JP2002514315A - Lcdパネル面レンズアレイ及び製法 - Google Patents

Lcdパネル面レンズアレイ及び製法

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エフ ボレリ,ニコラス
ビー ムーア,チャド
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Abstract

(57)【要約】 パネル(10)上のマイクロフレネルレンズアレイ(12)を含み、マイクロフレネルレンズ(12)は線型応答を有しフレネルレンズの構造パターンをもつフォトレジストからなる投映用LCD、及びマイクロフレネルレンズアレイ(12)を用いてLCD(10)を透過する光量を増加させる方法。

Description

【発明の詳細な説明】 LCDパネル面レンズアレイ及び製法 発明の分野 本発明は、LCDパネル面の回折型素子レンズアレイ及び製造方法に関する。 発明の背景 明るさはLCD装置の性能の重要な特性の1つである。LCD投映素子を用い るTV装置において明るさは特に重大な問題である。光は透過の全ての段階で失 われる。前記段階には、偏光光源、カラーフィルタ及び電気回路によるLCDパ ネル面の開口制限がある。 利用できるアパーチャをさらに有効に利用するために光集束が望ましいことが 認識されてきた。各レンズがLCDの1画素に対応するマイクロレンズアレイの 採用が提案されている。 上記アレイを形成するための初期の方法には、複数のガラス棒の一端に球面を つくることがあった。次いで前記ガラス棒を束にして融合溶接することにより、 一つにまとめた。この手法は技術的には有効ではあったが、明らかに面倒で時間 のかかる手法であった。 別の方法には、ガラス内に分布屈折率を発現させることがある。イオン交換法 による分布屈折率発現の達成が提案されている。提案されているまた別の手法で は、光分解性材料を多孔質のガラス体に浸み込ませ、次いで前記含浸ガラス体を 光分解させ得る光で露光する。 より融通性の高い手法が米国特許第4,572,611号(ベルマン(Bel lman)等)に開示されている。この特許には、独立した球面マイクロレンズ のアレイを含む光学素子が記述されている。各マイクロレンズは、ガラス基板、 特に不透明化できる感光性ガラスに集積され、前記ガラス基板上に突起した球面 になっている。前記光学素子の一方の面を平坦面とするため、前記マイクロレン ズアレイは平坦面とする側から研磨される。 前記分布屈折率法及び感光性ガラス法はいずれも特別なガラス組成及び特別な 処理工程を必要とする。また前記レンズアレイガラスとLCDパネルのガラスは 一般に特性が異なり、特に熱膨張係数(CTE)が異なる。このため、前記レン ズと画素との間の位置合せをパネル全面にわたって保つことができなくなる。前 記位置合せ問題は初期に発生し、また以降周囲温度が変化すれば必ず生じる。 従って、任意の基板上に前記レンズアレイをつくることが極めて望ましい。こ れができれば、所要の熱的及び物理的特性をもつ基板から前記レンズを作成する 必要がなくなる。これは、回折型マイクロレンズの作成により達成できる。理論 的には、回折型レンズは従来の屈折型レンズと同一の波面を形成できる。 所要の構造への近似は、バイナリーオプティックスとして知られる技法により 達成できる。この場合、所要の表面形状を近似するために逐次法が用いられる。 このことは、エヌ・エフ・ボレッリ(N.F.Borrelli)等の名義で1 993年3月8日に出願され、本出願と同じ譲受人に譲渡された、米国同時係属 出願第08/027,412号に示されている。前記出願はLCDパネル用集積 カバーガラスを開示し、特許請求している。前記カバーガラスは、バイナリーオ プティックス手法により作成され、ガラス前面の外側に集積されたマイクロレン ズアレイを有している。前記マイクロレンズアレイは、フォトリソグラフィーと ガラスエッチングの組合せを含む処理工程によりガラス表面につくられた回折格 子アレイである。 バイナリーオプティックス法により作成された回折型マイクロレンズは、基板 に依存しないという上記の基準を満足する。しかし、90%をこえる回折効率が 得られるような十分な段階的近似レベルを達成するには、多数回にわたる別々の 露光工程及びガラスエッチング工程が必要である。すなわち理論効率約95%を 得るには、何回ものフォトマスク露光工程を必要とする、8水準の回折格子をつ くる必要がある。より簡単な手順の提供が望しいことは明らかである。またバイ ナリーオプティックスにより作成される回折型マイクロレンズの性能を改善する 、真のフレネルパターンを有するレンズアレイを採用することも望ましい。 バイナリーオプティックス手法によるマイクロレンズアレイの設計及び作成方 法にはさらに重大な欠陥がある。バイナリーオプティックス手法ではレンズに利 用できるスペースを完全に利用することができない、すなわち、高実装密度とし て知られるものが得られない。このことは、後により詳しく説明する。従って、 理論効率が100%になり得るような高実装密度をレンズアレイがもつことので きる設計及び作成方法を有するマイクロレンズアレイを提供することが望ましい 。 各レンズが共通の焦点距離を保ちながらそれぞれ異なる色を与えるように設計 される、トライアッド形レンズ構成も望ましい。この構成により色収差を補正で きる。 最後に、LCDパネルガラスと同じ特性を有する材料、望ましくはパネルガラ ス自体に前記レンズアレイを作成することが望ましい。また、熱誘起機械歪が全 く生じないように実質的に室温で製造プロセスを進めることが望ましい。このよ うな歪があると、最終的にLCDパネルとの位置ずれが生じる。 本発明の基本的目的は、LCDパネル面上に、またはパネル面にあるマイクロ レンズアレイを提供することである。さらなる目的は、上述の要請にかなう方法 で製造できるマイクロレンズアレイを提供することである。また別の目的は、レ ンズ機能をもたらす回折格子構造を利用するマイクロレンズアレイを提供するこ とである。さらに別の目的は、回折効率の高いマイクロレンズアレイの独特な製 造方法を提供することである。特定の目的は、独特のマイクロフレネルレンズア レイ及び製造方法を提供することである。 発明の要約 本発明の物品は、ガラスパネル及び透明なマイクロフレネルレンズアレイを含 み、前記マイクロフレネルレンズは前記ガラスパネル内またはガラスパネル上に あって、フレネルレンズの構造パターンを有する、投映用LCDである。 本発明の方法の態様は、前面ガラスパネルを有するLCDを透過する光量を増 加させる方法であって、前記方法は各レンズが線型応答を有するポジ型フォトレ ジストからなりフレネルレンズの構造パターンを有するマイクロフレネルレンズ アレイを前記パネルの前面に結合して作成することを含む。 従来技術 重要と考えられる文献は別途記述する。 図面の簡単な説明 図1は、代表的なフレネルレンズパターンの略図である。 図2は、LCDにおける光集束のためのマイクロフレネルレンズアレイをもつ 光学システムを示す略図である。 図3は、LCDにおける光集束のためのマイクロフレネルレンズアレイをもつ 別の光学システムの略図である。 図4は、本発明の実施に用いたフォトマスクを示す光学顕微鏡写真である。 図5は、原子間力顕微鏡の測定記録を示す表面トレースである。 図6は、光学顕微鏡によって撮影された、本発明に従うマイクロフレネルレン ズアレイを示す写真である。 発明の簡単な説明 本発明は、投射型LCDTVの光透過率を向上させる効率的な方法の追求から 生まれた。本発明は、LCD画素の透明領域を通して光を集束するために、光学 システムに高実装密度マイクロフレネルレンズアレイを組込む。前記レンズアレ イは、LCDパネルガラスの外面すなわち前面で作用する関係にあるかあるいは 前記面内に形成された、個別素子と見なすことができる。前記パネルガラスの厚 さは前記レンズの焦点距離に対応する。 前述したように、レンズアレイを与える既知の手段では特別なガラスを用いる ことが必要であった。これらの特別なガラスは前記パネルガラスとは物理特性、 特に熱膨張係数が異なり、よって最終的にパネルガラスとの位置合わせを保つ上 で問題が生じる。本発明は前記パネルガラス上に、あるいは直接接触させて、回 折型素子レンズアレイを形成することにより上記問題を取り除く。 個々の回折型レンズ素子の物理的構造を設計するには、理論上2種類の手法が 利用できる。1つはマイクロフレネルレンズアレイであり、もう1つは、米国同 時係属出願第08/027,412号に記述されるようなバイナリー近似である 。バイナリー光学的手法は込み入ったものではないが、前述したように、理論回 折効率が構造水準に依存する。図1は微小寸法で作成したマイクロフレネルレン ズアレイの代表的なフレネルレンズパターンを示す。 前記マイクロフレネルレンズ構造は100%の理論回折効率を与え、これは極 めて望ましい。マイクロフレネルレンズ手法にともなう難点は、必要不可欠な表 面曲率パターンを作成する手段が必要となることである。本発明は透明なフォト レジストでマイクロフレネルレンズを作成することにより、前記問題を解決する 。前記フォトレジストの特徴は、浅い線型応答曲線である。この特徴を利用する ために、前記フォトレジストを分布透過率マスクを通して露光する。このマスク は透過率分布関数、T(r)を有する。前記マスクは、露光量の変化により、前記 レジストにT(x)に比例する露光パターンを形成する。マスクは電子ビームを用 いたハーフトーン法により作成される。浅い線型応答曲線を有するフォトレジス トと分布透過率マスクを通した露光との組合せにより、前記フォトレジストにマ イクロフレネルレンズの所望の表面曲率を生成することができる。 屈折型レンズに対する所要の位相関数式は、半径方向の距離の関数としてのレ ンズ厚hにより、楕円形式: で与えられる。ここでr0はレンズの半径、Rcは曲率半径である。対応する回折 素子の透過率関数は同じ位相関数を有する。z方向に進む平面波に対しては、前 記透過率関数は次の形式: (2) T(x)=exp{−2πiφ(x)} を有する。回折素子に対して、位相関数φd(r)は前記屈折素子と同じ形式から 導かれ: (3) φd(r)=2πr2/2λRc の形式で表わされる。ここでRcは焦点距離である。あるいは積分波、φ/2π で表わせば: (4) φ(r)=−r2/2λRc が得られる。ここで位相は、r=0にある、レンズの中心から測られる。 前記マイクロフレネルレンズ手法は、方程式(3)を用いて、回折格子配置半 径、r3を前記レンズ半径r0の外側に向かって、φ(r)=1,2,…,nとおくこ とにより決定する。呼称曲率半径は、前記カバーガラス厚をガラスの屈折率で割 った値に等しい焦点距離に一致することが望ましい。1.1mm厚のガラスに対 しては、前記焦点距離は大気中で0.72である。総体的な色消し性能を与える ために、RGBレンズが反復するトライアッドを構成し、トライアッドの各レン ズは3色の焦点距離が同じになるように波長に従って配置される。例えば、46 0nm,540nm及び620nmの3つの波長に対しては、同じ次数の、第1 リングの配置半径は0.57mm,0.63mm及び0.67mmである。各区 間、rjからr。j+1の間の所要の曲面形状は方程式(1)によって与えられる。 添付図面の図2は、全体として10で指定される光学系の略図である。光学系 10は、投映用LCDを透過する光量の増強における本マイクロフレネルレンズ の作用を示している。 系10はトライアッド形のマイクロフレネルレンズ12及び内面16を有する 前面パネルガラス14を含む。赤色、緑色及び青色光を与えるカラーフィルタ1 8が面16に貼付けられている。レンズ12により集束された光はフィルター1 8を通過し、後面パネル22のアパーチャ20に焦点を結ぶ。パネル14及び2 2は封止24により接合されて、LCD液用の密閉容器26を形成する。 図3は、R,G及びBで指定される赤色、緑色及び青色光のビームに分けられ た光がマイクロフレネルレンズ32を通して導かれ、パネル34を通してパネル 38の別々のアパーチャ36に焦点を結ぶ、別の光学系30の略図である。光学 系30は、それぞれの色に対してフィルタ及びレンズが必要となることを回避し ている。光は(広がりをもつ)ビームとして透過するが、混乱を避けるために光 線として示してある。本発明のマイクロフレネルレンズアレイはいずれの光学系 に対しても容易に適用することができる。 本発明は、フレネルレンズの表面構造を有するレンズ素子を最終的に作成する ために、ただ1枚の5倍マスクを通した露光を用いることに基礎をおいている。 前記5倍マスクは、1/5縮小露光になるので望ましい。発明者等は、浅い線型 応答を示すポジ型フォトレジストを、分布濃度透過率マスクを通して露光するこ とにより、所望の構造を有するレンズが得られることを見いだした。上記のよう なレジストは、シプレイ(Shipley)1400−23という名称で入手が 可能であり、このレジストはヒドロキシ基及びジアゾナフトキノン(DNQ)を もつノボラックを実質的に含む。前記レジストは、分布露光量マスクを通して露 光したときに、露光深さ方向に通常の激しくて急な変化ではなく緩やかでリニア な変化を受ける、浅い線型応答を有する。 発明者等は、前記分布透過率マスクを通してポジ型フォトレジスト層を露光す ることにより所望のレンズ構造を得た。前記露光により、図1に示した所望のフ レネルレンズパターンに一致する、露光されていないレジストとの表面境界を有 する露光されたレジストのパターンが生成される。発明者等は、前記レジストに 正確な分布露光量パターンを与える分布透過率関数をもつ露光マスクを利用する 。前記露光されたレジストが現像され除去されたときに基板上に残る現像されな いレジストに、所望の表面形状が得られる。本レジストレンズは深紫外線(UV )または熱ベーキングのような適当な後処理により硬化される。 レンズは、所要の分布露光量を与えるように電子ビーム描画によりフォトマス クを作成することにより、1回の露光プロセスを介してつくられる。所望の焦点 距離は方程式(3)で与えられるリングの間隔により定められる。表面プロファ イルは分布透過率マスク及び制御された一様UV露光を用いることによりつくら れる。前記マスクの透過率関数は標準の電子ビームプロセスにより一連の小さな クロムドットを形成するためのハーフトーンパターン発生器を利用して作成され る。前記ドットの大きさは、16水準ある露光量により制御される。前記レンズ の半径の関数としての前記ドットの面積密度は、前記光学透過率関数が方程式( 1)の区分化された形状と同形であるように計算される。 前記レンズが最も厚くなるはずのところで強度が最も小さくなければならない ポジ型レジストを用いた。例えば、発明者等は方程式(4)から得られた半径に 基づいて、前記半径区間をr0<r<r1,r1<r<r2,…,rn<0とした。 さらに発明者等は前記マスクの透過率を0から16回のインクリメントで1まで 増加させ、1回毎の増分を発明者等はΔTと呼んだ。k番目の区間全体の分散透 過率は:で定義される。 前記区間領域はさらにN個の異なる部分区間に分割される。前記N個の部分区 間のそれぞれにおける方程式(5)による透過率は、中間調印刷技法と同様に、 電子ビームで生成したドットの面積密度を制御することにより近似される。 図4は説明したばかりの方法で作成した5倍マスクの、500倍で撮影した、 光学顕微鏡写真である。ドット密度は所望の透過率に対応している。光学濃度の 差は、5画素×5画素の1エレメントの露光量を16エレメントにわたって制御 することによってつくられた。前記エレメントの大きさは露光量の関数である。 ウェハ面上には1/5縮小露光されるので、分解能は露光が行われるときの前記 レジスト上の照射パターンが実質的に連続となる程度である。 次いで現像時に浅い線型応答曲線を示す特殊なレジストを、前記ガラス基板に ほぼ1.6ミクロンの厚さで塗布した。このリニアな挙動は、前記レジストに連 続な表面形状をつくることを可能にする極めて重要な特性である。最適露光量は 実験により決定した。 図5は、図4に示したマスクを用いて作成したマイクロフレネルレンズの形状 の表面トレースを示す原子間力顕微鏡(AFM)測定に基づいている。 図6は光学顕微鏡により250倍で撮影した写真である。この写真は本発明に 従ってつくられたマイクロフレネルレンズアレイを示している。この写真は、本 発明の非常に重要な態様である、90%をこえる高実装密度により達成される高 い総合効率を説明している。構成要素のレンズ素子が4隅に向かって続いている ことがわかるであろう。このことが、利用できるスペースを完全に利用すること を可能とし、“高実装密度”という言葉で描かれる本発明のレンズアレイ特有の 特徴である。 前記レンズアレイの総合回折効率は、LCDパネルを通過する光量の増加を測 定することにより、すなわち実際に装置に組込んで、決定した。レンズアレイは 図2に示されるLCDパネルに位置合せして載せた。前記パネルは、単体での開 口率が40%の完全に組み立てられた3色ドットパネルである。前記レンズアレ イをもたないパネルの約100画素を含む領域を透過する光量を、ニコン社のオ プチホト(Optiphot)(商標)顕微鏡に光度計を取り付けて測定した。 この光度計は前記RGBレンズを包含する波長範囲に感度を有している。次いで 前記レンズアレイを、アレイのレンズ面を前記アパーチャを有するカバーガラス の外向に向けて、位置を合わせて固定した。レンズアレイを正しい位置において 前記光度計による光学測定を繰り返した。レンズアレイ付での測定値をその前の 測定によるレンズアレイ無しでの測定値で割った比が前記開口比の増大量を与え る。レジストレンズアレイは前記LCDを透過する光量を80%増加させた。 上述のようにしてフォトレジストから形成されたマイクロフレネルレンズアレ イはどうしても軟質である。くずれたり流れたりはしないが、軟質なレジストは 取扱い時あるいは使用中に損傷を受けやすい。従って、フォトレジストを硬化し 強化してより耐久性を高めるための手段を提供することが熱心に考えられている 。同時に前記レンズ構造は実質的に元のままでいなければならない。 上記所望の目的を達成するための様々な手段が案出されている。1つの方法は 、表面に塗布する前にレジストに無機物のコロイド性粒子を加えることを含んで いる。レジストに混入する材料の量は、薄いレジスト層を塗布できる範囲である 。 上記技法の変形には、前記添加物としてコロイド性シリカの使用がある。前記 コロイド性シリカ混合レジストの薄い層を塗布し、上述した方法でマイクロフレ ネルレンズ構造を現像する。次いで前記レンズパターンを大気中で加熱してレジ ストを除去し、よってコロイド性シリカからなるレンズ構造を残す。このコロイ ド性シリカレンズ構造は熱的に凝結させることができ、例えばCVDにより施さ れる無機物被覆でさらに強固にすることができる。 深紫外線硬化及び/または熱ベーキングを含む別の手段もある。前記深紫外線 硬化は、初めレジスト表面に重合層をつくり、この重合層は硬化が続けばレジス ト内部に伸び広がる。前記重合層は、特に引き続いてベーキングされる場合に、 レジストを保護する。前記レジスト表面はまた、熱オーブン内でのあるいはホッ トプレート上での処理によっても硬化される。熱ベーキングにより、ノボラック のヒドロキシ基が多官能基価DNQと架橋して、熱的安定性を高める。 いずれかの処理だけでもある種の目的のためには十分な機械的強度が得られる 。しかし発明者等は前記2種類の処理を複合する方がよいと考える。深紫外線硬 化は、用いるレジストに応じて15分までの時間の、200〜320nmの波長 範囲の紫外光による照射を用いることが望ましい。露光時間が長すぎるとしわが できる傾向をもつレジストもある。 最適強ベーキング条件は、選ばれるレジスト毎に決定されなければならない。 ガラス基板上の前記シプレイ1400−23レジストでは、発明者等は150〜 250度の温度で30分のベーキングで十分であることを見いだした。発明者等 はまた、前記レジストレンズアレイ上に、例えば80nm厚の、SiO2層を被 着した。このSiO2層被着により表面は強化されたが、光学性能への悪影響は 全くなかった。 ある種の目的には、フォトレジストのレンズパターンを用いることができない 。むしろ、全てをガラスで組み立てることが必要である。発明者等は、前記レジ ストパターンの付いたガラス基板をレジストが完全に除去されるまで一様にエッ チングすることにより、フォトレジストパターンをパネルに転写できることを見 いだした。前記一様エッチングの間に、パターンがガラス面に転写される。ガラ ス面へのパターン転写によりレジスト固有の吸収がなくなり、よって最終光出力 の増加量が約90%になる。 多成分ガラスは一様にエッチングされない傾向がある。この傾向は、レジスト 塗布及び前記レジストからのマイクロレンズアレイの現像の前に、前記ガラス面 にシリカを被着することにより避けることができる。前記手法により、一様にエ ッチングされる傾向を有する前記シリカ層に、マイクロフレネルレンズアレイを エッチングできる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.ガラスパネル及び透明マイクロフレネルレンズアレイを含み、前記マイクロ フレネルレンズアレイが前記ガラスパネル内にまたはガラスパネル上にあり、 フレネルレンズの構造パターンを有することを特徴とする投映用LCD。 2.前記マイクロフレネルレンズが前記ガラスパネル面上にあり、分布濃度マス クを通して露光されたときに浅い線型曲線応答を有するポジ型フォトレジスト からなることを特徴とする請求の範囲第1項記載の投映用LCD。 3.前記フォトレジストマイクロフレネルレンズアレイが硬化されていることを 特徴とする請求の範囲第2項記載の投映用LCD。 4.前記マイクロフレネルレンズアレイが前記ガラスパネル面上にあり、凝結し た透明コロイド性無機酸化物からなることを特徴とする請求の範囲第1項記載 の投映用LCD。 5.前記マイクロフレネルレンズアレイが前記ガラスパネル内にあり、前記パネ ルガラスからなることを特徴とする請求の範囲第1項記載の投映用LCD。 6.前記アレイの各マイクロフレネルレンズが前記LCDの画素と位置合せされ 約90%より大きい実装密度を有することを特徴とする請求の範囲第1項記載 の投映用LCD。 7.前記マイクロフレネルレンズの焦点距離が前記ガラスパネルの厚さに等しい ことを特徴とする請求の範囲第1項記載の投映用LCD。 8.前記マイクロフレネルレンズがトライアッド形に配置され、色収差を補正す るために色波長に対応するようにして前記LCD画素に関して方向が合わされ ていることを特徴とする請求の範囲第1項記載の投映用LCD。 9.シリカ層が前記ガラスパネルに被覆され、前記マイクロフレネルレンズが前 記シリカ層内にあることを特徴とする請求の範囲第1項記載の投映用LCD。 10.ガラスLCDパネルであって、フレネルレンズの構造パターンを有する透明 マイクロフレネルレンズアレイが前記パネル面上にまたはパネル面内にあるこ とを特徴とするガラスLCDパネル。 11.前記アレイが前記パネル面上にあり、分布濃度マスクを通して露光されたと きに浅い線型曲線応答を有するポジ型フォトレジストからなることを特徴とす る請求の範囲第10項記載のガラスLCDパネル。 12.前記フォトレジストマイクロフレネルレンズアレイが硬化されていることを 特徴とする請求の範囲第11項記載のガラスLCDパネル。 13.前記マイクロフレネルレンズアレイが前記パネル面上にあり、透明な無機酸 化物からなることを特徴とする請求の範囲第10項記載のガラスLCDパネル 。 14.前記酸化物がシリカであることを特徴とする請求の範囲第13項記載のガラ スLCDパネル。 15.前記マイクロフレネルレンズアレイが前記パネル内にあり、前記パネルガラ スからなることを特徴とする請求の範囲第10項記載のガラスLCDパネル。 16.前面ガラスパネルを有するLCDを透過する光量を増加させる方法で、前記 パネルの前面上にフレネルレンズの構造パターンをもつポジ型フォトレジスト からなるマイクロフレネルレンズアレイを作成する工程を含むことを特徴とす る方法。 17.前記LCDパネルの前面全休にポジ型フォトレジスト層を塗布する工程、及 び分布透過率マスクを通して前記レジストを露光して前記フォトレジスト層に フレネルレンズの構造パターンを有する露光部分を形成する工程によりマイク ロフレネルレンズアレイを作成する工程を含むことを特徴とする請求の範囲第 16項記載の方法。 18.前記フォトレジストの前記露光部分を現像し除去して、前記LCDパネル上 のマイクロフレネルレンズ構造を残す工程を含むことを特徴とする請求の範囲 第17項記載の方法。 19.前記分布透過率マスクを電子ビーム描画により作成して、フレネルレンズの 曲率に対応する分布透過率関数を前記マスクに付与する工程を含むことを特徴 とする請求の範囲第17項記載の方法。 20.標準の電子ビームプロセスにより一連の小さいクロムドットを形成するハー フトーンパターン発生器により前記透過率関数を生成する工程を含むことを特 徴とする請求の範囲第19項記載の方法。 21.前記クロムドットの面積密度を前記レンズ半径の関数として変化させる工程 を含むことを特徴とする請求の範囲第20項記載の方法。 22.“h”を前記レンズの厚さ、“r0”を前記レンズの半径、Rcを曲率半径と して、方程式 の区分化された形状に従って前記クロムドットの大きさを変化させる工程を含 むことを特徴とする請求の範囲第21項記載の方法。 23.前記マイクロフレネルレンズを硬化する工程をさらに含むことを特徴とする 請求の範囲第18項記載の方法。 24.前記マイクロフレネルレンズに深紫外線硬化を受けさせることにより前記マ イクロフレネルレンズを硬化する工程を含むことを特徴とする請求の範囲第2 3項記載の方法。 25.前記マイクロフレネルレンズに熱処理を施す工程を含むことを特徴とする請 求の範囲第23項記載の方法。 26.耐久性を向上させるために前記マイクロフレネルレンズ全体に薄い無機物膜 を被覆する工程を含むことを特徴とする請求の範囲第23項記載の方法。 27.前記フォトレジストを前記LCDパネル面に塗布する前に、前記フォトレジ ストを無機物の透明粒子と混合する工程を含むことを特徴とする請求の範囲第 16項記載の方法。 28.前記粒子がコロイド性シリカであることを特徴とする請求の範囲第27項記 載の方法。 29.前記フォトレジストを除去して無機物マイクロフレネルレンズを残す工程を 含むことを特徴とする請求の範囲第27項記載の方法。 30.前記粒子を熱処理により凝結させる工程を含むことを特徴とする請求の範囲 第29項記載の方法。 31.前記粒子内に及び前記粒子上に無機酸化物を被着する工程をさらに含むこと を特徴とする請求の範囲第29項記載の方法。 32.前記フォトレジスト及びパネルをエッチングして前記フォトレジストパター ンを前記ガラス面に転写する工程をさらに組み合せることを特徴とする請求の 範囲第17項記載の方法。 33.前記フォトレジスト層の塗布及び現像の前に前記ガラスパネル上を透明無機 酸化物層で被覆し、次いで前記フォトレジストパターンを前記無機酸化物層に エッチングする工程を含むことを特徴とする請求の範囲第18項記載の方法。 34.前記マイクロフレネルレンズをトライアッド形に作成する工程を含み、前記 トライアッドのそれぞれのレンズ素子が色収差を補正するために赤色、緑色及 び青色の原色の波長に対応して形作られることを特徴とする請求の範囲第16 項記載の方法。
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