JP2002363386A - Resin composition for filling hole of printed wiring substrate - Google Patents

Resin composition for filling hole of printed wiring substrate

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JP2002363386A
JP2002363386A JP2001178269A JP2001178269A JP2002363386A JP 2002363386 A JP2002363386 A JP 2002363386A JP 2001178269 A JP2001178269 A JP 2001178269A JP 2001178269 A JP2001178269 A JP 2001178269A JP 2002363386 A JP2002363386 A JP 2002363386A
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printed wiring
epoxy resin
resin
resin composition
holes
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JP2001178269A
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Hiroshi Oda
浩 尾田
Takashi Kawahara
隆志 川原
Takahiro Nakano
隆博 中野
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Nippon Paint Co Ltd
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Nippon Paint Co Ltd
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition for filling holes of a printed wiring substrate which is a thermosetting resin composition for filling holes such as via holes and through holes formed in a printed wiring substrate such as a multi-layered substrate and a double-sided substrate and can impact high heat resistance and, simultaneously, can control the expansion by heat to its lower level. SOLUTION: The resin composition for filling holes of a printed wiring substrate comprises an epoxy resin which is liquid at room temperature, a curing catalyst, and a filler, and as the above epoxy resin, a glycidylamine type epoxy resin is incorporated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、多層基板や両面基
板等のプリント配線基板に形成されたバイアホールまた
はスルーホール等の穴を埋めるための熱硬化型樹脂組成
物に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thermosetting resin composition for filling holes such as via holes or through holes formed in a printed wiring board such as a multilayer board or a double-sided board.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の小型化、高性能化に伴
いプリント配線基板のパターンの細線化と実装面積の縮
小化が進んでいる。このため、プリント配線基板として
は、配線を積層することができる多層プリント配線基板
が好んで用いられるようになってきている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the miniaturization and high performance of electronic equipment, the pattern of a printed wiring board has become finer and the mounting area has been reduced. For this reason, multilayer printed wiring boards on which wiring can be laminated have been favorably used as printed wiring boards.

【0003】多層プリント配線基板においては、コア基
板にスルーホールやバイアホールを形成し、導体回路の
層間を電気的に接続している。このようなスルーホール
やバイアホールの上には別の層が積層されるので、その
表面は平坦にする必要がある。そこで、一般にはスルー
ホールやバイアホール等の穴を樹脂で埋め、表面を平坦
にした後、その上に別の層が積み重ねられる。
In a multilayer printed wiring board, through holes and via holes are formed in a core substrate to electrically connect layers of a conductor circuit. Since another layer is laminated on such a through hole or via hole, its surface needs to be flat. Therefore, generally, holes such as through holes and via holes are filled with resin to flatten the surface, and then another layer is stacked thereon.

【0004】ところで、プリント配線基板の上に部品を
表面実装するのに、はんだが用いられているが、近年、
環境問題から鉛フリーのはんだが用いられる傾向にあ
る。鉛フリーのはんだは、従来の鉛含有はんだよりも、
実装する際の接合温度が高くなるため、多層プリント配
線基板には、従来よりも高い温度に耐え得る耐熱性が要
求される。このため、多層プリント配線基板に使用され
るコア基板としては、ガラス−BT(ビスマレイミド/
トリアジン樹脂)複合基板、高Tgガラス−エポキシ複
合基板(FR−4、FR−5等)などの高耐熱性積層板
が好ましく用いられている。また、両面基板において
も、はんだの鉛フリー化による実装接合温度の上昇か
ら、高い耐熱性が要求されている。
[0004] By the way, solder is used for surface mounting components on a printed wiring board.
Lead-free solder tends to be used due to environmental problems. Lead-free solder is better than traditional lead-containing solder
Since the bonding temperature at the time of mounting becomes higher, the multilayer printed wiring board is required to have heat resistance that can withstand higher temperatures than before. For this reason, as a core substrate used for a multilayer printed wiring board, glass-BT (bismaleimide /
High heat-resistant laminates such as triazine resin) composite substrates and high Tg glass-epoxy composite substrates (FR-4, FR-5, etc.) are preferably used. In addition, high heat resistance is also required for a double-sided board due to an increase in mounting and joining temperature due to the use of lead-free solder.

【0005】上述のバイアホールやスルーホール等の穴
埋めに用いる穴埋め樹脂においても、高い耐熱性が求め
られている。バイアホールやスルーホール等に充填され
ている穴埋め樹脂が熱により膨張すると、これらの上に
積層された絶縁層やソルダーレジスト層にクラックが発
生するため、熱による膨張が小さい穴埋め樹脂が求めら
れている。プリント配線基板の穴埋め樹脂としては、熱
硬化型及び紫外線/熱併用硬化型のエポキシ樹脂が一般
に使用されている。
[0005] High heat resistance is also required for filling resins used for filling the above-mentioned via holes and through holes. If the filling resin filled in via holes and through holes expands due to heat, cracks will occur in the insulating layer and solder resist layer laminated on these, so there is a need for a filling resin with small expansion due to heat. I have. As the filling resin for the printed wiring board, a thermosetting epoxy resin and an ultraviolet / heat combined curing epoxy resin are generally used.

【0006】穴埋め用樹脂のガラス転移温度(Tg)を
上げることにより、ガラス転移温度より上のゴム状領域
の温度幅が小さくなるため、高温時の膨張を抑制するこ
とができる。このような観点からは、穴埋め用樹脂の硬
化温度を上げたり、硬化時間を長くすることにより、穴
埋め用樹脂のTgを上げて熱膨張を抑制する方法が考え
られる。特開平10−75027号公報、特開平10−
224034号公報、特開平11−140280号公報
等では、高温または長時間の硬化により穴埋め樹脂のガ
ラス転移温度を上げることが開示されている。
[0006] By increasing the glass transition temperature (Tg) of the filling resin, the temperature range of the rubbery region above the glass transition temperature is reduced, so that expansion at high temperatures can be suppressed. From such a viewpoint, it is conceivable to increase the curing temperature of the filling resin or lengthen the curing time to increase the Tg of the filling resin to suppress thermal expansion. JP-A-10-75027, JP-A-10-75027
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2203404 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-140280 disclose raising the glass transition temperature of the filling resin by curing at a high temperature or for a long time.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、硬化温
度を高くすると、硬化から冷却時の収縮が大きくなり、
基板にそりが発生するという問題がある。また、硬化時
間を長くすると、製造工程が長くなるため、生産性が悪
くなるという問題がある。
However, when the curing temperature is increased, shrinkage from curing to cooling increases,
There is a problem that the substrate is warped. Further, if the curing time is lengthened, there is a problem that the productivity is deteriorated because the manufacturing process is lengthened.

【0008】本発明の目的は、硬化温度を高くしたり、
あるいは硬化時間を長くすることなく、ガラス転移温度
を高めて、熱膨張を抑制することができるプリント配線
基板穴埋め用樹脂組成物を提供することにある。
An object of the present invention is to increase the curing temperature,
Another object of the present invention is to provide a resin composition for filling holes in a printed wiring board, which can increase the glass transition temperature and suppress thermal expansion without lengthening the curing time.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の穴埋め用樹脂組
成物は、プリント配線基板に形成された穴を埋めるため
の熱硬化型樹脂組成物であり、室温で液状のエポキシ樹
脂と、硬化触媒と、フィラーとを含み、エポキシ樹脂と
してグリシジルアミン型エポキシ樹脂が含有されている
ことを特徴としている。
The resin composition for filling holes according to the present invention is a thermosetting resin composition for filling holes formed in a printed wiring board, and comprises an epoxy resin which is liquid at room temperature and a curing catalyst. And a filler, and a glycidylamine type epoxy resin as an epoxy resin.

【0010】本発明においては、エポキシ樹脂としてグ
リシジルアミン型エポキシ樹脂が含有されているので、
硬化温度を高くしたり、硬化時間を長くすることなく、
ガラス転移温度を高めることができる。このため、熱膨
張を抑制することができ、はんだ付け等による加熱で、
その上に形成されている絶縁層やソルダーレジスト層に
クラック等が発生するのを防止することができる。
In the present invention, since a glycidylamine type epoxy resin is contained as an epoxy resin,
Without increasing the curing temperature or prolonging the curing time,
Glass transition temperature can be increased. For this reason, thermal expansion can be suppressed, and heating by soldering etc.
Cracks and the like can be prevented from occurring in the insulating layer and the solder resist layer formed thereon.

【0011】また、本発明においては、室温で液状のエ
ポキシ樹脂を用いているので、溶剤で希釈することなく
用いることができる。従って、バイアホールやスルーホ
ール等に充填した後硬化する際に、溶剤の揮発が生じな
いため、良好な状態でバイアホールやスルーホール等の
穴に充填することができる。
In the present invention, since an epoxy resin which is liquid at room temperature is used, it can be used without being diluted with a solvent. Accordingly, the solvent is not volatilized during the curing after filling into the via hole or the through hole or the like, so that the hole such as the via hole or the through hole can be filled in a good condition.

【0012】以下、本発明の穴埋め用樹脂組成物の各構
成成分について説明する。 <グリシジルアミン型エポキシ樹脂>グリシジルアミン
型エポキシ樹脂は、アミン化合物の活性水素にエピクロ
ルヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂である。
本発明において用いるグリシジルアミン型エポキシ樹脂
としては、室温で液状であるものが好ましく使用され
る。本発明において「室温で液状」とは、組成物を調製
する際及び使用する際において液状であることを意味し
ており、室温とは一般に約0℃から約30℃の温度範囲
を意味している。
Hereinafter, each component of the resin composition for filling holes of the present invention will be described. <Glycidylamine-type epoxy resin> The glycidylamine-type epoxy resin is an epoxy resin obtained by reacting epichlorohydrin with active hydrogen of an amine compound.
As the glycidylamine type epoxy resin used in the present invention, those which are liquid at room temperature are preferably used. In the present invention, “liquid at room temperature” means that the composition is liquid at the time of preparation and use, and room temperature generally means a temperature range of about 0 ° C. to about 30 ° C. I have.

【0013】グリシジルアミン型エポキシ樹脂の具体的
な例としては、例えば、テトラグリシジルジアミノジフ
ェニルメタン、トリグリシジルアミノフェノール、ジグ
リシジルアニリン、ジグリシジルトルイジン、テトラグ
リシジルメタキシレンジアミン、テトラグリシジルビス
アミノメチルシクロヘキサン等が挙げられる。これらの
中でも、1分子内にエポキシ基を3つ以上有するエポキ
シ樹脂が好ましく、このような樹脂として、テトラグリ
シジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルアミ
ノフェノール、テトラグリシジルメタキシレンジアミ
ン、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサン
等が挙げられる。
Specific examples of the glycidylamine type epoxy resin include, for example, tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidylaminophenol, diglycidylaniline, diglycidyltoluidine, tetraglycidyl metaxylenediamine, tetraglycidylbisaminomethylcyclohexane and the like. No. Among them, epoxy resins having three or more epoxy groups in one molecule are preferable, and such resins include tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidylaminophenol, tetraglycidylmethaxylenediamine, and tetraglycidylbisaminomethylcyclohexane. No.

【0014】<その他のエポキシ樹脂>本発明において
は、上記グリシジルアミン型エポキシ樹脂に、他のエポ
キシ樹脂を混合して用いてもよい。他のエポキシ樹脂と
しては、室温で液状のものが好ましく用いられる。他の
エポキシ樹脂の具体的な例としては、ビスフェノールA
型、ビスフェノールF型フェノールノボラック型、クレ
ゾールノボラック型エポキシ樹脂等を挙げることがで
き、これらの樹脂は単独または2種以上組み合わせて用
いることができる。
<Other Epoxy Resins> In the present invention, another epoxy resin may be mixed with the glycidylamine type epoxy resin. As the other epoxy resin, a liquid at room temperature is preferably used. Specific examples of other epoxy resins include bisphenol A
Type, bisphenol F type phenol novolak type, cresol novolak type epoxy resin, etc., and these resins can be used alone or in combination of two or more.

【0015】また、粘度を下げることを目的として、
1,6ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペ
ンチルジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコー
ルジグリシジルエーテルなどの脂肪族多官能エポキシ樹
脂、フェニルグリシジルエーテル、クレシルグリシジル
エーテルなどの単官能芳香族エポキシ樹脂、並びにブチ
ルグリシジルエーテルなどの単官能脂肪族エポキシ樹脂
などを混合して用いてもよい。
Further, for the purpose of lowering the viscosity,
Aliphatic polyfunctional epoxy resins such as 1,6 hexanediol diglycidyl ether, neopentyl diglycidyl ether, and polypropylene glycol diglycidyl ether; monofunctional aromatic epoxy resins such as phenyl glycidyl ether and cresyl glycidyl ether; and butyl glycidyl ether And other monofunctional aliphatic epoxy resins.

【0016】上記の脂肪族多官能エポキシ樹脂、単官能
芳香族エポキシ樹脂、及び単官能脂肪族エポキシ樹脂を
グリシジルアミン型エポキシ樹脂に混合して用いる場
合、該エポキシ樹脂は反応性が低く、ガラス転移温度が
低くなり、また未反応成分が残る可能性があるため、そ
の配合割合は、全エポキシ樹脂中において、1〜30重
量%とすることが好ましく、さらに好ましくは1〜20
重量%である。
When the above aliphatic polyfunctional epoxy resin, monofunctional aromatic epoxy resin and monofunctional aliphatic epoxy resin are mixed with a glycidylamine type epoxy resin, the epoxy resin has low reactivity and glass transition. Since the temperature is lowered and unreacted components may remain, the mixing ratio is preferably 1 to 30% by weight, more preferably 1 to 20% by weight, based on the total epoxy resin.
% By weight.

【0017】なお、グリシジルアミン型エポキシ樹脂の
配合割合は、全エポキシ樹脂中において、2重量%以上
であることが好ましく、さらに好ましくは10重量%以
上である。グリシジルアミン型エポキシ樹脂の配合割合
が少なくなると、ガラス転移温度を高くすることができ
ず、熱膨張を十分に抑制することができない場合があ
る。
The mixing ratio of the glycidylamine type epoxy resin is preferably at least 2% by weight, more preferably at least 10% by weight in all epoxy resins. If the blending ratio of the glycidylamine type epoxy resin is low, the glass transition temperature cannot be increased, and the thermal expansion may not be sufficiently suppressed.

【0018】<硬化触媒>硬化触媒としては、上記エポ
キシ樹脂を硬化することができるものであれば特に限定
されるものではないが、耐薬品性、吸湿性に優れること
から、特にイミダゾールが好ましく用いられる。イミダ
ゾールの具体例としては、商品名(商品名は全て四国化
成工業社製のもの)「2MZ」、「C11Z」、「C1
7Z」、「2E4MZ」等のイミダゾール類、「2MZ
−A」、「2E4MZ−A」等のイミダゾールのAZI
NE類、「2MA−OK」、「2PZ−OK」等のイミ
ダゾールのイソシアヌル酸塩、「2PHZ」、「2P4
MHZ」等のイミダゾールヒドロキシメチル体などが挙
げられる。
<Curing Catalyst> The curing catalyst is not particularly limited as long as it can cure the epoxy resin, but imidazole is particularly preferably used because of its excellent chemical resistance and hygroscopicity. Can be Specific examples of imidazole include trade names (all trade names are manufactured by Shikoku Chemicals Corporation) “2MZ”, “C11Z”, “C1
Imidazoles such as "7Z" and "2E4MZ";
AZI of imidazole such as "-A" and "2E4MZ-A"
NEs, imidazole isocyanurate such as "2MA-OK", "2PZ-OK", "2PHZ", "2P4"
MHZ ”and the like.

【0019】本発明において、硬化触媒は、エポキシ樹
脂100重量部に対し、1〜20重量部配合することが
好ましく、さらに好ましくは2〜15重量部配合され
る。配合量が少ないと、硬化が不足し、ガラス転移温度
が低くなり十分な耐熱性が得られない場合がある。配合
量が多くなり過ぎると、反応性が高くなり、貯蔵安定性
の点で問題が生じる場合がある。
In the present invention, the curing catalyst is preferably blended in an amount of 1 to 20 parts by weight, more preferably 2 to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the epoxy resin. If the amount is too small, curing may be insufficient, the glass transition temperature may be lowered, and sufficient heat resistance may not be obtained. If the amount is too large, the reactivity may increase, and a problem may occur in storage stability.

【0020】<フィラー>本発明において用いるフィラ
ーとしては、金属フィラー、無機フィラー、及び樹脂フ
ィラーなどが挙げられる。金属フィラーとしては、銅、
銀、アルミニウム等のフィラーが挙げられ、無機フィラ
ーとしては、シリカ、沈降性硫酸バリウム、タルク、ア
ルミナ、ジルコニア、炭酸カルシウムなどのフィラーが
挙げられる。また、樹脂フィラーとしては、アクリルポ
リマー、スチレンポリマーなどの樹脂フィラーが挙げら
れる。また、難燃性付与のため、ハロゲン系有機物、リ
ン系有機物等をフィラーとして配合してもよい。上記フ
ィラーは、単独のみならず、複数組み合わせて併用して
もよい。
<Filler> The filler used in the present invention includes a metal filler, an inorganic filler and a resin filler. Copper, as metal filler
Fillers such as silver and aluminum are exemplified, and examples of the inorganic filler include fillers such as silica, precipitated barium sulfate, talc, alumina, zirconia, and calcium carbonate. Examples of the resin filler include resin fillers such as an acrylic polymer and a styrene polymer. Further, a halogen-based organic substance, a phosphorus-based organic substance, or the like may be blended as a filler for imparting flame retardancy. The fillers described above may be used alone or in combination of two or more.

【0021】フィラーの平均粒子径は、0.1〜15μ
mであることが好ましい。0.1μm未満であると、樹
脂組成物の粘度が高くなり過ぎるため、充填作業性が悪
くなる場合がある。また、15μmよりも大きくなる
と、穴を埋めた充填部分の表面の平滑性が悪くなる場合
がある。
The average particle size of the filler is 0.1 to 15 μm.
m is preferable. If the thickness is less than 0.1 μm, the viscosity of the resin composition becomes too high, so that the filling workability may be deteriorated. On the other hand, if it is larger than 15 μm, the smoothness of the surface of the filled portion filling the hole may be deteriorated.

【0022】フィラーの配合割合は、樹脂組成物の穴へ
の充填作業性を損なわない粘度となる範囲で適宜設定さ
れる。また、本発明においては、フィラーとしてウィス
カを含有してもよい。フィラーとしてウィスカを含有さ
せることにより、さらに熱膨張を抑制することができ
る。
The compounding ratio of the filler is appropriately set within a range that does not impair the workability of filling the resin composition into the holes. In the present invention, whiskers may be contained as a filler. By including whiskers as fillers, thermal expansion can be further suppressed.

【0023】ウィスカとしては、一般的にウィスカとし
て定義されているものを用いることができる。一般に、
ウィスカは、「断面積が8×10-5in2(5.16×
10- 2mm2)以下で長さが断面の平均直径に比して1
0倍以上の単結晶」と定義されている。
As the whiskers, those generally defined as whiskers can be used. In general,
The whisker has a cross section of 8 × 10 −5 in 2 (5.16 ×
10 - 2 mm 2) or less in length than the average diameter of the cross-section 1
It is defined as "0 times or more single crystal."

【0024】本発明において用いるウィスカとしては、
平均繊維長が2〜30μmのものが好ましく用いられ
る。ウィスカの具体的な例としては、ホウ酸アルミニウ
ム、チタン酸カリウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ホウ
酸マグネシウム、酸化亜鉛、グラファイト等が挙げられ
る。これらのウィスカは、単独で用いてもよいし、組み
合わせて用いてもよい。
The whiskers used in the present invention include:
Those having an average fiber length of 2 to 30 μm are preferably used. Specific examples of whiskers include aluminum borate, potassium titanate, silicon carbide, silicon nitride, magnesium borate, zinc oxide, graphite, and the like. These whiskers may be used alone or in combination.

【0025】また、ウィスカは、シランカップリング剤
などのカップリング剤で表面処理したものを用いること
が好ましい。表面処理により、エポキシ樹脂に対する濡
れ性が向上するため、大量に配合しても粘度が高くなら
ず、穴に対する充填作業性が良好になる。
It is preferable to use whiskers that have been surface-treated with a coupling agent such as a silane coupling agent. The surface treatment enhances the wettability to the epoxy resin, so that even if it is blended in a large amount, the viscosity does not increase, and the workability of filling holes is improved.

【0026】ウィスカの配合割合は、エポキシ樹脂10
0重量部に対し、1重量部以上であることが好ましく、
さらに好ましくは5重量部以上である。配合割合が少な
いと、熱膨張を抑制するという効果が十分に得られない
場合がある。配合割合の上限は、穴への充填作業性が損
なわられない粘度となるまで配合することができるの
で、使用するエポキシ樹脂によって異なる。一般には、
エポキシ樹脂100重量部に対し、80重量部以下が適
当である。従って、ウィスカの配合割合の好ましい範囲
として、エポキシ樹脂100重量部に対し、1〜80重
量部の配合割合が挙げられる。
The mixing ratio of the whiskers is 10
It is preferably at least 1 part by weight with respect to 0 parts by weight,
More preferably, the amount is 5 parts by weight or more. If the mixing ratio is small, the effect of suppressing thermal expansion may not be sufficiently obtained. The upper limit of the compounding ratio varies depending on the epoxy resin used because the compounding can be performed until the viscosity does not impair the workability of filling the holes. Generally,
80 parts by weight or less is suitable for 100 parts by weight of the epoxy resin. Accordingly, a preferable range of the mixing ratio of the whisker is 1 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin.

【0027】本発明の穴埋め用樹脂組成物においては、
上記構成成分以外に、その性能を損なわない範囲で、消
泡剤、レベリング剤、揺変剤などの添加剤を配合するこ
とができる。
In the resin composition for filling holes of the present invention,
In addition to the above components, additives such as an antifoaming agent, a leveling agent, and a thixotropic agent can be blended within a range that does not impair the performance.

【0028】本発明の穴埋め用樹脂組成物は、従来より
行われているスクリーン印刷等により、プリント配線基
板のバイアホールやスルーホールなどの穴に充填するこ
とができる。穴に充填した後、通常、90〜150℃
で、約30〜60分間程度加熱して1次硬化させる。1
次硬化完了時点では、完全に硬化していないので、基板
表面において穴からはみ出している部分を物理的に研磨
し除去して、基板表面を平坦化することができる。その
後、140〜150℃で約30〜60分程度加熱して2
次硬化(最終硬化)させることができる。
The resin composition for filling holes of the present invention can be filled into holes such as via holes and through holes of a printed wiring board by conventional screen printing or the like. After filling the holes, usually 90-150 ° C
For about 30 to 60 minutes for primary curing. 1
At the time of the completion of the next curing, the substrate has not been completely cured, and thus the portion of the substrate surface that protrudes from the hole can be physically polished and removed to flatten the substrate surface. Then, heat at 140-150 ° C for about 30-60 minutes to
Next curing (final curing) can be performed.

【0029】本発明の穴埋め用樹脂組成物は、プリント
配線基板に形成されたバイアホールやスルーホールなど
の穴を埋めるための永久穴埋め用樹脂組成物として用い
ることができるものであり、穴に充填した後硬化させる
ことにより、熱膨張が小さく、耐熱性に優れた樹脂組成
物とすることができる。
The resin composition for filling holes of the present invention can be used as a resin composition for filling permanent holes for filling holes such as via holes and through holes formed in a printed wiring board. After curing, a resin composition having low thermal expansion and excellent heat resistance can be obtained.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例に基づいて
さらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら
限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲に
おいて適宜変更して実施することが可能なものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples, and may be appropriately changed within the scope of the gist. It can be implemented by

【0031】(実施例1〜5及び比較例1)配合成分と
して、以下のエポキシ樹脂、硬化触媒、シリカ、ウィス
カ、及びヒュームドシリカを用い、表1に示す配合割合
(重量部)で各配合成分を予備混合した後、3本ロール
で混練分散させて樹脂組成物を調製した。
(Examples 1 to 5 and Comparative Example 1) The following epoxy resin, curing catalyst, silica, whisker, and fumed silica were used as the compounding components, and each compounding ratio (parts by weight) shown in Table 1 was used. After the components were preliminarily mixed, they were kneaded and dispersed by three rolls to prepare a resin composition.

【0032】・グリシジルアミン型エポキシ樹脂:テト
ラグリシジルメタキシリレンジアミン、商品名「TET
RAD X」、三菱ガス化学社製、エポキシ当量=10
3 ・ビスフェノールF型エポキシ樹脂:商品名「エピコー
トYDF−807」、ジャパンエポキシレジン社製、エ
ポキシ当量=170 ・硬化触媒:イミダゾール硬化触媒、商品名「キュアゾ
ール2MZ−A」、四国化成工業社製 ・シリカ:商品名「クリスタライトWX」、龍森社製 ・ホウ酸アルミニウムウィスカ:商品名「アルボレクス
YS3C」、四国化成工業社製、平均繊維長10μm ・ヒュームドシリカ:商品名「AEROSIL R−8
12」、日本アエロジル社製
Glycidylamine type epoxy resin: tetraglycidyl meta-xylylenediamine, trade name "TET"
RAD X ", manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, epoxy equivalent = 10
3. Bisphenol F type epoxy resin: trade name “Epicoat YDF-807”, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., epoxy equivalent = 170 Curing catalyst: imidazole curing catalyst, trade name “Curesol 2MZ-A”, manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd. Silica: trade name "Crystalite WX", manufactured by Tatsumori Co., Ltd.-Aluminum borate whisker: trade name "Albolex YS3C", manufactured by Shikoku Chemicals, Inc., average fiber length 10 m-Fumed silica: trade name "AEROSIL R-8"
12 ", manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.

【0033】[0033]

【表1】 [Table 1]

【0034】上記のようにして得られた実施例1〜5及
び比較例1の樹脂組成物について、以下のようにしてガ
ラス転移温度及び線膨張係数を測定した。 ・ガラス転移温度:予め水洗・乾燥を行ったフッ素樹脂
板に、上記実施例1〜5及び比較例1の各樹脂組成物を
ドクターブレード(30mil)にて塗布し、熱風循環
式乾燥炉において150℃で1時間硬化を行い、冷却し
た後、後硬化を150℃で30分行った。これを室温ま
で冷却した後、フッ素樹脂板から硬化塗膜を剥がし、評
価サンプルを得た。この評価サンプルを用いて、TMA
法によりガラス転移温度を測定した。
With respect to the resin compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 obtained as described above, the glass transition temperature and the coefficient of linear expansion were measured as follows. Glass transition temperature: The resin compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 were applied to a fluororesin plate which had been washed and dried in advance with a doctor blade (30 mil), and dried in a hot-air circulation drying oven for 150 minutes. After curing for 1 hour at 150C, after cooling, post-curing was performed at 150C for 30 minutes. After cooling to room temperature, the cured coating film was peeled off from the fluororesin plate to obtain an evaluation sample. Using this evaluation sample, TMA
The glass transition temperature was measured by the method.

【0035】・線膨張係数(α1及びα2):上記と同
様の評価サンプルを用いて、TMA法により、ガラス転
移温度前の線膨張係数α1及びガラス転移温度後の線膨
張係数α2を測定した。
Linear expansion coefficients (α1 and α2): Using the same evaluation samples as above, the linear expansion coefficient α1 before the glass transition temperature and the linear expansion coefficient α2 after the glass transition temperature were measured by the TMA method.

【0036】・線膨張係数(30〜280℃):上記評
価サンプルを用いて30〜280℃の温度範囲における
線膨張係数をTMA法により測定した。 測定結果を表2に示す。なお、上記の各線膨張係数は、
図1に示す関係を有している。図1から明らかなよう
に、ガラス転移温度(Tg)前の線膨張係数α1及びガ
ラス転移温度(Tg)後の線膨張係数α2が低下するこ
とにより、30〜280℃の温度範囲の線膨張係数αが
低下する。また、一点鎖線で示すように、線膨張係数α
1及び線膨張係数α2が同じであっても、Tgが高くな
ることにより、30〜280℃の線膨張係数αが小さく
なることがわかる。
Linear expansion coefficient (30 to 280 ° C.): The linear expansion coefficient in the temperature range of 30 to 280 ° C. was measured by the TMA method using the evaluation sample. Table 2 shows the measurement results. In addition, each of the above linear expansion coefficients is
It has the relationship shown in FIG. As is clear from FIG. 1, the linear expansion coefficient α1 before the glass transition temperature (Tg) and the linear expansion coefficient α2 after the glass transition temperature (Tg) are reduced, so that the linear expansion coefficient in the temperature range of 30 to 280 ° C. α decreases. Also, as shown by the dashed line, the linear expansion coefficient α
It can be seen that, even when the coefficient of linear expansion 1 and the coefficient of linear expansion α2 are the same, the linear expansion coefficient α at 30 to 280 ° C. decreases with an increase in Tg.

【0037】[0037]

【表2】 [Table 2]

【0038】表2に示す結果から明らかなように、グリ
シジルアミン型エポキシ樹脂を含有した実施例1〜5の
樹脂組成物は、比較例1の樹脂組成物に比べ、線膨張係
数が小さくなっていることがわかる。また、グリシジル
アミン型エポキシ樹脂の含有量の増加とともに、ガラス
転移温度が上昇していることがわかる。ガラス転移温度
の上昇により、図1を参照して説明したように、30〜
280℃の線膨張係数αが小さくなっている。
As is clear from the results shown in Table 2, the resin compositions of Examples 1 to 5 containing the glycidylamine type epoxy resin had a smaller linear expansion coefficient than the resin composition of Comparative Example 1. You can see that there is. Further, it can be seen that the glass transition temperature increases as the content of the glycidylamine type epoxy resin increases. Due to the increase in the glass transition temperature, as described with reference to FIG.
The linear expansion coefficient α at 280 ° C. is small.

【0039】実施例5の結果から明らかなように、フィ
ラーとしてホウ酸アルミニウムウィスカを含有すること
により、さらに線膨張係数が小さくなっており、熱膨張
が抑制されている。
As is evident from the results of Example 5, by containing aluminum borate whiskers as the filler, the coefficient of linear expansion is further reduced, and the thermal expansion is suppressed.

【0040】以上のように、実施例1〜5の樹脂組成物
は、熱膨張が小さく、プリント配線基板の永久穴埋め用
樹脂組成物として好適であることがわかる。
As described above, the resin compositions of Examples 1 to 5 have a small thermal expansion and are suitable as a resin composition for filling permanent holes in a printed wiring board.

【0041】[0041]

【発明の効果】本発明の穴埋め用樹脂組成物は、低い線
膨張係数を有しており、熱による膨張を小さくすること
ができる。従って、プリント配線基板の永久穴埋め用樹
脂組成物として用いた場合に、ばんだリフロー等の高温
においても、熱による膨張を小さくすることができる。
このため、本発明の穴埋め用樹脂組成物を用いることに
より、プリント配線基板のバイアホール、スルーホール
などの穴埋め作業を効率良く行うことができ、信頼性の
高いプリント配線基板を生産性良く製造することができ
るようになる。
The resin composition for filling holes according to the present invention has a low linear expansion coefficient, and can reduce expansion due to heat. Therefore, when used as a resin composition for filling permanent holes in a printed wiring board, expansion due to heat can be reduced even at a high temperature such as stagnant reflow.
Therefore, by using the resin composition for filling holes of the present invention, work of filling holes such as via holes and through holes of a printed wiring board can be performed efficiently, and a highly reliable printed wiring board can be manufactured with high productivity. Will be able to do it.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】ガラス転移温度前の線膨張係数α1及びガラス
転移温度後の線膨張係数α2と、30〜280℃の温度
範囲での線膨張係数αとの関係を説明するための図。
FIG. 1 is a diagram for explaining a relationship between a linear expansion coefficient α1 before a glass transition temperature and a linear expansion coefficient α2 after a glass transition temperature, and a linear expansion coefficient α in a temperature range of 30 to 280 ° C.

フロントページの続き (72)発明者 中野 隆博 大阪府寝屋川市池田中町19番17号 日本ペ イント株式会社内 Fターム(参考) 4J002 BC022 BG032 CD131 DA027 DA077 DA097 DE097 DE107 DE147 DE187 DE237 DG047 DJ007 DJ017 DJ047 DK007 EU116 FA067 FA082 FA087 FB097 FD012 FD017 FD156 GQ05 4J036 AH07 AH18 AH20 DA02 DC40 FA01 FB01 JA08 5E314 AA25 AA32 AA41 AA42 AA43 BB06 FF05 FF08 GG24 Continued on the front page (72) Inventor Takahiro Nakano 19-17 Ikedanakamachi, Neyagawa-shi, Osaka F-term in Nippon Paint Co., Ltd. (reference) 4J002 BC022 BG032 CD131 DA027 DA077 DA097 DE097 DE107 DE147 DE187 DE237 DG047 DJ007 DJ017 DJ047 DK007 EU116 FA067 FA082 FA087 FB097 FD012 FD017 FD156 GQ05 4J036 AH07 AH18 AH20 DA02 DC40 FA01 FB01 JA08 5E314 AA25 AA32 AA41 AA42 AA43 BB06 FF05 FF08 GG24

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プリント配線基板に形成された穴を埋め
るための熱硬化型樹脂組成物であって、 室温で液状のエポキシ樹脂と、硬化触媒と、フィラーと
を含み、前記エポキシ樹脂としてグリシジルアミン型エ
ポキシ樹脂が含有されていることを特徴とするプリント
配線基板穴埋め用樹脂組成物。
1. A thermosetting resin composition for filling a hole formed in a printed wiring board, comprising a liquid epoxy resin at room temperature, a curing catalyst, and a filler, wherein glycidylamine is used as the epoxy resin. A resin composition for filling holes in a printed wiring board, comprising a mold epoxy resin.
【請求項2】 前記グリシジルアミン型エポキシ樹脂
が、1分子内にエポキシ基を3つ以上有する樹脂である
ことを特徴とする請求項1に記載のプリント配線基板穴
埋め用樹脂組成物。
2. The resin composition for filling holes in a printed wiring board according to claim 1, wherein the glycidylamine type epoxy resin is a resin having three or more epoxy groups in one molecule.
【請求項3】 前記硬化触媒が、イミダゾールであるこ
とを特徴とする請求項1または2に記載のプリント配線
基板穴埋め用樹脂組成物。
3. The resin composition for filling holes in a printed wiring board according to claim 1, wherein the curing catalyst is imidazole.
【請求項4】 前記フィラーが、金属フィラー、無機フ
ィラー、及び樹脂フィラーから選ばれる少なくとも1つ
であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に
記載のプリント配線基板穴埋め用樹脂組成物。
4. The resin for filling holes in a printed wiring board according to claim 1, wherein the filler is at least one selected from a metal filler, an inorganic filler, and a resin filler. Composition.
【請求項5】 前記フィラーとしてウィスカが含有され
ていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に
記載のプリント配線基板穴埋め用樹脂組成物。
5. The resin composition for filling holes in printed wiring boards according to claim 1, wherein whiskers are contained as the filler.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7682691B2 (en) 2002-02-06 2010-03-23 Sekisui Chemical Co., Ltd. Resin composition of layered silicate
US7754803B2 (en) 2002-02-06 2010-07-13 Sekisui Chemical Co., Ltd. Resin composition
JP2011079968A (en) * 2009-10-07 2011-04-21 Uniplus Electronics Co Ltd High thermal conductivity and low loss factor build-up material
JP2015076542A (en) * 2013-10-10 2015-04-20 信越化学工業株式会社 Method for sealing wafer, and resin composition for wafer level sealing use

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