JP2002522315A - 管理雰囲気下で物品を保管する方法と装置 - Google Patents

管理雰囲気下で物品を保管する方法と装置

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JP2002522315A JP2000563544A JP2000563544A JP2002522315A JP 2002522315 A JP2002522315 A JP 2002522315A JP 2000563544 A JP2000563544 A JP 2000563544A JP 2000563544 A JP2000563544 A JP 2000563544A JP 2002522315 A JP2002522315 A JP 2002522315A
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レテュルミー、マール
ボネ、クロード
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レール・リキード−ソシエテ・アノニム・ア・ディレクトワール・エ・コンセイユ・ドゥ・スールベイランス・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、管理雰囲気下で物品を保管する装置に関し、前記装置は、保管する物品を受け入れることのできる少なくとも1つの保管モジュール(X, Y,, Z…)と、ほぼ平行六面体の形状で、実質的に垂直な対向する2枚の壁(PX1, PY2)とを有するモジュール、および前記少なくとも１つのモジュール内の前記保管雰囲気を設定する手段(5,7)とからなり、前記雰囲気を設定する手段は、前記実質的に垂直な壁の一方から対向する他方の壁に向けて、ガスの実質的に横方向の層状循環を起こすことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、管理雰囲気下で物品を保管する装置の分野に関する。
【０００２】
【従来の技術】
特に、多くの産業分野において(電子製品あるいは食品、時には薬品産業等)、
物体を使用時まで、あるいは製造中に管理雰囲気下で、一時的に保管する必要が
あることは周知である。 保管雰囲気は通常、乾燥空気あるいは特定の割合を超えない残留酸素または残
留水蒸気を含む窒素雰囲気である。 たとえば、電子産業を例に取ると、製造過程にある電子コンポーネントを窒素
または乾燥空気下で保管する手段はよく見られる。たとえば、 ‐プリント配線基板を実装前に保管する手段、 ‐ベアチップを電子基板に実装する前に保管する手段、 ‐圧電水晶またはリレー等の敏感な受動コンポーネント、 ‐その金属端子だけでなく、プラスチックケースにおいても湿気に敏感な、QFP
またはBGA等の新世代コンポーネントを保管する手段、 等である。
【０００３】 この産業では、乾燥空気または窒素中に、老朽品または戦略的と認定され、お
よび今後数年中に供給することができるかユーザにとって不明であり、ユーザが
自分の長期的ストック(数年程度)を単純に保存する電子コンポーネントを保管す
る手段も見られる。 したがって、この産業において、このような保管方法はその用途により、1日
に、あるいは1時間に何度も開けられる場合から1ヵ月に1回、あるいはもっと間
隔を空けて開けられる場合まで大きく異なることがわかる。 このような保管作業は、コンポーネントと周辺空気との作用を防止するために
必要である。大きなリスクは、コンポーネントによる周辺空気からの水分摂取、
コンポーネントの金属部分またはプリント配線基板のトラック等の酸化、プラス
チックカプセルケースによる水分摂取(「ポップコーン」効果)、あるいは硫黄酸化
物またはハロゲン化合物コンポーネントのような、空気中の汚染粒子の一部との
反応に関わることである。
【０００４】 特定のプラスチックカプセルケースによる水分摂取の問題により、ユーザはそ
の電子コンポーネントを24時間から48時間ある温度で焼成しなければならないが
、このような焼成は、経済的にも生産性の面からも不利であることがわかる。 前述のとおり、このような保管装置が短期間使用され、ユーザのサイトの必要
性に応じて、コンポーネントを保管部に入れたり、また保管部から出す場合、保
管モジュールは頻繁に、時には1時間に何度も開閉されることになる。 もちろん、水分摂取の問題は、長期的保管キャビネットの場合にも発生する。 保管モジュールまたはキャビネットの容量はさまざまで、通常は100リットル
から2000リットルの範囲であり、連続的に注入される流量割合は一般に、50から
150リットル/時というかなり低いオーダーである。
【０００５】 このような保管キャビネットの動作上の問題を目に見えるようにする最善の方
法は、ドアを開けた後に空気を再調整するのに必要な時間を計算することである
。 これを行うために、従来の「希釈パージ」と呼ばれる数学モデルを利用する。 VP=Vo×log (Xo/XF) ここで、VPは、注入ガスの量、VOはチャンバの容量、XOはチャンバ内の問題の
元素の初期濃度(たとえば、ドアが開いて空気が入った時に酸素が21%)、XFは問
題の元素の所望の最終濃度である。
【０００６】 具体的な例を挙げ、発生する可能性のある問題をよりよく理解するために、産
業用保管キャビネットの例を2つ紹介する。 ａ）キャビネットの第1例は、容量VO=0.22m3で、残留酸素濃度が100ppmを超え
てはならない(XF=100ppm)常用雰囲気(従って、所望の雰囲気)中の窒素下で電子
コンポーネントを保管するのに用いられる。 したがって、XOはドアを開けた後の空気(残留酸素21%)に対応する。 この第１例に恒久的に注入される窒素の流量は0.25m3/時である。 これから必要な窒素量VPを引くと1.683m3となり、キャビネットが開けられた
後、再調整時間は1.683/0.25=6.73h、つまり6時間43分となる。
【０００７】 ｂ）第2例のキャビネットはもっと大きく、容量は1.4 m3で、これも残留酸素
濃度が100ppmを超えない(XF=100ppm)窒素雰囲気である所望の常用雰囲気中の窒
素下で電子コンポーネントを保管する。 恒久的に注入される窒素の流量は、第１例と同様である(0.25m3/時)。 これから必要な窒素量VPを引くと10.7m3となり、キャビネットが開けられた後
の調整に必要な時間は10.7/0.25=42.8h、つまり42時間48分もかかる。 したがって、どちらの例においても、再調整時間は一時的保管に適さず、保管
キャビネットが平均して1時間に4,5回開けられる上記の例では、保管の効果が低
く、残留酸素濃度が実際に望ましい数値、つまり100ppm以下であるような雰囲気
にコンポーネントを保持することができない。このような状況では、空気を管理
、調整することは非現実的となる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
以上のことから、産業界において、一方では所望の保管雰囲気を達成し(たと
えば、窒素ガス中の残留酸素または水蒸気濃度が低いもの)、しかしながら1時間
に何度も開ける必要のある保管部に用いられるよう、ドアを開けた後の空気の再
調整を素早く達成できるような、改善された管理雰囲気下での物品保管方法の実
現が急務である。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明による雰囲気下での物品保管装置は、 ｉ）保管する物品を収納できる少なくとも1つの保管モジュール、 ｊ）モジュール内の保管雰囲気を設定する手段、 で構成され、前記保管モジュールの少なくとも1つは、実質的に平行六面体の形
状であり、実質的に垂直な対向する2枚の壁を持ち、保管雰囲気設定手段はモジ
ュールの前記2枚の実質的に垂直な壁の一方の付近に設置された第一のガス送入
システムを有し、この第一のガス送入システムは、モジュールの反対側の実質的
に垂直な第二の壁に向けて、実質的に横方向の層状気流を起こすことができるこ
とを特徴とする。
【００１０】 本発明による装置はまた、以下のうち1つまたは複数の特徴を有する。 ‐前記保管モジュールの少なくとも1つは、モジュールの内側から外側にガス
を排出する手段を有し、この手段は装置上部からガスを排出することができる。 ‐前記保管モジュールの少なくとも1つは、モジュールの前記第二の実質的に
垂直な壁の付近に設置された第二のガス分散システムを有し、この壁をもって第
二のチャンバが作られ、前記第一のガス送入システムと前記第二のガス分散シス
テムとの間に物品保管用スペースが確保される。 ‐前記保管モジュールの前記少なくとも1つの前記第二の実質的に垂直的な壁
は、そのモジュールからそれと並列の保管モジュールに向けてガスを送ることが
できる第二のガス分散システムからなる。 ‐前記第一のガス送入システムは前記第一の壁とともに第一のチャンバを作り
、この第一のチャンバにガスを注入する手段を有する。
【００１１】 ‐装置は、物品の所望の保管容量を確保するために積み重ねることができる複
数の保管モジュールからなり、各モジュールはそのモジュールの内側から外側に
ガスを排出する手段を有し、前記排出手段は少なくとも1つのダクト/排気筒シス
テムを有し、前記ダクト/排気筒システムの1つは積み重ねられた2つのモジュー
ルの2つの第二のチャンバの間に設置され、ガスが前記積み重ねられた2つのモジ
ュールのうち、下側のモジュールの第二のチャンバから上側のモジュールの第二
のチャンバに排出される。 ‐各モジュールは他のモジュールとは独立してそれにガスを供給することので
きる当該モジュール専用の第一のガス送入システムを有する。 ‐装置は、物品の所望の保管容量を確保するために並置させることのできる複
数の保管モジュールからなり、各モジュールは他のモジュールとは独立してそれ
にガスを供給することのできる当該モジュール専用の第一のガス送入システムと
当該モジュール専用の第二のチャンバを有し、各モジュール内から各モジュール
外にガスを排出する手段を有し、排出手段はそれぞれ、当該各モジュールの第二
のチャンバに接続されている。
【００１２】 ‐装置は、物品の所望の保管容量を確保するために並置させ、交流させること
のできる複数の保管モジュールからなり、並置グループの最初のモジュールと最
後のモジュールを定め、当該並置グループの最初のモジュールが、並置グループ
の外側の壁を形成するその2枚の実質的に垂直な壁の一方付近に設置され、対向
するその2枚の実質的に垂直な壁の他方に向けて、実質的に横方向で層状の気流
を起こし、次にそこから並置グループの次のモジュールにガスを送ることのでき
る第一のガス送入システムを有する。 ‐並置グループの最後のモジュールは、並置グループの外側に壁を形成するそ
の2枚の実質的に垂直な壁の一方付近に設置された第二のガス分散システムを有
し、この壁とともに第二のチャンバを作り、第二のチャンバには、ガスを外側に
排出し、その前のモジュールから並置グループの最後のモジュールにガスを到達
させることのできるガス排出手段が備えられている。
【００１３】 ‐並置グループの最後のモジュールの2枚の実質的に垂直な壁の一方は、並置
グループの外側の壁を形成し、その前のモジュールから並置グループの最後のモ
ジュールに到達したガスを外部に排出させることのできる第二のガス分散システ
ムで構成される。 ‐装置は、並置させ、交流させることのできるモジュールからなる少なくとも
2つの平行なシリーズからなり、各並置グループの第一のモジュールだけが第一
のガス送入システムを有し、各並置グループの最後のモジュールは、並置グルー
プの外側の壁を形成するその垂直な壁の付近に設置され、この外側の壁とともに
第二のチャンバを形成する第二のガス分散システムを備え、第二のチャンバには
、当該並置グループの中でその前のモジュールから当該並置グループの最後のモ
ジュールに到達したガスを外側に排出させることのできるガス排出システムが備
えられている。 ‐装置は、並置させ、交流させることのできるモジュールからなる少なくとも
2つの平行なシリーズからなり、各並置グループの第一のモジュールだけが第一
のガス送入システムを有し、当該並置グループの外壁を構成する各並置グループ
の最後のモジュールの垂直な壁は、当該並置グループの中でその前のモジュール
から当該並置グループの最後のモジュールに到達したガスを外部に排出させるこ
とのできる第二のガス分散システムを有する。
【００１４】 ‐装置は、並置され、交流するモジュールの少なくとも2つの積み重ねられた
シリーズを配列したものからなり、ガスを積み重ねグループにおける1つのシリ
ーズの最後のモジュールからその上のモジュールに送り、最終的には当該積み重
ねグループにおける一番上のシリーズの最後のモジュールまで送ることができ、
最後のモジュールは、その前のモジュールからこの最後のモジュールに到達した
ガスを外部に排出させることのできるガス排出手段を有し、当該配列したものに
は、ガスが流れる方向を考えた場合に、当該配列したものの第一のモジュールに
ガスを供給する１つのガス送入システムにおいてガスが供給される。 ‐2つの並置されたモジュール間の交流は、当該2つの並置モジュール間の共通
な壁を形成するガス分散システムによって実現される。
【００１５】 ‐前記第一のガス送入システムは、前記第一の壁とともに第一のチャンバを作
る第一のガス分散システムを有し、ガスをこの第一のチャンバに注入する手段を
有することを特徴とする。 ‐前記第一のガス送入システムは、モジュールの内側で開き、前記第一の垂直
な壁に沿って延長する1つまたは複数の多孔性チューブからなる。 ‐装置のガス分散システムの少なくとも1つは、多孔性材料で形成されたパネ
ルからなる。 ‐装置のガス分散システムの少なくとも1つは、セラミック、焼結金属、ポリ
マーまたは繊維で形成されたパネルからなる。 ‐装置のガス分散システムの少なくとも1つは、金属メッシュからなる。 ‐前記保管モジュールの前記少なくとも1つの2つのガス分散システムは、多孔
性材料で形成されたパネルからなり、第2のガス分散システムの厚さは、第一の
ガス分散システムの厚さより大きい。 ‐前記少なくとも1つの前記保管モジュールの2つのガス分散システムは、多孔
性材料で形成されたパネルからなり、第二のガス分散システムの多孔率は、第一
のガス分散システムの多孔率より小さい。
【００１６】 ‐第一のチャンバにガスを注入する手段は、モジュールの壁の1つに形成され
たオリフィスからなる。 ‐第一のチャンバにガスを注入する手段は、第一のチャンバの内側に開き、ガ
ス注入用オリフィスを有する1つまたは複数のパイプからなり、オリフィスはモ
ジュールの前記第一の実質的に垂直な壁に向けられている。 ‐第一のチャンバにガスを注入する手段は、第一のチャンバの内側に開いてい
る1つまたは複数の多孔性チューブからなる。
【００１７】 本発明は、保管すべき物品を収容でき、実質的に平行六面体であり、実質的に
垂直な対向する2枚の壁を有する少なくとも1つの保管モジュールを配置したもの
の中の雰囲気下で物品を保管する方法にも関し、前記少なくとも1つのモジュー
ル内の保管空気を設定する手段が用いられ、設定手段は前記2枚の実質的に垂直
な壁の一方から前記2枚の壁の、これと対向する他方の壁に向かって、実質的に
横方向の層状気流を起こすことができる。 上記の説明全体から理解されるように、本発明による方法は、ガスの交流の有
無を問わず、物品の所望の保管容量を得るために積み重ねる、あるいは並列配置
することのできる複数の保管モジュールを使用することができる。 複数のモジュールからなる装置を使用した場合、つまり、各モジュールに個別
のガス取り入れ口がある場合、開けられたモジュールだけについて、開けられた
後のスイープと再調整を行えばよいことがわかる(速度、効率、影響を受けない
他のモジュールの汚染防止等)。 しかしながら、場合によっては、特に使用される保管モジュールの数を考慮し
た場合、連続した装置を供給し、ガスを1ヵ所の注入口からのみ供給し、ガスを1
つのモジュールから別のモジュールに送ることを、本発明の範囲内で想定するこ
とができる。
【００１８】 本発明の1つの実施例において、設定手段は、モジュールの前記2枚の実質的に
垂直な壁の一方付近に設置された第一のガス送入システムと、モジュールの前記
2枚の実質的に垂直な壁のもう一方の近傍に設置され、この壁とともに第二のチ
ャンバを形成する第二のガス分散システムからなり、ガスは少なくとも1つの排
気筒システムの助けを借りて装置から上方に排出され、前記排気筒システムの1
つは、2つの積み重ねられたモジュールの2つの第二のチャンバ間に設置され、ガ
スが当該2つの積み重ねられたモジュールのうち下側モジュールの第二のチャン
バから上側のモジュールの第二のチャンバに排出される。 有利なことに、モジュールあるいは複数のモジュールを使用したグループには
、前記雰囲気を設定するために、以下のいずれかの流量でガスが供給される。 ‐そのモジュールあるいはグループの中の1つの保管モジュールのドアが開け
られた時、そのドアが閉められるのを待ち、使用されているそのモジュールまた
はモジュールグループに、調整時間tcにわたり、調整流量Qcでガスを注入させる
。 調整時間tcを超えると、使用されているそのモジュールまたはモジュールグル
ープにガスを注入する流量は保持流量Qmに戻され、QmはQcより小さい。 ‐システムのいずれかのモジュールのドアが開けられないかぎり、ガスは上記の
保持流量で注入される。 調整時間tcは、プログラム可能なコントローラ等の外部装置により、所望の雰
囲気仕様に適合させるよう完璧に調整、管理可能である。
【００１９】 有利な実施例において、調整流量に切り換えるためのトリガとなるのは、ある
モジュールのドア(すでに開けられているもの)を閉めることである(たとえば、
ガス回路の電気的に作動する弁をアクチュエートする遅延リレイをトリガする)
。 本発明のその他の特徴や利点は、以下のいくつかの実施例に関する説明の中で
明らかとなり、これらの実施例はまったく非限定的な例にすぎず、付属の図面を
参照して説明する。
【００２０】
【発明の実施の形態】
図1の実施例では、複数の積み重ねた保管モジュール(X, Y, Z, …)を描き、そ
のうちモジュールXだけを詳細に示す。 以下に述べるように、図1の実施例はモジュールごとのガス取り入れ口の例を
示し、排気は積み重ねられたモジュールの第二のチャンバ(ダクト/排気筒システ
ム)を通じて行われる。 モジュールX(その上に積み重ねられた別の保管モジュールと同様)は、実質的
に平行六面体であり、第一の実質的に垂直な壁PX1と第二の実質的に垂直な壁PX2 を形成する。 モジュールXは、また第一のガス分散システム5と第二のガス分散システム6を
有し、2つの分散システム間に、物品を保管するスペース1が確保され、その保管
スペースには、ここではシェルフ2がある。
【００２１】 2枚のパネルは、この例において、焼結ポリマー材、ここでは焼結ポリエチレ
ンで形成され、パネル5の厚さは2mm程度、パネル6の厚さは4mm程度である。 多孔セラミック、焼結金属または繊維(織物、フェルト、不織布等)、あるいは
金属メッシュで形成したパネルも容易に利用できる。 第一のガス分散システム5は、第一の壁PX1とともに第一のチャンバ3を形成し
、第二のガス分散システム6は、第二の壁PX2とともに第二のチャンバ4を形成す
る。 ガス注入オリフィスを有し、第一のチャンバ3の内側に開くパイプ7は、ガスを
図示されていない外部発生源からこのチャンバ3の中に送ることができる。 モジュール内で設定する雰囲気の仕様に応じて、ガス発生源は大きく異なるこ
とが分かる。たとえば、保管中の残留酸素濃度に特定の限界を設けた窒素雰囲気
内で物品を保管する必要のあるユーザサイトでは、低温窒素発生源あるいは吸収
または浸透による空気分離によって得られる窒素を提案することができ、この窒
素は上記の限界と一致する特定の酸素濃度を有する。
【００２２】 この例のパイプ7の注入オリフィスは、モジュールの第一の壁PX1に向かって面
しており、注入されたガスを外側に向かわせ、第一の分散システム5の方に回帰
させ、これは図の矢印8で図式的に示されている。 パイプ7が注入するガスは第一の分散システム5を通じて、保管スペース1に沿
い、第二の分散システム6に向かって移動し、これを通って第二のチャンバ4に入
る。 図中の矢印9で図式的に示されているように、ガスは次にモジュールXの第二の
チャンバ4からダクト/排気筒10を通ってモジュールY(Xの上に積み重ねられてい
る)の第二のチャンバ12に向かって排出され、モジュールYの第二のチャンバをモ
ジュールZの第二のチャンバへと接続するダクト/排気筒11を通じて保管モジュー
ルZの第二のチャンバに排出され、次へと続く。 1つのチャンバから別のチャンバへと排出するダクト/排気筒は、それが関連す
るモジュールに気密的に接続されることが好ましいことが理解できる。
【００２３】 図1に示す有利な実施例には、以下の特徴と利点がある。 ‐図中のモジュール配置において、ガスは装置の一番下から一番上に流れ、こ
の装置の上から排出される。 ‐第二の分散システム6により、排出通路4を保管領域1から隔離し、特にガス
、したがって空気が排出通路から保管チャンバに戻ることが防止されている(逆
流防止システム)。 ‐第二の分散システム6があることにより、保管領域1内を若干圧力超過にする
ことも可能となる。 ‐「パイプ7／第一の分散システム5」をまとめることにより、ガスは分散システ
ムから出て、実質的に横方向に低速で(好ましくは毎秒数センチメートル)分散さ
れる。 ‐「パイプ7／第一の分散システム5／第二の分散システム6」の組み合わせによ
り、「ピストン」効果と称することのできる効果を生むことが可能であり、注入さ
れたガスがチャンバの雰囲気と混合されるのを防ぎ、ドアを開いた後の再調整時
間を有効に短縮することができる。
【００２４】 以下の説明によって限定されることなく、ガス分散システム5を出た後、低速
で第二の分散システム6に向かって横方向に移動する窒素の十分な層状緩衝流が
得られ、圧力低下により、それがガスの運動の障害、ストッパーとして作用し、
窒素緩衝流は、ドアが開けられたことにより、すでにモジュール内に存在する空
気の雰囲気を分散システム6に向かって移動され、空気と窒素緩衝流の間にある
中間組成を持つ領域を形成する。 空気はこのように、乱流したがって混合現象が最も小さな状態で、第二のチャ
ンバ4に向かって移動させられ、装置の外に排出される。 本発明によれば、モジュールの側壁からガスを注入することにより、必要に応
じて、保管する物品を支持するためのシェルフをモジュール内に設置することが
でき、たとえばモジュールの一番下から上方向に、あるいはモジュールの一番上
から下方向にガスを注入した場合と異なり、シェルフを設置してもガスの流れに
大きな変化を与えない。
【００２５】 図1は、第一のチャンバ3の中にガスを注入するシステムが、注入オリフィスを
有する単独パイプ7からなる実施例を示す。しかし、本発明の範囲から逸脱する
ことなく、出願人名義の特許出願書類EP-A-659,515, EP-A-686,844において報告
されているような別のガス注入用の有利なシステムをチャンバ3において利用す
ることも可能である。これらの特許出願書類は、チャンバの全領域を通じて極め
て優れたレベルの均一性を実現することが可能であり、したがって本発明の実現
に非常に適したガス注入アセンブリを開示している。 同様に、モジュールの第一の壁に沿ったパイプ7と分散システム5の組み合わせ
からなるガス送入システムを紹介しているものの、 (本明細書ですでに述べたよ
うに)ガスの横方向の層流を得ることができるような、たとえばモジュールXの壁
PX1の1ヵ所の寸法の全体または一部に沿って伸びる多孔性チューブ等のその他の
送入システムを使用することも可能である。
【００２６】 図2, 3, 4は、本発明の他の実施例を示し、場合に応じて積み重ねた、あるい
は並置させたモジュールの配置をしており、これらの実施列について以下に簡単
に説明する。 ‐図2の実施例に関する説明から理解できるように、モジュールX, Y, Zを積み
重ねたものには、モジュールXの第一のチャンバ内に開いている単独パイプ7を通
じてガスが供給され、ガスは次にモジュールX内で実質的に横方向に流れ、層流
をなし、Xの第二のチャンバに入り、そこからダクト/排気筒10を通じて第二のチ
ャンバYに流れ込み、次にモジュールYに入り、そこから横方向に移動し、ダクト
/排気筒11を通じてモジュールZに排出され、次に続く。 ここでもやはり、ガスは図示されたモジュール配置を通じて、装置の一番下か
ら装置の一番上に流れ、そこから排出される。 この実施例において、「第一のチャンバ」や「第二のチャンバ」という用語には過
度の重要性を与えず、各部分の機能を重視する。したがって、ダクト10はガスを
同時にYの第二のチャンバともみなすことができるものの中に発生させるが、こ
れは、このチャンバがモジュールYにガスを入れる点になると考えれば、Yの第一
のチャンバと考えることもできる。
【００２７】 ‐図3は、各モジュールX, Y, Zに別々のガス取り入れ口(各第一のチャンバへ
のパイプ7)からガスが供給される並列配置の例であり、各モジュールについて、
ガスは各モジュールの第二のチャンバに接続されたそれぞれのダクト/排気筒(10
, 11, …)から排出される。 これは、ガスが装置の一番上から排出されることが好ましい別の例を示す。
【００２８】 ‐図4に関するかぎり、モジュールX, Y, Zの並列配置は、この例において、交
流しているため、モジュールXの第一のチャンバに設置された単独パイプ7を通じ
てガスが供給される。そのため、ガスはモジュールXを通じて実質的に横方向の
層状に流れ、Yに入り、その中を流れ、そこからZに入り、2つの並置モジュール
間の交流は、当該2つの並置モジュール(図中13,14)間の共通の壁を形成するガス
分散システムを通じて得られる。 ガスはその後、モジュールZの第二のチャンバとそこに設置されたダクト/排気
筒10から排出される。 しかしながら、すでに述べたように、本発明によれば、各モジュールに独立し
てガスを供給する態様、つまり図1と図3に占める実施例が好ましい。
【００２９】 図5、図6は、本発明によるモジュール配置を2例示す。 ‐図5の装置は、並置され、交流するモジュールを積み重ねた2つのシリーズと
いう配置であり、この配置には単独のガス送入システム50(図中には詳細に示さ
れていない)でガスが供給され、ガスが流れる方向を考えた場合、配置の第一の
モジュール(50A)に供給される。 ガスは下側の並置グループの1つのモジュールから別のモジュールに移動して
この下側の並置グループの最後のモジュール(50F)に到達し、次に、その上に積
み重ねられたモジュール(50G)に移動し、その積み重ねグループの一番上のシリ
ーズの最後のモジュール(50L)まで到達し、最後のモジュールには、前のモジュ
ールからこの最後のモジュールに到達したガスを外に排出することのできるガス
排出手段51が備えられている。 排出手段51には、弁が有利に備えられている。
【００３０】 ‐図6の装置は、並置され、交流するモジュールの4つの平行(積み重ねた)シリ
ーズ(60Aから60F, 70Aから70F, 80Aから80F, 90Aから90F)の配置で構成され、各
並置グループの最初のモジュールだけが、第一のガス送入システム(図中では詳
しく示されていないが、それぞれ60, 70, 80, 90)を有し、各並置グループの最
後のモジュールの垂直な壁は、当該並置グループの外側の壁を形成し、当該並置
グループの前のモジュールからその並置グループの最後のモジュールに到達した
ガスを、排気ダクトを通じて外に排出することのできる第二の分散システムで形
成されていることを特徴とする。 各排気ダクトには、弁が有利に備えられている。
【００３１】 図7は本発明による保管装置を有し、性能が管理、調整されるシステム全体の
略図である。 図7は、本発明による2つの保管装置20Aと20Bを示し、これらにはそれぞれライ
ン21Aと21Bによってガスが供給され、これらのラインは電気的に作動する弁24を
有するライン22によってガス発生源23に接続されている。 各装置20Aと20Bはしたがって、積み重ねたり、あるいは並置することができる
1つまたは複数の保管モジュールの配置からなる。 このシステムはまた、保管装置20Aと20Bが設置される部屋または作業場内に設
置された酸素プローブ25、データ入力処理システム26(たとえば、プログラム可
能なコントローラ)およびPC等のディスプレイシステム27を有する。
【００３２】 読みやすいようにするために； −一点鎖線はコントローラ26への情報の流れ(たとえば、保管装置から発せら
れる残留酸素濃度30A、30Bあるいはプローブ25から発せられる作業場内の残留酸
素濃度30C)を示す。 ‐一端または両端に矢印を有する破線は、コントローラからシステムの素子へ
のフィードバック動作あるいは、コントローラが1つの素子から情報を受け取り
、この情報に応じてフィードバック動作を行うハイフリッド態様を示す。
【００３３】 一例として、弁24へのコントローラの動作40Bにより、ガスの供給が必要に応
じて阻止または変更されるものが示されている。コントローラとガスの受容器23
との間に２方向の流れ40Aを起こし、コントローラが発生源に関する情報(圧力、
流量、残留酸素濃度等)を受けるだけでなく、必要に応じて、この発生源に作用
し、たとえば浸透または吸収による空気分離によって得られる窒素の残留酸素濃
度を変更することができるようにすることができる。同様に、コントローラ26と
PC27との間にこのような2方向の流れを起こすことができ、これによって、選択
されたデータはPCに定期的に送られ、ユーザが定期的に監視を行い(窒素消費量
、保管装置内の時間経過による残留酸素濃度の変化、再調整時間等)、反対方向
では、ドリフトが観察されたときにコントローラに警告し、適切な対策を取るこ
とを可能にする。 したがって、本発明による保管装置によって得られる優れた性能により(再調
整時間等)、このようなシステムで、アセンブリ全体の保管条件と安全条件を管
理(監視)あるいは調整する手段を利用し、必要に応じて、システムに遠隔モニタ
装置を設置する(データを定期的、あるいは特定の時点で、ユーザサイトからあ
る距離を置いて設置された評価ユニットに送る)こともできる。
【００３４】 2つの積み重ねたモジュールからなる図1に示すものと同様のシステムは、本発
明の実施例を示すために以下の動作条件下で用いられている。 ‐各モジュールは内容量27リットルで、専用の窒素(低温発生源)取り入れ口か
らガスが供給され、その流量は約2Nm3/時である。 ‐各モジュールには、多孔率40ミクロンのポリエチレン製多孔性分散システム
(図1の5,6)2個を有し、分散システム5の厚さは2mm、分散システム6の厚さは4mm
である。 ‐ダクト/排気筒が、一番下のモジュールの第二のチャンバをその上に積み重
ねられたモジュールの第二のチャンバに接続されている。
【００３５】 上記の動作条件で得られる結果を以下に示す。 ‐ドアを開けた後(たとえば、一番下のモジュールのドア)、当該モジュール内
の雰囲気の酸素濃度が、4分強で21%から100ppm以下に変化した。 ‐ドアを開けた後、当該モジュールの雰囲気の露点(水蒸気濃度)が約5分で＋1
2℃から‐27℃に変化した。
【００３６】 そこで、本発明により得られる上記の性能により、このような保管装置が短期
的保管動作、つまり、ドアを頻繁に開く場合に完全に適用可能であるだけでなく
、より中期的あるいは長期的保管についても、水分を摂取しないようにすること
ができる。また、雰囲気の仕様がそれほど厳格でない場合(たとえば、酸素濃度
の限界が100ppmではなく、1000または2000ppmであった場合等)、再調整時間はさ
らにずっと短縮され、3分程度となり、ドアを1時間に何回も開く動作も可能とな
る。 本発明の別の利点もまた、電子コンポーネントや回路を、もちろん各コンポー
ネントの特性によって大きく異なる時間(通常は数時間から48時間)にわたり、こ
のように室温での中性ガスに接触させることで、コンポーネントが乾燥するとい
う事実から得られる。その証拠は、「ポップコーン」現象が少なくなることである
。 本発明は特定の実施例に関連して説明したものの、それには一切限定されず、
当業者にとって明白な改変、変更を加えることができる。このように、本発明は
不活性ガスを注入する場合の性能や利点について極めて具体的に例示したものの
、これまで説明した顕著な結果のすべてを鑑み、たとえば食品産業におけるN2/C
O2混合ガス等、他の分野での用途もあることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 モジュールを積み重ねた配置とし、各モジュールに別個にガスが供給される本
発明による装置の略図である。
【図２】 モジュールを積み重ねた配置とし、装置に1つの取り入れ口から供給される本
発明による装置の略図である。
【図３】 モジュールを並置させた配置とした本発明による装置の略図である。
【図４】 モジュールを並置させた配置とした本発明による装置の略図である。
【図５】 交流し、並置させたモジュールのシリーズを2つ積み重ねた配置とした本発明
による装置の略図であり、この配置には、ガスの流れる方向を考慮した場合、配
置の第一のモジュールにガスを供給する1つのガス送入システムでガスが供給さ
れる。
【図６】 並置させ、交流するモジュールの4つの平行な(積み重ねた)シリーズの配置を
用いた、本発明による装置の略図であり、各並置グループの第一のモジュールだ
けがガス送入システムを備えている。
【図７】 本発明による保管装置を有し、その性能が管理、調整されているシステム全体
の略図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，Ｅ Ａ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ， ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，Ｇ Ｅ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ， ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，Ｍ Ｎ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ， ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，Ｚ Ａ，ＺＷ (72)発明者 ボネ、クロード フランス国、エフ−75014 パリ、リュ・ ドゥ・ジェルゴビエ 87 (72)発明者 デュトゥールニール、ベルトラン フランス国、エフ−35760 サン・グレゴ ワール、リュ・ドゥ・ラ・プレー 14 Ｆターム(参考） 3E070 AA25 AB09 AB10 AB21 EA20 RA02 RA30 3F022 AA02 AA07 BB06

Claims (42)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 雰囲気下で物品を保管する装置において： i)保管すべき物品を収容できる少なくとも1つの保管モジュール(X, Y, Z, …)と
    ； j)前記少なくとも1つの保管モジュール内の保管雰囲気を設定する手段(5,7)と、
    からなり； 前記保管モジュールの少なくとも1つは実質的に平行六面体であり、2枚の実質的
    に垂直で相互に対向する壁(PX1,P X2)を有し、保管雰囲気を設定する手段は、モ
    ジュールの前記2枚の実質的に垂直な壁の一方(P X1)付近に設置された第一のガ
    ス送入システム(5,7)を有し、この第一のガス送入システムはガスを実質的に横
    方向で層状に、モジュールのそれに対向する第二の実質的に垂直な壁(P X2)に向
    かって流すことができることを特徴とする物品を保管する装置。
  2. 【請求項２】 前記保管モジュールの少なくとも1つは、そのモジュールの
    中から外へガスを排出する手段(10)を有し、これらの手段はガスを装置の上部か
    ら排出することができることを特徴とする請求項１記載の物品を保管する装置。
  3. 【請求項３】 前記保管モジュールの少なくとも2つは、モジュールの前記
    第二の実質的に垂直な壁付近に設置され、この壁とともに第二のチャンバ(4)を
    形成する第二のガス分散システム(6)を有し、前記第一のガス送入システムと前
    記第二のガス分散システムの間に、物品を保管するスペース(1)が形成されてい
    ることを特徴とする請求項１または２記載の物品を保管する装置。
  4. 【請求項４】 前記保管モジュールの前記少なくとも1つの前記第二の実質
    的に垂直な壁は、当該モジュールからそれと並置された保管モジュールに向かっ
    てガスを移動させることのできる第二のガス分散システムで形成されていること
    を特徴とする請求項１または２記載の物品を保管する装置。
  5. 【請求項５】 前記第一の送入システムは前記第一の壁とともに第一のチャ
    ンバ(3)を形成し、これは前記第一のチャンバにガスを注入する手段(7)を有する
    ことを特徴とする請求項１または２記載の物品を保管する装置。
  6. 【請求項６】 前記第一の送入システムは前記第一の壁とともに第一のチャ
    ンバ(3)を形成し、それは前記第一の壁にガスを注入する手段(7)を有することを
    特徴とする請求項３または４記載の物品を保管する装置。
  7. 【請求項７】 物品の所望の保管容量を得るために積み重ねることのできる
    複数の保管モジュール(X, Y, Z)からなり、各モジュールはそのモジュールの中
    から外にガスを排出する手段(10)を有し、前記排出手段は少なくとも1つのダク
    ト/排気筒システム(10,11)を有し、前記ダクト/排気筒システムの1つは2つの積
    み重ねられたモジュールの2つの第二のチャンバ間に設置され、ガスを当該2つの
    積み重ねられたモジュールのうち下側のモジュールの第二のチャンバ(4)から上
    側のモジュールの第二のチャンバ(12)の中に排出することができることを特徴と
    する請求項３または６記載の物品を保管する装置。
  8. 【請求項８】 各モジュールは他のモジュールとは独立してそのモジュール
    にガスを供給することのできる専用の第一のガス送入システムを有することを特
    徴とする請求項７記載の物品を保管する装置。
  9. 【請求項９】 物品の所望の保管容量を得るために並置させることのできる
    複数の保管モジュール(X, Y, Z)からなり、各モジュールは別のモジュールとは
    独立してそのモジュールにガスを供給することのできる専用のガス送入システム
    (7)と専用の第二のチャンバを有し、各モジュールの内側から各モジュールの外
    側にガスを排出する手段(10,11,…)を有し、排出手段の各々は当該各モジュール
    の第二のチャンバに接続されていることを特徴とする請求項３または６記載の物
    品を保管する装置。
  10. 【請求項１０】 物品の所望の保管容量を得るために並置され、交流する複
    数の保管モジュール(X, Y, Z)からなり、並置グループの最初のモジュール(X)と
    並置グループの最後のモジュール(Z)が設定され、並置グループの最初のモジュ
    ールだけが、並置グループの外側の壁を形成するその2枚の実質的に垂直な壁の
    一方の近傍に設置され、それに対向するその2枚の実質的に垂直な壁の他方(13)
    に向けてガスを実質的に横方向に流し、そこから並置グループ内の次のモジュー
    ルに送ることのできる第一のガス送入システム(7)を有することを特徴とする請
    求項１ないし３いずれか１項記載の物品を保管する装置。
  11. 【請求項１１】 並置グループの前記最後のモジュール(Z)は、並置グルー
    プの外側の壁を形成するその2枚の実質的に垂直な壁の一方付近に設置され、こ
    の壁とともに第二のチャンバを形成する第二のガス分散システムを有し、前記第
    2のチャンバは、その前のモジュール(Y)から並置グループの前記最後のモジュー
    ル(Z)に到達したガスを外に排出することのできるガス排出手段(10)を備えてい
    ることを特徴とする請求項１０記載の物品を保管する装置。
  12. 【請求項１２】 並置グループの前記最後のモジュールの、並置グループの
    外側の壁を形成する前記実質的に垂直な壁は、その前のモジュールから並置グル
    ープの前記最後のモジュールに到達したガスを外に排出することのできる第二の
    ガス分散システムで形成されていることを特徴とする請求項１０記載の物品を保
    管する装置。
  13. 【請求項１３】 並置グループの前記第一のモジュールの前記第一の送入シ
    ステムは、並置グループの外側の壁を形成する前記垂直な壁とともに第一のチャ
    ンバを構成し、この第一のチャンバにガスを注入する手段を有することを特徴と
    する請求項１０ないし１２いずれか１項記載の物品を保管する装置。
  14. 【請求項１４】 並置され、交流するモジュールの少なくとも2つの平行な
    シリーズ(60A-50F, 70A-70F, …)からなり、各並置グループの前記最初のモジュ
    ール(60A, 70A, …)だけが当該並置グループの外側の壁を形成するその2枚の実
    質的に垂直な壁の一方の近傍に設置され、ガスをそれに対向する2枚の実質的に
    垂直な壁の他方(13)に向かって実質的に横方向に流し、そこから当該並置グルー
    プの次のモジュールに送ることのできる第一のガス送入システム(60, 70, …)を
    有することを特徴とする請求項１ないし３いずれか１項記載の物品を保管する装
    置。
  15. 【請求項１５】 各並置グループの前記最後のモジュール(60F, 70F, …)は
    、並置グループの外側の壁を形成するその垂直な壁の近傍に設置され、この外側
    の壁とともに第二のチャンバを形成する第二の分散システムを有し、前記第二の
    チャンバには、当該並置グループのその前のモジュールから並置グループの前記
    最後のモジュールに到達したガスを外に排出することのできるガス排出手段が備
    えられていることを特徴とする請求項１４記載の物品を保管する装置。
  16. 【請求項１６】 各並置グループの前記最後のモジュール(60F, 70F,…)の
    、並置グループの外側の壁を構成する前記実質的に垂直な壁は、前のモジュール
    から並置グループの前記最後のモジュールに到達したガスを外に排出することの
    できる第二のガス分散システムで形成されていることを特徴とする請求項１４記
    載の物品を保管する装置。
  17. 【請求項１７】 各並置グループの前記第一のモジュールの前記第一の送入
    システムは、当該並置グループの外側の壁を形成する前記垂直な壁とともに第一
    のチャンバを構成し、この第一のチャンバにガスを注入する手段(7)を有するこ
    とを特徴とする請求項１４ないし１６いずれか１項記載の物品を保管する装置。
  18. 【請求項１８】 前記装置は並置され、交流するモジュールの少なくとも2
    つの積み重ねられたシリーズ(50A-50F, 50G-50L)の配置で構成され、ガスを一方
    のシリーズの最後のモジュール(50F)から積み重ねグループのその上のモジュー
    ル(50G)に流し、これを繰り返し、積み重ねグループの一番上のシリーズの最後
    のモジュール(50L)まで到達させることができ、前記最後のモジュールには、そ
    の前のモジュールからこの最後のモジュールに到達したガスを外に排出すること
    ができるガス排出システム(51)が備えられ、前記配置には、ガスの流れる方向を
    考えた時に、前記配置の最初のモジュールにガスを供給する単独のガス送入シス
    テム(50)でガスが供給されることを特徴とする請求項１ないし３いずれか１項記
    載の物品を保管する装置。
  19. 【請求項１９】 前記配置の前記最初のモジュールの前記第一の送入システ
    ムは、並置グループの外側の壁を形成する垂直な壁とともに第一のチャンバを構
    成し、この第一のチャンバにガスを注入する手段(7)を有することを特徴とする
    請求項１８記載の装置。
  20. 【請求項２０】 2つの並置されたモジュール間の交流は、当該2つの並置モ
    ジュール間の共通の壁を形成するガス分散システムによって実現されていること
    を特徴とする請求項１０ないし１９いずれか１項記載の装置。
  21. 【請求項２１】 弁を有するガス排出手段は、並置グループの各最後のモジ
    ュールに関連していることを特徴とする請求項１ないし１７いずれか１項記載の
    物品を保管する装置。
  22. 【請求項２２】 前記第一の送入システムは、前記モジュールの内側で開き
    、前記第一の壁のいずれかの部分の寸法の全部または一部にわたって延長する1
    つまたは複数の多孔性チューブで形成されていることを特徴とする請求項１ない
    し２１いずれか１項記載の物品を保管する装置。
  23. 【請求項２３】 前記装置の前記ガス分散システムの少なくとも1つが、多
    孔性物質または金属メッシュで作られたパネルからなることを特徴とする請求項
    ３ないし７いずれか１項記載の装置。
  24. 【請求項２４】 前記装置の前記ガス分散システムの少なくとも1つが、セ
    ラミック、焼結金属、ポリマーまたは繊維で作られたパネルからなることを特徴
    とする請求項２３記載の物品を保管する装置。
  25. 【請求項２５】 前記保管モジュールの前記少なくとも1つの前記2つのガス
    分散システムが、多孔性材料で作られたパネルで構成され、第二のガス分散シス
    テムの厚さが、第一のガス分散システムの厚さより大きいことを特徴とする請求
    項６記載の物品を保管する装置。
  26. 【請求項２６】 前記保管モジュールの前記少なくとも1つの前記2つのガス
    分散システムが、多孔性材料で作られたパネルで構成され、第二のガス分散シス
    テムの多孔率が、第一のガス分散システムの多孔率より小さいことを特徴とする
    請求項６記載の物品を保管する装置。
  27. 【請求項２７】 前記第一の送入システムによって設定される前記第一のチ
    ャンバにガスを注入する前記手段は、当該モジュールの壁の1つに形成されたオ
    リフィスを有することを特徴とする請求項５、６、１３、１７および１９いずれ
    か１項記載の物品を保管する装置。
  28. 【請求項２８】 前記第一の送入システムによって設定される前記第一のチ
    ャンバにガスを注入する前記手段は、前記第一のチャンバ内に開き、ガス注入用
    オリフィスを備えた1つまたは複数のパイプで構成され、前記オリフィスはモジ
    ュールの前記第一の実質的に垂直な壁の方向に向けられていることを特徴とする
    請求項５、６、１３、１７および１９いずれか１項記載の物品を保管する装置。
  29. 【請求項２９】 前記第一の送入システムによって設定される前記第一のチ
    ャンバにガスを注入する前記手段は、前記第一のチャンバの中に向かって開いて
    いる1つまたは複数の多孔性チューブからなることを特徴とする請求項５、６、
    １３、１７および１９いずれか１項記載の物品を保管する装置。
  30. 【請求項３０】 保管すべき物品を収容でき、実質的に平行六面体で、2枚
    の実質的に垂直な対向する壁(PX1,P X2)を有する少なくとも1つの保管モジュー
    ル(X, Y, Z,…)の配置における雰囲気下で物品を保管するための、前記少なくと
    も1つのモジュール内の保管雰囲気を設定する手段(5,7)を用いる方法において、
    ガスは前記2枚の実質的に垂直な壁の一方からこれに対向する前記2枚の壁の他方
    に向かって実質的に横方向に層状に流されることを特徴とする物品を保管する方
    法。
  31. 【請求項３１】 物品の所望の保管容量を得るために積み重ねる、あるいは
    並列に配置することのできる複数の保管モジュール(X, Y, Z)を使用することを
    特徴とする請求項３０記載の物品を保管する方法。
  32. 【請求項３２】 各モジュールには、他のモジュールとは独立してガスが供
    給されることを特徴とする請求項３１記載の物品を保管する方法。
  33. 【請求項３３】 前記モジュールあるいは複数のモジュールの配置には、前
    記雰囲気を設定するために： ‐前記モジュールまたは前記配置の保管モジュールのドアが開けられた時、当該
    ドアが閉じられるのを待ち、当該モジュールまたはモジュール配置の中に、調整
    時間tcにわたり調整流量Qcでガスを供給するようトリガし； ‐調整時間tc経過後は、当該モジュールまたはモジュール配置の中にガスを注入
    する流量を、Qcより低い保持流量Qmに戻し； ‐システムのモジュールのドアが開いていないかぎり、ガスは前記保持流量で注
    入される； ようにガスが供給されることを特徴とする請求項３０ないし３２いずれか１項記
    載の物品を保管する方法。
  34. 【請求項３４】 自動的に調整流量に切り換えるトリガとなるのは、すでに
    開けられているドアを閉めることであることを特徴とする請求項３３記載の物品
    を保管する方法。
  35. 【請求項３５】 前記少なくとも1つのモジュールの保管スペースの雰囲気
    の特定の元素の濃度が管理される(26,27)ことを特徴とする請求項３０ないし３
    ４いずれか１項記載の物品を保管する方法。
  36. 【請求項３６】 前記少なくとも1つのモジュールの保管スペースの雰囲気
    の特定の元素の濃度が調整される(26,27)ことを特徴とする請求項３０ないし３
    ５いずれか１項記載の物品を保管する方法。
  37. 【請求項３７】 前記少なくとも1つのモジュールの保管スペースの雰囲気
    の特定の元素の濃度が遠隔的に監視されることを特徴とする請求項３５または３
    ６記載の物品を保管する方法。
  38. 【請求項３８】 前記物品が電子回路またはコンポーネントであることを特
    徴とする請求項３０ないし３７いずれか１項記載の物品を保管する方法。
  39. 【請求項３９】 物品と接触する前記保管雰囲気により、前記物品が室温で
    乾燥されることを特徴とする請求項３８記載の物品を保管する方法。
  40. 【請求項４０】 前記保管雰囲気が中性ガスであることを特徴とする請求項
    ３８または３９記載の物品を保管する方法。
  41. 【請求項４１】 前記中性ガスは低温発生源からの窒素であることを特徴と
    する請求項４０記載の物品を保管する方法。
  42. 【請求項４２】 前記中性ガスは浸透または吸収による空気分離により得ら
    れる窒素であることを特徴とする請求項４０記載の物品を保管する方法。
JP2000563544A 1998-08-05 1999-07-27 管理雰囲気下で物品を保管する方法と装置 Pending JP2002522315A (ja)

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