KR101316105B1 - Manufacturing method for printed circuit board containing flame retardant insulating layer - Google Patents
Manufacturing method for printed circuit board containing flame retardant insulating layer Download PDFInfo
- Publication number
- KR101316105B1 KR101316105B1 KR1020120012369A KR20120012369A KR101316105B1 KR 101316105 B1 KR101316105 B1 KR 101316105B1 KR 1020120012369 A KR1020120012369 A KR 1020120012369A KR 20120012369 A KR20120012369 A KR 20120012369A KR 101316105 B1 KR101316105 B1 KR 101316105B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- epoxy resin
- printed circuit
- circuit board
- manufacturing
- insulating layer
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/381—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B3/00—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
- H01B3/18—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances
- H01B3/30—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes
- H01B3/40—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes epoxy resins
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
- H05K1/0373—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement containing additives, e.g. fillers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
본 발명은 난연성 절연층을 포함하는 인쇄회로기판의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 인쇄회로기판은 열적 안정성 및 기계적강도가 우수하면서도 임프린팅 리소그래피방식에 적합할뿐만 아니라 열팽창률을 감소시켜 신뢰성을 향상시킬 수 있으며, 회로패턴과 절연층 간의 접착력이 매우 우수한 장점을 갖는다.The present invention relates to a method for manufacturing a printed circuit board including a flame retardant insulating layer. The printed circuit board according to the present invention has excellent thermal stability and mechanical strength, and is not only suitable for the imprinting lithography method, but also improves reliability by reducing the thermal expansion rate, and has excellent adhesive strength between the circuit pattern and the insulating layer. .
Description
본 발명은 난연성 절연층을 포함하는 인쇄회로기판의 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a method for manufacturing a printed circuit board including a flame retardant insulating layer.
근래 전자기기의 소형화, 박형화, 경량화 추세에 따라 고밀도실장이 요구되고 있다. 종래의 포토리소그래피방식을 이용하여 배선패턴을 형성시키는 방법은 포토레지스트의 사용으로 인해 미세배선의 형성에 한계가 있으며, 공정상 번거로움이 많았다. 최근에는 나노사이즈까지 미세배선 패턴을 형성할 수 있는 임프린팅 리소그래피 방법이 제안되고 있다. 이는 반경화상태의 절연재료에 스탬프를 이용하여 도장을 찍듯이 패턴을 형성하고, 그 패턴내부에 전도성 금속을 도금하여 미세패턴을 형성하는 방법이다. 그러나, 임프린팅 리소그래피 방법의 경우 적절한 경화도의 범위에 대한 선택의 폭이 좁아 공정조건에 제약이 있을 뿐만 아니라, 정확한 경화조건을 맞추는 것이 어렵다. 즉, 경화조건을 맞추지 못하면 아예 전사가 되지 않거나, 스탬프의 이형성이 문제가 되어 기판의 불량률이 높아지는 문제점이 있다. Recently, high-density mounting is required according to the trend of miniaturization, thinning, and lightening of electronic devices. The conventional method of forming a wiring pattern by using a photolithography method has a limitation in forming fine wirings due to the use of photoresist, and it is cumbersome in the process. Recently, an imprinting lithography method capable of forming microwiring patterns down to nanosize has been proposed. This is a method of forming a pattern as a stamp is applied to the insulating material of the semi-cured state, and by forming a fine pattern by plating a conductive metal inside the pattern. However, in the case of the imprinting lithography method, the choice of a suitable range of hardening is narrow, which not only restricts the processing conditions but also makes it difficult to match the exact curing conditions. In other words, if the curing conditions are not met, there is a problem that the transfer is not performed at all, or the release property of the stamp becomes a problem, thereby increasing the defective rate of the substrate.
일반적으로 인쇄회로기판이나 반도체실장용 기판에 절연재료로 사용되고 있는 고분자재료(또는, 수지)에 대해서는, 각 수지가 갖는 물성의 단점을 개선하고 원하는 기능을 부여하기 위하여 다양한 무기충전제가 사용되고 있다. 그러나, 회로기판에 무기충전제가 다량 함유될 경우, 기판의 취성이 증가하고, 사용된 수지와 배선간의 부착력이 떨어지며, 반경화 상태에서의 유동성이 저하되는 등의 문제가 발생한다. 따라서, 무기충전제로 원하는 물성을 유지시키면서도 임프린팅 공정의 수행에 적합한 특성을 나타낼 수 있도록 수지의 물성을 제어할 필요가 있다. In general, with respect to a polymer material (or resin) used as an insulating material for a printed circuit board or a semiconductor mounting substrate, various inorganic fillers are used to improve the disadvantages of the physical properties of each resin and to impart desired functions. However, when a large amount of the inorganic filler is contained in the circuit board, the brittleness of the substrate increases, the adhesion between the used resin and the wiring decreases, and the fluidity in the semi-cured state occurs. Therefore, it is necessary to control the physical properties of the resin so that the inorganic filler can exhibit the properties suitable for performing the imprinting process while maintaining the desired physical properties.
기판에 난연성을 부여하기 위하여 종래에는 브롬이나 염소와 같은 할로겐 화합물을 사용하기도 하였지만, 이들 물질은 연소시 인체에 유해한 물질인 다이옥신을 생산하는 것으로 알려져 그 사용이 제한되고 있다. 따라서, 현재에는 비할로겐 화합물을 이용하여 난연성을 부여할 수 있는 기술에 대한 연구가 다양하게 진행되고 있다.Conventionally, halogen compounds such as bromine and chlorine have been used to impart flame retardancy to substrates, but these materials are known to produce dioxins, which are harmful to humans during combustion, and their use is limited. Therefore, various studies have been made on a technique that can impart flame retardancy using a non-halogen compound.
이 분야의 선행기술로는 한국공개특허 2010-0116786 기판용 절연 조성물 및 상기 절연 조성물로 제조된 절연필름 및 2010-0084091 난연성 반도체 봉지용 에폭시 수지 조성물이 있다.
Prior art in this field includes an insulating composition for a substrate, an insulating film made of the insulating composition and an epoxy resin composition for 2010-0084091 flame retardant semiconductor encapsulation.
본 발명은 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 열적 안정성과 기계적 강도가 우수하면서도 열팽창률을 감소시킨 난연성 절연층의 제조방법 및 이를 이용한 인쇄회로기판을 제공하는 것이다.The present invention is to solve the above problems of the prior art, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a flame-retardant insulating layer having excellent thermal stability and mechanical strength while reducing the coefficient of thermal expansion and a printed circuit board using the same.
본 발명의 일 측면에 따르면, (a) 평균 에폭시수지 당량이 100 내지 700인 비스페놀 A형 에폭시수지 5 내지 20중량부, 평균 에폭시수지 당량이 100 내지 600인 크레졸노볼락 에폭시수지 30 내지 60중량부, 평균 에폭시수지 당량이 100 내지 500인 고무변성형 에폭시수지 5 내지 15중량부 및 평균 에폭시수지 당량이 400 내지 800인 인계(Phosphorus) 에폭시수지 15 내지 30중량부를 포함하여 이루어지는 복합에폭시수지; (b) 아미노 트리아진계 경화제; (c) 경화촉진제; 및 (d) 무기충전제를 포함하는, 레오미터(rheometer)에서 25mm 직경의 파라렐 플레이트를 플레이트 간격 1.0mm으로 사용하고, temperature sweep mode로 초기온도 60℃, 최종온도 180℃, 및 승온속도 5℃/분의 조건으로, 스트레인(strain) 1% 및 1Hz의 주파수에서 120 측정포인트와 24분간의 런타임으로 측정한 때에 얻어진 복소점도(complex viscosity (|η*|: 단위 Pa*sec)의 최저점도(min. viscosity)가 1.0~250.0 Pa*sec 인 난연성 수지조성물을 기판표면에 코팅하여 난연성 절연층을 형성하는 단계; 상기 난연성 절연층이 형성된 기판을 프리큐어(precure)하는 단계; 상기 난연성 절연층에 조도(surface roughness)를 형성시키는 단계; 상기 조도가 형성된 난연성 절연층 상에 인쇄회로패턴을 형성하는 단계를 포함하는 인쇄회로기판의 제조방법이 제공된다.According to one aspect of the invention, (a) 5 to 20 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin having an average epoxy resin equivalent of 100 to 700, and 30 to 60 parts by weight of cresol novolac epoxy resin having an average epoxy resin equivalent of 100 to 600 Compound epoxy resin comprising 5 to 15 parts by weight of a rubber-modified epoxy resin having an average epoxy resin equivalent of 100 to 500 and 15 to 30 parts by weight of a phosphorus epoxy resin having an average epoxy resin of 400 to 800; (b) amino triazine based curing agents; (c) curing accelerators; And (d) using a 25 mm diameter pararell plate at a rheometer, including an inorganic filler, at a plate spacing of 1.0 mm, using an initial temperature of 60 ° C., a final temperature of 180 ° C., and a temperature increase rate of 5 ° C. in a temperature sweep mode. The minimum viscosity (complex viscosity (| η * |: unit Pa * sec) obtained when measured at 120 measurement points and 24 minutes of run time at a frequency of 1% strain and 1 Hz under conditions of / min. coating a surface of a substrate with a flame retardant resin composition having a min. viscosity of 1.0 to 250.0 Pa * sec to form a flame retardant insulating layer; precure a substrate having the flame retardant insulating layer formed thereon; roughness of the flame retardant insulating layer A method of manufacturing a printed circuit board is provided, the method including: forming a surface roughness, and forming a printed circuit pattern on a flame-retardant insulating layer having the roughness.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 아미노 트리아진계 경화제는 상기 복합 에폭시수지의 에폭시기의 혼합당량에 대하여 0.3 내지 1.5당량비로 혼합될 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the amino triazine-based curing agent may be mixed in a ratio of 0.3 to 1.5 equivalents relative to the mixed equivalent of the epoxy groups of the composite epoxy resin.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 경화촉진제는 상기 복합 에폭시수지 100중량부에 대하여 0.1 내지 1중량부로 포함될수있다.According to one embodiment of the present invention, the curing accelerator may be included in 0.1 to 1 parts by weight based on 100 parts by weight of the composite epoxy resin.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 무기충전제는 상기 복합 에폭시수지 100중량부에 대하여 20 내지 50중량부로 포함될수있다.According to one embodiment of the invention, the inorganic filler may be included in 20 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the composite epoxy resin.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 경화촉진제는 이미다졸계 화합물일 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the curing accelerator may be an imidazole compound.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 경화촉진제는 2-에틸-4메틸이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-알킬이미다졸, 2-페닐이미다졸 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나일 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the curing accelerator is 2-ethyl-4methylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-alkylimidazole, 2-phenylimidazole and mixtures thereof It may be at least one selected from the group consisting of.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 무기충전제는 바륨 티타늄 옥사이드(barium titanum oxide), 바륨 스트론튬 티타네이트(barium strontium titanate), 티타늄 옥사이드(titanium oxide), 리드 지르코늄 티타네이트(lead zirconium titanate), 리드 란타늄 지르코네이트 티타네이트(lead lanthanium zirconate titanate), 림 마그네슘 니오베이트-리드 티타네이트(leam magnesium niobate-lead titanate), 은, 니켈, 니켈-코팅 폴리머 스페어(nickel-coated polymer sphere), 금-코팅 폴리머 스페어(gold-coated polymer sphere), 틴솔더(tin solder), 그라파이트(graphite), 탄탈륨니티드(tantalum nitides), 메탈 실리콘 니트라이드(metal silicon nitride), 카본블랙, 실리카, 그레이(clay) 및 알루미늄 보레이트(aluminum borate)로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 무기물일 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the inorganic filler barium titanium oxide (barium titanum oxide), barium strontium titanate (barium strontium titanate), titanium oxide (titanium oxide), lead zirconium titanate (lead zirconium titanate), lead Lanthanium zirconate titanate, rim magnesium niobate-lead titanate, silver, nickel, nickel-coated polymer spheres, gold-coated Gold-coated polymer spheres, tin solder, graphite, tantalum nitides, metal silicon nitride, carbon black, silica, gray and It may be at least one inorganic material selected from the group consisting of aluminum borate.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 무기충전제는 실란커플링제로 표면처리될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the inorganic filler may be surface treated with a silane coupling agent.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 무기충전제는 서로 다른 크기의 구형충전제를 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the inorganic filler may include spherical fillers of different sizes.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 난연성 수지조성물의 최저점도(min. viscosity)가 1.0~100.0 Pa*sec 일 수 있다.According to one embodiment of the invention, the minimum viscosity (min. Viscosity) of the flame retardant resin composition may be 1.0 ~ 100.0 Pa * sec.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 난연성 수지조성물의 최저점도(min. viscosity)가 1.0~50.0 Pa*sec 일 수 있다.According to one embodiment of the invention, the minimum viscosity (min. Viscosity) of the flame retardant resin composition may be 1.0 ~ 50.0 Pa * sec.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 난연성 수지조성물의 최저점도(min. viscosity)가 30.0~40.0 Pa*sec 일 수 있다.
According to one embodiment of the invention, the minimum viscosity (min. Viscosity) of the flame retardant resin composition may be 30.0 ~ 40.0 Pa * sec.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 프리큐어하는 단계는 140 내지 160 ℃로 20 내지 40분간 유지하는 것일 수 있다.According to one embodiment of the invention, the step of precure may be to maintain 20 to 40 minutes at 140 to 160 ℃.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 조도를 형성하는 단계는 상기 난연성 절연층이 코팅된 기판을 2-(2-부톡시에톡시)에탄올(2-(2-butoxyethoxy)ethanol) 및 에탄-1,2,-디올(ethane-1,2-diol)로 처리하는 단계; 55 g/L NaMnO4, 18 g/L Na2MnO4, 45 g/L NaOH수용액으로 에칭하는 단계; 및 60% H2SO4로 중화시키는 단계를 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the step of forming the roughness is a substrate in which the flame-retardant insulation layer is coated 2- (2-butoxyethoxy) ethanol (2- (2-butoxyethoxy) ethanol) and ethane-1 Treating with 2, -diol (ethane-1,2-diol); Etching with 55 g / L NaMnO 4 , 18 g / L Na 2 MnO 4 , 45 g / L NaOH solution; And neutralizing with 60% H 2 SO 4 .
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 조도를 형성하는 단계는 20~60% HF 또는 NH4HF2 용액에 침지시키는 단계를 더 포함할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the step of forming the roughness may further comprise the step of immersing in 20 ~ 60% HF or NH 4 HF 2 solution.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 HF 또는 NH4HF2용액에 침지시키는 단계를 더 포함하는 경우에는 프리큐어를 170℃/30 분~60 분 동안 수행할 수 있다.
According to one embodiment of the invention, when further comprising the step of immersing in the HF or NH 4 HF 2 solution can be carried out for 170 ° C / 30 minutes to 60 minutes precure.
본 발명에 따른 인쇄회로기판은 열적 안정성 및 기계적 강도가 우수하면서도 열팽창률을 감소시켜 신뢰성을 향상시킬 수 있으며, 회로패턴과 절연층간의 접착력이 매우 우수한 장점을 갖는다.
Printed circuit board according to the present invention can improve the reliability by reducing the thermal expansion rate while excellent thermal stability and mechanical strength, and has the advantage of excellent adhesion between the circuit pattern and the insulating layer.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 수지조성물의 TMA 결과그래프이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 인쇄회로기판의 제조과정이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 절연층의 단면을 나타낸 모식도이다.
도 4는 각기 다른 조건으로 프리큐어된 후 디스미어공정을 거친 난연성 절연층의 표면을 나타내는 전자현미경사진이다. (170℃/30분 (B) 160℃/30분 (C) 140℃, 150℃/30 분)
도 5는 (a)프리큐어후, (b) 스웰링후, (c) 마이크로에칭(Microetching)후, (d) 환원(Reduction) 후, (e) 애시드-딥(Acid-dip) 후의 난연성 절연층의 표면을 나타내며, (f)는 화학도금 후의 표면상태를 나타내는 전자현미경사진이다.
도 6은 HF 처리를 거친 것(좌측)과 그렇지 않은 난연성 절연층의 표면(우측)에 대한 전자현미경 사진이다.
도 7은 본 발명에 따른 난연성 수지조성물의 복소점도(complex viscosity)를 측정한 결과이다.1 is a TMA result graph of a resin composition according to an embodiment of the present invention.
2 is a manufacturing process of a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
3 is a schematic diagram showing a cross section of an insulating layer according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 is an electron micrograph showing the surface of the flame-retardant insulating layer subjected to the desmear process after being pre-cured under different conditions. (170 ° C / 30 minutes (B) 160 ° C / 30 minutes (C) 140 ° C, 150 ° C / 30 minutes)
5 shows the flame retardant insulating layer after (a) precure, (b) after swelling, (c) after microetching, (d) after reduction, and (e) after acid-dip. (F) is an electron micrograph showing the surface state after chemical plating.
6 is an electron micrograph of the surface (right) of the HF-treated (left) and the non-flammable insulating layer.
7 is a result of measuring the complex viscosity of the flame retardant resin composition according to the present invention.
이하, 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
본 발명의 일 측면에 따르면, (a) 평균 에폭시수지 당량이 100 내지 700인 비스페놀 A형 에폭시수지 5 내지 20중량부, 평균 에폭시수지 당량이 100 내지 600인 크레졸노볼락 에폭시수지 30 내지 60중량부, 평균 에폭시수지당량이 100 내지 500인 고무변성형 에폭시수지 5 내지 15중량부 및 평균 에폭시수지당량이 400 내지 800인 인계 에폭시수지 15 내지 30중량부를 포함하여 이루어지는 복합 에폭시수지; (b) 아미노 트리아진계 경화제; (c) 경화촉진제; 및 (d) 무기충전제를 포함하는, 레오미터(rheometer)에서 25mm 직경의 파라렐 플레이트를 플레이트 간격 1.0mm으로 사용하고, temperature sweep mode로 초기온도 60℃, 최종온도 180℃, 및 승온속도 5℃/분의 조건으로, 스트레인(strain) 1% 및 1Hz의 주파수에서 120 측정포인트와 24분간의 런타임으로 측정한 때에 얻어진 복소점도(complex viscosity (|η*|: 단위 Pa*sec)의 최저점도(min. viscosity)가 1.0~250.0 Pa*sec 인 난연성 수지조성물을 기판표면에 코팅하여 난연성 절연층을 형성하는 단계; 상기 난연성 절연층이 형성된 기판을 프리큐어하는단계; 상기 난연성 절연층에 조도를 형성시키는 단계; 상기 조도가 형성된 난연성 절연층상에 인쇄회로패턴을 형성하는 단계를 포함하는 인쇄회로기판의 제조방법이 제공된다.According to one aspect of the invention, (a) 5 to 20 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin having an average epoxy resin equivalent of 100 to 700, and 30 to 60 parts by weight of cresol novolac epoxy resin having an average epoxy resin equivalent of 100 to 600 A composite epoxy resin comprising 5 to 15 parts by weight of a rubber-modified epoxy resin having an average epoxy resin equivalent of 100 to 500 and 15 to 30 parts by weight of a phosphorous epoxy resin having an average epoxy resin equivalent of 400 to 800; (b) amino triazine based curing agents; (c) curing accelerators; And (d) using a 25 mm diameter pararell plate at a rheometer, including an inorganic filler, at a plate spacing of 1.0 mm, using an initial temperature of 60 ° C., a final temperature of 180 ° C., and a temperature increase rate of 5 ° C. in a temperature sweep mode. The minimum viscosity (complex viscosity (| η * |: unit Pa * sec) obtained when measured at 120 measurement points and 24 minutes of run time at a frequency of 1% strain and 1 Hz under conditions of / min. forming a flame retardant insulating layer by coating a flame-retardant resin composition having a min. viscosity of 1.0 to 250.0 Pa * sec on a substrate surface; precure the substrate having the flame retardant insulating layer formed thereon; forming roughness on the flame retardant insulating layer. A method of manufacturing a printed circuit board is provided, the method including forming a printed circuit pattern on a flame-retardant insulating layer having the roughness.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 난연성 수지조성물의 최저점도(min. viscosity)가 1.0~100.0 Pa*sec 일 수 있다.According to one embodiment of the invention, the minimum viscosity (min. Viscosity) of the flame retardant resin composition may be 1.0 ~ 100.0 Pa * sec.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 난연성 수지조성물의 최저점도(min. viscosity)가 1.0~50.0 Pa*sec 일 수 있다.According to one embodiment of the invention, the minimum viscosity (min. Viscosity) of the flame retardant resin composition may be 1.0 ~ 50.0 Pa * sec.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 난연성 수지조성물의 최저점도(min. viscosity)가 1.0~40.0 Pa*sec 일 수 있다.According to one embodiment of the invention, the minimum viscosity (min. Viscosity) of the flame retardant resin composition may be 1.0 ~ 40.0 Pa * sec.
본 발명의 일 실시예에 따른 난연성 수지조성물의 복소점도의 측정결과가 도 7에 나타나 있다. 도 7을 참조하면 본 발명의 일 실시예에 따른 난연성 수지조성물의 최저점도가 5.6 Pa*sec 임을 알 수 있다. 이와 같이 낮은 최저점도를 통해 얻을 수 있는 장점은 하기에 보다 상세하게 설명한다.
The measurement results of the complex viscosity of the flame retardant resin composition according to the embodiment of the present invention are shown in FIG. 7. Referring to Figure 7 it can be seen that the minimum viscosity of the flame retardant resin composition according to an embodiment of the present invention is 5.6 Pa * sec. The advantage obtained through such low minimum viscosity is described in more detail below.
본 발명에 사용되는 상기 복합 에폭시수지는 할로겐을 포함하지 않는 에폭시수지로서, 비스페놀 A형 에폭시수지, 크레졸노볼락 에폭시수지, 고무변성형 에폭시수지 및 인계(phosphorus) 에폭시수지를 포함하여 이루어진다. The composite epoxy resin used in the present invention is a halogen-free epoxy resin, and includes a bisphenol A epoxy resin, a cresol novolac epoxy resin, a rubber-modified epoxy resin, and a phosphorus epoxy resin.
여기서, 비스페놀 A형 에폭시수지는 평균 에폭시수지 당량이 100 내지 700인 것이 바람직하다. 평균 에폭시수지 당량이 100 미만이면 원하는 물성을 나타내기 힘들고, 700을 초과하면 용매에 녹기 어렵고 융점이 너무 높아져 제어하기 어렵게 되므로 바람직하지 못하다. 또한, 상기 비스페놀 A형 에폭시수지는 복합 에폭시수지에서 5 내지 20중량부를 차지하는 것이 바람직하다. 비스페놀 A형 에폭시수지의 함량이 5 중량부 미만이면 배선재료와의 접착력이 떨어지고, 함량이 20중량부를 초과하면 열적 성질 및 전기적 성질이 저하되어 바람직하지 못하다. 상기 수지는 2-메톡시에탄올, 메틸에틸케톤(MEK), 데메틸포름아마이드(DMF), 메틸셀로솔브(MCS) 등의 혼합용매에 용해시켜 사용할 수 있다. Here, it is preferable that the average epoxy resin equivalent of bisphenol-A epoxy resin is 100-700. If the average epoxy resin equivalent is less than 100, it is difficult to exhibit the desired physical properties, and if it exceeds 700, it is not preferable because it is difficult to dissolve in the solvent and the melting point is too high to control. In addition, the bisphenol A epoxy resin preferably occupies 5 to 20 parts by weight of the composite epoxy resin. If the content of the bisphenol A epoxy resin is less than 5 parts by weight, the adhesive strength with the wiring material is lowered, and if the content is more than 20 parts by weight, thermal and electrical properties are deteriorated, which is not preferable. The resin can be used after being dissolved in a mixed solvent such as 2-methoxyethanol, methyl ethyl ketone (MEK), demethyl formamide (DMF), and methyl cellosolve (MCS).
노볼락형태의 에폭시수지로서 크레졸노볼락 에폭시수지를 사용하는데, 이는 내열성이 높은 경화물을 얻을 수 있으며, 형성된 기판의 열적 안정성을 향상시킬 수 있기 때문이다. 크레졸노볼락 에폭시수지의 평균 에폭시수지 당량은 100 내지 600인 것이 바람직하며, 복합 에폭시수지에서 30 내지 60중량부를 차지한다. 평균 에폭시수지 당량이 100 미만이면 원하는 물성을 나타내기 힘들고, 600을 초과하면 용매에 녹기 어렵고, 융점이 너무 높아져 제어하기 어렵게 되므로 바람직하지 못하다. 또한, 크레졸노볼락 에폭시수지의 함량이 30중량부 미만이면 원하는 물성을 얻을 수 없고, 함량이 60중량부를 초과하면 오히려 전기적 기계적 성질이 저하되어 바람직하지 않다. 이는 2-메톡시에탄올, 메틸에틸케톤(MEK), 데메틸포름아마이드(DMF), 메틸셀로솔브(MCS) 등의 혼합용매에 용해시켜 사용할 수 있다. Cresol novolac epoxy resin is used as the novolak type epoxy resin, because it is possible to obtain a cured product having high heat resistance and to improve the thermal stability of the formed substrate. The average epoxy resin equivalent of the cresol novolac epoxy resin is preferably 100 to 600, and occupies 30 to 60 parts by weight in the composite epoxy resin. If the average epoxy resin equivalent is less than 100, it is difficult to exhibit the desired physical properties, and if it exceeds 600, it is difficult to dissolve in the solvent, it is not preferable because the melting point is too high to control. In addition, if the content of the cresol novolac epoxy resin is less than 30 parts by weight can not obtain the desired physical properties, if the content is more than 60 parts by weight, rather the electrical mechanical properties are lowered is not preferred. It can be used by dissolving it in mixed solvents, such as 2-methoxyethanol, methyl ethyl ketone (MEK), demethyl formamide (DMF), and methyl cellosolve (MCS).
고무변성형 에폭시수지는 DGEBA(diglycidyl ether of bisphenol A)와 ATBN(amine terminated butadiene acrylonitrile copolymer)를 혼합하여 얻어질 수 있으며, 평균 에폭시수지당량은 100 내지 500인 것이 바람직하다. 평균 에폭시수지 당량이 100 미만이면 원하는 물성을 나타내기 힘들고, 500을 초과하면 용매에 녹기 어렵고 융점이 너무 높아져 제어하기 어렵게 되므로 바람직하지 못하다. 이 고무변성형 에폭시수지는 복합 에폭시수지에서 5 내지 15중량부를 차지하는 것이 바람직한데, 함량이 5중량부 미만이면 절연재료가 부서지기 쉬워 크랙이 발생하기 싶고, 함량이 15중량부를 초과하면 원하는 물성을 얻을 수 없어 바람직하지 않다. 상기 수지는 2-메톡시에탄올, 메틸에틸케톤(MEK), 데메틸포름아마이드(DMF), 메틸셀로솔브(MCS) 등의 혼합용매에 용해시켜 사용할 수 있다. The rubber-modified epoxy resin can be obtained by mixing DGEBA (diglycidyl ether of bisphenol A) and ATBN (amine terminated butadiene acrylonitrile copolymer), and the average epoxy resin equivalent is preferably 100 to 500. If the average epoxy resin equivalent is less than 100, it is difficult to exhibit the desired physical properties, and if it exceeds 500, it is not preferable because it is difficult to dissolve in the solvent and the melting point is too high to control. The rubber-modified epoxy resin preferably takes from 5 to 15 parts by weight of the composite epoxy resin. If the content is less than 5 parts by weight, the insulating material is brittle and cracking is desired. If the content is more than 15 parts by weight, the desired physical properties It is not desirable to get it. The resin can be used after being dissolved in a mixed solvent such as 2-methoxyethanol, methyl ethyl ketone (MEK), demethyl formamide (DMF), and methyl cellosolve (MCS).
인계(phosphorus) 에폭시수지는 난연성과 자기소화성(自己消火性)이 우수하다. 인쇄회로기판의 난연성을 부여하기 위하여 인계 에폭시수지를 첨가할 수 있으며, 할로겐이 함유되지 않아 환경친화적인 난연성 기판을 얻을 수 있다. 상기 인계 에폭시수지는 평균 에폭시수지 당량이 400 내지 800인 것이 바람직하다. 평균 에폭시수지 당량이 400 미만이면 원하는 물성을 나타내기 힘들고, 800을 초과하면 용매에 녹기 어렵고 융점이 너무 높아져 제어하기 어렵게 되므로 바람직하지 못하다. 인계 에폭시수지는 복합 에폭시수지에서 15 내지 30중량부를 차지하는 것이 바람직한데, 함량이 15중량부 미만이면 원하는 난연성을 부여하기 어렵고, 함량이 30중량부를 초과하면 전기적 기계적 물성이 저하되어 바람직하지 않다. 상기 수지는 2-메톡시에탄올, 메틸에틸케톤(MEK), 데메틸포름아마이드(DMF), 메틸셀로솔브(MCS) 등의 혼합용매에 용해시켜 사용할 수 있다.
Phosphorus epoxy resins are excellent in flame retardancy and self-extinguishing. Phosphorus-based epoxy resin may be added to impart flame retardancy of the printed circuit board, and since halogen is not contained, an environmentally friendly flame retardant substrate may be obtained. It is preferable that the phosphorus epoxy resin has an average epoxy resin equivalent of 400 to 800. If the average epoxy resin equivalent is less than 400, it is difficult to exhibit the desired physical properties, and if it exceeds 800, it is not preferable because it is difficult to dissolve in the solvent and the melting point is too high to control. Phosphorus-based epoxy resin is preferably occupied 15 to 30 parts by weight in the composite epoxy resin, if the content is less than 15 parts by weight it is difficult to impart the desired flame retardancy, if the content is more than 30 parts by weight electrical mechanical properties are lowered is not preferred. The resin can be used after being dissolved in a mixed solvent such as 2-methoxyethanol, methyl ethyl ketone (MEK), demethyl formamide (DMF), and methyl cellosolve (MCS).
바람직한 실시예에 따르면, 상기 아미노 트리아진계 경화제는 상기 복합 에폭시수지의 에폭시기의 혼합당량에 대하여 0.3 내지 1.5 당량비로 혼합되는 것이 바람직하다. 이 범위의 당량비일 때가 경화된 절연층, 즉 기판의 경화도를 임프린팅 공정을 수행하기에 바람직한 정도이며, 기판의 열팽창률을 최대한 줄일 수 있다. 당량비가 0.3 미만이면 조성물의 난연성이 떨어지고, 당량비가 1.5를 초과하면 접착성이 저하되고 저장안정성이 나빠지는 등의 문제가 발생할 수 있어 바람직하지 못하다. 가장 바람직하게는 0.6 당량비로 혼합하는 것이 좋다. According to a preferred embodiment, the amino triazine-based curing agent is preferably mixed in a 0.3 to 1.5 equivalent ratio relative to the mixed equivalent of the epoxy groups of the composite epoxy resin. When the equivalent ratio of this range is the degree to which the degree of curing of the cured insulating layer, that is, the substrate, is preferable to perform an imprinting process, the thermal expansion coefficient of the substrate can be reduced as much as possible. If the equivalent ratio is less than 0.3, the flame retardancy of the composition is inferior, and if the equivalent ratio exceeds 1.5, problems such as poor adhesiveness and poor storage stability may occur, which is not preferable. Most preferably, the mixing is at 0.6 equivalent ratio.
본 발명에 사용되는 경화제는 절연재료의 열적 안정성을 향상시키기 위한 것으로, 본 발명에서는 질소계 화합물을 포함하는 아미노 트리아진계 경화제를 사용하여 난연성이 우수하고 열팽창률이 낮은 우수한 수지조성물을 얻을 수 있다. 바람직하게는, 상기 경화제는 연화점이 100 내지 150℃이고, 질소함량이 10 내지 30중량%이고, 히드록시기 당량이 100 내지 200인 것이 바람직하다.
The curing agent used in the present invention is for improving the thermal stability of the insulating material. In the present invention, an amino triazine-based curing agent containing a nitrogen-based compound can be used to obtain an excellent resin composition having excellent flame retardancy and low thermal expansion rate. Preferably, the curing agent has a softening point of 100 to 150 ℃, nitrogen content of 10 to 30% by weight, hydroxy group equivalent of 100 to 200 is preferred.
본 발명에 사용되는 경화촉진제로는 이미다졸계를 들 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니나, 2-에틸-4메틸이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-알킬이미다졸, 2-페닐이미다졸 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 사용할 수 있다. 여기서, 상기 경화촉진제는 상기 복합 에폭시수지 100중량부에 대하여 0.1 내지 1 중량부로 포함되는 것이 바람직하며, 0.2 내지 0.3 중량부로 포함되는 것이 보다 바람직하다. 상기 경화촉진제의 함량이 0.1중량부 미만이면 경화속도가 현저히 떨어지고 미경화가 발생할 수 있으며, 임프린팅 공정에서 이형성의 문제가 발생할 수 있고, 함량이 1중량부를 초과하면 속경화가 일어나 임프린팅 공정시 패턴이 전사되지 않을 수 있다. Examples of the curing accelerator used in the present invention include imidazole, but are not limited thereto, 2-ethyl-4methylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-alkylimidazole, At least one selected from the group consisting of 2-phenylimidazole and mixtures thereof can be used. Herein, the curing accelerator is preferably included in an amount of 0.1 to 1 parts by weight, and more preferably 0.2 to 0.3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the composite epoxy resin. If the content of the curing accelerator is less than 0.1 parts by weight, the curing speed is significantly lowered and uncured may occur, the problem of releasability may occur in the imprinting process, if the content exceeds 1 part by weight fast curing occurs pattern This may not be transferred.
이외에도 추가적으로 난연보조제를 첨가하여 가격이 상대적으로 높은 인계 에폭시수지의 함량을 낮출 수 있다. 이러한 난연보조제로 인이 함유되어 있는 Al2O3와 같은 화합물을 사용할 수 있다.
In addition, the addition of a flame retardant aid can lower the content of the phosphorus-based epoxy resin, which is relatively expensive. As the flame retardant aid, a compound such as Al 2 O 3 containing phosphorus may be used.
본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 무기충전제는 바륨 티타늄 옥사이드(barium titanum oxide), 바륨 스트론튬 티타네이트(barium strontium titanate), 티타늄 옥사이드(titanium oxide), 리드 지르코늄 티타네이트(lead zirconium titanate), 리드 란타늄 지르코네이트 티타네이트(lead lanthaniumzirconatetitanate), 림 마그네슘 니오베이트-리드티 타네이트(leam magnesium niobate-lead titanate), 은, 니켈, 니켈-코팅 폴리머 스페어(nickel-coated polymer sphere), 금-코팅 폴리머 스페어(gold-coated polymer sphere), 틴솔더(tin solder), 그라파이트(graphite), 탄탈륨 니티드(tantalum nitides), 메탈실리콘 니트라이드(metal silicon nitride), 카본블랙, 실리카, 그레이(clay) 및 알루미늄 보레이트(aluminum borate)로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 무기물일 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the inorganic filler barium titanium oxide (barium titanum oxide), barium strontium titanate (barium strontium titanate), titanium oxide (titanium oxide), lead zirconium titanate (lead zirconium titanate), lead Lanthanium zirconatetitanate, rim magnesium niobate-lead titanate, silver, nickel, nickel-coated polymer spheres, gold-coated polymers Gold-coated polymer spheres, tin solder, graphite, tantalum nitides, metal silicon nitride, carbon black, silica, gray and aluminum It may be at least one mineral selected from the group consisting of aluminum borate.
본 발명에 사용되는 무기충전제는 에폭시수지만으로 이루어진 경화물의 기계적 강도와 같은 물성을 보강하기 위하여 첨가하는 것으로, 일반적으로 사용되는 절연성 물질을 사용할 수 있다. The inorganic filler used in the present invention is added to reinforce physical properties such as mechanical strength of the cured product of epoxy resin alone, and an insulating material generally used may be used.
여기서, 상기 무기충전제는 상기 복합 에폭시수지 100중량부에 대하여 20 내지 50중량부로 포함되는 것이 바람직하다. 무기충전제의 함량이 20중량부 미만이면 원하는 기계적 물성의 향상을 기대하기 어렵고, 함량이 50중량부를 초과하면 상분리가 일어날 수 있어 바람직하지 않다.
Here, the inorganic filler is preferably included in 20 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the composite epoxy resin. If the content of the inorganic filler is less than 20 parts by weight, it is difficult to expect the improvement of the desired mechanical properties, and if the content exceeds 50 parts by weight, phase separation may occur, which is not preferable.
또한, 상기 무기충전제는 실란 커플링제로 표면처리되는 것이 바람직하며, 서로 다른 크기의 구형충전제를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 실란 커플링제로는 아미노계, 에폭시계, 아크릴계, 비닐계 등의 다양한 종류가 있으며, 그 종류에 제한없이 사용될 수 있다. 또한, 상기 무기충전제로서 크기가 서로 다르고 구형의 충전제를 사용함으로써 수지조성물 내에서의 흐름성을 증가시킬 수 있으며, 경화후 패킹밀도를 높여 열적, 기계적 물성을 향상시킬 수 있다. In addition, the inorganic filler is preferably surface-treated with a silane coupling agent, it is preferable to include spherical fillers of different sizes. The silane coupling agent may be various kinds such as amino, epoxy, acrylic, vinyl, and the like, and may be used without limitation. In addition, by using different sized and spherical fillers as the inorganic filler, the flowability in the resin composition can be increased, and the packing density after curing can be improved to improve thermal and mechanical properties.
기판의 열팽창률은 전도성배선의 열팽창률과 최대한 유사할 필요가 있다. 왜냐하면, 열팽창률의 차이가 클수록 기판과 전도성 배선사이에 크랙이 발생하기 쉬워 기판의 신뢰성에 악영향을 미칠 수 있기 때문이다.The thermal expansion rate of the substrate needs to be as close as possible to the thermal expansion rate of the conductive wiring. This is because the larger the difference in thermal expansion coefficient, the more likely cracks occur between the substrate and the conductive wiring, which may adversely affect the reliability of the substrate.
본 발명의 일 측면에 따르면, 열적안정성 및 기계적물성을 유지하면서 전도성배선과의 열팽창률 차이를 줄일 수 있는 난연성 절연층 및 이를 포함하는 인쇄회로기판의 제조방법이 제공될 수 있다.According to an aspect of the present invention, a flame-retardant insulating layer that can reduce the difference in thermal expansion coefficient with the conductive wiring while maintaining thermal stability and mechanical properties, and a method of manufacturing a printed circuit board including the same can be provided.
상기 난연성 수지조성물을 이용하여 일반적인 PCB 제조공정에 의하여 회로를 형성할 수 있으며, 이러한 과정은 도 2에 나타나 있다.The flame retardant resin composition may be used to form a circuit by a general PCB manufacturing process, which is shown in FIG. 2.
상기 난연성 절연층을 코팅하는 기판은 PET일 수 있으며, 인쇄회로기판 제조공정에 사용할 수 있는 소재이면 특별한 제한은 없다.The substrate coating the flame retardant insulating layer may be PET, and there is no particular limitation as long as it is a material that can be used in a printed circuit board manufacturing process.
이때, 상기 난연성 절연층 코팅의 두께는 25~80 μm일 수 있다.At this time, the thickness of the flame-retardant insulating layer coating may be 25 ~ 80 μm.
난연성 절연층 코팅의 두께가 25μm 미만일 경우에는 절연성이 떨어져 바람직하지 않고, 80 μm를 넘는 경우에는 인쇄회로기판의 두께가 증가하게 되어 바람직하지 않다.If the thickness of the flame-retardant insulating layer coating is less than 25μm, the insulation is inferior, and if it is more than 80μm, the thickness of the printed circuit board is increased, which is not preferable.
도 2를 참조하면, 난연성 절연층 상에는 화학도금과 전해도금을 통하여 구리(copper)층이 형성되고, 이 후 포토리소그래피에 의하여 회로패턴이 형성됨을 알 수 있다.
Referring to FIG. 2, a copper layer is formed on the flame retardant insulating layer through chemical plating and electroplating, and then a circuit pattern is formed by photolithography.
PCB의 신뢰성측면에서, 회로패턴과 그 아래에 존재하는 절연층과의 접착력은 매우 중요하다. 필-강도(Peel-strength)의 측정을 통해, 상기 접착력에 가장 적합한 조건을 확립할 수 있다.In terms of the reliability of the PCB, the adhesion between the circuit pattern and the insulating layer beneath it is very important. By measuring the peel strength, it is possible to establish the conditions most suitable for the adhesion.
상기 필-강도에 영향을 미치는 인자는 크게 2가지로 나눌 수 있다.Factors affecting the peel strength can be largely divided into two types.
첫째는 구리층과 절연물질 계면에서의 접촉면 접착(interfacial adhesion)이다.The first is interfacial adhesion at the interface between the copper layer and the insulating material.
둘째는 도 3에 나타난 바와 같이 절연층에 형성된 조도에 의한 앵커링 효과(anchoring effect)이다. Second, as shown in Figure 3 is an anchoring effect (anchoring effect) by the roughness formed in the insulating layer.
이 중 보다 중요한 요인은 상기 앵커링 효과이다. A more important factor is the anchoring effect.
이러한 앵커링 효과를 위해 난연성 절연층 상에 조도(surface rouphness)를 형성시킬 수 있다. 상기 “조도”는 표면조도로도 표현될 수 있다.Surface rouphness can be formed on the flame retardant insulating layer for such an anchoring effect. The "roughness" may also be expressed as surface roughness.
조도의 형성을 위해, 상기 난연성 절연층을 형성하는 수지조성물에 프리큐어(precure)및 디스미어(desmear)공정이 수행될 수 있다. In order to form the roughness, a precure and desmear process may be performed on the resin composition forming the flame retardant insulating layer.
우선, 프리큐어 과정에 있어서는, 상기 코팅된 난연성 절연층이 프리큐어 과정을 통하여 적정 경화도로 경화되는 것이 요구된다.First, in the precure process, the coated flame retardant insulating layer is required to be cured to an appropriate degree of curing through the precure process.
상기 프리큐어 다음에는, 절연재료 표면에 조도를 형성하는 디스미어공정(화학적인 wet process)이 수행될 수 있다.After the precure, a chemical wet process may be performed to form roughness on the surface of the insulating material.
이를 통해, 상기 난연성 절연층의 접착력을 높일 수 있다.Through this, the adhesive force of the flame retardant insulating layer can be increased.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 프리큐어 단계는 140 내지 160℃로 20 내지 40분간 유지되는 것일 수 있다.According to one embodiment of the invention, the precure step may be to maintain for 20 to 40 minutes at 140 to 160 ℃.
하기 표 1에는 각 조건에서의 상기 난연성 수지 조성물의 경화도와, 이에 따른 필-강도 측정치가 나타나 있다. 상기 경화도는 시차주사 열량계(DSC)의 측정에 따른 것이다. 시차주사 열량계(DSC)는 시료와 불활성 기준물질(inert reference)에 동일한 온도프로그램을 적용하여 시료로부터 발생되는 열유속 차이(difference in heat flow)를 측정하여 수지의 경화도를 측정할 수 있다.Table 1 below shows the degree of cure of the flame retardant resin composition under each condition, and thus the measured peel strength. The degree of cure is according to the measurement of differential scanning calorimeter (DSC). Differential scanning calorimeter (DSC) can measure the degree of curing of the resin by measuring the difference in heat flow generated from the sample by applying the same temperature program to the sample and the inert reference (inert reference).
표 1을 참조하면, 프리큐어 온도가 140℃ 보다 낮거나 160℃ 보다 높을 경우에는, 경화도가 상대적으로 낮으며, 필-강도 또한 매우 낮은 것을 알 수 있다.Referring to Table 1, it can be seen that when the precure temperature is lower than 140 ° C or higher than 160 ° C, the degree of curing is relatively low and the peel strength is also very low.
즉, 130℃에서 30분간 프리큐어한 경우, 필-강도는 0.1 kN/cm에 지나지 않는다.That is, when precure at 130 ° C. for 30 minutes, the peel strength is only 0.1 kN / cm.
디스미어 공정 중 표면에 있는 수지(resin)가 용출되지 않기 위해서는 충분한 경화가 필요하다. 상기와 같은 조건하에서는 경화가 충분히 이루어지지 않아 디스미어 공정 중 표면에 있는 수지가 다른 반응물로부터 불필요한 공격을 받아 용출되고, 그 결과, 절연층의 표면에 실리카 필러의 비율이 지나치게 높아지게 되어 필-강도가 낮아진다.Sufficient curing is required to prevent the resin on the surface from eluting during the desmear process. Under the above conditions, the curing is not sufficiently performed, and the resin on the surface is eluted by unnecessary attack from other reactants during the desmear process. As a result, the ratio of the silica filler on the surface of the insulating layer becomes excessively high, resulting in peel strength. Lowers.
반면 140℃ 또는 150℃에서 30분간 프리큐어하게 되면 0.6 kN/cm이상의 우수한 필-강도 값을 얻게 됨을 알 수 있다. 이는 상기 난연성 절연층을 형성하는 수지가 적정한 정도로 경화됨으로써, 조도가 효과적으로 형성되었음을 나타낸다. On the other hand, when precure at 140 ° C. or 150 ° C. for 30 minutes, it can be seen that an excellent peel strength value of 0.6 kN / cm or more is obtained. This indicates that the resin forming the flame retardant insulating layer was cured to an appropriate degree, whereby roughness was effectively formed.
160℃ 이상의 온도에서 프리큐어를 한 경우에는, 경화도가 지나치게 높아져 디스미어 공정 중 효과적인 에칭이 이루어질 수 없다. 이러한 경우에도 조도가 효과적으로 형성될 수 없으며, 이로 인해 필-강도 값이 떨어지게 된다.
In the case of precure at a temperature of 160 ° C. or higher, the degree of curing is too high, so that an effective etching cannot be achieved during the desmear process. Even in this case, roughness cannot be effectively formed, which results in a drop in the peel strength value.
도4는 각기 다른 조건으로 프리큐어된 후 디스미어 공정을 거친 난연성 절연층의 표면을 나타내는 전자현미경 사진이다. ((A)170℃/30분 (B) 160℃/30분 (C) 140℃~150℃/30 분)Figure 4 is an electron micrograph showing the surface of the flame-retardant insulating layer subjected to the desmear process after being pre-cured under different conditions. ((A) 170 degrees Celsius / 30 minutes (B) 160 degrees Celsius / 30 minutes (C) 140 degrees Celsius-150 degrees Celsius / 30 minutes)
도 4를 참조하면, (C) 140℃~150℃/30 분의 프리큐어 조건에서 효율적인 조도가 형성됨을 확인할 수 있다.
Referring to Figure 4, (C) it can be seen that an efficient roughness is formed under the precure conditions of 140 ℃ ~ 150 ℃ / 30 minutes.
앞서 언급한 바와 같이, 상기 프리큐어 다음에는, 디스미어 프로세스(화학적인 wet process)를 통하여 난연성 절연층 표면에 조도를 형성함으로써 상기 난연성 절연층의 밀착력을 높일 수 있다.
As mentioned above, after the precure, the adhesion of the flame retardant insulating layer may be increased by forming roughness on the surface of the flame retardant insulating layer through a chemical wet process.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 조도를 형성하는 디스미어 공정은, 상기 난연성 절연층이 코팅된 기판을 2-(2-butoxyethoxy) ethanol 및 ethane-1,2-diol로 처리하는 단계;According to one embodiment of the present invention, the desmear process of forming the roughness comprises the steps of: treating the substrate coated with the flame retardant insulating layer with 2- (2-butoxyethoxy) ethanol and ethane-1,2-diol;
55 g/L NaMnO4, 18 g/L Na2MnO4, 45 g/L NaOH 수용액으로 에칭하는 단계; 및Etching with 55 g / L NaMnO 4 , 18 g / L Na 2 MnO 4 , 45 g / L NaOH aqueous solution; And
60% H2SO4로 중화시키는 단계를 포함할 수 있다.
Neutralizing with 60% H 2 SO 4 .
상기 디스미어 조건은 크게 3단계로 나눌 수 있다. 즉, 스웰링(Swelling), 화학적 에칭(chemical etching), 환원(reduction)이 그것이다.The desmear condition can be largely divided into three stages. That is, swelling, chemical etching, and reduction.
상기 스웰링조건은 2-(2-butoxyethoxy)ethanol 및 ethane-1,2-diol 용액에 처리하는 단계를 포함한다. The swelling conditions include the step of treating with 2- (2-butoxyethoxy) ethanol and ethane-1,2-diol solution.
에칭단계에서 절연층의 표면은 에칭용액으로 에칭된다.In the etching step, the surface of the insulating layer is etched with the etching solution.
이때, 상기 에칭용액은 55 g/L NaMnO4, 18 g/L Na2MnO4, 45 g/L NaOH 수용액으로 구성된다.At this time, the etching solution is composed of 55 g / L NaMnO 4 , 18 g / L Na 2 MnO 4 , 45 g / L NaOH aqueous solution.
환원단계에서는 상기 에칭단계 후 잔류하는 에칭용액을 60% H2SO4의 환원용액으로 중화시킨다.
In the reducing step, the etching solution remaining after the etching step is neutralized with a 60% H 2 SO 4 reducing solution.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 디스미어공정에 애시드-딥(Acid-dip) 공정을 추가함으로써 필-강도값을 극대화할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the fill-strength value may be maximized by adding an acid-dip process to the desmear process.
상기 애시드-딥 공정은 5 wt%~10 wt% 황산 용액이 담겨 있는 욕조에 상기 디스미어 공정을 거친 절연층을 디핑(dipping)하는 단계를 포함한다.The acid-dip process includes dipping the insulating layer subjected to the desmear process into a bath containing 5 wt% to 10 wt% sulfuric acid solution.
도 5를 참조하면, (a)프리큐어후, (b) 스웰링후, (c) 마이크로 에칭후, (d) 환원 후, 및 (e) 애시드-딥 후의 난연성 절연층의 표면을 나타내며, (f)는 화학도금후의 표면상태를 나타낸다.5 shows the surface of the flame retardant insulating layer after (a) precure, (b) after swelling, (c) after micro etching, (d) after reduction, and (e) after acid-dip, (f) Indicates the surface state after chemical plating.
상기 애시드-딥 공정을 1 분~5 분 정도 거치게 되면 도 5의 (e)와 같이 완벽한 미세구조가 형성됨을 알 수 있다. 이를 통해 보다 우수한 필-강도 값을 얻을 수 있다.When the acid-dip process is performed for 1 to 5 minutes, it can be seen that a perfect microstructure is formed as shown in FIG. This gives a better peel-strength value.
하기 표 4를 참조하면, 애시드-딥 공정에 따른 접착력의 개선효과가 나타나 있다.Referring to Table 4 below, the effect of improving the adhesive strength according to the acid-dip process is shown.
즉, 동일한 난연성 수지조성물을 동일한 프리큐어조건 및 디스미어조건으로 처리하더라도, 애시드-딥공정을 거친 것과 거치지 않은 것에는 필-강도에서 현저한 차이가 나타남을 알 수 있다.
That is, even if the same flame retardant resin composition is treated with the same precure condition and desmear condition, it can be seen that there is a significant difference in peel-strength between the acid-dip process and the non-acid-dip process.
상기 조도를 형성하는 단계는 20~60%의 HF 또는 NH4HF2 용액에 침지시키는 단계를 더 포함할 수 있다. HF 또는 NH4HF2의 처리는 애시드-딥 처리를 거친 절연층을 환원시키는 단계와 동시에 수행될 수도 있고, 상기 환원단계 이후에 수행될 수도 있다.
Forming the roughness may further comprise immersing in 20 ~ 60% HF or NH 4 HF 2 solution. The treatment of HF or NH 4 HF 2 may be carried out simultaneously with the step of reducing the insulating layer subjected to the acid-dip treatment or after the reduction step.
HF 또는 NH4HF2 용액에 침지시키는 단계를 더 포함하는 경우에는 프리큐어를 170℃/30분~60분 동안 수행할 수 있다.
When further comprising the step of immersing in HF or NH 4 HF 2 solution, the precure may be performed for 170 ° C / 30 minutes to 60 minutes.
도 6에는 HF 처리를 거친 난연성 절연층의 표면과 그렇지 않은 것이 나타나 있다.6 shows the surface of the flame-retardant insulating layer subjected to HF treatment and not.
도 6을 참조하면, HF 처리를 거친 경우(좌측 사진)에는 보다 조밀한 표면조도가 형성되는 것을 알 수 있다. 이는 HF가 상기 난연성 수지조성물에 포함되어 있는 실리카 필러를 녹여냄으로써, 필러와 경화된 수지조성물 사이에 존재하는 공극을 보다 더 효과적으로 채워주는 역할을 하기 때문이다. 이를 통해 추후 화학도금과 전해도금과정을 통해 형성되는 도전층이 보다 더 강한 앵커링 효과에 의하여 결합할 수 있게 된다. Referring to FIG. 6, it can be seen that more dense surface roughness is formed when the HF treatment is performed (left photograph). This is because HF dissolves the silica filler included in the flame retardant resin composition, thereby more effectively filling voids existing between the filler and the cured resin composition. Through this, the conductive layer formed through the chemical plating and the electroplating process can be combined by a stronger anchoring effect.
HF를 사용하는 경우에는 에폭시수지가 디스미어 공정 중 다른 반응물질과 반응을 일으키지 않도록 경화를 최대한 많이 시켜주는 것이 바람직하다. 이를 위해 상기와 같이 보다 강한 조건으로 프리큐어를 수행하는 것이 바람직하다.In the case of using HF, it is desirable to allow the epoxy resin to cure as much as possible so as not to react with other reactants during the desmear process. For this purpose, it is preferable to perform the precure under the stronger conditions as described above.
도 6에서 HF를 처리하지 않은 경우(우측 사진)를 참조하면, 실리카 필러가 원래의 형태 그대로 난연성 절연층의 표면에 존재하는 것을 알 수 있으며, 이러한 경우는 앵커링 효과를 향상시키는데 도움이 되지 않는다.Referring to FIG. 6 without HF treatment (right picture), it can be seen that the silica filler is present on the surface of the flame retardant insulating layer in its original form, which does not help to improve the anchoring effect.
실리카 용해제로서 NH4HF2 용액의 경우에도 HF와 동일한 효과를 얻을 수 있음이 잘 알려져 있다.
It is well known that the same effects as HF can be obtained even in the case of a NH 4 HF 2 solution as a silica solubilizer.
본 발명의 다른 측면에서는, 상기 난연성 수지조성물을 이용하여 절연층을 형성한 인쇄회로기판을 제공한다. In another aspect of the present invention, a printed circuit board having an insulating layer formed using the flame retardant resin composition is provided.
이와 같은 본 발명에 따른 난연성 수지조성물을 이용하여 연성인쇄회로기판(FPCB), 경성 PCB, 경-연성 PCB, 빌트업기판, FCBGA(Flip chip ball grid array), PBGA(Plastic ball grid array) 등의 각종 BGA 등 다양한 기판의 절연층을 형성할 수 있다.
By using the flame-retardant resin composition according to the present invention, such as a flexible printed circuit board (FPCB), a rigid PCB, a hard-flex PCB, a built-up substrate, FCBGA (Flip chip ball grid array), PBGA (Plastic ball grid array) The insulating layer of various board | substrates, such as various BGA, can be formed.
이하, 본 발명을 하기 실시예를 들어 예시하기로 하되, 본 발명의 보호범위가 하기 실시예로만 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be illustrated by the following examples, but the protection scope of the present invention is not limited only to the following examples.
실시예Example
난연성 수지 조성물의 제조Preparation of Flame Retardant Resin Composition
85중량%(용매: 2-메톡시에탄올)의 비스페놀 A형 에폭시수지(국도화학, YD-011), 85중량%(용매: 2-메톡시에탄올) 크레졸노볼락 에폭시수지(국도화학, YDCN-500-01P), 고무변성형 에폭시수지(국도화학, Polydis 3615), 85중량%(용매: 2-메톡시에탄올)의 인계 난연성 에폭시수지(국도화학, KDP-550MC65), 및 66.7중량%(용매: 2-메톡시에탄올) 아미노 트리아진계 노볼락경화제(GUN EI Chemical Industry co., ltd, PS-6313)를 첨가한 후, 이 혼합물을 90℃에서 1시간 동안 300rpm에서 교반하였다. 85 wt% (solvent: 2-methoxyethanol) bisphenol A epoxy resin (Kukdo Chemical, YD-011), 85 wt% (solvent: 2-methoxyethanol) cresol novolac epoxy resin (Kukdo Chemical, YDCN- 500-01P), rubber modified epoxy resin (Kukdo Chemical, Polydis 3615), 85% by weight (solvent: 2-methoxyethanol) phosphorus flame-retardant epoxy resin (Kukdo Chemical, KDP-550MC65), and 66.7% by weight (solvent : 2-methoxyethanol) amino triazine novolac curing agent (GUN EI Chemical Industry Co., ltd, PS-6313) was added, and the mixture was stirred at 90 ° C. for 1 hour at 300 rpm.
첨가된 각 물질의 함량은 하기 표 2와 같다.The content of each substance added is shown in Table 2 below.
이어서, 0.6 내지 1.2㎛의 크기분포를 가지는 구형의 실리카를 첨가한 후 400rpm에서 3시간 동안 교반하였다. 온도를 상온으로 낮춘 다음 2-에틸-4-메틸이미다졸을 첨가하고 30분간 교반하여 난연성 수지조성물을 제조하였다.Subsequently, spherical silica having a size distribution of 0.6 to 1.2 μm was added thereto, followed by stirring at 400 rpm for 3 hours. After the temperature was lowered to room temperature, 2-ethyl-4-methylimidazole was added and stirred for 30 minutes to prepare a flame retardant resin composition.
Epoxy resin
Hardener
(단위: g)
(Unit: g)
실시예Example 1. 난연성, 1.flammability, TgTg 및 And CTECTE 의 측정Measurement of
상기 제조한 난연성 수지조성물을 각각 PET 필름에 필름캐스팅(film casting)하여 140℃에서 30분, 200℃에서 120분간 열처리하여 완전히 경화시키고, 난연성, Tg및 CTE를 측정하였다. 그 측정결과는 하기 표3에 나타내었다. 또한, 상기 실시예에 따른 조성물 C의 TMA 결과 그래프는 도 1에 나타나 있다.
The flame retardant resin composition thus prepared was film cast on a PET film and then completely cured by heat treatment at 140 ° C. for 30 minutes and at 120 ° C. for 120 minutes, and flame retardancy, Tg, and CTE were measured. The measurement results are shown in Table 3 below. In addition, the TMA result graph of the composition C according to the above embodiment is shown in FIG. 1.
*물성측정방법* Property measurement method
1) 난연성측정: UL 94V(Vertical Burning Test) 방법에 따라 시편을 수직으로 세워놓고 버너로 시편에 불을 붙여 불이 꺼지는 정도에 따라서 V-2, V-1, V-0, 5V로 평가하였다. 1) Flame retardancy measurement: According to UL 94V (Vertical Burning Test) method, the test piece was placed vertically, and it was evaluated as V-2, V-1, V-0, and 5V according to the degree of fire extinguishing with the burner.
2) Tg 및 CTE 측정: TA사의 TMA Q 400 열분석기를 이용하여 측정하였으며, Tg는 2번째 스캐닝(scanning)시의 값을 채택하였다. 승온온도는 10℃/분으로 하여 25~250℃까지의 온도에서 측정하였다. 2) Tg and CTE measurement: It was measured by TA TMA Q 400 thermal analyzer, Tg was adopted at the second scanning (scanning) value. The temperature rising temperature was measured at a temperature of 25 ° C to 250 ° C at 10 ° C / min.
상기 표3에서 보는 바와 같이, 본 발명에 따른 난연성 조성물의 경우 아미노 트리아진계 경화제를 사용하여 V-0의 난연성, 즉 시편이 타는 시간이 10초 이하를 나타내어 종래의 난연성 조성물에 비하여 난연성이 우수하였다.As shown in Table 3, in the case of the flame retardant composition according to the present invention, the flame retardancy of V-0, that is, the burning time of the specimen, was 10 seconds or less using an amino triazine-based curing agent, and thus, the flame retardancy was superior to the conventional flame retardant composition. .
또한, CTE값 역시 페놀노볼락 경화제를 사용한 경우보다 더 우수한 것으로 나타났다. 이는 에폭시기와 반응하는 OH기 이외에 경화제 내의 NH기가 추가적으로 반응함으로써, 보다 조밀한 구조의 경화물이 형성되었기 때문인 것으로 보인다.
In addition, the CTE value was also found to be superior to that of the phenol novolac curing agent. This seems to be because the NH group in the curing agent is further reacted in addition to the OH group reacting with the epoxy group, whereby a cured product having a denser structure is formed.
실시예Example 2. 2. 애시드Acid -- 딥(Acid-dip)공정에In dip-dip process 따른 접착력 측정 Adhesion measurements
상기 제조된 난연성 수지 조성물 C를 필름 형태로 캐스팅한 후, 도 2에 나타난 단계에 따라 절연층 및 배선패턴을 형성하였다. 단, 디스미어 과정에서 애시드-딥 단계를 거친 것과 거치지 않은 경우의 접착력의 차이를 하기 표 4에 나타내었다. 실험 결과는, 애시드-딥처리를 거친 경우에 보다 강한 접착력을 나타냄을 알 수 있다.After casting the prepared flame retardant resin composition C in the form of a film, an insulating layer and a wiring pattern were formed according to the steps shown in FIG. However, the difference in adhesion between the acid-dipped step and the non-acid-dipped step in the desmear process is shown in Table 4 below. Experimental results, it can be seen that the stronger adhesion when subjected to acid-dip treatment.
조성물Flame Retardant Resin
Composition
(precure)Precure
(precure)
(swelling)Swelling
(swelling)
(microetching)Micro Etching
(microetching)
(reduction)restoration
(reduction)
(acid-dip)Acid Dip
(acid-dip)
(peel-strength)Peel-strength
(peel-strength)
Composition C
실시예Example 3. 3. HFHF 처리에 따른 접착력측정 Adhesion measurement by treatment
상기 제조된 난연성 수지 조성물 C 를 필름형태로 캐스팅(casting)한 후, 도 2에 나타난 단계에 따라 절연층 및 배선패턴을 형성하였다. 단, 디스미어 과정에서 HF를 처리하는 단계를 거친 것과 거치지 않은 경우의 접착력의 차이를 하기 표 5에 나타내었다. 실험 결과는, HF 처리를 거친 경우에 보다 강한 접착력을 나타냄을 알 수 있다.
After casting the prepared flame retardant resin composition C in the form of a film, an insulating layer and a wiring pattern were formed according to the steps shown in FIG. 2. However, the difference in the adhesive strength when not subjected to the HF treatment step in the desmear process is shown in Table 5 below. The experimental results show that stronger adhesive force is obtained when the HF is treated.
(precure)Precure
(precure)
(swelling)Swelling
(swelling)
(micro-
etching)Micro Etching
(micro-
etching)
(reduction)restoration
(reduction)
평균조도 (arithmetical average roughness (Ra))center line
Average roughness (Ra)
Composition C
실시예Example 4. 경화촉진제 함량에 따른 에폭시 수지의 경화시간 4. Curing Time of Epoxy Resin According to Curing Accelerator Content
경화촉진제 함량에 따른 에폭시 수지의 경화시간을 레올로지 분석(Rheological Analysis)을 통해 측정하였다.The curing time of the epoxy resin according to the curing accelerator content was measured through rheological analysis.
표 6은 2-ethyl-4-methyl imidazol 첨가량에 따른 경화시간에 관한 것이다. Table 6 relates to the curing time according to the amount of 2-ethyl-4-methyl imidazol added.
레올로지 분석은 다음과 같은 방법으로 수행되었다. Rheological analysis was performed in the following manner.
응력과 변형의 비를 나타내는 탄성계수를 모듈러스라 한다. 겔화점(Gel point)은 저장 탄성율(G`)과 손실 탄성율(G")의 교차점(G`/G"=1)으로 정의된다.The modulus of elasticity, which represents the ratio of stress and strain, is called modulus. The gel point is defined as the intersection point of the storage modulus (G ′) and the loss modulus (G ″) (G ′ / G ″ = 1).
점도계(ARES, TA Instrument)를 이용하여 경화과정 중에 저장탄성율(dynamic storage modulus (G'),), 손실탄성율(loss modulus (G''),), 및 점도를 110°C에서 측정하였다.. 측정은 25 mm 일회용 플레이트에서 다이나믹 타임-스윕 테스트 모드(dynamic time-sweep test mode)로 내부 진동수 10 Hz로 수행되었다. 이 때, 상기 다이나믹 타임-스윕 테스트 모드는 조성에 따른 경화속도를 확인하기에 가장 적합한 방법으로 선택된 것이다.The elastic storage modulus (G '), loss modulus (G' '), and viscosity were measured at 110 ° C during the curing process using a viscometer (ARES, TA Instrument). Measurements were performed at an internal frequency of 10 Hz in a dynamic time-sweep test mode on a 25 mm disposable plate. At this time, the dynamic time-sweep test mode is selected as the most suitable method for checking the curing rate according to the composition.
상기 분석을 통해 저장탄성율 G' 및 손실탄성율 G''의 값과 이들의 교차점이 도출되었다. 상기 두 값의 교차점이 경화시간으로 정의된다. 그 결과는 표 6에 나타나 있다.The analysis yielded values of storage modulus G 'and loss modulus G' 'and their intersections. The intersection of the two values is defined as the curing time. The results are shown in Table 6.
조성물Flame Retardant Resin
Composition
(에폭시수지 100g당 투입량)Curing Accelerator (2E4MZ)
(Input amount per 100g of epoxy resin)
(sec at 110℃)Curing time
(sec at 110 ℃)
(필-강도의 상대적 비교)Adhesion
(Relative comparison of peel strength)
표 6은 상기 제조된 조성물 A, B, C 및 D에 대하여 경화촉진제의 함량에 변화를 주었을 경우의 경화시간과 접착력을 나타낸다. 경화촉진제의 함량이 커질수록 경화시간이 짧아지고, 절연층의 점도가 증가하는 것으로 나타났다(데이터미도시).
Table 6 shows the curing time and adhesion when the content of the curing accelerator is changed for the prepared compositions A, B, C and D. As the content of the curing accelerator increased, the curing time was shortened and the viscosity of the insulating layer was increased (data not shown).
회로패턴과 절연층 간의 접착력을 극대화시키기 위해서는, 절연층을 구성하는 조성물에 최적화된 공정조건의 확립이 필요하다.In order to maximize the adhesion between the circuit pattern and the insulating layer, it is necessary to establish the process conditions optimized for the composition constituting the insulating layer.
상기, 표 6의 조성물 A 및 B의 결과에서 알 수 있듯이, 경화도가 지나치게 높은 경우에는 디스미어 공정에서 효과적인 조도를 얻어낼 수 없어 접착력이 감소한다. 측정결과, 필-강도도 A의 경우 0.3 Kn/cm, B의 경우 0.48 Kn/cm에 그치는 것으로 나타났다.As can be seen from the results of the compositions A and B shown in Table 6 above, when the degree of curing is too high, effective roughness cannot be obtained in the desmear process and the adhesive force decreases. As a result, the peel strength was 0.3 Kn / cm for A and 0.48 Kn / cm for B.
조성물 D와 같이 경화촉진제가 첨가되지 않은 경우의 경화도는 매우 낮았으며, PCB에 적용하기에는 적합하지 않은 것으로 나타났다.
The hardening degree when no curing accelerator was added as in composition D was very low and appeared to be not suitable for application to the PCB.
실시예Example 5. 용융점도( 5. Melt viscosity ( MeltingMelting viscosityviscosity )의 측정)
본 발명의 일 측면에 따르면, 본 발명의 난연성 수지조성물은 레오미터(rheometer)에서 25mm 직경의 파라렐 플레이트를 플레이트 간격 1.0mm으로 사용하고, temperature sweep mode로 초기온도 60℃, 최종온도 180℃, 및 승온속도 5℃/분의 조건으로, 스트레인(strain) 1% 및 1Hz의 주파수에서 120 측정포인트와 24분간의 런타임으로 측정한 때에 얻어진 복소점도(complex viscosity (|η*|: 단위 Pa*sec)의 최저점도(min. viscosity)가 1.0~250.0 Pa*sec 일 수 있으며, 최저점도(min. viscosity)가 1.0~100.0 Pa*sec, 또는 1.0~50.0 Pa*sec, 1.0~40.0 Pa*sec 일 수 있음을 기술한 바 있다.According to an aspect of the present invention, the flame retardant resin composition of the present invention uses a 25 mm diameter pararell plate in a rheometer (rheometer) at a plate spacing of 1.0 mm, the initial temperature 60 ℃, final temperature 180 ℃, temperature sweep mode, And complex viscosity (| η * |: unit Pa * sec obtained when measured at 120 measurement points and 24 minutes of run time at a frequency of 1% strain and 1 Hz at a heating rate of 5 ° C / min. ) May have a minimum viscosity of 1.0 to 250.0 Pa * sec, and a minimum viscosity of 1.0 to 100.0 Pa * sec, or 1.0 to 50.0 Pa * sec, 1.0 to 40.0 Pa * sec It has been described.
이에 대해, 도 7에는 본 발명의 상기 제조된 조성물C에 대하여 용융점도를 측정한 결과가 나타나 있다. 측정설비로는 TA社의 ARES Rheometer를 이용하였다. On the other hand, Figure 7 shows the results of measuring the melt viscosity for the prepared composition C of the present invention. ARES Rheometer from TA was used as a measuring equipment.
샘플의 준비 및 측정조건은 다음과 같다.
Sample preparation and measurement conditions are as follows.
a. 25mm 직경의 파라렐 플레이트(parallel plate type zig)를 이용하여 시편을 로딩한 후 갭(gap)을 1.0 mm로 조절하였다.a. The gap was adjusted to 1.0 mm after loading the specimen using a 25 mm diameter parael plate (parallel plate type zig).
b. 측정조건b. Measuring conditions
- 스트레인(Strain): 1%Strain: 1%
- 주파수(Frequency): 1 HzFrequency: 1 Hz
- 초기 온도(Initial Temp.): 60 ℃Initial Temp .: 60 ° C
- 최종 온도(Final Temp).: 180 ℃Final Temp .: 180 ° C
- 승온속도: 5 ℃/분-Temperature increase rate: 5 ℃ / min
- 측정 포인트(Point): 120 pointPoint of measurement: 120 points
- 런 타임(Run time): 24 분
Run time: 24 minutes
c. 측정값: 상기 조건으로 측정한 데이터에서 복소점도(complex viscosity(|η*|))의 최소값을 최저점도(min. viscosity)로 기록하고, 그 결과를 도 7에 나타내었다.
c. Measured value: The minimum value of complex viscosity (|? * |) Was recorded as the minimum viscosity (min. Viscosity) in the data measured under the above conditions, and the results are shown in FIG. 7.
도 7의 결과를 참고하면, 본 발명에 따른 난연성 조성물은 최저점도가 5.6이며, 78~100℃ 구간에서도 100 Pa*sec 미만의 낮은 흐름성을 나타냄을 알 수 있다. Referring to the results of Figure 7, the flame retardant composition according to the present invention can be seen that the lowest viscosity is 5.6, low flowability of less than 100 Pa * sec even in the 78 ~ 100 ℃ section.
상기와 같은 물성으로 인해, 본 발명의 수지조성물은 유사한 조성비를 갖는 기타의 에폭시 수지에 비해 보다 낮은 온도와 짧은 시간으로도 진공 라미네이션 공정이 가능한 특성을 나타낸다.Due to the physical properties as described above, the resin composition of the present invention exhibits a property capable of vacuum lamination even at a lower temperature and a shorter time than other epoxy resins having a similar composition ratio.
상기 진공 라미네이션 공정은 PET 상에 도포된 에폭시 수지 조성물을 특정 온도와 압력 및 시간으로 열압착하여 전사해주는 공정이다. The vacuum lamination process is a process of thermally compressing and transferring the epoxy resin composition applied on PET at a specific temperature, pressure, and time.
즉, 본 발명의 프리큐어 단계 이전에 절연필름을 특정 온도와 압력에서 내층회로 기판에 전사하는 공정이다. 이 공정을 통하여 PET위에 코팅되어 있던 절연필름 코팅층이 내층회로로 전사되고 PET는 제거된다. 절연필름 코팅층이 내층회로상에 전사된 기판의 단면가 도 2의 최상단에 나타나 있다.That is, before the precure step of the present invention, the insulating film is transferred to the inner circuit board at a specific temperature and pressure. Through this process, the insulating film coating layer coated on the PET is transferred to the inner circuit and the PET is removed. A cross section of the substrate on which the insulating film coating layer is transferred onto the inner layer circuit is shown at the top of FIG. 2.
하기 표 7은 본 발명에 따른 난연성 수지조성물이 진공 라미네이션 공정에서 나타낼 수 있는 장점을 나타내기 위한 실험결과이다. 진공 라미네이션 공정은 라미네이션 공정과 가압공정으로 나뉘어질 수 있으며, 각 단계별로 요구되는 조건은 다음과 같다. Table 7 below is an experimental result for showing the advantages that the flame-retardant resin composition according to the present invention can be exhibited in the vacuum lamination process. Vacuum lamination process can be divided into lamination process and pressurization process, the conditions required for each step is as follows.
하기 공정 조건은 동일한 품질의 라미네이션 공정에 필요한 최저 조건을 비교한 것이다.The following process conditions compare the lowest conditions needed for lamination processes of the same quality.
(Laminate process)
Lamination process
(Laminate process)
(Vacuum time, sec)Vacuum holding time
(Vacuum time, sec)
(Press process)
Pressurization Process
(Press process)
상기 비교예에 사용된 난연성 수지조성물은 미국특허 US7179552에 기술되어 있는 것을 이용하였다. 상기 표 7의 실험 결과를 참조하면, 본 발명에 따른 조성물은 각 공정에서 보다 낮은 온도와 낮은 압력, 그리고 월등히 짧은 시간으로도 진공 라미네이션이 가능함을 알 수 있다.
The flame retardant resin composition used in the comparative example was used as described in US Patent US7179552. Referring to the experimental results of Table 7, it can be seen that the composition according to the present invention can be vacuum lamination at lower temperatures, lower pressures, and significantly shorter time in each process.
또한, 본 발명에 따른 난연성 수지조성물은 낮은 최저점도로 인해 상온 보관 안정성이 뛰어나다.In addition, the flame-retardant resin composition according to the present invention is excellent in room temperature storage stability due to the low minimum viscosity.
즉, 일반적인 에폭시 절연조성물들은 상온에서 경화반응이 진행되며, 이로 인해 상온 보관에 제약이 따른다. 따라서, 상온에 오랜 시간 유지될 경우, 경화반응이 일어나 최저점도가 증가하고, 흐름성이 떨어진다. 이를 통해 절연조성물이 배선패턴 사이의 공극을 충분히 채우지 못해 가압공정시 미세한 패턴이 형성되기 어렵고, 불량품이 형성되기 쉽다.That is, the general epoxy insulation composition proceeds the curing reaction at room temperature, which is constrained by storage at room temperature. Therefore, when it is maintained at room temperature for a long time, the curing reaction occurs, the minimum viscosity increases, and the flowability is poor. As a result, the insulation composition does not sufficiently fill the gaps between the wiring patterns, so that a minute pattern is difficult to be formed during the pressing process, and defective products are easily formed.
그러나, 본 발명에 따른 난연성 조성물은 상온 (25 ℃)에서 5일 동안 보관하더라도, 최저점도의 증가가 초기에 비하여 10% 이하인 것으로 나타났으며, 그 절대값 또한 100 Pa*sec 미만으로 나타나, 라미네이션 공정에서 패턴 사이를 채우지 못하거나 흐름성이 저하되는 문제점이 없다.
However, even if the flame-retardant composition according to the present invention is stored for 5 days at room temperature (25 ℃), the increase in the minimum viscosity was found to be less than 10% compared to the initial, the absolute value also appeared to be less than 100 Pa * sec, lamination In the process, there is no problem of not filling between patterns or deteriorating flowability.
이상과 같은 실시예를 통해 알 수 있듯이, (a) 평균 에폭시수지당량이 100 내지 700인 비스페놀 A형에폭시수지 5 내지 20중량부, 평균 에폭시수지 당량이 100 내지 600인 크레졸노볼락 에폭시수지 30 내지 60중량부, 평균 에폭시수지 당량이 100 내지 500인 고무변성형 에폭시수지 5 내지 15중량부 및 평균 에폭시수지 당량이 400 내지 800인 인계 에폭시수지 15 내지 30중량부를 포함하여 이루어지는 복합 에폭시수지; (b) 아미노 트리아진계 경화제; (c) 경화촉진제; 및 (d) 무기충전제를 포함하는, 레오미터(rheometer)에서 25mm 직경의 파라렐 플레이트를 플레이트 간격 1.0mm으로 사용하고, temperature sweep mode로 초기온도 60℃, 최종온도 180℃, 및 승온속도 5℃/분의 조건으로, 스트레인(strain) 1% 및 1Hz의 주파수에서 120 측정포인트와 24분간의 런타임으로 측정한 때에 얻어진 복소점도(complex viscosity (|η*|: 단위 Pa*sec)의 최저점도(min. viscosity)가 1.0~250.0 Pa*sec 인 난연성 수지조성물을 상기와 같은 조건으로 기판표면에 코팅하여 난연성 절연층을 형성하고; 상기 난연성 절연층이 형성된 기판을 소정의 온도에서 프리큐어한 다음, 상기 난연성 절연층에 조도를 형성시킨 후, 상기 조도가 형성된 난연성 절연층 상에 인쇄회로패턴을 형성시키면, 회로패턴과 절연층간의 접착력이 매우 우수한 인쇄회로기판을 제조할 수 있다.As can be seen through the above examples, (a) 5 to 20 parts by weight of bisphenol A epoxy resin having an average epoxy resin equivalent of 100 to 700, and 30 to cresol novolac epoxy resin having an average epoxy resin equivalent of 100 to 600. A composite epoxy resin comprising 60 parts by weight, 5 to 15 parts by weight of a rubber-modified epoxy resin having an average epoxy resin equivalent of 100 to 500, and 15 to 30 parts by weight of a phosphorous epoxy resin having an average epoxy resin equivalent of 400 to 800; (b) amino triazine based curing agents; (c) curing accelerators; And (d) using a 25 mm diameter pararell plate at a rheometer, including an inorganic filler, at a plate spacing of 1.0 mm, using an initial temperature of 60 ° C., a final temperature of 180 ° C., and a temperature increase rate of 5 ° C. in a temperature sweep mode. The minimum viscosity (complex viscosity (| η * |: unit Pa * sec) obtained when measured at 120 measurement points and 24 minutes of run time at a frequency of 1% strain and 1 Hz under conditions of / min. a flame retardant insulating layer is formed by coating a flame-retardant resin composition having a min. viscosity of 1.0 to 250.0 Pa * sec on the surface of the substrate under the same conditions as described above; After the roughness is formed on the flame retardant insulating layer and the printed circuit pattern is formed on the flame retardant insulating layer having the roughness, the printed circuit board having excellent adhesion between the circuit pattern and the insulating layer can be manufactured.
본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 많은 변형이 본 발명의 사상 내에서 당분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 가능함은 물론이다.The present invention is not limited to the above embodiments, and many variations are possible by those skilled in the art within the spirit of the present invention.
Claims (16)
(b) 아미노 트리아진계 경화제;
(c) 경화촉진제; 및
(d) 무기충전제;
를 포함하는, 레오미터(rheometer)에서 25mm 직경의 파라렐 플레이트를 플레이트 간격 1.0mm으로 사용하고, 온도 스윕 모드(temperature sweep mode)로 초기온도 60℃, 최종온도 180℃, 및 승온속도 5℃/분의 조건으로, 스트레인(strain) 1% 및 1Hz의 주파수에서 120 측정포인트와 24분간의 런타임으로 측정한 때에 얻어진 복소점도(complex viscosity (|η*|: 단위 Pa*sec)의 최저점도(min. viscosity)가 1.0~250.0 Pa*sec 인 난연성 수지조성물을 기판표면에 코팅하여 난연성 절연층을 형성하는 단계;
상기 난연성 절연층이 형성된 기판을 프리큐어하는 단계;
상기 난연성 절연층에 조도를 형성시키는 단계; 및
상기 조도가 형성된 난연성 절연층상에 인쇄회로패턴을 형성하는 단계
를 포함하는 인쇄회로기판의 제조방법.
(a) 5 to 20 parts by weight of bisphenol A epoxy resin having an average epoxy resin equivalent of 100 to 700, and 30 to 60 parts by weight of cresol novolac epoxy resin having an average epoxy resin equivalent of 100 to 600, and an average epoxy resin equivalent of 100 to 700 A composite epoxy resin comprising 5 to 15 parts by weight of a rubber modified epoxy resin of 500 and 15 to 30 parts by weight of an epoxy resin having an average epoxy resin equivalent of 400 to 800;
(b) amino triazine based curing agents;
(c) curing accelerators; And
(d) inorganic fillers;
In the rheometer (Rheometer), using a 25mm diameter pararell plate with a plate spacing 1.0mm, in the temperature sweep mode (temperature sweep mode) initial temperature 60 ℃, final temperature 180 ℃, and the temperature increase rate 5 ℃ / In terms of minutes, the minimum viscosity (min complex viscosity (| η * |: unit Pa * sec) obtained when measured at 120 measurement points and 24 minutes of run time at a frequency of 1% strain and 1 Hz) coating a surface of the substrate with a flame retardant resin composition having a viscosity of 1.0 to 250.0 Pa * sec to form a flame retardant insulating layer;
Precure a substrate on which the flame retardant insulating layer is formed;
Forming roughness on the flame retardant insulating layer; And
Forming a printed circuit pattern on the flame-retardant insulating layer having the roughness
And a step of forming the printed circuit board.
상기 아미노 트리아진계 경화제는 상기 복합 에폭시수지의 에폭시기의 혼합당량에 대하여 0.3 내지 1.5당량비로 혼합되는 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
The amino triazine-based curing agent is a manufacturing method of a printed circuit board is mixed in a ratio of 0.3 to 1.5 equivalents relative to the mixed equivalent of the epoxy groups of the composite epoxy resin.
상기 경화촉진제는 상기 복합 에폭시수지 100중량부에 대하여 0.1 내지 1중량부로 포함되는 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
The curing accelerator is 0.1 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the composite epoxy resin manufacturing method of a printed circuit board.
상기 경화촉진제는 상기 복합 에폭시수지 100중량부에 대하여 0.2 내지 0.3중량부로 포함되는 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
The curing accelerator is 0.2 to 0.3 parts by weight based on 100 parts by weight of the composite epoxy resin manufacturing method of a printed circuit board.
상기 무기충전제는 상기 복합 에폭시수지 100중량부에 대하여 20 내지 50중량부로 포함되는 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
The inorganic filler is a manufacturing method of a printed circuit board containing 20 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the composite epoxy resin.
상기 경화촉진제는 이미다졸계 화합물인 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
The hardening accelerator is an imidazole compound is a manufacturing method of a printed circuit board.
상기 경화촉진제는 2-에틸-4메틸이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-알킬이미다졸, 2-페닐이미다졸 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나인 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
The curing accelerator is at least one selected from the group consisting of 2-ethyl-4methylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-alkylimidazole, 2-phenylimidazole and mixtures thereof. Method of manufacturing a printed circuit board.
상기 무기충전제는 바륨 티타늄 옥사이드(barium titanum oxide), 바륨 스트론튬 티타네이트(barium strontium titanate), 티타늄 옥사이드(titanium oxide), 리드 지르코늄 티타네이트(lead zirconium titanate), 리드 란타늄 지르코네이트 티타네이트(lead lanthaniumzirconatetitanate), 림 마그네슘 니오베이트-리드 티아타네이트(leam magnesium niobate-lead tiatanate), 은, 니켈, 니켈-코팅 폴리머 스페어(nickel-coated polymer sphere), 금-코팅 폴리머 스페어(gold-coated polymer sphere), 틴솔더(tin solder), 그라파이트(graphite), 탄탈륨 니티드(tantalum nitides), 메탈 실리콘니트라이드(metal silicon nitride), 카본블랙, 실리카, 그레이(clay) 및 알루미늄 보레이트(aluminum borate)로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 무기물인 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
The inorganic filler is barium titanum oxide, barium strontium titanate, titanium oxide, lead zirconium titanate, lead lanthanium zirconate titanate ), Magnesium magnesium niobate-lead tiatanate, silver, nickel, nickel-coated polymer spheres, gold-coated polymer spheres, From the group consisting of tin solder, graphite, tantalum nitides, metal silicon nitride, carbon black, silica, gray and aluminum borate Method of manufacturing a printed circuit board is at least one inorganic material selected.
상기 무기충전제는 실란 커플링제로 표면처리되는 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
The inorganic filler is a method of manufacturing a printed circuit board surface-treated with a silane coupling agent.
상기 무기충전제는 서로 다른 크기의 구형충전제를 포함하는 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
The inorganic filler is a manufacturing method of a printed circuit board comprising a spherical filler of different sizes.
상기 난연성 수지조성물의 최저점도(min. viscosity)가 1.0~100.0 Pa*sec 인 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
Method for producing a printed circuit board, characterized in that the minimum viscosity (min. Viscosity) of the flame-retardant resin composition is 1.0 ~ 100.0 Pa * sec.
상기 난연성 수지조성물의 최저점도(min. viscosity)가 1.0~50.0 Pa*sec 인 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
Method for producing a printed circuit board, characterized in that the minimum viscosity (min. Viscosity) of the flame-retardant resin composition is 1.0 ~ 50.0 Pa * sec.
상기 프리큐어하는 단계는 140 내지 160 ℃로 20 내지 40분간 유지하는 것인 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
The precure step is to maintain a 20 to 40 minutes at 140 to 160 ℃ manufacturing method of a printed circuit board.
상기 조도를 형성하는 단계는 상기 난연성 절연층이 코팅된 기판을 2-(2-부톡시에톡시)에탄올 및 에탄-1,2-디올로 처리하는 단계;
55 g/L NaMnO4, 18 g/L Na2MnO4 및 45 g/L NaOH 수용액으로 에칭하는 단계;
60% H2SO4로 중화시키는 단계를 포함하는 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
Forming the roughness may include treating the substrate coated with the flame retardant insulating layer with 2- (2-butoxyethoxy) ethanol and ethane-1,2-diol;
Etching with 55 g / L NaMnO 4 , 18 g / L Na 2 MnO 4 and 45 g / L NaOH aqueous solution;
A method of manufacturing a printed circuit board comprising the step of neutralizing with 60% H 2 SO 4 .
상기 HF 또는 NH4HF2용액에 침지시키는 단계를 더 포함하는 경우에는 프리큐어를 170℃/30분~60분 동안 수행하는 인쇄회로기판의 제조방법.16. The method of claim 15,
If the method further comprises the step of immersing in HF or NH 4 HF 2 solution, the method of manufacturing a printed circuit board to perform a precure for 170 ℃ / 30 minutes to 60 minutes.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120012369A KR101316105B1 (en) | 2012-02-07 | 2012-02-07 | Manufacturing method for printed circuit board containing flame retardant insulating layer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120012369A KR101316105B1 (en) | 2012-02-07 | 2012-02-07 | Manufacturing method for printed circuit board containing flame retardant insulating layer |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20130091099A KR20130091099A (en) | 2013-08-16 |
KR101316105B1 true KR101316105B1 (en) | 2013-10-11 |
Family
ID=49216426
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020120012369A KR101316105B1 (en) | 2012-02-07 | 2012-02-07 | Manufacturing method for printed circuit board containing flame retardant insulating layer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101316105B1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109943302A (en) * | 2019-03-28 | 2019-06-28 | 长江大学 | A kind of chemical plugging rubber plug and its preparation method and application |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102148845B1 (en) * | 2013-12-12 | 2020-08-27 | 엘지이노텍 주식회사 | Printed circuit board |
KR102163039B1 (en) * | 2015-04-07 | 2020-10-08 | 삼성전기주식회사 | Printed circuit board and method of manufacturing the same, and electronic component module |
KR102149392B1 (en) * | 2015-04-10 | 2020-08-28 | 삼성전기주식회사 | Printed circuit board and manufacturing method of the same |
KR102150555B1 (en) * | 2015-08-12 | 2020-09-01 | 삼성전기주식회사 | Heat radiation member and printed circuit board having the same |
KR102150553B1 (en) * | 2015-10-06 | 2020-09-01 | 삼성전기주식회사 | Circuit board and conductive pattern structure |
KR102196881B1 (en) * | 2017-12-11 | 2020-12-30 | 주식회사 엘지화학 | Thermosetting composition for coating metal thin film and metal film using the same |
WO2019117574A1 (en) * | 2017-12-11 | 2019-06-20 | 주식회사 엘지화학 | Thermosetting resin composition for metal thin film coating and metal laminate using same |
KR102210027B1 (en) * | 2018-11-30 | 2021-02-01 | 에코캡 주식회사 | LED board having fixed socket |
KR102151193B1 (en) * | 2018-12-04 | 2020-09-02 | 주식회사 유라코퍼레이션 | Printed circuit board and method of producing the same |
KR102387562B1 (en) * | 2020-06-01 | 2022-04-15 | 동의대학교 산학협력단 | Combination structure of multiple wafers equipped with digital capacitors and manufacturing method thereof |
KR102187081B1 (en) * | 2020-06-26 | 2020-12-04 | 주식회사 유라코퍼레이션 | Printed circuit board |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100651475B1 (en) | 2005-11-15 | 2006-11-29 | 삼성전기주식회사 | Resin for substrate used in imprinting lithography process |
KR100726247B1 (en) | 2005-10-17 | 2007-06-08 | 삼성전기주식회사 | Method for forming board |
KR20100084091A (en) * | 2009-01-15 | 2010-07-23 | 풍림유화공업(주) | Flame-retardant semiconductor encapsulating epoxy resin composition |
KR20100116786A (en) * | 2009-04-23 | 2010-11-02 | (주)켐텍 | Insulation composition for substrate and insulation film produced thereby |
-
2012
- 2012-02-07 KR KR1020120012369A patent/KR101316105B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100726247B1 (en) | 2005-10-17 | 2007-06-08 | 삼성전기주식회사 | Method for forming board |
KR100651475B1 (en) | 2005-11-15 | 2006-11-29 | 삼성전기주식회사 | Resin for substrate used in imprinting lithography process |
KR20100084091A (en) * | 2009-01-15 | 2010-07-23 | 풍림유화공업(주) | Flame-retardant semiconductor encapsulating epoxy resin composition |
KR20100116786A (en) * | 2009-04-23 | 2010-11-02 | (주)켐텍 | Insulation composition for substrate and insulation film produced thereby |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109943302A (en) * | 2019-03-28 | 2019-06-28 | 长江大学 | A kind of chemical plugging rubber plug and its preparation method and application |
CN109943302B (en) * | 2019-03-28 | 2021-01-26 | 长江大学 | Chemical plugging rubber plug and preparation method and application thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20130091099A (en) | 2013-08-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101316105B1 (en) | Manufacturing method for printed circuit board containing flame retardant insulating layer | |
KR100781582B1 (en) | Flame retardant resin composition for printed circuit board and printed circuit board using the same | |
WO2001042360A1 (en) | Flame-retardant epoxy resin composition and laminate made with the same | |
KR20090092786A (en) | Semiconductor package, core layer material, buildup layer material, and encapsulation resin composition | |
JP5758463B2 (en) | Epoxy resin composition, hole filling composition, and printed wiring board using the same | |
JP2013001807A (en) | Resin composition for electronic circuit board material, prepreg and laminated plate | |
JP2010251700A (en) | Flame retardant resin composition for printed circuit board reinforced in peeling strength, printed circuit board using the same, and manufacturing method thereof | |
TWI698484B (en) | Solvent-free resin composition and uses of the same | |
TWI679219B (en) | Epoxy composition for electronic materials, hardened product thereof, and electronic component | |
KR20150006713A (en) | Insulating film for printed circuit board and products having the same | |
KR102235446B1 (en) | Thermosetting resin composition, cured product thereof, and printed wiring board | |
JP2015021086A (en) | Resin composition, resin sheet, prepreg, laminate, printed wiring board, and semiconductor device | |
JP4132703B2 (en) | Prepreg for copper-clad laminate and copper-clad laminate using the same | |
JP2003253018A (en) | Prepreg and printed wiring board using the same | |
JP3721950B2 (en) | Epoxy resin composition, prepreg, multilayer printed wiring board | |
JP2001288244A (en) | Thermosetting resin composition, production method thereof, and product produced by using the same | |
JP2003268136A (en) | Prepreg and laminate | |
JP2019196476A (en) | Printed circuit board and resin composition for ic package, and product using the same | |
JP5412550B2 (en) | Method for manufacturing printed circuit board | |
JP2016065250A (en) | Prepreg, laminate sheet and metal laminate sheet | |
US8840967B2 (en) | Method for manufacturing printed circuit board including flame retardant insulation layer | |
JP2005209489A (en) | Insulation sheet | |
TWI688603B (en) | Resin composition and insulation film and product using the same | |
JP2008143971A (en) | Insulation resin composition, insulation resin sheet with substrate, multi-layer printed wiring board and semiconductor device | |
JP2004202895A (en) | Insulation sheet, insulation sheet having metal foil, and multi-layer printed wiring board |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20161004 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171011 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20181001 Year of fee payment: 6 |