JP2002508833A - 被検体の検査装置及び装置の使用 - Google Patents

被検体の検査装置及び装置の使用

Info

Publication number
JP2002508833A
JP2002508833A JP54334998A JP54334998A JP2002508833A JP 2002508833 A JP2002508833 A JP 2002508833A JP 54334998 A JP54334998 A JP 54334998A JP 54334998 A JP54334998 A JP 54334998A JP 2002508833 A JP2002508833 A JP 2002508833A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
subject
detector
ray
inspection
examination
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP54334998A
Other languages
English (en)
Inventor
グローマン,クリストフ
ハンケ,ランドルフ
ハファー,デトレフ
Original Assignee
フラウンホファー−ゲゼルシャフト ツール フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー.ヴェー.
グローマン,クリストフ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by フラウンホファー−ゲゼルシャフト ツール フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー.ヴェー., グローマン,クリストフ filed Critical フラウンホファー−ゲゼルシャフト ツール フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー.ヴェー.
Publication of JP2002508833A publication Critical patent/JP2002508833A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/302Contactless testing
    • G01R31/305Contactless testing using electron beams
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/02Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
    • G01N23/04Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
    • G01N23/044Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material using laminography or tomosynthesis
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K13/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or adjusting assemblages of electric components
    • H05K13/08Monitoring manufacture of assemblages
    • H05K13/082Integration of non-optical monitoring devices, i.e. using non-optical inspection means, e.g. electrical means, mechanical means or X-rays

Abstract

(57)【要約】 本発明は被検体の検査域の水平寸法と比較して小さな視野を有するX線管及び被検体の検査域の水平寸法と比較して小さな視野を有する検出器を有する被検体の検査装置に関する。被検体の全検査域の検査のためにX線管と検出器がX−Y平面内で移動され、被検体は検査プロセスの間不動に位置決めされる。本発明に係る装置は印刷ボードアセンブリのはんだ接合部の全自動100%X線検査のために使用することが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】 被検体の検査装置及び装置の使用 本発明は、請求項1の前提部分の特徴を有する被検体の検査装置及び印刷回路 基板及び/又は実装した印刷ボードアセンブリのはんだ接合部のX線検査のため の装置の使用、特に印刷回路基板及び/又は実装した印刷ボードアセンブリのは んだ接合部の全自動100%X線検査のための装置の使用に関する。 請求項1の前提部分の特徴を有する装置は欧州特許第0236001号明細書 で知られている。この特許明細書にはスイッチプレート及びボードアセンブリの 2次元全自動X線検査システムが記述されている。使用されるX線源とX線検出 器は被検体の検査域の水平寸法と比較して小さな視野を有するから、X−Y平面 に沿って被検体を移動することによって被検体の全検査域の検査が行われる。従 って公知のシステムはボードアセンブリを受け入れ、これを適切に位置決めする ために、多軸位置決めシステムを有する。 ところが公知のシステムは次の欠点を有する。一方では多軸位置決めシステム はXY移動軸に加えて、ボードアセンブリの受け入れと排出のための装置を取付 けなければならないので設計が高コストである。被検体はX線源と検出器の間に あるから、対応する位置決めシステムもX線源と検出器の間の領域に位置してい なければならない。従って大変場所をとるので、全装置がかさ高になる。またボ ードアセンブリが高速で移動中、部品特にはんだ接合部に横方向に作用する力に よって応力がかかる。これは背の高い取付け部品、さらには構造の関係上濡れの 少ないはんだ接合部しか許さない部品に特に影響を与える。 この応力によってはんだ接合部が損傷することがある。そのような損傷は加速 又は減速過程の後に直ちに現れるとは限らない。同様に加速又は減速過程の直後 にはんだ接合部の目に見えない損傷が生じ、それが長い時間の後に、例えば温度 変動又は振動に関連して初めてはんだ接合部の不調をもたらすことも考えられる 。 公知のシステムの別の欠点は被検体の2次元検査にしか適さないことである。 ボードアセンブリ上の個々の部品を3次元的に検査するために設計されてはいな い。 また重量が著しく異なるボードアセンブリを検査しようとすると、所定のサイ クル時間内にこれを移動するために、夫々異なる力を加えなければならないとい う問題が生じる。従ってボードアセンブリの種類ごとに操作パラメータの正確な 調整が必要である。 さらに検査過程中のボードアセンブリの運動はボードアセンブリを上下に振動 させる。その結果、振動の消滅のための待機時間が必要であり、ボードアセンブ リとの間隔測定をあまり大きな精度で行うことができない。またカメラの長い露 光時間(>200ms)中のボードアセンブリの振動挙動のため最適な画質はと ても得られない。 また被検体、X線源及び検出器の間の調和がとれた相対運動の問題は、断層撮 影合成法(tomosynthesis)の改善に関する多数の特許明細書で論議されている 。 断層撮影合成法とは、3次元被検体の内部の所望の平面の断面像を検出器に形 成するために、被検体とX線源又はX線検出器の間の種々の相対位置で多数のX 線写真を撮影する3次元X線撮影法である。これと対照的に、種概念を構成する X線検査システムでは断層分解を行わない単純なX線透照法で、被検体の検査域 の水平寸法と比較して小さな視野を夫々有するX線源と検出器により被検体の全 検査域をとらえる問題が取り上げられる。 例えばMaterials Evaluation 48,1990年5月におけるS.F.Buchele,H.Elling -er,F.Hopkins;Review of Progress in Quantative Nondestructive Evaluati on Vol.10B,1991におけるR.J,Kruse,R.H.Bossi;IEEE Transactions on Biome dical Engineering 19,1972年1月におけるD.G.Grant;Medical Physics 16(3) ,1989年5月/6月におけるU.E.Ruttimann,X.Qi,L.Weberの論文で知られてい る公知の断層撮影合成法は、X線管と検出器を移動させるが、被検体は不動であ るという原理に基づいている。X線管の高精度の位置決めは維持すべき精度と測 定プロセスの速度に関連して多数の問題を引き起こし、複雑な機械的構造を要求 したから、その後の研究は測定系の一層の簡素化とより 高い精度及び測定速度の向上に向けられた。 本願の共同出願人が提出したドイツ国特許出願第P4235183号には、X 線源と検出器は不動であるが、被検体が移動させられる3次元被検体の断層写真 作成法を記載する。 前記の問題の別の解決策は、X線を発生する電子線を偏向コイルで偏向させる X線管を実現することに基づいている。 米国特許第5097492号には適当に制御される偏向コイルで電子線を偏向 し、こうして発生するX線に被検体上で円運動を行わせ、それによって断層撮影 合成法に必要な断面像を得る断層写真検査システムが記載される。 また米国特許第5259012号に別の断層撮影検査システムが記載される。 その場合、一方では偏向コイルによる調和のとれた偏向の結果、電子線がターゲ ット材料上で円運動を行い、こうして発生するX線が被検体上で円運動を行い、 それによって断層撮影合成法に必要な断面像を得る。他方ではさらに付加的な直 流電流がX又はY方向の偏向コイルに印加され、生じるX線がX−Y平面で内で ピボットし、X線焦点の視野がX線源の内部で移動される。 ところが米国特許第5259012号に記載された機構を被検体の全検査域の 検査に適用するときは、X線管の水平寸法が被検体の検査域より大きくなければ ならないという問題が起こる。これは一方では極めてかさ高な検査システムをも たらし、さらに種々異なる大きさの検査域を有する被検体を使用する場合に問題 が生じる。また、X線源は傾斜されるが移動させられないから、中心部又は縁端 部のいずれを検査するかによって、X線のビーム径が変化するという問題が起こ る。その結果、X線焦点の電子制御がなければ測定精度が変動する。 このシステムのもう一つの欠点は、偏向コイルを対応的に制御しなければなら ないので、X線管の費用のかかる複雑な制御が必要なことである。 そこで本発明の目的は、欧州特許第0236001号で公知の被検体の検査装 置がよりコンパクトになり、被検体の検査域の検査がより迅速に、事実上無破壊 で行えるように改良することである。 本発明によると、この課題は請求項1の特徴部分によって達成される。また 本発明によると、本発明装置の使用が請求項10によって提供される。好適な実 施形態が従属請求項の目的である。 本発明は、この応用分野で広まっている支配的な意見と反対に、およそ10〜 20kgの大きな重量にかかわらずX線管をX−Y平面内で高い精度即ち約5μ m以下の精度をもって、高速度で移動することが可能であるという驚くべき認識 に基づく。 これが可能である一つの理由は、真空ポンプあるいは冷却装置のない低重量の X線管を使用することである。本発明の目的のために、後述するように、10μ mを超える好適には40μmまでの大きな焦点スポット直径のX線管が使用され るから、上記のX線管は満足のいく態様で使用することができる。 またX線管の移動に際して、X線管自体と電源を含む高圧部品だけを移動し、 使用電圧又は出力の変更のための制御装置は移動しない。それでも移動される部 品の総重量は約13.5kgである。 他方ではX線管と検出器を大きな重量にかかわらず大きな精度と高い速度で移 動し得ることを保証するために、これらの部品の水平移動のための特殊な装置が 本発明の発明者によって開発された。この特殊な装置は高精度の軸部品、測定系 及び高性能な位置決め制御の適当な組合せに基づいている。 このようにして本発明装置によって次の利点が得られる。 1.本発明装置は検査域の完全に無破壊の検査を可能にする。正確に言えば、 本発明装置ではボードアセンブリの大きな加速が回避されるので、ボードアセン ブリの加速及び減速過程に基づくはんだ接合部の損傷が起こらないのである。さ らにボードアセンブリが加速/減速時に中心を外れて移動しないようにボードア センブリを保持具内に固定する必要がない。このような固定の欠点は、固定の結 果ボードアセンブリの縁端領域、特に縁端領域にある導体がボードアセンブリの 固定の結果、例えばボードアセンブリを保持具内に固定するとき損傷することで ある。固定は別の欠点として、ボードアセンブリが加速又は減速のときに大きな 力により保持具の中ですべるため、縁端領域の導体に損傷が生じ、位置変更によ って検査を中断せざるを得ないという危険をはらんでいる。 本発明ではボードアセンブリが加速又は減速過程を吸収する必要がないから、 この危険が確実に回避される。 2.更に検査されるボードアセンブリの固定位置で間隔測定を例えばレーザ三 角測量法により高い精度で行うことができる。 3.常に一定重量の部品即ちX線源及び検出器が移動されるから、公知の装置 と対照的に移動機構を夫々検査されるボードアセンブリに適応させる必要がない 。このため夫々異なる重量のボードアセンブリの検査で高い精度、大きな迅速性 及び大きな柔軟性が生じる。 4.運動範囲がはるかに小さいので、本発明装置の構造は在来の装置に比して 必要場所がはるかに少ない。 5.個々の検査段階のサイクル時間は、運動させられるアセンブリ質量の振動 の消滅のために従来必要な不活動待機時間を含まない。また順守する最高加速又 は減速によってサイクル時間が妨げられることもない。 6.背の高い部品及び不利な重心を有する部品は、はんだ接合部の機械的安定 性に関してまったく問題がない。 6.米国特許第5259012号で公知の装置と比較して、検査されるボード アセンブリの帯域幅が大きい。例えば70〜500mmの範囲の長さ、50〜5 00mmの範囲の幅、0.5〜3mmのボードアセンブリ厚さを有する部品を、 測定配置を前もって調整をせずに、本発明装置で検査することができる。更に本 発明装置によって500×500mmの検査面で検査が可能である。その場合検 査ごとに調べられる検査窓は約6.2cm2の大きさを有する。 7.本発明によれば焦点直径約20〜40μmの市販の微小焦点X線管を使用 することができる。例えば米国特許第5259012号に記載された装置のよう に大きな高価なX線管は必要でなく、このようなX線管の複雑な制御も不要であ る。さらに本発明に基づき使用されるX線管のために真空ポンプと冷却装置は不 要である。 8.以下に更に例示するように、本発明装置によって印刷回路基板の個々の部 品を3次元的に検査することも可能である。 X線検出器をたやすく移動することができるように、検出器は小さな重量を有 することが好ましい。好適な実施形態によればX線検出器は高分解能CCD チップが取り付けられた超高分解能テーパである。受けたX線を可視光に変換す るために、検出器はさらにシンチレータを具備する。本発明によると、検出器は 高分解能検出器であり、即ち35mm×35mmの大きさで約1000×100 0個のピクセルを有することが好ましい。高い分解能のために、検出器をアセン ブリの直下に約5cm以下の間隔で配設することができる。このため被検体に入 射するX線の直径が僅かしか拡大されない。しかも検出器の分解能が高いので、 こうした拡大によって検査精度は阻害されない。この特殊な検出器の使用によっ て、本発明装置は一層コンパクトに設計される。 この構造に基づき、X線源が唯1つの小さな焦点直径によってX線を放出する ことは必要でない。本発明によれば、焦点直径約20μm〜40μmの微小焦点 管が十分な画質をもたらす。拡大された焦点直径を有するX線管の使用は、より 多くの光子を放出し、それによって良好な信号雑音比と良好な画質をもたらすか ら有利である。 本発明によれば、X線源の移動の際に、X線管自体と典型的には10〜100 kVの範囲内のX線加速電圧の供給のための電源を含む高圧部品が移動させられ るが、使用電圧又は出力の変更のための制御装置は制御ボックスに静止して格納 される。 あらゆる測定で同じ部品であるX線管と検出器が移動されるから、移動部品の X線管及び検出器に対する調整は1回だけ行えばよい。調整は公知の校正法で行 われる。 次に添付の図面を参照して、本発明を詳述する。 図1は発明の原理の説明のための本発明装置の概略図を示す。 図2は被検体の3次元解析に適用した斜め投影の撮影のための本発明装置の応 用を示す。 図1は本発明の第1の実施形態の概略図を示す。図1で参照符号1はX線管を 表し、参照符号2はX線検出器を表し、参照符号3は部品4を実装した検査され るボードアセンブリを表す。X線管は可動保持具に取付けられ、X及びY方向に 移動させることができる。 図1に示す装置は例えば印刷回路基板上のはんだ接合部の全自動100%X 線検査に使用される。 ボードアセンブリ3はハウジングに固定され、このプロセスの間に働く力がは んだ接合部に損傷をもたらすことがないように十分ゆっくりと検査室に送り込ま れる。次にボードアセンブリ3がはんだ接合部検査の間にもはや移動しないよう に、不動に位置決めされる。検査域のボードアセンブリの任意の部分を記録する ために、X線管1と検出器2がX及びY方向に互いに平行に移動させられる。検 出ユニット2は図示しないカメラシステムを具備する。検査プロセスの間にボー ドアセンブリ3の対応領域はX線ビームで照射され、吸収されたX線ビームが検 出器により可視光に変換される。カメラシステムによってX線像が記録され、評 価のために計算装置へ伝送される。 はんだ接合部検査の初めに、ボードアセンブリの実装データが読み取られる。 実装データ(CADデータ)は、どの部品がどの回転角でどの位置に位置決めさ れているかを定義する。この情報に基づき記録された各X線像に対する物体分解 能を考慮して、部品のはんだ接合部がX線像のどこに結像されているかを正確に 決定することができる。 計算装置では基礎になるCADデータを用いて、像に現れるはんだ接合部の像 が「切り取られ」、続いて画像解析ユニットへ送られる。 ボードアセンブリの実装密度に応じて、ボードアセンブリのどの用途でも数千 個のはんだ接合部がある。この部品のための検査プログラムを作成する技術者は 、理論的には個々のはんだ接合部ごとにに検査パラメータを設定しなければなら ない。この対話式入力は時間がかかるだけでなく、エラーが生じやすい。特に、 最小の擬似すべり分を保証する正しい調整(許容差、閾値等)を見いだすことは 非常に困難である。そこで本発明の好適な実施形態によれば、パラメータがひと りでに見つかるように、システムがプログラムされる。このことは明らかに時間 を節約し、利用者の対話を必要としない。この実施形態では閾値/許容差の決定 が現実に極めて近く、利用者は僅か数か所で修正するだけである。 そこで、この好適な実施形態によれば、その後の画像解析のためにはんだ接合 部検査の2つのモードが利用可能である。 学習モード 使用される一組の検査アルゴリズムがイメージバッファによって画像解析ユニ ットに転送される。これらアルゴリズムによって個別はんだ接合部に対する特徴 ベクトルが発生される。この特徴ベクトルはこのはんだ接合部のみを記述し、同 種の他のはんだ接合部は記述しない。この特徴ベクトルは別のボードの同じはん だ接合部のベクトルによって最適化され、幾つかの無欠陥のはんだ接合部を検査 した後に、無欠陥のはんだ接合部を統計的に代表する特徴ベクトルが発生される 。同種の部品を備えたボードを新たに検査するときに学習過程を省略することが できるように、この特徴ベクトルをパッド及び部品に関して検査データベースに ストアすることができる。これらのベクトルは部品を特定したボードアセンブリ データにもストアされる。 検査モード 検査モードでは、パッド・イメージバッファの像評価ユニット、検査アルゴリ ズムの組、及び学習された特徴ベクトルが許容される変動と共に伝達される。 得られた特徴ベクトルと学習されたベクトルが所定の許容差の範囲内で相関す るならば、はんだ接合部は無欠陥と分類され、そうでない場合は欠陥として分類 される。 なお検査アルゴリズムの組は固定的に与えられず、部品に関して限定する必要 はない。利用者は自由に新しいアルゴリズムをシステムに追加して組み込み、あ るいは必要に応じて検査から除外することができる。 使用される検査プロセスにより部品の下記の欠点を突き止めることができる。 一方でははんだの品質不良、例えばキャビティ、ブローアウト、くぼみ、部品の 結合の欠如及び/又は不良、部品の接触不良、はんだ量の過大又は過小、はんだ ブリッジ(短絡)、(例えば導体又は接続部の間の)すず粒及びその他のすず残 留物であり、他方では実装品の品質不良、例えば部品欠如、ねじれた又はずれた 部品、あまりに高く配置された部品、曲った又はずれたリードである。検査可能 な部品の種類はTHT(“Through Hole Technology”スルーホール技術)、S MD(“Surface Mounted Devices”表面実装デバイス)及びBGA(“Ball Gr id Array”ボールグリッド・アレー)である。 検査域のその他のボードアセンブリ部分を記録するためにX線ビーム管1と検 出器2が再びX及びY方向に互いに平行に移動され、一方、ボードアセンブリは 不動に位置決めされている。ボードアセンブリの全検査域が検査されるまで、こ のプロセスが実行される。その際、パスマーク及び/又はメッキされたスルーホ ールの位置の自動評価によって個々のボードアセンブリの個々の部分の位置の識 別が行われる。 また本発明装置においては、図2に示すように斜め透照を行うために、X線管 1とX線検出器2を互いに逆向きに移動することも可能である。それによって断 層撮影合成法の範囲内で3次元断層撮影に適した断面像を作ることができる。断 層撮影合成法に必要な間隔測定はレーザ三角測量装置で行うことが好ましい。 検査過程の間にボードアセンブリを移動しないことによって、部品特有の重量 はボードアセンブリの上下振動の形態に影響しない。こうして一方では振動の消 滅のための待機時間が必要でなく、他方ではボードアセンブリの表面との間隔測 定を高い精度で行うことができる。間隔測定のこの高い精度は3次元断層撮影合 成法で特に有利に影響する。 検査プロセスの終了の後に、このプロセスの間に働く力がはんだ接合部の損傷 をもたらすことがないように、ボードアセンブリ3を十分ゆっくりと検査室から 取り出される。 本発明によれば、検出器をZ方向(アセンブリの表面の垂線と平行)に移動す るための付加的機構を設けることができる。それによって物体分解能の部品特有 の調整が得られる。これは2次元検査でも3次元検査でも到達可能な検査速度の 最適化をもたらす。例えば比較的粗いはんだ接合部構造を有するアセンブリ又は 部品を相応に高い面積処理量で検査することができるからである。
【手続補正書】 【提出日】平成11年11月4日(1999.11.4) 【補正内容】 (1)明細書翻訳文2ページ28〜29行目 複雑な機械的構造 を、 測定装置の複雑な機械的構造 に補正する。 (2)明細書翻訳文5ページ16行目 帯域幅が大きい。 を、 範囲が広い。 に補正する。 (3)明細書翻訳文6ページ14行目 10〜100kVの範囲内 を、 約10〜100kVの範囲内 に補正する。 (4)明細書翻訳文7ページ18行目 どの用途でも を、 どのパネルでも に補正する。 (5)明細書翻訳文8ページ11行目 ボードアセンブリデータにもストアされる。 を、 ボードアセンブリデータファイルにもストアされる。 に補正する。 (6)明細書翻訳文8ページ21行目 部品の下記の欠点を… を、 ボードアセンブリの下記の欠点を… に補正する。 (7)明細書翻訳文8ページ23行目 結合の欠如及び を、 ぬれ(wetting)の欠如及び に補正する。 (8)明細書翻訳文9ページ3行目 ボードアセンブリの全検査域 を、 ボードアセンブリ3の全検査域 に補正する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,KE,LS,MW,S D,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG ,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM,AT ,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA, CH,CN,CU,CZ,DE,DK,EE,ES,F I,GB,GE,GH,HU,IL,IS,JP,KE ,KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS, LT,LU,LV,MD,MG,MK,MN,MW,M X,NO,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE ,SG,SI,SK,TJ,TM,TR,TT,UA, UG,US,UZ,VN,YU,ZW (72)発明者 グローマン,クリストフ ドイツ連邦共和国 ディー―53945 ブラ ンケンハイム,ミュルハイマー ハイド 4 (72)発明者 ハンケ,ランドルフ ドイツ連邦共和国 ディー―90766 フュ ース,ユンケルシュトラーセ 14 (72)発明者 ハファー,デトレフ ドイツ連邦共和国 ディー―90427 ニュ ルンベルグ,サイモン―シェッフェルシュ トラーセ 18

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.被検体の検査域の水平寸法と比較して小さな視野を有するX線ビーム管( 1)と、被検体の検査域の水平寸法と比較して小さな視野を有する検出器(2) を有する被検体(3)の検査装置において、X線ビーム管(1)及び検出器(2 )が被検体の全検査域の検査のためにX−Y平面内で移動し得るように配設され ていることを特徴とする装置。 2.被検体(3)が被検体の検査の間不動である保持具に固定されていること を特徴とする請求項1に記載の装置。 3.計算装置が検出器(2)に接続されていることを特徴とする請求項1又は 2に記載の装置。 4.計算装置に解析ユニットが接続されていることを特徴とする請求項3に記 載の装置。 5.X線ビーム管(1)が10μm以上の焦点直径を有する微小焦点管である ことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1つに記載の装置。 6.検出器(2)がテーパ上に配設されたCCDチップであることを特徴とす る請求項1ないし5のいずれか1つに記載の装置。 7.被検体(3)の2次元検査に適合することを特徴とする請求項1ないし6 のいずれか1つに記載の装置。 8.被検体(3)の3次元検査に適合することを特徴とする請求項7に記載の 装置。 9.被検体が印刷回路基板及び/又は実装した印刷ボードアセンブリであるこ とを特徴とする請求項1ないし8のいずれか1つに記載の装置。 10.印刷回路基板及び/又は実装した印刷ボードアセンブリのはんだ接合部 のX線検査のための請求項1ないし9のいずれか1つに記載の装置の使用。 11.印刷回路基板及び/又は実装した印刷ボードアセンブリ上のはんだ接合 部の全自動100%X線検査のための請求項10に記載の使用。 12.請求項4に従属する場合、学習モードにある像解析ユニットは検査アル ゴリズムの組を伝達し、これらのアルゴリズムよにって、個々のはんだ接合 部に対する特徴ベクトルを発生し、他の印刷回路基板及び/又は実装した印刷ボ ードアセンブリからのこのはんだ接合部のベクトルによって、生じる特徴ベクト ルが無欠陥のはんだ接合部を統計的に代表するように最適化されることを特徴と する請求項10に記載の使用。 13.検査モードにおいて、パッド・イメージバッファ、検査アルゴリズムの 組及び許容差を含む学習された特徴ベクトルが像解析ユニットに送られ、はんだ 接合部の検査のために許容差を含む学習された特徴ベクトルと検査されるはんだ 接合部との間の相関が決定されることを特徴とする請求項12に記載の使用。
JP54334998A 1997-04-14 1997-09-09 被検体の検査装置及び装置の使用 Pending JP2002508833A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19715502 1997-04-14
DE19715502.2 1997-04-14
PCT/DE1997/002024 WO1998046982A1 (de) 1997-04-14 1997-09-09 Vorrichtung zur inspektion von testobjekten und verwendung der vorrichtung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002508833A true JP2002508833A (ja) 2002-03-19

Family

ID=7826446

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP54334998A Pending JP2002508833A (ja) 1997-04-14 1997-09-09 被検体の検査装置及び装置の使用

Country Status (6)

Country Link
EP (1) EP0975953B1 (ja)
JP (1) JP2002508833A (ja)
AT (1) ATE262678T1 (ja)
AU (1) AU4698197A (ja)
DE (3) DE19781755D2 (ja)
WO (1) WO1998046982A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006322799A (ja) * 2005-05-18 2006-11-30 Shimadzu Corp X線撮影装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4809308A (en) * 1986-02-20 1989-02-28 Irt Corporation Method and apparatus for performing automated circuit board solder quality inspections
US5097492A (en) * 1987-10-30 1992-03-17 Four Pi Systems Corporation Automated laminography system for inspection of electronics
US5621811A (en) * 1987-10-30 1997-04-15 Hewlett-Packard Co. Learning method and apparatus for detecting and controlling solder defects
US5259012A (en) * 1990-08-30 1993-11-02 Four Pi Systems Corporation Laminography system and method with electromagnetically directed multipath radiation source
JP3092828B2 (ja) * 1992-04-30 2000-09-25 株式会社日立製作所 X線透過像検出によるはんだ付け検査方法とその装置
US5594768A (en) * 1994-05-12 1997-01-14 Kabushiki Kaisha Toshiba Laminograph and inspection and repair device using the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006322799A (ja) * 2005-05-18 2006-11-30 Shimadzu Corp X線撮影装置
JP4561990B2 (ja) * 2005-05-18 2010-10-13 株式会社島津製作所 X線撮影装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP0975953B1 (de) 2004-03-24
WO1998046982A1 (de) 1998-10-22
DE19781755D2 (de) 2000-05-11
ATE262678T1 (de) 2004-04-15
DE29716196U1 (de) 1997-11-13
AU4698197A (en) 1998-11-11
DE59711452D1 (de) 2004-04-29
EP0975953A1 (de) 2000-02-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7099432B2 (en) X-ray inspection apparatus and X-ray inspection method
US7130375B1 (en) High resolution direct-projection type x-ray microtomography system using synchrotron or laboratory-based x-ray source
EP0355128B1 (en) Automated laminography system for inspection of electronics
US7215736B1 (en) X-ray micro-tomography system optimized for high resolution, throughput, image quality
JP5444718B2 (ja) 検査方法、検査装置および検査用プログラム
WO2009084581A1 (ja) X線検査装置およびx線検査方法
KR870008499A (ko) 회로 기판 검사 장치 및 그 방법
JP4386812B2 (ja) X線検査装置
GB2387223A (en) Confirming electrical connection defects
GB2396541A (en) X-ray laminography system comprising a non-planar anode target
US5500886A (en) X-ray position measuring and calibration device
CN111247424A (zh) 检查位置确定方法、三维图像生成方法以及检查装置
US20080247505A1 (en) Xray device for planar tomosynthesis
CN115427797A (zh) 检查装置
US6823040B1 (en) X-ray inspection method and apparatus used for the same
JP2002508833A (ja) 被検体の検査装置及び装置の使用
JP4449596B2 (ja) 実装基板検査装置
JP5569061B2 (ja) X線検査方法、x線検査装置およびx線検査プログラム
JP5125297B2 (ja) X線検査装置およびx線検査方法
JP3690786B2 (ja) X線断層撮像装置
Adams X-ray laminography analysis of ultra-fine-pitch solder connections on ultrathin boards
JPH02138854A (ja) X線断層像撮影装置
JP2713287B2 (ja) X線断層撮影方法及びその装置
WO2021215217A1 (ja) 検査装置
JPH01265145A (ja) X線検査装置