seu método de fabricação |
NL1015405C2 (nl) * | 2000-06-09 | 2001-12-12 | Draka Fibre Technology Bv | Single mode optische vezel en werkwijze voor het vervaardigen van een single mode optische vezel. |
-
1999
- 1999-01-28 KR KR1019990002696A patent/KR100322131B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-01-07 AR ARP000100052A patent/AR022216A1/es not_active Application Discontinuation
- 2000-01-27 MX MXPA01007641A patent/MXPA01007641A/es not_active Application Discontinuation
- 2000-01-27 CA CA002360918A patent/CA2360918A1/en not_active Abandoned
- 2000-01-27 AU AU23300/00A patent/AU752956B2/en not_active Ceased
- 2000-01-27 RU RU2001121156/03A patent/RU2230044C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2000-01-27 EP EP00902180A patent/EP1173390A4/en not_active Withdrawn
- 2000-01-27 CN CNB008031401A patent/CN1188364C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-01-27 BR BR0007736-4A patent/BR0007736A/pt not_active Application Discontinuation
- 2000-01-27 WO PCT/KR2000/000062 patent/WO2000044683A1/en not_active Application Discontinuation
- 2000-01-27 JP JP2000595945A patent/JP2002535238A/ja active Pending
- 2000-01-28 US US09/493,084 patent/US6530244B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005049516A1 (ja) | 2003-11-18 | 2005-06-02 | Fujikura Ltd. | 光ファイバ裸線の線引方法、光ファイバ素線の製造方法、光ファイバ素線 |
US7658086B2 (en) | 2003-11-18 | 2010-02-09 | Fujikura Ltd. | Drawing method for bare optical fiber with suppressed hydrogen diffusion |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1337926A (zh) | 2002-02-27 |
EP1173390A1 (en) | 2002-01-23 |
AU752956B2 (en) | 2002-10-03 |
AR022216A1 (es) | 2002-09-04 |
MXPA01007641A (es) | 2002-04-24 |
RU2230044C2 (ru) | 2004-06-10 |
KR100322131B1 (ko) | 2002-02-04 |
BR0007736A (pt) | 2001-11-06 |
EP1173390A4 (en) | 2005-02-02 |
AU2330000A (en) | 2000-08-18 |
CA2360918A1 (en) | 2000-08-03 |
WO2000044683A1 (en) | 2000-08-03 |
KR20000051960A (ko) | 2000-08-16 |
US6530244B1 (en) | 2003-03-11 |
CN1188364C (zh) | 2005-02-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
AU751024B2 (en) | Optical fiber preform having OH barrier and manufacturing method thereof | |
JP2002535238A (ja) | Ohバリアを有する光ファイバ母材及びその製造方法 | |
US3868170A (en) | Method of removing entrapped gas and/or residual water from glass | |
CA1145172A (en) | Long wavelength, low-loss optical waveguide | |
US4846867A (en) | Method for producing glass preform for optical fiber | |
KR970028622A (ko) | 싱글-모드 광도파관 섬유 및 그 제조방법 | |
JP4808906B2 (ja) | 単一モード光ファイバーおよび単一モード光ファイバーの製造法 | |
US4351658A (en) | Manufacture of optical fibers | |
EP1240113A2 (en) | Method for making nanocrystalline glass-ceramic fibers | |
US6988379B2 (en) | Method of manufacturing large capacity preforms by MCVD | |
JPS5924095B2 (ja) | 単一モ−ド光ファイバ−プレフォ−ムの製造方法 | |
EP1388525A2 (en) | Method for manufacturing an optical fibre preform as well as the preform and optical fibre obtainable by the process | |
US20050284184A1 (en) | Methods for optical fiber manufacture | |
US7008696B2 (en) | Optical fiber preform having barrier layers for hydroxyl (OH) radicals | |
US6698246B1 (en) | Method for making nanocrystalline glass-ceramic fibers | |
CA1246875A (en) | Process for eliminating the axial refractive index depression in optical fibres | |
JP3315786B2 (ja) | 光増幅器型光ファイバ | |
JPS62116902A (ja) | 広帯域低分散光フアイバ | |
KR100337700B1 (ko) | 오.에이치.차단막을구비한광섬유모재및그제조방법 | |
JPH09269432A (ja) | シングルモード光ファイバおよびその製造方法 | |
KR100420175B1 (ko) | 광섬유모재와 그 제조방법 | |
JPH0733460A (ja) | 光ファイバプリフォームおよびその製造方法 | |
JP2657726B2 (ja) | 耐放射線光ファイバおよびイメージファイバ | |
KR100776096B1 (ko) | 저손실 광섬유 제조 방법 및 이 방법에 의해 제조된 저손실광섬유 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050215 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060117 |