JPH115826A - Epoxy resin composition for build-up - Google Patents

Epoxy resin composition for build-up

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JPH115826A
JPH115826A JP7997498A JP7997498A JPH115826A JP H115826 A JPH115826 A JP H115826A JP 7997498 A JP7997498 A JP 7997498A JP 7997498 A JP7997498 A JP 7997498A JP H115826 A JPH115826 A JP H115826A
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JP
Japan
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epoxy resin
resin composition
build
weight
parts
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Application number
JP7997498A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroaki Fujiwara
弘明 藤原
Yoshiaki Ezaki
義昭 江崎
Koji Takagi
光司 高木
Shinichi Iketani
晋一 池谷
Shoichi Fujimori
正一 藤森
Isao Hirata
勲夫 平田
Kiyoaki Ihara
清暁 井原
Shuji Maeda
修二 前田
Satoru Ogawa
悟 小川
Yoshihiro Nakagawa
義廣 中川
Masayuki Ishihara
政行 石原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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    • H05K3/4673Application methods or materials of intermediate insulating layers not specially adapted to any one of the previous methods of adding a circuit layer
    • H05K3/4676Single layer compositions

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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject composition useful as an electric insulating resin for a circuit board such as a multilayer printed wiring board, by including a specific trifunctional epoxy resin, a curing agent, a curing promoter and a leveling agent. SOLUTION: This composition comprises an epoxy resin containing a trifunctional epoxy resin of formula I (R1 to R8 are each independently 1-8C alkyl, H, etc.), a curing agent (especially selected from a polyhydric phenol containing two or more phenolic OHs in one molecule and an aromatic amine compound of formula II containing two or more amine groups in one molecule), a curing promoter (especially an imidazole compound) and a leveling agent (selected from a fluorine-based or a silicone-based surfactants) and optionally 3-30 pts.wt. based on 100 pts.wt. of the epoxy resin solid content of a rubber and 1-300 pts.wt. of an inorganic and/or organic filter and has preferably 10-10,000 cPs viscosity at 25 deg.C.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、エポキシ樹脂組成
物に関するものであり、特に、多層プリント配線板等の
配線板の電気絶縁樹脂材料として有用なビルドアップ用
エポキシ樹脂組成物に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition, and more particularly to an epoxy resin composition for build-up useful as an electric insulating resin material for wiring boards such as multilayer printed wiring boards.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、プリント配線板等に加工される電
気用プリント配線板としては、例えばガラス布等の基材
にエポキシ樹脂等を含浸して乾燥することによリプリプ
レグを作製し、このプリプレグを所要枚数重ねると共
に、必要に応じて銅箔などの金属箔をその片側または両
側に重ね、加熱加圧成形することによって製造されたも
のが知られている。このような、電気用プリント配線板
については、高密度実装、高集積化、電気配線の高密度
化や軽薄短小化などの傾向が強まってきている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a printed wiring board for electric processing which is processed into a printed wiring board or the like, a prepreg is prepared by impregnating a base material such as a glass cloth with an epoxy resin and drying. And a metal foil such as a copper foil is stacked on one side or both sides as necessary, and is formed by heating and pressing. With respect to such printed wiring boards for electrical use, the tendency of high-density mounting, high integration, high-density electrical wiring, lightness, and shortness has been increasing.

【0003】これらの要求に伴い近年、新方式のビルド
アップ多層配線板が注目されている。このビルドアップ
多層配線板は、プリプレグに代わり、エポキシ樹脂等の
樹脂のみもしくはフィラーなどとの混合物で電気絶縁樹
脂層を直接回路基板上に形成する。このピルドアップ方
式による樹脂層の形成方法は、例えばフローコータで樹
脂を塗布する方法、スクリーン印刷による方法、樹脂フ
ィルムを重ねる方法等が挙げられる。また、あらかじめ
銅箔に樹脂をコートし半硬化状態にした樹脂付きの銅箔
を用いて積層する多層配線板も採用されてきている。こ
のビルドアップ多層配線板は、軽薄短小化には非常に優
れているが、ガラス繊維等で強化されたプリプレグを使
用した従来の多層配線板に比べて、耐熱性、耐湿性、耐
クラック性、加工性等の諸特性が劣るといった問題点が
あり、絶縁樹脂の高性能化が求められてきている。ま
た、塗工法で導体層間の絶縁樹脂層を形成した場合、塗
工で形成した塗膜にはじきが発生することがあり、それ
により所望の厚みの絶縁樹脂層が形成されず、多層配線
板としての歩留まりが低下するという問題もあった。
In response to these demands, a new type of build-up multilayer wiring board has recently been receiving attention. In this build-up multilayer wiring board, instead of a prepreg, an electrically insulating resin layer is formed directly on a circuit board using only a resin such as an epoxy resin or a mixture with a filler or the like. Examples of the method for forming the resin layer by the pild-up method include a method of applying a resin with a flow coater, a method of screen printing, and a method of laminating a resin film. In addition, a multilayer wiring board in which a copper foil is preliminarily coated with a resin to be semi-cured and laminated using a resin-added copper foil has been adopted. Although this build-up multilayer wiring board is extremely excellent in terms of lightness, thinness, and miniaturization, it has higher heat resistance, moisture resistance, crack resistance, and heat resistance than conventional multilayer wiring boards using prepregs reinforced with glass fiber or the like. There is a problem that various properties such as workability are inferior, and high performance of the insulating resin is required. Further, when the insulating resin layer between the conductor layers is formed by the coating method, repelling may occur in the coating film formed by the coating, whereby the insulating resin layer having a desired thickness is not formed, and as a multilayer wiring board, There was also a problem that the yield was lowered.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、直接
回路基板上に絶縁樹脂層を形成する多層配線板いわゆる
ビルドアップ方式の多層配線板において、塗工法で導体
層間の絶縁樹脂層を形成した場合に、塗工で形成した塗
膜にはじきが発生することがなく、且つ、耐熱性、耐湿
性、耐クラック性、加工性に優れる絶縁樹脂層が得られ
るビルドアップ用エポキシ樹脂組成物を提供することに
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to form an insulating resin layer between conductor layers by a coating method on a multilayer wiring board in which an insulating resin layer is formed directly on a circuit board, that is, a build-up type multilayer wiring board. In this case, an epoxy resin composition for build-up is obtained in which an insulating resin layer having excellent heat resistance, moisture resistance, crack resistance, and workability is obtained without causing repelling in a coating film formed by coating. To provide.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために下記の解決手段を採用する。 (1) 本発明のビルドアップ用エポキシ樹脂組成物(以
下、単に「エポキシ樹脂組成物」という)は、下記式
(a)で表わされる3官能エポキシ樹脂を含むエポキシ
樹脂と、硬化剤と、硬化促進剤と、レベリング剤とを含
む。
The present invention employs the following means to solve the above problems. (1) The epoxy resin composition for build-up of the present invention (hereinafter simply referred to as “epoxy resin composition”) comprises an epoxy resin containing a trifunctional epoxy resin represented by the following formula (a), a curing agent, and a curing agent. An accelerator and a leveling agent are included.

【0006】[0006]

【化3】 Embedded image

【0007】(2) 上記(1) のエポキシ樹脂組成物にお
いて、硬化剤が、1分子中に2個以上のフェノール性O
H基を有する多官能フェノール化合物、および、下記式
(b)で表される1分子中に2個以上のアミン基を有す
る芳香族アミン化合物からなる群の中から選ばれた少な
くとも1つである。
(2) In the epoxy resin composition according to the above (1), the curing agent comprises two or more phenolic O per molecule.
It is at least one selected from the group consisting of a polyfunctional phenol compound having an H group and an aromatic amine compound having two or more amine groups in one molecule represented by the following formula (b). .

【0008】[0008]

【化4】 Embedded image

【0009】(3) 上記(1) または(2) のエポキシ樹脂
組成物において、硬化促進剤がイミダゾール化合物であ
る。 (4) 上記(1) から(3) までのいずれかのエポキシ樹脂
組成物において、レベリング剤がフッ素系界面活性剤お
よびシリコン系界面活性剤からなる群の中から選ばれた
少なくとも1つである。
(3) In the epoxy resin composition of the above (1) or (2), the curing accelerator is an imidazole compound. (4) In the epoxy resin composition according to any one of (1) to (3), the leveling agent is at least one selected from the group consisting of a fluorine-based surfactant and a silicon-based surfactant. .

【0010】(5) 上記(1) から(4) までのいずれかの
エポキシ樹脂組成物において、ゴムをも含んでいる。上
記のエポキシ樹脂組成物において、 (6) 上記(5) のエポキシ樹脂組成物において、ゴムの
平均粒子径が0.05〜10μmである。 (7) 上記(5) または(6) のエポキシ樹脂組成物におい
て、ゴムの添加量が、エポキシ樹脂固形分100重量部
に対して3〜30重量部である。
(5) The epoxy resin composition according to any one of the above (1) to (4), further comprising a rubber. (6) In the epoxy resin composition of (5), the average particle diameter of the rubber is 0.05 to 10 μm. (7) In the epoxy resin composition of the above (5) or (6), the amount of rubber added is 3 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the epoxy resin.

【0011】(8) 上記(1) から(7) までのいずれかに
記載のエポキシ樹脂組成物において、無機質フィラーを
も含む。 (9) 上記(8) のエポキシ樹脂組成物において、無機質
フィラーが平均粒子径0.01〜50μmの粒子であ
る。 (10) 上記(8) または(9) のエポキシ樹脂組成物におい
て、無機質フィラーの添加量が、エポキシ樹脂固形分1
00重量部に対して1〜300重量部である。
(8) The epoxy resin composition according to any one of the above (1) to (7), further comprising an inorganic filler. (9) In the epoxy resin composition of (8), the inorganic filler is a particle having an average particle diameter of 0.01 to 50 μm. (10) In the epoxy resin composition of the above (8) or (9), the amount of the inorganic filler added is 1
It is 1 to 300 parts by weight with respect to 00 parts by weight.

【0012】(11) 上記(1) から(10)までのいずれかに
記載のエポキシ樹脂組成物において、有機質フィラーを
も含む。 (12) 上記(11)のエポキシ樹脂組成物において、有機質
フィラーの添加量が、エポキシ樹脂固形分100重量部
に対して1〜300重量部である。 (13) 上記(1) から(12)までのいずれかに記載のエポキ
シ樹脂組成物において、25℃における粘度が10〜10
000cpsである。
(11) The epoxy resin composition according to any one of the above (1) to (10), further comprising an organic filler. (12) In the epoxy resin composition of (11), the amount of the organic filler to be added is 1 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the epoxy resin. (13) In the epoxy resin composition according to any one of (1) to (12), the viscosity at 25 ° C is 10 to 10
000 cps.

【0013】[0013]

【作用】本発明のエポキシ樹脂組成物はエポキシ樹脂と
して前記の3官能エポキシ樹脂を含むため、耐熱性、耐
湿性、耐クラック性、加工性に優れる絶縁樹脂層を得る
ことができる。ここでいう耐熱性が優れるとはガラス転
移温度が高いことを意味している。しかも、レベリング
剤をも含むので、本発明のエポキシ樹脂組成物を用いて
得られる塗膜にはじきが発生しにくくなり、塗膜の厚み
が部分的に薄くなるということが起きにくくなる。
Since the epoxy resin composition of the present invention contains the above-mentioned trifunctional epoxy resin as an epoxy resin, an insulating resin layer having excellent heat resistance, moisture resistance, crack resistance and workability can be obtained. Here, “excellent in heat resistance” means that the glass transition temperature is high. In addition, since it also contains a leveling agent, repelling is less likely to occur in a coating film obtained by using the epoxy resin composition of the present invention, and the thickness of the coating film is less likely to be partially reduced.

【0014】本発明のエポキシ樹脂組成物がゴムをも含
んでいる場合には、熱衝撃等の衝撃を受けたときにクラ
ックが発生しにくい絶縁樹脂層を得ることができる。本
発明のエポキシ樹脂組成物が無機質フィラーおよび/ま
たは有機質フィラーをも含んでいる場合には、増粘、チ
クソ性が付与され、塗布性が向上する。
When the epoxy resin composition of the present invention also contains rubber, it is possible to obtain an insulating resin layer that is less likely to crack when subjected to an impact such as a thermal shock. When the epoxy resin composition of the present invention also contains an inorganic filler and / or an organic filler, viscosity increase and thixotropy are imparted, and coatability is improved.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本発明のエポキシ樹脂組成物が使
用される対象物は、たとえば電気用プリント多層配線板
であり、特にビルドアップ方式の電気用プリント多層配
線板の電気絶縁樹脂層として利用される。このエポキシ
樹脂組成物は、優れた耐熱性、耐湿性、耐クラック性、
加工性を有するものとして有用なものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The object to which the epoxy resin composition of the present invention is used is, for example, an electric printed multilayer wiring board, and is particularly used as an electric insulating resin layer of a build-up type electric printed multilayer wiring board. Is done. This epoxy resin composition has excellent heat resistance, moisture resistance, crack resistance,
It is useful as having workability.

【0016】本発明では、耐熱性、耐湿性、耐クラック
性、加工性に優れる絶縁樹脂層を得るために、前記式
(a)で表わされる3官能エポキシ樹脂を必須成分とし
て含むエポキシ樹脂を使用する。そして、この3官能エ
ポキシ樹脂の他に、必要に応じてビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂、ノポラック型エポキシ樹脂、あるいはこれ
らの臭素化化合物等を併用することも可能である。ま
た、この3官能エポキシと、ビスフェノールAもしくは
その臭素化化合物と、ビスフェノールA型エポキシ樹脂
もしくはその臭素化化合物とをあらかじめ反応させた混
合物を用いてもよい。前記式(a)で表わされる3官能
エポキシ樹脂の含有割合は、エポキシ樹脂全体に対し、
20〜80重量%であることが好ましい。20重量%未
満では、耐熱性、高温時の耐湿性を高める効果が少ない
からである。また、80重量%を越えると、難燃性が得
にくくなるからである。
In the present invention, in order to obtain an insulating resin layer having excellent heat resistance, moisture resistance, crack resistance and workability, an epoxy resin containing the trifunctional epoxy resin represented by the above formula (a) as an essential component is used. I do. In addition to the trifunctional epoxy resin, a bisphenol A type epoxy resin, a nopolak type epoxy resin, or a brominated compound thereof may be used in combination, if necessary. Alternatively, a mixture in which the trifunctional epoxy, bisphenol A or a brominated compound thereof, and a bisphenol A type epoxy resin or a brominated compound thereof may be used in advance may be used. The content ratio of the trifunctional epoxy resin represented by the formula (a) is based on the entire epoxy resin.
It is preferably 20 to 80% by weight. If the content is less than 20% by weight, the effect of enhancing heat resistance and moisture resistance at high temperatures is small. On the other hand, if it exceeds 80% by weight, it becomes difficult to obtain flame retardancy.

【0017】本発明に用いる硬化剤としては、特に限定
するものではないが、ジシアンジアミド、1分子中に2
個以上のフェノール性OH基を有する多官能フェノール
化合物、分子内に複数のアミン基を有する芳香族アミン
化合物を例示できる。硬化剤の配合量については、エポ
キシ基1当量あたり、硬化剤の当量が0.2〜1.2当
量であることが好ましい。なお、多官能フェノール化合
物の例としては、ビスフェノールA、ビスフェノール
F、ビスフェノールS、ポリビニルフェノール、β−ナ
フトール等の低分子化合物や、フェノールノボラック樹
脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールA型ノ
ボラック樹脂、アルキルフェノールノボラック樹脂、フ
ェノールとヒドロキシベンズアルデヒドから合成される
トリフェニルメタン型の3官能型ノボラック樹脂、さら
には、それらの臭素化物等を例示することができ、これ
らのフェノール性化合物または樹脂は何種類かを併用す
ることもできる。芳香族アミン化合物の例としては、上
記式(b)で示される化合物を挙げることができる。式
(b)中のR1 〜R8 は、それぞれ、炭素数が1〜8の
アルキル基(たとえば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル等の低級アルキル基)、ハロゲン原子もしく
は水素原子から選択され、同一又は別異のものとするこ
とができる。
The curing agent used in the present invention is not particularly limited, but dicyandiamide may have 2 per molecule.
Examples include a polyfunctional phenol compound having at least two phenolic OH groups and an aromatic amine compound having a plurality of amine groups in the molecule. Regarding the blending amount of the curing agent, the equivalent of the curing agent is preferably 0.2 to 1.2 equivalents per equivalent of the epoxy group. Examples of the polyfunctional phenol compound include low molecular weight compounds such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, polyvinyl phenol, β-naphthol, phenol novolak resin, cresol novolak resin, bisphenol A type novolak resin, and alkylphenol novolak resin. , Triphenylmethane-type trifunctional novolak resins synthesized from phenol and hydroxybenzaldehyde, and further, their bromides, etc., and these phenolic compounds or resins may be used in combination. Can also. Examples of the aromatic amine compound include a compound represented by the above formula (b). R 1 to R 8 in the formula (b) are each selected from an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (for example, a lower alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, and isopropyl), a halogen atom or a hydrogen atom, They can be the same or different.

【0018】硬化剤としては、上記のものの中でも、ジ
シアンジアミドを配合せず、多官能フェノール化合物お
よび/または芳香族アミン化合物を用いることが好まし
い。これは、ジシアンジアミドを配合すると乾燥硬化中
にジシアンジアミドが析出し、加工性、成膜性が低下
し、さらに長期絶縁信頼性や耐クラック性等も低下する
ことがあるからである。
As the curing agent, among the above, it is preferable to use a polyfunctional phenol compound and / or an aromatic amine compound without blending dicyandiamide. This is because the addition of dicyandiamide causes dicyandiamide to precipitate during drying and curing, resulting in reduced workability and film formability, as well as reduced long-term insulation reliability and crack resistance.

【0019】本発明で使用する硬化促進剤としては、イ
ミダゾール化合物や第3級アミン化合物等を例示でき、
配合量については適宜決定すればよい。絶縁層を形成す
る場合、被塗布面の汚れ等によりはじきが発生すること
がある。このようなはじきが発生すると、その部分の樹
脂膜厚が薄くなり、絶縁性の確保が困難になる。塗布す
る溶液の表面張力を下げることによりはじきの改善が可
能である。そこで本発明では、電気絶縁樹脂組成物中に
レベリング剤を添加するのである。レベリング剤として
は、たとえば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面
活性剤等が使用される。1種類のレベリング剤を単独使
用したり、2種類以上のレベリング剤を併用したりする
ことができる。フッ素系界面活性剤としては、特に限定
するものではないが、ノニオンタイプ(非イオンタイ
プ)の界面活性剤であるパーフロロアルキルアルコキシ
レートが例示できる。シリコーン系界面活性剤として
は、特に限定されないが、アルキル変性ポリシロキサ
ン、アラルキル変性ポリシロキサン、ポリエステル変性
ポリシロキサンが例示できる。レベリング剤の配合量に
ついては、特に限定するものではないが、絶縁樹脂10
0重量部に対して、たとえば0.01〜1.0重量部、
好ましくは0.05〜0.5重量部である。0.01重
量部未満では塗膜にはじきを発生させなくする効果が乏
しく、また、1.0重量部を越えて配合しても効果の増
大はなく、無駄な配合となり耐熱性の低下を招くからで
ある。
Examples of the curing accelerator used in the present invention include an imidazole compound and a tertiary amine compound.
The blending amount may be determined as appropriate. In the case where an insulating layer is formed, repelling may occur due to dirt on a surface to be coated. When such repelling occurs, the resin film thickness at that portion becomes thin, and it becomes difficult to secure insulation. Repelling can be improved by lowering the surface tension of the solution to be applied. Therefore, in the present invention, a leveling agent is added to the electric insulating resin composition. As the leveling agent, for example, a fluorine-based surfactant, a silicone-based surfactant, or the like is used. One type of leveling agent can be used alone, or two or more types of leveling agents can be used in combination. The fluorosurfactant is not particularly limited, and examples thereof include perfluoroalkylalkoxylates, which are nonionic (nonionic) surfactants. Examples of the silicone surfactant include, but are not particularly limited to, alkyl-modified polysiloxane, aralkyl-modified polysiloxane, and polyester-modified polysiloxane. The amount of the leveling agent is not particularly limited.
0 parts by weight, for example, 0.01 to 1.0 parts by weight,
Preferably it is 0.05 to 0.5 parts by weight. If the amount is less than 0.01 part by weight, the effect of preventing repelling from occurring in the coating film is poor, and if the amount is more than 1.0 part by weight, the effect is not increased. Because.

【0020】本発明では、エポキシ樹脂組成物中にゴム
をも含むようにすると、溶媒蒸発や硬化収縮による内部
応力の発生や高い架橋密度によるエポキシ樹脂の衝撃強
度の低下や、熱衝撃等の衝撃を受けたときにクラックが
より発生しにくい絶縁樹脂層を得ることができるので望
ましい。ゴム成分の導入はエポキシ樹脂の硬化物の衝撃
強度の低さにより発生するクラックを抑制する作用があ
る。特にビルドアップ方式のプリント配線板などでは、
絶縁樹脂層はガラス布基材等で補強していない構成であ
るため熱応力や機械的応力によりクラックが発生しやす
いので、クラックを抑制することのできるゴム成分の導
入は有用である。ゴムの種類としては、SBR (スチレン
・ブタジエンゴム)、NBR (ニトリルゴム)、CTBN、AT
BN、IR(ポリイソプレン)、BR(ポリプタジエン)、シ
リコーンゴム等を使用できる。ゴムの平均粒子径は、上
記の樹脂クラックのことやその他の耐熱性、吸湿性等を
考慮すると、0.05〜10μm程度であることが好ま
しい。0.05μm未満では衝撃によるクラックの発生
を抑制する効果が少なく、10μmを超えると耐熱性が
劣化する問題が生じるからである。ゴムの配合量(含有
量)については、エポキシ樹脂組成物中のエポキシ樹脂
固形分100重量部に対しゴムが3〜30重量部程度で
あることが好ましい。3重量部未満では衝撃によるクラ
ックの発生を抑制する効果が少なく、30重量部を超え
ると耐熱性が劣化する問題が生じるからである。各種の
ゴムの中でも、架橋されたCTBNは、エポキシ樹脂組成物
中にミクロに、且つ、均一に分散できるので、エポキシ
樹脂が硬化した後も凝集があまり起こらず、クラックの
抑制に効果があり、有用である。
In the present invention, when rubber is included in the epoxy resin composition, internal stress is generated due to solvent evaporation and curing shrinkage, impact strength of the epoxy resin is reduced due to high crosslinking density, and impact such as thermal shock is caused. This is desirable because an insulating resin layer in which cracks are less likely to occur when subjected to heat can be obtained. The introduction of the rubber component has an effect of suppressing cracks generated due to low impact strength of the cured product of the epoxy resin. Especially for build-up type printed circuit boards,
Since the insulating resin layer is not reinforced by a glass cloth base or the like, cracks are easily generated by thermal stress or mechanical stress. Therefore, introduction of a rubber component capable of suppressing cracks is useful. Rubber types include SBR (styrene / butadiene rubber), NBR (nitrile rubber), CTBN, AT
BN, IR (polyisoprene), BR (polybutadiene), silicone rubber and the like can be used. The average particle diameter of the rubber is preferably about 0.05 to 10 μm in consideration of the above-described resin crack, other heat resistance, hygroscopicity, and the like. If the thickness is less than 0.05 μm, the effect of suppressing the generation of cracks due to impact is small, and if it exceeds 10 μm, there is a problem that heat resistance is deteriorated. As for the compounding amount (content) of the rubber, the rubber is preferably about 3 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin solids in the epoxy resin composition. If the amount is less than 3 parts by weight, the effect of suppressing the generation of cracks due to impact is small, and if it exceeds 30 parts by weight, there is a problem that heat resistance is deteriorated. Among various rubbers, crosslinked CTBN can be dispersed microscopically and evenly in the epoxy resin composition, so that after the epoxy resin is hardened, little aggregation occurs, which is effective in suppressing cracks. Useful.

【0021】本発明のエポキシ樹脂組成物は、フローコ
ートや、スクリーン印刷等の塗工法によって絶縁樹脂層
を形成する際に使用することができるが、その場合には
25℃における粘度が10〜10000cpsであること
が所望の厚み絶縁樹脂層を形成するためには好ましい。
溶剤を添加して粘度調整を行うことができる。使用する
溶剤としてはエポキシ樹脂や硬化剤や硬化促進剤と反応
しないものを選択することが好ましい。たとえば、メチ
ルエチルケトン、アセトン、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、メタノール、エタノール、トルエン、キシレン、DM
F 、DMAc等を例示でき、これらを複数種を併用すること
もできる。
The epoxy resin composition of the present invention can be used when forming an insulating resin layer by a coating method such as flow coating or screen printing.
It is preferable that the viscosity at 25 ° C. is 10 to 10,000 cps in order to form a desired thickness of the insulating resin layer.
The viscosity can be adjusted by adding a solvent. It is preferable to select a solvent that does not react with the epoxy resin, the curing agent, or the curing accelerator as the solvent to be used. For example, methyl ethyl ketone, acetone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, methanol, ethanol, toluene, xylene, DM
F, DMAc and the like can be exemplified, and a plurality of these can be used in combination.

【0022】絶縁層を形成する場合、はじき発生以外で
問題なのが気泡である。気泡発生によりその部分の絶縁
性確保が困難になることがある。このため、消泡剤を添
加することが好ましい。消泡剤としては、特に限定はな
いが、例えば、ポリエーテル変性ポリシロキサンを用い
ることができる。消泡剤の配合量については、特に限定
するものではないが、エポキシ樹脂100重量部に対し
て0.01〜1.0重量部であることが好ましい。0.
01重量部未満では消泡効果が乏しく、また1.0重量
部を越えて配合しても効果の増大はなく、無駄な配合と
なり耐熱性の低下や相分離を招くからである。
When forming an insulating layer, bubbles are a problem other than the occurrence of repelling. The generation of bubbles may make it difficult to ensure insulation at that portion. For this reason, it is preferable to add an antifoaming agent. The defoaming agent is not particularly limited, and for example, a polyether-modified polysiloxane can be used. The amount of the defoaming agent is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 1.0 part by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin. 0.
If the amount is less than 01 parts by weight, the defoaming effect is poor, and if the amount exceeds 1.0 part by weight, the effect is not increased, and the compounding is useless, resulting in a decrease in heat resistance and phase separation.

【0023】エポキシ樹脂組成物への無機質フィラーの
添加は、まず塗布性向上のために行われる。無機質フィ
ラー添加により、増粘、チクソ性を付与し、膜厚の均一
性が向上する。前記以外では、耐熱性、耐水性、耐吸湿
性、機械強度の向上、線膨張係数の低下、難燃性付与等
の目的がある。無機質フィラーとしては、例えば、炭酸
カルシウム、シリカ、合成シリカ、カオリン・クレー
(ケイ酸アルミニウム)、酸化チタン、硫酸バリウム、
酸化亜鉛、水酸化アルミニウム、アルミナ、水酸化マグ
ネシウム、タルク、マイカ、ガラスフレーク、ハイドロ
タルサイド、ワラストナイト、チタン酸カリウム、硫酸
マグネシウム、セピオライト、ゾノライト、ホウ酸アル
ミニウム、ガラスビーズ、バラスバルーン、マグネシア
等を例示できる。前記例の無機質フィラーを単独でもし
くは複数種類組み合わせて配合することができる。無機
質フィラーが粒子状である場合、その平均粒子径は、特
に限定されないが、たとえば0.01〜50μmであ
る。0.01μm未満の場合、エポキシ樹脂への分散が
困難になり、50μmより大きくなると、絶縁性の確保
が困難になることがある。配合量については、特に限定
はないが、たとえばエポキシ樹脂固形分100重量部に
対して、1〜300重量部である。1重量部未満の場
合、塗布性等の性能が発現しにくく、300重量部を越
えると、増粘が著しく、塗料化が困難になるとともに塗
布性能が低下することがある。
The addition of the inorganic filler to the epoxy resin composition is first performed for improving the coating property. Addition of an inorganic filler imparts viscosity and thixotropy, and improves the uniformity of the film thickness. In addition to the above, there are objects such as improvement of heat resistance, water resistance, moisture absorption resistance, mechanical strength, reduction of linear expansion coefficient, and flame retardancy. Examples of the inorganic filler include calcium carbonate, silica, synthetic silica, kaolin clay (aluminum silicate), titanium oxide, barium sulfate,
Zinc oxide, aluminum hydroxide, alumina, magnesium hydroxide, talc, mica, glass flake, hydrotalside, wollastonite, potassium titanate, magnesium sulfate, sepiolite, zonolite, aluminum borate, glass beads, ballas balloon, magnesia Etc. can be exemplified. The inorganic fillers of the above examples can be used alone or in combination of two or more. When the inorganic filler is in the form of particles, the average particle diameter is not particularly limited, but is, for example, 0.01 to 50 μm. If it is less than 0.01 μm, dispersion in the epoxy resin becomes difficult, and if it is more than 50 μm, it may be difficult to secure insulation. The blending amount is not particularly limited, but is, for example, 1 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the epoxy resin. If the amount is less than 1 part by weight, it is difficult to exhibit performance such as applicability, and if it exceeds 300 parts by weight, the viscosity is remarkably increased, and it becomes difficult to prepare a coating, and the application performance may be reduced.

【0024】エポキシ樹脂への有機質フィラーの添加
は、まず、レーザー加工性の向上のために行われる。多
層プリント配線板の導体間を導通接続するためのインナ
ーバイアホール(IVH)は、近年レーザーにより加工
される。レーザーは炭酸ガスレーザーが主に使用されて
いる。炭酸ガスレーザーの場合、無機化合物と有機化合
物とでレーザー加工速度に差が生じるためIVHの形成
が困難である。そこで、充填材である無機質フィラーの
代わりに有機質フィラーを用いてレーザー加工性の改善
をすることが目的である。また、耐熱性、耐水性、耐吸
湿性、機械強度の向上、線膨張係数の低下等の性能向上
も図れる有機質フィラーを添加する。有機質フィラーの
例として、芳香族ポリイミド(アラミド)、ポリオキシ
ベンゾイルエステル、ポリエチレンビーズ等が挙げられ
る。前記例の有機質フィラーを単独でもしくは複数種類
組み合わせて配合することができる。配合量や有機質フ
ィラーが粒子状である場合の平均粒子径については、上
記無機質フィラーの場合と同じであるので、説明を省略
する。
The addition of the organic filler to the epoxy resin is first performed to improve the laser workability. In recent years, an inner via hole (IVH) for conducting connection between conductors of a multilayer printed wiring board is processed by laser. As the laser, a carbon dioxide laser is mainly used. In the case of a carbon dioxide gas laser, it is difficult to form IVH because a difference occurs in the laser processing speed between the inorganic compound and the organic compound. Therefore, an object is to improve the laser workability by using an organic filler instead of the inorganic filler as a filler. Further, an organic filler capable of improving heat resistance, water resistance, moisture absorption resistance, mechanical strength, and a reduction in linear expansion coefficient is also added. Examples of the organic filler include aromatic polyimide (aramid), polyoxybenzoyl ester, and polyethylene beads. The organic fillers of the above examples can be used alone or in combination of two or more. The compounding amount and the average particle diameter when the organic filler is in the form of particles are the same as those in the case of the above-mentioned inorganic filler, and the description thereof will be omitted.

【0025】本発明では、常温、熱時の機械的強度が大
きく、また熱膨張率が小さく、基板のそり、界面はく
り、耐クラック性の優れる絶縁樹脂層を得るために、ア
スペクト比が5以上、好ましくは10以上の繊維状フィ
ラーを使用することができる。ここでアスペクト比と
は、繊維状フィラーの平均繊維径(直径)Dと平均繊維
長Lの比L/Dである。アスペクト比が5未満になると
機械的強度の向上があまり望めなくなり、フィラーの添
加量が著しく増加する。繊維状フィラーは、絶縁体から
なるものであれば特に限定はないが、例えば、無機質フ
ィラー(無機化合物)では、炭酸カルシウム、水酸化マ
グネシウム、ワラストナイト、チタン酸カリウム、硫酸
マグネシウム、セピオライト、ゾノライト、ホウ酸アル
ミニウム、ガラスファイバー等を例示できる。有機質フ
ィラー(有機化合物)では、ポリオキシベンゾイル(PO
B )、ポリオキシナフトイル(PON )、アラミド繊維等
が例示できる。前記例を単独でもしくは、複数種類組み
合わせて配合することができる。 繊維状フィラー、特
に繊維状無機質フィラーの平均繊維長が10μm以下の
場合は、レーザーによるインナービアホール(IVH)
加工性が向上する。繊維状フィラーが10μm超になる
と、レーザーIVHの内側壁に繊維状フィラーが突き出
し、形状が悪くなり、めっきの付き廻りが悪くなる。つ
まり、層間の導通がとれなくなったり、冷熱衝撃試験で
断線したりする。IVH加工性をより向上させるという
点からは、繊維状フィラー、特に繊維状無機質フィラー
の平均繊維長は10μm以下が好ましい。
According to the present invention, in order to obtain an insulating resin layer having a large mechanical strength at normal temperature and heat, a small coefficient of thermal expansion, a warp and an interface of the substrate and excellent crack resistance, an aspect ratio of 5 is required. As described above, preferably 10 or more fibrous fillers can be used. Here, the aspect ratio is a ratio L / D of the average fiber diameter (diameter) D of the fibrous filler and the average fiber length L. When the aspect ratio is less than 5, improvement in mechanical strength cannot be expected much, and the amount of filler added increases significantly. The fibrous filler is not particularly limited as long as it is made of an insulator. For example, in the case of an inorganic filler (inorganic compound), calcium carbonate, magnesium hydroxide, wollastonite, potassium titanate, magnesium sulfate, sepiolite, zonolite , Aluminum borate, glass fiber and the like. Organic fillers (organic compounds) include polyoxybenzoyl (PO
B), polyoxynaphthoyl (PON), aramid fiber and the like. The above examples may be used alone or in combination of two or more. When the average fiber length of the fibrous filler, particularly the fibrous inorganic filler is 10 μm or less, the inner via hole (IVH) by laser is used.
Workability is improved. If the fibrous filler exceeds 10 μm, the fibrous filler protrudes from the inner wall of the laser IVH, resulting in poor shape and poor plating coverage. In other words, electrical continuity between the layers cannot be obtained, or disconnection occurs in a thermal shock test. From the viewpoint of further improving IVH processability, the average fiber length of the fibrous filler, particularly the fibrous inorganic filler, is preferably 10 μm or less.

【0026】繊維状フィラーの添加量が、10〜60%
の範囲で効果が出現する。10%未満の場合、熱膨張率
の低下や機械的強度の向上があまり望めない。また、6
0%を越えると、効果の向上がこれ以上みられず、過剰
添加となる。熱膨張率をより低下させたり或いは機械的
強度をより向上させたりするのに効果的な点からは、繊
維状フィラーの好ましい添加量は、絶縁樹脂と繊維状フ
ィラーの合計重量を基準として、15〜45%である。
The amount of the fibrous filler added is 10 to 60%
The effect appears in the range. If it is less than 10%, a decrease in the coefficient of thermal expansion and an increase in mechanical strength cannot be expected much. Also, 6
If it exceeds 0%, the effect will not be improved any more, and it will be excessively added. From the viewpoint of effectively reducing the coefficient of thermal expansion or improving the mechanical strength, the preferred amount of the fibrous filler is 15% based on the total weight of the insulating resin and the fibrous filler. ~ 45%.

【0027】繊維状フィラーが有機質フィラーの場合、
レーザーIVH加工性が向上する。多層プリント配線板
の導体層間を導通接続するためのインナーバイアホール
(IVH)は、近年レーザ一により加工される。レーザ
ーは炭酸ガスレーザーが主に使用されている。炭酸ガス
レーザーの場合、無機化合物と有機化合物でレーザー加
工速度に差が生じる。繊維状フィラーに無機質フィラー
を使用する場合、前記のようにIVH内側壁にフィラー
が突出してしまう。レーザー加工条件の最適化や繊維状
フィラーの繊維長を短くしてやるなどの方法により、前
記問題は、回避可能であるが、安定性等に欠け非常にコ
ントロールが難しい。繊維状フィラーに有機質フィラー
を用いることにより、レーザー加工性の改善を図ること
ができる。有機質フィラーの場合、平均繊維長が10μ
mよりも長くてもレーザー加工性の改善が図られる。
When the fibrous filler is an organic filler,
Laser IVH processability is improved. In recent years, an inner via hole (IVH) for conducting connection between conductor layers of a multilayer printed wiring board is processed by a laser. As the laser, a carbon dioxide laser is mainly used. In the case of a carbon dioxide laser, there is a difference in laser processing speed between an inorganic compound and an organic compound. When an inorganic filler is used as the fibrous filler, the filler protrudes from the IVH inner wall as described above. The above problem can be avoided by a method such as optimizing laser processing conditions or shortening the fiber length of the fibrous filler, but it is very difficult to control due to lack of stability and the like. By using an organic filler as the fibrous filler, laser workability can be improved. In case of organic filler, average fiber length is 10μ
Even if the length is longer than m, the laser workability can be improved.

【0028】繊維状フィラーの効果を最大限に発揮させ
るために、フィラー界面、特に無機質フィラー界面のカ
ップリング処理は非常に重要である。カップリング剤と
しては、シラン系カップリング剤、チタネート系カップ
リング剤、アルミネート系カップリング剤等が例示でき
る。また、有機質フィラーの場合には、たとえばプラズ
マ処理したものが好ましい。
In order to maximize the effect of the fibrous filler, the coupling treatment at the filler interface, particularly at the inorganic filler interface, is very important. Examples of the coupling agent include a silane coupling agent, a titanate coupling agent, and an aluminate coupling agent. In the case of an organic filler, for example, a plasma-treated filler is preferable.

【0029】なお、上記繊維状フィラーを粒子状の無機
質フィラーおよび/または有機質フィラーとを併用する
と繊維状フィラー特有の物性の異方性を改善することが
できる。それらの粒子としてはたとえば平均粒径0.1
〜50μmのものが使用される。粒子の平均粒径がその
範囲よりも小さいと異方性が残るおそれがあり、その範
囲よりも大きいと絶縁性、レーザー加工性が低下するお
それがある。粒子の添加量は、特に限定されないが、繊
維状フィラーに対して、たとえば20〜120重量%、
好ましくは30〜70重量%である。粒子の添加量がそ
の範囲よりも少ないと異方性の改善が得られないことが
あり、その範囲を越えてもそれ以上の異方性改善向上が
見られず過剰添加となるおそれがある。
When the fibrous filler is used in combination with a particulate inorganic filler and / or an organic filler, the anisotropy of physical properties specific to the fibrous filler can be improved. As the particles, for example, an average particle size of 0.1
〜50 μm is used. If the average particle size of the particles is smaller than the range, anisotropy may remain, and if the average particle size is larger than the range, insulating properties and laser processability may be reduced. The addition amount of the particles is not particularly limited, but is, for example, 20 to 120% by weight with respect to the fibrous filler,
Preferably it is 30 to 70% by weight. If the added amount of the particles is less than the range, improvement in anisotropy may not be obtained, and if it exceeds the range, no further improvement in anisotropy is observed and excessive addition may be caused.

【0030】本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に
応じて上記以外の成分も配合することができる。
The epoxy resin composition of the present invention may contain components other than those described above, if necessary.

【0031】[0031]

【実施例】次に本発明を実施例に基づいて説明するが、
本発明は下記実施例に限定されない。 (実施例1〜6、比較例1〜2)厚み18μmの銅箔を
片面に配した厚み0.8mmのエポキシ樹脂ガラス布積層
板(松下電工株式会社製、品番R−1700)を用い、
エッチングにより銅導体回路を形成して内層用回路板を
得た。この内層用回路板を有機酸系エッチング液(メッ
ク株式会社製、品番CZ一5452)で、エッチング深さが4
μmのソフトエッチングを行い、銅導体回路の表面を粗
化した。次に、粗化処理した面上に、表1、表2に示す
ようにフローコート又はスクリーン印刷により、表1、
表2に示す配合(重量部)で作製したエポキシ樹脂組成
物を塗工して塗膜を形成した。作製したエポキシ樹脂組
成物の25℃における粘度を表1、2に示した。また、形
成した塗膜の外観を目視で検査し、はじきの発生の有無
を評価しその結果を表1、2に示した。なお、はじきの
発生ありとは、目視評価を行い、直径が1mmのはじき
(塗膜がクレータ状になっていて厚みが薄い個所)が発
生している場合とした。上記のようにして塗膜を形成し
た後、110℃で30分、続いて150℃で20分、さ
らに170℃で90分乾燥器で加熱硬化し、50μm厚
の絶縁樹脂層を形成したテストサンプルを作製した。作
製したテストサンプルを用いて、絶縁樹脂層のガラス転
移温度(Tg)、吸湿後の半田耐熱性、冷熱衝撃試験で
の樹脂クラック発生までのサイクル数を下記に示す試験
方法で評価し、その結果を表1、2に示した。
Next, the present invention will be described based on examples.
The present invention is not limited to the following examples. (Examples 1 to 6, Comparative Examples 1 and 2) Using a 0.8 mm thick epoxy resin glass cloth laminate (manufactured by Matsushita Electric Works Co., Ltd., product number R-1700) in which copper foil having a thickness of 18 μm was arranged on one side,
A copper conductor circuit was formed by etching to obtain an inner layer circuit board. The inner layer circuit board was etched with an organic acid-based etchant (manufactured by MEC Corporation, part number CZ-15452) with an etching depth of 4
μm soft etching was performed to roughen the surface of the copper conductor circuit. Next, on the roughened surface, as shown in Tables 1 and 2, by flow coating or screen printing,
The epoxy resin composition prepared with the composition (parts by weight) shown in Table 2 was applied to form a coating film. Tables 1 and 2 show the viscosities of the prepared epoxy resin compositions at 25 ° C. Further, the appearance of the formed coating film was visually inspected, and the presence or absence of repelling was evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2. In addition, the presence of repelling was evaluated by visual evaluation, and it was determined that repelling having a diameter of 1 mm (where the coating was crater-like and the thickness was small) occurred. After forming the coating film as described above, a test sample was formed by heating at 110 ° C. for 30 minutes, then at 150 ° C. for 20 minutes, and further heating at 170 ° C. for 90 minutes in a drier to form a 50 μm thick insulating resin layer. Was prepared. Using the prepared test sample, the glass transition temperature (Tg) of the insulating resin layer, the solder heat resistance after moisture absorption, and the number of cycles until the occurrence of a resin crack in a thermal shock test were evaluated by the following test methods. Are shown in Tables 1 and 2.

【0032】絶縁樹脂層のガラス転移温度の試験方法:
20℃/分の昇温速度でDSCで測定する。吸湿後の半
田耐熱性の試験方法:絶縁樹脂層を形成したテストサン
プルを温度40℃、相対湿度90%で吸湿処理を行った
後、260℃の半田に20秒浸漬する試験を行い、半田
浸漬後にふくれが発生するようになるまでの吸湿処理時
間を評価尺度とする。
Test method for glass transition temperature of insulating resin layer:
It is measured by DSC at a heating rate of 20 ° C./min. Test method for solder heat resistance after moisture absorption: A test sample on which an insulating resin layer is formed is subjected to a moisture absorption treatment at a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90%, and then subjected to a test of being immersed in a solder at 260 ° C. for 20 seconds, followed by solder immersion The moisture absorption treatment time until blistering occurs later is used as an evaluation scale.

【0033】冷熱衝撃試験でのクラック発生についての
試験方法:絶縁樹脂層を形成したテストサンプルに対
し、[−65℃×5分+150℃×5分]を1サイクル
とする冷熱サイクルの衝撃を与え、絶縁樹脂層にクラッ
クが発生するまでのサイクル数を評価尺度とする。エポ
キシ樹脂組成物を作製するために使用した表1 、表2 に
示す材料としては、下記のものを使用した。 ・3官能エポキシ樹脂:前記式(a)で表わされる成
分を主成分とするエポキシ樹脂、三井石油化学工業株式
会社製、品番VG3101、エポキシ当量210g/Eq ・臭素化エポキシ樹脂:前記式(a)で表わされる成
分とビスフェノールA ジグリシジルエーテルと、テトラ
ブロモビスフェノールA を原料としたエポキシ樹脂、三
井石油化学工業株式会社製、品番VF2803、エポキシ当量
420g/eq、臭素含有率19重量% ・臭素化ビスフェノールA 型エポキシ樹脂:東都化成
株式会社製、品番YDB −400 、エポキシ当量400g/eq、
臭素含有率48重量% ・臭素化ビスフェノールA 型エポキシ樹脂:東都化成
株式会社製、品番YDB −500 、エポキシ当量500g/eq、
臭素含有率20重量% ・芳香族アミン:ビス(4 −アミノ−2 −クロロ−3
,5 ジエチルフェニル)メタン、日本化薬株式会社
製、商品名C −BS300 、NH当量95 ・芳香族アミン:2 ,2 ’,3 ,3 ’−テトラクロロ
−4 ,4 ’−ジアミノジフェニルメタン、イハラケミカ
ル株式会社製、商品名TCDAM 、NH当量84 ・CTBN:日本合成ゴム株式会社製、商品名XER 一91、平
均粒径0 .07μm ・SBR :平均粒径1 μm ・硬化促進剤:四国化成株式会社製、商品名2E4MZ −CN ・フッ素系界面活性剤:パーフロロアルキルアルコキシ
レート、住友スリーエム株式会社製、商品名FC−430
Test Method for Crack Generation in Thermal Shock Test: A test sample on which an insulating resin layer was formed was subjected to a thermal cycle shock of [-65 ° C. × 5 minutes + 150 ° C. × 5 minutes]. The number of cycles until a crack occurs in the insulating resin layer is used as an evaluation scale. The following materials were used as the materials shown in Tables 1 and 2 used for preparing the epoxy resin composition. -Trifunctional epoxy resin: an epoxy resin containing the component represented by the formula (a) as a main component, manufactured by Mitsui Petrochemical Industry Co., Ltd., product number VG3101, epoxy equivalent 210 g / Eq-Brominated epoxy resin: the formula (a) An epoxy resin using bisphenol A diglycidyl ether and tetrabromobisphenol A as raw materials, manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd., product number VF2803, epoxy equivalent
420g / eq, bromine content 19% by weight ・ Brominated bisphenol A type epoxy resin: manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., product number YDB-400, epoxy equivalent 400g / eq,
Bromine content 48% by weight ・ Brominated bisphenol A type epoxy resin: manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., product number YDB-500, epoxy equivalent 500g / eq,
Bromine content 20% by weightAromatic amine: bis (4-amino-2-chloro-3
, 5 diethylphenyl) methane, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name C-BS300, NH equivalent 95 ・ Aromatic amine: 2,2 ', 3,3'-tetrachloro-4,4'-diaminodiphenylmethane, Ihara Made by Chemical Co., Ltd., trade name TCDAM, NH equivalent: 84 ・ CTBN: made by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd., trade name XER-191, average particle size 0 07 μm ・ SBR: average particle size 1 μm ・ Curing accelerator: manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd., trade name 2E4MZ-CN ・ Fluorine surfactant: perfluoroalkyl alkoxylate, manufactured by Sumitomo 3M Limited, trade name: FC-430

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】[0035]

【表2】 [Table 2]

【0036】表1 、表2 の結果から、実施例では、比較
例1 に比ベガラス転移温度が高く、吸湿後の半田耐熱性
が良好で、且つ冷熱衝撃試験でのクラック発生がしにく
いことが確認された。一方、レベリング剤を配合してい
ない比較例2では、塗膜にはじきの発生していた。ま
た、ゴムを含有している実施例4〜6は、ゴムを合有し
ていない実施例1〜3よりも、冷熱衝撃試験でのクラッ
ク発生がさらに生じにくいことが確認された。(実施例
7〜20、比較例3〜7)厚み18μmの銅箔を片面に
配した厚み0.8mmのエポキシ樹脂ガラス基材積層板
(松下電工株式会社製、品番R−1700)を用い、こ
の積層板を有機酸系エッチング液(メック株式会社製、
品番CZ−8100)で、2μmのソフトエッチングを
行い、銅表面上を粗面化した。この粗面化した銅表面上
に表3〜5に示したとおりの成分配合組成からなるエポ
キシ樹脂組成物を塗布した。110 ℃で30分、150 ℃で50
分、さらに170 ℃で90分ボックス式乾燥器で加熱硬化
し、50μm厚の絶縁樹脂層を形成したテストサンプルを
作製した。作製したエポキシ樹脂組成物の25℃における
粘度を表3〜5に示した。
From the results of Tables 1 and 2, it can be seen that in Examples, the glass transition temperature was higher than that of Comparative Example 1, the solder heat resistance after moisture absorption was good, and cracks hardly occurred in the thermal shock test. confirmed. On the other hand, in Comparative Example 2 in which the leveling agent was not blended, repelling occurred in the coating film. Further, it was confirmed that cracks were less likely to occur in the thermal shock test in Examples 4 to 6 containing rubber than in Examples 1 to 3 not having rubber. (Examples 7 to 20, Comparative Examples 3 to 7) Using an epoxy resin glass substrate laminate (manufactured by Matsushita Electric Works Co., Ltd., product number R-1700) having a thickness of 0.8 mm and a copper foil having a thickness of 18 μm arranged on one side, An organic acid-based etching solution (manufactured by MEC Corporation,
(Part number CZ-8100), 2 μm soft etching was performed to roughen the copper surface. An epoxy resin composition having the component composition shown in Tables 3 to 5 was applied on the roughened copper surface. 30 minutes at 110 ° C, 50 at 150 ° C
Then, the test sample was heated and cured at 170 ° C. for 90 minutes in a box drier to form a 50 μm thick insulating resin layer. Tables 3 to 5 show the viscosities of the prepared epoxy resin compositions at 25 ° C.

【0037】上記各実施例および比較例で作製したテス
トサンプルについてガラス転移温度(Tg)、吸湿率、吸
湿後の半田耐熱性、冷熱衝撃試験での樹脂クラック発
生、塗膜形成後の樹脂はじきの有無、レーザー加工性を
それぞれ評価した。ガラス転移温度、吸湿後の半田耐熱
性、冷熱衝撃試験での樹脂クラック発生は上記と同様に
して測定した。
The glass transition temperature (Tg), the moisture absorption rate, the solder heat resistance after moisture absorption, the occurrence of resin cracks in the thermal shock test, and the repelling of the resin after the coating film formation were obtained for the test samples prepared in the above Examples and Comparative Examples. The presence / absence and laser workability were evaluated. The glass transition temperature, the solder heat resistance after moisture absorption, and the occurrence of resin cracks in a thermal shock test were measured in the same manner as described above.

【0038】吸湿率は、85℃/85%/200時間の
条件で処理を行い、重量を測定することにより算出し
た。塗膜形成後の樹脂はじきの有無については、塗膜形
成後外観目視検査で評価した。レーザー加工性は、レー
ザー加工後のIVH断面観察をすることにより、IVH
形状の良否ならびにめっき付き廻り性で判定した。
The moisture absorption was calculated by performing the treatment under the condition of 85 ° C./85%/200 hours and measuring the weight. The presence or absence of resin repelling after the formation of the coating film was evaluated by visual inspection after the formation of the coating film. The laser processability can be determined by observing the IVH cross section after laser processing.
Judgment was made based on the quality of the shape and the roundness with plating.

【0039】・レーザー条件:レーザー加工装置:三菱
電機株式会社の505GTを使用。加工エネルギー3m
J×2ショット レーザー加工後、めっきを施した。めっき厚みは、被め
っき面に対して、20μmとした。評価は、断面観察で
実施した。IVH形状は、すり鉢状もしくは矩形状にな
ったものを良とした。導通性に関するめっき付き廻り性
は、IVH側壁のめっき厚みが12μm以上を良、12
μm未満を不良とした。また、3000穴パターンで導
通を評価し、導通がとれたもの(10Ω以下)を良とし
た。最終的にこれらを総合的に評価し、導通がとれたも
のは○とし、導通がとれないものは×とした。そして上
記○のものに対して、IVH形状、めっき付き廻り性で
共に良のものは◎とした。それ以外は○とした。
Laser condition: Laser processing equipment: 505GT manufactured by Mitsubishi Electric Corporation was used. Processing energy 3m
J × 2 shot After laser processing, plating was applied. The plating thickness was 20 μm with respect to the surface to be plated. The evaluation was performed by cross-section observation. As the IVH shape, a mortar-shaped or rectangular-shaped one was regarded as good. The turning property with plating relating to the conductivity is good when the plating thickness of the IVH side wall is 12 μm or more.
Less than μm was regarded as defective. In addition, the conduction was evaluated using a 3000-hole pattern, and a sample having conduction (10 Ω or less) was evaluated as good. Finally, these were comprehensively evaluated, and those with conduction were evaluated as ○, and those with no conduction were evaluated as x. With respect to the above-mentioned ○, the one having good IVH shape and plating circumstance was evaluated as ◎. Otherwise, it was marked as ○.

【0040】エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、レペ
リング剤は、上記したもの以外では、次のものを使っ
た。 ・フェノールノボラック型エポキシ樹脂は、東都化成
株式会社製のYDCN−704で、エポキシ当量220
g/eqであった。多官能フェノール化合物は、三井石
油化学(株)製のTris−PA(トリスフェノール類
ノボラック樹脂)で、OH当量142であった。
The following epoxy resins, curing agents, curing accelerators and repelling agents were used in addition to those described above. The phenol novolak type epoxy resin is YDCN-704 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. and has an epoxy equivalent of 220.
g / eq. The polyfunctional phenol compound was Tris-PA (trisphenols novolak resin) manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd. and had an OH equivalent of 142.

【0041】芳香族アミン化合物である4、4’−ジ
アミノ−3,3’−ジエチル5,5’−ジメチルジフェ
ニルメタン硬化剤は、イハラケミカル工業株式会社製の
キユアハードMEDで、NH当量70.5であった。 ・ジシアンジアミドは、日本カーバイト工業株式会社製
のものを便用した。 ・シリコーン系界面活性剤は、ビックケミージャパン株
式会社製のBYK−310(ポリエーテル変性ジメチル
シロキサン)を使用した。 ・溶剤としては、クラレ株式会社製のプロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート(PGM−AC)
を使用した。
The 4,4'-diamino-3,3'-diethyl 5,5'-dimethyldiphenylmethane curing agent, which is an aromatic amine compound, was obtained from IUREA CHEMICAL INDUSTRIES CO., LTD. there were. The dicyandiamide used was manufactured by Nippon Carbide Industry Co., Ltd. -BYK-310 (polyether-modified dimethylsiloxane) manufactured by BYK Japan KK was used as the silicone surfactant. -As the solvent, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGM-AC) manufactured by Kuraray Co., Ltd.
It was used.

【0042】溶剤としては、三菱ガス化学株式会社製
のジメチルホルムアミド(DMF)を使用した。 ・架橋タイプCTBNは、JSR株式会杜製のXER−
91を使用した。平均粒子径は、0.07μmである。 ・NBRは、宇部興産株式会社製のHycar ATB
Nを使用した。分子量は3400である。 ・無機質フィラーとして、硫酸バリウムを使用した。
堺化学工業株式会社製のB−34を用い、平均粒径は、
0.3μmである。 ・無機質フィラーとして、繊維状のホウ酸アルミニウ
ムを使用した。四国化成工業株式会社製のYS3Aのう
ちの繊維長10μm以下のもののみを(すなわち平均繊
維長10μm以下のもの)用いた。平均繊維径は1μm
である。 ・有機質フィラーは、アラミド繊維を用いた。平均繊
維長は1mm、平均繊維径は12μmである。 ・有機質フィラーは、ポリ(p−オキシベンゾイル)
(POB)を用いた。平均繊維長は50〜100μm、
平均繊維径は1〜1.5μmである。
As a solvent, dimethylformamide (DMF) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. was used.・ Cross-linked type CTBN is XER- manufactured by JSR Corporation.
91 was used. The average particle size is 0.07 μm.・ NBR is Hycar ATB manufactured by Ube Industries, Ltd.
N was used. The molecular weight is 3400. -Barium sulfate was used as the inorganic filler.
Using B-34 manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., the average particle size is
0.3 μm. -Fibrous aluminum borate was used as the inorganic filler. Only those having a fiber length of 10 μm or less among YS3A manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd. (that is, those having an average fiber length of 10 μm or less) were used. Average fiber diameter is 1μm
It is. -Aramid fiber was used as the organic filler. The average fiber length is 1 mm, and the average fiber diameter is 12 μm. -The organic filler is poly (p-oxybenzoyl)
(POB) was used. Average fiber length is 50-100 μm,
The average fiber diameter is from 1 to 1.5 μm.

【0043】[0043]

【表3】 [Table 3]

【0044】[0044]

【表4】 [Table 4]

【0045】[0045]

【表5】 [Table 5]

【0046】表3〜5に見られるように、各実施例のも
のはガラス転移温度、吸湿後の半田耐熱性が高く、耐熱
性が優れていることがわかる。吸湿率も低く、冷熱衝撃
試験における樹脂クラックの発生もないことがわかる。
実施例では、レベリング剤を配合しており、はじきもな
いことから塗膜形成性が非常に向上していることがわか
る。ゴムを導入すること、また無機質、有機質フィラー
添加により衝撃性がさらに向上した。また、レーザー加
工性は、無機質の繊維状のものを添加するとやや劣るも
のの、有機質の繊維状のものにすると非常に向上する。
このように、実施例のものは、実用上非常に優れている
ことがわかった。
As can be seen from Tables 3 to 5, it can be seen that those of the examples have high glass transition temperatures, high solder heat resistance after moisture absorption, and excellent heat resistance. It can be seen that the moisture absorption rate is low, and no resin crack is generated in the thermal shock test.
In the examples, a leveling agent is blended, and since there is no repelling, it can be seen that the coating film forming property is extremely improved. Impact was further improved by introducing rubber and adding inorganic and organic fillers. Further, the laser workability is slightly inferior when an inorganic fibrous material is added, but greatly improved when an organic fibrous material is used.
As described above, it was found that the example was extremely excellent in practical use.

【0047】[0047]

【発明の効果】請求項1〜13に係る発明のエポキシ樹
脂組成物はエポキシ樹脂として3宮能エポキシ樹脂を含
むため、本発明のエポキシ樹脂組成物を直接回路基板上
に絶縁樹脂層を形成する多層配線板、いわゆるビルドア
ップ方式の多層配線板に使用すると、耐熱性、耐湿性、
耐クラック性、加工性に優れる絶縁樹脂層を得ることが
できる。しかも、レベリング剤を含んでいるので、得ら
れる塗膜にはじきが発生しにくくなる。
Since the epoxy resin composition of the present invention according to any one of the first to thirteenth aspects contains a Sannomiya epoxy resin as an epoxy resin, the epoxy resin composition of the present invention is used to directly form an insulating resin layer on a circuit board. When used for multilayer wiring boards, so-called build-up type multilayer wiring boards, heat resistance, moisture resistance,
An insulating resin layer having excellent crack resistance and workability can be obtained. In addition, since the film contains a leveling agent, repelling hardly occurs in the resulting coating film.

【0048】請求項2に係る発明のエポキシ樹脂組成物
は、さらに、加工性、成膜性が向上し、長期絶縁信頼性
や耐クラック性等も向上する。請求項3に係る発明のエ
ポキシ樹脂組成物は、硬化促進剤としてイミダゾール化
合物を含んでいるので、さらに、反応の活性化エネルギ
ーを下げたり、硬化温度を下げたり、硬化時間を短縮し
たりする効果も向上する。
The epoxy resin composition of the invention according to claim 2 further improves processability and film formability, and also improves long-term insulation reliability, crack resistance and the like. Since the epoxy resin composition according to the third aspect of the present invention contains an imidazole compound as a curing accelerator, the epoxy resin composition further has effects of lowering the activation energy of the reaction, lowering the curing temperature, and shortening the curing time. Also improve.

【0049】請求項4に係る発明のエポキシ樹脂組成物
では、さらに、はじきをなくすことができ、樹脂厚みが
薄くなって絶縁性を低下させるという問題を生じにくく
する。請求項5〜7に係る発明のエポキシ樹脂組成物
は、ゴムをも含んでいるので、上記の効果に加えて、熱
衝撃等の衝撃を受けたときにクラックが発生しにくい絶
縁樹脂層を得ることができるという効果も奏する。
In the epoxy resin composition according to the fourth aspect of the present invention, repelling can be further eliminated, and the problem that the thickness of the resin is reduced and the insulating property is reduced is less likely to occur. Since the epoxy resin composition of the invention according to claims 5 to 7 also contains rubber, in addition to the above-described effects, an insulating resin layer which is less likely to crack when subjected to a shock such as a thermal shock is obtained. It also has the effect that it can be done.

【0050】請求項8〜10に係る発明のエポキシ樹脂
組成物は、無機質フィラーをも含んでいるので、上記の
効果に加えて、膜厚の均一性、耐熱性、耐水性、耐吸湿
性、機械強度がより向上し、線膨張係数がより低下し、
あるいは、難燃性を付与することができるという効果も
奏する。請求項11〜12に係る発明のエポキシ樹脂組
成物は、有機質フィラーをも含んでいるので、上記の効
果に加えて、レーザー加工性、耐熱性、耐水性、耐吸湿
性、機械強度がより向上し、線膨張係数がより低下する
ことができるという効果も奏する。
Since the epoxy resin composition of the invention according to claims 8 to 10 also contains an inorganic filler, in addition to the above-mentioned effects, uniformity of film thickness, heat resistance, water resistance, moisture absorption resistance, The mechanical strength is more improved, the coefficient of linear expansion is lower,
Alternatively, an effect that flame retardancy can be imparted is also exerted. Since the epoxy resin composition of the invention according to claims 11 to 12 also contains an organic filler, in addition to the above-described effects, laser workability, heat resistance, water resistance, moisture absorption resistance, and mechanical strength are further improved. However, the linear expansion coefficient can be further reduced.

【0051】請求項13に係る発明のエポキシ樹脂組成
物は、25℃での粘度が10〜10000cpsである
ので、上記の効果に加えて、所望の厚みの絶縁樹脂層を
形成することができるという効果も奏する。
Since the epoxy resin composition of the invention according to claim 13 has a viscosity at 25 ° C. of 10 to 10,000 cps, in addition to the above effects, it is possible to form an insulating resin layer having a desired thickness. It also has an effect.

フロントページの続き (72)発明者 池谷 晋一 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (72)発明者 藤森 正一 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (72)発明者 平田 勲夫 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (72)発明者 井原 清暁 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (72)発明者 前田 修二 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (72)発明者 小川 悟 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (72)発明者 中川 義廣 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (72)発明者 石原 政行 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内Continued on the front page (72) Inventor Shinichi Ikeya 1048 Kadoma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Works, Ltd. (72) Inventor Shoichi Fujimori 1048 Kadoma Kadoma, Kadoma City, Osaka Matsushita Electric Works Co., Ltd. (72) Inventor Isao Hirata 1048 Kadoma Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Works Co., Ltd. (72) Inventor Kiyoaki Ihara 1048 Kadoma Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Pref. Address Matsushita Electric Works Co., Ltd. (72) Inventor Satoru Ogawa 1048 Kazuma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Works Co., Ltd. (72) Inventor Yoshihiro Nakagawa 1048 Kazuma Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Works Co., Ltd. (72) Invention Person Masayuki Ishihara 1048 Kadoma, Kazuma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Works, Ltd.

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記式(a)で表わされる3官能エポキ
シ樹脂を合むエポキシ樹脂と、硬化剤と、硬化促進剤
と、レベリング剤とを含む、ビルドアップ用エポキシ樹
脂組成物。 【化1】
1. An epoxy resin composition for build-up comprising an epoxy resin comprising a trifunctional epoxy resin represented by the following formula (a), a curing agent, a curing accelerator, and a leveling agent. Embedded image
【請求項2】 前記硬化剤が、1分子中に2個以上のフ
ェノール性OH基を有する多官能フェノール化合物、お
よび、下記式(b)で表される1分子中に2個以上のア
ミン基を有する芳香族アミン化合物からなる群の中から
選ばれた少なくとも1つである、請求項1記載のビルド
アップ用エポキシ樹脂組成物。 【化2】
2. The method according to claim 1, wherein the curing agent is a polyfunctional phenol compound having two or more phenolic OH groups in one molecule, and two or more amine groups in one molecule represented by the following formula (b). The epoxy resin composition for build-up according to claim 1, which is at least one selected from the group consisting of aromatic amine compounds having the following formula: Embedded image
【請求項3】 前記硬化促進剤がイミダゾール化合物で
ある、請求項1または2記載のビルドアップ用エポキシ
樹脂組成物。
3. The epoxy resin composition for build-up according to claim 1, wherein the curing accelerator is an imidazole compound.
【請求項4】 前記レベリング剤がフッ素系界面活性剤
およびシリコン系界面活性剤からなる群の中から選ばれ
た少なくとも1つである、請求項1から3までのいずれ
かに記載のビルドアップ用エポキシ樹脂組成物。
4. The build-up according to claim 1, wherein the leveling agent is at least one selected from the group consisting of a fluorine-based surfactant and a silicon-based surfactant. Epoxy resin composition.
【請求項5】 ゴムをも含んでいる、請求項1から4ま
でのいずれかに記載のビルドアップ用エポキシ樹脂組成
物。
5. The epoxy resin composition for build-up according to claim 1, further comprising a rubber.
【請求項6】 前記ゴムの平均粒子径が0.05〜10
μmである、請求項5記載のビルドアップ用エポキシ樹
脂組成物。
6. The rubber has an average particle size of 0.05 to 10
The epoxy resin composition for build-up according to claim 5, which has a thickness of µm.
【請求項7】 前記ゴムの添加量が、エポキシ樹脂固形
分100重量部に対して3〜30重量部である、請求項
5または6記載のビルドアップ用エポキシ樹脂組成物。
7. The epoxy resin composition for build-up according to claim 5, wherein the amount of the rubber added is 3 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the epoxy resin.
【請求項8】 無機質フィラーをも含む、請求項1から
7までのいずれかに記載のビルドアップ用エポキシ樹脂
組成物。
8. The epoxy resin composition for build-up according to claim 1, further comprising an inorganic filler.
【請求項9】 前記無機質フィラーが平均粒子径0.0
1〜50μmの粒子である、請求項8記載のビルドアッ
プ用エポキシ樹脂組成物。
9. The method according to claim 1, wherein the inorganic filler has an average particle size of 0.0
The epoxy resin composition for build-up according to claim 8, which is a particle of 1 to 50 m.
【請求項10】 前記無機質フィラーの添加量が、エポ
キシ樹脂固形分100重量部に対して1〜300重量部
である、請求項8または9記載のビルドアップ用エポキ
シ樹脂組成物。
10. The epoxy resin composition for build-up according to claim 8, wherein the amount of the inorganic filler is 1 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the epoxy resin.
【請求項11】 有機質フィラーをも含む、請求項1か
ら10までのいずれかに記載のビルドアップ用エポキシ
樹脂組成物。
11. The epoxy resin composition for build-up according to claim 1, further comprising an organic filler.
【請求項12】 前記有機質フィラーの添加量が、エポ
キシ樹脂固形分100重量部に対して1〜300重量部
である、請求項11記載のビルドアップ用エポキシ樹脂
組成物。
12. The epoxy resin composition for build-up according to claim 11, wherein the amount of the organic filler is 1 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the epoxy resin.
【請求項13】 25℃における粘度が10〜10000
cpsである、請求項1から12までのいずれかに記載
のビルドアップ用エポキシ樹脂組成物。
13. A viscosity at 25 ° C. of 10 to 10,000.
The epoxy resin composition for build-up according to any one of claims 1 to 12, which is cps.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4885912A (en) * 1987-05-13 1989-12-12 Gibbs & Hill, Inc. Compressed air turbomachinery cycle with reheat and high pressure air preheating in recuperator
KR100833528B1 (en) 2006-06-01 2008-05-29 주식회사 엘지화학 The epoxy resin composition for rigid-flex and a use thereof
TWI408500B (en) * 2006-07-14 2013-09-11 Nippon Kayaku Kk Photosensitive resin composition, laminate comprising the same, cured product of the same and method for forming pattern using the same (1)
JP2016003335A (en) * 2014-06-12 2016-01-12 廣東生益科技股▲ふん▼有限公司Shengyi Technologyco.,Ltd. Thermosetting epoxy resin composition, prepreg and laminate
US20160115318A1 (en) * 2013-05-08 2016-04-28 Asahi Kasei Chemicals Corporation Curable Resin Composition and Cured Product Thereof, Sealing Material for Optical Semiconductor, Die Bonding Material, and Optical Semiconductor Light-Emitting Element
JP2016183237A (en) * 2015-03-26 2016-10-20 株式会社巴川製紙所 Resin composition and adhesive tape

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4885912A (en) * 1987-05-13 1989-12-12 Gibbs & Hill, Inc. Compressed air turbomachinery cycle with reheat and high pressure air preheating in recuperator
KR100833528B1 (en) 2006-06-01 2008-05-29 주식회사 엘지화학 The epoxy resin composition for rigid-flex and a use thereof
TWI408500B (en) * 2006-07-14 2013-09-11 Nippon Kayaku Kk Photosensitive resin composition, laminate comprising the same, cured product of the same and method for forming pattern using the same (1)
US20160115318A1 (en) * 2013-05-08 2016-04-28 Asahi Kasei Chemicals Corporation Curable Resin Composition and Cured Product Thereof, Sealing Material for Optical Semiconductor, Die Bonding Material, and Optical Semiconductor Light-Emitting Element
US10208206B2 (en) * 2013-05-08 2019-02-19 Asahi Kasei Chemicals Corporation Curable resin composition and cured product thereof, sealing material for optical semiconductor, die bonding material, and optical semiconductor light-emitting element
JP2016003335A (en) * 2014-06-12 2016-01-12 廣東生益科技股▲ふん▼有限公司Shengyi Technologyco.,Ltd. Thermosetting epoxy resin composition, prepreg and laminate
JP2016183237A (en) * 2015-03-26 2016-10-20 株式会社巴川製紙所 Resin composition and adhesive tape

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