JP2002359277A - Notch-adjusting device for wafer - Google Patents

Notch-adjusting device for wafer

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JP2002359277A
JP2002359277A JP2001163947A JP2001163947A JP2002359277A JP 2002359277 A JP2002359277 A JP 2002359277A JP 2001163947 A JP2001163947 A JP 2001163947A JP 2001163947 A JP2001163947 A JP 2001163947A JP 2002359277 A JP2002359277 A JP 2002359277A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a notch-adjusting device of a wafer, which can clamp the water with simple structure, without having to use vacuum suction force. SOLUTION: A wafer holding tool 5 having wafer support parts 7A, 7A, and so on is fitted at the upper end of a main shaft 14. The main shaft is rotated and driven, and the wafer holding tool 5 holding the wafer 2 is rotated. A notch formed at the outer periphery of the wafer 2 is detected by a notch sensor, in a process with the wafer 2 being rotated, and the detected position of the notch is adjusted to a reference position; a clamping tool 703 is arranged in one wafer support part 7A disposed in the wafer-holding tool 5; the change of the output shaft 70a of an electromagnetic solenoid 70 is transmitted to the clamping tool 703 through a clamp drive shaft 52, through which the main shaft 14 passes, a link mechanism 61 and a sliding board 50; and the clamping tool 703 is changed to a clamping position and an unclamping position.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェハ等の
ウェハの外周に形成されているノッチの位置を基準位置
に合せるために用いるノッチ合せ装置に関するものであ
る。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a notch aligning apparatus used to adjust the position of a notch formed on the outer periphery of a wafer such as a semiconductor wafer to a reference position.

【0002】[0002]

【従来の技術】IC等の半導体素子の製造過程において
は、多数の半導体ウェハをカセット内に積み重ねて収納
して、該カセットをプロセス装置等に搬入し、プロセス
装置等の内部でカセットからウェハを一枚ずつ取り出し
て所定の保持手段の上に移送する。またプロセス装置等
で処理が終了したウェハは、元のカセットに戻すか、ま
たは他のカセットに収納して装置から搬出する。
2. Description of the Related Art In the process of manufacturing semiconductor devices such as ICs, a large number of semiconductor wafers are stacked and stored in a cassette, the cassette is loaded into a processing device or the like, and the wafer is removed from the cassette inside the processing device or the like. The sheets are taken out one by one and transferred onto a predetermined holding means. The wafer that has been processed by the process device or the like is returned to the original cassette or stored in another cassette and carried out of the device.

【0003】ウェハをカセットからプロセス装置等に搬
入する際には、ウェハの向きを常に一定にする必要があ
る。そのため、ウェハの外周部には、その向きを識別す
る指標(目印)として、U字形またはV字形などの切欠
きからなるノッチが形成されている。ウェハをカセット
からプロセス装置等に搬入する際には、ウェハの外周の
ノッチの位置を基準位置に合せておく必要がある。
When a wafer is loaded from a cassette into a processing apparatus or the like, it is necessary to keep the direction of the wafer constant at all times. Therefore, a notch such as a U-shaped or V-shaped notch is formed on the outer peripheral portion of the wafer as an index (mark) for identifying the orientation. When a wafer is loaded from a cassette into a process device or the like, the position of a notch on the outer periphery of the wafer must be adjusted to a reference position.

【0004】本明細書では、ウェハのノッチの位置を基
準位置に合せることを「ノッチ合せ」と呼んでいる。
In this specification, adjusting the position of the notch of the wafer to the reference position is called "notch alignment".

【0005】なおウェハの外周にオリフラ(オリエンテ
ーション・フラット)と呼ばれるフラットな切欠きを設
けて、このオリフラをウェハの位置合せの指標とするこ
とも行われているが、本発明においては、ウェハの位置
合せの指標としてノッチを用いる場合を対象とする。
[0005] A flat notch called an orientation flat (orientation flat) is provided on the outer periphery of the wafer, and the orientation flat is used as an index for alignment of the wafer. The case where a notch is used as an index of alignment is targeted.

【0006】通常、ウェハを収納するカセットや、ウェ
ハに対して各種の処理を行うプロセス装置等には、ウェ
ハのノッチ合せを行う機能が備わっていないため、ウェ
ハを移送する経路の途中に、ノッチ合せ装置を配置し
て、このノッチ合せ装置によりウェハのノッチの位置を
基準位置に合せるようにしている。
Normally, a cassette for accommodating a wafer or a process apparatus for performing various processes on the wafer does not have a function of aligning the notch of the wafer. An aligning device is arranged, and the notch position of the wafer is adjusted to the reference position by the notch aligning device.

【0007】ウェハのノッチ合せ装置は、円板状のウェ
ハの外周部を周方向に間隔を隔てた複数の位置で下方か
ら受け止めて支持する複数のウェハ支持部を有して垂直
方向に伸びる主軸の上端に中心部が取り付けられたウェ
ハ保持具と、ウェハ保持具を回転させるべく主軸を回転
駆動する回転駆動機構と、ウェハ保持具に保持されたウ
ェハがウェハ保持具とともに回転する過程で該ウェハの
外周に形成されたノッチを検出するノッチセンサとを備
えていて、ノッチセンサによりウェハのノッチを検出し
た後、そのノッチの位置を基準位置に合せる動作を行う
ようになっている。
A notch aligning apparatus for a wafer has a plurality of wafer supporting portions for receiving and supporting the outer peripheral portion of a disk-shaped wafer from below at a plurality of positions spaced circumferentially from each other and vertically extending a main shaft. A wafer holder having a central portion attached to an upper end of the wafer holder, a rotation driving mechanism for rotating a main shaft to rotate the wafer holder, and a wafer held by the wafer holder in a process of rotating together with the wafer holder. And a notch sensor for detecting a notch formed on the outer periphery of the wafer. After the notch sensor detects a notch on the wafer, an operation of adjusting the position of the notch to a reference position is performed.

【0008】またこの種のノッチ合せ装置においては、
ウェハをウェハ保持具に保持させた際に、ウェハの中心
位置が基準の位置に一致するように機械的に位置決めさ
れるようになっている。
In this type of notch alignment device,
When the wafer is held by the wafer holder, the wafer is mechanically positioned so that the center position of the wafer coincides with the reference position.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上記のノッチ合せ装置
においては、ウェハをウェハ保持具に保持させた状態
で、ウェハの位置がずれないように、ウェハをウェハ保
持具に対してクランプする装置を設けておく必要があ
る。
In the above notch alignment apparatus, there is provided an apparatus for clamping a wafer to a wafer holder so that the position of the wafer is not shifted while the wafer is held by the wafer holder. Must be provided.

【0010】従来のノッチ合せ装置においては、ウェハ
をクランプするために、真空吸引力を利用したクランプ
装置を用いていたが、真空吸引力を利用したクランプ装
置を動作させるためには真空ポンプを必要とするだけで
なく、クランプ装置と真空ポンプとの間を接続する配管
類やバルブ類を設ける必要があるため、装置の構造が複
雑になって大形になる上に、コストが高くなるという問
題があった。
In the conventional notch aligning apparatus, a clamping device using a vacuum suction force is used to clamp a wafer. However, a vacuum pump is required to operate the clamping device using the vacuum suction force. In addition to the above, it is necessary to provide piping and valves for connecting the clamp device and the vacuum pump, so that the structure of the device becomes complicated and large, and the cost increases. was there.

【0011】また従来は、ウェハの表裏両面の外周寄り
の一定幅の領域が未処理領域となっていて、この未処理
領域に保持具を当接させたりクランプ具を当接させたり
することができたが、最近では、ウェハの表裏両面の外
周寄りの部分に物を当てがうことは許されなくなる傾向
にある。例えば直径が300[mm]のウェハの場合、ウ
ェハを保持したりクランプしたりする際に、保持具やク
ランプ具を当接させることが許されるのは、ウェハの外
周の下面側の面取り部と該ウェハの下面との間の境界を
形成する外周縁部と、ウェハの外周面のみであり、外周
部の面取り部にも物を当てがうことは許されない。この
ように、保持具やクランプ具を当てがうことが許される
部分が制限されているウェハを、真空吸引力によりクラ
ンプすることは容易ではない。
Conventionally, a region having a constant width near the outer periphery of both the front and back surfaces of a wafer is an unprocessed region, and a holding tool or a clamp tool may be brought into contact with the unprocessed region. However, recently, there is a tendency that it is not allowed to apply an object to a portion near the outer periphery of both front and back surfaces of a wafer. For example, in the case of a wafer having a diameter of 300 [mm], when the wafer is held or clamped, the holder and the clamp are allowed to come into contact with the chamfered portion on the lower surface side of the outer periphery of the wafer. Only the outer peripheral edge forming the boundary between the lower surface of the wafer and the outer peripheral surface of the wafer is not allowed to hit the chamfered portion of the outer peripheral. As described above, it is not easy to clamp a wafer having a limited portion to which the holder and the clamp are allowed to apply by the vacuum suction force.

【0012】なお本明細書では、ウェハの外周の下面側
の面取り部と該ウェハの下面との間の境界を形成する外
周縁部をウェハの下面側外周縁部と呼ぶ。またウェハの
外周の上面側の面取り部と該ウェハの上面との間の境界
を形成する外周縁部をウェハの上面側外周縁部と呼ぶ。
In this specification, the outer peripheral edge forming the boundary between the chamfered portion on the lower surface side of the outer periphery of the wafer and the lower surface of the wafer is referred to as the outer peripheral edge on the lower surface side of the wafer. Further, an outer peripheral portion forming a boundary between a chamfered portion on the upper surface side of the outer periphery of the wafer and the upper surface of the wafer is referred to as an outer peripheral portion on the upper surface side of the wafer.

【0013】本発明の目的は、真空吸引力を用いること
なく、電磁ソレノイドを駆動源として用いて、簡単でコ
ンパクトな構造でウェハのクランプ機構を実現できるよ
うにしたウェハのノッチ合せ装置を提供することにあ
る。
An object of the present invention is to provide a wafer notch aligning apparatus which can realize a wafer clamping mechanism with a simple and compact structure using an electromagnetic solenoid as a driving source without using a vacuum suction force. It is in.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明は、円板状のウェ
ハの外周部を周方向に間隔を隔てた複数の位置で下方か
ら受け止めて支持する複数のウェハ支持部を有して垂直
方向に伸びる主軸の上端に中心部が取り付けられたウェ
ハ保持具と、このウェハ保持具を回転させるべく主軸を
回転駆動する回転駆動機構と、ウェハ保持具に保持され
たウェハがウェハ保持具とともに回転する過程で該ウェ
ハの外周に形成されたノッチを検出するノッチセンサと
を備えて、ノッチセンサにより検出されたウェハのノッ
チの位置を基準位置に合せる動作を行うウェハのノッチ
合せ装置に係わるものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has a plurality of wafer supports for receiving and supporting an outer peripheral portion of a disk-shaped wafer from below at a plurality of positions spaced circumferentially from each other. A wafer holder having a central portion attached to the upper end of a main shaft extending in the direction of rotation, a rotation drive mechanism for rotating the main shaft to rotate the wafer holder, and a wafer held by the wafer holder rotating together with the wafer holder A notch sensor for detecting a notch formed on the outer periphery of the wafer in the process, and a notch alignment device for a wafer that performs an operation of adjusting the position of the notch of the wafer detected by the notch sensor to a reference position. .

【0015】上記ウェハ保持具に設けられた各ウェハ支
持部は、ウェハの下面側外周縁部を下方から受け止める
ウェハ受部と該ウェハ受部により受け止められたウェハ
の外周面に接して該ウェハを径方向に位置決めする径方
向位置決め部とを備えていて、ウェハを、その下面側外
周縁部及び外周面のみに接して位置決め保持する。
Each of the wafer supporting portions provided on the wafer holder has a wafer receiving portion for receiving an outer peripheral edge of a lower surface of the wafer from below and an outer peripheral surface of the wafer received by the wafer receiving portion to contact the wafer. A radial positioning portion for positioning the wafer in the radial direction, for positioning and holding the wafer in contact with only the lower peripheral edge and the outer peripheral surface thereof.

【0016】本発明においては、複数のウェハ支持部の
うちの少なくとも一つに設けられる径方向位置決め部
を、支持すべきウェハの外周面に当接して該ウェハをク
ランプした状態になるクランプ位置と該クランプを解除
した状態になるアンクランプ位置との間を支持すべきウ
ェハの径方向に沿って変位し得るように設けられたクラ
ンプ具により構成する。
According to the present invention, the radial positioning portion provided on at least one of the plurality of wafer supporting portions is provided with a clamping position at which the wafer is to be clamped by contacting the outer peripheral surface of the wafer to be supported. It is constituted by a clamp tool provided so as to be displaceable along the radial direction of a wafer to be supported between the unclamped position where the clamp is released.

【0017】また、主軸の軸心部を貫通させたクランプ
駆動部材を通して電磁ソレノイドの出力軸の変位をクラ
ンプ具に伝達して、クランプ具をクランプ位置とアンク
ランプ位置とに変位させるクランプ具駆動装置を設け、
このクランプ具駆動装置とクランプ具とにより、ウェハ
をクランプするクランプ装置を構成する。
Further, a clamp driving device for transmitting the displacement of the output shaft of the electromagnetic solenoid to the clamp through a clamp drive member penetrating the shaft of the main shaft, and displacing the clamp to a clamp position and an unclamping position. Is established,
The clamp device driving device and the clamp device constitute a clamp device for clamping a wafer.

【0018】上記のように、少くとも一つのウェハ支持
部の径方向位置決め部をクランプ具により構成して、ウ
ェハ保持具を回転させる主軸の軸心部を貫通させたクラ
ンプ駆動部材を通して電磁ソレノイドの出力軸の変位を
クランプ具に伝達する構造にすると、真空吸引力を用い
ることなく、簡単でコンパクトな構造で、ウェハをクラ
ンプしたり、アンクランプしたりすることができる。
As described above, at least one of the radial positioning portions of the wafer support portion is constituted by the clamp, and the electromagnetic solenoid is passed through the clamp driving member which passes through the axis of the main shaft for rotating the wafer holder. With the structure for transmitting the displacement of the output shaft to the clamp, the wafer can be clamped or unclamped with a simple and compact structure without using a vacuum suction force.

【0019】なお本明細書において、「電磁ソレノイド
の出力軸の変位」は、電磁ソレノイドが励磁されたとき
にその出力軸に生じる変位だけでなく、電磁ソレノイド
が消勢されて復帰バネの付勢力等により該出力軸に生じ
る変位をも包含する。
In this specification, "displacement of the output shaft of the electromagnetic solenoid" means not only the displacement generated on the output shaft when the electromagnetic solenoid is excited, but also the urging force of the return spring when the electromagnetic solenoid is deenergized. And the like, the displacement occurring on the output shaft.

【0020】上記のように電磁ソレノイドをクランプ装
置の駆動源として用いると、真空ポンプ及び真空を供給
するための配管やバルブ類を設ける必要がなくなるた
め、装置の構成を簡単にして、装置の小形化を図ること
ができる。
When the electromagnetic solenoid is used as a driving source of the clamp device as described above, it is not necessary to provide a vacuum pump and piping and valves for supplying a vacuum, thereby simplifying the structure of the device and reducing the size of the device. Can be achieved.

【0021】また上記のように構成すると、ウェハの外
周部をクランプ具によりクランプするため、表裏両面の
外周寄りの部分にクランプ具を当接させることが許容さ
れないウェハも問題なくクランプすることができる。
Further, with the above configuration, since the outer peripheral portion of the wafer is clamped by the clamp, a wafer which is not allowed to be brought into contact with the outer peripheral portion on both the front and back surfaces can be clamped without any problem. .

【0022】ウェハを安定に保持するため、上記ウェハ
支持部は少くとも3つ(好ましくは3つ)設けるのが望
ましい。
In order to stably hold the wafer, it is desirable to provide at least three (preferably three) of the above-mentioned wafer supporting portions.

【0023】またクランプ具駆動装置は、主軸の軸心部
をスライド自在に貫通した状態で設けられて、主軸とと
もに回転し得るように支持されたクランプ駆動軸と、ク
ランプ駆動軸の軸線方向の変位を前記径方向の変位に変
換してクランプ具に伝達する変位伝達機構と、直線変位
を生じる出力軸を有する電磁ソレノイドと、クランプ具
をクランプ位置とアンクランプ位置とに変位させるべ
く、電磁ソレノイドの出力軸の直線変位をクランプ駆動
軸に伝達するクランプ駆動機構とを備えた構成とするこ
とができる。
Further, the clamp device driving device is provided so as to slidably penetrate the axis of the main shaft and is supported so as to be rotatable together with the main shaft, and the displacement of the clamp driving shaft in the axial direction. A displacement transmission mechanism that converts the displacement into the radial displacement and transmits the displacement to the clamp tool, an electromagnetic solenoid having an output shaft that generates linear displacement, and an electromagnetic solenoid for displacing the clamp tool between a clamp position and an unclamping position. And a clamp drive mechanism for transmitting the linear displacement of the output shaft to the clamp drive shaft.

【0024】ウェハを安定に保持するためには、ウェハ
を3点で支持するようにするのが好ましい。ウェハを3
点で支持する場合には、等角度間隔で放射状に設けられ
た3つの腕部を有する保持具本体と該保持具本体の3つ
の腕部のそれぞれの先端に設けられて円板状のウェハの
外周部を下方から受け止めて支持する3つのウェハ支持
部とを有するウェハ保持具を設けて、該ウェハ保持具の
保持具本体の中心部を、垂直方向に伸びる主軸の上端に
取り付ける。
In order to stably hold the wafer, it is preferable to support the wafer at three points. 3 wafers
In the case of supporting at a point, a holder main body having three arms provided radially at equal angular intervals, and a disk-shaped wafer provided at the tip of each of the three arms of the holder main body. A wafer holder having three wafer supports for receiving and supporting the outer peripheral portion from below is provided, and the center of the holder main body of the wafer holder is attached to the upper end of a vertically extending main shaft.

【0025】この場合、ウェハ保持具の一つのウェハ支
持部に設けられた径方向位置決め部を、支持すべきウェ
ハの外周面に当接して該ウェハをクランプするクランプ
位置と該クランプを解除するアンクランプ位置との間を
径方向に沿って変位可能なクランプ具により構成する。
In this case, the radial positioning portion provided on one wafer supporting portion of the wafer holder is brought into contact with the outer peripheral surface of the wafer to be supported and a clamping position for clamping the wafer and an anchor for releasing the clamping. It is constituted by a clamp tool which can be displaced in the radial direction between the clamp position.

【0026】また、クランプ具駆動装置は、主軸の軸心
部をスライド自在に貫通した状態で設けられて、該主軸
とともに回転するように支持されたクランプ駆動軸と、
主軸の軸線方向に沿ったクランプ駆動軸の直線変位を支
持すべきウェハの径方向の変位に変換してクランプ具に
伝達する変位伝達機構と、直線変位を生じる出力軸を有
する電磁ソレノイドと、クランプ具をクランプ位置とア
ンクランプ位置とに変位させるべく電磁ソレノイドの出
力軸の変位をクランプ駆動軸に伝達するクランプ駆動機
構とを備えた構成とする。
[0026] Further, the clamp driving device is provided so as to slidably penetrate the axis of the main shaft, and is supported so as to rotate with the main shaft.
A displacement transmission mechanism for converting a linear displacement of a clamp drive shaft along the axial direction of a main shaft into a radial displacement of a wafer to be supported and transmitting the displacement to a clamp tool, an electromagnetic solenoid having an output shaft for producing a linear displacement, and a clamp; And a clamp drive mechanism for transmitting the displacement of the output shaft of the electromagnetic solenoid to the clamp drive shaft in order to displace the tool between the clamp position and the unclamped position.

【0027】上記変位伝達機構は、ウェハ保持具に保持
されるウェハの径方向にスライドし得るようにウェハ保
持具に支持されて一端がクランプ具に連結されたスライ
ド板と、主軸の上端から突出したクランプ駆動軸の上端
とスライド板の他端との間に設けられてクランプ駆動軸
の直線変位を径方向の変位に変換してスライド板に伝達
するリンク機構とにより構成することができる。
The displacement transmission mechanism includes a slide plate supported by the wafer holder so as to be slidable in the radial direction of the wafer held by the wafer holder, and one end of which is connected to the clamp, and a projection protruding from the upper end of the main shaft. And a link mechanism provided between the upper end of the clamp drive shaft and the other end of the slide plate for converting the linear displacement of the clamp drive shaft into a radial displacement and transmitting the displacement to the slide plate.

【0028】上記のクランプ具駆動装置においては、ク
ランプ駆動軸を主軸とともに回転させながら、軸線方向
に変位させる必要がある。そのためには、主軸の軸線方
向に沿って変位するように、主軸を支持するフレームに
スライド自在に支持されたスライド軸と、主軸の下端側
に配置されてスライド軸に連結された可動板とを設け
て、該可動板にクランプ駆動軸の下端を軸受を介して回
転自在に支持するとともに、電磁ソレノイドが励磁され
たときにクランプ具をアンクランプ位置側に変位させる
方向にクランプ駆動軸を駆動するべく電磁ソレノイドの
出力軸とスライド軸とを連結する連結部材と、電磁ソレ
ノイドが消勢されたときにクランプ具をクランプ位置側
に変位させるように可動板を付勢するバネとを設けて、
スライド軸と、可動板及び軸受と、連結部材と、バネと
により前記クランプ駆動機構を構成するのが好ましい。
In the above-described clamp tool driving device, it is necessary to displace the clamp drive shaft in the axial direction while rotating the clamp drive shaft together with the main shaft. For this purpose, a slide shaft slidably supported by a frame supporting the main shaft and a movable plate arranged at the lower end side of the main shaft and connected to the slide shaft so as to be displaced along the axial direction of the main shaft. The lower end of the clamp drive shaft is rotatably supported on the movable plate via a bearing, and the clamp drive shaft is driven in a direction to displace the clamp tool toward the unclamping position when the electromagnetic solenoid is excited. To provide a connecting member for connecting the output shaft of the electromagnetic solenoid and the slide shaft, and a spring for biasing the movable plate so as to displace the clamp tool toward the clamp position when the electromagnetic solenoid is deenergized,
It is preferable that the clamp drive mechanism is constituted by a slide shaft, a movable plate and a bearing, a connecting member, and a spring.

【0029】本発明の好ましい態様では、軸線を垂直方
向に向けた状態で固定フレームに回転自在に支持された
回転体と、この回転体の軸心部を貫通した状態で設けら
れて該回転体にスプラインを介してスラスト自在に結合
されるとともに垂直方向に変位し得るように設けられた
可動フレームに軸受を介して回転自在に支持された主軸
と、等角度間隔で放射状に設けられた3つの腕部を有し
て主軸の上端に中心部が取り付けられた保持具本体と、
保持具本体の3つの腕部のそれぞれの先端に設けられた
ウェハ支持部とを備えて、各ウェハ支持部が、円板状の
ウェハの下面側外周縁部を下方から受け止めるウェハ受
部と該ウェハの外周面に接して該ウェハを径方向に位置
決めする径方向位置決め部とを有しているウェハ保持具
と、ウェハ保持具を主軸とともに回転させるべく回転体
を回転駆動する回転駆動機構と、可動フレームを主軸と
ともに上下方向に駆動する昇降機構と、ウェハ保持具が
主軸とともに下降したときに該ウェハ保持具に保持され
ているウェハを受け取って該ウェハの外周部を仮保持す
る少くとも3つのウェハ仮保持具と、ウェハ保持具に保
持されたウェハが該ウェハ保持具とともに回転する過程
で該ウェハの外周部に形成されているノッチを検出する
ノッチセンサとが設けられる。
In a preferred aspect of the present invention, the rotating body rotatably supported by the fixed frame with the axis thereof oriented in the vertical direction, and the rotating body provided so as to pass through the axis of the rotating body. A main shaft rotatably supported via bearings on a movable frame provided so as to be capable of being displaced in the vertical direction while being freely rotatable through splines, and three main shafts provided radially at equal angular intervals. A holder body having an arm portion and a central portion attached to the upper end of the main shaft,
A wafer support portion provided at each of the distal ends of the three arm portions of the holder main body, wherein each wafer support portion receives the lower peripheral edge of the lower surface of the disk-shaped wafer from below; A wafer holder having a radial positioning portion that contacts the outer peripheral surface of the wafer and radially positions the wafer, a rotation driving mechanism that rotationally drives a rotating body to rotate the wafer holder together with the main shaft, An elevating mechanism for driving the movable frame in the vertical direction together with the main shaft, and at least three units for receiving the wafer held by the wafer holder when the wafer holder is lowered together with the main shaft and temporarily holding the outer peripheral portion of the wafer A temporary wafer holder and a notch sensor for detecting a notch formed on the outer peripheral portion of the wafer while the wafer held by the wafer holder rotates together with the wafer holder. Eclipsed.

【0030】この場合、ウェハ保持具の一つのウェハ支
持部に設けられる径方向位置決め部を、支持すべきウェ
ハの外周面に当接して該ウェハをクランプするクランプ
位置と該クランプを解除するアンクランプ位置との間を
径方向に沿って変位可能な状態で保持具本体に支持され
たクランプ具により構成する。
In this case, the radial positioning portion provided on one wafer support portion of the wafer holder is brought into contact with the outer peripheral surface of the wafer to be supported and a clamp position for clamping the wafer, and an unclamping position for releasing the clamp. It is constituted by a clamp tool supported by the holder main body so as to be displaceable in the radial direction between the position and the position.

【0031】また、クランプ具駆動装置は、主軸の軸心
部をスライド自在に貫通した状態で設けられて、主軸に
スプラインを介して結合されたクランプ駆動軸と、クラ
ンプ駆動軸のスラスト方向の直線変位を径方向の変位に
変換してクランプ具に伝達する変位伝達機構と、直線変
位を生じる出力軸を有する電磁ソレノイドと、クランプ
具をクランプ位置とアンクランプ位置とに変位させるべ
く電磁ソレノイドの出力軸の変位をクランプ駆動軸に伝
達するクランプ駆動機構とを備えた構成とする。
The clamp device driving device is provided so as to slidably penetrate the axis of the main shaft, and has a clamp driving shaft coupled to the main shaft via a spline, and a straight line in the thrust direction of the clamp driving shaft. A displacement transmitting mechanism for converting the displacement into a radial displacement and transmitting the displacement to the clamp tool, an electromagnetic solenoid having an output shaft for generating a linear displacement, and an output of the electromagnetic solenoid for displacing the clamp tool between the clamp position and the unclamping position; And a clamp drive mechanism for transmitting shaft displacement to the clamp drive shaft.

【0032】この場合も、変位伝達機構は、ウェハ保持
具に保持されるウェハの径方向にスライドし得るように
保持具本体に支持されて一端がクランプ具に連結された
スライド板と、主軸の上端から突出したクランプ駆動軸
の上端とスライド板の他端との間に設けられてクランプ
駆動部材の直線変位を径方向の変位に変換してスライド
板に伝達するリンク機構とにより構成することができ
る。
Also in this case, the displacement transmitting mechanism comprises a slide plate supported by the holder main body so as to be slidable in the radial direction of the wafer held by the wafer holder, and one end of which is connected to the clamp, and a main shaft. A link mechanism that is provided between the upper end of the clamp drive shaft protruding from the upper end and the other end of the slide plate and that converts linear displacement of the clamp drive member into radial displacement and transmits the displacement to the slide plate. it can.

【0033】また、上記のように構成する場合も、主軸
の軸線方向に沿ってスライドするように、可動フレーム
にスライド自在に支持されたスライド軸と、主軸の下端
側に配置されてスライド軸に連結された可動板とを設け
て、該可動板にクランプ駆動軸の下端を軸受を介して回
転自在に支持するのが好ましい。
Also, in the case of the above construction, the slide shaft slidably supported by the movable frame so as to slide along the axial direction of the main shaft, and the slide shaft disposed at the lower end of the main shaft and provided on the slide shaft. It is preferable to provide a connected movable plate and to support the lower end of the clamp drive shaft rotatably on the movable plate via a bearing.

【0034】この場合、電磁ソレノイドが励磁されたと
きにクランプ具をアンクランプ位置側に変位させる方向
にクランプ駆動軸を駆動するべく電磁ソレノイドの出力
軸とスライド軸とを連結する連結部材と、電磁ソレノイ
ドが消勢されたときにクランプ具をクランプ位置側に変
位させるように可動板を付勢するバネとを設けて、これ
らスライド軸と、可動板及び軸受と、連結部材と、バネ
とによりクランプ駆動機構を構成するのが好ましい。
In this case, a connecting member for connecting the output shaft of the electromagnetic solenoid and the slide shaft to drive the clamp drive shaft in a direction to displace the clamp tool toward the unclamping position when the electromagnetic solenoid is excited; A spring for urging the movable plate so as to displace the clamp tool toward the clamp position when the solenoid is deenergized is provided, and the slide shaft, the movable plate and the bearing, the connecting member, and the spring are used to clamp the movable plate. Preferably, a drive mechanism is provided.

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の実施
形態を説明する。図1ないし図16は本発明に係わるノ
ッチ合せ装置の実施形態を示したもので、図1は本発明
の一実施形態の外観を示す斜視図、図2は図1のノッチ
合せ装置にウェハを保持させた状態を示す斜視図であ
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 to 16 show an embodiment of a notch aligning apparatus according to the present invention. FIG. 1 is a perspective view showing an appearance of an embodiment of the present invention, and FIG. It is a perspective view showing the state where it was held.

【0036】また図3は、図1のノッチ合せ装置に保持
されたウェハを受け取るためにロボットのハンドがノッ
チ合せ装置に向けて移動する際の一過程を示した斜視
図、図4は同ロボットのハンドをノッチ合せ装置に保持
されたウェハの下に挿入した状態を示した斜視図であ
る。
FIG. 3 is a perspective view showing one process when the robot hand moves toward the notch aligning device to receive the wafer held by the notch aligning device of FIG. 1, and FIG. FIG. 4 is a perspective view showing a state where the hand is inserted under a wafer held by a notch aligning device.

【0037】更に図5(A)及び(B)は、ノッチ合せ
装置に設けるウェハ支持部の構造を示す断面図、図6
(A)及び(B)は図5(B)に示したウェハ支持部の
構造を示す断面図び上面図である。図7は本発明に係わ
るノッチ合せ装置の一実施形態において主軸を上昇させ
た状態を示した縦断面図、図8は同実施形態において主
軸を下降させた状態を示した縦断面図である。
FIGS. 5A and 5B are sectional views showing the structure of a wafer supporting portion provided in the notch aligning apparatus.
FIGS. 6A and 6B are a cross-sectional view and a top view showing the structure of the wafer support shown in FIG. FIG. 7 is a longitudinal sectional view showing a state in which the main shaft is raised in one embodiment of the notch aligning device according to the present invention, and FIG. 8 is a longitudinal sectional view showing a state in which the main shaft is lowered in the embodiment.

【0038】また図9は、本発明の実施形態においてウ
ェハをアンクランプした状態を、図7及び図8の断面に
対して90度異なる面で断面して示した縦断面図、図1
0は同実施形態においてウェハをクランプした状態を、
図7及び図8の断面に対して90度異なる面で断面して
示した縦断面図、図11及び図12はそれぞれ図9及び
図10の要部の拡大図である。
FIG. 9 is a longitudinal sectional view showing a state in which the wafer is unclamped in the embodiment of the present invention by a plane different from that of FIGS. 7 and 8 by 90 degrees.
0 indicates a state in which the wafer is clamped in the same embodiment,
FIGS. 11 and 12 are enlarged cross-sectional views of main parts of FIGS. 9 and 10, respectively.

【0039】更にまた、図13(A)及び(B)はそれ
ぞれ本実施形態でクランプ具に連結されたスライド板と
クランプ駆動軸との間に設ける変位変換機構の正面図及
び側面図、図14は、本発明の実施形態で用いるクラン
プ駆動機構の断面図、図15(A)は本発明の実施形態
において主軸の上限位置及び下限位置を検出するために
用いる検出装置の構成を示した正面図、図15(B)は
本発明の実施形態においてクランプ具駆動装置に設ける
可動板の上限位置及び下限位置を検出するために用いる
検出装置の構成を示した要部の正面図、図16(A)及
び(B)はそれぞれ本発明の実施形態においてクランプ
駆動軸とスライド板との間に設ける変位変換機構の変形
例を示した縦断面図及び横断面図である。
FIGS. 13A and 13B are a front view and a side view of a displacement conversion mechanism provided between a slide plate connected to a clamp and a clamp drive shaft in this embodiment, and FIGS. Is a sectional view of a clamp driving mechanism used in the embodiment of the present invention, and FIG. 15A is a front view showing a configuration of a detecting device used for detecting the upper limit position and the lower limit position of the spindle in the embodiment of the present invention. FIG. 15B is a front view of a main part showing a configuration of a detection device used for detecting the upper limit position and the lower limit position of the movable plate provided in the clamp driving device in the embodiment of the present invention, and FIG. 7A and 7B are a longitudinal sectional view and a transverse sectional view, respectively, showing a modified example of the displacement conversion mechanism provided between the clamp drive shaft and the slide plate in the embodiment of the present invention.

【0040】図1ないし図4において、1は本発明に係
わるノッチ合せ装置、2はウェハ、3はウェハ搬送ロボ
ットのハンドである。
1 to 4, reference numeral 1 denotes a notch alignment apparatus according to the present invention, reference numeral 2 denotes a wafer, and reference numeral 3 denotes a hand of a wafer transfer robot.

【0041】ノッチ合せ装置1は、箱形のハウジング4
を備えていて、ハウジング4の上方には、後記する回転
駆動機構と昇降機構とにより駆動されて回転運動と昇降
運動とを行うウェハ保持具5が配置されている。
The notch aligning device 1 includes a box-shaped housing 4
And a wafer holder 5 that is driven by a rotation drive mechanism and an elevating mechanism to perform a rotational motion and an elevating motion is disposed above the housing 4.

【0042】図示のウェハ保持具5は、等角度間隔(1
20度間隔)で放射状に設けられた3つの腕部6Aない
し6Cを有する保持具本体6と、保持具本体6の3つの
腕部6Aないし6Cのそれぞれの先端に取り付けられた
ウェハ支持部7Aないし7Cとを備えている。
The illustrated wafer holder 5 is equiangularly spaced (1
Holder main body 6 having three arms 6A to 6C radially provided at intervals of 20 degrees) and wafer support parts 7A to 7A to 7A to 6A to 6C attached to tips of three arms 6A to 6C of holder main body 6, respectively. 7C.

【0043】またハウジング4の一端の上部には、ウェ
ハ保持具5に保持されたウェハ2を通過させる凹部8a
を備えたセンサ保持具8が取り付けられている。このセ
ンサ保持具8には、凹部8a内を通過するウェハ2を間
にして上下に対向するレーザ発光素子と受光素子とから
なるノッチセンサ(図示せず。)が取り付けられてい
る。
In the upper part of one end of the housing 4, a recess 8a through which the wafer 2 held by the wafer holder 5 passes is provided.
Is attached. A notch sensor (not shown) composed of a laser light emitting element and a light receiving element which are vertically opposed to each other with the wafer 2 passing through the concave portion 8a therebetween is attached to the sensor holder 8.

【0044】ハウジング4の上部にはまた、ウェハ仮保
持具9Aないし9Cが取り付けられている。これらの仮
保持具は、ウェハ保持具5に保持されたウェハ2のノッ
チ2nが、たまたまウェハ支持部7Aないし7Cのいず
れかの位置に一致しているか、またはいずれかのウェハ
支持部の近傍に位置していて、ノッチ2nの検出に失敗
した場合や、ノッチ2nの位置を基準位置に合せてウェ
ハを停止させた状態でウェハ保持具5がロボットのハン
ド3と干渉する向きにある場合等に、ウェハ保持具5の
向きを変更するために、ウェハ保持具5からウェハ2を
受け取って仮保持するために用いられる。
The temporary holders 9A to 9C are mounted on the upper part of the housing 4. In these temporary holders, the notch 2n of the wafer 2 held by the wafer holder 5 happens to coincide with any position of the wafer support portions 7A to 7C, or is close to any one of the wafer support portions. When the notch 2n fails to be detected, or when the wafer holder 5 is in a direction in which the wafer holder 5 interferes with the robot hand 3 in a state where the position of the notch 2n is adjusted to the reference position and the wafer is stopped. In order to change the direction of the wafer holder 5, the wafer 2 is used to receive and temporarily hold the wafer 2 from the wafer holder 5.

【0045】ウェハ仮保持具9Aないし9Cは120°
間隔で配置されていて、ハウジング4の上部の対称位置
から両側に突出するように設けられた対の腕部10A及
び10Bに取り付けられ、他の一つの仮保持具9Cはセ
ンサ保持具8の凹部8a内に取り付けられている。
The temporary wafer holders 9A to 9C are at 120 °
A pair of arms 10A and 10B which are arranged at intervals and are provided so as to protrude from both sides from a symmetrical position on the upper portion of the housing 4, and another temporary holding tool 9C is a concave portion of the sensor holding tool 8. 8a.

【0046】図7ないし図10に示されているように、
ハウジング4の上面板4aの中央部に円形の貫通孔4b
が形成されている。ハウジング4内には、該ハウジング
に対して固定された固定フレーム11が配置され、この
固定フレームには、中心軸線を垂直方向に向けた孔部1
1aが形成されている。孔部11aは、その中心軸線を
ハウジングの上面板の貫通孔4bに一致させた状態で設
けられていて、この孔部11a内に、中心軸線を垂直方
向に向けたほぼ円筒状の回転体12がベアリング13を
介して回転自在に支持されている。
As shown in FIGS. 7 to 10,
A circular through hole 4b is formed at the center of the upper surface plate 4a of the housing 4.
Are formed. A fixed frame 11 fixed to the housing is disposed in the housing 4, and the fixed frame 11 has a hole 1 having a central axis oriented vertically.
1a is formed. The hole 11a is provided with its central axis aligned with the through hole 4b of the top plate of the housing. In the hole 11a, a substantially cylindrical rotating body 12 having a central axis oriented vertically is provided. Are rotatably supported via bearings 13.

【0047】回転体12の中心部を軸線方向にスライド
自在に貫通した状態で主軸14が設けられている。主軸
14は、軸線方向の変位が自在な状態で回転体12と一
体に回転するように、回転体12にボールスプラインを
介して結合されている。回転体12の上端には歯付きプ
ーリ15がネジ16により固定され、固定フレーム11
に取り付けられた回転駆動用電動機16の回転軸の上端
に取り付けられた歯付きプーリ17とプーリ15とに歯
付きベルト18が掛け渡されている。回転駆動用電動機
16により、プーリ17,15及びベルト18を介して
回転体12及び主軸14が回転駆動される。
The main shaft 14 is provided so as to penetrate the center of the rotating body 12 slidably in the axial direction. The main shaft 14 is coupled to the rotating body 12 via a ball spline so as to rotate integrally with the rotating body 12 while being freely displaceable in the axial direction. A toothed pulley 15 is fixed to the upper end of the rotating body 12 with a screw 16, and the fixed frame 11
A toothed belt 18 is stretched over a toothed pulley 17 and a pulley 15 attached to the upper end of a rotation shaft of a rotary drive motor 16 attached to the motor. The rotating body 12 and the main shaft 14 are rotationally driven by the rotation driving motor 16 via the pulleys 17 and 15 and the belt 18.

【0048】主軸14の上端には、開口部を上方に向け
て、かつ中心軸線を主軸14の中心軸線に一致させた状
態で配置されたほぼカップ状のカップリング部材19が
取り付けられている。カップリング部材19はその中央
部にボス部19aを有していて、該ボス部19aが主軸
14の上端に接続され、カップリング部材19の上端
に、保持具本体6が取り付けられている。保持具本体6
は、その中心軸線を主軸14の中心軸線と一致させた状
態で配置されて、ネジ20によりカップリング部材19
に締結されている。
At the upper end of the main shaft 14 is attached a substantially cup-shaped coupling member 19 which is disposed with the opening thereof facing upward and the center axis is aligned with the center axis of the main shaft 14. The coupling member 19 has a boss 19a at the center thereof. The boss 19a is connected to the upper end of the main shaft 14, and the holder main body 6 is attached to the upper end of the coupling member 19. Holder body 6
Are arranged with their central axes aligned with the central axis of the main shaft 14, and the coupling member 19 is
Has been concluded.

【0049】カップリング部材19内に配置される部品
の組み立てや点検等を行うことができるようにするた
め、保持具本体6の中心部に孔6a(図9,図10参
照)が形成されている。この孔6aは、保持具本体6に
ネジ20´により締結された蓋板21により閉じられて
いる。
A hole 6a (see FIGS. 9 and 10) is formed in the center of the holder main body 6 so that the components disposed in the coupling member 19 can be assembled and inspected. I have. The hole 6a is closed by a lid plate 21 fastened to the holder main body 6 by a screw 20 '.

【0050】電動機16と、プーリ15及び17とベル
ト18とにより、ウェハ保持具5を主軸14とともに回
転させるべく、回転体12を回転駆動する回転駆動機構
25(図7及び図8参照)が構成されている。
The motor 16, the pulleys 15 and 17, and the belt 18 constitute a rotation drive mechanism 25 (see FIGS. 7 and 8) for rotating the rotating body 12 to rotate the wafer holder 5 together with the main shaft 14. Have been.

【0051】ハウジング4内にはまた垂直方向に変位さ
せられる可動フレーム30が配置され、可動フレーム3
0は、軸受31を介して主軸14に結合されている。
A movable frame 30 which is vertically displaced is disposed in the housing 4.
0 is connected to the main shaft 14 via a bearing 31.

【0052】可動フレーム30を駆動するため、下半部
にネジ35aを有するネジ棒35が、その軸線を垂直方
向に向けた状態で配置され、ネジ棒35は、軸受36A
ないし36Cにより固定フレーム11に回転自在に支持
されている。ネジ棒35のネジ部35aは、可動フレー
ム30に取り付けられたボールナット38に螺合されて
いる。
In order to drive the movable frame 30, a screw rod 35 having a screw 35a in the lower half is disposed with its axis oriented vertically, and the screw rod 35 has a bearing 36A.
To 36C so as to be rotatably supported by the fixed frame 11. The screw portion 35 a of the screw rod 35 is screwed to a ball nut 38 attached to the movable frame 30.

【0053】固定フレーム11にはまた昇降駆動用電動
機40が取り付けられ、電動機40の回転軸に歯付きプ
ーリ41が取り付けられている。歯付きプーリ41とネ
ジ棒35の上端に取り付けられた歯付きプーリ42とに
歯付きベルト43が掛け渡され、電動機40と、プーリ
41,42と、ベルト43と、ネジ棒35と、ナット3
8とにより、可動フレーム30を主軸14とともに上下
方向に駆動する昇降機構45が構成されている。
An electric motor 40 for driving up and down is mounted on the fixed frame 11, and a pulley 41 with teeth is mounted on a rotating shaft of the electric motor 40. A toothed belt 43 is wound around a toothed pulley 41 and a toothed pulley 42 attached to the upper end of the screw rod 35, and the electric motor 40, the pulleys 41 and 42, the belt 43, the screw rod 35, and the nut 3
8 constitutes an elevating mechanism 45 that drives the movable frame 30 in the vertical direction together with the main shaft 14.

【0054】この昇降機構においては、電動機40によ
り、プーリ41、ベルト43及びプーリ42を介してネ
ジ棒35が回転駆動される。このネジ棒の回転に伴って
可動フレーム30が上下に移動させられ、可動フレーム
30とともに主軸14が上下に移動させられて、ウェハ
保持具5が上下動させられる。図7は主軸14を上限位
置まで上昇させた状態を示し、図8は主軸14を下限位
置まで下降させた状態を示している。
In this elevating mechanism, the motor 40 drives the screw rod 35 to rotate via the pulley 41, the belt 43 and the pulley 42. With the rotation of the screw rod, the movable frame 30 is moved up and down, the main shaft 14 is moved up and down together with the movable frame 30, and the wafer holder 5 is moved up and down. FIG. 7 shows a state in which the spindle 14 has been raised to the upper limit position, and FIG. 8 shows a state in which the spindle 14 has been lowered to the lower limit position.

【0055】ウェハ2は、ウェハ保持具5のウェハ支持
部7Aないし7Cにより下方から受け止められた状態で
保持される。図示のウェハ2は直径が300[mm]の円
板状の半導体ウェハで、その外周にはV字形のノッチ
(切欠き)2nが形成され、その外周部の厚み方向の両
端の角部は全周に亘って面取りされている。
The wafer 2 is held in a state of being received from below by the wafer supporting portions 7A to 7C of the wafer holder 5. The illustrated wafer 2 is a disc-shaped semiconductor wafer having a diameter of 300 [mm], and has a V-shaped notch (notch) 2n formed on the outer periphery thereof. It is chamfered around the circumference.

【0056】図5(A),(B)は、ウェハ支持部7A
〜7Cにより支持されたウェハの断面を示したもので、
同図において2a及び2bはそれぞれウェハの下面及び
上面、2cはウェハの外周面、2d及び2eはそれぞれ
ウェハの外周部に形成された下面側及び上面側の面取り
部、2fはウェハの下面2aと面取り部2dとの間の境
界を形成する外周縁部(下面側外周縁部)、2gはウェ
ハの上面2bと面取り部2eとの間の境界を形成する外
周縁部(上面側外周縁部)である。
FIGS. 5A and 5B show the wafer support 7A.
7C shows the cross section of the wafer supported by 7C,
In the figure, 2a and 2b are the lower and upper surfaces of the wafer, 2c is the outer peripheral surface of the wafer, 2d and 2e are the lower and upper chamfered portions formed on the outer peripheral portion of the wafer, and 2f is the lower surface 2a of the wafer. An outer peripheral edge (a lower peripheral edge) forming a boundary between the chamfered portion 2d and an outer peripheral edge (an upper peripheral edge) forming a boundary between the upper surface 2b and the chamfered portion 2e of the wafer. It is.

【0057】このウェハ2を支持する際に、物を接触さ
せることが許容される部分は、外周面2cと下面側外周
縁部2fとの2か所のみであり、ウェハの下面2a及び
面取り部2dに位置決め部材や保持部材等を接触させる
ことは禁止されている。
When the wafer 2 is supported, only two parts are allowed to come into contact with each other: the outer peripheral surface 2c and the lower peripheral edge 2f. It is forbidden to bring a positioning member, a holding member, etc. into contact with 2d.

【0058】そのため、各ウェハ支持部は、円板状のウ
ェハ2の下面側外周縁部2fを下方から受け止めるウェ
ハ受部Rと、ウェハ2の外周面2cに接してウェハ2を
径方向に位置決めする径方向位置決め部Dとにより構成
される。
For this reason, each wafer supporting portion is provided with a wafer receiving portion R for receiving the lower peripheral edge 2f of the disc-shaped wafer 2 from below, and a radial position of the wafer 2 in contact with the outer peripheral surface 2c of the wafer 2. And a radial positioning portion D.

【0059】ウェハ受部Rは、水平面に対してウェハ2
の面取り部2dよりも小さい傾斜角をもって傾斜した環
状の傾斜位置決め面Raを有する部分で、傾斜位置決め
面Raにウェハ2の下面側外周縁部2fを線接触させる
ことにより、ウェハ2を下方から受け止める。
The wafer receiving portion R holds the wafer 2 with respect to the horizontal plane.
The wafer 2 is received from below by making the lower surface side outer peripheral edge portion 2f of the wafer 2 linearly contact the inclined positioning surface Ra at a portion having an annular inclined positioning surface Ra inclined with a smaller inclination angle than the chamfered portion 2d. .

【0060】また径方向位置決め部Dは、ウェハ受部R
の上に受け止められて支持されたウェハ2の外周面2c
に沿うように形成された円筒面状の位置決め面Daを有
していて、位置決め面Daをウェハ2の外周面2cに当
接させることによりウェハ2を径方向に位置決めする。
The radial positioning portion D is provided with a wafer receiving portion R
Outer peripheral surface 2c of wafer 2 received and supported on
Is positioned along the cylindrical surface, and the wafer 2 is positioned in the radial direction by bringing the positioning surface Da into contact with the outer peripheral surface 2c of the wafer 2.

【0061】図5(A)に示したように、ウェハ支持部
7B,7Cは、ウェハ受部Rと径方向位置決め部Dとを
一体に有する部材701からなっていて、保持具本体6
の腕部6B及び6Cの先端に固定されている。これら2
つのウェハ支持部7B,7Cの径方向位置決め部Dの位
置決め面Daにウェハ2の外周面2cを当接させること
により、ウェハ2の中心を基準の中心位置に一致させる
ことができるようになっている。
As shown in FIG. 5A, the wafer supporting portions 7B and 7C are composed of a member 701 integrally having a wafer receiving portion R and a radial positioning portion D.
Are fixed to the tips of the arms 6B and 6C. These two
By bringing the outer peripheral surface 2c of the wafer 2 into contact with the positioning surface Da of the radial positioning portion D of the two wafer support portions 7B and 7C, the center of the wafer 2 can be matched with the reference center position. I have.

【0062】また図5(B)に示したように、他の一つ
のウェハ支持部7Aのウェハ受部Rは、上端に傾斜位置
決め面Raを有して保持具本体6の腕部6Aの先端に固
定された支持部材702により構成されている。またウ
ェハ支持部7Aの径方向位置決め部Dは、支持すべきウ
ェハ2の外周面に当接して該ウェハをクランプするクラ
ンプ位置と該クランプを解除するアンクランプ位置との
間をウェハの径方向に沿って変位可能な状態で保持具本
体に支持されたクランプ具703からなっている。クラ
ンプ具703は、支持すべきウェハ2の外周面2cに当
接する位置決め面Daを前面に有する中実の部材からな
っていて、腕部6Aの先端に取り付けられた断面コの字
形の枠部材601の内側に、支持すべきウェハ2の径方
向に所定距離だけ変位し得る状態で配置されている。
As shown in FIG. 5 (B), the wafer receiving portion R of the other one of the wafer supporting portions 7A has an inclined positioning surface Ra at the upper end and has a tip of the arm portion 6A of the holder main body 6. And a support member 702 fixed to the support member 702. Further, the radial positioning portion D of the wafer support portion 7A moves in the radial direction of the wafer between a clamp position where the wafer 2 to be supported is in contact with the outer peripheral surface of the wafer 2 to clamp the wafer and an unclamping position where the clamp is released. It is composed of a clamp 703 supported by the holder main body so as to be displaceable along. The clamp member 703 is a solid member having a positioning surface Da on the front surface that abuts against the outer peripheral surface 2c of the wafer 2 to be supported, and is a U-shaped frame member 601 attached to the tip of the arm 6A. Are arranged in a state capable of being displaced by a predetermined distance in the radial direction of the wafer 2 to be supported.

【0063】本実施形態では、図5(B)及び図6
(A)に見られるように、保持具本体6の腕部6Aの下
部に径方向に伸びるガイド溝602が形成されていて、
このガイド溝602内にスライド板50がスライド自在
に嵌合され、スライド板50の先端にクランプ具703
が固定されている。スライド板50をガイド溝602内
に保持するため、腕部6Aの下面に保持板51がネジ止
めされている。スライド板50は保持板51の上をスラ
イドして、支持すべきウェハ2の径方向に往復変位す
る。
In this embodiment, FIGS. 5B and 6
As shown in (A), a guide groove 602 extending in the radial direction is formed at a lower portion of the arm portion 6A of the holder body 6, and
The slide plate 50 is slidably fitted in the guide groove 602, and a clamp 703 is attached to the tip of the slide plate 50.
Has been fixed. In order to hold the slide plate 50 in the guide groove 602, a holding plate 51 is screwed to the lower surface of the arm 6A. The slide plate 50 slides on the holding plate 51 and reciprocates in the radial direction of the wafer 2 to be supported.

【0064】図示の例では、枠部材601の端部壁60
1aが、クランプ具703のストッパとなっている。ク
ランプ具703は、図5(B)に示すように、その位置
決め面Daがウェハ2の外周面2cに接触して外周面2
cを押圧した状態になるクランプ位置と、位置決め面D
aがウェハ2の外周面2cから離れた状態になるアンク
ランプ位置との間を変位させられる。
In the illustrated example, the end wall 60 of the frame member 601 is
1a is a stopper of the clamp tool 703. As shown in FIG. 5B, the clamping tool 703 has its positioning surface Da in contact with the outer peripheral surface 2c of the wafer 2 and the outer peripheral surface 2c.
c and the positioning position D
a is displaced between an unclamping position in which a is separated from the outer peripheral surface 2 c of the wafer 2.

【0065】図9ないし図12に示したように、主軸1
4の軸心部をスライド自在に貫通させてクランプ駆動軸
52が設けられている。クランプ駆動軸52は、主軸1
4と一体になって回転しながら軸線方向に変位し得るよ
うに、スプラインを介して主軸14に結合されている。
クランプ駆動軸52の下端は、可動フレーム30の下方
に配置された可動板53に軸受54を介して結合され、
クランプ駆動軸52の上端はカップリング部材19内に
導入されている。
As shown in FIG. 9 to FIG.
The clamp drive shaft 52 is provided so as to slidably penetrate the shaft center portion of No. 4. The clamp drive shaft 52 is
It is coupled to the main shaft 14 via a spline so that it can be displaced in the axial direction while rotating integrally with the shaft 4.
The lower end of the clamp drive shaft 52 is coupled to a movable plate 53 disposed below the movable frame 30 via a bearing 54,
The upper end of the clamp drive shaft 52 is introduced into the coupling member 19.

【0066】クランプ駆動軸52の軸線方向の変位を、
支持すべきウェハの径方向の変位に変換してスライド軸
50に伝達するため、図13に示した変位変換機構がカ
ップリング部材19内に設けられている。図示の例で
は、カップリング部材19内にブラケット55が固定さ
れていて、このブラケット55にL字形のリンク56の
中間部がピン57を介して支持され、リンク56の一端
がクランプ駆動軸52の上端にピン58を介して連結さ
れている。リンク56の他端はスライド板50の後端部
に固定された連結部材59にピン60を介して連結され
ている。リンク56とピン57,58及び60と連結部
材59とにより、クランプ駆動軸52の上限方向の変位
を支持すべきウェハ2の径方向の変位に変換してスライ
ド板50に伝達する変位変換機構(この例ではリンク機
構)61が構成されている。この変位変換機構61とス
ライド板50とにより、主軸14の軸線方向に沿ったク
ランプ駆動軸52の直線変位を、支持すべきウェハ2の
径方向の変位に変換してクランプ具703に伝達する変
位伝達機構が構成されている。
The displacement of the clamp drive shaft 52 in the axial direction is
A displacement conversion mechanism shown in FIG. 13 is provided in the coupling member 19 in order to convert the wafer into a radial displacement of the wafer to be supported and transmit the same to the slide shaft 50. In the illustrated example, a bracket 55 is fixed in the coupling member 19, an intermediate portion of an L-shaped link 56 is supported by the bracket 55 via a pin 57, and one end of the link 56 is connected to the clamp drive shaft 52. The upper end is connected via a pin 58. The other end of the link 56 is connected via a pin 60 to a connecting member 59 fixed to the rear end of the slide plate 50. A displacement converting mechanism (which converts the upper-limit displacement of the clamp drive shaft 52 into a radial displacement of the wafer 2 to be supported and transmits the displacement to the slide plate 50 by the link 56, the pins 57, 58 and 60, and the connecting member 59. In this example, a link mechanism 61 is configured. The displacement converting mechanism 61 and the slide plate 50 convert the linear displacement of the clamp drive shaft 52 along the axial direction of the main shaft 14 into a radial displacement of the wafer 2 to be supported and transmit the displacement to the clamp fixture 703. A transmission mechanism is configured.

【0067】本発明では、クランプ具703を駆動する
ために、図14に示すような電磁ソレノイド70を用い
る。電磁ソレノイド70は、図示しない励磁コイルと該
励磁コイルが励磁されたときに変位を生じる可動鉄心と
を備えたもので、その可動鉄心に連結された出力軸70
aを上方に向けた状態で可動フレーム30に取り付けら
れている。
In the present invention, an electromagnetic solenoid 70 as shown in FIG. 14 is used to drive the clamp 703. The electromagnetic solenoid 70 includes an exciting coil (not shown) and a movable core that generates displacement when the exciting coil is excited. The output shaft 70 is connected to the movable core.
It is attached to the movable frame 30 with a facing upward.

【0068】可動フレーム30にはまた、軸線を垂直方
向に向けたスライド軸71が上下にスライド自在に支持
され、スライド軸71と電磁ソレノイド70の出力軸7
0aとが連結部材72を介して連結されている。スライ
ド軸71の下端は可動板53に連結され、スライド軸7
1に嵌合されたバネ73が可動フレーム30と可動板5
3との間に圧縮された状態で配置されている。バネ73
により可動板53が常時下方に付勢されている。
A slide shaft 71 whose axis is oriented vertically is slidably supported on the movable frame 30 in the vertical direction. The slide shaft 71 and the output shaft 7 of the electromagnetic solenoid 70 are also supported.
0a is connected via a connecting member 72. The lower end of the slide shaft 71 is connected to the movable plate 53, and the slide shaft 7
The movable frame 30 and the movable plate 5
3 in a compressed state. Spring 73
As a result, the movable plate 53 is constantly urged downward.

【0069】図示の電磁ソレノイド70は、励磁された
際にその出力軸70aを上方に変位させるように構成さ
れている。電磁ソレノイド70が励磁されて、その出力
軸70aが上方に変位すると、スライド軸71がバネ7
3の付勢力に抗して上方に変位させられ、クランプ駆動
軸52が可動板53とともに上方に変位させられる。こ
のクランプ駆動軸52の変位は変換機構61を介してス
ライド板50に伝達されるため、スライド板50がウェ
ハ2の外径側に変位してクランプ具703をアンクラン
プ位置側に変位させる。図10及び図12は、電磁ソレ
ノイド70が励磁されることにより、可動板53及びク
ランプ駆動軸52が上限位置まで駆動されて、クランプ
具703がアンクランプ位置側の極限位置まで変位した
状態を示している。
The illustrated electromagnetic solenoid 70 is configured to displace its output shaft 70a upward when excited. When the electromagnetic solenoid 70 is excited and its output shaft 70a is displaced upward, the slide shaft 71
3, the clamp drive shaft 52 is displaced upward together with the movable plate 53. Since the displacement of the clamp drive shaft 52 is transmitted to the slide plate 50 via the conversion mechanism 61, the slide plate 50 is displaced to the outer diameter side of the wafer 2 to displace the clamp tool 703 to the unclamping position side. FIGS. 10 and 12 show a state in which the movable plate 53 and the clamp drive shaft 52 are driven to the upper limit position by the excitation of the electromagnetic solenoid 70, and the clamp 703 is displaced to the extreme position on the unclamping position side. ing.

【0070】電磁ソレノイド70が消勢されたときに
は、バネ73の付勢力によりクランプ駆動軸52が下方
に変位させられる。クランプ駆動軸52が下方に変位す
ると、クランプ駆動軸52の変位が変位伝達機構61を
介して伝達されるスライド板50がウェハ2の径方向の
内側に変位させられる。これによりクランプ具703が
ウェハ2の外周面2cに当接した状態になるクランプ位
置まで変位してウェハ2をクランプする。図9及び図1
1は、電磁ソレノイド70が消勢されて、クランプ駆動
軸52及び可動板53が下限位置まで変位させられた状
態を示している。クランプ具703のクランプ力は、バ
ネ73の付勢力のみにより与えられる。
When the electromagnetic solenoid 70 is deenergized, the clamp drive shaft 52 is displaced downward by the urging force of the spring 73. When the clamp drive shaft 52 is displaced downward, the slide plate 50 to which the displacement of the clamp drive shaft 52 is transmitted via the displacement transmission mechanism 61 is displaced radially inward of the wafer 2. As a result, the clamp tool 703 is displaced to a clamp position where the clamp tool 703 comes into contact with the outer peripheral surface 2c of the wafer 2, and the wafer 2 is clamped. 9 and 1
1 shows a state where the electromagnetic solenoid 70 is deenergized and the clamp drive shaft 52 and the movable plate 53 are displaced to the lower limit position. The clamping force of the clamp member 703 is given only by the urging force of the spring 73.

【0071】上記のように、本実施形態では、クランプ
具703をアンクランプ位置に変位させるために電磁ソ
レノイド55の駆動力を用い、バネ73の付勢力をクラ
ンプ具703をクランプ位置に変位させるために用いて
いる。
As described above, in the present embodiment, the driving force of the electromagnetic solenoid 55 is used to displace the clamp member 703 to the unclamping position, and the urging force of the spring 73 is used to displace the clamp member 703 to the clamp position. Used for

【0072】図示の例では、連結部材72と、スライド
軸71と、可動板53と、軸受54と、バネ73とによ
り、クランプ具をクランプ位置とアンクランプ位置とに
変位させるべく、電磁ソレノイド70の出力軸の直線変
位をクランプ駆動軸52に伝達するクランプ駆動機構7
5が構成されている。
In the illustrated example, the electromagnetic solenoid 70 is used to displace the clamp tool between the clamp position and the unclamping position by the connecting member 72, the slide shaft 71, the movable plate 53, the bearing 54, and the spring 73. Drive mechanism 7 for transmitting the linear displacement of the output shaft to the clamp drive shaft 52
5 are configured.

【0073】そして、電磁ソレノイド70と、上記クラ
ンプ駆動機構75と、クランプ駆動軸52と、このクラ
ンプ駆動軸の軸線方向の変位をウェハの径方向の変位に
変換してクランプ具703に伝達する前記変位伝達機構
とにより、電磁ソレノイド70の出力軸の変位を主軸の
軸心部を貫通させたクランプ駆動軸(クランプ駆動部
材)52を通してクランプ具703に伝達して、クラン
プ具をクランプ位置とアンクランプ位置とに変位させる
クランプ具駆動装置が構成されている。
The electromagnetic solenoid 70, the clamp drive mechanism 75, the clamp drive shaft 52, and the axial displacement of the clamp drive shaft are converted into the radial displacement of the wafer and transmitted to the clamp 703. The displacement transmitting mechanism transmits the displacement of the output shaft of the electromagnetic solenoid 70 to the clamp 703 through the clamp drive shaft (clamp drive member) 52 penetrating the shaft of the main shaft, and moves the clamp to the clamp position and unclamps. A clamp tool driving device for displacing the position is formed.

【0074】可動フレーム30の上限位置と下限位置と
を検出して、昇降用電動機40への通電を制御するた
め、図15(A)に示す位置検出装置が設けられてい
る。この位置検出装置は、可動フレーム30に取り付け
られたドグ80及び81と、可動フレーム30が上限位
置に達したときにドグ80を検出して可動フレームが上
限位置に達したことを示す検出信号を発生する位置セン
サ82と、可動フレームが下限位置に達したときにドグ
81を検出して可動フレームが下限位置に達したことを
示す検出信号を発生する位置センサ83とからなってい
る。位置センサ82及び83は固定フレーム11に適宜
の手段により取り付けられている。
A position detecting device shown in FIG. 15A is provided to detect the upper limit position and the lower limit position of the movable frame 30 and to control the energization of the lifting motor 40. The position detecting device detects dogs 80 and 81 attached to the movable frame 30 and a detection signal indicating that the movable frame 30 has reached the upper limit position by detecting the dog 80 when the movable frame 30 reaches the upper limit position. The position sensor 82 generates a position sensor 83 that detects the dog 81 when the movable frame reaches the lower limit position and generates a detection signal indicating that the movable frame has reached the lower limit position. The position sensors 82 and 83 are attached to the fixed frame 11 by appropriate means.

【0075】またクランプ具703がクランプ位置にあ
るかアンクランプ位置にあるかを検出するために図15
(B)に示すような位置検出装置が設けられている。こ
の位置検出装置は、可動板53に取り付けられたドグ8
5及び86と、可動板53が上限位置に達してクランプ
具がアンクランプ位置に達したときにドグ85を検出し
てクランプ具がアンクランプ位置に達したことを示す検
出信号を発生する位置センサ87と、可動板53が下限
位置に達してクランプ具がクランプ位置に達したときに
ドグ86を検出してクランプ具がクランプ位置に達した
ことを示す検出信号を発生する位置センサ88とからな
っている。位置センサ87は可動フレーム30に取り付
けられ、位置センサ88は、可動フレーム30に上端を
固定した取り付け具89の下端に取り付けられている。
In order to detect whether the clamp member 703 is in the clamp position or the unclamping position, FIG.
A position detecting device as shown in FIG. This position detecting device includes a dog 8 attached to the movable plate 53.
5 and 86, and a position sensor that detects a dog 85 when the movable plate 53 reaches the upper limit position and the clamp device reaches the unclamping position and generates a detection signal indicating that the clamp device has reached the unclamping position. 87, and a position sensor 88 which detects a dog 86 when the movable plate 53 reaches the lower limit position and the clamp reaches the clamp position, and generates a detection signal indicating that the clamp has reached the clamp position. ing. The position sensor 87 is attached to the movable frame 30, and the position sensor 88 is attached to a lower end of a fixture 89 having an upper end fixed to the movable frame 30.

【0076】上記のノッチ合せ装置1においては、昇降
機構45により、ウェハ保持具5を、仮保持具9A〜9
Cと干渉しない位置まで上昇させることができるように
なっている。
In the above notch aligning apparatus 1, the elevating mechanism 45 moves the wafer holder 5 to the temporary holders 9A to 9A.
C can be raised to a position that does not interfere with C.

【0077】ウェハのノッチ合せを行う際には、電磁ソ
レノイド70を励磁してクランプ具703をアンクラン
プ位置に変位させ、ウェハ保持具5を仮保持具9A〜9
Cと干渉しない位置まで上昇させた状態で、ウェハ搬送
ロボットのハンド3(図3及び図4参照)の上に保持さ
れたウェハ2を、ウェハ支持部7A〜7Cの上方に搬送
する。ウェハ2がウェハ支持部7A〜7Cと整合する位
置に達したところでハンド3を下降させ、ハンド3のク
ランプを解放して、ウェハ2をウェハ支持部7A〜7C
に渡す。このときウェハ2の外周面2cを径方向位置決
め部Dの内側に落とし込み、ウェハ2の下面側外周縁部
2fをウェハ支持部7A〜7Cの受け部Rの上に載せ
る。次いで電磁ソレノイド70を消勢してバネ73の付
勢力によりクランプ具703をクランプ位置側に変位さ
せる。これにより、クランプ具703をウェハ2の外周
面2cに当接させてウェハ2をクランプする。このとき
ウェハ2は予め取り付け位置が正確に調整された2つの
ウェハ支持部7B及び7Cの径方向位置決め部Dに当接
させられるため、ウェハ2の中心が基準位置に一致する
ように自動的に位置決めされる。
When performing notch alignment of the wafer, the electromagnetic solenoid 70 is excited to displace the clamp 703 to the unclamping position, and the wafer holder 5 is moved to the temporary holders 9A to 9A.
The wafer 2 held on the hand 3 (see FIGS. 3 and 4) of the wafer transfer robot is transferred above the wafer supporters 7A to 7C in a state where the wafer 2 is raised to a position where it does not interfere with C. When the wafer 2 reaches a position where the wafer 2 is aligned with the wafer supports 7A to 7C, the hand 3 is lowered to release the clamp of the hand 3, and the wafer 2 is moved to the wafer supports 7A to 7C.
Pass to. At this time, the outer peripheral surface 2c of the wafer 2 is dropped inside the radial positioning portion D, and the lower peripheral edge 2f of the lower surface of the wafer 2 is placed on the receiving portion R of the wafer support portions 7A to 7C. Next, the electromagnetic solenoid 70 is deenergized, and the clamp 703 is displaced toward the clamp position by the urging force of the spring 73. Thus, the clamping tool 703 is brought into contact with the outer peripheral surface 2c of the wafer 2 to clamp the wafer 2. At this time, since the wafer 2 is brought into contact with the radial positioning portions D of the two wafer supporting portions 7B and 7C whose mounting positions have been accurately adjusted in advance, the wafer 2 is automatically automatically adjusted so that the center of the wafer 2 matches the reference position. Positioned.

【0078】上記のようにしてウェハ2をウェハ保持具
5に保持させてその中心を基準位置に一致させた後、電
動機16を駆動して主軸14を回転させ、ウェハ2を回
転させる。ウェハ2が回転する過程でノッチセンサによ
りウェハ2の外周に形成されたノッチ2nを検出する。
ノッチ2nの位置が検出された場合には、検出したノッ
チ2nの位置を基準位置に一致させるようにウェハ保持
具5を回転させて停止させる。
After the wafer 2 is held by the wafer holder 5 so that the center thereof coincides with the reference position as described above, the electric motor 16 is driven to rotate the main shaft 14 to rotate the wafer 2. In the process of rotating the wafer 2, a notch sensor detects a notch 2n formed on the outer periphery of the wafer 2.
When the position of the notch 2n is detected, the wafer holder 5 is rotated and stopped so that the detected position of the notch 2n matches the reference position.

【0079】ノッチ2nの位置がたまたまウェハ支持部
7A〜7Cのいずれかの位置に一致していて、ノッチ2
nの位置を検出することができなかった場合には、昇降
用電動機40を駆動して主軸14を下降させ、電磁ソレ
ノイド70を励磁してウェハ2をアンクランプした後、
ウェハ2を仮保持具9A〜9Cにウェハを仮保持させ
る。仮保持部9A〜9Cは、ウェハ支持部7B及び7C
と同様に、ウェハ2の外周面2cと下面側外周縁部2f
との2か所のみに接触してウェハを保持する構造にして
おく。
When the position of the notch 2n happens to coincide with any position of the wafer supporting portions 7A to 7C,
When the position of n cannot be detected, the elevator motor 40 is driven to lower the main shaft 14, the electromagnetic solenoid 70 is excited, and the wafer 2 is unclamped.
The wafer 2 is temporarily held by the temporary holders 9A to 9C. The temporary holding units 9A to 9C are provided on the wafer supporting units 7B and 7C.
Similarly, the outer peripheral surface 2c of the wafer 2 and the lower peripheral edge 2f
And a structure for holding the wafer in contact with only two places.

【0080】ウェハ2を仮保持具9A〜9Cに保持させ
た後、主軸14を更に下降させて、仮保持具に保持され
たウェハ2と干渉しない位置までウェハ保持具5を下降
させた後、電動機16を回転させてウェハ保持具5を予
め定めた一定の角度だけ回転させる。これにより、ウェ
ハ支持部7A〜7Cをノッチ2nの位置からずらし、ノ
ッチ位置の検出を可能にする。その後、主軸14を上昇
させてウェハ支持具5を上昇させて、仮保持具9A〜9
Cに仮保持されているウェハをウェハ支持部7A〜7C
に保持させ、電磁ソレノイド70を消勢してウェハ2を
クランプする。その後、主軸14を更に上昇させてウェ
ハ保持具5を仮保持具9A〜9Cと干渉しない位置まで
上昇させ、その位置でウェハ保持具5を回転させてノッ
チ2nの検出を行う。
After holding the wafer 2 on the temporary holders 9A to 9C, the main shaft 14 is further lowered to lower the wafer holder 5 to a position where the wafer 2 is not interfered with the wafer 2 held on the temporary holder. The motor 16 is rotated to rotate the wafer holder 5 by a predetermined fixed angle. As a result, the wafer supports 7A to 7C are shifted from the position of the notch 2n, and the notch position can be detected. Thereafter, the main shaft 14 is raised to raise the wafer support 5, and the temporary holders 9A to 9A are moved.
C, the wafers temporarily held on the wafer supporting portions 7A to 7C
, And deenergize the electromagnetic solenoid 70 to clamp the wafer 2. Thereafter, the spindle 14 is further raised to raise the wafer holder 5 to a position where it does not interfere with the temporary holders 9A to 9C, and the wafer holder 5 is rotated at that position to detect the notch 2n.

【0081】ノッチ2nの位置が検出された後、検出さ
れたノッチの位置を基準位置に一致させた状態で電動機
16を停止させてウェハ保持具5を停止させる。このよ
うにしてウェハ保持具を停止させた状態で、ウェハ保持
具5の位置が、ウェハ2を受け取りに来るロボットのハ
ンド3と干渉する位置にあるときには、ノッチの位置が
検出されなかった場合と同様に、主軸14を下降させて
ウェハ2を仮保持具9A〜9Cに仮保持させた後、ウェ
ハ保持具5を所定角度回転させてウェハ保持具5をロボ
ットのハンド3と干渉しない向き(例えば図4に示した
向き)に向ける。その後、主軸14を上昇させて、ウェ
ハ2をウェハ保持具5に保持させ、電磁ソレノイド70
を消勢してクランプ具703をクランプ位置に変位させ
た後、主軸14を更に上昇させて、ウェハ2をロボット
のハンドと干渉しない位置に停止させる。この状態で、
電磁ソレノイド70を励磁してウェハをアンクランプ
し、図4に示すようにロボットのハンド3をウェハ2の
下方に挿入する。ハンド3を上昇させてウェハ2をハン
ド3に移行させた後、ハンド3を後退させて、ウェハを
次工程に搬送する。
After the position of the notch 2n is detected, the motor 16 is stopped and the wafer holder 5 is stopped with the detected position of the notch coincident with the reference position. When the position of the wafer holder 5 is at a position where it interferes with the hand 3 of the robot that receives the wafer 2 while the wafer holder is stopped in this way, the case where the position of the notch is not detected is as follows. Similarly, after the main shaft 14 is lowered to temporarily hold the wafer 2 on the temporary holders 9A to 9C, the wafer holder 5 is rotated by a predetermined angle so that the wafer holder 5 does not interfere with the robot hand 3 (for example, (Direction shown in FIG. 4). Thereafter, the spindle 14 is raised to hold the wafer 2 on the wafer holder 5, and the electromagnetic solenoid 70
Is deenergized and the clamp 703 is displaced to the clamp position, and then the spindle 14 is further raised to stop the wafer 2 at a position where it does not interfere with the robot hand. In this state,
The wafer is unclamped by exciting the electromagnetic solenoid 70, and the robot hand 3 is inserted below the wafer 2 as shown in FIG. After the hand 3 is lifted to transfer the wafer 2 to the hand 3, the hand 3 is retracted and the wafer is transferred to the next step.

【0082】上記のように、一つのウェハ支持部7Aの
径方向位置決め部Dをクランプ具703により構成し
て、ウェハ保持具5を回転させる主軸14の軸心部を貫
通させたクランプ駆動軸(クランプ駆動部材)52を通
して電磁ソレノイド70の駆動力をクランプ具703に
伝達する構造にすると、真空吸引力を用いることなく、
簡単な構造で、ウェハ2をクランプしたり、アンクラン
プしたりすることができる。
As described above, the radial positioning portion D of one wafer support portion 7A is constituted by the clamp 703, and the clamp drive shaft (which is formed by penetrating the axis of the main shaft 14 for rotating the wafer holder 5). If the structure is such that the driving force of the electromagnetic solenoid 70 is transmitted to the clamp member 703 through the (clamp drive member) 52, without using a vacuum suction force,
The wafer 2 can be clamped or unclamped with a simple structure.

【0083】上記のように電磁ソレノイド70をクラン
プ装置の駆動源として用いると、真空ポンプ及び真空を
供給するための配管やバルブ類を設ける必要がなくなる
ため、装置の構成を簡単にして、装置の小形化を図るこ
とができる。
When the electromagnetic solenoid 70 is used as a drive source of the clamp device as described above, it is not necessary to provide a vacuum pump and piping and valves for supplying a vacuum. The size can be reduced.

【0084】また上記のように、ウェハ2の外周面をク
ランプ具によりクランプするようにすると、表裏両面の
外周寄りの部分にクランプ具を当接させることが許容さ
れないウェハも問題なくクランプすることができる。
Further, as described above, if the outer peripheral surface of the wafer 2 is clamped by the clamp, the wafer which is not allowed to be brought into contact with the outer peripheral portion on both the front and back surfaces can be clamped without any problem. it can.

【0085】上記の例では、クランプ駆動軸52の変位
をウェハの径方向の変位に変換する機構として、図13
に示したようなリンク機構を用いたが、他の変位変換機
構を用いることもできる。例えば、図16に示すよう
に、クランプ駆動軸52の上端にラック52aを形成し
て、このラックをカップリング部材19に回転自在に支
持したピニオン90に噛み合せ、スライド板50の後端
部に形成した二股状部分50aの下面に形成したラック
50a1,50a1をピニオン90に噛み合せるようにして
もよい。
In the above example, the mechanism for converting the displacement of the clamp drive shaft 52 into the radial displacement of the wafer is shown in FIG.
Although the link mechanism shown in FIG. 1 is used, another displacement conversion mechanism can be used. For example, as shown in FIG. 16, a rack 52 a is formed at the upper end of the clamp drive shaft 52, this rack is engaged with a pinion 90 rotatably supported by the coupling member 19, and formed at the rear end of the slide plate 50. The racks 50a1 and 50a1 formed on the lower surface of the forked portion 50a may be engaged with the pinion 90.

【0086】図16に示すように、ラックとピニオンと
により変位変換機構を構成した場合には、電磁ソレノイ
ド70を励磁してその出力軸を上方に変位させることに
より、クランプ駆動軸52を上方に変位させたときに、
スライド板50がウェハの外径側に変位し、クランプ具
703がアンクランプ位置に変位する。また電磁ソレノ
イド70を消勢してバネ73の付勢力によりクランプ駆
動軸52を下方に変位させたときに、スライド板50が
ウェハの内径側に変位してクランプ具703がクランプ
位置側に変位する。
As shown in FIG. 16, when a displacement conversion mechanism is constituted by a rack and a pinion, the clamp drive shaft 52 is moved upward by exciting the electromagnetic solenoid 70 and displacing its output shaft upward. When displaced,
The slide plate 50 is displaced to the outer diameter side of the wafer, and the clamp 703 is displaced to the unclamping position. When the electromagnetic solenoid 70 is deenergized and the clamp drive shaft 52 is displaced downward by the urging force of the spring 73, the slide plate 50 is displaced toward the inner diameter side of the wafer, and the clamp fixture 703 is displaced toward the clamp position. .

【0087】上記の例では、電磁ソレノイド70を励磁
したときにクランプ具703をアンクランプ位置側に変
位させるようにしたが、電磁ソレノイド70として励磁
されたきに出力軸70aが後退する形式のものを用いる
とともに、電磁ソレノイドの出力軸70aを前進位置に
復帰させるバネを設けて、電磁ソレノイド70が励磁さ
れたときにクランプ具703をクランプ位置に変位さ
せ、電磁ソレノイド70が消勢されたときにクランプ具
703をアンクランプ位置に変位させるようにしてもよ
い。この場合、ウェハ2に無理な力が加わらないように
するため、スライド軸71を可動板53にスライド自在
に結合して、電磁ソレノイド70の出力軸が後退したと
きにバネ73を介して可動板53が下方に駆動されるよ
うにしておくのが好ましい。
In the above example, the clamp 703 is displaced to the unclamping position when the electromagnetic solenoid 70 is excited. However, the electromagnetic solenoid 70 is of a type in which the output shaft 70a is retracted when excited. A spring for returning the output shaft 70a of the electromagnetic solenoid to the forward position is provided, and the clamp 703 is displaced to the clamp position when the electromagnetic solenoid 70 is excited, and is clamped when the electromagnetic solenoid 70 is deenergized. The tool 703 may be displaced to the unclamping position. In this case, in order to prevent excessive force from being applied to the wafer 2, the slide shaft 71 is slidably coupled to the movable plate 53, and the movable shaft is moved via the spring 73 when the output shaft of the electromagnetic solenoid 70 is retracted. Preferably, 53 is driven downward.

【0088】ウェハを安定に支持するためには、上記の
例のように、ウェハ保持具5に3つのウェハ支持部7A
〜7Cを設けて、ウェハを3点支持するのが好ましい
が、本発明では、ウェハ保持具に更に多くのウェハ支持
部を設けることを妨げない。
In order to stably support a wafer, as shown in the above example, three wafer support portions 7A
7C is preferably provided to support the wafer at three points, but the present invention does not prevent the provision of more wafer support portions on the wafer holder.

【0089】また上記の例では、複数個設けられるウェ
ハ支持部のうちの一つのウェハ支持部にクランプ具を設
けたが、複数のウェハ支持部にそれぞれクランプ具を設
けるようにしてもよい。
In the above example, the clamp is provided on one of the plurality of wafer supports, but the clamp may be provided on each of the plurality of wafer supports.

【0090】[0090]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、少くと
も一つのウェハ支持部の径方向位置決め部をクランプ具
により構成して、ウェハ保持具を回転させる主軸の軸心
部を貫通させたクランプ駆動部材を通して電磁ソレノイ
ドの駆動力をクランプ具に伝達する構造にしたので、真
空吸引力を用いることなく、簡単な構造で、ウェハをク
ランプしたり、アンクランプしたりすることができると
いう利点が得られる。
As described above, according to the present invention, at least one of the radial positioning portions of the wafer support portion is constituted by the clamp tool, and the axial center portion of the main shaft for rotating the wafer holder is penetrated. The structure is such that the driving force of the electromagnetic solenoid is transmitted to the clamping device through the clamp driving member, which allows the wafer to be clamped and unclamped with a simple structure without using vacuum suction force. Is obtained.

【0091】また本発明によれば、電磁ソレノイドをク
ランプ装置の駆動源として用いたので、真空ポンプや真
空を供給するための配管及びバルブ類を設ける必要性を
なくして、装置の構成を簡単にし、装置の小形化を図る
ことができる。
Further, according to the present invention, since the electromagnetic solenoid is used as a driving source of the clamp device, the necessity of providing a vacuum pump, piping and valves for supplying vacuum is eliminated, and the configuration of the device is simplified. In addition, the size of the device can be reduced.

【0092】また本発明では、ウェハの外周面をクラン
プ具によりクランプするため、表裏両面の外周寄りの部
分にクランプ具を当接させることが許容されないウェハ
も問題なくクランプすることができる。
Further, in the present invention, since the outer peripheral surface of the wafer is clamped by the clamp, a wafer for which the clamp is not allowed to contact the outer peripheral portion on both the front and back surfaces can be clamped without any problem.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係わるノッチ合せ装置の一実施形態の
外観を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an appearance of an embodiment of a notch alignment device according to the present invention.

【図2】図1のノッチ合せ装置にウェハを保持させた状
態を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing a state where a wafer is held by the notch aligning device of FIG. 1;

【図3】図1のノッチ合せ装置に保持されたウェハを受
け取るためにロボットのハンドがノッチ合せ装置に向け
て移動する際の一過程を示した斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing one process when a robot hand moves toward the notch aligning device to receive a wafer held by the notch aligning device of FIG. 1;

【図4】ロボットのハンドを図1のノッチ合せ装置に保
持されたウェハの下に挿入した状態を示した斜視図であ
る。
4 is a perspective view showing a state where a hand of the robot is inserted under a wafer held by the notch aligning device of FIG. 1;

【図5】(A)及び(B)は、本発明の実施形態で用い
るウェハ支持部の構造を示した断面図である。
FIGS. 5A and 5B are cross-sectional views showing the structure of a wafer support used in the embodiment of the present invention.

【図6】(A)及び(B)はそれぞれ図5(B)のウェ
ハ支持部の構造を示した正面図及び平面図である。
6 (A) and (B) are a front view and a plan view, respectively, showing the structure of the wafer support section of FIG. 5 (B).

【図7】本発明の一実施形態において主軸を上昇させた
状態を示した縦断面図である。
FIG. 7 is a longitudinal sectional view showing a state where a main shaft is raised in one embodiment of the present invention.

【図8】本発明の一実施形態において主軸を下降させた
状態を示した縦断面図である。
FIG. 8 is a longitudinal sectional view showing a state where a main shaft is lowered in one embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施形態においてウェハをアンクラン
プした状態を、図6及び図7の断面に対して90度異な
る面で断面して示した縦断面図である。
FIG. 9 is a vertical cross-sectional view showing a state where the wafer is unclamped in the embodiment of the present invention by a plane which is different from the cross sections of FIGS. 6 and 7 by 90 degrees.

【図10】本発明の実施形態においてウェハをクランプ
した状態を、図7及び図8の断面に対して90度異なる
面で断面して示した縦断面図である。
FIG. 10 is a longitudinal sectional view showing a state in which the wafer is clamped in the embodiment of the present invention by a plane different from that of FIGS. 7 and 8 by 90 degrees.

【図11】図9の要部の拡大図である。FIG. 11 is an enlarged view of a main part of FIG. 9;

【図12】図10の要部の拡大図である。FIG. 12 is an enlarged view of a main part of FIG. 10;

【図13】(A)及び(B)はそれぞれ本実施形態でク
ランプ具に連結されたスライド板とクランプ駆動軸との
間に設ける変位変換機構の正面図及び側面図である。
FIGS. 13A and 13B are a front view and a side view of a displacement conversion mechanism provided between a slide plate connected to a clamp and a clamp drive shaft in the present embodiment, respectively.

【図14】本発明の実施形態で用いるクランプ駆動機構
の断面図である。
FIG. 14 is a sectional view of a clamp drive mechanism used in the embodiment of the present invention.

【図15】(A)は本発明の実施形態において主軸の上
限位置及び下限位置を検出するために用いる検出装置の
構成を示した正面図、(B)は本発明の実施形態におい
てクランプ具駆動装置に設ける可動板の上限位置及び下
限位置を検出するために用いる検出装置の構成を示した
要部の正面図である。
FIG. 15A is a front view showing a configuration of a detecting device used to detect an upper limit position and a lower limit position of a spindle in the embodiment of the present invention, and FIG. It is the front view of the principal part which showed the structure of the detection apparatus used for detecting the upper limit position and the lower limit position of the movable plate provided in an apparatus.

【図16】(A)及び(B)はそれぞれ本発明の実施形
態でクランプ具に連結されたスライド板とクランプ駆動
軸との間に設ける変位変換機構の変形例を示した縦断面
図及び横断面図である。
16A and 16B are a longitudinal sectional view and a cross-sectional view, respectively, showing a modification of a displacement conversion mechanism provided between a slide plate connected to a clamp and a clamp drive shaft in the embodiment of the present invention. FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ウェハのノッチ合せ装置、2…ウェハ、3…ロボッ
トのハンド、4…ハウジング、5…ウェハ保持具、6…
保持具本体、6A〜6C…保持具本体の腕部、7A〜7
C…ウェハ支持部、R…ウェハ受部、D…径方向位置決
め部、703…クランプ具、9A〜9C…ウェハ仮保持
具、11…固定フレーム、30…可動フレーム、14…
主軸、19…カップリング部材、25…回転駆動機構、
31…軸受、45…昇降機構、50…スライド板、52
…クランプ駆動軸、53…可動板、54…軸受、61…
変位変換機構、70…電磁ソレノイド、71…スライド
軸、73…バネ。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Wafer notch alignment apparatus, 2 ... Wafer, 3 ... Robot hand, 4 ... Housing, 5 ... Wafer holder, 6 ...
Main body of holder, 6A to 6C: arm portion of main body of holder, 7A to 7
C: Wafer support, R: Wafer receiving part, D: Radial positioning part, 703: Clamping tool, 9A to 9C: Wafer temporary holding tool, 11: Fixed frame, 30: Movable frame, 14 ...
Main shaft, 19: coupling member, 25: rotary drive mechanism,
31 ... bearing, 45 ... elevating mechanism, 50 ... slide plate, 52
... Clamp drive shaft, 53 ... Movable plate, 54 ... Bearing, 61 ...
Displacement conversion mechanism, 70: electromagnetic solenoid, 71: slide shaft, 73: spring.

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Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 円板状のウェハの外周部を周方向に間隔
を隔てた複数の位置で下方から受け止めて支持する複数
のウェハ支持部を有して垂直方向に伸びる主軸の上端に
中心部が取り付けられたウェハ保持具と、前記ウェハ保
持具を回転させるべく前記主軸を回転駆動する回転駆動
機構と、前記ウェハ保持具に保持されたウェハが前記ウ
ェハ保持具とともに回転する過程で該ウェハの外周に形
成されたノッチを検出するノッチセンサとを備えて、前
記ノッチセンサにより検出された前記ウェハのノッチの
位置を基準位置に合せる動作を行うウェハのノッチ合せ
装置において、 前記ウェハ保持具に設けられた各ウェハ支持部は、前記
ウェハの下面側外周縁部を下方から受け止めるウェハ受
部と該ウェハ受部により受け止められたウェハの外周面
に接して該ウェハを径方向に位置決めする径方向位置決
め部とを有し、 前記複数のウェハ支持部のうちの少なくとも一つに設け
られた径方向位置決め部は、支持すべきウェハの外周面
に当接して該ウェハをクランプした状態になるクランプ
位置と該クランプを解除した状態になるアンクランプ位
置との間をウェハの径方向に沿って変位し得るように設
けられたクランプ具からなり、 電磁ソレノイドの出力軸の変位を前記主軸の軸心部を貫
通させたクランプ駆動部材を通して前記クランプ具に伝
達して、前記クランプ具を前記クランプ位置とアンクラ
ンプ位置とに変位させるクランプ具駆動装置が設けられ
ていること、 を特徴とするウェハのノッチ合せ装置。
1. A center portion at an upper end of a vertically extending main shaft having a plurality of wafer supporting portions for receiving and supporting the outer peripheral portion of a disk-shaped wafer from below at a plurality of positions spaced apart in the circumferential direction. Is mounted, a rotation drive mechanism that rotates the main shaft to rotate the wafer holder, and a process of rotating the wafer held by the wafer holder together with the wafer holder. A notch sensor for detecting a notch formed on the outer periphery, the notch alignment device for a wafer performing an operation of aligning the position of the notch of the wafer detected by the notch sensor with a reference position, provided on the wafer holder Each of the wafer support portions is provided with a wafer receiving portion for receiving the outer peripheral edge of the lower surface of the wafer from below and an outer peripheral surface of the wafer received by the wafer receiving portion. A radial positioning portion for radially positioning the wafer, wherein the radial positioning portion provided on at least one of the plurality of wafer support portions contacts an outer peripheral surface of a wafer to be supported. An electromagnetic solenoid which is provided so as to be displaceable along a radial direction of the wafer between a clamp position where the wafer comes into contact with and clamps the wafer and an unclamping position where the clamp is released. A clamp tool driving device for transmitting the displacement of the output shaft to the clamp tool through a clamp drive member penetrating the shaft center of the main shaft, and displacing the clamp tool to the clamp position and the unclamping position. A notch aligning device for a wafer.
【請求項2】 円板状のウェハの外周部を下方から受け
止めて支持する少なくとも3つのウェハ支持部を等角度
間隔で有して垂直方向に伸びる主軸の上端に中心部が取
り付けられたウェハ保持具と、前記ウェハ保持具を回転
させるべく前記主軸を回転駆動する回転駆動機構と、前
記ウェハ保持具に保持されたウェハが前記ウェハ保持具
とともに回転する過程で該ウェハの外周に形成されたノ
ッチを検出するノッチセンサとを備えて、前記ノッチセ
ンサにより検出された前記ウェハのノッチの位置を基準
位置に合せる動作を行うウェハのノッチ合せ装置におい
て、 前記ウェハ保持具に設けられた各ウェハ支持部は、前記
ウェハの下面側外周縁部を下方から受け止めるウェハ受
部と該ウェハ受部により受け止められたウェハの外周面
に接して該ウェハを径方向に位置決めする径方向位置決
め部とを有し、 前記ウェハ保持具の少なくとも一つのウェハ支持部に設
けられた径方向位置決め部は、支持すべきウェハの外周
面に当接して該ウェハをクランプした状態になるクラン
プ位置と該クランプを解除した状態になるアンクランプ
位置との間をウェハの径方向に沿って変位し得る状態で
前記ウェハ保持具に支持されたクランプ具からなり、 前記主軸の軸心部をスライド自在に貫通した状態で設け
られて、前記主軸とともに回転し得るように支持された
クランプ駆動軸と、前記クランプ駆動軸の軸線方向の変
位を前記径方向の変位に変換して前記クランプ具に伝達
する変位伝達機構と、直線変位を生じる出力軸を有する
電磁ソレノイドと、前記クランプ具を前記クランプ位置
とアンクランプ位置とに変位させるべく、電磁ソレノイ
ドの出力軸の直線変位を前記クランプ駆動軸に伝達する
クランプ駆動機構とを備えたクランプ具駆動装置が設け
られていること、 を特徴とするウェハのノッチ合せ装置。
2. A wafer holding device having a central portion attached to an upper end of a vertically extending main shaft having at least three wafer supporting portions for receiving and supporting an outer peripheral portion of a disk-shaped wafer from below at equal angular intervals. Tool, a rotation drive mechanism for rotating the main shaft to rotate the wafer holder, and a notch formed on the outer periphery of the wafer in the process of rotating the wafer held by the wafer holder together with the wafer holder. A notch sensor for detecting a position of the notch of the wafer, the notch aligning device for performing an operation of aligning the position of the notch of the wafer detected by the notch sensor with a reference position, wherein each wafer supporting portion provided on the wafer holder A wafer receiving portion for receiving the lower peripheral edge of the lower surface of the wafer from below, and the wafer contacting the outer peripheral surface of the wafer received by the wafer receiving portion. A radial positioning portion for radially positioning c, wherein the radial positioning portion provided on at least one wafer support portion of the wafer holder abuts against an outer peripheral surface of a wafer to be supported, and And a clamp tool supported by the wafer holder in a state where the clamp tool can be displaced along the radial direction of the wafer between a clamp position where the clamp state is clamped and an unclamped position where the clamp is released. A clamp drive shaft provided so as to be slidably penetrating the axis of the main shaft, and supported so as to be able to rotate together with the main shaft; and converting the axial displacement of the clamp drive shaft into the radial displacement. A transmission mechanism for transmitting the clamp tool to the clamp tool, an electromagnetic solenoid having an output shaft for generating a linear displacement, and moving the clamp tool to the clamp position and the unclamping position. The purpose of displacing the bets, the clamp member driving device including a clamp drive mechanism for transmitting the linear displacement of the output shaft of the electromagnetic solenoid in the clamp drive shaft is provided, notch alignment device wafer according to claim.
【請求項3】 等角度間隔で放射状に設けられた3つの
腕部を有する保持具本体と該保持具本体の3つの腕部の
それぞれの先端に設けられて円板状のウェハの外周部を
下方から受け止めて支持する3つのウェハ支持部とを有
して、垂直方向に伸びる主軸の上端に前記保持具本体の
中心部が取り付けられたウェハ保持具と、前記ウェハ保
持具を回転させるべく前記主軸を回転駆動する回転駆動
機構と、前記ウェハ保持具に保持されたウェハが前記ウ
ェハ保持具とともに回転する過程で該ウェハの外周に形
成されたノッチを検出するノッチセンサとを備えて、前
記ノッチセンサにより検出された前記ウェハのノッチの
位置を基準位置に合せる動作を行うウェハのノッチ合せ
装置において、 前記ウェハ保持具に設けられた各ウェハ支持部は、前記
ウェハの下面側外周縁部を下方から受け止めるウェハ受
部と該ウェハ受部により受け止められたウェハの外周面
に接して該ウェハを径方向に位置決めする径方向位置決
め部とを有し、 前記ウェハ保持具の一つのウェハ支持部に設けられた径
方向位置決め部は、支持すべきウェハの外周面に当接し
て該ウェハをクランプするクランプ位置と該クランプを
解除するアンクランプ位置との間を径方向に沿って変位
可能なクランプ具からなり、 前記主軸の軸心部をスライド自在に貫通した状態で設け
られて、前記主軸とともに回転するように支持されたク
ランプ駆動軸と、前記主軸の軸線方向に沿った前記クラ
ンプ駆動軸の直線変位を前記径方向の変位に変換して前
記クランプ具に伝達する変位伝達機構と、直線変位を生
じる出力軸を有する電磁ソレノイドと、前記クランプ具
を前記クランプ位置とアンクランプ位置とに変位させる
べく前記電磁ソレノイドの出力軸の直線変位を前記クラ
ンプ駆動軸に伝達するクランプ駆動機構とを備えたクラ
ンプ具駆動装置が設けられていること、 を特徴とするウェハのノッチ合せ装置。
3. A holder main body having three arms provided radially at equal angular intervals, and an outer peripheral portion of a disk-shaped wafer provided at each end of the three arms of the holder main body. A wafer holder having three wafer supporting portions for receiving and supporting the holder from below, and a central portion of the holder main body attached to an upper end of a main shaft extending in a vertical direction; and a wafer holder for rotating the wafer holder. A rotating drive mechanism that rotationally drives a main shaft; and a notch sensor that detects a notch formed on the outer periphery of the wafer while the wafer held by the wafer holder rotates together with the wafer holder. In a wafer notch aligning device that performs an operation of aligning a position of a notch of the wafer detected by a sensor with a reference position, each wafer supporting portion provided on the wafer holder may include: A wafer receiving portion for receiving the outer peripheral edge of the lower surface side of the lower surface from below, and a radial positioning portion for radially positioning the wafer in contact with the outer peripheral surface of the wafer received by the wafer receiving portion; The radial positioning portion provided on one of the wafer support portions of the tool radially moves between a clamp position for abutting the outer peripheral surface of the wafer to be supported and clamping the wafer and an unclamping position for releasing the clamp. A clamp drive shaft, which is provided so as to be slidably penetrated through the axis of the main shaft and is supported so as to rotate with the main shaft, in the axial direction of the main shaft. An electromagnetic solenoid having a displacement transmission mechanism for converting a linear displacement of the clamp drive shaft along the same into the radial displacement and transmitting the displacement to the clamp tool, and an output shaft for producing a linear displacement And a clamp drive mechanism for transmitting a linear displacement of an output shaft of the electromagnetic solenoid to the clamp drive shaft so as to displace the clamp tool between the clamp position and the unclamping position. A notch aligning device for a wafer.
【請求項4】 前記変位伝達機構は、前記ウェハ保持具
に保持されるウェハの径方向にスライドし得るように前
記ウェハ保持具に支持されて一端が前記クランプ具に連
結されたスライド板と、前記主軸の上端から突出した前
記クランプ駆動軸の上端と前記スライド板の他端との間
に設けられて前記クランプ駆動軸の直線変位を前記径方
向の変位に変換して前記スライド板に伝達するリンク機
構とからなっている請求項2または3に記載のウェハの
ノッチ合せ装置。
4. A slide plate supported by the wafer holder so as to be slidable in a radial direction of a wafer held by the wafer holder and having one end connected to the clamp, wherein the displacement transmitting mechanism includes: The clamp drive shaft is provided between an upper end of the clamp drive shaft protruding from an upper end of the main shaft and the other end of the slide plate, and converts a linear displacement of the clamp drive shaft into a radial displacement and transmits the displacement to the slide plate. The wafer notch aligning device according to claim 2 or 3, comprising a link mechanism.
【請求項5】 前記主軸の軸線方向に沿って変位するよ
うに前記可動フレームにスライド自在に支持されたスラ
イド軸と、前記主軸の下端側に配置されて前記スライド
軸に連結された可動板とが設けられて、該可動板に前記
クランプ駆動軸の下端が軸受を介して回転自在に支持さ
れるとともに、前記電磁ソレノイドが励磁されたときに
前記クランプ具をアンクランプ位置側に変位させる方向
に前記クランプ駆動軸を駆動するべく前記電磁ソレノイ
ドの出力軸と前記スライド軸とを連結する連結部材と、
前記電磁ソレノイドが消勢されたときに前記クランプ具
をクランプ位置側に変位させるように前記可動板を付勢
するバネとが設けられて、前記スライド軸と、前記可動
板及び軸受と、前記連結部材と、前記バネとにより前記
クランプ駆動機構が構成されていること、 を特徴とする請求項4に記載のウェハのノッチ合せ装
置。
5. A slide shaft slidably supported by the movable frame so as to be displaced along an axial direction of the main shaft, and a movable plate disposed at a lower end of the main shaft and connected to the slide shaft. Is provided, the lower end of the clamp drive shaft is rotatably supported on the movable plate via a bearing, and the clamp tool is displaced toward the unclamping position when the electromagnetic solenoid is excited. A connecting member that connects the output shaft of the electromagnetic solenoid and the slide shaft to drive the clamp drive shaft;
A spring for urging the movable plate so as to displace the clamp tool toward the clamp position when the electromagnetic solenoid is deenergized; provided with the slide shaft, the movable plate and the bearing, The wafer notch aligning device according to claim 4, wherein the member and the spring constitute the clamp drive mechanism.
【請求項6】 軸線を垂直方向に向けた状態で固定フレ
ームに回転自在に支持された回転体と、 前記回転体の軸心部を貫通した状態で設けられて前記回
転体にスプラインを介してスラスト自在に結合されると
ともに垂直方向に変位し得るように設けられた可動フレ
ームに軸受を介して回転自在に支持された主軸と、 等角度間隔で放射状に設けられた3つの腕部を有して前
記主軸の上端に中心部が取り付けられた保持具本体と、
前記保持具本体の3つの腕部のそれぞれの先端に設けら
れたウェハ支持部とを備えていて、各ウェハ支持部が、
円板状のウェハの下面側外周縁部を下方から受け止める
ウェハ受部と該ウェハの外周面に接して該ウェハを径方
向に位置決めする径方向位置決め部とを有しているウェ
ハ保持具と、 前記ウェハ保持具を前記主軸とともに回転させるべく前
記回転体を回転駆動する回転駆動機構と、 前記可動フレームを前記主軸とともに上下方向に駆動す
る昇降機構と、 前記ウェハ保持具が前記主軸とともに下降したときに該
ウェハ保持具に保持されているウェハを受け取って該ウ
ェハの外周部を仮保持する少くとも3つのウェハ仮保持
具と、 前記ウェハ保持具に保持されたウェハが該ウェハ保持具
とともに回転する過程で該ウェハの外周部に形成されて
いるノッチを検出するノッチセンサと、 を具備し、 前記ウェハ保持具の一つのウェハ支持部に設けられた径
方向位置決め部は、支持すべきウェハの外周面に当接し
て該ウェハをクランプするクランプ位置と該クランプを
解除するアンクランプ位置との間を径方向に沿って変位
可能な状態で前記保持具本体に支持されたクランプ具か
らなり、 前記主軸の軸心部をスライド自在に貫通した状態で設け
られて、前記主軸にスプラインを介して結合されたクラ
ンプ駆動軸と、前記クランプ駆動軸のスラスト方向の直
線変位を前記径方向の変位に変換して前記クランプ具に
伝達する変位伝達機構と、直線変位を生じる出力軸を備
えた電磁ソレノイドと、前記クランプ具を前記クランプ
位置とアンクランプ位置とに変位させるべく前記電磁ソ
レノイドの出力軸の直線変位を前記クランプ駆動軸に伝
達するクランプ駆動機構とを備えたクランプ具駆動装置
が更に設けられていること、 を特徴とするウェハのノッチ合せ装置。
6. A rotating body rotatably supported by a fixed frame with its axis oriented in a vertical direction; and a rotating body provided through a shaft of the rotating body through a spline. It has a main shaft rotatably supported via bearings on a movable frame provided so as to be freely displaceable in the thrust and capable of being displaced in the vertical direction, and has three arms provided radially at equal angular intervals. A holder body having a central portion attached to the upper end of the main shaft,
A wafer support provided at each of the distal ends of the three arms of the holder main body, wherein each wafer support is
A wafer holder having a wafer receiving portion that receives the lower peripheral edge of the lower surface of the disc-shaped wafer from below, and a radial positioning portion that contacts the outer peripheral surface of the wafer and radially positions the wafer; A rotation drive mechanism for rotating the rotating body to rotate the wafer holder together with the main shaft, an elevating mechanism for driving the movable frame in the vertical direction together with the main shaft, and when the wafer holder is lowered together with the main shaft. And at least three temporary wafer holders for receiving the wafer held by the wafer holder and temporarily holding the outer periphery of the wafer, and the wafer held by the wafer holder rotating together with the wafer holder. A notch sensor for detecting a notch formed on the outer peripheral portion of the wafer in the process, and provided on one of the wafer holders of the wafer holder. The radial positioning portion is configured to be capable of displacing along the radial direction between a clamp position for abutting an outer peripheral surface of a wafer to be supported and clamping the wafer and an unclamping position for releasing the clamp, and A clamp tool supported by a main body, provided in a state where the shaft portion of the main shaft is slidably penetrated, and a clamp drive shaft coupled to the main shaft via a spline; and a thrust direction of the clamp drive shaft. A displacement transmission mechanism that converts the linear displacement of the clamp into the radial displacement and transmits the displacement to the clamp tool, an electromagnetic solenoid having an output shaft that generates a linear displacement, and moving the clamp tool to the clamp position and the unclamping position. And a clamp drive mechanism for transmitting a linear displacement of the output shaft of the electromagnetic solenoid to the clamp drive shaft for displacement. It is provided, notch alignment device wafer according to claim.
【請求項7】 前記変位伝達機構は、前記ウェハ保持具
に保持されるウェハの径方向にスライドし得るように前
記保持具本体に支持されて一端が前記クランプ具に連結
されたスライド板と、前記主軸の上端から突出した前記
クランプ駆動軸の上端と前記スライド板の他端との間に
設けられて前記クランプ駆動部材の直線変位を前記径方
向の変位に変換して前記スライド板に伝達するリンク機
構とからなっている請求項6に記載のウェハのノッチ合
せ装置。
7. A slide plate supported by the holder main body so as to be slidable in a radial direction of a wafer held by the wafer holder and one end of which is connected to the clamp, wherein the displacement transmitting mechanism includes: A linear displacement of the clamp driving member, which is provided between an upper end of the clamp drive shaft protruding from an upper end of the main shaft and the other end of the slide plate, is converted into the radial displacement and transmitted to the slide plate. The wafer notch aligning apparatus according to claim 6, comprising a link mechanism.
【請求項8】 前記主軸の軸線方向に沿って変位するよ
うに前記可動フレームにスライド自在に支持されたスラ
イド軸と、前記主軸の下端側に配置されて前記スライド
軸に連結された可動板とが設けられて、該可動板に前記
クランプ駆動軸の下端が軸受を介して回転自在に支持さ
れるとともに、前記電磁ソレノイドが励磁されたときに
前記クランプ具をアンクランプ位置側に変位させる方向
に前記クランプ駆動軸を駆動するべく前記電磁ソレノイ
ドの出力軸と前記スライド軸とを連結する連結部材と、
前記電磁ソレノイドが消勢されたときに前記クランプ具
をクランプ位置側に変位させるように前記可動板を付勢
するバネとが設けられて、 前記スライド軸と、前記可動板及び軸受と、前記連結部
材と、前記バネとにより前記クランプ駆動機構が構成さ
れていること、 を特徴とする請求項6または7に記載のウェハのノッチ
合せ装置。
8. A slide shaft slidably supported by the movable frame so as to be displaced along an axial direction of the main shaft, and a movable plate disposed at a lower end of the main shaft and connected to the slide shaft. Is provided, the lower end of the clamp drive shaft is rotatably supported on the movable plate via a bearing, and the clamp tool is displaced toward the unclamping position when the electromagnetic solenoid is excited. A connecting member that connects the output shaft of the electromagnetic solenoid and the slide shaft to drive the clamp drive shaft;
A spring for urging the movable plate so as to displace the clamp tool toward the clamp position when the electromagnetic solenoid is deenergized; wherein the slide shaft, the movable plate and the bearing, 8. The wafer notch aligning apparatus according to claim 6, wherein the clamp driving mechanism is configured by a member and the spring.
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