JP2002511528A - 構造配置構成を介する流体フローのためのふるい状構造 - Google Patents
構造配置構成を介する流体フローのためのふるい状構造Info
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Abstract
(57)【要約】
構造配置構成を介する流体フローのためのシステムを記述する。具体的には、モジュラ・ガス・システム用の閉込めシステムである。空気フローは、収納装置入口ポート(302a)から入り、チャネル(313)を介して取付面進入表面領域(308)に進む。空気フローは、取付面を介して、次いでモジュラ・ガス・システム(314)を介して送られる。そこから、空気フローは、収納装置内部で出口ポート(330a)に向けて送られる。次いで空気は、ガス・システムから漏れたガスを含み、かつ精製された空気を排気する捕獲システムに入る。代替実施形態では、チャネルが、ガス・システム排出表面領域を出口ポートに結合し、取付面排出表面領域を出口ポートに結合し、入口ポートをガス・システム進入表面領域に結合する。
Description
【0001】 (発明の背景) (1.発明の分野) 本発明は、ガス配送システムの分野に関し、より詳細には、半導体製造中に漏
れる可能性がある危険なガス、または可燃性のガスをトラップするために使用さ
れる装置に関する。
れる可能性がある危険なガス、または可燃性のガスをトラップするために使用さ
れる装置に関する。
【0002】 (2.関連技術の考察) 多くの製造プロセスおよび機械においてガスおよびガス混合物のフローを制御
するためにガス・パネルが使用されている。図1aに示されるガス・パネル10
0など典型的なガス・パネルは、数十(または数百)フィートの配管110によ
って共に接続されたバルブ102、フィルタ104、流量調整器106、圧力調
整器107、圧力トランスデューサ109、および接続部108など文字通り数
百個の個別の、または個々の構成要素で作られている。ガス・パネルは、様々な
個別構成要素を一意的に構成することによって、ミキシングやパージングなど所
望の機能を提供するように設計される。従来のガス・パネル100は、ガス・シ
ステム115と取付面116の2つの構成要素を有する。ガス・システム115
は、個別構成要素(例えば、バルブ102、フィルタ104、流量調整器106
)およびそれらの相互接続(例えば配管110)の集合体である。取付面116
は、ガス・システム115が取り付けられるベースである。
するためにガス・パネルが使用されている。図1aに示されるガス・パネル10
0など典型的なガス・パネルは、数十(または数百)フィートの配管110によ
って共に接続されたバルブ102、フィルタ104、流量調整器106、圧力調
整器107、圧力トランスデューサ109、および接続部108など文字通り数
百個の個別の、または個々の構成要素で作られている。ガス・パネルは、様々な
個別構成要素を一意的に構成することによって、ミキシングやパージングなど所
望の機能を提供するように設計される。従来のガス・パネル100は、ガス・シ
ステム115と取付面116の2つの構成要素を有する。ガス・システム115
は、個別構成要素(例えば、バルブ102、フィルタ104、流量調整器106
)およびそれらの相互接続(例えば配管110)の集合体である。取付面116
は、ガス・システム115が取り付けられるベースである。
【0003】 図1bは、従来のガス・システム115から漏れるガスを捕獲するために使用
される従来の装置190を示す。図1bは、取付面116に取り付けられた従来
のガス・システム115を示す。図1bでは、様々な個別構成要素(例えば図1
aのバルブ102、フィルタ104、流量調整器106)を単に全体として、す
なわち機能要素または構成要素121として示している。
される従来の装置190を示す。図1bは、取付面116に取り付けられた従来
のガス・システム115を示す。図1bでは、様々な個別構成要素(例えば図1
aのバルブ102、フィルタ104、流量調整器106)を単に全体として、す
なわち機能要素または構成要素121として示している。
【0004】 従来のガス・システム115と取付面116は共に、収納装置120内部に完
全に封入されている。捕獲システム118は、従来のガス・システム115から
漏れる可能性があるガスをトラップするために使用される。捕獲システム118
はまた、空気フロー112を入力ポート111内に引き込む真空として働く。収
納装置120中の空気フロー113は、収納装置120の内側容積全体にわたっ
て流れる。漏れたガスは、収納装置120中のガス・フロー113によって拾い
上げられ、捕獲システム118内に引き込まれる。捕獲システム118は、従来
のガス・システム115から漏れたガスを捕獲し、清浄空気119のみが捕獲シ
ステム118から出るようにする。したがって、清浄空気119のみが環境内に
排気される。
全に封入されている。捕獲システム118は、従来のガス・システム115から
漏れる可能性があるガスをトラップするために使用される。捕獲システム118
はまた、空気フロー112を入力ポート111内に引き込む真空として働く。収
納装置120中の空気フロー113は、収納装置120の内側容積全体にわたっ
て流れる。漏れたガスは、収納装置120中のガス・フロー113によって拾い
上げられ、捕獲システム118内に引き込まれる。捕獲システム118は、従来
のガス・システム115から漏れたガスを捕獲し、清浄空気119のみが捕獲シ
ステム118から出るようにする。したがって、清浄空気119のみが環境内に
排気される。
【0005】 標準のガス・パネル100では、従来のガス・システム115は、ハンド・メ
ードであり、かつカスタム・メードである。従来のガス・システム115の機能
要素121は、それらの間にかなり大きい領域114を有し、したがって収納装
置120中の空気フロー113が、従来のガス・システム115の機能構成要素
121間に簡単に流れる。従来のガス・システム115から漏れたガスは、領域
114内にある可能性が最も高い。したがって、漏れたガスは、出口ポート11
7を介して収納装置120の外側に、捕獲システム118内へ簡単に引き込まれ
る。
ードであり、かつカスタム・メードである。従来のガス・システム115の機能
要素121は、それらの間にかなり大きい領域114を有し、したがって収納装
置120中の空気フロー113が、従来のガス・システム115の機能構成要素
121間に簡単に流れる。従来のガス・システム115から漏れたガスは、領域
114内にある可能性が最も高い。したがって、漏れたガスは、出口ポート11
7を介して収納装置120の外側に、捕獲システム118内へ簡単に引き込まれ
る。
【0006】 現在のガス・パネル100の問題は、それらのほとんどが、特定のニーズに見
合うように一意的に設計され、構成されることである。今日、ガス・パネルを構
成する標準設計が全く存在しない。今日、ガス・パネルを設計し、全てのサブア
センブリを製造し、次いで最終的な製造物を組み立てるには数週間から数ヶ月か
かる。新たなガス・パネルをそれぞれ一意的に設計する、または構成することは
、時間と費用を要する。さらに、標準設計がないことは、施設の人員が、単一の
施設内に存在する可能性のある異なる設計のガス・パネル全てを保守し、修理し
、後付けすることを困難にする。一意的な設計には、集約的な人為的労力が必要
であり、そのため、カスタマイズされたガス・パネルのコストは顧客に高くつく
。カスタマイズされたガス・パネルはまた、スペア部品在庫管理を面倒で費用の
かかるものにする。
合うように一意的に設計され、構成されることである。今日、ガス・パネルを構
成する標準設計が全く存在しない。今日、ガス・パネルを設計し、全てのサブア
センブリを製造し、次いで最終的な製造物を組み立てるには数週間から数ヶ月か
かる。新たなガス・パネルをそれぞれ一意的に設計する、または構成することは
、時間と費用を要する。さらに、標準設計がないことは、施設の人員が、単一の
施設内に存在する可能性のある異なる設計のガス・パネル全てを保守し、修理し
、後付けすることを困難にする。一意的な設計には、集約的な人為的労力が必要
であり、そのため、カスタマイズされたガス・パネルのコストは顧客に高くつく
。カスタマイズされたガス・パネルはまた、スペア部品在庫管理を面倒で費用の
かかるものにする。
【0007】 再び図1aを参照すると、現在のガス・パネルの他の問題は、全ての機能構成
要素を相互接続するために必要とされるはめ込み部108および溶接部の数が多
いことである。チューブがはめ込み部108に溶接されるとき、溶接プロセス中
に発生する熱が、溶接部近傍のチューブの一部(すなわち、熱の影響を受ける区
域)の電解研磨部を物理的に、かつ化学的に劣化させる。このとき、熱の影響を
受ける区域の仕上げ部の劣化は、実質的な汚染物質生成源となる可能性がある。
さらに、溶接プロセス中、マンガンなどの金属蒸気が、チューブの比較的温度が
低い部分に凝縮し、その部分に堆積物を形成する可能性がある。また、溶接され
る要素が異なる材料組成を有する場合(例えばインコネルを有するステンレス鋼
)、所望の溶接幾何形状および化学的性質を達成するのが困難である。したがっ
て、多数のはめ込み部および溶接部を有するガス・パネルは、汚染物質および粒
子が非常に低いレベルであることを必要とする超清浄ガス・システムに不適合で
ある。さらに、高純度はめ込み部108は高価であり、手に入れるのが困難であ
る場合があり、そのためそれらを組み込むガス・パネルのコストを増大させる。
要素を相互接続するために必要とされるはめ込み部108および溶接部の数が多
いことである。チューブがはめ込み部108に溶接されるとき、溶接プロセス中
に発生する熱が、溶接部近傍のチューブの一部(すなわち、熱の影響を受ける区
域)の電解研磨部を物理的に、かつ化学的に劣化させる。このとき、熱の影響を
受ける区域の仕上げ部の劣化は、実質的な汚染物質生成源となる可能性がある。
さらに、溶接プロセス中、マンガンなどの金属蒸気が、チューブの比較的温度が
低い部分に凝縮し、その部分に堆積物を形成する可能性がある。また、溶接され
る要素が異なる材料組成を有する場合(例えばインコネルを有するステンレス鋼
)、所望の溶接幾何形状および化学的性質を達成するのが困難である。したがっ
て、多数のはめ込み部および溶接部を有するガス・パネルは、汚染物質および粒
子が非常に低いレベルであることを必要とする超清浄ガス・システムに不適合で
ある。さらに、高純度はめ込み部108は高価であり、手に入れるのが困難であ
る場合があり、そのためそれらを組み込むガス・パネルのコストを増大させる。
【0008】 現在のガス・パネル設計に関連する他の問題は、ガス・パネル全体にわたって
ガスの経路を定めるために使用される大量の配管110である。大きな容積の配
管は、システムを充填するために大容量のガスを必要とし、ガス・フローを安定
化させ、制御することを困難にする。さらに、余剰配管を有するガス・パネルは
、パージおよび離隔するのにかなりの時間を必要とし、そのため本質的な製造機
器の余剰なダウンタイムが生じる可能性があり、管理コストの増大が生じる。さ
らに、ガス・パネルが有する配管が多ければ、それだけ「濡れた表面領域」(w
etted surface area)も大きくなり、製造プロセス中の汚染
物質源になる可能性が高まる。
ガスの経路を定めるために使用される大量の配管110である。大きな容積の配
管は、システムを充填するために大容量のガスを必要とし、ガス・フローを安定
化させ、制御することを困難にする。さらに、余剰配管を有するガス・パネルは
、パージおよび離隔するのにかなりの時間を必要とし、そのため本質的な製造機
器の余剰なダウンタイムが生じる可能性があり、管理コストの増大が生じる。さ
らに、ガス・パネルが有する配管が多ければ、それだけ「濡れた表面領域」(w
etted surface area)も大きくなり、製造プロセス中の汚染
物質源になる可能性が高まる。
【0009】 1996年12月3日に出願された米国特許出願第08/760150号は、
図2aに示されるように、モジュラ・ガス・システム200用のモジュラ・ビル
ディング・ブロック202、204を開示することによって上述の問題に対処し
ている。そのようなビルディング・ブロックの使用が設計を大幅に簡略化し、現
在のガス・パネル技術に関連する技術的な欠点を減少させる。図2aは、様々な
機能構成要素206を示す。図2aの機能構成要素206は、図1bの機能構成
要素または要素121と同様である。すなわち、図2aのために、機能要素20
6は、それらの正確な形状および/または機能は異なるが、全体として符号を付
けることができる。各機能構成要素206は、モジュラ・ブロック202に取り
付けられている。機能要素206は、モジュラ・ベース・ブロック202を介し
て+および−x方向に流体連絡を有する。機能要素206は、マニホルド・ブロ
ック204を介して+および−z方向に流体連絡を有する。マニホルド・ブロッ
ク204は、機能要素206とモジュラ・ベース・ブロック202の集合体の下
にある。
図2aに示されるように、モジュラ・ガス・システム200用のモジュラ・ビル
ディング・ブロック202、204を開示することによって上述の問題に対処し
ている。そのようなビルディング・ブロックの使用が設計を大幅に簡略化し、現
在のガス・パネル技術に関連する技術的な欠点を減少させる。図2aは、様々な
機能構成要素206を示す。図2aの機能構成要素206は、図1bの機能構成
要素または要素121と同様である。すなわち、図2aのために、機能要素20
6は、それらの正確な形状および/または機能は異なるが、全体として符号を付
けることができる。各機能構成要素206は、モジュラ・ブロック202に取り
付けられている。機能要素206は、モジュラ・ベース・ブロック202を介し
て+および−x方向に流体連絡を有する。機能要素206は、マニホルド・ブロ
ック204を介して+および−z方向に流体連絡を有する。マニホルド・ブロッ
ク204は、機能要素206とモジュラ・ベース・ブロック202の集合体の下
にある。
【0010】 図2aを図1aと比較すると、従来のガス・パネル100に関連する高価な配
管110(図1aに戻って簡単に参照)は、モジュラ・ガス・システム200で
は不要になる。さらに、モジュラ・ガス・システム200の機能構成要素206
は、従来のカスタム・メード・ガス・システム115の機能要素(例えば、バル
ブ102、フィルタ104、流量調整器106)よりも稠密度にパックされてい
る。したがって、モジュラ・ガス・システム200は稠密である。稠密ガス・シ
ステムは、狭いギャップまたは狭いギャップ領域を有するガス・システムである
。狭いギャップは、狭いギャップ領域と区別不可能であり、本出願全体を通じて
交換可能に使用する。この例では、狭いギャップは、従来の装置190、290
が採用された場合に、多くても殆どで無視することができる流体フローを有する
ガス・システム200内部の間隙である。次に図2bを参照すると、モジュラ・
ガス・システム215のパッキング密度の増加が、モジュラ・ガス・システム2
15内部に前述の狭いギャップ領域214を生じる。記述したように、狭いギャ
ップ領域214は、ガス・システム215に関連する様々な構造間での空気フロ
ーの欠如をもたらす。図2bに示されるように、狭いギャップ領域214は、隣
接する機能要素206間に存在する。しかし、実際には、最も狭いギャップは隣
接するガス・スティック間にあることが観察されている。ガス・スティックは図
2bに示されず、さらに進んで、本発明の詳細な説明でより詳細に説明する。し
たがって、図2bは、モジュラ・ガス・システム200に関連する減少した間隙
フィーチャ・サイズの例示としてのみ与えられる。
管110(図1aに戻って簡単に参照)は、モジュラ・ガス・システム200で
は不要になる。さらに、モジュラ・ガス・システム200の機能構成要素206
は、従来のカスタム・メード・ガス・システム115の機能要素(例えば、バル
ブ102、フィルタ104、流量調整器106)よりも稠密度にパックされてい
る。したがって、モジュラ・ガス・システム200は稠密である。稠密ガス・シ
ステムは、狭いギャップまたは狭いギャップ領域を有するガス・システムである
。狭いギャップは、狭いギャップ領域と区別不可能であり、本出願全体を通じて
交換可能に使用する。この例では、狭いギャップは、従来の装置190、290
が採用された場合に、多くても殆どで無視することができる流体フローを有する
ガス・システム200内部の間隙である。次に図2bを参照すると、モジュラ・
ガス・システム215のパッキング密度の増加が、モジュラ・ガス・システム2
15内部に前述の狭いギャップ領域214を生じる。記述したように、狭いギャ
ップ領域214は、ガス・システム215に関連する様々な構造間での空気フロ
ーの欠如をもたらす。図2bに示されるように、狭いギャップ領域214は、隣
接する機能要素206間に存在する。しかし、実際には、最も狭いギャップは隣
接するガス・スティック間にあることが観察されている。ガス・スティックは図
2bに示されず、さらに進んで、本発明の詳細な説明でより詳細に説明する。し
たがって、図2bは、モジュラ・ガス・システム200に関連する減少した間隙
フィーチャ・サイズの例示としてのみ与えられる。
【0011】 狭いギャップ214によって生じる空気フローの欠如により、半導体製造の安
全性要件の様々な違反が生じる。例えば、Sematech規格SEMI S2
−93A sec.10は、いくつかのOEM(original equip
ment manufacturer)によって、収納装置構造220全体にわ
たって毎分最小50フィート(15.24m)を必要とすると解釈される。空気
フローの欠如により、この要件が満たされなくなる。さらに、SEMI S2−
93Aに関連しない業界要件には、可燃性ガス(水素、アンモニア、ジクロロシ
ランなど)臨界接続部のそばで毎分100フィート(30.48m)、自燃性ガ
ス(例えばシラン)の臨界接続部の近傍で毎分200フィート(60.96m)
、耐漏れ性収納装置220が含まれる。したがって、図2bの従来の装置290
は、モジュラ・ガス・システム215に不適切である。
全性要件の様々な違反が生じる。例えば、Sematech規格SEMI S2
−93A sec.10は、いくつかのOEM(original equip
ment manufacturer)によって、収納装置構造220全体にわ
たって毎分最小50フィート(15.24m)を必要とすると解釈される。空気
フローの欠如により、この要件が満たされなくなる。さらに、SEMI S2−
93Aに関連しない業界要件には、可燃性ガス(水素、アンモニア、ジクロロシ
ランなど)臨界接続部のそばで毎分100フィート(30.48m)、自燃性ガ
ス(例えばシラン)の臨界接続部の近傍で毎分200フィート(60.96m)
、耐漏れ性収納装置220が含まれる。したがって、図2bの従来の装置290
は、モジュラ・ガス・システム215に不適切である。
【0012】 モジュラ・ガス・システム215の稠密にパックされた機能要素206間の空
気フローを正常に導入する新たな装置が必要とされている。ガス・システム21
5への空気フローを可能にする開口を有する取付面が、そのような改良された装
置の一例である。
気フローを正常に導入する新たな装置が必要とされている。ガス・システム21
5への空気フローを可能にする開口を有する取付面が、そのような改良された装
置の一例である。
【0013】 (発明の概要) 一般に、構造配置構成を介する流体フローを提供するためのシステムを記述す
る。具体的には、モジュラ・ガス・システム用の閉込めシステムを記述する。
る。具体的には、モジュラ・ガス・システム用の閉込めシステムを記述する。
【0014】 本発明では、空気フローは収納装置入口ポートから入る。空気は、チャネルを
介して取付面進入表面領域へ進む。空気フローは、取付面を介して、次いでモジ
ュラ・ガス・システムを介して送られる。そこから、空気フローは、収納装置内
部で出口ポートに向けて送られる。次いで空気は、ガス・システムから逃げたガ
スを含み、かつ精製された空気を排気する捕獲システムに入る。
介して取付面進入表面領域へ進む。空気フローは、取付面を介して、次いでモジ
ュラ・ガス・システムを介して送られる。そこから、空気フローは、収納装置内
部で出口ポートに向けて送られる。次いで空気は、ガス・システムから逃げたガ
スを含み、かつ精製された空気を排気する捕獲システムに入る。
【0015】 代替実施態様では、チャネルが、ガス・システム排出表面領域を出口ポートに
接続する。他の代替実施態様では、チャネルが、取付面排出表面領域を出口ポー
トに接続する。他の実施態様では、チャネルが、入口ポートをガス・システム進
入表面領域に接続する。
接続する。他の代替実施態様では、チャネルが、取付面排出表面領域を出口ポー
トに接続する。他の実施態様では、チャネルが、入口ポートをガス・システム進
入表面領域に接続する。
【0016】 さらに、上の実施態様(または本発明の実施態様)のどれにでも加えることが
できる多くの詳細を説明する。それらには、取入空気フローを最大限にするため
の小さな断面積の入口ポートと、ガス・システム内の広いギャップの下にある取
付板の開口に関するプラグと、収納装置内のデッド・スポットを除去するための
チャネル側壁の通路と、収納装置内部の様々なデッド・スポットの除去を可能に
するための追加の入口ポートとを含む。
できる多くの詳細を説明する。それらには、取入空気フローを最大限にするため
の小さな断面積の入口ポートと、ガス・システム内の広いギャップの下にある取
付板の開口に関するプラグと、収納装置内のデッド・スポットを除去するための
チャネル側壁の通路と、収納装置内部の様々なデッド・スポットの除去を可能に
するための追加の入口ポートとを含む。
【0017】 (本発明の詳細な説明) 本発明には、相互に接続されたモジュラ・ビルディング・ブロックからなる半
導体を製造するために必要なガス・システムに空気フローを導入するための新規
な装置が記載される。下記の説明において、本発明の十分な理解が得られるため
に、多数の具体的な細部(特定のモジュラ・ビルディング・ブロック、特定の取
付面、および空気が流れる特定の方向など)が示されている。しかし、本発明は
このような具体的な細部を用いることなく実施できることは当業者には明らかで
ある。他の場合においては、よく知られている機械アセンブリー、機械化技術お
よび製造技術は、必ずしも本発明を不明瞭にしないために、特に詳しく説明され
ていない。
導体を製造するために必要なガス・システムに空気フローを導入するための新規
な装置が記載される。下記の説明において、本発明の十分な理解が得られるため
に、多数の具体的な細部(特定のモジュラ・ビルディング・ブロック、特定の取
付面、および空気が流れる特定の方向など)が示されている。しかし、本発明は
このような具体的な細部を用いることなく実施できることは当業者には明らかで
ある。他の場合においては、よく知られている機械アセンブリー、機械化技術お
よび製造技術は、必ずしも本発明を不明瞭にしないために、特に詳しく説明され
ていない。
【0018】 本発明において、空気フローは収納装置の入口ポートから入る。空気はチャネ
ルを通って、取付面の進入表面領域に移動する。空気フローは取付面を通り、次
にモジュラ・ガス・システムのエレメントの間に導かれる。そこから、空気フロ
ーは出口ポートに向かって収納装置の内部を導かれる。次いで、ガス・システム
から流出したかもしれない何らかのガスを含有する空気は捕獲システムに入り、
次いで精製された空気が放出される。別の実施形態において、チャネルはガス・
システムの排出表面領域と接続され、出口ポートに至る。さらに別の実施形態に
おいて、チャネルは取付面の排出表面領域と接続され、出口ポートに至る。さら
に別の実施形態において、チャネルは入口ポートと接続され、ガス・システムの
進入表面領域に至る。さらに、本発明の上記実施形態または実施形態のいずれか
に適用することができる多くの細部が説明されている。これらには、取り込み空
気フローの量を最大にする小さな断面積の入口ポート、ガス・システムにおける
幅広いギャップの下部に位置する取付面での開口部に関するプラグ、チャネル側
壁で収納装置内のデッド・スポットを取り除くための経路、および収納装置にお
ける様々なデッド・スポットの除去を可能にするさらなる入口ポートが含まれる
。
ルを通って、取付面の進入表面領域に移動する。空気フローは取付面を通り、次
にモジュラ・ガス・システムのエレメントの間に導かれる。そこから、空気フロ
ーは出口ポートに向かって収納装置の内部を導かれる。次いで、ガス・システム
から流出したかもしれない何らかのガスを含有する空気は捕獲システムに入り、
次いで精製された空気が放出される。別の実施形態において、チャネルはガス・
システムの排出表面領域と接続され、出口ポートに至る。さらに別の実施形態に
おいて、チャネルは取付面の排出表面領域と接続され、出口ポートに至る。さら
に別の実施形態において、チャネルは入口ポートと接続され、ガス・システムの
進入表面領域に至る。さらに、本発明の上記実施形態または実施形態のいずれか
に適用することができる多くの細部が説明されている。これらには、取り込み空
気フローの量を最大にする小さな断面積の入口ポート、ガス・システムにおける
幅広いギャップの下部に位置する取付面での開口部に関するプラグ、チャネル側
壁で収納装置内のデッド・スポットを取り除くための経路、および収納装置にお
ける様々なデッド・スポットの除去を可能にするさらなる入口ポートが含まれる
。
【0019】 図3a、図3bおよび図3cは、3つの異なる透視図(それぞれ、−z方向、
−y方向および−x方向に眺める)による本発明の実施形態を示す。図3aおよ
び図3bを参照すると、装置300a(図3a)によって、空気フローが、隣接
するガス・スティック331bおよび332bの間に存在する狭いギャップ30
7b(図3b)に適正に導入される。隣接するガス・スティック331bおよび
332bの狭いギャップ307bは、実際には、隣接する機能要素318a、b
のギャップ325a、bよりもはるかに狭い(約0.2インチ(約5.08mm
)である)。したがって、図3におけるガス・システム319a、b、cの図面
は縮尺が一定しておらず、本明細書中で議論されている様々な概念を例示するた
めに使用されるだけである。そうであっても、大きな機能要素318a、b、あ
るいは複雑な形状を有する機能要素318a、bは、ギャップ325a、bが、
ギャップ325a、bでの空気フローを許容できないほど制限するのに十分な狭
さであるように存在させ得ることが可能である。本発明に適用されるガス・シス
テムのより縮尺を合わせた図面を図4に示す。図4は下記で議論される。
−y方向および−x方向に眺める)による本発明の実施形態を示す。図3aおよ
び図3bを参照すると、装置300a(図3a)によって、空気フローが、隣接
するガス・スティック331bおよび332bの間に存在する狭いギャップ30
7b(図3b)に適正に導入される。隣接するガス・スティック331bおよび
332bの狭いギャップ307bは、実際には、隣接する機能要素318a、b
のギャップ325a、bよりもはるかに狭い(約0.2インチ(約5.08mm
)である)。したがって、図3におけるガス・システム319a、b、cの図面
は縮尺が一定しておらず、本明細書中で議論されている様々な概念を例示するた
めに使用されるだけである。そうであっても、大きな機能要素318a、b、あ
るいは複雑な形状を有する機能要素318a、bは、ギャップ325a、bが、
ギャップ325a、bでの空気フローを許容できないほど制限するのに十分な狭
さであるように存在させ得ることが可能である。本発明に適用されるガス・シス
テムのより縮尺を合わせた図面を図4に示す。図4は下記で議論される。
【0020】 本発明の説明を続けると、製造環境からの空気フロー340aが入口ポート3
02aから導入される。空気フローはチャネル313aの中を進み続け、それに
よって、次に、空気フローは取付面308a、bを通ってガス・システム319
a、bの中に(+y方向に)流れる。次いで、空気フローは収納装置301a、
bの本体を通って、出口ポート330a、bに向かって流れる。出口ポート33
0a、bから、空気フロー334a、bは捕獲システム321aに入る。捕獲シ
ステム321は、本質的には空気フローをろ過し、その結果、(ガス・システム
319a、bを通り抜ける空気フローによって捕らえられる)ガス・システム3
19a、bからの何らかのガス漏出物が捕獲システム321により捕獲されるよ
うになる。次いで、捕獲システム321aによって、捕獲されたガス漏出物は集
中廃棄物管理システムに誘導される。清浄な空気322aが環境に戻される。捕
獲システム321aはまた、装置300を通り抜ける空気フローを引き寄せる真
空をもたらす。すなわち、捕獲システム321aはまた、空気フローの源として
作用する。空気フローの源は、空気を入口ポートに導入するために使用される単
純な任意の装置である。
02aから導入される。空気フローはチャネル313aの中を進み続け、それに
よって、次に、空気フローは取付面308a、bを通ってガス・システム319
a、bの中に(+y方向に)流れる。次いで、空気フローは収納装置301a、
bの本体を通って、出口ポート330a、bに向かって流れる。出口ポート33
0a、bから、空気フロー334a、bは捕獲システム321aに入る。捕獲シ
ステム321は、本質的には空気フローをろ過し、その結果、(ガス・システム
319a、bを通り抜ける空気フローによって捕らえられる)ガス・システム3
19a、bからの何らかのガス漏出物が捕獲システム321により捕獲されるよ
うになる。次いで、捕獲システム321aによって、捕獲されたガス漏出物は集
中廃棄物管理システムに誘導される。清浄な空気322aが環境に戻される。捕
獲システム321aはまた、装置300を通り抜ける空気フローを引き寄せる真
空をもたらす。すなわち、捕獲システム321aはまた、空気フローの源として
作用する。空気フローの源は、空気を入口ポートに導入するために使用される単
純な任意の装置である。
【0021】 改善された装置300aの基本エレメントは収納装置301a、bである。収
納装置301a、bは、典型的には、代表的にはシート状金属からなる箱様構造
体である(しかし、そのような箱様構造体である必要はない)。収納装置301
a、bの内部に、ガス・システム319a、bが存在する。本発明の実施形態に
おいて、取付面308a、bは、収納装置301a、bの境界として役立つ。図
1bおよび図2bに示されている従来の捕獲システムでは、収納装置120、2
20は、流出したガスが、捕獲システム118、218に集められる前に収納装
置の中に含有されることを確実にするだけである。図3a、bに示される本発明
の実施形態の収納装置301a、bは、実質的にはこれと同じ目的を果たす。し
かし、ガスが、収納装置301aの外側、およびチャネル313aの中に漏れ出
るであろう。本発明はこのような問題を解決するが、その議論は本明細書の後段
に記載される。
納装置301a、bは、典型的には、代表的にはシート状金属からなる箱様構造
体である(しかし、そのような箱様構造体である必要はない)。収納装置301
a、bの内部に、ガス・システム319a、bが存在する。本発明の実施形態に
おいて、取付面308a、bは、収納装置301a、bの境界として役立つ。図
1bおよび図2bに示されている従来の捕獲システムでは、収納装置120、2
20は、流出したガスが、捕獲システム118、218に集められる前に収納装
置の中に含有されることを確実にするだけである。図3a、bに示される本発明
の実施形態の収納装置301a、bは、実質的にはこれと同じ目的を果たす。し
かし、ガスが、収納装置301aの外側、およびチャネル313aの中に漏れ出
るであろう。本発明はこのような問題を解決するが、その議論は本明細書の後段
に記載される。
【0022】 図3aおよび図3bに示されているように(さらに米国特許出願第08/76
0,150号に記載されているように)、ガス・システム319a、bは、機能
要素318a、b、モジュラ・ベース・ブロック316a、b、およびマニホル
ド・ブロック317a、bから構成される。機能要素318a1〜a6、318
b1〜b12は、それらの対応するモジュラ・ベース・ブロック316a1〜a
6、316b1〜b12に取り付けられている。内側のモジュラ・ベース・ブロ
ック316は、モジュラ・ブロック316の内側と、その対応する機能要素31
8との間における流体の流れを可能にする経路である。モジュラ・ベース・ブロ
ック316内の経路は、隣接するモジュラ・ベース・ブロック(例えば、316
a1、a2;316b1、b2)が互いに流体接続されているように各モジュラ
・ブロック316の面にまで及ぶ。その結果は、隣接する機能要素(例えば、3
18a1、a2および318b1、b2)は互いに流体接続されていることにな
る。このようにして、複雑なガス・システム319a、bが設計され、提供され
得る。
0,150号に記載されているように)、ガス・システム319a、bは、機能
要素318a、b、モジュラ・ベース・ブロック316a、b、およびマニホル
ド・ブロック317a、bから構成される。機能要素318a1〜a6、318
b1〜b12は、それらの対応するモジュラ・ベース・ブロック316a1〜a
6、316b1〜b12に取り付けられている。内側のモジュラ・ベース・ブロ
ック316は、モジュラ・ブロック316の内側と、その対応する機能要素31
8との間における流体の流れを可能にする経路である。モジュラ・ベース・ブロ
ック316内の経路は、隣接するモジュラ・ベース・ブロック(例えば、316
a1、a2;316b1、b2)が互いに流体接続されているように各モジュラ
・ブロック316の面にまで及ぶ。その結果は、隣接する機能要素(例えば、3
18a1、a2および318b1、b2)は互いに流体接続されていることにな
る。このようにして、複雑なガス・システム319a、bが設計され、提供され
得る。
【0023】 図3bは、収納装置301bの内側からの上面図である。ガス・システム31
9bは、2つのガス・スティック331b、332bを有する。図3aおよび図
3bの両方を参照すると、モジュラ・ベース・ブロック316a1〜a6、b1
〜b6はともに連結され、ガス・スティック331a、bを形成している。同様
に、モジュラ・ベース・ブロック316b7〜b12はともに連結され、ガス・
スティック332bを形成している。ガス・スティック331、332は、それ
らがx方向に沿って存在するように取付面308に配置されている。ガス・ステ
ィック331a、bは、本質的には、機能要素318a1〜a6、b1〜b6の
間における(x軸に沿った)流体の接続を可能にする。ガス・スティック332
bは、機能要素318b7〜b12の間における(x軸に沿った)流体を接続さ
せる。ガス・スティック331a、b、332a、bは、マニホルド・ブロック
317a1、b1および317a2、b2に直接取り付けられている。ガス・ス
ティック331a、bおよび332a、bは、マニホルド・ブロック317a1
、b1および317a2、b2によって互いに流体接続されている。マニホルド
・ブロック317は、隣接するガス・スティック331、332を(1つのマニ
ホルド・ブロックによって、あるいは一連の相互に連結されたマニホルド・ブロ
ックを介して)相互に接続するブロックである。マニホルド・ブロック317は
z軸に沿って存在し、取付面308に直接取り付けられている。
9bは、2つのガス・スティック331b、332bを有する。図3aおよび図
3bの両方を参照すると、モジュラ・ベース・ブロック316a1〜a6、b1
〜b6はともに連結され、ガス・スティック331a、bを形成している。同様
に、モジュラ・ベース・ブロック316b7〜b12はともに連結され、ガス・
スティック332bを形成している。ガス・スティック331、332は、それ
らがx方向に沿って存在するように取付面308に配置されている。ガス・ステ
ィック331a、bは、本質的には、機能要素318a1〜a6、b1〜b6の
間における(x軸に沿った)流体の接続を可能にする。ガス・スティック332
bは、機能要素318b7〜b12の間における(x軸に沿った)流体を接続さ
せる。ガス・スティック331a、b、332a、bは、マニホルド・ブロック
317a1、b1および317a2、b2に直接取り付けられている。ガス・ス
ティック331a、bおよび332a、bは、マニホルド・ブロック317a1
、b1および317a2、b2によって互いに流体接続されている。マニホルド
・ブロック317は、隣接するガス・スティック331、332を(1つのマニ
ホルド・ブロックによって、あるいは一連の相互に連結されたマニホルド・ブロ
ックを介して)相互に接続するブロックである。マニホルド・ブロック317は
z軸に沿って存在し、取付面308に直接取り付けられている。
【0024】 したがって、本発明の実施形態において、ガス・システム319は、マニホル
ド・ブロック317を介して取付面308に取り付けられている。取付面308
は、米国特許出願第08/893,773号(7/11/1997出願)に開示
されている取付面と類似している。取付面308の技術は、半導体を製造するた
めに十分なガス・システム319を実現することにとって重要である。具体的に
は、モジュラ・ベース・ブロック316は、隣接するモジュラ・ベース・ブロッ
ク(例えば、316a1、a2および316b1、b2)の間での漏れないシー
ルを確実にするために、互いに、かつマニホルド317とともに正確に配列され
なければならない。したがって、取付面308は、ガス・システム319をまと
めるための便利な基部としてだけでなく、モジュラ・ガス・システム319を実
現するための重要な整列用具としても役立つ。
ド・ブロック317を介して取付面308に取り付けられている。取付面308
は、米国特許出願第08/893,773号(7/11/1997出願)に開示
されている取付面と類似している。取付面308の技術は、半導体を製造するた
めに十分なガス・システム319を実現することにとって重要である。具体的に
は、モジュラ・ベース・ブロック316は、隣接するモジュラ・ベース・ブロッ
ク(例えば、316a1、a2および316b1、b2)の間での漏れないシー
ルを確実にするために、互いに、かつマニホルド317とともに正確に配列され
なければならない。したがって、取付面308は、ガス・システム319をまと
めるための便利な基部としてだけでなく、モジュラ・ガス・システム319を実
現するための重要な整列用具としても役立つ。
【0025】 図3bを参照すると、本発明の実施形態の取付面308bは、ガス・システム
319bへの空気フローを可能するために穴または開口部323が取付面308
bに存在する点で、米国特許出願第08/893,773号に開示されている取
付面とは異なる。すなわち、空気は、隣接するガス・スティック331b、33
2bの間を通り、ガス・システム319bが存在する狭いギャップ307bを通
って流れる。本発明の実施形態において、隣接するガス・スティック331b、
332bは、中心が(z軸に沿って)約1.7インチ(約43.18mm)離れ
ている。ガス・スティック331b、332bの幅(1.5インチ(38.1m
m))が与えられた場合、狭いギャップ307bは幅が約0.2インチ(5.0
8mm)である。チャネル313(図3a参照)からの+y方向の空気フローが
、ガス・システム319bへの空気フローを継続させる取付面308bでの開口
部323によって導入される。開口部323に類似する開口部がガス・スティッ
ク331bおよび332bの下部に存在する。しかし、それらは、ガス・スティ
ック331b、332bに隠れて位置するために、図3bでは見ることができな
い。空気フローは、ガス・スティック331b、332bの間の狭いギャップ3
07bを通って、最終的には、ガス・システム319a、bの中に存在し得る他
の狭いギャップを通って上方に流れる。この空気フローにより、本質的には、従
来の捕獲システムが使用された場合に、それ以外ではガス・システム319の近
くに残留し得るガス漏出物が除かれる。
319bへの空気フローを可能するために穴または開口部323が取付面308
bに存在する点で、米国特許出願第08/893,773号に開示されている取
付面とは異なる。すなわち、空気は、隣接するガス・スティック331b、33
2bの間を通り、ガス・システム319bが存在する狭いギャップ307bを通
って流れる。本発明の実施形態において、隣接するガス・スティック331b、
332bは、中心が(z軸に沿って)約1.7インチ(約43.18mm)離れ
ている。ガス・スティック331b、332bの幅(1.5インチ(38.1m
m))が与えられた場合、狭いギャップ307bは幅が約0.2インチ(5.0
8mm)である。チャネル313(図3a参照)からの+y方向の空気フローが
、ガス・システム319bへの空気フローを継続させる取付面308bでの開口
部323によって導入される。開口部323に類似する開口部がガス・スティッ
ク331bおよび332bの下部に存在する。しかし、それらは、ガス・スティ
ック331b、332bに隠れて位置するために、図3bでは見ることができな
い。空気フローは、ガス・スティック331b、332bの間の狭いギャップ3
07bを通って、最終的には、ガス・システム319a、bの中に存在し得る他
の狭いギャップを通って上方に流れる。この空気フローにより、本質的には、従
来の捕獲システムが使用された場合に、それ以外ではガス・システム319の近
くに残留し得るガス漏出物が除かれる。
【0026】 取付面308bは、取付面308bを通って移動する空気フローが通り抜ける
xz面に存在する表面領域を有する。2つの表面領域が存在する:空気フローが
取付面308bに入る1つの表面領域(「取付面進入表面領域」)、および空気
フローが取付面308bから出る境界線303で囲まれた別の表面領域(「取付
面排出表面領域」)。取付面308b進入表面領域は、取付面308bを通って
流れるようにされた空気が取付面308bに入る取付面308bの表面領域であ
る。取付面308b排出表面領域は、取付面308bを通って移動してきた空気
フローが取付面308bから離れる取付面308bの表面領域である。取付面3
08bの排出表面領域は、線303により囲まれているので図3bにおいて容易
に認められる。取付面308b進入表面領域は、取付面308bの下面に存在す
るので図3bでは見られない。しかし、取付面308b進入表面領域は、サイズ
が線303で囲まれた領域と等しいことは明らかである。
xz面に存在する表面領域を有する。2つの表面領域が存在する:空気フローが
取付面308bに入る1つの表面領域(「取付面進入表面領域」)、および空気
フローが取付面308bから出る境界線303で囲まれた別の表面領域(「取付
面排出表面領域」)。取付面308b進入表面領域は、取付面308bを通って
流れるようにされた空気が取付面308bに入る取付面308bの表面領域であ
る。取付面308b排出表面領域は、取付面308bを通って移動してきた空気
フローが取付面308bから離れる取付面308bの表面領域である。取付面3
08bの排出表面領域は、線303により囲まれているので図3bにおいて容易
に認められる。取付面308b進入表面領域は、取付面308bの下面に存在す
るので図3bでは見られない。しかし、取付面308b進入表面領域は、サイズ
が線303で囲まれた領域と等しいことは明らかである。
【0027】 図3aを再び参照すると、本発明の実施形態は、空気フローがガス・システム
319aを通るように誘導される前に、空気フローが取付面308aを通るよう
に誘導されることを包含するので、取付面308aの排出表面領域はy軸上の3
70に設置される。取付面308aの進入表面領域はy軸上の350に配置され
る。
319aを通るように誘導される前に、空気フローが取付面308aを通るよう
に誘導されることを包含するので、取付面308aの排出表面領域はy軸上の3
70に設置される。取付面308aの進入表面領域はy軸上の350に配置され
る。
【0028】 ガス・システム319はまた、xz面に存在する大きな入口表面領域および排
出表面領域を有する。ガス・システム319の表面領域は、取付面308に関し
て記載された表面領域に類似している。ガス・システム319の進入表面領域は
、ガス・システム319を取り囲む表面領域であって、ガス・システム319領
域に入るために空気が通過する表面領域である。ガス・システム319の排出表
面領域は、ガス・システム319を取り囲む表面領域であって、ガス・システム
319領域から離れるために、ガス・システム319を通過した空気フローのす
べてが通過する表面領域ある。
出表面領域を有する。ガス・システム319の表面領域は、取付面308に関し
て記載された表面領域に類似している。ガス・システム319の進入表面領域は
、ガス・システム319を取り囲む表面領域であって、ガス・システム319領
域に入るために空気が通過する表面領域である。ガス・システム319の排出表
面領域は、ガス・システム319を取り囲む表面領域であって、ガス・システム
319領域から離れるために、ガス・システム319を通過した空気フローのす
べてが通過する表面領域ある。
【0029】 図3aを参照すると、ガス・システム319a進入表面領域は、y軸に沿って
370において配置される。ガス・システム319aの形状が不規則であったと
しても、平滑な表面領域を考えることができる。この平滑な表面領域は、本質的
には、ガス・システム319a領域を取り囲む領域であって、ガス・システム3
19a領域に入るために、ガス・システム319aで誘導される空気フローの流
れが移動しなければならない領域に広がっている。ガス・システム319aは取
付面308aに固定されるので、取付面308a排出表面領域およびガス・シス
テム319a進入表面領域はともに、同じy軸上の位置370に配置される。
370において配置される。ガス・システム319aの形状が不規則であったと
しても、平滑な表面領域を考えることができる。この平滑な表面領域は、本質的
には、ガス・システム319a領域を取り囲む領域であって、ガス・システム3
19a領域に入るために、ガス・システム319aで誘導される空気フローの流
れが移動しなければならない領域に広がっている。ガス・システム319aは取
付面308aに固定されるので、取付面308a排出表面領域およびガス・シス
テム319a進入表面領域はともに、同じy軸上の位置370に配置される。
【0030】 次に図3bを参照すると、ガス・システム319bは2つのガス・スティック
331b、332bを(それぞれ、軸304および軸305に)有しているだけ
であるが、ガス・システム319bは3つのガス・スティックを有し得ることに
留意されたい。すなわち、第3のガス・スティックは中心を軸306に有し得る
。ガス・システム319a進入表面領域は、ガス・スティックが存在し得るが、
必ずしも存在する必要がない領域328を含むことが考えられる。すなわち、取
付面308bを通ってガス・システム319a進入表面領域に上昇してくるチャ
ネル313aからの空気は、穴があけられた取付面308bの穴323を通って
流れる。したがって、ガス・システム319b進入表面領域は、取付面308b
のすぐ上部の領域328(ガス・スティックが設置されていない領域)、ならび
に取付面308bのすぐ上部の領域327(ガス・スティック331b、332
bが設置されている領域)を含む。したがって、ガス・システム319b進入表
面領域は境界303で囲まれた領域327、328を含む。ガス・システム31
9の進入表面領域は、取付面308b排出表面領域とほぼ同じ形状およびサイズ
である。これによって、ガス・システム319bを入って抜ける最も効率的な空
気フローが保証される。すなわち、捕獲システム321a(再度、図3a参照)
によって引き寄せられる総体積流量がガス・システム319bの進入表面領域の
全体に一様に分布する。しかし、本発明はこのような制限に限定されない。領域
328は、ガス・システム319bにおける幅広いギャップ328として示され
ている。幅広いギャップ328のサイズは、1個のモジュラ・ベース・ブロック
316と少なくともほぼ同じくらいの大きさであり、多数のガス・スティックと
同じくらいの大きさであり得る。幅広いギャップのより一般的な定義は本明細書
において上記にさらに記載されている。
331b、332bを(それぞれ、軸304および軸305に)有しているだけ
であるが、ガス・システム319bは3つのガス・スティックを有し得ることに
留意されたい。すなわち、第3のガス・スティックは中心を軸306に有し得る
。ガス・システム319a進入表面領域は、ガス・スティックが存在し得るが、
必ずしも存在する必要がない領域328を含むことが考えられる。すなわち、取
付面308bを通ってガス・システム319a進入表面領域に上昇してくるチャ
ネル313aからの空気は、穴があけられた取付面308bの穴323を通って
流れる。したがって、ガス・システム319b進入表面領域は、取付面308b
のすぐ上部の領域328(ガス・スティックが設置されていない領域)、ならび
に取付面308bのすぐ上部の領域327(ガス・スティック331b、332
bが設置されている領域)を含む。したがって、ガス・システム319b進入表
面領域は境界303で囲まれた領域327、328を含む。ガス・システム31
9の進入表面領域は、取付面308b排出表面領域とほぼ同じ形状およびサイズ
である。これによって、ガス・システム319bを入って抜ける最も効率的な空
気フローが保証される。すなわち、捕獲システム321a(再度、図3a参照)
によって引き寄せられる総体積流量がガス・システム319bの進入表面領域の
全体に一様に分布する。しかし、本発明はこのような制限に限定されない。領域
328は、ガス・システム319bにおける幅広いギャップ328として示され
ている。幅広いギャップ328のサイズは、1個のモジュラ・ベース・ブロック
316と少なくともほぼ同じくらいの大きさであり、多数のガス・スティックと
同じくらいの大きさであり得る。幅広いギャップのより一般的な定義は本明細書
において上記にさらに記載されている。
【0031】 図3aを再び参照すると、ガス・システム319a排出表面領域の直線状セグ
メント351が見られる。再度ではあるが、ガス・システム319aが不規則な
形状であったとしても、ガス・システム319aの領域から出るために、ガス・
システム319aの領域に入った空気のすべてが通過しなければならない平滑な
表面領域を考えることができる。直線状セグメント351は、そのような平滑な
表面の一部である。
メント351が見られる。再度ではあるが、ガス・システム319aが不規則な
形状であったとしても、ガス・システム319aの領域から出るために、ガス・
システム319aの領域に入った空気のすべてが通過しなければならない平滑な
表面領域を考えることができる。直線状セグメント351は、そのような平滑な
表面の一部である。
【0032】 図3の改善された装置300の説明を続けると、チャネル313aにより、取
付面308aの進入表面領域は入口ポート302aと接続されている。入口ポー
トによって、収納装置301aまたはチャネル313aへの空気フローが可能に
なる。したがって、空気フロー304aは、入口ポート302aからチャネル3
13aに導かれる。チャネルは、装置内の隔離された流体の流れまたはほぼ隔離
された流体の流れを誘導するのを助ける構造体にすぎない。次いで、空気フロー
は、+y方向に、取付面308a進入表面領域を通り、取付面308a内の開口
部(323など、図3b参照)を通って、次いで取付面308a排出表面領域お
よびガス・システム319aの排出表面領域をそれぞれ通って誘導される。次い
で、空気フローは、(図3aの線351によって示される)ガス・システム31
9排出表面領域を通って流れる。
付面308aの進入表面領域は入口ポート302aと接続されている。入口ポー
トによって、収納装置301aまたはチャネル313aへの空気フローが可能に
なる。したがって、空気フロー304aは、入口ポート302aからチャネル3
13aに導かれる。チャネルは、装置内の隔離された流体の流れまたはほぼ隔離
された流体の流れを誘導するのを助ける構造体にすぎない。次いで、空気フロー
は、+y方向に、取付面308a進入表面領域を通り、取付面308a内の開口
部(323など、図3b参照)を通って、次いで取付面308a排出表面領域お
よびガス・システム319aの排出表面領域をそれぞれ通って誘導される。次い
で、空気フローは、(図3aの線351によって示される)ガス・システム31
9排出表面領域を通って流れる。
【0033】 次いで、収納装置301a内における空気フローは出口ポート330aに導か
れ、捕獲システム321aに入る。そこで、ガスはろ過され、清浄な空気322
が環境に戻される。出口ポートによって、流体の流れを収納装置301aまたは
チャネルから流出させることができる。
れ、捕獲システム321aに入る。そこで、ガスはろ過され、清浄な空気322
が環境に戻される。出口ポートによって、流体の流れを収納装置301aまたは
チャネルから流出させることができる。
【0034】 図4を参照する。図4は、ガス・システム419および取付面408をさらに
詳しく、かつ改善された相対的縮尺で示す。この場合、5個のガス・スティック
431〜435が見られる。2個のマニホルド436、437もまた見られる。
マニホルド436は5個のガス・スティック431〜435のすべての下部に位
置し、その一方で、マニホルド437はガス・スティック431、432および
433の下部に位置する。注目すべき2種類のギャップが存在する:狭いギャッ
プ427〜430と、境界425および426によって輪郭が示される幅広いギ
ャップ。狭いギャップ427〜430は、それぞれ、隣接するガス・スティック
431および432、432および433、433および434、434および
435の間に存在する。この実施形態において、狭いギャップ427〜430は
、適用可能な産業的要件または慣習(例えば、セミS2−93Aの上記のOEM
解釈)を考慮して、図1Bおよび図2Bに示される装置と類似する従来の装置を
使用してガス・システム419からの漏れたガスが集められる場合、空気フロー
が不十分であるガス・システム419におけるギャップである。空気フローを狭
いギャップ427〜430に適正に導入するために、穴424が、取付面408
での狭いギャップ427〜430の近くに重点的に配置される。議論されている
ように、本発明の実施形態において、狭いギャップ427〜430は、典型的に
は幅が0.2インチである。すなわち、隣接するガス・スティックの間が典型的
には0.2インチである。
詳しく、かつ改善された相対的縮尺で示す。この場合、5個のガス・スティック
431〜435が見られる。2個のマニホルド436、437もまた見られる。
マニホルド436は5個のガス・スティック431〜435のすべての下部に位
置し、その一方で、マニホルド437はガス・スティック431、432および
433の下部に位置する。注目すべき2種類のギャップが存在する:狭いギャッ
プ427〜430と、境界425および426によって輪郭が示される幅広いギ
ャップ。狭いギャップ427〜430は、それぞれ、隣接するガス・スティック
431および432、432および433、433および434、434および
435の間に存在する。この実施形態において、狭いギャップ427〜430は
、適用可能な産業的要件または慣習(例えば、セミS2−93Aの上記のOEM
解釈)を考慮して、図1Bおよび図2Bに示される装置と類似する従来の装置を
使用してガス・システム419からの漏れたガスが集められる場合、空気フロー
が不十分であるガス・システム419におけるギャップである。空気フローを狭
いギャップ427〜430に適正に導入するために、穴424が、取付面408
での狭いギャップ427〜430の近くに重点的に配置される。議論されている
ように、本発明の実施形態において、狭いギャップ427〜430は、典型的に
は幅が0.2インチである。すなわち、隣接するガス・スティックの間が典型的
には0.2インチである。
【0035】 ガス・システム419における幅広いギャップは、境界425および境界42
6によって輪郭が示されている。幅広いギャップは、(幅広いギャップのすぐ下
部に位置する)開口部423を通して導入された空気フローが、実質的には、狭
いギャップ領域(例えば、427〜430)からの漏れたガスを除く空気フロー
に寄与することなく通り抜けるガス・システム419におけるギャップである。
すなわち、幅広いギャップは、流れが主としてそれを通って空費されるガス・シ
ステム419の領域である。空費される流れは、流れが、どんなときでも狭いギ
ャップ領域を通って流れないことを意味する。この領域において、幅広いギャッ
プは、1個のモジュラ・ベース・ブロックと少なくともほぼ同じくらいの大きさ
である。本発明の実施形態において、モジュラ・ベース・ブロックは、典型的に
は1.5インチx1.5インチである。
6によって輪郭が示されている。幅広いギャップは、(幅広いギャップのすぐ下
部に位置する)開口部423を通して導入された空気フローが、実質的には、狭
いギャップ領域(例えば、427〜430)からの漏れたガスを除く空気フロー
に寄与することなく通り抜けるガス・システム419におけるギャップである。
すなわち、幅広いギャップは、流れが主としてそれを通って空費されるガス・シ
ステム419の領域である。空費される流れは、流れが、どんなときでも狭いギ
ャップ領域を通って流れないことを意味する。この領域において、幅広いギャッ
プは、1個のモジュラ・ベース・ブロックと少なくともほぼ同じくらいの大きさ
である。本発明の実施形態において、モジュラ・ベース・ブロックは、典型的に
は1.5インチx1.5インチである。
【0036】 取付面408における穴423および424の周期的に配置にも留意されたい
。取り付けの正確さを確保するために、ガス・スティック431〜435は取り
付け用走路450、451に沿って設置されなければならない。走路は、取付面
408内に形成された高精度の溝である。整列取り付け用走路450およびマニ
ホルド取り付け用走路451の2種類の取り付け用走路が存在する。整列取り付
け用走路450は、ガス・スティック431〜435を取付面408に整列させ
るために使用される。マニホルド取り付け用走路451は、マニホルド・ブロッ
ク536、537を取付面408に直接装着させるために使用される。本発明の
実施形態において、穴423、424は取り付け用走路451内に設置される。
したがって、それらの設置は所定の位置範囲の中に限定される。そのように穴4
23、424をマニホルド取り付け用走路451に制限することによって、それ
らは、ガス・スティックの外縁のすぐ下部、およびそのすぐ近くに常に位置する
。これによって2つのことが達成される。第1に、ガス・スティックの下部を移
動する何らかの流出ガスを除く若干の空気フローが、実際にガス・スティックの
下部を流れる。第2に、大きな割合の空気フローが狭いギャップ427〜430
を通って上方に流れる。穴423および424がガス・スティックの中心の下部
により多く設置されている場合、(モジュラ・ブロック・ガス・システムの密度
のために)大部分の空気フローが、ガス・システム419の下部およびガス・シ
ステム419の外縁の外側を流れるだけである。ガス・スティックの外縁の下面
にだけでなく、そのそばにも設置されている領域に穴423を設置することによ
って、空気フローは、ガス・システム419内の狭いギャップ領域427〜43
0を通って上方に導かれ、ガス・スティック431、432の下部にも導かれる
。
。取り付けの正確さを確保するために、ガス・スティック431〜435は取り
付け用走路450、451に沿って設置されなければならない。走路は、取付面
408内に形成された高精度の溝である。整列取り付け用走路450およびマニ
ホルド取り付け用走路451の2種類の取り付け用走路が存在する。整列取り付
け用走路450は、ガス・スティック431〜435を取付面408に整列させ
るために使用される。マニホルド取り付け用走路451は、マニホルド・ブロッ
ク536、537を取付面408に直接装着させるために使用される。本発明の
実施形態において、穴423、424は取り付け用走路451内に設置される。
したがって、それらの設置は所定の位置範囲の中に限定される。そのように穴4
23、424をマニホルド取り付け用走路451に制限することによって、それ
らは、ガス・スティックの外縁のすぐ下部、およびそのすぐ近くに常に位置する
。これによって2つのことが達成される。第1に、ガス・スティックの下部を移
動する何らかの流出ガスを除く若干の空気フローが、実際にガス・スティックの
下部を流れる。第2に、大きな割合の空気フローが狭いギャップ427〜430
を通って上方に流れる。穴423および424がガス・スティックの中心の下部
により多く設置されている場合、(モジュラ・ブロック・ガス・システムの密度
のために)大部分の空気フローが、ガス・システム419の下部およびガス・シ
ステム419の外縁の外側を流れるだけである。ガス・スティックの外縁の下面
にだけでなく、そのそばにも設置されている領域に穴423を設置することによ
って、空気フローは、ガス・システム419内の狭いギャップ領域427〜43
0を通って上方に導かれ、ガス・スティック431、432の下部にも導かれる
。
【0037】 図5は、穴または開口部523の周期的構造を有する取付面503を示す。本
発明の実施形態における穴523は、長さが1インチであり、マニホルド取り付
け用走路551に沿って1インチ離れている。マニホルド取り付け用走路551
は、マニホルド・ブロック(図3aおよび図3bにおける317a1、b1およ
び317a2、b2など)を固定するために使用され、典型的には整列取り付け
用走路550から0.6インチである。取り付け用走路550は、上記に言及さ
れているように、取付面503にガス・スティックを整列させるのを助けるため
に使用される。本発明の実施形態は取付面503における開口部523の周期的
な設置を包含するが、開口部523をそれぞれ特定のガス・システム構成のため
に特別に配置することができ、それは全く可能である。しかし、本発明の実施形
態では、図5に示されているように、周期的に配置された開口部523が選択さ
れる。なぜなら、穴523の周期的パターンを伴う製造コストは、特別に形成さ
れる穴523よりもはるかに小さいからである。
発明の実施形態における穴523は、長さが1インチであり、マニホルド取り付
け用走路551に沿って1インチ離れている。マニホルド取り付け用走路551
は、マニホルド・ブロック(図3aおよび図3bにおける317a1、b1およ
び317a2、b2など)を固定するために使用され、典型的には整列取り付け
用走路550から0.6インチである。取り付け用走路550は、上記に言及さ
れているように、取付面503にガス・スティックを整列させるのを助けるため
に使用される。本発明の実施形態は取付面503における開口部523の周期的
な設置を包含するが、開口部523をそれぞれ特定のガス・システム構成のため
に特別に配置することができ、それは全く可能である。しかし、本発明の実施形
態では、図5に示されているように、周期的に配置された開口部523が選択さ
れる。なぜなら、穴523の周期的パターンを伴う製造コストは、特別に形成さ
れる穴523よりもはるかに小さいからである。
【0038】 設計の様々な細部にはさらなる詳細な説明が必要である。
【0039】 第1に、図3bを再び参照すると、空気が開口部323を通って幅広いギャッ
プ328に流れることができる場合、取付面308bを通って流れる大部分の空
気フローは、一対のガス・スティック331b、332b、一対のマニホルド3
17b1、b2、または機能要素318bの流出し得るガスの捕獲能をほとんど
有していない。したがって、プラグ挿入体を使用して、その上部にガス・スティ
ックが存在しない穴323が塞がれる。これによって、ガス・システム319b
を通って流れる空気フローの量が最大になる。図4を参照すると、幅広いギャッ
プ425、426の下部にある穴423は、本発明の実施形態においては塞がれ
ている。取付面408内の穴424は、それらがガス・スティック431〜43
5のすぐ下部に位置するために塞がれていない。幅広いギャップ425および4
26の下部にある穴423を塞ぎ、ガス・システム419の下部にある穴424
を塞がないことによって、最大の空気フローがガス・システム419およびその
関連する狭いギャップ(例えば、427〜430)のすべてに導かれる。
プ328に流れることができる場合、取付面308bを通って流れる大部分の空
気フローは、一対のガス・スティック331b、332b、一対のマニホルド3
17b1、b2、または機能要素318bの流出し得るガスの捕獲能をほとんど
有していない。したがって、プラグ挿入体を使用して、その上部にガス・スティ
ックが存在しない穴323が塞がれる。これによって、ガス・システム319b
を通って流れる空気フローの量が最大になる。図4を参照すると、幅広いギャッ
プ425、426の下部にある穴423は、本発明の実施形態においては塞がれ
ている。取付面408内の穴424は、それらがガス・スティック431〜43
5のすぐ下部に位置するために塞がれていない。幅広いギャップ425および4
26の下部にある穴423を塞ぎ、ガス・システム419の下部にある穴424
を塞がないことによって、最大の空気フローがガス・システム419およびその
関連する狭いギャップ(例えば、427〜430)のすべてに導かれる。
【0040】 第2に、図3aを参照すると、空気は、流入ポート302aに入り、チャネル
先端領域3131a内のチャネル313を通って流れる。チャネルの先端領域3
131aは、チャネル313aの一部と見なされる。チャネル先端領域3131
は、図3aおよび図3cを参照すると、空気を収納装置301cに進入させる。
空気は流入ポート302cから入り、次いでチャネル先端領域(yz面でのチャ
ネル先端領域3131aの断面はyz面での流入ポート302cの断面と等しい
ので図3cでは見られない)の中のチャネル313cを通り、次いで取付面30
8a、cを通って流れる。流入ポート302cのyz面での横断面(したがって
、チャネル先端領域3131aの横断面)は、改善された装置300が産業上の
安全性要件または慣習を満たすことを保証する。例えば、工業規格のSEMI
S2−93A第10節により、装置は合理的に考えられるガス漏出物を捕獲する
ことが求められている。この条件は、30リットル/分の六フッ化イオウの流れ
を、収納装置301cの開口部(入口ポート302cなど)の「見通し線」内に
おいて直径が0.25インチ(6.35mm)の管に慎重に注入することによっ
て試験される。開口部の近くで、収納装置301cの外側に設置されたにおいプ
ローブによって、収納装置301cの開口部から漏れ出た何らかの試験ガスが検
出される。そのような検出はいずれも試験の失敗(failure)となる。
先端領域3131a内のチャネル313を通って流れる。チャネルの先端領域3
131aは、チャネル313aの一部と見なされる。チャネル先端領域3131
は、図3aおよび図3cを参照すると、空気を収納装置301cに進入させる。
空気は流入ポート302cから入り、次いでチャネル先端領域(yz面でのチャ
ネル先端領域3131aの断面はyz面での流入ポート302cの断面と等しい
ので図3cでは見られない)の中のチャネル313cを通り、次いで取付面30
8a、cを通って流れる。流入ポート302cのyz面での横断面(したがって
、チャネル先端領域3131aの横断面)は、改善された装置300が産業上の
安全性要件または慣習を満たすことを保証する。例えば、工業規格のSEMI
S2−93A第10節により、装置は合理的に考えられるガス漏出物を捕獲する
ことが求められている。この条件は、30リットル/分の六フッ化イオウの流れ
を、収納装置301cの開口部(入口ポート302cなど)の「見通し線」内に
おいて直径が0.25インチ(6.35mm)の管に慎重に注入することによっ
て試験される。開口部の近くで、収納装置301cの外側に設置されたにおいプ
ローブによって、収納装置301cの開口部から漏れ出た何らかの試験ガスが検
出される。そのような検出はいずれも試験の失敗(failure)となる。
【0041】 六フッ化イオウの試験ガスが0.25インチ直径の管から(30標準リットル
/分で)出るその速度は5000ft/分を(1524m/分)越える。自然の
拡散および混合のために、流速は、(プローブの前面から6インチにおいて約1
000ft/分(304.8m/分)にまで)試験プローブからの距離とともに
急激に低下する。
/分で)出るその速度は5000ft/分を(1524m/分)越える。自然の
拡散および混合のために、流速は、(プローブの前面から6インチにおいて約1
000ft/分(304.8m/分)にまで)試験プローブからの距離とともに
急激に低下する。
【0042】 SEMI S2−93Aの仕様を確実に満たすために、試験ガスは、入口ポー
ト302cを介して収納装置301から漏れてはならない。試験ガスがこのよう
に漏れないことを保証するために、入口ポート302cにおける空気取り込みの
線形流量は、試験ガス管からの流量よりも合理的に大きくなければならない。本
発明の実施形態においては、1000ft/分(304.8m/分)(これは試
験管の前面から6インチ(152.4mm)における流量である)が公称流量と
して選ばれる。公称流量は、一種の「最悪」のガス漏出として合理的に選ばれた
流量である。公称流量は、装置300aが工業的仕様(SEMI S2−93A
など)および慣習を確実に満たすことを助ける装置300aの特徴を発現させる
のを助けるために特に使用することができる。したがって、本発明の実施形態に
おいて、流入ポート302a、cにおける空気取り込み速度は1000ft/分
(304.8m/分)(公称流量)を越えなければならない。この実施形態にお
いては、1500ft/分(457.2m/分)が流入ポート302a、cにお
ける線形流量として選ばれる。これは、試験ガス管からの1000ft/分の公
称流量を合理的に上回っている。
ト302cを介して収納装置301から漏れてはならない。試験ガスがこのよう
に漏れないことを保証するために、入口ポート302cにおける空気取り込みの
線形流量は、試験ガス管からの流量よりも合理的に大きくなければならない。本
発明の実施形態においては、1000ft/分(304.8m/分)(これは試
験管の前面から6インチ(152.4mm)における流量である)が公称流量と
して選ばれる。公称流量は、一種の「最悪」のガス漏出として合理的に選ばれた
流量である。公称流量は、装置300aが工業的仕様(SEMI S2−93A
など)および慣習を確実に満たすことを助ける装置300aの特徴を発現させる
のを助けるために特に使用することができる。したがって、本発明の実施形態に
おいて、流入ポート302a、cにおける空気取り込み速度は1000ft/分
(304.8m/分)(公称流量)を越えなければならない。この実施形態にお
いては、1500ft/分(457.2m/分)が流入ポート302a、cにお
ける線形流量として選ばれる。これは、試験ガス管からの1000ft/分の公
称流量を合理的に上回っている。
【0043】 したがって、本発明のこの実施形態において、流入ポート302a、cおよび
チャネル先端領域3131a(図3a参照)の設計点は、これらのエレメントを
通る流量が1500ft/分(457.2m/分)であるようにすることである
。これらのエレメントを通る流量は、yz面におけるそれらの断面積および空気
フロー源の容量フロー量(例えば、図3aの捕獲システム321aによって引き
寄せられる空気フロー)の関数である。詳細には、これらのエレメントを通る線
形流量は、これらの各要素(すなわち、流入ポート302a、cまたはチャネル
先端領域3131a)のyz面における断面積で正規化された捕獲システム32
1aによって引き寄せられる体積流量である。
チャネル先端領域3131a(図3a参照)の設計点は、これらのエレメントを
通る流量が1500ft/分(457.2m/分)であるようにすることである
。これらのエレメントを通る流量は、yz面におけるそれらの断面積および空気
フロー源の容量フロー量(例えば、図3aの捕獲システム321aによって引き
寄せられる空気フロー)の関数である。詳細には、これらのエレメントを通る線
形流量は、これらの各要素(すなわち、流入ポート302a、cまたはチャネル
先端領域3131a)のyz面における断面積で正規化された捕獲システム32
1aによって引き寄せられる体積流量である。
【0044】 例えば、捕獲システム321aが150ft3/分の体積流量を引き寄せる場
合、1/10ft2の断面積によって、1500ft/分の線形流量が得られる
。同様に、体積流量が100ft3/分の場合、1/15ft2の断面積によって
もまた、1500ft/分(457.2m/分)の線形流量が得られる。したが
って、流入ポート302a、cおよびチャネル先端領域3131bにおける特定
の線形流量は、流れ源の体積流量に応答してyz面におけるこれらのエレメント
の断面積を調節することによって実現することができる。取り扱いコストおよび
処理コストを少なくするために、捕獲システム321aの体積流量を低くするこ
と(例えば、100〜150ft3/分)は有益である。
合、1/10ft2の断面積によって、1500ft/分の線形流量が得られる
。同様に、体積流量が100ft3/分の場合、1/15ft2の断面積によって
もまた、1500ft/分(457.2m/分)の線形流量が得られる。したが
って、流入ポート302a、cおよびチャネル先端領域3131bにおける特定
の線形流量は、流れ源の体積流量に応答してyz面におけるこれらのエレメント
の断面積を調節することによって実現することができる。取り扱いコストおよび
処理コストを少なくするために、捕獲システム321aの体積流量を低くするこ
と(例えば、100〜150ft3/分)は有益である。
【0045】 まとめると、流入ポート302a、cにおける空気の比較的大きな流量を、チ
ャネル先端領域3131aにおける少なくとも数インチに匹敵し得るか、または
同等の空気の流量と組み合わせることによって、六フッ化イオウの試験ガスが空
気取り入れポート302a、cの上流で検出されないことが保証される。なぜな
ら、試験ガスは、入ってくる空気フローによって押し戻されているからである。
チャネル先端領域3131aは、図3cに示されているように、yz面で同一の
断面積を有しているが、このような設計選択は必要条件ではない。再度ではある
が、2つの構造体(入口ポート302a、cおよびチャネル先端領域3131a
)における高流量の組み合わせは、(例えば、試験ガス管からの)公称流量と比
較した場合、ガスが収納装置301の入口ポート302a、cから流出しないこ
とを保証する。この2つの構造体は、それぞれが公称流量よりも合理的な高流量
を有する場合に異なる流量を有することができる。
ャネル先端領域3131aにおける少なくとも数インチに匹敵し得るか、または
同等の空気の流量と組み合わせることによって、六フッ化イオウの試験ガスが空
気取り入れポート302a、cの上流で検出されないことが保証される。なぜな
ら、試験ガスは、入ってくる空気フローによって押し戻されているからである。
チャネル先端領域3131aは、図3cに示されているように、yz面で同一の
断面積を有しているが、このような設計選択は必要条件ではない。再度ではある
が、2つの構造体(入口ポート302a、cおよびチャネル先端領域3131a
)における高流量の組み合わせは、(例えば、試験ガス管からの)公称流量と比
較した場合、ガスが収納装置301の入口ポート302a、cから流出しないこ
とを保証する。この2つの構造体は、それぞれが公称流量よりも合理的な高流量
を有する場合に異なる流量を有することができる。
【0046】 本発明の第3の細部には、図3aにおけるチャネル313aの側壁309aが
含まれる。側壁309aは、収納装置301aの内部からチャネル313aを封
鎖するか、または隔離するのを助ける。したがって、流入ポート302aにおけ
る空気フローのすべてが取付面308aを通ってガス・システム319a領域に
流れる。
含まれる。側壁309aは、収納装置301aの内部からチャネル313aを封
鎖するか、または隔離するのを助ける。したがって、流入ポート302aにおけ
る空気フローのすべてが取付面308aを通ってガス・システム319a領域に
流れる。
【0047】 収納装置301aは、典型的には、顧客の要求により決定される。したがって
、顧客により、大きな収納装置構造体301aまたは小さな収納装置構造体30
1aが要求されることがある。顧客により、様々な形状およびサイズの収納装置
構造体301aが要求されることさえある。様々な形状およびサイズの収納装置
構造体301aにより、収納装置301aの内部に様々なデッド・スポット31
4a1〜a4が生じ得る。デッド・スポット314a1〜a4は、本質的には、
収納装置の中において空気フローがほとんどない領域である。デッド・スポット
314は狭いギャップまたは狭い領域307bと区別される。なぜなら、デッド
・スポットは、一般には収納装置の中における空気フローがないことに関連して
いるが、狭いギャップまたは狭い領域は、とりわけガス・システムを通る空気フ
ローがないことに関連しているからである。箱様収納装置の場合には、デッド・
スポット314a1〜a4が、典型的には角に存在する。
、顧客により、大きな収納装置構造体301aまたは小さな収納装置構造体30
1aが要求されることがある。顧客により、様々な形状およびサイズの収納装置
構造体301aが要求されることさえある。様々な形状およびサイズの収納装置
構造体301aにより、収納装置301aの内部に様々なデッド・スポット31
4a1〜a4が生じ得る。デッド・スポット314a1〜a4は、本質的には、
収納装置の中において空気フローがほとんどない領域である。デッド・スポット
314は狭いギャップまたは狭い領域307bと区別される。なぜなら、デッド
・スポットは、一般には収納装置の中における空気フローがないことに関連して
いるが、狭いギャップまたは狭い領域は、とりわけガス・システムを通る空気フ
ローがないことに関連しているからである。箱様収納装置の場合には、デッド・
スポット314a1〜a4が、典型的には角に存在する。
【0048】 議論されているように、工業規格により、収納装置301全体をくまなく流れ
る空気フローの様々なレベルが要求される。例えば、SEMI S2−93A第
10節の一般的な解釈は、収納装置301aの全体において1分あたり50フィ
ート(15.24m)の最低値を要求する。デッド・スポット314はこの条件
を満たすことができない。さらに、工業的要件には、可燃性ガスの何らかの臨界
接続部近傍で、1分あたり100フィート(30.48m)(2つの隣接するブ
ロック316が満たす場合など)および/またはシランの何らかの危険な接続に
近い1分あたり200フィート(60.96m)が含まれる。デッド・スポット
314は、装置300aがこれらの規格を受け入れることをおびやかすものとな
る。
る空気フローの様々なレベルが要求される。例えば、SEMI S2−93A第
10節の一般的な解釈は、収納装置301aの全体において1分あたり50フィ
ート(15.24m)の最低値を要求する。デッド・スポット314はこの条件
を満たすことができない。さらに、工業的要件には、可燃性ガスの何らかの臨界
接続部近傍で、1分あたり100フィート(30.48m)(2つの隣接するブ
ロック316が満たす場合など)および/またはシランの何らかの危険な接続に
近い1分あたり200フィート(60.96m)が含まれる。デッド・スポット
314は、装置300aがこれらの規格を受け入れることをおびやかすものとな
る。
【0049】 デッド・スポット314a1〜a4を除くために、多数の方法を取ることがで
きる。チャネル313a、側壁309a1、a2の近くに存在するデッド・スポ
ット314a1、a2の場合には、経路311a1、a2を側壁309a1、a
2に形成することができる。経路は、本質的には、収納装置301aとチャネル
313aとの間での流体の流れを連結する。経路311a1、a2は、チャネル
313aから角314a1、a2へのかなりの量の流れ310a1、a2を可能
にする。さらに、デッド・スポット314a3、a4を特異的に除くために、流
入ポート312a1、a2を収納装置301aの周りの様々な重要な位置に加え
ることができる。さらなる流入ポート312は、収納装置の内部におけるデッド
・スポット(1つまたは複数)を除くために、あるいは狭いギャップの内部に空
気フローを導入するために、そのような方法で設置された収納装置構造体におけ
るポートである。
きる。チャネル313a、側壁309a1、a2の近くに存在するデッド・スポ
ット314a1、a2の場合には、経路311a1、a2を側壁309a1、a
2に形成することができる。経路は、本質的には、収納装置301aとチャネル
313aとの間での流体の流れを連結する。経路311a1、a2は、チャネル
313aから角314a1、a2へのかなりの量の流れ310a1、a2を可能
にする。さらに、デッド・スポット314a3、a4を特異的に除くために、流
入ポート312a1、a2を収納装置301aの周りの様々な重要な位置に加え
ることができる。さらなる流入ポート312は、収納装置の内部におけるデッド
・スポット(1つまたは複数)を除くために、あるいは狭いギャップの内部に空
気フローを導入するために、そのような方法で設置された収納装置構造体におけ
るポートである。
【0050】 したがって、さらなる入口ポートは、収納装置301aを通る(例えば、−x
方向での)直線的な流れを得るために、収納装置301aの様々な位置に加える
ことができる。
方向での)直線的な流れを得るために、収納装置301aの様々な位置に加える
ことができる。
【0051】 図6〜8は設計の別の実施形態を示す。図6の実施形態において、ガス・シス
テム619は、本発明の以前に記載された実施形態と比較して逆になっている。
さらに、空気は反対の方向に流れる。したがって、チャネル613により、ガス
・システム619排出表面領域は出口ポート630に接続される。捕獲システム
(示されず)が出口ポート630に接続されている。空気フローは様々な入口ポ
ート602a〜cから収納装置601に入る。2つ以上の入口ポート602a〜
cが示されているが、これは必要とされる限定ではない。しかし、適用可能な工
業規格を考慮して、これは推奨される。
テム619は、本発明の以前に記載された実施形態と比較して逆になっている。
さらに、空気は反対の方向に流れる。したがって、チャネル613により、ガス
・システム619排出表面領域は出口ポート630に接続される。捕獲システム
(示されず)が出口ポート630に接続されている。空気フローは様々な入口ポ
ート602a〜cから収納装置601に入る。2つ以上の入口ポート602a〜
cが示されているが、これは必要とされる限定ではない。しかし、適用可能な工
業規格を考慮して、これは推奨される。
【0052】 図7はもう1つの別の実施形態を示す。図7の実施形態は、構造的には、本発
明の実施形態と非常に類似している。その大きな違いは空気フローの向きである
。したがって、この実施形態において、チャネル713により、取付面708の
排出表面領域は出口ポート730に接続される。再度ではあるが、捕獲システム
は示されていない。空気フローは、様々な入口ポート702a〜cから収納装置
701に入る。再度ではあるが、2つ以上の入口ポートが示されているが、これ
は必要とされる限定ではない。しかし、適用可能な工業規格を考慮して、これは
推奨される。
明の実施形態と非常に類似している。その大きな違いは空気フローの向きである
。したがって、この実施形態において、チャネル713により、取付面708の
排出表面領域は出口ポート730に接続される。再度ではあるが、捕獲システム
は示されていない。空気フローは、様々な入口ポート702a〜cから収納装置
701に入る。再度ではあるが、2つ以上の入口ポートが示されているが、これ
は必要とされる限定ではない。しかし、適用可能な工業規格を考慮して、これは
推奨される。
【0053】 別の実施形態を図8に示す。図8の実施形態は、図6の実施形態に類似した構
造を有する。すなわち、ガス・システム819が逆になっている。この実施形態
において、チャネル813により、ガス・システム819進入表面領域は入口ポ
ート802と接続される。捕獲システム(示されず)が出口ポート830に接続
されている。空気は入口ポート802から入り、ガス・システム819を通り、
取付面808を通って収納装置801の中に流れる。
造を有する。すなわち、ガス・システム819が逆になっている。この実施形態
において、チャネル813により、ガス・システム819進入表面領域は入口ポ
ート802と接続される。捕獲システム(示されず)が出口ポート830に接続
されている。空気は入口ポート802から入り、ガス・システム819を通り、
取付面808を通って収納装置801の中に流れる。
【0054】 本発明の記載された実施形態において特徴となるすべての細部は図6〜図8に
示された別の実施形態に適用できることに注目することは重要である。したがっ
て、デッド・スポットを除くためのチャネル側壁における経路、(試験ガスを入
口ポートから流出させないように)入口ポートを通る空気フローを最大にするた
めの、ガス・システムにおける幅広いギャップおよび狭い入口ポートを通る空気
フローを遮るための取付面におけるプラグはすべて、代わりになる上記の実施形
態のすべてに適用することができる。
示された別の実施形態に適用できることに注目することは重要である。したがっ
て、デッド・スポットを除くためのチャネル側壁における経路、(試験ガスを入
口ポートから流出させないように)入口ポートを通る空気フローを最大にするた
めの、ガス・システムにおける幅広いギャップおよび狭い入口ポートを通る空気
フローを遮るための取付面におけるプラグはすべて、代わりになる上記の実施形
態のすべてに適用することができる。
【0055】 本発明の範囲は、一般にはガス・システムに関しているが、構造的配置がある
種の流体の流れ(例えば、ガスまたは液体)を必要とする他の課題に適用できる
ことに注目することは重要である。したがって、本発明は、ガス・システムだけ
でなく、一般には構造的配置に適用される。構造的配置は、本質的には、流体(
例えば、ガスまたは液体)の流れを必要とする任意の構造体である。上記の記載
されたガス・システムは構造的配置の1つの形態である。稠密構造的配置は、少
なくとも1つの狭いギャップを有する構造的配置である。狭いギャップは、その
狭いギャップを通して流体の流れが導入されるような方法で構造的配置に流体の
流れが十分に誘導されない場合、ほとんど無視できるほどの流体の流れを有する
ギャップである。
種の流体の流れ(例えば、ガスまたは液体)を必要とする他の課題に適用できる
ことに注目することは重要である。したがって、本発明は、ガス・システムだけ
でなく、一般には構造的配置に適用される。構造的配置は、本質的には、流体(
例えば、ガスまたは液体)の流れを必要とする任意の構造体である。上記の記載
されたガス・システムは構造的配置の1つの形態である。稠密構造的配置は、少
なくとも1つの狭いギャップを有する構造的配置である。狭いギャップは、その
狭いギャップを通して流体の流れが導入されるような方法で構造的配置に流体の
流れが十分に誘導されない場合、ほとんど無視できるほどの流体の流れを有する
ギャップである。
【0056】 さらに、本発明はガス・システムに限定されるだけでなく、流体の流れを必要
とする任意の構造的配置にも適用できるという事実に類似して、本発明はまた、
穴があけられた(米国特許出願第08/893,773号に開示されているタイ
プの)取付面に単に限定されない。したがって、流体の流れが透過できる少なく
とも1つの開口部を有する構造的配置ではない任意の構造体(すなわち、ふるい
状構造体)は本発明の一部と見なされる。ふるい状構造体には、スクリーンある
いは周期的に固定されたバーまたはレールが含まれるが、これらに限定されない
。
とする任意の構造的配置にも適用できるという事実に類似して、本発明はまた、
穴があけられた(米国特許出願第08/893,773号に開示されているタイ
プの)取付面に単に限定されない。したがって、流体の流れが透過できる少なく
とも1つの開口部を有する構造的配置ではない任意の構造体(すなわち、ふるい
状構造体)は本発明の一部と見なされる。ふるい状構造体には、スクリーンある
いは周期的に固定されたバーまたはレールが含まれるが、これらに限定されない
。
【0057】 本発明の実施形態は、ふるい状構造体を作製するために、穴があけられた取付
面を包含するが、本発明は、構造的配置がふるい状構造体に直接取り付けられて
いる装置に限定されない。例えば、図3aを再び参照すると、空気フローを、ガ
ス・システム319aにガス・システム319の「頂部(top)」から導入す
ることができる(すなわち、空気フローは−y方向に移動する)。ふるい状構造
体をガス・システム319aの上部に配置することができ、その結果、空気フロ
ーは、ふるい状構造体を通過した後、ガス・システム319aを通過する。その
ような実施形態において、ガス・システム319aは、取付面308aにさらに
取り付けなければならない。しかし、取付面は、流れがその側面を通って(例え
ば、z方向またはy方向に)ガス・システム319aから流出し得る場合には穴
あけを必要としない。したがって、構造的配置は、ふるい状構造体への固定を絶
対的に必要とするものではない。
面を包含するが、本発明は、構造的配置がふるい状構造体に直接取り付けられて
いる装置に限定されない。例えば、図3aを再び参照すると、空気フローを、ガ
ス・システム319aにガス・システム319の「頂部(top)」から導入す
ることができる(すなわち、空気フローは−y方向に移動する)。ふるい状構造
体をガス・システム319aの上部に配置することができ、その結果、空気フロ
ーは、ふるい状構造体を通過した後、ガス・システム319aを通過する。その
ような実施形態において、ガス・システム319aは、取付面308aにさらに
取り付けなければならない。しかし、取付面は、流れがその側面を通って(例え
ば、z方向またはy方向に)ガス・システム319aから流出し得る場合には穴
あけを必要としない。したがって、構造的配置は、ふるい状構造体への固定を絶
対的に必要とするものではない。
【0058】 本発明は、ガス・システムおよび取付面にだけでなく、より一般的には構造的
配置およびふるい状構造体にも適用されるので、ガス・システムの進入表面領域
および排出表面領域に類似する定義が、構造的配置の進入表面領域および排出表
面領域に対して存在する。すなわち、構造的配置の進入表面領域は、構造的配置
を通って流れるすべての流れが横切らなければならない表面である。さらに、構
造的配置の排出表面領域は、構造的配置を通過するすべての流れが、構造的配置
領域から抜けるために通過しなければならない表面領域である。さらに、ふるい
状構造体の進入表面領域は、ふるい状構造体に入るすべての流れが横切らなけれ
ばならない表面領域である。最後に、ふるい状構造体の排出表面領域は、ふるい
状構造体から出るすべての流体流が横切らなければならない表面領域である。し
たがって、取付面の進入表面領域および排出表面領域に類似する定義が、ふるい
状構造体の進入表面領域および排出表面領域に対しても同様に存在する。さらに
、構造的配置およびふるい状構造体は、必ずしも平面である必要はない。例えば
、円筒状の進入表面領域および排出表面領域が円筒状の構造体から得られる。
配置およびふるい状構造体にも適用されるので、ガス・システムの進入表面領域
および排出表面領域に類似する定義が、構造的配置の進入表面領域および排出表
面領域に対して存在する。すなわち、構造的配置の進入表面領域は、構造的配置
を通って流れるすべての流れが横切らなければならない表面である。さらに、構
造的配置の排出表面領域は、構造的配置を通過するすべての流れが、構造的配置
領域から抜けるために通過しなければならない表面領域である。さらに、ふるい
状構造体の進入表面領域は、ふるい状構造体に入るすべての流れが横切らなけれ
ばならない表面領域である。最後に、ふるい状構造体の排出表面領域は、ふるい
状構造体から出るすべての流体流が横切らなければならない表面領域である。し
たがって、取付面の進入表面領域および排出表面領域に類似する定義が、ふるい
状構造体の進入表面領域および排出表面領域に対しても同様に存在する。さらに
、構造的配置およびふるい状構造体は、必ずしも平面である必要はない。例えば
、円筒状の進入表面領域および排出表面領域が円筒状の構造体から得られる。
【0059】 設計の中には、構造的配置を通る最大の流れを必要としないものがあり、した
がって、本発明は、必ずしも、ふるい状構造体の表面領域が構造的配置の表面領
域とほぼ等しい設計物にだけ限定されないことが考えられる。あるいは、本発明
は、必ずしも、構造的配置の表面領域がふるい状構造体の表面領域とほぼ同じ形
状である設計物に限定されない。本発明はまた、ふるい状構造体の進入表面領域
がふるい状構造体の排出表面領域と等しい設計物に限定されない。あるいは、本
発明は、構造的配置の進入表面領域が構造的配置の排出表面領域と等しい設計物
に限定されない。したがって、様々な表面領域同士の間における非常に広範囲の
様々な大きさの関係が本発明のもとでは可能である。そのような様々な関係は、
(典型的には顧客により決定される)収納装置301のサイズと、捕獲システム
321または工業規格によって決定される最大流量または最小流量との関数であ
ると考えられる。
がって、本発明は、必ずしも、ふるい状構造体の表面領域が構造的配置の表面領
域とほぼ等しい設計物にだけ限定されないことが考えられる。あるいは、本発明
は、必ずしも、構造的配置の表面領域がふるい状構造体の表面領域とほぼ同じ形
状である設計物に限定されない。本発明はまた、ふるい状構造体の進入表面領域
がふるい状構造体の排出表面領域と等しい設計物に限定されない。あるいは、本
発明は、構造的配置の進入表面領域が構造的配置の排出表面領域と等しい設計物
に限定されない。したがって、様々な表面領域同士の間における非常に広範囲の
様々な大きさの関係が本発明のもとでは可能である。そのような様々な関係は、
(典型的には顧客により決定される)収納装置301のサイズと、捕獲システム
321または工業規格によって決定される最大流量または最小流量との関数であ
ると考えられる。
【0060】 このように、構造的配置におけるデッド・スポットを除くためのふるい状構造
体、ならびにガス・システムにおけるデッド・スポットを除くために取付面を通
して空気フローが導入されるモジュラ・ガス・システムに対する封じ込めシステ
ムの一般的な記載が記載されている。
体、ならびにガス・システムにおけるデッド・スポットを除くために取付面を通
して空気フローが導入されるモジュラ・ガス・システムに対する封じ込めシステ
ムの一般的な記載が記載されている。
【図1a】 標準的なガス・パネルを示す図である。
【図1b】 標準的なガス・パネル用の閉込めシステムを示す図である。
【図2a】 モジュラ・ガス・システムを示す図である。
【図2b】 典型的な閉込めシステムおよびモジュラ・ガス・システムを示す図である。
【図3a】 −z方向の、本発明の実施形態の装置を示す図である。
【図3b】 −y方向の、本発明の実施形態の収納装置を示す図である。
【図3c】 −x方向の、本発明の実施形態の収納装置を示す図である。
【図4】 本発明の実施形態に関するガス・システムおよび取付面を示す図である。
【図5】 本発明の実施形態に関する取付面を示す図である。
【図6】 第1の代替実施形態を示す図である。
【図7】 第2の代替実施形態を示す図である。
【図8】 第3の代替実施形態を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,UG,ZW),E A(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ,BA ,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,CU, CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB,GD,G E,GH,GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS ,JP,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK, LR,LS,LT,LU,LV,MD,MG,MK,M N,MW,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,RU ,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM, TR,TT,UA,UG,US,UZ,VN,YU,Z A,ZW (72)発明者 ハッセンカンプ,エリン・マーティン アメリカ合衆国・95110・カリフォルニア 州・サン ホゼ・ホブソン ストリート・ 130 (72)発明者 マークレック,ジェフリー・アール アメリカ合衆国・08540・ニュージャージ ー州・プリンストン・セイア ドライブ・ 412 (72)発明者 レックス,デニス・ジィ アメリカ合衆国・94087・カリフォルニア 州・サニーベイル・ロッキンバー アベニ ュ・1117 (72)発明者 シュスター,リチャード・イー アメリカ合衆国・95035・カリフォルニア 州・ミルピータス・ラグナ ドライブ・ 313 Fターム(参考) 4K030 CA04 EA01 EA03 EA12 KA43 KA45
Claims (50)
- 【請求項1】 a)収納装置と、 b)前記収納装置内へ流体フローを入れるための少なくとも1つの入口ポート
と、 c)前記収納装置から前記流体フローを出すための少なくとも1つの出口ポー
トと、 d)進入表面領域および排出表面領域を有する稠密構造配置構成と、 e)少なくとも1つの開口を有し、進入表面領域および排出表面領域を有する
ふるい状構造と、 f)前記ふるい状構造排出表面領域もしくは前記稠密構造配置構成排出表面領
域に少なくとも1つの前記出口ポートを結合する、または前記稠密構造配置構成
進入表面領域もしくは前記ふるい状構造進入表面領域に少なくとも1つの前記入
口ポートを結合するチャネルと を備える装置。 - 【請求項2】 さらに、モジュラ・ガス・システム・ビルディング・ブロッ
クを備える請求項1に記載の稠密構造配置構成。 - 【請求項3】 前記稠密構造配置構成表面領域のいずれかが、前記ふるい状
構造表面領域のいずれかにほぼ等しい請求項1に記載の装置。 - 【請求項4】 前記稠密構造配置構成表面領域のいずれかが、前記ふるい状
構造表面領域のいずれかとサイズおよび形状がほぼ同じである請求項3に記載の
装置。 - 【請求項5】 前記稠密構造配置構成が、前記ふるい状構造に取り付けられ
ている請求項1に記載の装置。 - 【請求項6】 さらに、空気フロー源を備え、前記空気フロー源が体積流量
を有し、前記チャネルがチャネル・チップ区域を有し、少なくとも1つの前記入
口ポートが第1の断面表面積を有し、前記チャネル・チップ区域が第2の断面積
を有し、前記第1と前記第2の断面積が共に、公称線形流量によって正規化され
た前記空気フロー源の前記体積流量以下である請求項1に記載の装置。 - 【請求項7】 周期的パターンに配置された請求項1に記載の前記ふるい状
構造の開口。 - 【請求項8】 さらに、前記ふるい状構造の前記開口に挿入されるプラグを
備え、前記プラグが前記稠密構造配置構成内の広いギャップの近傍に位置された
請求項1に記載のふるい状構造。 - 【請求項9】 前記構造配置構成内の狭いギャップの近傍に位置された請求
項1に記載の前記ふるい状構造の開口。 - 【請求項10】 さらに、少なくとも1つの追加の入口ポートを備える請求
項1に記載の収納装置。 - 【請求項11】 ガス流体フローである請求項1に記載の流体フロー。
- 【請求項12】 前記入口ポートと前記ふるい状構造進入表面領域を結合す
る請求項1に記載のチャネル。 - 【請求項13】 前記流体フローの実質的に全てが前記ふるい状構造の前記
開口を通過するように、前記流体フローを離隔する請求項12に記載のチャネル
。 - 【請求項14】 さらに、前記チャネルから前記収納装置への少なくとも1
つの経路を備える請求項12に記載のチャネル。 - 【請求項15】 前記出口ポートとふるい状構造排出表面領域を結合する請
求項1に記載のチャネル。 - 【請求項16】 前記流体フローの実質的に全てが前記ふるい状構造の前記
開口を通過するように、前記流体フローを離隔する請求項15に記載のチャネル
。 - 【請求項17】 さらに、前記収納装置から前記チャネルへの少なくとも1
つの経路を備える請求項15に記載のチャネル。 - 【請求項18】 前記入口ポートと前記稠密構造配置構成進入表面領域とを
結合する請求項1に記載のチャネル。 - 【請求項19】 前記流体フローの実質的に全てが前記ふるい状構造の前記
開口を通過するように、前記流体フローを分離させる請求項18に記載のチャネ
ル。 - 【請求項20】 さらに、前記チャネルから前記収納装置への少なくとも1
つの経路を備える請求項18に記載のチャネル。 - 【請求項21】 前記出口ポートと前記稠密構造配置構成排出表面領域とを
結合する請求項1に記載のチャネル。 - 【請求項22】 前記流体フローの実質的に全てが前記ふるい状構造の前記
開口を通過するように、前記流体フローを分離させる請求項21に記載のチャネ
ル。 - 【請求項23】 さらに、前記収納装置から前記チャネルへの少なくとも1
つの経路を備える請求項22に記載のチャネル。 - 【請求項24】 a)収納装置と、 b)前記収納装置内へガス流体フローを入れるための少なくとも1つの入口ポ
ートと、 c)前記収納装置から前記ガス流体フローを出すための少なくとも1つの出口
ポートと、 d)進入表面領域と排出表面領域を有するガス・システムと、 e)開口を有し、進入表面領域と排出表面領域を有するとともに、前記ガス・
システムが表面領域のいずれかに取り付けられる取付面と、 f)前記取付面排出表面領域もしくは前記ガス・システム排出表面領域に少な
くとも1つの前記出口ポートを結合する、または前記ガス・システム進入表面領
域もしくは前記取付面進入表面領域に少なくとも1つの前記入口ポートを結合す
るチャネルと を備える装置。 - 【請求項25】 さらに、モジュラ・ガス・システム構成要素を備える請求
項24に記載のガス・システム。 - 【請求項26】 前記ガス・システム表面領域が、前記取付面表面領域のサ
イズおよび形状とほぼ同じである請求項24に記載の装置。 - 【請求項27】 さらに、空気フロー源を備え、前記空気フロー源が体積流
量を有し、前記チャネルがチャネル・チップ区域を有し、少なくとも1つの前記
入口ポートが第1の断面表面積を有し、前記チャネル・チップ区域が第2の断面
積を有し、前記第1および前記第2の断面積が、公称線形流量によって正規化さ
れた前記空気フロー源の前記体積流量以下である請求項24に記載の装置。 - 【請求項28】 長さが1インチ(2.54cm)であり、1インチ離して
配置されている請求項24に記載の前記取付面の開口。 - 【請求項29】 さらに、前記取付面の前記開口の第1の開口に挿入される
プラグを備え、前記第1の開口が前記ガス・システム内の広いギャップの近傍に
ある請求項24に記載の取付面。 - 【請求項30】 前記ガス・システム内の狭いギャップの近傍に位置された
請求項24に記載の前記取付面の開口。 - 【請求項31】 ガス・スティックの外縁部の近傍に位置された請求項24
に記載の前記取付面の開口。 - 【請求項32】 さらに、少なくとも1つの追加の入口ポートを備える請求
項24に記載の収納装置。 - 【請求項33】 前記入口ポートと前記取付面進入表面領域を結合する請求
項24に記載のチャネル。 - 【請求項34】 前記ガス流体フローの実質的に全てが前記取付面の前記開
口を通過するように、前記ガス流体フローを離隔する請求項33に記載のチャネ
ル。 - 【請求項35】 さらに、前記チャネルから前記収納装置への少なくとも1
つの経路を備える請求項33に記載のチャネル。 - 【請求項36】 前記出口ポートと前記取付面排出表面領域を結合する請求
項24に記載のチャネル。 - 【請求項37】 前記ガス流体フローの実質的に全てが前記取付面の前記開
口を通過するように、前記ガス流体フローを離隔する請求項36に記載のチャネ
ル。 - 【請求項38】 さらに、前記収納装置から前記チャネルへの少なくとも1
つの経路を備える請求項36に記載のチャネル。 - 【請求項39】 前記入口ポートと前記ガス・システム進入表面領域を結合
する請求項24に記載のチャネル。 - 【請求項40】 前記ガス流体フローの実質的に全てが前記取付面の前記開
口を通過するように、前記ガス流体フローを離隔する請求項39に記載のチャネ
ル。 - 【請求項41】 さらに、前記チャネルから前記収納装置への少なくとも1
つの経路を備える請求項39に記載のチャネル。 - 【請求項42】 前記出口ポートと前記ガス・システム排出表面領域を結合
する請求項24に記載のチャネル。 - 【請求項43】 前記ガス流体フローの実質的に全てが前記取付面の前記開
口を通過するように、前記ガス流体フローを離隔する請求項42に記載のチャネ
ル。 - 【請求項44】 さらに、前記収納装置から前記チャネルへの少なくとも1
つの経路を備える請求項42に記載のチャネル。 - 【請求項45】 a)収納装置と、 b)前記収納装置内へガス流体フローを入れるための少なくとも1つの入口ポ
ートと、 c)前記収納装置から前記ガス流体フローを出すための少なくとも1つの出口
ポートと、 d)進入表面領域と排出表面領域を有し、少なくとも1つのマニホルド・ブロ
ックを有し、複数のガス・スティックを有し、前記ガス・スティックが少なくと
も1つの前記マニホルド・ベース・ブロックに取り付けられ、前記ガス・スティ
ックがそれぞれ複数のモジュラ・ベース・ブロックを有し、少なくとも1つの前
記マニホルド・ブロックが少なくとも2つのガス・スティックを結合するガス・
システムであって、それぞれがモジュラ・ベース・ブロックに取り付けられる複
数の機能要素を有し、狭いギャップを有するガス・システムと、 e)開口を有し、進入表面領域と排出表面領域を有し、前記マニホルド・ブロ
ックが前記取付面表面領域のいずれかに取り付けられる取付面と、 f)前記取付面排出表面領域もしくは前記ガス・システム排出表面領域に少な
くとも1つの前記出口ポートを結合する、または前記ガス・システム進入表面領
域もしくは前記取付面進入表面領域に少なくとも1つの前記入口ポートを結合す
るチャネルと を備える装置。 - 【請求項46】 前記入口ポートと前記取付面進入表面領域を結合する請求
項45に記載のチャネル。 - 【請求項47】 前記出口ポートと前記取付面排出表面領域を結合する請求
項45に記載のチャネル。 - 【請求項48】 前記入口ポートと前記ガス・システム進入表面領域を結合
する請求項45に記載のチャネル。 - 【請求項49】 前記出口ポートと前記ガス・システム排出表面領域を結合
する請求項45に記載のチャネル。 - 【請求項50】 a)少なくとも1つの入口ポート内へ流体フローを導入す
ること、 b)取付面進入表面領域またはガス・システム進入表面領域内に前記流体を送
ること、 c)取付面排出表面領域またはガス・システム排出表面領域から少なくとも1
つの出口ポートへ前記流体を送ること を含む方法。
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