JP2002500206A - エチレンプラント冷凍システム - Google Patents

エチレンプラント冷凍システム

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Abstract

(57)【要約】 エチレンプラント用の冷凍システムは、低圧脱メタン装置(12)及びメタン及びエチレン又はメタン及びエタンの混合物でなる二元冷媒(20)を使用する。冷媒組成はシステムを通して一定であり、また、冷媒をメタン−リッチ二元冷媒(140)及びエチレン−又はエタン−リッチ二元冷媒(142)に分割するためにセパレーター(88,108,120,128)が使用される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は、エチレンプラントの冷却要求をまかなう冷凍システムに係る。さら
に詳述すれば、本発明は、エチレンプラントにおける冷却のためのメタン及びエ
チレン混合物でなる二元冷媒の使用に関連する。
【0002】 エチレンプラントは、クラッキングヒーター流出物から所望の生成物を分離す
るために冷凍を必要とする。代表的には、C3冷媒、通常プロピレン、及びC2
媒、代表的にはエチレンが使用される。特に低圧脱メタン装置(ここでは、より
低い温度が要求される)を使用するシステムでは、しばしば、独立したメタン冷
凍システムも使用される。このように、最低温度から最高温度までの範囲では、
3個の独立した冷凍システムが要求される。吸引ドラム、独立した交換器、配管
等を備えた3個のコンプレッサー及びドライバーシステムが要求される。また、
メタン冷凍サイクルは、しばしば、往復運動コンプレッサー(低圧脱メタン装置
の使用による資本コストの節約を部分的に相殺する)を必要とする。
【0003】 混合冷媒システムは、長年工業的によく知られている。これらのシステムでは
、より広い温度範囲で冷凍を提供するように、シングル冷凍システムにおいて多
数の成分が使用され、これにより、1つの複合冷凍システムを多数の純粋成分カ
スケード冷凍システムの代りに使用することを可能にしている。これらの複合冷
凍システムは、ベース負荷液体天然ガスプラントにおいて幅広い用途が見られる
。複合冷凍システムのエチレンプラント設備への適用に関しては論文に記載され
ているが、かかるシステムは冷媒における成分の多様性のため操作が繁雑である
。また、これらは、−40℃又はより暖かいプロピレン冷凍コンプレッサーサイ
クル温度範囲ではあまり有効ではない。
【0004】 従って、本発明の目的は、低圧脱メタン装置を有するエチレンプラント用の簡
略化した冷凍システムを提供することにあり、該冷凍システムは、プロピレン(
又はプロパン)冷凍システムに対して、二元冷媒としてメタン及びエチレン、又
はメタン及びエタンの混合物を使用する。このシステムは、独立したメタン及び
エチレン冷凍システム(従来のプラントではプロピレン冷凍システムと組み合わ
せて使用され、1つのコンプレッサーシステムを節約する)に代わって使用され
る。冷媒組成はシステムを通して一定であり、また、二元冷媒を部分的にフラッ
シュし、1以上の熱交換器における独立した循環のためにメタンリッチストリー
ム及びエチレンリッチストリームに分割するためにセパレーターが使用される。
本発明の冷凍システムの目的、配置及び利点は下記の記載から明らかになるであ
ろう。
【0005】 本発明は、熱分解ガスを、初めにメタン及び水素を除去するために処理し、つ
いで常法に従って処理して、プロピレン及びいくつかの他の副生成物と共に、エ
チレンを製造及び分離するエチレンプラントを包含する。低温での凝縮及び分別
を介するエチレンプラントにおけるガスの分離は、広い温度範囲にわたる冷凍を
要求する。エチレンプラントの冷凍システムに係る資本コストは、プラントコス
ト全体の重要な部分をなす。従って、冷凍システムに関する資本の節約はプラン
トコスト全体に重大な影響を及ぼす。
【0006】 高圧脱メタン装置を有するエチレンプラントは2.758MPaより高い圧力で操作さ
れ、純粋成分エチレン冷凍に対して、凝縮により塔頂還流を生成する。これらの
システムの脱メタン装置塔頂温度は、代表的には、−85ないし−100℃の範囲 である。塔頂凝縮器を冷却するため、代表的には、約−101℃のエチレン冷凍が 使用される。2.758Mpa以下の圧力では、塔頂温度は、真空吸引が使用されない限
り、エチレン冷凍を使用するには低すぎる。しかも、資本コストの増大及び潜在
的な空気のシステムへの漏れによる安全性のため、これは望ましいものではない
【0007】 本発明は、低圧脱メタン装置及び二元冷媒システムの使用を包含する。本発明
の目的に関して、低圧脱メタン装置は、約2.41MPa以下、一般に0.345−1.034MPa
の範囲の圧力及び−200ないし−235℃の範囲の塔頂温度で作動するものである。
低圧脱メタン装置の利点は、プラント電力の全体要求が低いこと及びプラントの
全体資本コストが低いことであり、一方、欠点は、より低い冷凍温度が要求され
、従って、独立したメタン冷凍コンプレッサーが必要になることである。
【0008】 本発明の二元冷媒はメタン及びエチレンの混合物でなる。メタンとエチレンと
の割合は、エチレンプラントクラッキングフィードスットク、クラッキングシビ
アリティー、チリングトレイン圧力及び冷媒の性質等に左右されるが、通常、1
0:90−50:50の範囲、さらに一般的には20:80−40:60の範囲
である。メタン及びエチレン、又はメタン及びエタンの二元冷媒をプロピレン又
はプロパン冷凍システムと共に使用することは、低圧脱メタン装置を有するエチ
レンプラントについて要求される冷凍負荷及び温度をまかない、同時に、メタン
、エチレン及びプロパンの3つの各冷媒に関する必要性を排除できる。
【0009】 二元冷媒は、かかる冷凍レベルをまかなう必要性がないため、高圧脱メタン装
置と共には使用されない。純粋成分エチレン冷凍システムの単なる代用物として
二元冷凍システムを使用する必要性はない。それは、より高価であり、複雑であ
る。エチレン及びプロピレン冷凍システムの両方に代わって混合冷媒システムを
使用することが提案されているが、エチレンよりも軽質の少なくとも1の成分、
たとえばメタンを必要とする。従って、これは少なくとも三元システムである。
プロピレンよりも重質の成分、たとえばC4成分をさらに使用すること(従って 、システムは通常少なくとも四元冷媒システムである)は通常より経済的である
【0010】 本発明の目的は、一般に水素及びメタンを分離し、脱メタン装置用のフィード
を提供するために必要なチャージガスの冷凍を提供することにある。図1に示す
本発明の具体例を参照すれば、チャージガスフィード2(必要に応じて調整され
かつ冷却された熱分解ガスである)は、代表的には、温度約−35ないし−37
℃、圧力約3.45MPaであり、代表的には既に一部液化されている。
【0011】 チャージガス2を、熱交換器4、6、8及び10において、後述するように、
本発明の冷凍システムによってを徐々に冷却し、分離して、脱メタン装置フィー
ドを生成する。熱交換器4、6、8及び10は、代表的には、ろう付けアルミニ
ウム交換器(プレートフィン又はコア交換器とも称される)であり、より少ない
ユニットに物理的に結合され又はより多いユニットに拡大され得る。脱メタン装
置12では、C1及びより軽質の成分、主にメタン及び水素が、C2及びより重質
の成分から分離される。脱メタン装置12からのネットの塔頂生成物14を、後
述するように、冷凍システムにおける冷却ストリームとして使用する。脱メタン
装置からの塔底生成物16も、後述するように、冷凍システムの他の部位におけ
る冷却ストリームとして使用される。
【0012】 次に、冷凍システム自体については、上述のようにメタン及びエチレンの混合
物でなる二元冷媒を冷凍コンプレッサー18によって約3.0−4.0MPaの範囲 の圧力まで圧縮する。後述の表において、本発明の1つの特別な実施例に関する
比圧力及び温度を示す。圧縮した二元冷媒20を、22及び24において、たと
えば冷却水又は他の冷たいストリームよって冷却し、さらに26において、たと
えばプロピレン冷媒によって約−30ないし−40℃の範囲の温度まで冷却する
。液体二元冷却剤を受容器又はアキュムレーター28で集める。
【0013】 受容器28からの冷却剤30を、さらに32において、脱メタン装置12から
の塔底生成物16との熱交換によって、又は他の冷たいストリームを加熱し、こ
れにより温度を低下させることによって冷却する。熱交換器32から34におい
て排出された脱メタン装置塔底生成物を、エチレン、プロピレン及び他の副生成
物の製造及び分離のための一般的な脱エタン装置に送る。
【0014】 ついで、熱交換器32からの二元冷媒36を、一連の熱交換器4、6、8、1
0及び11の第1番目に送る。熱交換器4−10は、熱分解装置からのチャージ
ガスの冷却を行なう熱交換器である。熱交換器11は、脱メタン装置への還流を
まかなう。
【0015】 初めに熱交換器4を参照すれば、二元冷媒36を熱交換コイル46を通過させ
て冷却する。ついで、二元冷媒を48において取り出し、膨張弁50を介して圧
力を低下させることによって温度を低下させる。この冷却した二元冷媒部分を、
ついで熱交換コイル52を通って戻す。膨張弁50は、熱交換器4において冷却
されたチャージガスストリーム54の温度に応答して制御され、これによって、
熱交換コイル52内の冷媒の温度を制御する。熱交換コイル52の二元冷媒は熱
を吸収し、蒸発又は入ってきたストリーム36よりも低い1−5℃の範囲の温度
まで過熱される。コイル52からの蒸発した冷媒56は吸引ドラム58に入り、
ここから、冷媒蒸気ストリーム60が二元冷凍コンプレッサー18に供給される
。後に参照する他の吸引ドラム84、102、130と同様に、吸引ドラム58は、潜
在的なコンプレッサーの損傷を防止するように上記条件下で存在し得る何らかの
液体を分離するためにのみ存在する。システムの正常運転については必要ではな
い。
【0016】 50でのフラッシング前に冷却するために二元冷媒を熱交換器4を通過させる
理由は、固定フラッシュ圧力でフラッシュされる蒸気の割合を減少させることに
ある。このようにして、フラッシュされた液体はより冷たく、より冷たい温度で
より多い冷凍を提供できる。純粋成分冷媒については、フラッシュされた液体の
温度は、各種の一定のフラッシュ液体圧力について固定であり、フラッシュ前の
冷却からは何らネットのゲインは得られないであろう。この点は、他の熱交換器
6、8、10及び11についても同様に当てはまる。
【0017】 他の熱交換器6、8及び10と同様に熱交換器4においても、ストリーム62
、64及び66(それぞれ、水素、低圧メタン及び高圧メタンの低温ストリーム
である)によって追加の冷却が提供される。これらの低温ストリーム62、64
及び66は低温水素/メタン分離システム68からのものであり、脱メタン装置
12からの塔頂生成物14である。ネットの塔頂ストリーム66も熱交換器11
(脱メタン装置の還流凝縮器として働く)用の冷却を提供する。
【0018】 冷却されたチャージガス54はさらに70において冷却され、次の熱交換器6
に供給される。交換器70における冷却は脱メタン装置12のリボイリング及び
インターリボイリングでもよい。熱交換器4からの残りの冷却された二元冷媒7
2も、次の熱交換器6に供給される。 この熱交換器6は、入ってくる二元冷媒ストリーム72、出口の二元冷媒ストリ
ーム74、膨張弁78の後の二元冷媒ストリーム76、コイル81からの蒸発二
元冷媒ストリーム80及び出口のチャージガスストリーム82の温度を含む対応
するすべての温度が低い点を除き、熱交換器4と同じ態様で作動される。蒸発二
元冷媒80を吸引ドラム84に供給し、ついで、86において二元冷凍コンプレ
ッサー18に供給する。
【0019】 チャージガスストリーム82をセパレーター88に供給し、ここで冷却された
チャージガスを揮発性に乏しい脱メタン装置フィードストリーム90及び揮発性
に富む塔頂ストリーム92(メタン及び水素についてより濃縮されている)に分
離する。塔頂生成物92及び二元冷媒74は次の熱交換器8に入り、ここで同様
に冷却処理が続けられて、さらに冷却されたチャージガス94及び二元冷媒96
が生成される。再び、二元冷媒の一部は、膨張弁98及びコイル100を通り、吸 引ドラム102に至る。ついで、蒸気104を二元冷媒コンプレッサー18に供給する
。 熱交換器8も、熱交換器10からの蒸発二元冷媒ストリーム106によってさらに 冷却される。
【0020】 熱交換器8からのチャージガス94をセパレーター108に供給し、ここで、よ り揮発性の成分を塔頂生成物110として排出し、熱交換器10に供給する。この 塔頂生成物は水素及びメタンについてさらに濃縮されている。セパレーター108 からの塔底生成物を112において脱メタン装置12に供給する。
【0021】 熱交換器10において、膨張弁114を介する二元冷媒の追加部分の膨張及びコ イル116における蒸発によって冷却処理を続けて、上述の二元冷媒ストリーム106
を生成する。出口のチャージガス118をセパレーター120に供給する。その塔頂生
成物122は主に水素及びメタンである。塔頂生成物122を水素/メタン分離システ
ム68に供給し、ここで、水素及びメタンを低温で分離して水素ストリーム62
及び低圧のメタンストリーム64を生成する。セパレーター120からの塔底生成 物を124において脱メタン装置12に供給する。残りの二元冷媒ストリーム126を
、熱交換器11において、脱メタン装置のネットの塔頂生成物66によってさら
に冷却する。二元冷媒ストリーム126を133において膨張させ、熱交換器11内の
コイル135を介して戻して弁114からの冷媒と混合させる。
【0022】 脱メタン装置12からのグロスの塔頂ストリーム14は熱交換器11に入って
、ここで、部分的に凝縮される。この部分的に凝縮したストリーム127はセパレ ーター128に流入する。セパレーター128からの液体129は還流として脱メタン装 置12に戻る。セパレーター128からの塔頂生成物66は、今や、主にメタンで なるネットの脱メタン装置塔頂生成物であり、熱交換器11、10、8、6及び
4を通って戻されることによって再加熱される。脱メタン装置カラム12は、ス
テージの間に代表的なリボイラー及びインターリボイラー(図示していない)を
有する。脱メタン装置の塔底生成物16はC2及びより重質の成分である。リボ イリング及びインターリボイリングーは、代表的には、チャージガスの冷却によ
って、たとえば熱交換器70によって提供される。
【0023】 ストリーム106は吸引ドラム130に入り、ついで132において二元冷媒コンプレ ッサー18に入る。図1は4つの熱交換器4、6、8及び10を示しているが、
これらの熱交換器の数は特別なエチレンプロセスに関する特殊な要求及び特に特
別なチャージガスに応じて変更される。下記の表は、特別な1つの実施例に関す
る図1のプロセスフロースキームにおける各種の部位での、二元冷媒及び脱メタ
ン装置システムを含むチャージガス(プロセスガス)の温度及びいくつかの圧力
を表示するものである。
【0024】
【表1】 部 位 温 度(℃) 圧 力(MPa) 二元冷媒 28 −37 4.5 58 −48 1.6 84 −65 0.8 102 −75 0.5 130 −106 0.02 プロセスガス 66 −133 0.6 2 −37 3.5 62 −135 − 92 −72 − 110 −91 − 122 −132 − 本発明の二元冷媒システムの利点にいくつかについては既に述べたが、コンプ
レッサーシステムの数の低減及びメタン往復運動コンプレッサーに代えてすべて
の遠心又は軸コンプレッサーを使用できることが含まれる。他の利点は、二元冷
媒組成は3以上の成分を含有するより複雑な混合冷媒よりも維持が容易である点
にある。これは、システムのトリップ又はアップセット(冷媒を排出しなければ
ならない)の際に最も明白である。排出処理は、重質成分よりも多い冷媒の軽質
成分の損失を生ずる。これは成分の割合を変更させ、再スタート時には更正され
なければならない。冷媒組成がより複雑になればなるほど、割合の更正はより困
難である。
【0025】 図1に示した本発明の方法では、冷媒の組成は、方法を通して一定である。し
かしながら、図2に示した本発明の他の具体例では、二元冷媒の二元メタン−リ
ッチストリーム及び二元エチレン−リッチストリームへの分離が行われる。
【0026】 図2(変更された図1の部分のみを示す)において、膨張弁136がライン36 に配置してある。二元冷媒の圧力は低下し、一部は蒸発される。液化した部分及
び蒸気部分をフラッシュタンク138で分離し、これによって、蒸気部分140はメタ
ンリッチとなり、液体部分142はエチレン又はエタンリッチとなる。この図2の 具体例では、メタン−リッチストリーム140は熱交換器4、6、8及び10のす べてを通過し、ついで一部が144で膨張され、熱交換器10、8、6及び4のす べてを通ってストリーム146として戻される。交換器10からのストリーム140の
他の部分126は、交換器11において冷却され、133において膨張され、交換器1
1を通って戻され、交換器10の入口でストリーム146と合わされる。ついで、 出口のメタン−リッチ二元冷媒ストリーム146はコンプレッサー18の第1のス テージに戻される。エチレン−リッチストリーム142は、図2における二元冷媒 ストリームと同様に扱われ、一部は、第1の3つの熱交換器の各々を通過した後
、148、150及び152において取り出され、154、156及び158において膨張される。
ついで、膨張された部分は、熱交換器の1以上を通って戻されて、出口のエチレ
ン−又はエタン−リッチ二元冷媒ストリーム160、162及び164を生成し、これら はコンプレッサーの好適なステージに戻される。
【0027】 二元冷媒が分離される図2のスキームの利点は、コンプレッサー出口における
特定の二元冷媒組成についてコンプレッサー吸引部においてより高い圧力が可能
になることである。吸引圧力は、冷媒組成がメタンについてよりリッチであるた
めより高く、従って、固定の冷媒温度に関して、圧力はより高い。これは、コン
プレッサーの圧縮比がより低いことを意味しており、この結果、コンプレッサー
コストが減少する。
【0028】 図2のものの変形例は、ライン36に弁136を有していない。むしろ、ライン 36の圧力は低下され、その結果、ストリームは完全には液化されず、蒸気部分
はそのままである。セパレーター138は、メタン−リッチ蒸気部分から凝縮され た液体部分を分離する。この変形例は、コンプレッサー18がストリーム36に
ついて各種の一定のメタン−エチレン(又はメタン−エタン)組成に関してより
低いディスチャージ圧力をもつことを可能にする。コンプレッサー18に関する
全体の圧縮比は低下される。ストリーム36の流量は各種の一定のストリーム3
6の組成を補うために増大する。しかしながら、コンプレッサーコストは低減す
る。このスキームは、小型のエチレンプラント(コンプレッサー18の排出部に
おける実際のコンプレッサー容積が遠心コンプレッサーによって許容される下限
に近付く)には特に興味深いものである。
【0029】 図3は、図2に示した具体例と同様ではあるが、二元冷媒のための追加の分離
工程を伴う本発明のさらに他の具体例である。図示するように、図2の具体例に
おけると同じく138において第1の分離が行われる。メタン−リッチ二元冷媒蒸 気ストリーム140を熱交換器4を通過させて部分的に液化させ、ついでライン166
を通過させて追加の冷媒セパレーター170に送り、ここで、冷媒を再び第2のメ タン−リッチ蒸気ストリーム172及び第2のエチレン−又はエタン−リッチ液体 ストリーム174に分離する。メタン−リッチストリーム172はストリーム174及び ストリーム140よりもメタンについてリッチである。エチレン−又はエタン−リ ッチストリーム142は、図2の具体例と同じく熱交換器4を通過する。同様に、 第2のメタン−リッチストリーム172を第2の熱交換器6を通過させ、ついで他 の具体例におけると同じく低温の熱交換器に流入させ、ここで、ストリームを膨
張させ、熱交換器を通して戻す。第2のエチレン−又はエタン−リッチストリー
ム174を第2の熱交換器を通過させ、178において膨張させ、熱交換器を通って戻
す。この図3は、簡略化のため2つの熱交換器のみを示しているが、追加の熱交
換器及びセパレーター170と同様の追加のセパレーターが存在していてもよい。
【0030】 この図3に示すプロセスの変形の利点は、二元冷媒圧力が各種の一定の冷凍温
度においてより高いことである。これは、二元冷媒コンプレッサーにおける圧縮
比を低減させ、コンプレッサーの資本コストを減少させる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の冷凍システムの1具体例を示すエチレンプラントの一部の概略フロー
ダイアグラムである。
【図2】 図1と同様ではあるが、本発明の他の具体例を示す概略フローダイアグラムで
ある。
【図3】 図2の具体例の変形例を示す概略フローダイアグラムである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM ,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM) ,AL,AM,AT,AU,AZ,BA,BB,BG, BR,BY,CA,CH,CN,CZ,DE,DK,E E,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,HR ,HU,ID,IL,IN,IS,JP,KE,KG, KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT,LU,L V,MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI, SK,SL,TJ,TM,TR,TT,UA,UG,U Z,VN,YU,ZW (72)発明者 ウェイ ヴィタス ツアン アメリカ合衆国 テキサス 77063 ヒュ ーストン タングルワイルド 2100 (72)発明者 クロフォード ジョン ジェー アメリカ合衆国 ペンシルバニア 15108 コラオポリス リットン・ロード 215 (72)発明者 スタンレイ ステファン ジェー アメリカ合衆国 ニュージャージー 07747 マタワン ビー・モーガンヴィ ル・ロード 319 (72)発明者 マックナブ リチャード ジェー アメリカ合衆国 ニュージャージー 07869 ランドルフ カリス・ロード 33 Fターム(参考) 4H006 AA02 AA04 AC26 AD18 BD31 BD43 BD53 BD82

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水素、メタン、エチレン及び他のC2及びより重質の炭化水素を含有するチャ ージガスからエチレンを製造するプロセスであって、該プロセスは2.41MPa以下 の圧力で作動する低圧脱メタン装置を包含するものであり、前記チャージガスが
    冷凍システムによって冷却されるプロセスに当たり、前記冷凍システムにおいて
    二元冷媒の使用によって前記チャージガスを冷却する方法が、メタン及びエチレ
    ン、又はメタン及びエタンの混合物を圧縮して二元冷媒を生成し、一連の熱交換
    器を介して前記二元冷媒を徐々に膨張及び冷却させ、前記徐々に冷却した二元冷
    媒及びチャージガスを徐々に前記熱交換器において熱交換接触させて冷却し及び
    これによって前記水素及び前記メタンの一部を分離し、かつ前記エチレン及び他
    のC2及びより重質の炭化水素について濃縮された液体脱メタン装置フィードス トリームを生成し、前記液体脱メタン装置フィードストリームを前記低圧脱メタ
    ン装置に供給して、本質的にメタンでなるグロスの脱メタン装置塔頂ストリーム
    を生成し、前記グロスの脱メタン装置塔頂ストリームを前記徐々に冷却した二元
    冷媒と接触させて、脱メタン装置還流ストリーム及びネットの脱メタン装置塔頂
    ストリームを分離し、及び前記脱メタン装置還流ストリームを前記脱メタン装置
    に戻す工程を包含してなるものであることを特徴とする、冷却方法。
  2. 【請求項2】 前記ネットの脱メタン装置塔頂ストリームを前記熱交換器において前記チャー
    ジガスと熱交換接触させる、請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 前記熱交換器における冷却によって前記チャージガスから分離された前記水素
    を及び前記メタンの一部を低温分離に供して、水素ストリーム及びメタンストリ
    ームを生成し、該水素及びメタンストリームをそれぞれ前記熱交換器において前
    記チャージガスと熱交換接触させる、請求項1記載の方法。
  4. 【請求項4】 一連の熱交換器を介して前記二元冷媒を徐々に膨張及び冷却させる工程が、前
    記二元冷媒を前記熱交換器の1つを通過させ、この1つの熱交換器の通過後、前
    記二元冷媒の一部を膨張させ、この膨張した部分を前記1つの熱交換器を介して
    戻すと共に、前記二元冷媒の残りの部分を前記熱交換器の次の1つに送って通過
    させ、さらなる部分についての膨張及び前記さらなる部分を前記熱交換器を介し
    て戻す工程を繰り返し行なうことからなるものである、請求項1記載の方法。
  5. 【請求項5】 前記熱交換器を介して戻した後の前記二元冷媒の一部を、前記二元冷媒を圧縮
    する工程に戻す、請求項1記載の方法。
  6. 【請求項6】 前記熱交換器の各々によって分離された前記脱メタン装置フィードストリーム
    を、それぞれ前記脱メタン装置の異なったステージに供給する、請求項1記載の
    方法。
  7. 【請求項7】 さらに、前記二元冷媒をメタン−リッチ二元冷媒及びエチレン−又はエタン−
    リッチ二元冷媒に分離する工程を包含すると共に、前記徐々に冷却した二元冷媒
    を前記チャージガスと徐々に接触させる工程が、前記熱交換器において、前記チ
    ャージガスを前記メタン−リッチ二元冷媒及び前記エチレン−又はエタン−リッ
    チ二元冷媒と接触させることからなるものである、請求項1記載の方法。
  8. 【請求項8】 さらに、前記メタン−リッチ二元冷媒を第2のメタン−リッチ二元冷媒及び第
    2のエチレン−又はエタン−リッチ二元冷媒に分離する工程を包含すると共に、
    前記チャージガスを接触させる工程が、前記チャージガスを、前記第2のメタン
    −リッチ二元冷媒及び前記第2のエチレン−又はエタン−リッチ二元冷媒の各ス
    トリームと接触させることからなるものである、請求項7記載の方法。
  9. 【請求項9】 メタン及びエチレン、又はメタン及びエタンの前記混合物を圧縮する工程が、
    圧縮して液体−蒸気混合物を生成する工程を包含するものであり、前記液体−蒸
    気混合物を分離して、前記メタン−リッチ二元冷媒及び前記エチレン−又はエタ
    ン−リッチ二元冷媒を生成することを包含するものである、請求項7記載の方法
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