JP2002367771A - Organic electroluminescent element - Google Patents

Organic electroluminescent element

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JP2002367771A
JP2002367771A JP2001169250A JP2001169250A JP2002367771A JP 2002367771 A JP2002367771 A JP 2002367771A JP 2001169250 A JP2001169250 A JP 2001169250A JP 2001169250 A JP2001169250 A JP 2001169250A JP 2002367771 A JP2002367771 A JP 2002367771A
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JP
Japan
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resin
organic electroluminescent
substrate
electrode
sealing plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001169250A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Ikeda
武史 池田
Shigeo Fujimori
茂雄 藤森
Toru Kohama
亨 小濱
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic electroluminescent element, and its manufacturing method, which can enough and stably restrain enlargement with time of dark spots. SOLUTION: With the organic electroluminescent element comprising a first electrode 2 formed on a substrate 1, a thin-film layer including a luminous layer 6 at least made of an organic compound formed on the first electrode, a second electrode 8 formed on the thin-film layer, and a sealing plate 21 with an adhesive and a substrate pasted together, Ia/Ib in an infrared ray absorption spectrum is to be not more than 3, provided, absorption intensity derived from alkane appearing between 2,800 and 3,000 cm<-1> is Ia, and absorption intensity derived from amine, amide appearing between 3,200 and 3,500 cm<-1> is Ib.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表示装置、フラッ
トパネルディスプレイ、バックライト、インテリアなど
の分野に利用可能な有機電界発光素子およびその製造方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic electroluminescent device that can be used in fields such as display devices, flat panel displays, backlights, and interiors, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】有機電界発光素子は陽極から注入された
正孔と陰極から注入された電子とが両極に挟まれた有機
発光層内で再結合することにより発光するものである。
その代表的な構造は、ガラス基板上に透明な第一電極
(陽極)、正孔輸送層、有機発光層、第二電極(陰極)
を積層したものであり、駆動により生じた発光は第一電
極およびガラス基板を通じて外部に取り出される。さら
に有機電界発光素子を用いて表示装置として構成させる
ことができる。このような有機電界発光素子では薄型、
低電圧駆動下での高輝度発光や、有機発光材料を選択す
ることによる多色発光が可能であり、発光デバイスやデ
ィスプレイなどに応用する検討が盛んである。
2. Description of the Related Art An organic electroluminescent device emits light when holes injected from an anode and electrons injected from a cathode are recombined in an organic light emitting layer sandwiched between both electrodes.
A typical structure is a transparent first electrode (anode), hole transport layer, organic light emitting layer, and second electrode (cathode) on a glass substrate.
The light emission generated by the driving is extracted to the outside through the first electrode and the glass substrate. Further, a display device can be configured using an organic electroluminescent element. Such an organic electroluminescent device is thin,
High luminance light emission under low voltage driving and multicolor light emission by selecting an organic light emitting material are possible, and studies on application to light emitting devices, displays, and the like are being actively conducted.

【0003】有機電界発光素子における問題点の1つと
して、ダークスポットと呼ばれる非発光部分の面積が経
時的に大きくなることが挙げられる。このような特性劣
化を引き起こす原因は水分であることが知られている。
すなわち、水分が第二電極の欠陥などから有機薄膜層内
に浸入し、素子を不活性化するものである。
One of the problems in the organic electroluminescent device is that the area of a non-light-emitting portion called a dark spot increases with time. It is known that the cause of such characteristic deterioration is moisture.
That is, moisture enters the organic thin film layer due to a defect of the second electrode or the like, and inactivates the element.

【0004】このようなダークスポットの拡大を防止す
るためには、有機電界発光素子を低湿度雰囲気下に保つ
ことが必要であり、通常は水分等の外的環境から素子を
保護する目的で封止手段が用いられている。該手段は素
子と封止板とを接着剤を介して貼り合わせる方法を始め
とし、酸化物やフッ化物等の水分遮蔽性を有する保護膜
を薄膜層上に形成する方法、乾燥剤を封止素子内部に封
入する方法など多岐にわたる。接着剤としては、耐湿性
の光硬化樹脂を用いる方法(特開平5−182759号
公報)、低融点ガラスをレーザービームで加熱溶融させ
る方法(特開平10−74583号公報)、カチオン硬
化型紫外線硬化エポキシ樹脂を用いる方法(特開平10
−233283号公報)がある。
[0004] In order to prevent such dark spots from expanding, it is necessary to keep the organic electroluminescent device in a low humidity atmosphere. Usually, the organic electroluminescent device is sealed for the purpose of protecting the device from an external environment such as moisture. Stop means are used. The means include a method of bonding an element and a sealing plate via an adhesive, a method of forming a protective film having a moisture shielding property such as an oxide or a fluoride on a thin film layer, and a method of sealing a desiccant. There is a wide variety of methods, such as encapsulation inside the device. As the adhesive, a method using a moisture-resistant photocurable resin (JP-A-5-182759), a method of heating and melting a low-melting glass with a laser beam (JP-A-10-74583), a cation-curing type ultraviolet curing Method using epoxy resin
233283).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術では接着剤の水分遮蔽能の低下による素子内部への水
分侵入や樹脂を硬化させるために付加する熱や紫外線に
よる素子劣化、また水分遮蔽能を有する無機保護膜では
成膜時に素子にダメージを与え易いなど多くの問題点が
あり、ダークスポットの拡大を充分に抑制することは出
来なかった。
However, in the prior art, the penetration of water into the inside of the device due to a decrease in the moisture shielding capability of the adhesive, the deterioration of the device due to heat or ultraviolet rays added for curing the resin, and the moisture shielding capability are reduced. The inorganic protective film has many problems such as easy damage to the element at the time of film formation, and the enlargement of dark spots cannot be sufficiently suppressed.

【0006】本発明はかかる問題を解決し、ダークスポ
ットの経時的拡大を十分かつ安定に抑制することが可能
な有機電界発光素子を提供することが目的である。
It is an object of the present invention to solve such a problem and to provide an organic electroluminescent device capable of sufficiently and stably suppressing the temporal expansion of a dark spot.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に形成
された第一電極と、第一電極上に形成された少なくとも
有機化合物からなる発光層を含む薄膜層と、薄膜層上に
形成された第二電極と、接着剤で基板と貼り合わされた
封止板とを含む有機電界発光素子であって、硬化後の接
着剤の赤外線吸収スペクトルにおいて、2800乃至3
000cm-1に現れるアルカンに由来する吸収強度をI
a、3200乃至3500cm-1に現れるアミン、アミ
ドに由来する吸収強度をIbとすると、Ia/Ib比が
3以下であることを特徴とする有機電界発光素子であ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a first electrode formed on a substrate, a thin film layer formed on the first electrode, the light emitting layer comprising at least an organic compound, and a thin film layer formed on the thin film layer. An organic electroluminescent device including the second electrode thus formed and a sealing plate bonded to the substrate with an adhesive, wherein the cured adhesive has an infrared absorption spectrum of 2800 to 3
The absorption intensity derived from the alkane appearing at 000 cm -1
a, where the absorption intensity derived from amines and amides appearing at 3200 to 3500 cm −1 is represented by Ib, the Ia / Ib ratio is 3 or less.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下では本発明を詳しく説明する
が、本発明は例示した形式や構造をもつ有機電界発光素
子の製造方法に限定されるわけではない。したがって、
単一発光素子、セグメント型、単純マトリクス型、アク
ティブマトリクス型などの発光素子の形式や、カラー、
モノクロなどの発光色数を問わず任意の構造の有機電界
発光素子に適用することが可能である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited to a method of manufacturing an organic electroluminescent device having the exemplified form and structure. Therefore,
Single light emitting element, segment type, simple matrix type, active matrix type and other light emitting element types, colors,
The present invention can be applied to an organic electroluminescent device having an arbitrary structure irrespective of the number of emission colors such as monochrome.

【0009】本発明における有機電界発光素子の構成部
材には、例えば図1に示す素子では、基板1、封止板2
1、接着手段22など封止内部空間23に接するすべて
の部材が含まれる。素子構成によっては、配線、コネク
ター、引き出し電極、素子表面を覆う保護フィルムなど
も含まれる場合があり、構成部材は特に限定されるわけ
ではない。
The components of the organic electroluminescent device according to the present invention include, for example, a substrate 1 and a sealing plate 2 in the device shown in FIG.
1, all the members in contact with the sealing internal space 23, such as the bonding means 22, are included. Depending on the element configuration, a wiring, a connector, a lead electrode, a protective film covering the element surface, and the like may be included, and the constituent members are not particularly limited.

【0010】本発明の封止用接着剤は、硬化後の樹脂の
赤外線吸収スペクトルを測定したとき、2800乃至3
000cm-1に現れるアルカンに由来する吸収強度をI
a、3200乃至3500cm-1に現れるアミン、アミ
ドに由来する吸収強度をIbとする時、Ia/Ib比が
3以下であることが必要である。より好ましくは2.7
以下である。Ia/Ib比は硬化樹脂中のアミノ基、ア
ミド基密度の大きさの指標となる。このアミノ基、アミ
ド基密度が大きい程、硬化後の樹脂の耐熱性、耐薬品
性、接着強度が良好であり、有機電界発光素子の封止樹
脂として非常に優れた特性を示す。例えば接着剤が2液
混合型で、主剤がエポキシ樹脂、硬化剤がアミン系樹脂
の場合、主剤100(g)に対する硬化剤の添加量は、
計算上は(アミン当量/エポキシ当量)×100(g)
が妥当であるが、硬化剤の添加量を加減することにより
硬化後の樹脂の耐熱性や可撓性を調節させることが可能
である。具体的には、硬化剤の添加量(g)は当量計算
による値の±20%の範囲内であることが好ましい。
The sealing adhesive of the present invention has an infrared absorption spectrum of 2800 to 3
The absorption intensity derived from the alkane appearing at 000 cm -1
a, when the absorption intensity derived from amines and amides appearing at 3200 to 3500 cm −1 is defined as Ib, the Ia / Ib ratio needs to be 3 or less. More preferably 2.7
It is as follows. The Ia / Ib ratio is an index of the density of amino groups and amide groups in the cured resin. The higher the amino group and amide group densities, the better the heat resistance, chemical resistance, and adhesive strength of the cured resin, and exhibit extremely excellent properties as a sealing resin for an organic electroluminescent device. For example, when the adhesive is a two-liquid mixed type, the main agent is an epoxy resin, and the curing agent is an amine resin, the amount of the curing agent added to 100 (g) of the main agent
The calculation is (amine equivalent / epoxy equivalent) × 100 (g)
However, the heat resistance and flexibility of the cured resin can be adjusted by adjusting the amount of the curing agent added. Specifically, the addition amount (g) of the curing agent is preferably within a range of ± 20% of the value calculated by the equivalent.

【0011】本発明では接着剤は室温以上において安定
な接着強度を保持する樹脂が用いられ、2液混合型のエ
ポキシ樹脂が好適なものとしてあげられる。2液混合型
のエポキシ樹脂は、硬化反応時の水分発生が無く、金属
やガラス基板との接着強度が高いことから有機電界発光
素子の封止用接着剤として非常に好適な接着剤である。
主剤のエポキシ樹脂としては、ビスフェノールA系、ノ
ボラック系、ポリフェノール系、ボリヒドロキシベンゼ
ン系、ビニルポリマー系、芳香族カルボン酸系、シクロ
ヘキセン系などさまざまなものがあるが、硬化条件にお
ける制約がない限り、いずれのものでも用いることがで
きる。
In the present invention, a resin that maintains stable adhesive strength at room temperature or higher is used as the adhesive, and a two-pack type epoxy resin is preferred. A two-component epoxy resin is a very suitable adhesive as an adhesive for sealing an organic electroluminescent element because it does not generate moisture during a curing reaction and has a high adhesive strength to a metal or a glass substrate.
As the epoxy resin of the main agent, there are various resins such as bisphenol A type, novolak type, polyphenol type, polyhydroxybenzene type, vinyl polymer type, aromatic carboxylic acid type, and cyclohexene type. Any of them can be used.

【0012】硬化剤としては、脂肪族アミン、芳香族ア
ミン、第二および第三アミン、複素環状ジアミン変性
物、(ポリ)アミドアミン、などのアミン類があげられ
るが、本発明は特に(ポリ)アミドアミン系硬化剤を用
いることが好ましい。
Examples of the curing agent include amines such as aliphatic amines, aromatic amines, secondary and tertiary amines, modified heterocyclic diamines, and (poly) amidoamines. It is preferable to use an amidoamine-based curing agent.

【0013】本発明における(ポリ)アミドアミン系硬
化剤とは、(ポリ)アミンと(ポリ)カルボン酸から合
成される分子内に活性アミノ基を有する、オリゴマーか
らポリマー領域に広がる分子量を持つアミド系硬化剤の
ことを指す。
The (poly) amidoamine-based curing agent in the present invention is an amide-based curing agent having an active amino group in a molecule synthesized from a (poly) amine and a (poly) carboxylic acid and having a molecular weight extending from an oligomer to a polymer region. Refers to a curing agent.

【0014】また本発明における硬化剤は、(ポリ)ア
ミドアミン以外にも、硬化促進剤として、あるいは、硬
化物の機械的強度、耐熱性等の物性を改良するために、
脂肪族アミン、芳香族アミン、第二および第三アミン、
複素環状ジアミン変性物等のアミン類、無水フタル酸、
無水マレイン酸等の酸無水物、メルカプタン基を有する
ポリスルフィッド樹脂等が含まれていてもよい。
The curing agent according to the present invention may be used as a curing accelerator in addition to the (poly) amidoamine, or to improve the physical properties of the cured product such as mechanical strength and heat resistance.
Aliphatic amines, aromatic amines, secondary and tertiary amines,
Amines such as modified heterocyclic diamines, phthalic anhydride,
An acid anhydride such as maleic anhydride, a polysulfide resin having a mercaptan group, or the like may be contained.

【0015】(ポリ)アミドアミン硬化剤は、疎水基と
親水基を同時に有するため非接着物への塗れ性が高く、
密着性が良好である。このため、(ポリ)アミドアミン
系硬化剤を封止用接着剤に用いた場合、封止板あるいは
基板と接着剤との密着性が高くなり、水分が外部から封
止空間へと浸入することを効果的に抑制することができ
る。また疎水基を有することから、通常のアミン系硬化
物等に比べて水分遮蔽性に優れ、樹脂中の水分拡散を効
果的に抑制することができる。さらに、室温においてエ
ポキシ樹脂(主剤)との硬化が可能であることから、樹
脂硬化のための加熱の必要が無く、有機薄膜層への熱的
損傷の恐れがない。
[0015] The (poly) amidoamine curing agent has both hydrophobic and hydrophilic groups, so that it has high wettability on non-adhesives.
Good adhesion. For this reason, when a (poly) amidoamine-based curing agent is used for the sealing adhesive, the adhesion between the sealing plate or the substrate and the adhesive is increased, and it is necessary to prevent water from entering the sealing space from the outside. It can be suppressed effectively. Further, since it has a hydrophobic group, it has excellent moisture shielding properties as compared with ordinary amine-based cured products and the like, and can effectively suppress the diffusion of moisture in the resin. Furthermore, since curing with an epoxy resin (main agent) is possible at room temperature, there is no need for heating for curing the resin, and there is no risk of thermal damage to the organic thin film layer.

【0016】さらに本発明では樹脂密着性を向上させる
ために、樹脂が硬化する時に基板と封止板とを貼り合わ
せる方向に圧力をかける手段を用いることができ、基板
あるいは封止板と樹脂との密着性向上のためには効果的
である。圧力を付加することにより被接着物表面の微少
な凹凸部に樹脂が入り込み、密着性が向上する。付加す
る圧力の大きさは、少なくとも0.01kg/cm2
上10kg/cm2以下であることが望ましい。圧力を
付加する方法としては、機械的に圧力を加える方法、封
止を行う処理室を満たすガスや液体等の媒質に静水圧を
付加する方法などいずれの方法でも構わない。
Further, in the present invention, means for applying pressure in the direction in which the substrate and the sealing plate are bonded to each other when the resin is cured can be used to improve the resin adhesion. Is effective for improving the adhesiveness of the film. By applying pressure, the resin penetrates into minute irregularities on the surface of the adherend, and the adhesion is improved. The size of the additional pressure is preferably at least 0.01 kg / cm 2 or more 10 kg / cm 2 or less. As a method for applying pressure, any method such as a method for applying pressure mechanically or a method for applying hydrostatic pressure to a medium such as a gas or a liquid filling a processing chamber for sealing may be used.

【0017】また基板あるいは封止板と樹脂とが形成す
る界面状態は非常に重要であり、多くの場合樹脂硬化時
に接着界面に歪み応力が発生し、この歪み応力により接
着界面が剥離を起こすことがある。そこで、接着界面の
密着性を向上させるための工程が重要になってくる。
The state of the interface between the substrate or the sealing plate and the resin is very important. In many cases, a stress is generated at the bonding interface when the resin is cured, and the bonding stress causes the separation of the bonding interface. There is. Therefore, a process for improving the adhesion at the bonding interface becomes important.

【0018】上記圧力をかける方法の他に、樹脂密着性
を向上させるための方法としては、基板、封止板にプラ
イマー処理を施すことが効果的である。プライマー処理
とは、樹脂と基板、樹脂と封止板界面の親和性を高める
ために、基板、封止版表面の接着剤を塗布する箇所に予
め下地処理をすることである。
In addition to the above-mentioned method of applying pressure, as a method for improving the resin adhesion, it is effective to apply a primer treatment to the substrate and the sealing plate. The primer treatment means that the surface of the substrate or the sealing plate is preliminarily treated with an adhesive in order to increase the affinity of the interface between the resin and the substrate and between the resin and the sealing plate.

【0019】プライマーの好適な例としては、シラン系
カップリング剤を溶剤で希釈したものが挙げられる。溶
剤としては、アルコール類、トルエン、キシレン、酢酸
エチル、メチルエチルケトン、アセトンなどを用いるこ
とができ、シランカップリング剤を希釈する場合、1〜
20%程度希釈したものを好適なものとして用いること
ができる。プライマー処理方法は、基板あるいは、封止
板表面にプライマーを塗布、乾燥させるだけで良いが、
プライマー塗布前に基板、封止板を溶剤等で清掃すると
さらに密着性が向上する。
Preferred examples of the primer include those obtained by diluting a silane coupling agent with a solvent. As the solvent, alcohols, toluene, xylene, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, acetone and the like can be used, and when diluting the silane coupling agent, 1 to
What was diluted about 20% can be used as a suitable thing. As for the primer treatment method, it is only necessary to apply the primer on the substrate or the sealing plate surface and dry it,
If the substrate and the sealing plate are cleaned with a solvent or the like before applying the primer, the adhesion is further improved.

【0020】シラン系カップリング剤は、樹脂、被接着
物それぞれとの親和性を持つために少なくとも2種類以
上の官能基をもつことが好ましい。特に樹脂がエポキシ
樹脂を含むときは、少なくとも官能基の一つにエポキシ
基を持つことが好ましく、基板、封止板がガラスや金属
など無機化合物の場合はメトキシ基やエトキシ基等のア
ルコキシ基を持つことが好ましい。
The silane coupling agent preferably has at least two or more types of functional groups in order to have an affinity for the resin and the adherend. Particularly when the resin contains an epoxy resin, it is preferable that at least one of the functional groups has an epoxy group.When the substrate or the sealing plate is an inorganic compound such as glass or metal, an alkoxy group such as a methoxy group or an ethoxy group is preferably used. It is preferable to have.

【0021】樹脂の透水率や吸水率をさらに小さくする
ためには、接着樹脂にフィラーを混入することができ
る。フィラーはシリカなどの無機材料からなる微小粒子
であり、粒子の大きさや形状、混入割合は特に制限され
るものではなく、必要に応じて最適化される。
In order to further reduce the water permeability and the water absorption of the resin, a filler can be mixed into the adhesive resin. The filler is a fine particle made of an inorganic material such as silica, and the size, shape, and mixing ratio of the particle are not particularly limited, and are optimized as needed.

【0022】封止樹脂の硬化条件は、室温での硬化に限
定されるわけではなく、必要に応じて有機電界発光素子
を劣化させない範囲で温度条件を選択できるのはもちろ
んである。さらに樹脂と封止板との密着性を向上させる
ためには、封止板を適当な溶剤を用いて洗浄したり、U
V処理を施して封止板の表面を清浄化する方法などが効
果的である。
The curing condition of the sealing resin is not limited to the curing at room temperature, but it is needless to say that the temperature condition can be selected as needed within a range that does not deteriorate the organic electroluminescent element. In order to further improve the adhesion between the resin and the sealing plate, the sealing plate may be washed with an appropriate solvent,
A method of performing a V treatment to clean the surface of the sealing plate is effective.

【0023】本発明における封止方法としては基板と封
止板とを貼り合わせればよく、特に限定されない。した
がって、封止内部空間を低湿度の液体やガスで満たすこ
とができる。前者の例としてはシリコーン系オイルやグ
リース、フッ化炭素系オイルなどの不活性液体が挙げら
れる。後者の例としてはヘリウム、アルゴンなどの希ガ
ス類、窒素、二酸化炭素などの不活性ガスが挙げられ
る。また、封止空間内部を真空に保持することも可能で
ある。
The sealing method in the present invention is not particularly limited as long as the substrate and the sealing plate are bonded together. Therefore, the sealed internal space can be filled with a low-humidity liquid or gas. Examples of the former include inert liquids such as silicone oil, grease, and fluorocarbon oil. Examples of the latter include rare gases such as helium and argon, and inert gases such as nitrogen and carbon dioxide. Further, the inside of the sealed space can be kept at a vacuum.

【0024】封止空間を低湿度ガスで満たす上記の方法
においては基板と封止板とを低湿度雰囲気下で貼り合わ
せることで、容易に達成することができる。十分な封止
効果を得るためには、低湿度雰囲気の露点は−30℃以
下であることが好ましく、−60℃以下、さらには−1
00℃以下であればより好ましい。
The above method of filling the sealing space with a low-humidity gas can be easily achieved by bonding the substrate and the sealing plate in a low-humidity atmosphere. In order to obtain a sufficient sealing effect, the dew point in a low humidity atmosphere is preferably -30 ° C or lower, -60 ° C or lower, and more preferably -1 ° C or lower.
It is more preferable that the temperature is not higher than 00 ° C.

【0025】封止板にはガラス、樹脂、あるいはアルミ
ニウムやステンレス等の金属など水分透過率の小さい材
料を板状もしくはフィルム状に形成したものを用いるこ
とができる。これらは単独系であっても、例えばポリエ
チレンなどの樹脂フィルム上にアルミニウムなどの金属
を蒸着した複合系であってもよい。
As the sealing plate, a plate or film formed of a material having low moisture permeability such as glass, resin, or a metal such as aluminum or stainless steel can be used. These may be a single type or a composite type obtained by depositing a metal such as aluminum on a resin film such as polyethylene.

【0026】本発明では封止板21の形状は特に限定さ
れず、図2に示すような凹部24を形成したり、図3に
示すような脚部25を形成するなどして、基板と封止板
との接着位置を規定することもできる。このようにする
ことで、封止内部空間23にガスやオイルを満たした
り、吸湿剤を設けるための容積を確保することもでき
る。同様の効果は接着手段の厚みを大きくすることなど
によっても得ることができる。さらに本発明の封止法を
用いれば、必要に応じてあらかじめ封止板表面に、吸湿
効果を有するゲッター膜などを形成したり、反射防止効
果を有する黒色膜あるいは光吸収膜を形成しておくこと
もできる。前記吸湿剤としてはシリカゲル、ゼオライ
ト、活性炭、酸化カルシウム、酸化ゲルマニウム、酸化
バリウム、酸化マグネシウム、五酸化リン、塩化カルシ
ウムなどを、前記ゲッター膜としてはアルミニウム、マ
グネシウム、バリウム、チタンなどの金属蒸着膜を例示
することができる。
In the present invention, the shape of the sealing plate 21 is not particularly limited, and the sealing plate 21 may be sealed with the substrate by forming a recess 24 as shown in FIG. 2 or a leg 25 as shown in FIG. The position to be bonded to the stop plate can be defined. By doing so, it is also possible to secure a volume for filling the sealing internal space 23 with gas or oil or for providing a moisture absorbent. Similar effects can be obtained by increasing the thickness of the bonding means. Furthermore, if the sealing method of the present invention is used, a getter film having a moisture absorbing effect or the like, or a black film or a light absorbing film having an anti-reflection effect is formed on the surface of the sealing plate in advance as necessary. You can also. As the hygroscopic agent, silica gel, zeolite, activated carbon, calcium oxide, germanium oxide, barium oxide, magnesium oxide, phosphorus pentoxide, calcium chloride and the like, and as the getter film aluminum, magnesium, barium, titanium and other metal deposited film. Examples can be given.

【0027】基板と封止板との接着位置についても特に
限定されず、接着手段が素子全体を覆うように位置して
もよいが、発光の安定性の観点からは接着手段が発光領
域に接しないように位置していることが好ましい。さら
に、電力供給の観点からは、第一電極および第二電極そ
れぞれの一部分が外部に露出するように封止されること
が好ましい。また、基板に設けられたスルーホールを通
じて電極を取り出すことも可能である。
The bonding position between the substrate and the sealing plate is not particularly limited, and the bonding means may be positioned so as to cover the entire device. However, from the viewpoint of light emission stability, the bonding means is in contact with the light emitting region. It is preferable that they are not located. Furthermore, from the viewpoint of power supply, it is preferable that each of the first electrode and the second electrode is sealed so as to be exposed to the outside. Further, it is also possible to take out the electrode through a through hole provided in the substrate.

【0028】基板の材料は、表示または発光素子として
機能するに適した光学的透明性、機械的強度、耐熱性な
どを有するものであれば、材質は特に限定されない。ポ
リメチルメタクリレート、ポリカーボネート、無定形ポ
リオレフィンなどのプラスチック板やフィルム類を用い
ることができるが、ガラス板を用いるのが最も好まし
い。ガラスの材質については、無アルカリガラスや、酸
化珪素膜などのバリアコートを施したソーダライムガラ
スなどが使用できる。厚みは機械的強度を保つのに十分
な厚みがあればよいので、0.2mm以上あれば十分で
ある。なお、上記第一電極もしくは基板には、公知技術
を用いて反射防止機能を付加することができる。
The material of the substrate is not particularly limited as long as it has optical transparency, mechanical strength, heat resistance and the like suitable for functioning as a display or a light emitting element. Although plastic plates and films such as polymethyl methacrylate, polycarbonate and amorphous polyolefin can be used, it is most preferable to use a glass plate. As the glass material, non-alkali glass, soda lime glass coated with a barrier coat such as a silicon oxide film, or the like can be used. Since the thickness only needs to be sufficient to maintain the mechanical strength, it is sufficient that the thickness is 0.2 mm or more. In addition, an antireflection function can be added to the first electrode or the substrate by using a known technique.

【0029】有機電界発光素子に含まれる薄膜層として
は、1)正孔輸送層/発光層、2)正孔輸送層/発光層
/電子輸送層、3)発光層/電子輸送層、そして4)以
上の組合せ物質を一層に混合した形態の発光層、のいず
れであってもよい。すなわち、素子構成として有機化合
物からなる発光層が存在していれば、上記1)〜3)の
多層積層構造の他に4)のように発光材料単独または発
光材料と正孔輸送材料や電子輸送材料を含む発光層を一
層設けるだけでも良い。
The thin film layers included in the organic electroluminescent device include 1) a hole transport layer / a light emitting layer, 2) a hole transport layer / a light emitting layer / an electron transport layer, 3) a light emitting layer / an electron transport layer, and 4) And e) a light-emitting layer in which the above-mentioned combined substances are mixed in a single layer. That is, if a light-emitting layer made of an organic compound is present as an element configuration, a light-emitting material alone or a light-emitting material and a hole-transport material or an electron-transport, as described in 4), in addition to the multi-layer structure of 1) to 3) above Only one light-emitting layer containing a material may be provided.

【0030】正孔輸送層は正孔輸送性物質単独で、ある
いは正孔輸送性物質と高分子結着剤により形成される。
正孔輸送性物質としては、N,N’−ジフェニル−N,
N’−ジ(3−メチルフェニル)−1,1’−ジフェニ
ル−4,4’−ジアミン(TPD)やN,N’−ジフェ
ニル−N,N’−ジナフチル−1,1’−ジフェニル−
4,4’−ジアミン(NPD)などに代表されるトリフ
ェニルアミン類、N−イソプロピルカルバゾール、ビス
カルバゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、スチルベン系
化合物、ヒドラゾン系化合物、オキサジアゾール誘導体
やフタロシアニン誘導体に代表される複素環化合物、ポ
リマー系では前記単量体を側鎖に有するポリカーボネー
トやポリスチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポ
リシラン、ポリフェニレンビニレンなどが好ましいが、
特に限定されるものではない。
The hole transporting layer is formed of a hole transporting substance alone or a hole transporting substance and a polymer binder.
As the hole transporting substance, N, N'-diphenyl-N,
N'-di (3-methylphenyl) -1,1'-diphenyl-4,4'-diamine (TPD) and N, N'-diphenyl-N, N'-dinaphthyl-1,1'-diphenyl-
Triphenylamines represented by 4,4'-diamine (NPD), N-isopropylcarbazole, biscarbazole derivatives, pyrazoline derivatives, stilbene compounds, hydrazone compounds, oxadiazole derivatives and phthalocyanine derivatives Heterocyclic compounds, in the polymer system, polycarbonate and polystyrene derivatives having the monomer in the side chain, polyvinyl carbazole, polysilane, polyphenylene vinylene and the like are preferable,
There is no particular limitation.

【0031】第一電極上にパターニングして形成される
発光層の材料は、アントラセンやピレン、そして8−ヒ
ドロキシキノリンアルミニウムの他には、例えば、ビス
スチリルアントラセン誘導体、テトラフェニルブタジエ
ン誘導体、クマリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、
ジスチリルベンゼン誘導体、ピロロピリジン誘導体、ペ
リノン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、チアジアゾ
ロピリジン誘導体、ポリマー系では、ポリフェニレンビ
ニレン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、そしてポリ
チオフェン誘導体などが使用できる。また、発光層に添
加するドーパントとしては、ルブレン、キナクリドン誘
導体、フェノキサゾン660、DCM1、ペリノン、ペ
リレン、クマリン540、ジアザインダセン誘導体など
がそのまま使用できる。
The material of the light emitting layer formed by patterning on the first electrode is anthracene, pyrene, and 8-hydroxyquinoline aluminum, for example, bisstyrylanthracene derivative, tetraphenylbutadiene derivative, coumarin derivative, Oxadiazole derivatives,
A distyrylbenzene derivative, a pyrrolopyridine derivative, a perinone derivative, a cyclopentadiene derivative, a thiadiazolopyridine derivative, and a polymer system such as a polyphenylenevinylene derivative, a polyparaphenylene derivative, and a polythiophene derivative can be used. As the dopant to be added to the light emitting layer, rubrene, quinacridone derivative, phenoxazone 660, DCM1, perinone, perylene, coumarin 540, diazaindacene derivative, and the like can be used as they are.

【0032】電子輸送性物質としては、電界を与えられ
た電極間において陰極からの電子を効率よく輸送するこ
とが必要で、電子注入効率が高く、注入された電子を効
率よく輸送することが望ましい。そのためには電子親和
性が大きく、しかも電子移動度が大きく、さらに安定性
に優れ、トラップとなる不純物が製造時および使用時に
発生しにくい物質であることが要求される。このような
条件を満たす物質として8−ヒドロキシキノリンアルミ
ニウム(Alq3)、ヒドロキシベンゾキノリンベリリ
ウム、2−(4−ビフェニル)−5−(4−t−ブチル
フェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(t−Bu
PBD)などのオキサジアゾール系誘導体、薄膜安定性
を向上させたオキサジアゾール二量体系誘導体の1,3
−ビス(4−t−ブチルフェニル−1,3,4−オキサ
ジゾリル)ビフェニレン(OXD−1)、1,3−ビス
(4−t−ブチルフェニル−1,3,4−オキサジゾリ
ル)フェニレン(OXD−7)、トリアゾール系誘導
体、フェナントロリン系誘導体などがある。
As the electron transporting substance, it is necessary to efficiently transport electrons from the cathode between the electrodes to which an electric field is applied, and it is desirable to have a high electron injection efficiency and to efficiently transport the injected electrons. . For this purpose, it is required that the material has a high electron affinity, a high electron mobility, a high stability, and a small amount of impurities serving as traps during production and use. As materials satisfying such conditions, 8-hydroxyquinoline aluminum (Alq 3 ), hydroxybenzoquinoline beryllium, 2- (4-biphenyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiene Azole (t-Bu
Oxadiazole derivatives such as PBD) and 1,3 oxadiazole dimer derivatives having improved thin film stability
-Bis (4-t-butylphenyl-1,3,4-oxadizolyl) biphenylene (OXD-1), 1,3-bis (4-t-butylphenyl-1,3,4-oxadizolyl) phenylene (OXD- 7), triazole derivatives, phenanthroline derivatives and the like.

【0033】以上の正孔輸送層、発光層、電子輸送層に
用いられる材料は単独で各層を形成することができる
が、高分子結着剤としてポリ塩化ビニル、ポリカーボネ
ート、ポリスチレン、ポリ(N−ビニルカルバゾー
ル)、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリ
レート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレン
エーテル、ポリブタジエン、炭化水素樹脂、ケトン樹
脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂などの溶剤可溶
性樹脂や、フェノール樹脂、キシレン樹脂、石油樹脂、
ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、
アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂などの硬
化性樹脂などに分散させて用いることも可能である。
The above materials used for the hole transporting layer, the light emitting layer and the electron transporting layer can be used alone to form each layer. As the polymer binder, polyvinyl chloride, polycarbonate, polystyrene, poly (N- (Vinyl carbazole), polymethyl methacrylate, polybutyl methacrylate, polyester, polysulfone, polyphenylene ether, polybutadiene, hydrocarbon resins, ketone resins, phenoxy resins, polyurethane resins, and other solvent-soluble resins, phenol resins, xylene resins, petroleum resins,
Urea resin, melamine resin, unsaturated polyester resin,
It is also possible to use the resin dispersed in a curable resin such as an alkyd resin, an epoxy resin, and a silicone resin.

【0034】上記正孔輸送層、発光層、電子輸送層など
の有機層の形成方法は、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸
着、スパッタリング法などがある。特に限定されるもの
ではないが、通常は、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着な
どの蒸着法が特性面で好ましい。層の厚みは、有機層の
抵抗値にもよるので限定することはできないが、10〜
1000nmの間から選ばれる。
The method of forming the organic layers such as the hole transport layer, the light emitting layer, and the electron transport layer includes resistance heating evaporation, electron beam evaporation, and sputtering. Although not particularly limited, an evaporation method such as resistance heating evaporation or electron beam evaporation is usually preferable in terms of characteristics. The thickness of the layer cannot be limited because it depends on the resistance value of the organic layer.
It is selected from between 1000 nm.

【0035】第二電極となる陰極は、電子を本素子の発
光層に効率よく注入できる物質であれば特に限定されな
い。従って、アルカリ金属などの低仕事関数金属の使用
も可能であるが、電極の安定性を考えると、白金、金、
銀、銅、鉄、錫、アルミニウム、マグネシウム、インジ
ウムなどの金属、またはこれら金属と低仕事関数金属と
の合金などが好ましい例として挙げられる。また、あら
かじめ有機層に低仕事関数金属を微量ドーピングしてお
き、その後に比較的安定な金属を陰極として成膜するこ
とで、電極注入効率を高く保ちながら安定な電極を得る
こともできる。これらの電極の作製法も抵抗加熱蒸着、
電子ビーム蒸着、スパッタリング、イオンプレーティン
グ法などのドライプロセスが好ましい。
The cathode serving as the second electrode is not particularly limited as long as it can efficiently inject electrons into the light emitting layer of the device. Therefore, it is possible to use a low work function metal such as an alkali metal, but considering the stability of the electrode, platinum, gold,
Preferable examples include metals such as silver, copper, iron, tin, aluminum, magnesium and indium, and alloys of these metals with low work function metals. In addition, a stable electrode can be obtained while maintaining high electrode injection efficiency by doping the organic layer with a small amount of a low work function metal in advance and then forming a film of a relatively stable metal as a cathode. These electrodes are also manufactured by resistance heating evaporation,
Dry processes such as electron beam evaporation, sputtering, and ion plating are preferred.

【0036】[0036]

【実施例】以下、実施例および比較例を挙げて本発明を
説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるも
のではない。
The present invention will be described below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0037】実施例1 厚さ1.1mmの無アルカリガラス表面にスパッタリン
グ蒸着法によって厚さ130nmのITO透明電極膜が
形成されたITO基板を用意した。このITO膜をフォ
トリソ法を用いてパターニングした後、46mm×38
mmの大きさに切断して、基板中央部に幅12mmのI
TO膜(第一電極)が存在するようにパターニングして
基板を作製した。
Example 1 An ITO substrate having a 130 nm thick ITO transparent electrode film formed on a 1.1 mm thick non-alkali glass surface by sputtering was prepared. After patterning this ITO film using the photolithography method, 46 mm × 38
mm, and a 12 mm wide I
A substrate was fabricated by patterning so that a TO film (first electrode) was present.

【0038】この基板を洗浄してから蒸着機にセット
し、2×10-4Paの真空度まで排気した。15mm角
の開口部を有する発光層用シャドーマスクを配置した状
態で、水晶振動子による膜厚モニター表示値で銅フタロ
シアニン10nm、N,N’−ジフェニル−N,N’−
ジナフチル−1,1’−ジフェニル−4,4’−ジアミ
ン(α−NPD)50nmおよびトリス(8−キノリノ
ラト)アルミニウム(Alq3)50nmを蒸着した。そ
の後、薄膜層をリチウム蒸気に曝してドーピング(膜厚
換算量0.5nm)した。次に、5×12mmの開口部
を4つ有する第二電極用シャドーマスクに交換し、真空
度3×10-4Paでアルミニウムを120nmの厚さに
蒸着して、第二電極をパターニングした。このようにし
て基板上に4つの緑色発光領域を有する有機電界発光素
子を作製した。
After washing the substrate, it was set in a vapor deposition machine and evacuated to a vacuum of 2 × 10 −4 Pa. With the shadow mask for the light emitting layer having an opening of 15 mm square arranged, copper phthalocyanine 10 nm, N, N'-diphenyl-N, N'-
Dinaphthyl-1,1′-diphenyl-4,4′-diamine (α-NPD) 50 nm and tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq 3 ) 50 nm were deposited. After that, the thin film layer was exposed to lithium vapor to dope (0.5 nm in equivalent film thickness). Next, the mask was replaced with a second electrode shadow mask having four 5 × 12 mm openings, and aluminum was vapor-deposited to a thickness of 120 nm at a degree of vacuum of 3 × 10 −4 Pa to pattern the second electrode. Thus, an organic electroluminescent device having four green light emitting regions on the substrate was manufactured.

【0039】上記素子を蒸着機から取り出し、ロータリ
ーポンプによる減圧雰囲気下で20分間保持した後に、
露点−90℃のアルゴン雰囲気下に移した。該乾燥雰囲
気下で、封止樹脂として、主剤にフェノールノボラック
型エポキシ樹脂(”エピコート”152,ジャパンエポ
キシレジン社製)、硬化剤にポリアミドアミン系硬化剤
(”バーサミド”JP161,コグニスジャパン社製)
を重量比で、100:52の割合で混合し、十分攪拌し
た。この混合樹脂の硬化後の赤外線吸収スペクトルを測
定したところ、3305cm-1にアミン、アミドに由来
する吸収ピークと2923cm-1にアルカンに由来する
吸収ピークが観察され、上記アルカンに由来する吸収ピ
ーク強度をIa、アミンに由来する吸収ピーク強度をI
bとすると、Ia/Ib=2.5であった。この混合樹
脂を接着剤として、基板上の発光部分を取り囲む位置に
塗布し、無アルカリガラス製の封止板を貼り合わせて封
止した。この時、基板と封止板を貼り合わせる方向に
0.2kg/cm2の圧力を付加した。得られた素子を
温度80℃、相対湿度80%RHの湿熱雰囲気下に放置
したところ、封止直後に観察された非発光部分(ダーク
スポット)は150時間後も拡大しておらず、初期発光
特性を維持していた。
After taking out the above-mentioned element from the vapor deposition machine and holding it for 20 minutes in a reduced pressure atmosphere by a rotary pump,
The sample was transferred under an argon atmosphere at a dew point of -90 ° C. Under the dry atmosphere, as a sealing resin, a phenol novolak type epoxy resin ("Epicoat" 152, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) as a main component, and a polyamidoamine-based curing agent ("Versamide" JP161, manufactured by Cognis Japan Co., Ltd.) as a curing agent.
Were mixed in a weight ratio of 100: 52 and stirred sufficiently. The infrared absorption spectrum of the cured mixed resin was measured, the absorption peak derived from an alkane absorption peak and 2923cm -1 derived from 3305cm -1 amine, an amide is observed, the absorption peak intensity derived from the alkane Is Ia, and the absorption peak intensity derived from the amine is Ia
Assuming b, Ia / Ib = 2.5. The mixed resin was applied as an adhesive to a position surrounding the light emitting portion on the substrate, and a sealing plate made of non-alkali glass was bonded and sealed. At this time, a pressure of 0.2 kg / cm 2 was applied in the direction of bonding the substrate and the sealing plate. When the obtained device was left in a moist heat atmosphere at a temperature of 80 ° C. and a relative humidity of 80% RH, the non-light-emitting portion (dark spot) observed immediately after sealing did not expand even after 150 hours, and the initial light emission The characteristics were maintained.

【0040】実施例2 封止樹脂として、主剤にフェノールノボラック型エポキ
シ樹脂(”エピコート”152,ジャパンエポキシレジ
ン社製)、硬化剤にポリアミドアミン系硬化剤(”バー
サミド”JP1460、コグニスジャパン社製)を用い
る以外は実施例1と同様にして実験を行った。混合比
は、重量比で主剤:硬化剤=100:40とした。この
混合樹脂の硬化後の赤外線吸収スペクトルを測定したと
ころ、3350cm-1にアミン、アミドに由来する吸収
ピークと2930cm-1にアルカンに由来する吸収ピー
クが観察され、上記アルカンに由来する吸収ピーク強度
をIa、アミンに由来する吸収ピーク強度をIbとする
とき、Ia/Ib=2であった。この混合樹脂を接着剤
として、基板上の発光部分を取り囲む位置に塗布し、無
アルカリガラス製の封止板を貼り合わせて封止した。
Example 2 As a sealing resin, a phenol novolak type epoxy resin ("Epicoat" 152, manufactured by Japan Epoxy Resin) was used as a main component, and a polyamidoamine-based curing agent ("Versamide" JP1460, manufactured by Cognis Japan) was used as a curing agent. An experiment was conducted in the same manner as in Example 1 except that was used. The mixing ratio was such that the weight ratio of the base material to the curing agent was 100: 40. The infrared absorption spectrum of the cured mixed resin was measured, the absorption peak derived from an alkane absorption peak and 2930 cm -1 derived from 3350 cm -1 amine, an amide is observed, the absorption peak intensity derived from the alkane Is Ia, and the absorption peak intensity derived from the amine is Ib, and Ia / Ib = 2. The mixed resin was applied as an adhesive to a position surrounding the light emitting portion on the substrate, and a sealing plate made of non-alkali glass was bonded and sealed.

【0041】得られた素子を温度80℃、相対湿度80
%RHの湿熱雰囲気下に放置したところ、封止直後に観
察された非発光部分(ダークスポット)は200時間後
も拡大しておらず、初期発光特性を維持していた。
The obtained device was subjected to a temperature of 80 ° C. and a relative humidity of 80.
When left in a moist heat atmosphere of% RH, the non-light-emitting portion (dark spot) observed immediately after sealing did not expand even after 200 hours, and the initial light-emitting characteristics were maintained.

【0042】比較例1 封止樹脂として、主剤にビスフェノールA型エポキシ樹
脂(アラルダイトスタンダード、チバ・スペシャルティ
・ケミカルズ社製)、硬化剤にポリアミドアミン系硬化
剤(アラルダイトスタンダード、チバ・スペシャルティ
・ケミカルズ社製)を用いる以外は実施例1と同様にし
て実験を行った。混合比は重量比で等量混合した。この
混合樹脂の硬化後の赤外線吸収スペクトルを測定したと
ころ、3300cm-1にアミンに由来する吸収ピークと
2925cm-1にアルカンに由来する吸収ピークが観察
され、上記アルカンに由来する吸収ピーク強度をIa、
アミンに由来する吸収ピーク強度をIbとするとき、I
a/Ib=3.3であった。この混合樹脂を接着剤とし
て、基板上の発光部分を取り囲む位置に塗布し、無アル
カリガラス製の封止板を貼り合わせて封止した。
Comparative Example 1 As a sealing resin, a bisphenol A type epoxy resin (Araldite Standard, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) was used as a main component, and a polyamidoamine-based curing agent (Araldite Standard, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) was used as a curing agent. The experiment was performed in the same manner as in Example 1 except that the above method was used. The mixing ratio was equal in weight ratio. Measurement of the infrared absorption spectrum after curing of the mixed resin, the absorption peak derived from an alkane absorption peak and 2925 cm -1 derived from amine 3300 cm -1 was observed, the absorption peak intensity derived from the alkane Ia ,
When the absorption peak intensity derived from the amine is Ib, I
a / Ib = 3.3. The mixed resin was applied as an adhesive to a position surrounding the light emitting portion on the substrate, and a sealing plate made of non-alkali glass was bonded and sealed.

【0043】得られた素子を温度80℃、相対湿度80
%RHの湿熱雰囲気下に放置したところ、封止直後に観
察された非発光部分(ダークスポット)は50時間以内
に拡大し、初期発光特性を維持することができなかっ
た。
The obtained device was subjected to a temperature of 80 ° C. and a relative humidity of 80.
When left in a moist heat atmosphere of% RH, the non-light-emitting portion (dark spot) observed immediately after sealing expanded within 50 hours, and the initial light-emitting characteristics could not be maintained.

【0044】[0044]

【発明の効果】本発明の有機電界発光素子では、非発光
領域の拡大を抑制することができ、良好な再現性を得る
ことができる。
According to the organic electroluminescent device of the present invention, expansion of the non-light emitting region can be suppressed, and good reproducibility can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明で製造される有機電界発光素子の一例を
示す断面図。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of an organic electroluminescent device manufactured according to the present invention.

【図2】本発明で製造される有機電界発光素子の別の一
例を示す断面図。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of the organic electroluminescent device manufactured by the present invention.

【図3】本発明で製造される有機電界発光素子の別の一
例を示す断面図。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing another example of the organic electroluminescent device manufactured by the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 第一電極 3 駆動源 5 正孔輸送層 6 発光層 8 第二電極 21 封止板 22 接着樹脂 23 封止内部空間 24 凹部 25 脚部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 1st electrode 3 Drive source 5 Hole transport layer 6 Light emitting layer 8 2nd electrode 21 Sealing plate 22 Adhesive resin 23 Sealing internal space 24 Depression 25 Leg

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3K007 AB11 AB13 AB18 BB01 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA02 4J040 EG021 GA14 MA02 MA05 MA10 NA17 NA19  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 3K007 AB11 AB13 AB18 BB01 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA02 4J040 EG021 GA14 MA02 MA05 MA10 NA17 NA19

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に形成された第一電極と、第一電極
上に形成された少なくとも有機化合物からなる発光層を
含む薄膜層と、薄膜層上に形成された第二電極と、接着
剤で基板と貼り合わされた封止板とを含む有機電界発光
素子であって、硬化後の接着剤の赤外線吸収スペクトル
において、2800乃至3000cm -1に現れるアルカ
ンに由来する吸収強度をIa、3200乃至3500c
-1に現れるアミン、アミドに由来する吸収強度をIb
とすると、Ia/Ib比が3以下であることを特徴とす
る有機電界発光素子。
A first electrode formed on a substrate, and a first electrode
The light-emitting layer made of at least an organic compound formed on the
Including the thin film layer, the second electrode formed on the thin film layer,
Organic electroluminescence including a sealing plate bonded to a substrate with an agent
Infrared absorption spectrum of the adhesive after curing
, 2800-3000cm -1Arca appearing on
Ia, 3200-3500c
m-1The absorption intensity derived from amine and amide appearing in
Where the Ia / Ib ratio is 3 or less.
Organic electroluminescent device.
【請求項2】請求項1記載の有機電界発光素子であっ
て、接着剤がアミドアミン樹脂、ポリアミドアミン樹脂
の少なくとも1種を含むことを特徴とする有機電界発光
素子。
2. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the adhesive contains at least one of an amidoamine resin and a polyamideamine resin.
【請求項3】請求項1記載の有機電界発光素子を用いた
ことを特徴とする表示装置。
3. A display device using the organic electroluminescent device according to claim 1.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1424381A2 (en) 2002-11-26 2004-06-02 Konica Minolta Holdings, Inc. Organic electroluminescent element, and display and illuminator
JP2005019269A (en) * 2003-06-27 2005-01-20 Three Bond Co Ltd Organic el element and resin composition for pasting together organic el element
JP2006079947A (en) * 2004-09-09 2006-03-23 Ams:Kk Sealing cap for organic el element and manufacturing method of the same
JP2011039366A (en) * 2009-08-17 2011-02-24 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Laminated body for optical isolator, optical isolator and method of manufacturing those
JP2020098304A (en) * 2018-12-19 2020-06-25 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド Display and method for manufacturing display

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1424381A2 (en) 2002-11-26 2004-06-02 Konica Minolta Holdings, Inc. Organic electroluminescent element, and display and illuminator
EP2248870A2 (en) 2002-11-26 2010-11-10 Konica Minolta Holdings, Inc. Organic electroluminscent element and display and illuminator
EP2759585A1 (en) 2002-11-26 2014-07-30 Konica Minolta Business Technologies, Inc. Organic electroluminescent element, and display and illuminator
EP2762546A1 (en) 2002-11-26 2014-08-06 Konica Minolta Holdings, Inc. Organic electroluminescent element, and display and illuminator
EP2765174A1 (en) 2002-11-26 2014-08-13 Konica Minolta Holdings, Inc. Organic electroluminescent element, and display and illuminator
JP2005019269A (en) * 2003-06-27 2005-01-20 Three Bond Co Ltd Organic el element and resin composition for pasting together organic el element
JP2006079947A (en) * 2004-09-09 2006-03-23 Ams:Kk Sealing cap for organic el element and manufacturing method of the same
JP4600880B2 (en) * 2004-09-09 2010-12-22 東北デバイス株式会社 Sealing cap for organic EL element and method for producing the same
JP2011039366A (en) * 2009-08-17 2011-02-24 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Laminated body for optical isolator, optical isolator and method of manufacturing those
JP2020098304A (en) * 2018-12-19 2020-06-25 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド Display and method for manufacturing display
JP7423184B2 (en) 2018-12-19 2024-01-29 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド Display device and display device manufacturing method

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