JP2002164165A - Organic electroluminescent element and its manufacturing method - Google Patents

Organic electroluminescent element and its manufacturing method

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JP2002164165A
JP2002164165A JP2001271542A JP2001271542A JP2002164165A JP 2002164165 A JP2002164165 A JP 2002164165A JP 2001271542 A JP2001271542 A JP 2001271542A JP 2001271542 A JP2001271542 A JP 2001271542A JP 2002164165 A JP2002164165 A JP 2002164165A
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JP
Japan
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organic electroluminescent
electroluminescent device
substrate
resin
adhesive
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Pending
Application number
JP2001271542A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Ikeda
武史 池田
Reiko Yoshida
玲子 吉田
Shigeo Fujimori
茂雄 藤森
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic electroluminescent element that can sufficiently and stably suppress the expansion of a dark spot with the lapse of the time and its manufacturing method. SOLUTION: The organic electroluminescent element comprises a first electrode that is formed on the substrate, a film layer that is formed on the first electrode and contains a light emitting layer made of at least an organic compound, a second electrode that is formed on the film layer, and a sealing plate that is pasted to the substrate by an adhesive. The above adhesive contains epoxy resin and polyaminoamide.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表示素子、フラッ
トパネルディスプレイ、バックライト、インテリアなど
の分野に利用可能な有機電界発光素子およびその製造方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic electroluminescent device that can be used in fields such as display devices, flat panel displays, backlights, and interiors, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】有機電界発光素子は陽極から注入された
正孔と陰極から注入された電子とが両極に挟まれた有機
発光層内で再結合することにより発光するものである。
その代表的な構造は、ガラス基板上に透明な第一電極
(陽極)、正孔輸送層、有機発光層、第二電極(陰極)
を積層したものであり、駆動により生じた発光は第一電
極およびガラス基板を通じて外部に取り出される。この
ような有機電界発光素子では薄型、低電圧駆動下での高
輝度発光や、有機発光材料を選択することによる多色発
光が可能であり、発光デバイスやディスプレイなどに応
用する検討が盛んである。
2. Description of the Related Art An organic electroluminescent device emits light when holes injected from an anode and electrons injected from a cathode are recombined in an organic light emitting layer sandwiched between both electrodes.
A typical structure is a transparent first electrode (anode), hole transport layer, organic light emitting layer, and second electrode (cathode) on a glass substrate.
The light emission generated by the driving is extracted to the outside through the first electrode and the glass substrate. Such an organic electroluminescent element can be thin, emit high-intensity light under low-voltage driving, and emit multicolor light by selecting an organic light-emitting material. Applications to light-emitting devices and displays are being studied. .

【0003】有機電界発光素子における問題点の1つと
して、ダークスポットと呼ばれる非発光部分の面積が経
時的に大きくなることが挙げられる。このような特性劣
化を引き起こす原因は水分であることが知られている。
すなわち、水分が第二電極の欠陥などから有機薄膜層内
に浸入し、素子を不活性化するものである。
One of the problems in the organic electroluminescent device is that the area of a non-light-emitting portion called a dark spot increases with time. It is known that the cause of such characteristic deterioration is moisture.
That is, moisture enters the organic thin film layer due to a defect of the second electrode or the like, and inactivates the element.

【0004】このようなダークスポットの拡大を防止す
るためには、有機電界発光素子を低湿度雰囲気下に保つ
ことが必要であり、通常は水分等の外的環境から素子を
保護する目的で封止手段が用いられてきた。該手段は素
子と封止板とを接着剤を介して貼り合わせる方法(特開
平1−313892号公報)を始めとし、酸化物やフッ
化物等の水分遮蔽性を有する保護膜を薄膜層上に形成す
る方法(特開平4−212284号公報)、乾燥剤を封
止素子内部に封入する方法(特開平6−176867号
公報)など多岐にわたる。接着剤としては、耐湿性の光
硬化樹脂を用いる方法(特開平5−182759号公
報)、低融点ガラスをレーザービームで加熱溶融させる
方法(特開平10−74583号公報)、カチオン硬化
型紫外線硬化エポキシ樹脂を用いる方法(特開平10−
233283号公報)が公開されている。
[0004] In order to prevent such dark spots from expanding, it is necessary to keep the organic electroluminescent device in a low humidity atmosphere. Usually, the organic electroluminescent device is sealed for the purpose of protecting the device from an external environment such as moisture. Stop means have been used. This means includes a method of bonding an element and a sealing plate via an adhesive (Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-313892), and a method of forming a protective film having a moisture shielding property such as an oxide or a fluoride on a thin film layer. There is a wide variety of methods, such as a method of forming the same (JP-A-4-212284) and a method of enclosing a desiccant in a sealing element (JP-A-6-176867). As the adhesive, a method using a moisture-resistant photocurable resin (JP-A-5-182759), a method of heating and melting a low-melting glass with a laser beam (JP-A-10-74583), a cation-curing type ultraviolet curing Method using an epoxy resin (Japanese Unexamined Patent Publication No.
233283) has been published.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術では主に接着剤の水分遮蔽能の低下による素子内部へ
の水分侵入や樹脂を硬化させるために付加する熱や紫外
線による素子劣化、水分遮蔽能を有する無機保護膜では
成膜時に素子にダメージを与え易いなど多くの問題点が
あり、ダークスポットの拡大を充分に抑制することは出
来なかった。
However, in the prior art, the penetration of water into the inside of the device due to a decrease in the moisture shielding capability of the adhesive, the deterioration of the device due to heat or ultraviolet rays added to cure the resin, and the moisture shielding capability are mainly caused by the decrease in the moisture shielding capability of the adhesive. However, the inorganic protective film having the above has many problems such as easy damage to the element at the time of film formation, and the enlargement of the dark spot cannot be sufficiently suppressed.

【0006】本発明はかかる問題を解決し、ダークスポ
ットの経時的拡大を十分かつ安定に抑制することが可能
な有機電界発光素子およびその製造方法を提供すること
が目的である。
An object of the present invention is to solve such a problem and to provide an organic electroluminescent device capable of sufficiently and stably suppressing the temporal expansion of a dark spot, and a method of manufacturing the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、基板
上に形成された第一電極と、第一電極上に形成された少
なくとも有機化合物からなる発光層を含む薄膜層と、薄
膜層上に形成された第二電極と、接着剤で基板と貼り合
わされた封止板とを含む有機電界発光素子であって、前
記接着剤がエポキシ樹脂と脂肪族ポリアミノアミドを含
むことを特徴とする有機電界発光素子である。
That is, the present invention provides a first electrode formed on a substrate, a thin film layer formed on the first electrode, the light emitting layer comprising at least an organic compound, and a thin film layer formed on the first electrode. An organic electroluminescent device including the formed second electrode and a sealing plate bonded to a substrate with an adhesive, wherein the adhesive includes an epoxy resin and an aliphatic polyaminoamide. It is a light emitting element.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下では本発明を詳しく説明する
が、本発明は例示した形式や構造をもつ有機電界発光素
子の製造方法に限定されるわけではない。したがって、
単一発光素子、セグメント型、単純マトリクス型、アク
ティブマトリクス型などの発光素子の形式や、カラー、
モノクロなどの発光色数を問わず任意の構造の有機電界
発光素子に適用することが可能である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited to a method for manufacturing an organic electroluminescent device having the exemplified form and structure. Therefore,
Single light emitting element, segment type, simple matrix type, active matrix type and other light emitting element types, colors,
The present invention can be applied to an organic electroluminescent device having an arbitrary structure irrespective of the number of emission colors such as monochrome.

【0009】本発明における有機電界発光素子の構成部
材には、例えば図1に示す素子では、基板1、封止板2
1、接着手段22など封止内部空間23に接するすべて
の部材が含まれる。素子構成によっては、配線、コネク
ター、引き出し電極、素子表面を覆う保護フィルムなど
も含まれる場合があり、構成部材は特に限定されるわけ
ではない。
The components of the organic electroluminescent device according to the present invention include, for example, a substrate 1 and a sealing plate 2 in the device shown in FIG.
1, all the members in contact with the sealing internal space 23, such as the bonding means 22, are included. Depending on the element configuration, a wiring, a connector, a lead electrode, a protective film covering the element surface, and the like may be included, and the constituent members are not particularly limited.

【0010】本発明では接着剤は室温以上において安定
な接着強度を保持する樹脂が用いられる。樹脂は加熱処
理や紫外線照射などで硬化させても良いが、それらの処
理が不要な2液混合型のエポキシ樹脂が好適なものとし
て挙げられる。2液混合型のエポキシ樹脂は、硬化反応
時の水分発生が無く、金属やガラス基板との接着強度が
高いことから有機電界発光素子の封止用接着剤として非
常に好適な接着剤である。主剤のエポキシ樹脂はビスフ
ェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールS
型、フェノールノボラック型、ポリフェノール型、ボリ
ヒドロキシベンゼン型、ビニルポリマー型、芳香族カル
ボン酸型、シクロヘキセン型、などさまざまなものがあ
るが、特にビスフェノールA型、ビスフェノールF型、
フェノールノボラック型のエポキシ樹脂を含むことが望
ましい。エポキシ主剤は必ずしも単体で用いる必要は無
く、粘度等の物性値を調整する目的で複数のエポキシ樹
脂を組み合わせることが可能である。
In the present invention, a resin that maintains stable adhesive strength at room temperature or higher is used as the adhesive. The resin may be cured by heat treatment, ultraviolet irradiation, or the like, but a two-liquid mixed type epoxy resin that does not require such treatment is preferred. A two-component epoxy resin is a very suitable adhesive as an adhesive for sealing an organic electroluminescent element because it does not generate moisture during a curing reaction and has a high adhesive strength to a metal or a glass substrate. The epoxy resin of the main ingredient is bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S
Types, phenol novolak type, polyphenol type, polyhydroxybenzene type, vinyl polymer type, aromatic carboxylic acid type, cyclohexene type, etc., among which there are various types, especially bisphenol A type, bisphenol F type,
It is desirable to include a phenol novolak type epoxy resin. It is not necessary to use the epoxy main agent alone, and it is possible to combine a plurality of epoxy resins for the purpose of adjusting physical properties such as viscosity.

【0011】また硬化後の樹脂の耐熱性を向上させる観
点からは、エポキシ樹脂に含まれるエポキシ基数が多い
ことが望ましい。具体的には、1分子中のエポキシ樹脂
に含まれる平均エポキシ基数が2よりも大きいことが望
ましい。例えばフェノールノボラック型エポキシ樹脂が
好適な例として挙げられる。
From the viewpoint of improving the heat resistance of the cured resin, it is desirable that the epoxy resin contains a large number of epoxy groups. Specifically, it is desirable that the average number of epoxy groups contained in the epoxy resin in one molecule is larger than two. For example, a phenol novolak type epoxy resin is a preferred example.

【0012】硬化剤は、脂肪族アミン、芳香族アミン、
第二および第三アミン、複素環状ジアミン変性物等のア
ミン類、無水フタル酸、無水マレイン酸等の酸無水物、
メルカプタン基を有するポリスルフィッド樹脂等さまざ
まなものがあるが、本発明はなかでも脂肪族ポリアミノ
アミド系硬化剤を用いることを特徴とする。
The curing agent may be an aliphatic amine, an aromatic amine,
Secondary and tertiary amines, amines such as modified heterocyclic diamines, phthalic anhydride, acid anhydrides such as maleic anhydride,
Although there are various types such as a polysulfide resin having a mercaptan group, the present invention is characterized by using an aliphatic polyaminoamide-based curing agent.

【0013】本発明におけるポリアミノアミド系硬化剤
とは、ポリアミンとポリカルボン酸から合成される分子
内に活性アミノ基を有するオリゴマーからポリマー領域
に広がる分子量を持つアミド系硬化剤のことを指す。ま
た本発明における脂肪族とは、メタン系、エチレン系、
アセチレン系、炭化水素誘導体等の環式構造を持たない
鎖状脂肪族と、シクロヘキサン、あるいはイミド、ラク
トンなど環を持つが母体化合物との関係及び環が開きや
すい環状脂肪族も含まれるものとする。
In the present invention, the term "polyaminoamide-based curing agent" refers to an amide-based curing agent having a molecular weight that extends from an oligomer having an active amino group in a molecule synthesized from a polyamine and a polycarboxylic acid to a polymer region. The aliphatic in the present invention, methane, ethylene,
A chain aliphatic having no cyclic structure, such as an acetylene-based or hydrocarbon derivative, and a cyclic aliphatic having a ring such as cyclohexane, imide, or lactone but having a relationship with the parent compound and a ring that is easily opened are also included. .

【0014】また本発明における硬化剤は、脂肪族ポリ
アミノアミド以外にも、硬化物の機械的強度、耐熱性等
の物性を改良するために、脂肪族アミン、芳香族アミ
ン、第二および第三アミン、フェノール化合物、複素環
状ジアミン変性物等のアミン類、無水フタル酸、無水マ
レイン酸等の酸無水物、メルカプタン基を有するポリス
ルフィッド樹脂等が含まれていてもよい。また本発明に
おける有機電界発光素子の封止用接着剤には、硬化時間
の短縮等を目的として、第三アミン、フェノール化合
物、および第三アミンの有機酸塩からなる群より選ばれ
る1種以上の化合物を硬化促進剤として含むことができ
る。硬化促進剤は、硬化後の樹脂の耐熱性、耐薬品性を
考慮すると必要最小限の量にすることが望ましく、具体
的には、硬化後樹脂の重量比で10%以下、より好まし
くは5%以下、さらに好ましくは3%以下にすることが
好適である。
In addition to the aliphatic polyaminoamide, the curing agent according to the present invention may be any of aliphatic amines, aromatic amines, secondary and tertiary amines in order to improve physical properties such as mechanical strength and heat resistance of the cured product. Amines, phenol compounds, amines such as modified heterocyclic diamines, acid anhydrides such as phthalic anhydride and maleic anhydride, and polysulfide resins having a mercaptan group may be contained. In the present invention, the sealing adhesive for an organic electroluminescent device may be one or more selected from the group consisting of tertiary amines, phenolic compounds, and organic acid salts of tertiary amines for the purpose of shortening the curing time. Can be included as a curing accelerator. The amount of the curing accelerator is desirably the minimum necessary in consideration of the heat resistance and chemical resistance of the cured resin. Specifically, the amount is preferably 10% or less, more preferably 5% by weight of the cured resin. % Or less, more preferably 3% or less.

【0015】ポリアミノアミド系硬化剤は、疎水基と親
水基を同時に有するため非接着物への塗れ性が高く、密
着性が良好である。このため、ポリアミノアミド系硬化
剤を封止用接着剤に用いた場合、封止板あるいは基板と
接着剤との密着性が高くなり、水分が外部から封止空間
へと浸入することを効果的に抑制することができる。ま
た疎水基を有することから、通常のアミン系硬化物等に
比べて水分遮蔽性に優れ、樹脂中の水分拡散を効果的に
抑制することができる。さらに、室温においてエポキシ
樹脂(主剤)との硬化が可能であることから、樹脂硬化
時の有機薄膜層等への熱的損傷の恐れがない。また硬化
剤のアミン価は、硬化後の樹脂の耐熱性を向上させるた
めには、大きいことが望ましく、JIS K7237測
定法における値で、少なくとも370以上、より好まし
くは400以上であることが望ましい。
Since the polyaminoamide-based curing agent has both a hydrophobic group and a hydrophilic group, it has high wettability to non-adhesives and good adhesion. For this reason, when a polyaminoamide-based curing agent is used for the sealing adhesive, the adhesiveness between the sealing plate or the substrate and the adhesive is increased, which effectively prevents moisture from entering the sealing space from the outside. Can be suppressed. Further, since it has a hydrophobic group, it has excellent moisture shielding properties as compared with ordinary amine-based cured products and the like, and can effectively suppress the diffusion of moisture in the resin. Further, since curing with an epoxy resin (base material) is possible at room temperature, there is no possibility of thermal damage to an organic thin film layer or the like when the resin is cured. The amine value of the curing agent is preferably large in order to improve the heat resistance of the cured resin, and is preferably at least 370 or more, more preferably 400 or more as measured by JIS K7237.

【0016】さらに本発明では樹脂密着性を向上させる
ために、樹脂が硬化する時に基板と封止板とを貼り合わ
せる方向に圧力をかける手段をもちいることができ、基
板あるいは封止板と樹脂との密着性において効果的であ
る。圧力を付加することにより被接着物表面の微少な凹
凸部に樹脂が入り込み、密着性が向上する。付加する圧
力については、樹脂粘度、硬化温度、被接着物の材質な
どさまざまな条件により最適値があるので、一概には規
定できないが、少なくとも0.01kg/cm 2以上の
大きさがあれば十分である。圧力を付加する方法として
は、素子の上におもりを乗せるような方法から既存の貼
り合わせ装置を使う方法、封止を行う処理室を満たすガ
スや液体等の媒質に静水圧を付加する方法などいずれの
方法でも構わない。
Further, in the present invention, the resin adhesion is improved.
To bond the substrate and the sealing plate when the resin cures
Means to apply pressure in the direction
It is effective in the adhesion between the plate or sealing plate and the resin.
You. By applying pressure, minute recesses on the surface of the adherend
The resin penetrates into the convex portions, and the adhesion is improved. Additional pressure
Regarding the force, resin viscosity, curing temperature, material of the adherend
There is an optimum value depending on various conditions.
Can not be determined, but at least 0.01 kg / cm TwoMore than
Large enough. As a method of applying pressure
Is a method of placing a weight on the element.
The method of using the bonding device and the gas filling the processing chamber for sealing
Any method such as applying hydrostatic pressure to media such as
It does not matter how.

【0017】また基板あるいは封止板と樹脂とが形成す
る界面状態は非常に重要であり、多くの場合樹脂硬化時
に接着界面に歪み応力が発生し、この歪み応力により接
着界面が剥離を起こすことがある。そこで、接着界面の
密着性を向上させるための工程が重要になってくる。
The state of the interface between the substrate or the sealing plate and the resin is very important. In many cases, a stress is generated at the bonding interface when the resin is cured, and the bonding stress causes the separation of the bonding interface. There is. Therefore, a process for improving the adhesion at the bonding interface becomes important.

【0018】上記圧力をかける方法の他に、樹脂密着性
を向上させるための方法としては、基板、封止板にプラ
イマー処理を施すことが効果的である。プライマー処理
とは、樹脂と基板、樹脂と封止板界面の親和性を高める
ために、基板、封止版表面の接着剤を塗布する箇所に予
め下地処理をすることである。
In addition to the above-mentioned method of applying pressure, as a method for improving the resin adhesion, it is effective to apply a primer treatment to the substrate and the sealing plate. The primer treatment means that the surface of the substrate or the sealing plate is preliminarily treated with an adhesive in order to increase the affinity of the interface between the resin and the substrate and between the resin and the sealing plate.

【0019】プライマーの好適な例としては、シラン系
カップリング剤を溶剤で希釈したものが挙げられる。溶
剤としては、アルコール類、トルエン、キシレン、酢酸
エチル、メチルエチルケトン、アセトンなどを用いるこ
とができ、シランカップリング剤を希釈する場合、1〜
20%程度希釈したものを好適なものとして用いること
ができる。プライマー処理方法は、基板あるいは、封止
板表面にプライマーを塗布、乾燥させるだけで良いが、
プライマー塗布前に基板、封止板を溶剤等で清掃すると
さらに密着性が向上する。
Preferred examples of the primer include those obtained by diluting a silane coupling agent with a solvent. As the solvent, alcohols, toluene, xylene, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, acetone and the like can be used, and when diluting the silane coupling agent, 1 to
What was diluted about 20% can be used as a suitable thing. As for the primer treatment method, it is only necessary to apply the primer on the substrate or the sealing plate surface and dry it,
If the substrate and the sealing plate are cleaned with a solvent or the like before applying the primer, the adhesion is further improved.

【0020】シラン系カップリング剤は、樹脂、被接着
物それぞれとの親和性を持つために少なくとも2種類以
上の官能基をもつことが好ましい。特に樹脂がエポキシ
樹脂を含むときは、少なくとも官能基の一つにエポキシ
基を持つことが好ましく、基板、封止板がガラスや金属
など無機化合物の場合はメトキシ基やエトキシ基等のア
ルコキシ基を持つことが好ましい。
The silane coupling agent preferably has at least two or more types of functional groups in order to have an affinity for the resin and the adherend. Particularly when the resin contains an epoxy resin, it is preferable that at least one of the functional groups has an epoxy group.When the substrate or the sealing plate is an inorganic compound such as glass or metal, an alkoxy group such as a methoxy group or an ethoxy group is preferably used. It is preferable to have.

【0021】樹脂の透水率や吸水率をさらに小さくする
ためには、接着樹脂にフィラーを混入することができ
る。フィラーはシリカなどの無機材料からなる微小粒子
であり、粒子の大きさや形状、混入割合は特に制限され
るものではなく、必要に応じて最適化される。
In order to further reduce the water permeability and the water absorption of the resin, a filler can be mixed into the adhesive resin. The filler is a fine particle made of an inorganic material such as silica, and the size, shape, and mixing ratio of the particle are not particularly limited, and are optimized as needed.

【0022】封止樹脂の硬化条件は、室温での硬化に限
定されるわけではなく、必要に応じて有機電界発光素子
を劣化させない範囲で温度条件を選択できるのはもちろ
んである。さらに樹脂と封止板との密着性を向上させる
ためには、封止板を適当な溶剤を用いて洗浄したり、U
V処理を施して封止板の表面を清浄化する方法などが効
果的である。
The curing condition of the sealing resin is not limited to the curing at room temperature, but it is needless to say that the temperature condition can be selected as needed within a range that does not deteriorate the organic electroluminescent element. In order to further improve the adhesion between the resin and the sealing plate, the sealing plate may be washed with an appropriate solvent,
A method of performing a V treatment to clean the surface of the sealing plate is effective.

【0023】本発明における封止方法としては基板と封
止板とを貼り合わせればよく、特に限定されない。した
がって、封止内部空間を低湿度の液体やガスで満たすこ
とができる。前者の例としてはシリコーン系オイルやグ
リース、フッ化炭素系オイルなどの不活性液体が挙げら
れる。後者の例としてはヘリウム、アルゴンなどの希ガ
ス類、窒素、二酸化炭素などの不活性ガスが挙げられ
る。また、封止空間内部を真空に保持することも可能で
ある。
The sealing method in the present invention is not particularly limited as long as the substrate and the sealing plate are bonded together. Therefore, the sealed internal space can be filled with a low-humidity liquid or gas. Examples of the former include inert liquids such as silicone oil, grease, and fluorocarbon oil. Examples of the latter include rare gases such as helium and argon, and inert gases such as nitrogen and carbon dioxide. Further, the inside of the sealed space can be kept at a vacuum.

【0024】封止空間を低湿度ガスで満たす上記の方法
においては基板と封止板とを低湿度雰囲気下で貼り合わ
せることで、容易に達成することができる。十分な封止
効果を得るためには、低湿度雰囲気の露点は−30℃以
下であることが好ましく、−60℃以下、さらには−1
00℃以下であればより好ましい。
The above method of filling the sealing space with a low-humidity gas can be easily achieved by bonding the substrate and the sealing plate in a low-humidity atmosphere. In order to obtain a sufficient sealing effect, the dew point in a low humidity atmosphere is preferably -30 ° C or lower, -60 ° C or lower, and more preferably -1 ° C or lower.
It is more preferable that the temperature is not higher than 00 ° C.

【0025】封止板にはガラス、樹脂、あるいはアルミ
ニウムやステンレス等の金属など水分透過率の小さい材
料を板状もしくはフィルム状に形成したものを用いるこ
とができる。これらは単独系であっても、例えばポリエ
チレンなどの樹脂フィルム上にアルミニウムなどの金属
を蒸着した複合系であってもよい。
As the sealing plate, a plate or film formed of a material having low moisture permeability such as glass, resin, or a metal such as aluminum or stainless steel can be used. These may be a single type or a composite type obtained by depositing a metal such as aluminum on a resin film such as polyethylene.

【0026】本発明では封止板21の形状は特に限定さ
れず、図2に示すような凹部24を形成したり、図3に
示すような脚部25を形成するなどして、基板と封止板
との接着位置を規定することもできる。このようにする
ことで、封止内部空間23にガスやオイルを満たした
り、吸湿剤を設けるための容積を確保することもでき
る。同様の効果は接着手段の厚みを大きくすることなど
によっても得ることができる。さらに本発明の封止法を
用いれば、必要に応じてあらかじめ封止板表面に、吸湿
効果を有するゲッター膜などを形成したり、反射防止効
果を有する黒色膜あるいは光吸収膜を形成しておくこと
もできる。前記吸湿剤としてはシリカゲル、ゼオライ
ト、活性炭、酸化カルシウム、酸化ゲルマニウム、酸化
バリウム、酸化マグネシウム、五酸化リン、塩化カルシ
ウムなどを、前記ゲッター膜としてはアルミニウム、マ
グネシウム、バリウム、チタンなどの金属蒸着膜を例示
することができる。
In the present invention, the shape of the sealing plate 21 is not particularly limited, and the sealing plate 21 may be sealed with the substrate by forming a recess 24 as shown in FIG. 2 or a leg 25 as shown in FIG. The position to be bonded to the stop plate can be defined. By doing so, it is also possible to secure a volume for filling the sealing internal space 23 with gas or oil or for providing a moisture absorbent. Similar effects can be obtained by increasing the thickness of the bonding means. Furthermore, if the sealing method of the present invention is used, a getter film having a moisture absorbing effect or the like, or a black film or a light absorbing film having an anti-reflection effect is formed on the surface of the sealing plate in advance as necessary. You can also. Examples of the hygroscopic agent include silica gel, zeolite, activated carbon, calcium oxide, germanium oxide, barium oxide, magnesium oxide, phosphorus pentoxide, calcium chloride, and the like.As the getter film, aluminum, magnesium, barium, a metal-deposited film of titanium, or the like. Examples can be given.

【0027】基板と封止板との接着位置についても特に
限定されず、接着手段が素子全体を覆うように位置して
もよいが、発光の安定性の観点からは接着手段が発光領
域に接しないように位置していることが好ましい。さら
に、電力供給の観点からは、第一電極および第二電極そ
れぞれの一部分が外部に露出するように封止されること
が好ましい。また、基板に設けられたスルーホールを通
じて電極を取り出すことも可能である。
The bonding position between the substrate and the sealing plate is not particularly limited, and the bonding means may be positioned so as to cover the entire device. However, from the viewpoint of light emission stability, the bonding means is in contact with the light emitting region. It is preferable that they are not located. Furthermore, from the viewpoint of power supply, it is preferable that each of the first electrode and the second electrode is sealed so as to be exposed to the outside. Further, it is also possible to take out the electrode through a through hole provided in the substrate.

【0028】基板の材料は、表示または発光素子として
機能するに適した光学的透明性、機械的強度、耐熱性な
どを有するものであれば、材質は特に限定されない。ポ
リメチルメタクリレート、ポリカーボネート、無定形ポ
リオレフィンなどのプラスチック板やフィルム類を用い
ることができるが、ガラス板を用いるのが最も好まし
い。ガラスの材質については、無アルカリガラスや酸化
珪素膜などのバリアコートを施したソーダライムガラス
などが使用できる。厚みは機械的強度を保つのに十分な
厚みがあればよいので、0.5mm以上あれば十分であ
る。なお、上記第一電極もしくは基板には、公知技術を
用いて反射防止機能を付加することができる。
The material of the substrate is not particularly limited as long as it has optical transparency, mechanical strength, heat resistance and the like suitable for functioning as a display or a light emitting element. Although plastic plates and films such as polymethyl methacrylate, polycarbonate and amorphous polyolefin can be used, it is most preferable to use a glass plate. As the glass material, non-alkali glass, soda lime glass coated with a barrier coat such as a silicon oxide film, or the like can be used. Since the thickness only needs to be sufficient to maintain the mechanical strength, 0.5 mm or more is sufficient. In addition, an antireflection function can be added to the first electrode or the substrate by using a known technique.

【0029】有機電界発光素子に含まれる薄膜層として
は、1)正孔輸送層/発光層、2)正孔輸送層/発光層
/電子輸送層、3)発光層/電子輸送層、そして4)以
上の組合せ物質を一層に混合した形態の発光層、のいず
れであってもよい。すなわち、素子構成として有機化合
物からなる発光層が存在していれば、上記1)〜3)の
多層積層構造の他に4)のように発光材料単独または発
光材料と正孔輸送材料や電子輸送材料を含む発光層を一
層設けるだけでも良い。
The thin film layers included in the organic electroluminescent device include 1) a hole transport layer / a light emitting layer, 2) a hole transport layer / a light emitting layer / an electron transport layer, 3) a light emitting layer / an electron transport layer, and 4) And e) a light-emitting layer in which the above-mentioned combined substances are mixed in a single layer. That is, if a light-emitting layer made of an organic compound is present as an element configuration, a light-emitting material alone or a light-emitting material and a hole-transport material or an electron-transport, as described in 4), in addition to the multi-layer structure of 1) to 3) above. Only one light-emitting layer containing a material may be provided.

【0030】正孔輸送層は正孔輸送性物質単独で、ある
いは正孔輸送性物質と高分子結着剤により形成される。
正孔輸送性物質としては、N,N’−ジフェニル−N,
N’−ジ(3−メチルフェニル)−1,1’−ジフェニ
ル−4,4’−ジアミン(TPD)やN,N’−ジフェ
ニル−N,N’−ジナフチル−1,1’−ジフェニル−
4,4’−ジアミン(NPD)などに代表されるトリフ
ェニルアミン類、N−イソプロピルカルバゾール、ビス
カルバゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、スチルベン系
化合物、ヒドラゾン系化合物、オキサジアゾール誘導体
やフタロシアニン誘導体に代表される複素環化合物、ポ
リマー系では前記単量体を側鎖に有するポリカーボネー
トやポリスチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポ
リシラン、ポリフェニレンビニレンなどが好ましいが、
特に限定されるものではない。
The hole transporting layer is formed of a hole transporting substance alone or a hole transporting substance and a polymer binder.
As the hole transporting substance, N, N'-diphenyl-N,
N'-di (3-methylphenyl) -1,1'-diphenyl-4,4'-diamine (TPD) and N, N'-diphenyl-N, N'-dinaphthyl-1,1'-diphenyl-
Triphenylamines represented by 4,4'-diamine (NPD), N-isopropylcarbazole, biscarbazole derivatives, pyrazoline derivatives, stilbene compounds, hydrazone compounds, oxadiazole derivatives and phthalocyanine derivatives Heterocyclic compounds, in the polymer system, polycarbonate and polystyrene derivatives having the monomer in the side chain, polyvinyl carbazole, polysilane, polyphenylene vinylene and the like are preferable,
There is no particular limitation.

【0031】第一電極上にパターニングして形成される
発光層の材料は、アントラセンやピレン、そして8−ヒ
ドロキシキノリンアルミニウムの他には、例えば、ビス
スチリルアントラセン誘導体、テトラフェニルブタジエ
ン誘導体、クマリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、
ジスチリルベンゼン誘導体、ピロロピリジン誘導体、ペ
リノン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、チアジアゾ
ロピリジン誘導体、ポリマー系では、ポリフェニレンビ
ニレン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、そしてポリ
チオフェン誘導体などが使用できる。また、発光層に添
加するドーパントとしては、ルブレン、キナクリドン誘
導体、フェノキサゾン660、DCM1、ペリノン、ペ
リレン、クマリン540、ジアザインダセン誘導体など
がそのまま使用できる。
The material of the light emitting layer formed by patterning on the first electrode is anthracene, pyrene, and 8-hydroxyquinoline aluminum, for example, bisstyrylanthracene derivative, tetraphenylbutadiene derivative, coumarin derivative, Oxadiazole derivatives,
A distyrylbenzene derivative, a pyrrolopyridine derivative, a perinone derivative, a cyclopentadiene derivative, a thiadiazolopyridine derivative, and a polymer system include polyphenylenevinylene derivatives, polyparaphenylene derivatives, and polythiophene derivatives. As the dopant to be added to the light emitting layer, rubrene, quinacridone derivative, phenoxazone 660, DCM1, perinone, perylene, coumarin 540, diazaindacene derivative, and the like can be used as they are.

【0032】電子輸送性物質としては、電界を与えられ
た電極間において陰極からの電子を効率よく輸送するこ
とが必要で、電子注入効率が高く、注入された電子を効
率よく輸送することが望ましい。そのためには電子親和
性が大きく、しかも電子移動度が大きく、さらに安定性
に優れ、トラップとなる不純物が製造時および使用時に
発生しにくい物質であることが要求される。このような
条件を満たす物質として8−ヒドロキシキノリンアルミ
ニウム(Alq3)、ヒドロキシベンゾキノリンベリリ
ウム、2−(4−ビフェニル)−5−(4−t−ブチル
フェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(t−Bu
PBD)などのオキサジアゾール系誘導体、薄膜安定性
を向上させたオキサジアゾール二量体系誘導体の1,3
−ビス(4−t−ブチルフェニル−1,3,4−オキサ
ジゾリル)ビフェニレン(OXD−1)、1,3−ビス
(4−t−ブチルフェニル−1,3,4−オキサジゾリ
ル)フェニレン(OXD−7)、トリアゾール系誘導
体、フェナントロリン系誘導体などがある。
As the electron transporting substance, it is necessary to efficiently transport electrons from the cathode between the electrodes to which an electric field is applied, and it is desirable to have a high electron injection efficiency and to efficiently transport the injected electrons. . For this purpose, it is required that the material has a high electron affinity, a high electron mobility, a high stability, and a small amount of impurities serving as traps during production and use. As materials satisfying such conditions, 8-hydroxyquinoline aluminum (Alq 3 ), hydroxybenzoquinoline beryllium, 2- (4-biphenyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiene Azole (t-Bu
Oxadiazole derivatives such as PBD) and 1,3 oxadiazole dimer derivatives having improved thin film stability
-Bis (4-t-butylphenyl-1,3,4-oxadizolyl) biphenylene (OXD-1), 1,3-bis (4-t-butylphenyl-1,3,4-oxadizolyl) phenylene (OXD- 7), triazole derivatives, phenanthroline derivatives and the like.

【0033】以上の正孔輸送層、発光層、電子輸送層に
用いられる材料は単独で各層を形成することができる
が、高分子結着剤としてポリ塩化ビニル、ポリカーボネ
ート、ポリスチレン、ポリ(N−ビニルカルバゾー
ル)、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリ
レート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレン
エーテル、ポリブタジエン、炭化水素樹脂、ケトン樹
脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂などの溶剤可溶
性樹脂や、フェノール樹脂、キシレン樹脂、石油樹脂、
ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、
アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂などの硬
化性樹脂などに分散させて用いることも可能である。
The above materials used for the hole transporting layer, the light emitting layer and the electron transporting layer can be used alone to form each layer. As the polymer binder, polyvinyl chloride, polycarbonate, polystyrene, poly (N- (Vinyl carbazole), polymethyl methacrylate, polybutyl methacrylate, polyester, polysulfone, polyphenylene ether, polybutadiene, hydrocarbon resins, ketone resins, phenoxy resins, polyurethane resins, and other solvent-soluble resins, phenol resins, xylene resins, petroleum resins,
Urea resin, melamine resin, unsaturated polyester resin,
It is also possible to use the resin dispersed in a curable resin such as an alkyd resin, an epoxy resin, and a silicone resin.

【0034】上記正孔輸送層、発光層、電子輸送層など
の有機層の形成方法は、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸
着、スパッタリング法などがある。特に限定されるもの
ではないが、通常は、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着な
どの蒸着法が特性面で好ましい。層の厚みは、有機層の
抵抗値にもよるので限定することはできないが、経験的
には10〜1000nmの間から選ばれる。
The method of forming the organic layers such as the hole transport layer, the light emitting layer, and the electron transport layer includes resistance heating evaporation, electron beam evaporation, and sputtering. Although not particularly limited, an evaporation method such as resistance heating evaporation or electron beam evaporation is usually preferable in terms of characteristics. Although the thickness of the layer depends on the resistance value of the organic layer and cannot be limited, it is empirically selected from the range of 10 to 1000 nm.

【0035】第二電極となる陰極は、電子を本素子の発
光層に効率よく注入できる物質であれば特に限定されな
い。従って、アルカリ金属などの低仕事関数金属の使用
も可能であるが、電極の安定性を考えると、白金、金、
銀、銅、鉄、錫、アルミニウム、マグネシウム、インジ
ウムなどの金属、またはこれら金属と低仕事関数金属と
の合金などが好ましい例として挙げられる。また、あら
かじめ有機層に低仕事関数金属を微量ドーピングしてお
き、その後に比較的安定な金属を陰極として成膜するこ
とで、電極注入効率を高く保ちながら安定な電極を得る
こともできる。これらの電極の作製法も抵抗加熱蒸着、
電子ビーム蒸着、スパッタリング、イオンプレーティン
グ法などのドライプロセスが好ましい。
The cathode serving as the second electrode is not particularly limited as long as it can efficiently inject electrons into the light emitting layer of the device. Therefore, it is possible to use a low work function metal such as an alkali metal, but considering the stability of the electrode, platinum, gold,
Preferable examples include metals such as silver, copper, iron, tin, aluminum, magnesium and indium, and alloys of these metals with low work function metals. In addition, a stable electrode can be obtained while maintaining high electrode injection efficiency by doping the organic layer with a small amount of a low work function metal in advance and then forming a film of a relatively stable metal as a cathode. These electrodes are also manufactured by resistance heating evaporation,
Dry processes such as electron beam evaporation, sputtering, and ion plating are preferred.

【0036】[0036]

【実施例】以下、実施例および比較例を挙げて本発明を
説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるも
のではない。
The present invention will be described below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0037】実施例1 厚さ1.1mmの無アルカリガラス表面にスパッタリン
グ蒸着法によって厚さ130nmのITO透明電極膜が
形成されたITO基板を用意した。このITO膜をフォ
トリソ法を用いてパターニングした後、46mm×38
mmの大きさに切断して、基板中央部に幅12mmのI
TO膜(第一電極)が存在するようにパターニングして
基板を作製した。
Example 1 An ITO substrate having a 130 nm thick ITO transparent electrode film formed on a 1.1 mm thick non-alkali glass surface by sputtering was prepared. After patterning this ITO film using the photolithography method, 46 mm × 38
mm, and a 12 mm wide I
A substrate was fabricated by patterning so that a TO film (first electrode) was present.

【0038】この基板を洗浄してから蒸着機にセット
し、2×10-4Paの真空度まで排気した。15mm角
の開口部を有する発光層用シャドーマスクを配置した状
態で、水晶振動子による膜厚モニター表示値で銅フタロ
シアニン10nm、N,N’−ジフェニル−N,N’−
ジナフチル−1,1’−ジフェニル−4,4’−ジアミ
ン(α−NPD)50nmおよびトリス(8−キノリノ
ラト)アルミニウム(Alq3)50nmを蒸着した。そ
の後、薄膜層をリチウム蒸気に曝してドーピング(膜厚
換算量0.5nm)した。次に、5×12mmの開口部
を4つ有する第二電極用シャドーマスクに交換し、真空
度3×10-4Paでアルミニウムを120nmの厚さに
蒸着して、第二電極をパターニングした。このようにし
て基板上に4つの緑色発光領域を有する有機電界発光素
子を作製した。
After washing the substrate, it was set in a vapor deposition machine and evacuated to a vacuum of 2 × 10 −4 Pa. With the shadow mask for the light emitting layer having an opening of 15 mm square arranged, copper phthalocyanine 10 nm, N, N'-diphenyl-N, N'-
Dinaphthyl-1,1′-diphenyl-4,4′-diamine (α-NPD) 50 nm and tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq 3 ) 50 nm were deposited. After that, the thin film layer was exposed to lithium vapor to dope (0.5 nm in equivalent film thickness). Next, the mask was replaced with a second electrode shadow mask having four 5 × 12 mm openings, and aluminum was vapor-deposited to a thickness of 120 nm at a degree of vacuum of 3 × 10 −4 Pa to pattern the second electrode. Thus, an organic electroluminescent device having four green light emitting regions on the substrate was manufactured.

【0039】本素子を蒸着機から取り出し、ロータリー
ポンプによる減圧雰囲気下で20分間保持した後に、露
点−90℃のアルゴン雰囲気下に移した。該乾燥雰囲気
下で、2液混合型樹脂として、主剤にフェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂(「エピコート152」、(株)ジ
ャパンエポキシレジン社製)、硬化剤にポリアミノアミ
ド系硬化剤(「XNH3101」、チバ・スペシャルテ
ィ・ケミカルズ社製)を適量混合し、十分攪拌した。こ
の混合樹脂を接着剤として、基板上の発光部分を取り囲
む位置に塗布し、無アルカリガラス製の封止板を貼り合
わせて封止した。
The device was taken out of the evaporator, kept in a reduced pressure atmosphere by a rotary pump for 20 minutes, and then transferred to an argon atmosphere having a dew point of -90 ° C. Under the dry atmosphere, a phenol novolak-type epoxy resin ("Epicoat 152", manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) as a main agent, a polyaminoamide-based curing agent ("XNH3101",・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) was mixed in an appropriate amount and thoroughly stirred. The mixed resin was applied as an adhesive to a position surrounding the light emitting portion on the substrate, and a sealing plate made of non-alkali glass was bonded and sealed.

【0040】接着剤を24時間室温硬化させた後に、得
られた素子を80℃、80%RHの雰囲気下に放置した
ところ、封止直後に観察された発光領域のうち、99%
以上の発光領域を200時間まで維持していた。
After the adhesive was cured at room temperature for 24 hours, the obtained device was allowed to stand in an atmosphere of 80 ° C. and 80% RH.
The above light emitting region was maintained for up to 200 hours.

【0041】比較例1 硬化剤に複素環式アミン系硬化剤(B001、(株)油
化シェルエポキシ製)を用いた以外は、実施例1と同様
にして封止素子を作製した。得られた素子を80℃、8
0%RHの雰囲気下に40時間放置したところ、封止直
後観察された発光領域のうち、30%以下の発光領域し
か維持しなかった。
Comparative Example 1 A sealing element was produced in the same manner as in Example 1 except that a heterocyclic amine-based curing agent (B001, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) was used as the curing agent. The obtained device was heated at 80 ° C. for 8 hours.
When left in an atmosphere of 0% RH for 40 hours, only 30% or less of the light emitting region was maintained among the light emitting regions observed immediately after sealing.

【0042】比較例2 硬化剤に複素環式アミン系硬化剤(LX2S、(株)油
化シェルエポキシ製)を用いた以外は、実施例1と同様
にして封止素子を作製した。得られた素子を80℃、8
0%RHの雰囲気下に40時間放置したところ、封止直
後観察された発光領域のうち、30%以下の発光領域し
か維持しなかった。
Comparative Example 2 A sealing element was produced in the same manner as in Example 1 except that a heterocyclic amine-based curing agent (LX2S, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) was used as the curing agent. The obtained device was heated at 80 ° C. for 8 hours.
When left in an atmosphere of 0% RH for 40 hours, only 30% or less of the light emitting region was maintained among the light emitting regions observed immediately after sealing.

【0043】比較例3 硬化剤に複素環式アミン系硬化剤(RX2、(株)油化
シェルエポキシ製)を用いた以外は、実施例1と同様に
して封止素子を作製した。得られた素子を80℃、80
%RHの雰囲気下に40時間放置したところ、封止直後
観察された発光領域のうち、30%以下の発光領域しか
維持しなかった。
Comparative Example 3 A sealing element was produced in the same manner as in Example 1 except that a heterocyclic amine-based curing agent (RX2, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) was used as the curing agent. The obtained device was heated at 80 ° C and 80 ° C.
When left in an atmosphere of% RH for 40 hours, only 30% or less of the light emitting region was maintained among the light emitting regions observed immediately after sealing.

【0044】比較例4 硬化剤に複素環式アミン系硬化剤(P002、(株)油
化シェルエポキシ製)を用いた以外は、実施例1と同様
にして封止素子を作製した。得られた素子を80℃、8
0%RHの雰囲気下に40時間放置したところ、封止直
後観察された発光領域のうち、30%以下の発光領域し
か維持しなかった。
Comparative Example 4 A sealing element was produced in the same manner as in Example 1 except that a heterocyclic amine-based curing agent (P002, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) was used as the curing agent. The obtained device was heated at 80 ° C. for 8 hours.
When left in an atmosphere of 0% RH for 40 hours, only 30% or less of the light emitting region was maintained among the light emitting regions observed immediately after sealing.

【0045】比較例5 硬化剤にメルカプタン系硬化剤(TMTP、(株)淀化
学製)を用いた以外は、実施例1と同様にして封止素子
を作製した。得られた素子を80℃、80%RHの雰囲
気下に40時間放置したところ、封止直後観察された発
光領域のうち、30%以下の発光領域しか維持しなかっ
た。
Comparative Example 5 A sealing element was produced in the same manner as in Example 1, except that a mercaptan-based curing agent (TMTP, manufactured by Yodo Chemical Co., Ltd.) was used as the curing agent. When the obtained device was left under an atmosphere of 80 ° C. and 80% RH for 40 hours, only a light emitting region of 30% or less was maintained among light emitting regions observed immediately after sealing.

【0046】比較例6 硬化剤にメルカプタン系硬化剤(PETP、(株)淀化
学製)を用いた以外は、実施例1と同様にして封止素子
を作製した。得られた素子を80℃、80%RHの雰囲
気下に40時間放置したところ、封止直後観察された発
光領域のうち、40%以下の発光領域しか維持しなかっ
た。
Comparative Example 6 A sealing element was produced in the same manner as in Example 1 except that a mercaptan-based curing agent (PETP, manufactured by Yodo Chemical Co., Ltd.) was used as the curing agent. When the obtained device was left in an atmosphere of 80 ° C. and 80% RH for 40 hours, only 40% or less of the light emitting region observed from immediately after sealing was maintained.

【0047】実施例2 基板/樹脂界面、封止板/樹脂界面にプライマー処理を
する以外は、実施例1と同様にして封止素子を作製し
た。プライマー処理は、エタノールで2wt%に希釈し
たシランカップリング剤(「KBE903」、(株)信
越化学工業製)を、基板、封止板の樹脂を塗布する場所
に予め塗布・乾燥させ、その後樹脂を塗布してから基板
と封止板とを貼り合わせて封止した。
Example 2 A sealing element was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the interface between the substrate and the resin and the interface between the sealing plate and the resin were treated with a primer. In the primer treatment, a silane coupling agent ("KBE903", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) diluted to 2 wt% with ethanol is applied and dried in advance on the substrate and the sealing plate where the resin is applied, and then the resin is applied. Was applied, and the substrate and the sealing plate were bonded and sealed.

【0048】得られた素子を80℃、80%RHの雰囲
気下に300時間放置した後でも、封止直後に観察され
た発光領域のうち、99%以上の発光領域を維持してい
た。
Even after the obtained device was left in an atmosphere of 80 ° C. and 80% RH for 300 hours, 99% or more of the light emitting regions observed immediately after sealing were maintained.

【0049】実施例3 封止用接着剤が硬化を硬化させる時に、基板と封止板と
を貼り合わせる方向に0.2kg/cm2の圧力を付加
する以外は実施例1と同様にして封止素子を作製した。
得られた素子を80℃、80%RHの雰囲気下に400
時間放置した後でも、封止直後に観察された発光領域の
うち、99%以上の発光領域を維持していた。
Example 3 The sealing was carried out in the same manner as in Example 1 except that a pressure of 0.2 kg / cm 2 was applied in the direction of bonding the substrate and the sealing plate when the sealing adhesive hardened. A stop element was produced.
The obtained device was placed in an atmosphere at 80 ° C. and 80% RH for 400 hours.
Even after standing for a period of time, 99% or more of the light emitting regions observed in the light emitting region observed immediately after sealing were maintained.

【0050】実施例4 硬化促進剤として、2,4,6−トリス(ジメチルアミ
ノメチル)フェノール(「EH−30」、(株)コグニ
スジャパン製)を樹脂の総重量に対して1%添加し、硬
化時間を3時間にする以外は実施例1と同様にして封止
素子を作製した。得られた素子を80℃、80%RHの
雰囲気下に放置したところ、封止直後に観察された発光
領域のうち、99%以上の発光領域を200時間まで維
持していた。
Example 4 As a curing accelerator, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol ("EH-30", manufactured by Cognis Japan Co., Ltd.) was added in an amount of 1% based on the total weight of the resin. A sealing element was produced in the same manner as in Example 1 except that the curing time was changed to 3 hours. When the obtained device was left in an atmosphere of 80 ° C. and 80% RH, 99% or more of the light emitting regions observed immediately after sealing were maintained for 200 hours.

【0051】実施例5 封止樹脂の硬化剤としてダイマー酸変性樹脂からなるポ
リアミノアミド(「バーサミド」150,(株)コグニ
スジャパン社製、アミン価=380)を用いる以外は実
施例1と同様にして素子を作製した。得られた素子を8
0℃、80%RHの雰囲気下に放置したところ、封止直
後に観察された発光領域のうち、99%以上の発光領域
を200時間まで維持していた。
Example 5 The same procedure as in Example 1 was carried out except that a polyaminoamide ("Virsamide" 150, Cognis Japan Co., Ltd., amine value = 380) composed of a dimer acid-modified resin was used as a curing agent for the sealing resin. Thus, an element was manufactured. 8
When the device was left in an atmosphere of 0 ° C. and 80% RH, 99% or more of the light emitting regions observed immediately after sealing were maintained for up to 200 hours.

【0052】実施例6 封止樹脂の硬化剤としてダイマー酸変性樹脂からなるポ
リアミノアミド(「バーサミド」JP1460,(株)
コグニスジャパン社製、アミン価=580)を用いる以
外は実施例1と同様にして素子を作製した。得られた素
子を80℃、80%RHの雰囲気下に放置したところ、
封止直後に観察された発光領域のうち、99%以上の発
光領域を250時間まで維持していた。
Example 6 A polyaminoamide composed of a dimer acid-modified resin as a curing agent for a sealing resin ("VERSAMID" JP1460, Inc.)
A device was produced in the same manner as in Example 1 except that Cognis Japan Co., Ltd., amine value = 580) was used. When the obtained device was left in an atmosphere of 80 ° C. and 80% RH,
Of the light emitting regions observed immediately after sealing, 99% or more of the light emitting regions were maintained for up to 250 hours.

【0053】実施例7 封止樹脂の硬化剤としてダイマー酸変性樹脂からなるポ
リアミノアミド(「バーサミド」125,(株)コグニ
スジャパン社製、アミン価=350)を用いる以外は実
施例1と同様にして素子を作製した。得られた素子を8
0℃、80%RHの雰囲気下に100時間放置したとこ
ろ、封止直後に観察された発光領域のうち、70%以下
の発光領域が維持されていた。
Example 7 The same procedure as in Example 1 was carried out except that a polyaminoamide ("Virsamide" 125, manufactured by Cognis Japan Co., Ltd., amine value = 350) composed of a dimer acid-modified resin was used as a curing agent for the sealing resin. Thus, an element was manufactured. 8
When the device was left for 100 hours in an atmosphere of 0 ° C. and 80% RH, 70% or less of the light-emitting region observed immediately after sealing was maintained.

【0054】実施例8 封止樹脂の主剤としてビスフェノールA型エポキシ樹脂
(「エピコート」825、(株)ジャパンエポキシレジ
ン)を用いる以外は実施例1と同様にして素子を作製し
た。得られた素子を80℃、80%RHの雰囲気下に放
置したところ、封止直後に観察された発光領域のうち、
99%以上の発光領域を180時間まで維持していた。
Example 8 A device was produced in the same manner as in Example 1 except that a bisphenol A type epoxy resin ("Epicoat" 825, Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) was used as the main component of the sealing resin. When the obtained device was left in an atmosphere of 80 ° C. and 80% RH, of the light emitting region observed immediately after sealing,
A light emission region of 99% or more was maintained for up to 180 hours.

【0055】実施例9 封止樹脂の主剤としてビスフェノールF型エポキシ樹脂
(「エピコート」806L、(株)ジャパンエポキシレ
ジン)を用いる以外は実施例1と同様にして素子を作製
した。得られた素子を80℃、80%RHの雰囲気下に
放置したところ、封止直後に観察された発光領域のう
ち、99%以上の発光領域を180時間まで維持してい
た。
Example 9 A device was produced in the same manner as in Example 1 except that a bisphenol F type epoxy resin ("Epicoat" 806L, Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) was used as the main component of the sealing resin. When the obtained device was left in an atmosphere of 80 ° C. and 80% RH, 99% or more of the light emitting regions observed immediately after sealing were maintained for 180 hours.

【0056】実施例10 封止樹脂の主剤として、N,N,N’,N’−テトラグ
リシジルm−キシレンジアミン(「TETRAD−
X」、(株)三菱瓦斯化学、1分子中の平均エポキシ基
数=4)とフェノールノボラック型エポキシ樹脂(「エ
ピコート」152、ジャパンエポキシレジン社製、1分
子中の平均エポキシ基数=2.1)とを等モル混合した
主剤(1分子中の平均エポキシ基数=3)を用いる以外
は実施例1と同様にして封止素子を作製した。得られた
素子を80℃、80%RHの雰囲気下に250時間放置
した後でも、封止直後に観察された発光領域のうち、9
9%以上の発光領域を維持していた。
Example 10 N, N, N ', N'-tetraglycidyl m-xylenediamine ("TETRAD-
X ", Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., average number of epoxy groups in one molecule = 4) and phenol novolak type epoxy resin (" Epicoat "152, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., average number of epoxy groups in one molecule = 2.1) And a sealing element was produced in the same manner as in Example 1 except that a main agent (average number of epoxy groups in one molecule = 3) obtained by mixing the same in an equimolar manner was used. Even after the obtained device was left under an atmosphere of 80 ° C. and 80% RH for 250 hours, 9
The light emission region of 9% or more was maintained.

【0057】[0057]

【発明の効果】本発明の有機電界発光素子では、封止用
樹脂がエポキシ樹脂、ポリアミノアミドを含むことによ
り、ダークスポットの経時的拡大を再現性よく抑制する
ことができる。
According to the organic electroluminescent device of the present invention, since the encapsulating resin contains an epoxy resin and polyaminoamide, it is possible to suppress the temporal expansion of dark spots with good reproducibility.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明で製造される有機電界発光素子の一例を
示す断面図。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of an organic electroluminescent device manufactured according to the present invention.

【図2】本発明で製造される有機電界発光素子の別の一
例を示す断面図。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of the organic electroluminescent device manufactured by the present invention.

【図3】本発明で製造される有機電界発光素子の別の一
例を示す断面図。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing another example of the organic electroluminescent device manufactured by the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 第一電極 3 駆動源 5 正孔輸送層 6 発光層 8 第二電極 21 封止板 22 接着樹脂 23 封止内部空間 24 凹部 25 脚部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 1st electrode 3 Drive source 5 Hole transport layer 6 Light emitting layer 8 2nd electrode 21 Sealing plate 22 Adhesive resin 23 Sealing internal space 24 Depression 25 Leg

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Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に形成された第一電極と、第一電極
上に形成された少なくとも有機化合物からなる発光層を
含む薄膜層と、薄膜層上に形成された第二電極と、接着
剤で基板と貼り合わされた封止板とを含む有機電界発光
素子であって、前記接着剤がエポキシ樹脂と脂肪族ポリ
アミノアミドを含むことを特徴とする有機電界発光素
子。
A first electrode formed on the substrate, a thin film layer formed on the first electrode, the light emitting layer including at least an organic compound, and a second electrode formed on the thin film layer; An organic electroluminescent device including a sealing plate bonded to a substrate with an agent, wherein the adhesive includes an epoxy resin and an aliphatic polyaminoamide.
【請求項2】前記接着剤に、更に硬化促進剤を有するこ
とを特徴とする請求項1記載の有機電界発光素子。
2. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein said adhesive further comprises a curing accelerator.
【請求項3】エポキシ樹脂がビスフェノールA型、ビス
フェノールF型、フェノールノボラック型の少なくとも
一つの骨格を含むことを特徴とする請求項1記載の有機
電界発光素子。
3. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the epoxy resin contains at least one skeleton of bisphenol A type, bisphenol F type, and phenol novolak type.
【請求項4】前記接着剤が、1分子中の平均エポキシ基
数が2より大なるエポキシ樹脂を含むことを特徴とする
請求項1記載の有機電界発光素子。
4. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein said adhesive contains an epoxy resin having an average number of epoxy groups in one molecule of more than 2.
【請求項5】前記脂肪族ポリアミノアミド樹脂のアミン
価が370よりも大なることを特徴とする請求項1記載
の有機電界発光素子。
5. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the amine value of the aliphatic polyaminoamide resin is larger than 370.
【請求項6】硬化促進剤が3級アミン、フェノール化合
物、3級アミンの有機酸塩からなる群より選ばれる少な
くとも1種の化合物であることを特徴とする請求項2記
載のエポキシ樹脂組成物。
6. The epoxy resin composition according to claim 2, wherein the curing accelerator is at least one compound selected from the group consisting of tertiary amines, phenolic compounds and organic acid salts of tertiary amines. .
【請求項7】請求項1記載の有機電界発光素子の製造方
法であって、接着剤を硬化させる際に、基板と封止板と
を貼り合わせる方向に0.01kg/cm2以上の圧力
をかけることを特徴とする有機電界発光素子の製造方
法。
7. The method for manufacturing an organic electroluminescent device according to claim 1, wherein, when the adhesive is cured, a pressure of 0.01 kg / cm 2 or more is applied in a direction of bonding the substrate and the sealing plate. A method for manufacturing an organic electroluminescent device, comprising:
【請求項8】請求項1記載の有機電界発光素子の製造方
法であって、基板あるいは封止板が接着剤と接する表面
をプライマー処理した後に接着剤を塗布し、基板と封止
板とを貼り合わせることを特徴とする有機電界発光素子
の製造方法。
8. The method for manufacturing an organic electroluminescent device according to claim 1, wherein a surface of the substrate or the sealing plate in contact with the adhesive is subjected to a primer treatment, and then an adhesive is applied to the substrate and the sealing plate. A method for manufacturing an organic electroluminescent device, comprising laminating.
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