JP2002525264A - ドネペジルおよび関連化合物の製造のための新規方法および中間体 - Google Patents

ドネペジルおよび関連化合物の製造のための新規方法および中間体

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Abstract

(57)【要約】 【化1】 本発明は、式[I]の化合物もしくはその塩:[式中、R1は、N−アシル−4−ピペリジル;N−アルコキシカルボニル−4−ピペリジル;4−ピペリジル;N−アルキル−4−ピペリジル;N−ベンジル−4−ピペリジル;N−(ω−アラルキル)−4−ピペリジル;4−ピリジルであり;R4、R5、R6およびR7は、同じか異なっていて、そして各々は、水素、直鎖もしくは分枝アルキル、アリール、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、アシルオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、ベンジルチオ、アシルアミノ、フタルイミドもしくはハロゲンを表し;nは、1,2もしくは3であり;mは、1,2,3,4もしくは5である]のアセチルコリンエステラーゼ阻害剤の新規な製造方法に関する。この方法は、式[II]の化合物もしくはその塩[式中、R1、R4、R5、R6およびR7、mおよびnは、先に定義されたとおりであり;R2は、誘導体化もしくは非誘導体化カルボキシル、シアノ、N−置換アミノカルボニル基もしくは水素から選ばれ;R3は、誘導体化もしくは非誘導体化カルボキシル、シアノもしくはN−置換アミノカルボニル基から選ばれる]の、場合によっては酸および/または溶媒の存在下での環化を含む。本発明により製造される化合物の種類のもっとも強力なアセチルコリンエステラーゼ阻害剤の1つは、ドネペジルである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 (技術分野) 発明の分野 本発明は、アセチルコリンエステラーゼ阻害剤(抗AchE)、例えばドネペ
ジル(Donepezil)の新規な製造方法、この方法において使用される若
干の新規中間体およびそれらの製造に関する。
【0002】 発明の背景 痴呆は、記憶、思考、適応、理解、計算、学習能力、言語および判断を含む多
数の高度な中枢機能の障害である慢性進行性の器質的精神障害である。アルツハ
イマー病は、痴呆のもっとも普通の原因であり、そして特殊な神経細胞の変性、
神経斑の存在および神経原繊維濃縮体を特徴とする。広い多数の症例では、診断
は、臨床的根拠においてのみなされ、その場合、より正確にはアルツハイマー型
の老人性痴呆(SDAT)と呼ばれるけれども、アルツハイマー病の決定的診断
は、脳組織におけるこれらの特徴的な病理学的特色の実証を必要とする。
【0003】 種々の試みが、薬物により老人性痴呆を治療するために行われてきた。式[X
]の化合物(スキーム1)が、高いアセチルコリンエステラーゼ阻害活性を保持
していることが見い出された(Sugimoto,H.,et al.,J.M
ed.Chem.,v.38,481(1995))。この種類のもっとも強力
なアセチルコリンエステラーゼ阻害剤(抗AchE)の1種はドネペジル(E2
020)[VII]である。
【0004】
【化8】
【0005】 ドネペジルは、SDATによる痴呆を和らげるために穏やかに使用される新規
な薬物治療である。ドネペジルは、アセチルコリンエステラーゼ、アセチルコリ
ンの代謝に関与する酵素を阻害することによって作用し、それによって神経伝達
レベルを増進する。
【0006】 化合物[X]への一般的合成経路は、環式芳香族ケトン[XI]と1−置換4
−(ω−ホルミルアルキル)ピペリジン[XII]との縮合、続く得られた化合
物[XIII]の還元を含む(スキーム1)(Sugimoto,H.,et
al.,J.Med.Chem.,v.38,481(1995):Eisai
Co.,米国特許第5,100,901号)。
【0007】
【化9】
【0008】 発明の概要 本発明は、式[I]の化合物もしくはその塩:
【0009】
【化10】
【0010】 [式中、 R1は、N−アシル−4−ピペリジル;N−アルコキシカルボニル−4−ピペリ
ジル;4−ピペリジル;N−アルキル−4−ピペリジル;N−ベンジル−4−ピ
ペリジル;N−(ω−アラルキル)−4−ピペリジル;4−ピリジルであり; R4、R5、R6およびR7は、同じか異なっていて、そして各々は、水素、直鎖も
しくは分枝アルキル、アリール、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベ
ンジルオキシ、アシルオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、ベンジルチオ、ア
シルアミノ、フタルイミドもしくはハロゲンを表し; nは、1,2もしくは3であり; mは、1,2,3,4もしくは5である] の製造方法であって、 式[II]の化合物もしくはその塩
【0011】
【化11】
【0012】 [式中、 R1、R4、R5、R6およびR7、mおよびnは、先に定義されたとおりであり; R2は、誘導体化もしくは非誘導体化カルボキシル、シアノ、N−置換アミノカ
ルボニルもしくは水素から選ばれ; R3は、誘導体化もしくは非誘導体化カルボキシル、シアノもしくはN−置換ア
ミノカルボニルから選ばれる] の、場合によっては酸および/または溶媒の存在下での環化を含んでなる方法、
に関する。
【0013】 本発明によれば、一つの鏡像異性体に富んだ式[I]の化合物もしくはその塩
は、式[II](式中、R2およびR3が異なる)の光学的に純粋な化合物の環化
によって製造される。
【0014】 また、本発明は、式[II]:
【0015】
【化12】
【0016】 [式中、 R1、R2、R3、R4、R5、R6およびR7、mおよびnは、先に定義されたとお
りである] の新規な化合物であって、その塩およびその光学的に活性な鏡像異性体を含む化
合物に関する。
【0017】 さらに本発明は、式[III]
【0018】
【化13】
【0019】 [式中、 Xは、容易に脱離する基である] の化合物を、式[IV]
【0020】
【化14】
【0021】 の化合物と、強塩基の存在下で反応させることを含む、化合物[II]の製造方
法に関する。
【0022】 あるいはまた、式[V]
【0023】
【化15】
【0024】 の化合物は、式[VI]
【0025】
【化16】
【0026】 の化合物と、強塩基の存在下で反応されるが、 この場合、すべての上式において、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、X、
mおよびnは、先に定義されたとおりである。
【0027】 その他のアプローチによれば、式[II]の化合物は、式[VIII]もしく
は[IX]の化合物またはそれらの混合物
【0028】
【化17】
【0029】 [式中、 R1、R3、R4、R5、R6、R7、nおよびmは、先に定義されたとおりである]
の水素化によって製造することができる。
【0030】 発明の詳細な記述 式[I]および式[II]の化合物は、以下の反応スキームおよび記述におい
て記されるように製造することができる。特に指示されなければ、以下の反応ス
キームおよび記述において示されるか、または述べられる式[I],[Ia],
[II],[IIa],[III],[IIIa],[IV],[IVa],[
V],[V],[VI],[VII],[IX],[XX],[XX],[VI
IIa],[IXa],[XVIIIa],[XIXa]の化合物における意味
1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、X、nおよびmは、先に定義されたとお
りである。
【0031】 スキーム2は、式[I]の化合物もしくはその塩の、式[II]の化合物もし
くはその塩の環化による製造方法に関する:
【0032】
【化18】
【0033】 前方法が、光学的に純粋な式[II](R2およびR3は異なる)の化合物を用
いて実施される場合は、得られる生成物は、一つの鏡像異性体に富んだ式[I]
の化合物もしくはその塩である。
【0034】 本発明によれば、エステル、アミド、シアノもしくはエーテル保護基は、出発
化合物[II]もしくは所望の化合物[I]のいずれかにおける環化反応の条件
下で加水分解することができる。
【0035】 好ましくは、環化は、予め加水分解された化合物[II](式中、R2は水素
もしくはカルボキシル基であり、そしてR3はカルボキシル基である)を用いて
実施される。
【0036】 より好ましくは、化合物[II](R2=H,R3=COOH)の該環化は、場
合によってはR3カルボキシル基のハロカルボニル基への予めの誘導体化により
、フリーデル−クラフト反応条件下で実施される。
【0037】 好ましくは、本発明の環化は、プロトン性酸(protic acid)もし
くはルウス酸もしくはそれらの混合物の存在下で実施される。そのような酸の例
は、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、ポリリン酸、フルオロ
−もしくはクロロスルホン酸、硫酸、フッ化水素、塩化水素、塩化亜鉛、臭化亜
鉛、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、塩化チタン、フッ化ホウ素、五酸化
リン、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リン、塩化チオニルおよび塩化スル
フリルである。
【0038】 本発明の環化は、溶媒の存在下で実施することができる。好ましくは、溶媒は
、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロベンゼン
、エーテルもしくはそれらの混合物から選ばれる。
【0039】 製薬的に重要な式[Ia]の化合物は、スキーム3にしたがって得られる:
【0040】
【化19】
【0041】 対応するエステル[XIV]および[XVII]の加水分解によって得られる
式[XV]および[XVI]の酸は、高い収率と純度において,環化されてドネ
ペジル[VII]を生成する(スキーム4)。
【0042】
【化20】
【0043】 その他の態様によれば、本発明は、先のスキーム2において示される環化にお
いて使用される光学的に活性な鏡像異性体(R2≠R3)を含む新規な式[II]
の化合物に関する。
【0044】 下記スキーム5およびは、新規な式[II]の化合物の製造方法に関する。
【0045】
【化21】
【0046】
【化22】
【0047】 スキーム5およびに関して、式[III],[IV],[V],[VI],
[XVIII],[XIX],[XX],[XXI]の化合物は、当業者には周
知である方法によって製造することができる。
【0048】 上式(スキーム5)において、Xは、容易に脱離する基を表し、そしてスルホ
ン酸基もしくはハロゲンであってもよい。好ましくは、Xは塩素および臭素から
選ばれる。
【0049】 スキーム5による反応は、強塩基、例えば金属アルコキシド、金属アミド、金
属水素化物もしくはそれらの混合物の存在下で通常実施される。もっとも好まし
くは、強塩基は、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムte
rt−ブトキシド、水素化ナトリウム、ナトリウムtert−ペントキシド、ナ
トリウムビス(トリメチルシリル)アミド、リチウムジイソプロピルアミドもし
くはそれらの混合物から選ばれる。
【0050】 スキーム6によるカップリング反応は、塩基の存在下で通常実施される。好ま
しくは、塩基は、金属炭酸塩、金属アルコキシド、金属アミドもしくは金属水素
化物から選ばれる。より好ましくは、塩基は、炭酸カリウム、ナトリウムメトキ
シド、ナトリウムエトキシド、カリウムtert−ブトキシド、水素化ナトリウ
ム、リチウムジイソプロピルアミドもしくはそれらの混合物から選ばれる。
【0051】 スキーム6において示されるカップリング反応の生成物、すなわち化合物[V
III]および[IX]は、反応条件下で異性化することができ異性体混合物も
しくは熱力学的により安定な異性体のいずれかを生成する。
【0052】 先の方法は、溶媒なしでも、または有機溶媒もしくは水の存在下でも実施する
ことができる。有機溶媒は、好ましくは、テトラヒドロフラン(THF)、1,
2−ジメトキシエタン、ジクロロメタン、ベンゼン、トルエン、N,N−ジメチ
ルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド、1−メチル−2−
ピロリジノン、ジメチルスルホキシド(DMSO)、メタノール、エタノール、
イソプロパノール、tert−ブチルアルコールもしくはそれらの混合物から選
ばれる。
【0053】 スキーム6の化合物[VIII]および[IX]は、接触水素化によって還元
することができる。遷移金属が、該接触水素化における触媒として使用できる。
好ましくは、Pd,Pt,Rh,RuもしくはNiが使用される。この方法にお
いて、若干のR1基が還元される(例えば、4−ピリジルが4−ピペリジルに。
そのような場合には、ピペリジル基の窒素を保護することが好適である)。
【0054】 式[IIa]の化合物(スキーム3)は、次のスキーム7およびにおいて示
されるように、化合物[IIIa]および[IVa]から製造されてもよい。
【0055】
【化23】
【0056】
【化24】
【0057】 ドネペジルの合成において使用できる化合物[XIV]および[XVII]( スキーム4 )は、スキーム9スキーム10のいずれかにより製造されてもよい
【0058】
【化25】
【0059】
【化26】
【0060】 一つの鏡像異性体に富んだ式[I]の化合物は、光学的に純粋な化合物[II
]から得られ(スキーム2)、これは、順次、次の反応のいずれかによって、[
II](R2≠R3)のラセミ混合物から得られる: ・ 光学的に純粋な酸によるジアステレオマー結晶化、続く数回の再結晶化およ
び所望の生成物の回収; ・ 光学的に純粋なアミンによるジアステレオマー結晶化(R2もしくはR3=C
OOHの場合)、続く多数の再結晶化および所望の生成物の回収; ・ 光学的に活性な溶媒における分割; ・ 酵素的分割。
【0061】 さらにまた、光学的に純粋な生成物[II]の収率を増大するために、望まし
くない鏡像異性体はラセミ化され、そして再使用されてもよい。
【0062】 本発明は、次の限定するものではない実施例によって、より詳細に記述される
であろう。 実施例1 ドネペジル(VII)の製造
【0063】
【化27】
【0064】 1.1 (4−ピペリジルメチル)マロン酸ジメチル[XXIXa]の製造 メタノール(9 L)中(4−ピリジルメチレン)マロン酸ジメチル[XXV
IIIa](925g)溶液を、氷酢酸(360ml)および活性炭素に担持さ
れる10%パラジウム触媒(92.5g)の存在下で60℃、200psiにお
いて水素化した。触媒を濾別し、そして酢酸塩の形態で得られる表題の化合物の
溶液を、直接次の段階において使用した。
【0065】 1.2 (N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)マロン酸ジメチル[XXI
Ia]の製造 炭酸ナトリウム(1,550g)および塩化ベンジル(582.3g)を、前
段階からの(4−ピペリジルメチル)マロン酸ジメチル[XXIXa]の酢酸塩
の溶液に添加した。得られたスラリーを12時間60−65℃において撹拌し、
そして減圧下で蒸発した。水を残渣に添加し、そして混合物をジクロロメタンで
抽出した。有機層を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、短いシリカゲルカラ
ムを通過させ、そして減圧下で蒸発した。残渣をヘキサンで洗浄し、そして減圧
下で乾燥して(N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)マロン酸ジメチル[XX
IIa]を得た。1H NMR(CDCl3)δ 1.10−1.37(m,3H
),1,50−1.75(m,2H),1.75−2.00(m,4H),2.
83(br.d,2H,J=12Hz),3.44(s,2H),3.70(s
,6H),7.26(m,5H). 1.3 (N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)マロン酸ジメチル(3,4
−ジメトキシベンジル)[XIVa]の製造 前段階において得られた、THF(100ml)中(N−ベンジル−4−ピペ
リジルメチル)マロン酸ジメチル[XXIIa](43.5g))溶液を、鉱油
(7.0g)中水素化ナトリウム60%懸濁液およびTHF(60ml)の混合
物に滴下した。水素の発生が停止後、THF(100ml)中塩化3,4−ジメ
トキシベンジル[IIIb](30.7g)を、この混合液に滴下した。得られ
る混合液を3時間還流し、次いで室温まで冷却した。20mlTHF中無水エタ
ノール(5ml)溶液を、注意しつつこの混合液に、水素の発生が停止するまで
添加した。次いで、反応混合液を約半量まで減圧下で濃縮し、氷と5%クエン酸
水溶液の混合液で処理し、続いて5%炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した。生
成物をジクロロメタンで抽出し、有機層を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し
、短いシリカゲルカラムを通過させ、そして蒸発乾固させて、(N−ベンジル−
4−ピペリジルメチル)マロン酸ジメチル(3,4−ジメトキシベンジル)[X
IVa]を得た。1 H NMR(CDCl3)δ 1.12−1.39(m,2H),1,39−1
.60(m,3H),1.77(d,2H,J=4Hz),1.82−2.02
(m,2H),2.80(br.d,2H,J=11.3Hz),3.18(s
,2H),3.43(s,2H),3.63(s,6H),3.77(s,3H
),3.79(s,3H),6.51−6.63(m,2H),6.66−6.
78(m,1H),7.15−7.33(m,5H). (N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)マロン酸(3,4−ジメトキシベンジ
ル)塩酸塩[XIVc]を、[XIVa]から標準の操作によって得た。1
NMR(CDCl3)δ 1.43−2.22(m,7H),2.42−2.7
0(m,2H),3.13(s,2H),3.28−3.50(m,2H),3
.67(s,6H),3.79(s,3H),3.82(s,3H),4.07
(br.s,2H),6.45−6.65(m,2H),6.70−6.80(
m,1H),7.37−7.52(m,3H),7.52−7.73(m,2H
),12.32(m,1H). 1.4 (N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)マロン酸(3,4−ジメト
キシベンジル)p−トルエンスルホン酸塩[XVa]の製造 (N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)マロン酸ジメチル(3,4−ジメト
キシベンジル)[XIVa](36.0g)、85%水酸化カリウム(25.3
g)、メタノール(40ml)および水(30ml)の混合液を、20時間撹拌
下で還流した。混合液を真空下で蒸発し、そして残留水溶液を、水100ml中
p−トルエンスルホン酸一水和物(100.0g)の0−5℃における撹拌溶液
に滴下した。沈殿した固形物を濾別し、冷水で洗浄し、そして乾燥して(N−ベ
ンジル−4−ピペリジルメチル)マロン酸(3,4−ジメトキシベンジル)p−
トルエンスルホン酸塩[XVa]を得た。
【0066】 1.5 ドネペジル[VII]の製造 五酸化リン(1.0g)をメタンスルホン酸(10.0g)中に90℃におい
て溶解した。(N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)マロン酸(3,4−ジメ
トキシベンジル)p−トルエンスルホン酸塩[XVa](2.0g)をその溶液
に55℃において添加した。混合液を55−65℃で2時間激しく撹拌し、そし
て砕氷上に注いだ。得られた混合液をジクロロメタンで抽出した。有機層を5%
炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして
減圧下で濃縮した。粗ドネペジルをシリカゲルにおけるカラムクロマトグラフィ
ー(ジクロロメタン:メタノール100:0〜96:4v/v)によって精製し
て、ドネペジル[VII]を得た。1H NMRは文献と一致している。 実施例2 ドネペジル[VII]の製造
【0067】
【化28】
【0068】 2.1 (4−ピペリジルメチレン)マロン酸ジエチル[XXIXb]の製造 無水エタノール(1 L)中(4−ピリジルメチレン)マロン酸ジエチル[X
XVIIIb](97.6g)溶液を、氷酢酸(35.5g)および活性炭素に
担持される10%パラジウム触媒(9.7g)の存在下で60℃、200psi
において20時間水素化した。触媒を濾別し、そして酢酸塩の形態で得られる表
題の化合物の溶液を、直接次の段階において使用した。
【0069】 2.2 (N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)マロン酸ジエチル[XXI
Ib]の製造 塩化ベンジル(54.4g)および炭酸ナトリウム(149.4g)を、前段
階からの(4−ピペリジルメチル)マロン酸ジエチル[XXIXb]の酢酸塩の
溶液に添加した。得られたスラリーを12時間60−65℃において撹拌し、そ
して減圧下で蒸発した。水を残渣に添加し、そして得られた混合物をジクロロメ
タンで抽出した。有機層を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、短いシリカゲ
ルカラムを通過させ、そして減圧下で蒸発した。得られた残渣をヘキサンで洗浄
し、そして減圧下で乾燥して(N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)マロン酸
ジエチル[XXIIb]を得た。
【0070】 (N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)マロン酸ジエチル塩酸塩[XXII
c]を、(N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)マロン酸ジエチル[XXII
b]から標準操作によって得た。1H NMR(CDCl3)δ 1.11(t,
6H,J=7.1Hz),1.25−1.55(m,1H),1.55−2.0
5(m,5H),2.50−2.77(m,2H),3.23(t,1H,J=
7.8Hz),3.33(br.d,2H,J=12.5Hz),4.03(q
,4H,J=7.1Hz),4.12(d,2H,J=4.8Hz),7.28
(m,3H),7.53(m,2H),11.67(m,1H). 2.3 (N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)マロン酸ジエチル(3,4
−ジメトキシベンジル)[XIVb]の製造 THF(30ml)中(N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)マロン酸ジエ
チル[XXIIb](11.3g)溶液を、鉱油(1.95g)中水素化ナトリ
ウム60%懸濁液およびTHF(15ml)の混合物に滴下した。水素の発生が
停止した後、塩化3,4−ジメトキシベンジル[IIIb](7.3g)を、こ
の混合液に添加し、そして得られる混合液を12時間20−25℃で撹拌した。
THF(10ml)中無水エタノール(1ml)溶液を、注意しつつこの冷混合
液に、水素の発生が停止するまで撹拌下で添加した。次いで、反応混合液を約半
量まで減圧下で濃縮し、そして氷と5%クエン酸水溶液の混合液で処理し、続い
て炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した。生成物をジクロロメタンで抽出し、有
機層を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、短いシリカゲルカラムを通過させ
て、(N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)マロン酸ジエチル(3,4−ジメ
トキシベンジル)[XIVb]を得た。1H NMR(CDCl3)δ 1.19
(t,6H,J=7.1Hz),1.19−1.38(m,2H),1,38−
1.63(m,3H),1.77(d,2H,J=4.7Hz),1.82−2
.02(m,2H),2.80(br.d,2H,J=11.4Hz),3.1
9(s,2H),3.43(s,2H),3.78(s,3H),3.80(s
,3H),4.11(q,4H,J=7.1Hz),6.52−6.65(m,
2H),6.65−6.77(m,1H),7.18−7.32(m,5H).
(N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)マロン酸ジエチル(3,4−ジメト
キシベンジル)塩酸塩[XIVd]を、(N−ベンジル−4−ピペリジルメチル
)マロン酸ジエチル(3,4−ジメトキシベンジル)[XIVb]から標準操作
にしたがって製造した。1H NMR(CDCl3)δ 1.16(t,6H,J
=7.1Hz),1.50−1.85(m,5H),1.85−2.13(m,
2H),2.35−2.70(m,3H),3.10(s,2H),3.25−
3.45(m,2H),3.74(s,3H),3.77(s,3H),3.9
7−4.20(m,6H),6.44−6.60(m,2H),6.67(d,
1H,J=7.9Hz),7.28−7.42(m,3H),7.50−7.6
4(m,2H),12.13(m,1H). 2.4 (N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)マロン酸(3,4−ジメト
キシベンジル)[XV]の製造 (N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)マロン酸ジエチル(3,4−ジメト
キシベンジル)[XIVb](36.0g)、85%水酸化カリウム(23.9
g)、96%エタノール(40ml)および水(30ml)の混合液を、20時
間還流した。エタノールの蒸発後、残留水溶液を、0−5℃において32%塩酸
によりpH4に酸性化した。沈殿した固形物を濾別し、水で洗浄し、そして乾燥
して(N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)マロン酸(3,4−ジメトキシベ
ンジル)[XV]を得た。NMR1 H(DMSO−d6)δ 0.81−1.0
9(m,2H),1.25(br.s,2H),1.25−1.48(m,3H
),1.74−1.93(br.t,2H),2.60(br.d,2H,J=
10.7Hz),2.89(s,2H),3.28(s,2H),3.59(s
,6H),6.56(br.d,1H,J=8.0Hz),6.64(br.s
,1H),6.69(d,1H,J=8.0Hz),7.15(m,5H);N
MR1 H(NaOD−D2O)δ 1.10−1.95(m,7H),2.42
−3.68(m,8H),3.68(s,6H),4.18(s,2H),6.
60−6.90(m,4H),7.43(m,3H),7.59(m,2H),
10.78(m,1H). 2.5 ドネペジル[VII]の製造 五酸化リン(1.0g)をメタンスルホン酸(10.0g,104mmol)
に添加し、そして混合液を90℃で撹拌して五酸化リンを完全に溶解した。混合
液を、55℃に冷却し、そして(N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)マロン
酸(3,4−ジメトキシベンジル)[XV](2.0g)を10分間かけて添加
した。得られた混合液を55−65℃で2時間激しく撹拌した。反応混合液を砕
氷上に注ぎ、そしてジクロロメタンで抽出した。有機層を炭酸ナトリウム水溶液
で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして減圧下で濃縮した。粗ドネ
ペジルをシリカゲルにおけるカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタ
ノール100:0〜96:4)によって精製して、ドネペジル[VII]を得た
。NMR1 H(CDCl3)は文献と一致している。 実施例3 ドネペジル[VII]の製造
【0071】
【化29】
【0072】 3.1 3,4−ジメトキシ−α−ホスホノケイ皮酸トリエチル[XXX]の
製造 機械撹拌機、滴下ロート、温度計およびバブラー(bubbler)を装着し
た100Lガラス反応器に、ベラトラアルデヒド(veratraldehyde)(1445.
5g)、ホスホノ酢酸トリエチル(1950.0g)およびジクロロメタン(2
6.76kg)を負荷し、そしてアルゴンを満たした。この撹拌混合液に、温度
を−5℃〜0℃に維持しながらジクロロメタン(6700g)中塩化チタン(I
V)(3300g)溶液を滴下した。混合液を、同温度でさらに1.5時間撹拌
した。この撹拌混合液に、温度を−5〜0℃に維持しながらトリエチルアミン(
3521g)を滴下した。得られた混合液を、同温度でさらに0.5時間撹拌し
た。反応混合液を、20−25℃の水中に撹拌下で注入した。有機層を分離し、
そして水層をジクロロメタンで抽出した。合わせた有機抽出液を、水、炭酸水素
ナトリウム水溶液および再度水で連続して洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで
乾燥し、シリカゲルカラムを通過させ、そして溶媒を減圧下で除去して、黄色オ
イルとしての3,4−ジメトキシ−α−ホスホノケイ皮酸トリエチル[XXX]
を得た。1 H NMR(CDCl3)δ 1.20−1.39(m,9H),3.79(s
,3H),3.84(s,3H),4.11(p,4H,J=7.4Hz),4
.24(q,2H,J=7.2Hz),6.80(d,1H,J=8.3Hz)
,6.97(d,1H),7.00(dd,1H,J=8.3Hz),7.49
(d,1H,J=24.4Hz). 3.2 (3,4−ジメトキシベンジル)ホスホノ酢酸トリエチル[XXII
Ia]の製造 機械撹拌機、温度計、滴下ロートおよびバブラーを装着した50Lガラス反応
器に、3,4−ジメトキシ−α−ホスホノケイ皮酸トリエチル[XXX](44
50g)および無水エタノール(23.2L)を負荷し、そしてアルゴンを満た
した。混合液の温度を0〜5℃に維持しながら、無水エタノール(4.6L)中
ホウ水素化ナトリウム(169.8g)溶液を、撹拌下で混合液に滴下した。得
られた混合液を、15〜20℃で3.5時間撹拌した。氷酢酸(514.0g)
を15〜20℃における混合液に滴下した。反応混合液を、同温度で0.5時間
撹拌し、そして溶媒を減圧下で除去した。残渣を、ジクロロメタン(7.7L)
および水(7.7L)の混合液に溶解した。有機層を分離し、そして水層をジク
ロロメタンで抽出した。合わせた有機層を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し
、短いシリカゲルカラムを通過させ、そして溶媒を減圧下で除去して、黄色オイ
ルとしての(3,4−ジメトキシベンジル)ホスホノ酢酸トリエチル[XXII
Ia]を得たが、これはさらに精製しなかった。1 H NMR(CDCl3)δ 1.04(t,3H,J=7.2Hz),1.1
9−1.27(m,6H),3.04−3.22(m,3H),3.71(s,
3H),3.73(s,3H),3.90−4.10(m,6H),6.55−
6.70(m,3H). 3.3 2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(4−ピリジル)アクリ
ル酸エチル[XXVa]および3,4−ジメトキシ−α−(4−ピリジルメチル
)ケイ皮酸エチル[XXVIa]の異性体混合物の製造 機械撹拌機、温度計、滴下ロートおよびバブラーを装着した20Lガラス反応
器に、(3,4−ジメトキシベンジル)ホスホノ酢酸トリエチル[XXIIIa
](4400g)および4−ピリジンカルボキシアルデヒド(1633g)を負
荷し、そしてアルゴンを満たした。混合液の温度を10〜15℃に維持しながら
、水(4900g)中炭酸カリウム(4900g)溶液を、撹拌下で混合液に滴
下した。得られた混合液を、15〜20℃で一夜撹拌し、そして同温度で3時間
撹拌せずに維持した。上部の有機層を分離し、そして水を水層に添加した。得ら
れた水溶液をジクロロメタンで抽出した。合わせた有機層を水で洗浄し、硫酸ナ
トリウムで乾燥し、短いシリカゲルカラムを通過させ、そして溶媒を減圧下で除
去して、黄色オイルとしての[XXVa]および[XXVIa]を得た。混合物
は、さらなる精製なしに次の段階において使用した。
【0073】 [XXVa]および[XXVIa]の分析サンプルを、シリカゲルにおけるカ
ラムクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸エチル100:0〜0:100v/v
)によって混合物から分離した。 [XXVa]:1H NMR(CDCl3)δ 1.22(t,3H,J=7.1
Hz),3.75−3.85(m,8H),4.18(q,2H,J=7.1H
z),6.55−6.65(m,2H),6.74(d,1H,J=8.8Hz
),7.21(d,2H,J=5.7Hz),7.71(s,1H),8.56
(d,2H,J=5.7Hz). [XXVIa]:1H NMR(CDCl3)δ 1.01(t,3H,J=7.
1Hz),3.68(s,2H),3.83(s,6H),4.04(q,2H
,J=7.1Hz),6.44(s,1H),6.70−6.80(m,3H)
,7.12(d,2H,J=5.8Hz),8.50(d,2H,J=5.9H
z) 3.4 2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(4−ピペリジン)プロ
ピオン酸エチル[XXVIIa]の製造 18Lステンレススチール高圧「Parr」反応器に、活性炭素に担持される
10wt.%パラジウム(60.0g),酢酸ナトリウム(180g)、氷酢酸
(330g)、[XXVa]と[XXVIa]の混合物(1200g)、無水エ
タノール(12L)を負荷し、そして窒素および水素を連続して満たした。水素
化を90℃で水素圧250psiにおいて実施した。次いで、反応器を室温まで
冷却し、そして触媒を濾別した。得られた[XXVIIa]の溶液を、さらなる
精製なしに次の段階のために使用した。 [XXVIIa]:1H NMR(CDCl3)δ 1.09(t,3H,J=7
.1Hz),0.80−1.45(m,4H),1,45−1.80(m,3H
),2.35−2.90(m,5H),2.97(br.d,2H,J=12.
2Hz),3.79(s,6H),3.90−4.05(m,2H),6.55
−6.65(m,2H),6.71(d,1H,J=8.7Hz) 2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(4−ピペリジン)プロピオン酸
エチル塩酸塩[XXVIIb]を、標準方法によって[XXVIIa]から製造
した。 [XXVIIb]:1H NMR(CDCl3)δ 1.13(t,3H,J=7
.2Hz),1.30−2.00(m,7H),2.55−2.90(m,5H
),3.41(br.d,2H,J=12.5Hz),3.83(s,6H),
4.04(q,2H,J=7.2Hz),6.55−6.70(m,2H),6
.74(d,1H,J=8.3Hz),9.05−9.25(m,1H),9.
40−9.60(m,1H) 3.5 2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(N−ベンジル−4−ピ
ペリジン)プロピオン酸エチル[XVIIa]の製造 加熱マントル、機械撹拌機、温度計、滴下ロートおよびバブラーに連結したコ
ンデンサーを装着した20Lガラス反応器に、前段階からの[XXVIIa]溶
液、炭酸ナトリウム(930g)および塩化ベンジル(511.3g)を負荷し
、そしてアルゴンを満たした。混合液を60〜65℃で8時間撹拌し、そして減
圧下で蒸発した。水(6L)およびトルエン(3L)を残渣に添加した。混合液
を、固相が完全に消えるまで室温で撹拌した。有機層を分離し、そして水層をト
ルエンで抽出した。合わせた有機溶液を、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、減
圧下で蒸発して、[XVIIa]を得た。1 H NMR(CDCl3)δ 1.08(t,3H,J=7.1Hz),1.1
0−1.90(m,7H),2.10−2.35(m,2H),2.55−3.
00(m,3H),3.15(br,d,2H,J=10.4Hz),3.80
(s,8H),3.98(q,2H,J=7.1Hz),6.55−6.65(
m,2H),6.72(d,1H,J=8.6Hz),7.31(s,5H) 3.6 2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(N−ベンジル−4−ピ
ペリジン)プロピオン酸[XVI]の製造 機械撹拌機、温度計およびバブラーに連結したコンデンサーを装着した100
Lガラス反応器に、2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(N−ベンジル
−4−ピペリジン)プロピオン酸エチル[XVIIa](2938g)、90%
水酸化カリウム(656.0g)、メタノール(6327g)および水(316
3g)を負荷し、そしてアルゴンを満たした。混合液を2時間撹拌下で還流し、
容量約11Lまで減圧下で濃縮し、そしてトルエン(2x2.5L)で洗浄した
。水層を20%クエン酸水溶液でpH8まで酸性化し、そしてジクロロメタンで
抽出した。合わせた有機抽出液を、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、そして溶
媒を減圧下で除去した。結晶性残渣をアセトンで粉砕し、濾別し、フィルター上
を冷アセトンで洗浄し、そして減圧下で乾燥して、オフホワイト結晶として2−
(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(N−ベンジル−4−ピペリジン)プロ
ピオン酸[XVI]を得た。
【0074】 3.7 ドネペジル[VII]の製造 機械撹拌機、滴下ロート、温度計およびバブラーに連結したコンデンサーを装
着した50Lガラス反応器に、五酸化リン(1247g)およびメタンスルホン
酸(11938g)を負荷し、そしてアルゴンを満たした。混合液を70〜80
℃において完全に均質にまるまで撹拌した。ジクロロメタン(2.6L)および
2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(N−ベンジル−4−ピペリジン)
プロピオン酸[XVI](2450g)を、35〜40℃でこの混合液に添加し
た。得られた混合液を1時間還流下で撹拌した。機械撹拌機を装着した100L
ガラス反応器に砕氷(17.8kg)を負荷し、そしてアルゴンを満たした。冷
反応混合液を氷に添加し、混合液を15分間撹拌した。水(11L)中90%水
酸化カリウム溶液を、必要ならば反応混合液に砕氷を添加して温度を10〜15
℃に維持しながら混合液に滴下した。ジクロロメタン(9L)を混合液に添加し
、そして得られた混合液を15〜20℃で0.5時間撹拌した。有機層を分離し
、そして水層をジクロロメタンで抽出した。合わせた有機抽出液を、硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、短いシリカゲルを通過させ、そして減圧下で蒸発した。残渣をジ
イソプロピルエーテルに溶解した。得られた溶液を、室温で一夜そして0〜5℃
で2時間維持した。沈殿した結晶を濾別し、ジイソプロピルエーテルで洗浄し、
そして減圧下で乾燥してドネペジル[VII]を得た。1H NMR(CDCl3 )は文献と一致している。
【0075】 実施例4 5,6−ジメトキシ−2−(N−ベンゾイル−4−ピペリジルメチ
ル)−1−オキソインダン[XXXIV]の製造
【0076】
【化30】
【0077】 4.1 2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(4−ピペリジン)プロ
ピオン酸[XXXII]の製造 2Lステンレススチール高圧「Parr」反応器に、活性炭素に担持される1
0wt.%パラジウム(4.0g),氷酢酸(20.8g)、2−(3,4−ジ
メトキシベンジル)−3−(N−ベンジル−4−ピペリジン)プロピオン酸[X
VI](86.0g)およびメタノール(1.0L)を負荷し、そして窒素およ
び水素を連続して満たした。水素化を60℃で水素圧100〜150psiにお
いて2.5時間実施した。反応器を室温まで冷却し、そして触媒を濾別した。得
られた溶液を減圧下で蒸発して、2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(
4−ピペリジン)プロピオン酸[XXXII]を得た。1 H NMR(D2O)δ 0.90−1.50(m,5H),1.50−1.7
5(m,2H),2.30−2.55(m,3H),2.55−2.78(m,
2H),3.02−3.18(m,2H),3.51(s,3H),3.55(
s,3H),6.50(br.d,1H,J=7.8Hz),6.55−6.6
3(m,2H) 4.2 2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(N−ベンゾイル−4−
ピペリジン)プロピオン酸[XXXIII]の製造 氷水浴、機械撹拌機、温度計、滴下ロートおよびバブラーを装着した2Lガラ
ス丸底フラスコに、2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(4−ピペリジ
ン)プロピオン酸エチル[XXXII](50g)、炭酸カリウム(138.0
g)、水(0.75L)を負荷し、そしてアルゴンを満たした。塩化ベンゾイル
(42.9g)を5〜10℃で撹拌混合液に滴下した。得られた混合液を3時間
室温で撹拌した。16wt.%塩酸をpH3に達するまで10〜15℃で混合液
に滴下した。混合液を1時間同温度で撹拌した。沈殿した固形物を濾別し、水で
洗浄し、そして減圧下で乾燥して、所望の2−(3,4−ジメトキシベンジル)
−3−(N−ベンゾイル−4−ピペリジン)プロピオン酸[XXXIII]を得
た。1 H NMR(CDCl3)δ 0.88−1.95(m,7H),2.55−3
.05(m,5H),3.60−3.80(m,1H),3.82(s,3H)
,3.83(s,3H),4.55−4.78(m,1H),6.65−6.7
0(m,2H),6.75(d,1H,J=8.7Hz),7.30−7.50
(m,5H) 4.3 5,6−ジメトキシ−2−(N−ベンゾイル−4−ピペリジルメチル
)−1−オキソインダン[XXXIV]の製造 水浴、マグネチックスターラーおよびバブラーに連結したコンデンサーを装着
した250mL丸底フラスコに、五酸化リン(15.1g)およびメタンスルホ
ン酸(145g)を負荷し、そしてアルゴンを満たした。混合液を75℃におい
て固相が完全に消失するまで撹拌し、そして35〜40℃に冷却した。ジクロロ
メタン(50mL)および2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(N−ベ
ンゾイル−4−ピペリジン)プロピオン酸[XXXIII](27.4g)を、
この混合液に添加した。得られた混合液を1.5時間撹拌下で還流した。反応混
合液を室温まで冷却し、そして氷中に注入した。有機層を分離し、そして水層を
ジクロロメタンで抽出した。合わせた有機溶液を、炭酸ナトリウム水溶液で洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥し、短いシリカゲルカラムを通過させ、そして蒸発乾
固した。残渣をメタノールとイソプロピルエーテルの混合液から結晶化して[X
XXIV]を得た。1 H NMR(CDCl3)δ 1.07−1.48(m,3H),1.58−2
.00(m,4H),2.62−3.12(m,4H),3.24(dd,1H
,J=17.5,8.1Hz),3.65−3.85(m,1H),3.88(
s,3H),3.93(s,3H),4.62−4.82(m,1H),6.8
3(s、1H),7.14(s,1H),7.36(s,5H) 実施例5 2−(N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)−1−オキソインダ
ン塩酸塩[VIIb]の製造
【0078】
【化31】
【0079】 5.1 2−ベンジル−3−(4−ピリジル)アクリル酸エチル[XXVb]
およびα−(4−ピリジルメチル)ケイ皮酸エチル[XXVIb]の異性体混合
物の製造 氷水浴、機械撹拌機、温度計、滴下ロートおよびバブラーを装着した250m
Lガラス丸底フラスコに、ベンジルホスホノ酢酸トリエチル[XXIIIb](
82.6g)および4−ピリジンカルボキシアルデヒド(39.8g)を負荷し
、そしてアルゴンを満たした。水(105.0g)中炭酸カリウム(109.5
g)溶液を、10〜15℃において混合液に滴下した。得られた混合液を、室温
で22時間撹拌し、水で希釈し、そしてジクロロメタンで2回抽出した。合わせ
た有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、短いシリカゲルカラムを通過させ、そして
減圧下で蒸発して[XXVb]および[XXVIb]を得て、これを、さらなる
精製なしに次の段階において使用した。 [XXVb]:1H NMR(CDCl3)δ 1.20(t,3H,J=7.1
Hz),3.86(s,2H),4.17(q,2H,J=7.1Hz),7.
75(s,1H),8.56(d,2H,J=5.6Hz). [XXVIb]:1H NMR(CDCl3)δ 0.97(t,3H,J=7.
1Hz),3.73(s,2H),4.01(q,2H,J=7.1Hz),6
.47(s,1H),7.08(d,2H,J=5.7Hz),8.49(d,
2H,J=5.7Hz) 5.2 2−ベンジル−3−(4−ピペリジン)プロピオン酸エチル[XXV
IIc]の製造 2Lステンレススチール高圧「Parr」反応器に、活性炭素に担持される1
0wt.%パラジウム(4.0g)、氷酢酸(26.0g)、前段階からの[X
XVb]と[XXVIb]の混合物(60.0g)および無水エタノール(1.
0L)を負荷し、そして窒素および水素を連続して満たした。水素化を90℃で
水素圧250psi下で実施した。次いで、反応器を室温まで冷却し、そして触
媒を濾別した。得られた[XXVIIc]の溶液を、さらなる精製なしに次の段
階において使用した。
【0080】 5.3 2−ベンジル−3−(N−ベンジル−4−ピペリジン)プロピオン酸
エチル塩酸塩[XVIIc]の製造 加熱マントル、機械撹拌機、温度計、滴下ロートおよびバブラーに連結したコ
ンデンサーを装着した2L丸底フラスコに、前段階からの[XXVIIc]溶液
、炭酸ナトリウム(73.3g)および塩化ベンジル(32.7g)を負荷し、
そしてアルゴンを満たした。混合液を60〜65℃で9時間撹拌し、そして減圧
下で蒸発した。水(300mL)およびトルエン(300mL)を残渣に添加し
た。混合液を、固相が完全に消えるまで室温で撹拌した。有機層を分離し、そし
て水層をトルエンで抽出した。合わせた有機溶液を、硫酸ナトリウムで乾燥し、
濾過し、そして減圧下で蒸発して、黄色オイルとして2−ベンジル−3−(N−
ベンジル−4−ピペリジン)プロピオン酸エチル[XVIIb]を得た。1 H NMR(CDCl3)δ 1.10(t,3H,J=7.1Hz),1.0
7−1.42(m,4H),1.50−1.78(m,3H),1.78−1.
97(br,t,2H),2.64−2.97(m,5H),4.02(q,2
H,J=7.1Hz),7.10−7.32(m,10H) 2−ベンジル−3−(N−ベンジル−4−ピペリジン)プロピオン酸エチル塩
酸塩[XVIIc]を、標準方法によって[XVIIb]から得た。1 H NMR(CDCl3)δ 1.07(t,3H,J=7.1Hz),1.2
7−1.59(m,2H),1.59−2.22(m,6H),2.40−2.
98(m,5H),3.38(br.d,2H,J=11.6Hz),3.99
(q,2H,J=7.1Hz),4.07(d,2H,J=4.9Hz),7.
04−7.71(m,10H),12.32(m,1H) 5.4 2−ベンジル−3−(N−ベンジル−4−ピペリジン)プロピオン酸
[XVIIb]の製造 加熱マントル、機械撹拌機、温度計およびバブラーに連結したコンデンサーを
装着した500mL丸底フラスコに、2−ベンジル−3−(N−ベンジル−4−
ピペリジン)プロピオン酸エチル塩酸塩[XVIIc](66.9g)、90%
水酸化カリウム(26.0g)、メタノール(140mL)および水(70mL
)を負荷し、そしてアルゴンを満たした。混合液を15時間撹拌下で還流し、容
量約150mLまで減圧濃縮し、20%クエン酸水溶液でpH8まで酸性化し、
そしてジクロロメタンで抽出した。合わせた有機抽出液を、硫酸ナトリウムで乾
燥し、濾過し、そして減圧下で蒸発して、2−ベンジル−3−(N−ベンジル−
4−ピペリジン)プロピオン酸[XVIa]を得た。1 H NMR(CD3OD)δ 0.80−1.35(m,4H),1,42−1
.64(m,2H),1.64−1.97(m,3H),2.38−2.59(
m,2H),2.67−2.94(m,3H),3.37(s,2H),6.9
7−7.26(m,10H) 5.5 2−(N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)−1−オキソインダン
塩酸塩[VIIb]の製造 機械撹拌機、滴下ロート、温度計およびバブラーに連結したコンデンサーを装
着した250mL丸底フラスコに、五酸化リン(13.3g)およびメタンスル
ホン酸(133g)を負荷し、そしてアルゴンを満たした。混合液を90〜95
℃において完全に均質にまるまで撹拌した。ジクロロメタン(40mL)および
2−ベンジル−3−(N−ベンジル−4−ピペリジン)プロピオン酸[XVIa
](26.6g)を、35〜40℃でこの混合液に添加した。得られた混合液を
3時間還流下で撹拌した。次いで、冷反応混合液を砕氷中に注入し、そして混合
液を水酸化カリウム水溶液でpH9〜10まで塩基性にした。混合液をジクロロ
メタンで抽出した。合わせた有機抽出液を、硫酸ナトリウムで乾燥し、短いシリ
カゲルカラムを通過させ、そして減圧下で蒸発した。残渣をメタノール中塩化水
素溶液で処理し、そして得られる固形物を、メタノール−エーテルの混合液から
再結晶化して[VIIb],mp199−200℃を得た。1 H NMR(CDCl3)δ 1.40−2.23(m,8H),2.53−2
.83(m,4H),3.23−3.57(m,3H),4.12(d,2H,
J=4.9Hz),7.26−7.72(m,9H),12.26(m,1H)
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成12年3月2日(2000.3.2)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0016
【補正方法】変更
【補正内容】
【0016】 [式中、 R1、R2、R3、R4、R5、R6およびR7、mおよびnは、先に定義されたとお
りである] の新規な化合物であって、その塩およびその光学的に活性な鏡像異性体を含むが
1が4−ピリジルであり、そしてn=m=1である場合は、R4、R5、R6
よびR7は、水素もしくは低級アルキルを表さないという条件をもつ、化合物に
関する。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0017
【補正方法】変更
【補正内容】
【0017】 さらに、本発明は、式[VIII]もしくは[IX]の化合物またはそれらの
混合物
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0018
【補正方法】変更
【補正内容】
【0018】
【化13】
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0019
【補正方法】変更
【補正内容】
【0019】[式中、 1、R3、R4、R5、R6、R7、nおよびmは、先に定義されたとおりである]
の水素化による、化合物[II]の製造方法に関する。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0020
【補正方法】変更
【補正内容】
【0020】 あるいはまた、式[II]の化合物は、式[V]
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0021
【補正方法】変更
【補正内容】
【0021】
【化14】
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0022
【補正方法】変更
【補正内容】
【0022】の化合物を、式[VI]
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0023
【補正方法】変更
【補正内容】
【0023】
【化15】
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0024
【補正方法】変更
【補正内容】
【0024】の化合物と、強塩基の存在下で反応させることによって製造することができるが
、この場合、すべての上式において、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、X
、mおよびnは、先に定義されたとおりである。
【手続補正10】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0025
【補正方法】変更
【補正内容】
【0025】 あるいはまた、式[II]の化合物は、式[III]
【手続補正11】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0026
【補正方法】変更
【補正内容】
【0026】
【化16】
【手続補正12】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0027
【補正方法】変更
【補正内容】
【0027】[式中、 Xは、容易に脱離する基である] の化合物を、式[IV]
【手続補正13】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0028
【補正方法】変更
【補正内容】
【0028】
【化17】
【手続補正14】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0029
【補正方法】変更
【補正内容】
【0029】 の化合物と、Miyoshi,Hideto et al.(J.Biol.C
hem.(1998),273(28))による1例において示されるような強
塩基の存在下で反応させることによって製造することができる。
【手続補正15】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0035
【補正方法】変更
【補正内容】
【0035】 好ましくは、環化は、予め加水分解された化合物[II](式中、R2は水素
もしくはカルボキシル基であり、そしてR3はカルボキシル基である)を用いて
実施される。2およびR3がカルボキシル基である化合物[II]は、分子内ア
シル化の工程において脱炭酸される。
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成12年9月21日(2000.9.21)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【化1】 [式中、 4、R5、R6およびR7は、同じか異なっていて、そして各々は、水素、C1-6
アルキル、C1-6アルコキシ、もしくはハロゲンを表し; 10は、ベンジル、C1-6アルキル、ω−アラルキル、アシルおよびC1-6アルコ
キシカルボニルから選ばれる] の化合物の製造方法であって、 次の段階: a)次の式
【化2】 [式中、 8およびR9は、同じか異なっていて、そして各々は、C1-6アルキルを表し、
そしてR4、R5、R6およびR7は、先に定義されたとおりである]
の化合物を、塩基の存在下での4−ピリジンカルボキシアルデヒドと反応させて
、式
【化3】 [式中、 点線は、反応において形成される二重結合の2つの可能な位置を表し、R4、R5 、R6、R7およびR8は、先に定義されたとおりである] の、互変異性体、立体異性体もしくはそれらの混合物、ならびにそれらの酸付加
塩を含む化合物を生成すること; b)段階(a)において得られた化合物もしくは化合物の混合物またはそれらの
塩を接触水素化して、次の式
【化4】 [式中、 4、R5、R6、R7およびR8は、先に定義されたとおりである]
の化合物、ならびにそれらの酸付加塩を生成すること; c)先の段階b)において得られた化合物もしくはその塩を、式R10X[式中、
10は先に定義されたとおりであり、そしてXは脱離基である]の化合物と反応
させて、次の式
【化5】 [式中、 4、R5、R6、R7、R8およびR10は、先に定義されたとおりである]
の化合物、もしくはその塩を生成し; 続いて、エステル基を加水分解して、対応するカルボン酸もしくはその塩を形成
すること; d)先の段階c)において得られたカルボン酸もしくはその塩の分子内環化によ
り化合物[Ib]を生成すること; e)場合によっては、得られる式[Ib]の化合物を薬理学的に許容しうる塩に
転化すること、 を含む、方法。
【請求項】 R4およびR7が水素であり、R5およびR6が各々メトキシで
ある、請求項1記載の方法。
【請求項】 該式[I]の化合物がドネペジルである、請求項1もしく
記載の方法。
【化6】 [式中、 4、R5、R6およびR7は、請求項1において定義されたとおりであり、
11は水素であるか、またはベンジル、C1-6アルキル、ω−アラルキル、アシ
ルおよびC1-6アルコキシカルボニルから選ばれ、 12は、水素もしくはC1-6アルキルである] の化合物。
【化7】 [式中、 点線は、二重結合の2つの可能な位置を表し、R4、R5、R6、R7およびR8
、先に定義されたとおりである] の化合物。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0071
【補正方法】変更
【補正内容】
【0071】
【化29】
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0072
【補正方法】変更
【補正内容】
【0072】 3.0 ホスホノ酢酸トリエチルの製造 機械撹拌機、デジタル温度計、加熱マントルおよび蒸留ヘッドに連結した還流
コンデンサーを装着した10Lガラス反応器に、亜リン酸トリエチル(3.69
kg,22.2mol)およびクロロ酢酸エチル(2.72kg,22.2mo
l)を負荷した。反応器をアルゴンで満たし、そして反応混合液を120℃に加
熱した。撹拌を3時間継続し、そして溶液の温度を165℃に上げたが、この時
間の間に、若干の亜リン酸トリエチルおよびクロロ酢酸エチルが溜去した。次い
で、反応混合液を174℃に加熱し、そして溶液を一夜放置した。反応混合液を
減圧下(10〜11mbar)で分別蒸留して、GCによる純度98.2%をも
つホスホノ酢酸トリエチル4.43kg(収率89.3%)を得た。 3.1 3,4−ジメトキシ−α−ホスホノケイ皮酸トリエチル[XXX]の
製造 機械撹拌機、滴下ロート、温度計およびバブラー(bubbler)を装着し
た100Lガラス反応器に、ベラトラアルデヒド(veratraldehyde)(3.45k
g,20.8mol)、ホスホノ酢酸トリエチル(4.65kg,20.7mo
)およびジクロロメタン(53.5kg)を負荷し、そしてアルゴンを満たし
た。この撹拌混合液に、温度を−5℃〜0℃に維持しながらジクロロメタン(
6.2kg)中塩化チタン(IV)(7.87kg,41.5mol)溶液を滴
下した。混合液を、同温度でさらに2時間撹拌した。この撹拌混合液に、温度を
−5〜0℃に維持しながらトリエチルアミン(8.40kg,83.0mol
を滴下した。得られた混合液を、同温度でさらに0.5時間撹拌した。反応混合
液を、20−25℃の水中に撹拌下で注入した。有機層を分離し、そして水層を
ジクロロメタンで抽出した。合わせた有機抽出液を、水、炭酸水素ナトリウム水
溶液および再度水で連続して洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、シリ
カゲルカラムを通過させ、そして溶媒を減圧下で除去して、黄色オイルとしての
3,4−ジメトキシ−α−ホスホノケイ皮酸トリエチル[XXX]7.45kg
(96.6%収率)を得た。1 H NMR(CDCl3)δ 1.20−1.39(m,9H),3.79(s
,3H),3.84(s,3H),4.11(p,4H,J=7.4Hz),4
.24(q,2H,J=7.2Hz),6.80(d,1H,J=8.3Hz)
,6.97(d,1H),7.00(dd,1H,J=8.3Hz),7.49
(d,1H,J=24.4Hz). この物質を、さらなる精製なしに次の段階において使用した。 3.2 (3,4−ジメトキシベンジル)ホスホノ酢酸トリエチル[XXII
Ia]の製造 機械撹拌機、温度計、滴下ロートおよびバブラーを装着した100Lガラス反
応器に、3,4−ジメトキシ−α−ホスホノケイ皮酸トリエチル[XXX](
.86kg,18.4mol)および無水エタノール(26.0kg)を負荷し
、そしてアルゴンを満たした。混合液の温度を0〜5℃に維持しながら、無水エ
タノール(7.0kg)中ホウ水素化ナトリウム(261.0g,6.90mo
)溶液を、3時間撹拌下で混合液に滴下した。得られた混合液を、15〜20
℃で3.5時間撹拌した。氷酢酸(770.0g,12.8mol)を15〜2
0℃における混合液に滴下した。反応混合液を、同温度で0.5時間撹拌し、そ
して溶媒を減圧下で除去した。残渣を、ジクロロメタン(15kg)および水( 13kg )の混合液に溶解した。有機層を分離し、そして水層をジクロロメタン
で抽出した。合わせた有機層を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、短いシリ
カゲルカラムを通過させ、そして溶媒を減圧下で除去して、黄色オイルとして
GCによる純度98%の(3,4−ジメトキシベンジル)ホスホノ酢酸トリエチ
ル[XXIIIa]6.72kg(97%収率)を得たが、これはさらに精製し
なかった。1 H NMR(CDCl3)δ 1.04(t,3H,J=7.2Hz),1.1
9−1.27(m,6H),3.04−3.22(m,3H),3.71(s,
3H),3.73(s,3H),3.90−4.10(m,6H),6.55−
6.70(m,3H). 3.3 2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(4−ピリジル)アクリ
ル酸エチル[XXVa]および3,4−ジメトキシ−α−(4−ピリジルメチル
)ケイ皮酸エチル[XXVIa]の異性体混合物の製造 機械撹拌機、温度計、滴下ロートおよびバブラーを装着した100Lガラス反
応器に、(3,4−ジメトキシベンジル)ホスホノ酢酸トリエチル[XXIII
a](13.44kg,35.4mol)および4−ピリジンカルボキシアルデ
ヒド(5.00kg,46.7mol)を負荷し、そしてアルゴンを満たした。
混合液の温度を10〜15℃に維持しながら、水(15.1kg)中炭酸カリウ
ム(15.10kg,109mol)溶液を、撹拌下で混合液に滴下した。得ら
れた混合液を、15〜20℃で一夜撹拌し、そして同温度で3時間撹拌せずに維
持した。上部の有機層を分離し、そして水を水層に添加した。得られた水溶液を
ジクロロメタンで抽出した。合わせた有機層を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾
燥し、短いシリカゲルカラムを通過させ、そして溶媒を減圧下で除去して、黄色
オイルとしての[XXVa]および[XXVIa]の混合物10.47kg(8
9%収率)を得た。混合物は、さらなる精製なしに次の段階において使用した。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0073
【補正方法】変更
【補正内容】
【0073】 [XXVa]および[XXVIa]の分析サンプルを、シリカゲルにおけるカ
ラムクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸エチル100:0〜0:100v/v
)によって混合物から分離した。 [XXVa]:1H NMR(CDCl3)δ 1.22(t,3H,J=7.1
Hz),3.75−3.85(m,8H),4.18(q,2H,J=7.1H
z),6.55−6.65(m,2H),6.74(d,1H,J=8.8Hz
),7.21(d,2H,J=5.7Hz),7.71(s,1H),8.56
(d,2H,J=5.7Hz). [XXVIa]:1H NMR(CDCl3)δ 1.01(t,3H,J=7.
1Hz),3.68(s,2H),3.83(s,6H),4.04(q,2H
,J=7.1Hz),6.44(s,1H),6.70−6.80(m,3H)
,7.12(d,2H,J=5.8Hz),8.50(d,2H,J=5.9H
z) 3.4 2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(4−ピペリジン)プロ
ピオン酸エチル[XXVIIa]の製造 18Lステンレススチール高圧「Parr」反応器に、活性炭素に担持される
10wt.%パラジウム(175g),酢酸ナトリウム(262g)、氷酢酸( 480g )、[XXVa]と[XXVIa]の混合物(1200g,3.67m
ol)、無水エタノール(12L)を負荷し、そして窒素および水素を連続して
満たした。水素化を90℃で水素圧250psiにおいて実施した。次いで、反
応器を室温まで冷却し、そして触媒を濾別した(触媒は、次の反応において繰り
返し使用されてもよい)。得られた[XXVIIa]の溶液を、さらなる精製な
しに次の段階のために使用した。 [XXVIIa]:1H NMR(CDCl3)δ 1.09(t,3H,J=7
.1Hz),0.80−1.45(m,4H),1,45−1.80(m,3H
),2.35−2.90(m,5H),2.97(br.d,2H,J=12.
2Hz),3.79(s,6H),3.90−4.05(m,2H),6.55
−6.65(m,2H),6.71(d,1H,J=8.7Hz) 2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(4−ピペリジン)プロピオン酸
エチル塩酸塩[XXVIIb]を、標準方法によって[XXVIIa]から製造
した。 [XXVIIb]:1H NMR(CDCl3)δ 1.13(t,3H,J=7
.2Hz),1.30−2.00(m,7H),2.55−2.90(m,5H
),3.41(br.d,2H,J=12.5Hz),3.83(s,6H),
4.04(q,2H,J=7.2Hz),6.55−6.70(m,2H),6
.74(d,1H,J=8.3Hz),9.05−9.25(m,1H),9.
40−9.60(m,1H). 3.5 2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(N−ベンジル−4−ピ
ペリジン)プロピオン酸エチル[XVIIa]の製造 加熱マントル、機械撹拌機、温度計、滴下ロートおよびバブラーに連結したコ
ンデンサーを装着した20Lガラス反応器に、前段階からの[XXVIIa]溶
液、炭酸ナトリウム(1.35kg,12.7mol)および塩化ベンジル(7
43.0g,5.87mol)を負荷し、そしてアルゴンを満たした。混合液を
60〜65℃で8時間撹拌し、そして減圧下で蒸発した。水(6.0kg)およ
びトルエン(3.8kg)を残渣に添加した。混合液を、固相が完全に消えるま
で室温で撹拌した。有機層を分離し、そして水層をトルエンで抽出した。合わせ
た有機溶液を、クエン酸(7.8kg)の20%水溶液で抽出した。水溶液を、
炭酸ナトリウムでpH10まで塩基性にして、ジクロロメタンで抽出した。有機
抽出液を、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、短いシリカゲルカラムを通過させ
そして減圧下で蒸発して、GCによる純度96.7%をもつ黄色オイルとして
化合物[XVIIa]1.82kg(化合物[XXVa]および[XXVIa]
混合物からの収率80%)を得た。1 H NMR(CDCl3)δ 1.08(t,3H,J=7.1Hz),1.1
0−1.90(m,7H),2.10−2.35(m,2H),2.55−3.
00(m,3H),3.15(br,d,2H,J=10.4Hz),3.80
(s,8H),3.98(q,2H,J=7.1Hz),6.55−6.65(
m,2H),6.72(d,1H,J=8.6Hz),7.31(s,5H) 生成物を、さらなる精製なしに次の段階において使用した。 3.6 2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(N−ベンジル−4−ピ
ペリジン)プロピオン酸[XVI]の製造 機械撹拌機、温度計およびバブラーに連結したコンデンサーを装着した100
Lガラス反応器に、2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(N−ベンジル
−4−ピペリジン)プロピオン酸エチル[XVIIa](4.50kg,10.
6mol)、90%水酸化カリウム(1.02kg,16.4mol)、メタノ
ール(5.0kg)および水(5.0kg)を負荷し、そしてアルゴンを満たし
た。混合液を3.5時間撹拌下で還流し、室温まで冷却し、そしてトルエン(
x4.0kg)で洗浄した。水層を20%クエン酸水溶液でpH8まで酸性化し
そして水(10.0kg)を混合液に添加した。メタノール(4.0kg)を
90℃において懸濁液から蒸発した。得られた混合液を0℃で約3時間撹拌した
。沈殿した結晶を濾別し、そしてフィルター上を水で洗浄した。湿った粗生成物
をメタノール(8.0kg)に溶解した。水(22.0kg)を、激しく撹拌し
た溶液に添加し、そしてメタノール(4.0kg)を90℃において蒸発した。
混合液を0〜5℃で3時間撹拌した。沈殿した結晶を濾別し、そしてフィルター
上を水で洗浄し、減圧下60℃で乾燥した。結晶性残渣をアセトン(10kg
で粉砕し、濾別し、フィルター上を冷アセトンで洗浄し、そして60℃で減圧下
で乾燥して、HPLCによる純度99.9%、mp116−118℃をもつオフ
ホワイト結晶として2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(N−ベンジル
−4−ピペリジン)プロピオン酸[XVI]3.28kg(82%収率)を得た
非水溶液滴定98.7%(乾物ベース)によるアッセイ、水含量(KF)−0
.96%. 1H NMR(DMSO−D6)δ 0.90−1.42(m,4H),1.42
−2.09(m,5H),2.46−2.92(m,5H),3.40(s,2
H),3.69(s,3H),3.70(s,3H),6.66(br.d,1
H,J=8.2Hz),6.75(br s,1H),6.81(d,1H,J
=8.2Hz),7.18−7.42(m,5H).
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0074
【補正方法】変更
【補正内容】
【0074】 3.7 ドネペジル[VII]の製造 機械撹拌機、滴下ロート、温度計およびバブラーに連結したコンデンサーを装
着した50Lガラス反応器に、五酸化リン(1.40kg)およびメタンスルホ
ン酸(13.37kg)を負荷し、そしてアルゴンを満たした。混合液を70〜
80℃において完全に均質にまるまで撹拌した。ジクロロメタン(4.0kg
および2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(N−ベンジル−4−ピペリ
ジン)プロピオン酸[XVI](2.50kg,6.29mol)を、35〜4
0℃でこの混合液に添加した。得られた混合液を1.5時間還流下で撹拌した。
機械撹拌機を装着した100Lガラス反応器に砕氷(18.0kg)を負荷し、
そしてアルゴンを満たした。冷反応混合液を氷に添加し、混合液を15分間撹拌
した。混合液の水層を、10〜15℃において撹拌混合液に水酸化カリウム溶液
を添加することによってpH8.0に調整した。有機層を分離し、そして水層を
ジクロロメタンで抽出した。合わせた有機抽出液を、硫酸ナトリウムで乾燥し、
短いシリカゲルを通過させ、そして減圧下で蒸発した。残渣*(2.40kg,
定量的収率、TLCにおいてワンスポット)をジイソプロピルエーテルに溶解し
た。得られた溶液を、室温で一夜そして0〜5℃で2時間維持した。沈殿した結
晶を濾別し、ジイソプロピルエーテルで洗浄し、そして減圧下で乾燥してHPL
Cによる純度99.9%をもつオフホワイト結晶としてドネペジル[VII]
.21kg(92%収率)を得た。1H NMR(CDCl3)は文献と一致して
いる。 *残渣の少量を塩化メチレンに溶解した。酢酸エチル中塩化水素10%溶液を
、得られる溶液に添加し、続いて減圧濃縮して結晶を得たが、これをメタノール
−イソプロピルエーテルから2回再結して、85%収率でドネペジル塩酸塩、H
PLCにより100.0%純度、mp220−221℃を得た。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0077
【補正方法】変更
【補正内容】
【0077】 4.1 2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(4−ピペリジン)プロ
ピオン酸[XXXII]の製造 2Lステンレススチール高圧「Parr」反応器に、活性炭素に担持される1
0wt.%パラジウム(4.0g),氷酢酸(20.8g)、2−(3,4−ジ
メトキシベンジル)−3−(N−ベンジル−4−ピペリジン)プロピオン酸[X
VI](86.0g)およびメタノール(1.0L)を負荷し、そして窒素およ
び水素を連続して満たした。水素化を60℃で水素圧100〜150psiにお
いて2.5時間実施した。反応器を室温まで冷却し、そして触媒を濾別した。得
られた溶液を減圧下で蒸発して、2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(
4−ピペリジン)プロピオン酸[XXXII]を得た。1 H NMR(D2O)δ 0.90−1.50(m,5H),1.50−1.7
5(m,2H),2.30−2.55(m,3H),2.55−2.78(m,
2H),3.02−3.18(m,2H),3.51(s,3H),3.55(
s,3H),6.50(br.d,1H,J=7.8Hz),6.55−6.6
3(m,2H) 4.2 2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(N−ベンゾイル−4−
ピペリジン)プロピオン酸[XXXIII]の製造 氷水浴、機械撹拌機、温度計、滴下ロートおよびバブラーを装着した2Lガラ
ス丸底フラスコに、2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(4−ピペリジ
ン)プロピオン酸エチル[XXXII](50g)、炭酸カリウム(138.0
g)、水(0.75L)を負荷し、そしてアルゴンを満たした。塩化ベンゾイル
(42.9g)を5〜10℃で撹拌混合液に滴下した。得られた混合液を3時間
室温で撹拌した。16wt.%塩酸をpH3に達するまで10〜15℃で混合液
に滴下した。混合液を1時間同温度で撹拌した。沈殿した固形物を濾別し、水で
洗浄し、そして減圧下で乾燥して、所望の2−(3,4−ジメトキシベンジル)
−3−(N−ベンゾイル−4−ピペリジン)プロピオン酸[XXXIII]を得
た。1 H NMR(CDCl3)δ 0.88−1.95(m,7H),2.55−3
.05(m,5H),3.60−3.80(m,1H),3.82(s,3H)
,3.83(s,3H),4.55−4.78(m,1H),6.65−6.7
0(m,2H),6.75(d,1H,J=8.7Hz),7.30−7.50
(m,5H) 4.3 5,6−ジメトキシ−2−(N−ベンゾイル−4−ピペリジルメチル
)−1−オキソインダン[XXXIV]の製造 水浴、マグネチックスターラーおよびバブラーに連結したコンデンサーを装着
した250mL丸底フラスコに、五酸化リン(15.1g)およびメタンスルホ
ン酸(145g)を負荷し、そしてアルゴンを満たした。混合液を75℃におい
て固相が完全に消失するまで撹拌し、そして35〜40℃に冷却した。ジクロロ
メタン(50mL)および2−(3,4−ジメトキシベンジル)−3−(N−ベ
ンゾイル−4−ピペリジン)プロピオン酸[XXXIII](27.4g)を、
この混合液に添加した。得られた混合液を1.5時間撹拌下で還流した。反応混
合液を室温まで冷却し、そして氷中に注入した。有機層を分離し、そして水層を
ジクロロメタンで抽出した。合わせた有機溶液を、炭酸ナトリウム水溶液で洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥し、短いシリカゲルカラムを通過させ、そして蒸発乾
固した。結晶性残渣(25.1kg,96.2%収率、TLCにおいてワンスポ
ット)をメタノールおよびジイソプロピルエーテル混合液から再結して、オフホ
ワイト結晶として化合物[XXXIV]21.5g(82.4%収率)を得た。
1H NMR(CDCl3)δ 1.07−1.48(m,3H),1.58−2
.00(m,4H),2.62−3.12(m,4H),3.24(dd,1H
,J=17.5,8.1Hz),3.65−3.85(m,1H),3.88(
s,3H),3.93(s,3H),4.62−4.82(m,1H),6.8
3(s、1H),7.14(s,1H),7.36(s,5H) 実施例5 2−(N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)−1−オキソインダ
ン塩酸塩[VIIb]の製造
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0079
【補正方法】変更
【補正内容】
【0079】 5.1 2−ベンジル−3−(4−ピリジル)アクリル酸エチル[XXVb]
およびα−(4−ピリジルメチル)ケイ皮酸エチル[XXVIb]の異性体混合
物の製造 氷水浴、機械撹拌機、温度計、滴下ロートおよびバブラーを装着した250m
Lガラス丸底フラスコに、ベンジルホスホノ酢酸トリエチル[XXIIIb](
82.6g)および4−ピリジンカルボキシアルデヒド(39.8g)を負荷し
、そしてアルゴンを満たした。水(105.0g)中炭酸カリウム(109.5
g)溶液を、10〜15℃において混合液に滴下した。得られた混合液を、室温
で22時間撹拌し、水で希釈し、そしてジクロロメタンで2回抽出した。合わせ
た有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、短いシリカゲルカラムを通過させ、そして
減圧下で蒸発して[XXVb]および[XXVIb]の混合物60.0g(85
.4%収率)を得て、これを、さらなる精製なしに次の段階において使用した。
[XXVb]:1H NMR(CDCl3)δ 1.20(t,3H,J=7.1
Hz),3.86(s,2H),4.17(q,2H,J=7.1Hz),7.
75(s,1H),8.56(d,2H,J=5.6Hz). [XXVIb]:1H NMR(CDCl3)δ 0.97(t,3H,J=7.
1Hz),3.73(s,2H),4.01(q,2H,J=7.1Hz),6
.47(s,1H),7.08(d,2H,J=5.7Hz),8.49(d,
2H,J=5.7Hz) 5.2 2−ベンジル−3−(4−ピペリジン)プロピオン酸エチル[XXV
IIc]の製造 2Lステンレススチール高圧「Parr」反応器に、活性炭素に担持される1
0wt.%パラジウム(4.0g)、氷酢酸(26.0g)、前段階からの[X
XVb]と[XXVIb]の混合物(60.0g)および無水エタノール(1.
0L)を負荷し、そして窒素および水素を連続して満たした。水素化を90℃で
水素圧250psi下で実施した。次いで、反応器を室温まで冷却し、そして触
媒を濾別した。得られた[XXVIIc]の溶液を、さらなる精製なしに次の段
階において使用した。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0080
【補正方法】変更
【補正内容】
【0080】 5.3 2−ベンジル−3−(N−ベンジル−4−ピペリジン)プロピオン酸
エチル塩酸塩[XVIIc]の製造 加熱マントル、機械撹拌機、温度計、滴下ロートおよびバブラーに連結したコ
ンデンサーを装着した2L丸底フラスコに、前段階からの[XXVIIc]溶液
、炭酸ナトリウム(73.3g)および塩化ベンジル(32.7g)を負荷し、
そしてアルゴンを満たした。混合液を60〜65℃で9時間撹拌し、そして減圧
下で蒸発した。水(300mL)およびトルエン(300mL)を残渣に添加し
た。混合液を、固相が完全に消えるまで室温で撹拌した。有機層を分離し、そし
て水層をトルエンで抽出した。合わせた有機溶液を、硫酸ナトリウムで乾燥し、
濾過し、そして減圧下で蒸発して、黄色オイルとして2−ベンジル−3−(N−
ベンジル−4−ピペリジン)プロピオン酸エチル[XVIIb]69.5g(2
段階において84.7%収率)を得た。1 H NMR(CDCl3)δ 1.10(t,3H,J=7.1Hz),1.0
7−1.42(m,4H),1.50−1.78(m,3H),1.78−1.
97(br,t,2H),2.64−2.97(m,5H),4.02(q,2
H,J=7.1Hz),7.10−7.32(m,10H) 2−ベンジル−3−(N−ベンジル−4−ピペリジン)プロピオン酸エチル塩
酸塩[XVIIc]を、標準方法によって[XVIIb]から得た。1 H NMR(CDCl3)δ 1.07(t,3H,J=7.1Hz),1.2
7−1.59(m,2H),1.59−2.22(m,6H),2.40−2.
98(m,5H),3.38(br.d,2H,J=11.6Hz),3.99
(q,2H,J=7.1Hz),4.07(d,2H,J=4.9Hz),7.
04−7.71(m,10H),12.32(m,1H). 5.4 2−ベンジル−3−(N−ベンジル−4−ピペリジン)プロピオン酸
[XVIIb]の製造 加熱マントル、機械撹拌機、温度計およびバブラーに連結したコンデンサーを
装着した500mL丸底フラスコに、2−ベンジル−3−(N−ベンジル−4−
ピペリジン)プロピオン酸エチル塩酸塩[XVIIc](66.9g)、90%
水酸化カリウム(26.0g)、メタノール(140mL)および水(70mL
)を負荷し、そしてアルゴンを満たした。混合液を15時間撹拌下で還流し、容
量約150mLまで減圧濃縮し、20%クエン酸水溶液でpH8まで酸性化し、
そしてジクロロメタンで抽出した。合わせた有機抽出液を、硫酸ナトリウムで乾
燥し、濾過し、そして減圧下で蒸発して、2−ベンジル−3−(N−ベンジル−
4−ピペリジン)プロピオン酸[XVIa]56.1g(定量的収率)を得た。
1H NMR(CD3OD)δ 0.80−1.35(m,4H),1,42−1
.64(m,2H),1.64−1.97(m,3H),2.38−2.59(
m,2H),2.67−2.94(m,3H),3.37(s,2H),6.9
7−7.26(m,10H) 5.5 2−(N−ベンジル−4−ピペリジルメチル)−1−オキソインダン
塩酸塩[VIIb]の製造 機械撹拌機、滴下ロート、温度計およびバブラーに連結したコンデンサーを装
着した250mL丸底フラスコに、五酸化リン(13.3g)およびメタンスル
ホン酸(133g)を負荷し、そしてアルゴンを満たした。混合液を90〜95
℃において完全に均質にまるまで撹拌した。ジクロロメタン(40mL)および
2−ベンジル−3−(N−ベンジル−4−ピペリジン)プロピオン酸[XVIa
](26.6g)を、35〜40℃でこの混合液に添加した。得られた混合液を
3時間還流下で撹拌した。次いで、冷反応混合液を砕氷中に注入し、そして混合
液を水酸化カリウム水溶液でpH9〜10まで塩基性にした。混合液をジクロロ
メタンで抽出した。合わせた有機抽出液を、硫酸ナトリウムで乾燥し、短いシリ
カゲルカラムを通過させ、そして減圧下で蒸発した。残渣(25.1kg,定量
的収率、TLCにおいてワンスポット)をメタノール中塩化水素溶液で処理し、
そして得られる固形物を、メタノール−エーテルの混合液から再結晶化して化合
物[VIIb]24.3g(86.5%収率),mp199−200℃を得た。
1H NMR(CDCl3)δ 1.40−2.23(m,8H),2.53−2
.83(m,4H),3.23−3.57(m,3H),4.12(d,2H,
J=4.9Hz),7.26−7.72(m,9H),12.26(m,1H)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,UG,ZW),E A(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ,BA ,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,CR, CU,CZ,DE,DK,DM,EE,ES,FI,G B,GD,GE,GH,GM,HR,HU,ID,IL ,IN,IS,JP,KE,KG,KP,KR,KZ, LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MD,M G,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL,PT ,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK,SL, TJ,TM,TR,TT,UA,UG,US,UZ,V N,YU,ZA,ZW (72)発明者 ニスネビチ,ゲナデイ イスラエル・20306ネシヤー・ザハルスト リート10/24 (72)発明者 ザルツマン,イゴル イスラエル・33071ハイフア・ヒレルスト リート41/8 Fターム(参考) 4C054 AA02 CC02 CC03 DD01 EE01 FF05 FF13 4H006 AA02 AC81 BA21 BA23 BA24 BA25 BA26 BE20 4H039 CA12 CB10

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式[I]の化合物もしくはその塩: 【化1】 [式中、 R1は、N−アシル−4−ピペリジル;N−アルコキシカルボニル−4−ピペリ
    ジル;4−ピペリジル;N−アルキル−4−ピペリジル;N−ベンジル−4−ピ
    ペリジル;N−(ω−アラルキル)−4−ピペリジルもしくは4−ピリジルであ
    り; R4、R5、R6およびR7は、同じか異なっていて、そして各々は、水素、直鎖も
    しくは分枝アルキル、アリール、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ベ
    ンジルオキシ、アシルオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、ベンジルチオ、ア
    シルアミノ、フタルイミドもしくはハロゲンを表し; nは、1,2もしくは3であり;そして mは、1,2,3,4もしくは5である] の製造方法であって、 式[II]の化合物もしくはその塩 【化2】 [式中、 R1、R4、R5、R6およびR7、mおよびnは、先に定義されたとおりであり;
    2は、誘導体化もしくは非誘導体化カルボキシル、シアノ、N−置換アミノカ
    ルボニルもしくは水素から選ばれ;そして R3は、誘導体化もしくは非誘導体化カルボキシル、シアノもしくはN−置換ア
    ミノカルボニルから選ばれる] の、場合によっては酸および/または溶媒の存在下での環化を含んでなる方法。
  2. 【請求項2】 該環化が一つの鏡像異性体に富んだ化合物[I]もしくはそ
    の塩を得るために、式[II]の光学的に純粋な化合物を用いて実施される、請
    求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 R4およびR7が水素であり、R5およびR6が各々メトキシで
    あり、n=1およびm=1である、請求項1記載の方法。
  4. 【請求項4】 該式[I]の化合物がドネペジルである、請求項1もしくは
    3記載の方法。
  5. 【請求項5】 環化が式[II]の化合物の加水分解後に行われて、R2
    水素もしくはカルボキシルであり、そしてR3がカルボキシルである式[II]
    の化合物を生成する、請求項1記載の方法。
  6. 【請求項6】 R2およびR3がカルボキシル基である式[II]の化合物が
    、環化の工程で脱炭酸されて式[I]の化合物を生成する、請求項5記載の方法
  7. 【請求項7】 R2がHであり、そしてR3がカルボキシルもしくはハロカル
    ボニル基である式[II]の化合物の環化が、フリーデル−クラフト反応条件下
    で実施される、請求項1記載の方法。
  8. 【請求項8】 該酸がプロトン性酸もしくはルイス酸もしくはそれらの混合
    物である、請求項1記載の方法。
  9. 【請求項9】 該酸が、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸
    、ポリリン酸、フルオロ−もしくはクロロスルホン酸、硫酸、フッ化水素、塩化
    水素、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、塩化チタン
    、フッ化ホウ素、五酸化リン、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リン、塩化
    チオニル、塩化スルフリルもしくはそれらの混合物から選ばれる、請求項8記載
    の方法。
  10. 【請求項10】 該溶媒が、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタ
    ン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロメタン、
    ニトロエタン、ニトロベンゼン、エーテルもしくはそれらの混合物から選ばれる
    、請求項1記載の方法。
  11. 【請求項11】 式[II]: 【化3】 [式中、 R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、nおよびmは、請求項1において定義さ
    れたとおりである] の化合物であって、その塩およびその光学的に活性な鏡像異性体を含む化合物。
  12. 【請求項12】 請求項11における式[II]の化合物もしくはその塩の
    製造方法であって、式[III]の化合物と式[IV]の化合物 【化4】 [式中、 R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、nおよびmは、請求項1において定義さ
    れたとおりであり、そしてXは容易に脱離する基を表す] とを反応させることを含む、方法。
  13. 【請求項13】 請求項11における式[II]の化合物の製造方法であっ
    て、式[V]の化合物と式[VI]の化合物 【化5】 [式中、 R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、nおよびmは、請求項1において定義さ
    れたとおりであり、そしてXは容易に脱離する基を表す] とを反応させることを含む、方法。
  14. 【請求項14】 該容易に脱離する基が、ハロゲンおよびスルホン酸基から
    選ばれる、請求項12もしくは13記載の方法。
  15. 【請求項15】 R2が水素である、請求項11における式[II]の化合
    物の製造方法であって、式[VIII]の化合物 【化6】 [式中、 R1、R3、R4、R5、R6、R7、nおよびmは、請求項1において定義されたと
    おりである] の水素化を含む、方法。
  16. 【請求項16】 R2がHである、請求項11における式[II]の化合物
    の製造方法であって、式[IX]の化合物 【化7】 [式中、 R1、R3、R4、R5、R6、R7、nおよびmは、請求項1において定義されたと
    おりである] の水素化を含む、方法。
  17. 【請求項17】 反応が強塩基の存在下で実施される、請求項12もしくは
    13記載の方法。
  18. 【請求項18】 該強塩基が、金属アルコキシド、金属アミド、金属水素化
    物もしくはそれらの混合物から選ばれる、請求項17記載の方法。
  19. 【請求項19】 該強塩基が、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
    ド、カリウムtert−ブトキシド、ナトリウムtert−ペントキシド、水素
    化ナトリウム、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド、リチウムジイソプ
    ロピルアミドもしくはそれらの混合物から選ばれる、請求項18記載の方法。
  20. 【請求項20】 反応が溶媒の存在下で実施される、請求項12もしくは1
    3記載の方法。
  21. 【請求項21】 該溶媒は、テトラヒドロフラン(THF)、1,2−ジメ
    トキシエタン、ジクロロメタン、ベンゼン、トルエン、N,N−ジメチルホルム
    アミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド、1−メチル−2−ピロリジ
    ノン、ジメチルスルホキシド(DMSO)、メタノール、エタノール、イソプロ
    パノール、tert−ブチルアルコールもしくはそれらの混合物から選ばれる、
    請求項20記載の方法。
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