JP2002370171A - 電着砥石 - Google Patents

電着砥石

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JP2002370171A
JP2002370171A JP2001180324A JP2001180324A JP2002370171A JP 2002370171 A JP2002370171 A JP 2002370171A JP 2001180324 A JP2001180324 A JP 2001180324A JP 2001180324 A JP2001180324 A JP 2001180324A JP 2002370171 A JP2002370171 A JP 2002370171A
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JP
Japan
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grinding wheel
electrodeposition
amorphous carbon
abrasive grains
grinding
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JP2001180324A
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English (en)
Inventor
Kenichi Takeuchi
賢一 竹内
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FSK Corp
Original Assignee
FSK Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】研削時の被削材の切り粉による砥石の目詰まり
が抑制され、耐用命数が長い電着砥石を提供する。 【解決手段】 所要形状の台金1に、電着法による電着
層11によって砥粒2、2を固着して、砥石作用面3を
形成した電着砥石を対象とし、その砥石作用面3を非晶
質炭素で被覆したもので、具体的には、砥粒2、2の間
に存在する隙間の内面、例えば、少なくとも砥粒の側面
21、21、およびその間の台金面12の部分を被覆す
る非晶質炭素膜4を形成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、超硬合金、焼入れ
鋼等を研削加工するための電着砥石の改良に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】近年、産業用砥石は、使用されるいわゆ
るボンドの種類によって区分され、メタルボンド、レジ
ンボンド、ビトリファイドボンド、電着ボンドなどが代
表的である。このうち、電着法による電着砥石は、必要
形状に仕上げられた台金に、ダイヤモンドまたは立方晶
窒化ホウ素などの砥粒を、ニッケルプレーティングなど
の電着層によって固着することにより製造され、特に、
超硬合金、焼入れ鋼等を研削加工するための砥石として
好適である。
【0003】そして、これら電着砥石は、砥粒の突き出
し量が大きく、切れ味がよいという利点を持つので、過
酷な条件で使用されることが多い。例えば、超硬合金を
被削材として大きな切込みで乾式研削するような場合、
被削材の切り粉による砥粒間の目詰まりが激しく、電着
砥石本来の切れ味が低下してしまい、耐用命数が短くな
るという問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を解決するためになされたものであり、研削時の被削
材の切り粉による砥石の目詰まりが抑制され、耐用命数
が長い電着砥石を提供する。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の問題は、所要形状
の台金に電着法により砥粒を固着して、砥石作用面を形
成した電着砥石であって、その砥石作用面を非晶質炭素
で被覆したことを特徴とする本発明の電着砥石によっ
て、解決することができる。そして、この本発明は、前
記非晶質炭素がPVD法またはCVD法により被覆され
た非晶質炭素膜である形態や、その非晶質炭素膜の摩擦
係数が、大きくとも0.2である形態に好ましく具体化
される。
【0006】
【発明の実施の形態】次に、本発明の電着砥石に係る実
施形態について、図1、2を参照しながら説明する。本
発明では、所要形状の台金1に、電着法による電着層1
1によってダイヤモンドまたは窒化ホウ素の砥粒2、2
を固着して、砥石作用面3を形成した電着砥石をその対
象としているが、砥粒2、2の種類やその固着手法を特
に限定するものではなく、従来の方法により製造した電
着砥石のすべてに適用可能である。
【0007】そして、本発明の特徴とするところは、断
面を模式的に表す図1のように、その砥石作用面3を非
晶質炭素で被覆した点にある。すなわち、具体的には、
砥粒2、2の間に存在する隙間の内面、例えば、少なく
とも砥粒の側面21、21、およびその間の隙間12の
部分を被覆する、厚さ1.0〜20μmの非晶質炭素膜
4を形成したものである。
【0008】この非晶質炭素膜4は、物理蒸着法(PV
D法)あるいは化学蒸着法(CVD法)等公知の手法を
利用することができる。この場合、得られる非晶質炭素
膜4の膜厚は1〜20μmの範囲、好ましくは1〜4μ
mの範囲に設定するのがよい。
【0009】さらに、この非晶質炭素膜4の表面の摩擦
係数は、本発明の目的を達成する観点から大きくとも
0.2であることが好ましい。なお、この場合の摩擦係
数は、電着の台金となる平板材料の表面に非晶質炭素膜
を設けた試験板と、非晶質炭素膜を設けていない試験板
とを摺動させて測定し、求められる値であり、本発明の
非晶質炭素膜は、このようにして測定した摩擦係数が
0.2を超えないような製作条件に基づいて製作され
る。
【0010】また、ダイヤモンド砥粒を使用する場合に
は、炭素膜被覆工程における電着砥石の加熱温度を、好
ましくは500℃以下、さらに好ましくは250℃以下
とし、加熱によるダイヤモンド砥粒の劣化を抑えるのが
よい。
【0011】さらに、この非晶質炭素膜4の硬度は、ビ
ッカース硬度で1000以上とすることが好ましい。研
削時に被削材から発生する切り粉との摩擦による炭素膜
の摩耗を抑制するためである。また、前記蒸着方法によ
る非晶質炭素膜4は、砥粒の側面のみならず表面にも形
成されることになる。このため、研削時、初期の切れ味
が低下することがあるが、それを避けたければ、非晶質
炭素膜4の被覆後に、ドレッシング用スチックを軽く当
てて、砥粒の表面を被覆する炭素膜部分を除去すればよ
い。
【0012】以上説明した本発明の電着砥石では、電着
砥石の砥石作用面において、砥粒間の隙間は、低摩擦係
数の炭素膜で被覆されているため、研削によって被削材
から発生した切り粉が一旦、前記砥粒間の隙間に入り込
んでも、排出されやすく、砥石の目詰まりが少なくなる
という利点が得られるのである。
【0013】
【実施例】 (実施例1)図2に示す形状の軸5と砥石
作用面3を備えた、たジグ研削用軸付砥石を電着法によ
り製造した。砥粒はダイヤモンドの120メッシュを使
用した。この電着砥石の電着部表面である砥石作用面に
非晶質炭素膜(厚さ:4μm、ビッカース硬度:100
0)を生成させた。なお、この場合の電着砥石の台金
は、ステンレス鋼(SUS304)とし、この台金と同
じSUS304の平板に非晶質炭素膜を生成させた試験
板と、単なるSUS304の試験板とを摺動させて測定
した摩擦係数は0.18であった。
【0014】得られたこの軸付砥石を用いて、超硬合金
(K10種)のジグ研削テストを行った。研削条件は次
の通りである。 砥石回転数:52000rpm 切り込み:5mm 送り:0.7mm/分 被削材1個あたりの研削体積:196.25mm3 研削液:なし(エアブローによる乾式研削) この条件で従来の電着砥石と本発明の電着砥石について
研削テストを行った結果、従来の電着砥石では10個研
削すると目詰まりが発生し、研削を続けることができな
かったが、本発明の電着砥石は100個加工後も目詰ま
りの発生はなく、切れ味の低下も殆どなかった。
【0015】(実施例2)粒度200メッシュの立方晶
窒化ホウ素砥粒を用いて、電着ホイールを製造した。こ
の電着ホイールの電着部表面である砥石作用面に非晶質
炭素膜(厚さ:4μm、ビッカース硬度:1000)を
生成させた。なお、この場合、電着ホイールの台金は炭
素鋼(S45C)であり、この台金と同じS45Cの平
板に非晶質炭素膜を生成させた試験板と単なるS45C
の試験板とを摺動させて測定した摩擦係数は、0.16
であった。
【0016】得られたこの電着ホイールを用いて焼入れ
鋼(SKD11)の平面研削テストを行った。研削条件
は次の通りである。 砥石周速:1800m/min 切り込み:0.1mm テーブル送り:10m/min 研削体積:1000cm3 研削液:ソリュブル この条件で従来の電着砥石と本発明の電着砥石について
研削比を測定した結果、従来の電着砥石では160であ
ったのに対し、本発明の電着砥石は370であった。
【0017】
【発明の効果】本発明の電着砥石は、以上説明したよう
に構成されているので、電着砥石表面に形成した非晶質
炭素皮膜の潤滑効果により、研削時に発生した切り粉の
排出が容易となり、砥石面の目詰まりが大幅に改善され
た。その結果、連続して加工できる被削材の数が大幅に
伸びるなど、砥石の耐用命数を大幅に伸ばすことが可能
となるという優れた効果のほか、研削比も向上するとい
う効果も得られた。よって本発明は、従来の問題点を解
消した電着砥石として、工業的価値はきわめて大なるも
のがある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電着砥石を説明するための模式的要部
断面図。
【図2】実施例1を示す一部切欠き断面図。
【符号の説明】
1 台金、11 電着層、12 隙間、2 砥粒、21
側面、3 砥石作用面、4 非晶質炭素膜。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所要形状の台金に電着法により砥粒を固
    着して、砥石作用面を形成した電着砥石であって、その
    砥石作用面を非晶質炭素で被覆したことを特徴とする電
    着砥石。
  2. 【請求項2】 砥粒がダイヤモンドまたは窒化ホウ素の
    砥粒である請求項1に記載の電着砥石。
  3. 【請求項3】 前記非晶質炭素がPVD法またはCVD
    法により被覆された非晶質炭素膜である請求項1または
    2に記載の電着砥石。
  4. 【請求項4】前記非晶質炭素膜の摩擦係数が、大きくと
    も0.2である請求項3に記載の電着砥石。
JP2001180324A 2001-06-14 2001-06-14 電着砥石 Pending JP2002370171A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008075512A1 (ja) * 2006-12-21 2008-06-26 Ihi Corporation 砥石
JP2012192487A (ja) * 2011-03-16 2012-10-11 Mitsubishi Materials Corp 切断ブレード
JP2012223868A (ja) * 2011-04-21 2012-11-15 Mitsubishi Materials Corp 切断ブレード

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JP2012192487A (ja) * 2011-03-16 2012-10-11 Mitsubishi Materials Corp 切断ブレード
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Effective date: 20040402