JP2694164B2 - Plate-like holding device - Google Patents

Plate-like holding device

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JP2694164B2
JP2694164B2 JP63094967A JP9496788A JP2694164B2 JP 2694164 B2 JP2694164 B2 JP 2694164B2 JP 63094967 A JP63094967 A JP 63094967A JP 9496788 A JP9496788 A JP 9496788A JP 2694164 B2 JP2694164 B2 JP 2694164B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、半導体ウエハ等の板状体をホールドピンに
係止し、サセプターとチャック部との間にこの板状体を
挟持して保持する板状体の保持装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Object of the Invention (Industrial field of application) The present invention holds a plate-like body such as a semiconductor wafer on a hold pin so that the plate-like body is provided between a susceptor and a chuck portion. The present invention relates to a plate-shaped body holding device that holds and holds a plate.

(従来の技術) この種の板状体の保持装置として、CVDやエッチング
等を行う真空処理装置に適用されるものを一例として挙
げることができる。
(Prior Art) As an example of this type of plate-shaped holding device, a device applied to a vacuum processing apparatus that performs CVD, etching, or the like can be given.

この真空処理装置でのウエハ保持装置について第8
図,第9図を参照して説明する。
About the wafer holding device in this vacuum processing device
This will be described with reference to FIGS.

第8図(A),(B)において、このウエハ保持装置
は、ウエハ1を保持するサセプター2と、このサセプタ
ー2に対して、エアーシリンダ3の駆動によってその対
向間距離を可変自在なウエハチャック4と、前記サセプ
ター2に対してエアーシリンダ5によって挿脱され、前
記ウエハ1の下を係止するホルダーピン6と、前記ウエ
ハ1をサセプター2とウエハチャック4との間に移動さ
せる突き上げブレード7とを有している。
8 (A) and 8 (B), this wafer holding device includes a susceptor 2 that holds a wafer 1, and a wafer chuck that can change the distance between the susceptors 2 facing each other by driving an air cylinder 3 with respect to the susceptor 2. 4, a holder pin 6 that is inserted into and removed from the susceptor 2 by an air cylinder 5 and locks the bottom of the wafer 1, and a push-up blade 7 that moves the wafer 1 between the susceptor 2 and the wafer chuck 4. And have.

そして、ウエハ1をサセプター2にチャックするにあ
たり、まず、前記ウエハ1を突き上げブレード7上に垂
直に載せ(第9図(A)参照)、この突き上げブレード
7を上方に移動して、前記サセプター2とウエハチャッ
ク4との間にウエハ1を位置させる(第9図(B)参
照)。
When chucking the wafer 1 to the susceptor 2, first, the wafer 1 is vertically placed on the push-up blade 7 (see FIG. 9A), and the push-up blade 7 is moved upward to move the susceptor 2 The wafer 1 is positioned between and the wafer chuck 4 (see FIG. 9 (B)).

次に、エアーシリンダ5によって前記ホルダーピン6
を突き出し、支持溝8がウエハ1の下方にきた位置で待
機する。次に前記突き上げブレード7を下降させて、ウ
エハ1をホールドピン6の支持溝8内に係合させ支持す
る(第9図(C)参照)。
Next, the holder pin 6 is moved by the air cylinder 5.
And stands by at the position where the support groove 8 is located below the wafer 1. Next, the push-up blade 7 is lowered to engage and support the wafer 1 in the support groove 8 of the hold pin 6 (see FIG. 9C).

この後、前記ウエハチャック4とホールドピン6とを
エアーシリンダ3,5の駆動によりサセプター2側に移動
させ、第9図(D)に示すように、前記ウエハ1をサセ
プター2とチャック4との間に挟持することで、ウエハ
1の保持動作が終了する事になる。この後、真空処理装
置での処理を実行し、サセプター2からのウエハ1の離
脱作用は、上述した保持動作と逆の手順によって実行す
るようになっている。
Thereafter, the wafer chuck 4 and the hold pin 6 are moved to the susceptor 2 side by driving the air cylinders 3 and 5, and the wafer 1 is separated from the susceptor 2 and the chuck 4 as shown in FIG. The holding operation of the wafer 1 is completed by sandwiching it between them. After that, the processing in the vacuum processing apparatus is performed, and the detaching action of the wafer 1 from the susceptor 2 is performed by the procedure reverse to the holding operation described above.

(発明が解決しようとする問題点) 上述した従来の保持装置によれば、前記チャック4の
駆動用エアーシリンダ3が3個、ホルダーピン6の駆動
用のエアーシリンダ5が2個必要であり、計5個のエア
ーシリンダを有するので、構造の複雑化,装置の大型化
及び重量の増大化を招き、製造コストも高いという問題
があった。
(Problems to be Solved by the Invention) According to the above-described conventional holding device, three air cylinders 3 for driving the chuck 4 and two air cylinders 5 for driving the holder pin 6 are required, Since there are a total of five air cylinders, there is a problem that the structure becomes complicated, the size of the device becomes large, and the weight increases, and the manufacturing cost is high.

また、真空処理装置に適用される保持機構では、前記
エアーシリンダーを用いる場合には、リーク防止対策を
各エアーシリンダ毎に設ける必要があり、エアーシリン
ダの数が多くなるほどこの対策が煩雑となっていた。
Further, in the holding mechanism applied to the vacuum processing apparatus, when the air cylinder is used, it is necessary to provide a leak prevention measure for each air cylinder, and this measure becomes complicated as the number of air cylinders increases. It was

さらには、前記チャック4で保持する前のウエハ1の
支持をホールドピン6だけで実行しており、前記ホール
ドピン6の形状が単なる凹形状であるので、ウエハ1が
サセプター2又はチャック4側のいずれかに倒れてしま
うという恐れがあった。
Furthermore, since the wafer 1 before being held by the chuck 4 is supported only by the hold pins 6, and the shape of the hold pins 6 is simply concave, the wafer 1 is held on the side of the susceptor 2 or the chuck 4. There was a fear that one of them would fall.

そこで、本発明の目的とするところは、上述した従来
の問題点を解決し、構造が簡易であって、装置の小型化
および軽量化を図ることができる板状体の保持装置を提
供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a plate-shaped body holding device which solves the above-mentioned conventional problems, has a simple structure, and can achieve downsizing and weight saving of the device. It is in.

[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 請求項1に記載の発明は、板状体の片面に当接可能な
サセプターと、前記板状体の他の片面に当接し、前記サ
セプターとの対向間距離を相対的に可変自在なチャック
部と、前記サセプターと前記チャック部との間にて、前
記板状体の下端を係止するホールドピンと、を有し、こ
の板状体をホールドピンに係止した状態で、前記サセプ
ターと前記チャック部との間に挟持して保持する板状体
の保持装置において、前記サセプターと前記チャック部
との対向間距離を可変する一軸の駆動源と、この駆動源
に基づく両部材の位置関係に連動して、前記ホールドピ
ンを前記サセプターに対して移動自在に支持する支持機
構とを有することを特徴とする。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The invention according to claim 1 is such that the susceptor capable of contacting one surface of the plate-shaped body and the other surface of the plate-shaped body are in contact with each other, and The plate-shaped body has a chuck part that can relatively change the facing distance to the susceptor, and a hold pin that locks the lower end of the plate-shaped body between the susceptor and the chuck part. In a holding device of a plate-like body which is sandwiched and held between the susceptor and the chuck portion in a state where the susceptor and the chuck portion are locked, a uniaxial drive that varies a facing distance between the susceptor and the chuck portion. And a support mechanism that movably supports the hold pin with respect to the susceptor in conjunction with the positional relationship between the two members based on the drive source.

請求項2に記載の発明は、板状体の片面に当接可能な
サセプターと、前記板状体の他の片面に当接し、前記サ
セプターとの対向間距離を相対的に可変自在なチャック
部と、前記サセプターと前記チャック部との間にて、前
記板状部を支持する支持手段と、を有し、この板状体を
前記支持手段に支持した状態で、前記サセプターと前記
チャック部との間に挟持して保持する板状体の保持装置
において、前記サセプターと前記チャック部との対向間
距離を可変する一軸の駆動源と、この駆動源に基づく両
部材の位置関係に連動して、前記支持手段を前記サセプ
ターに対して移動自在に支持する支持機構と、を有する
ことを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, a susceptor capable of abutting on one surface of a plate-shaped body and a chuck portion abutting on the other surface of the plate-shaped body and capable of relatively varying a facing distance with the susceptor. And a support means for supporting the plate-shaped portion between the susceptor and the chuck portion, and the susceptor and the chuck portion with the plate-shaped body supported by the support means. In a holding device of a plate-like body that is sandwiched and held between, a uniaxial drive source that varies a facing distance between the susceptor and the chuck portion, and a positional relationship between both members based on the drive source. A supporting mechanism that movably supports the supporting means with respect to the susceptor.

請求項3に記載の発明は、板状体の片面に当接可能な
サセプターと、前記板状体の他の片面に当接し、前記サ
セプターとの対向間距離を相対的に可変自在なチャック
部と、前記サセプターと前記チャック部との間にて、前
記板状部を支持する支持手段と、を有し、この板状体を
前記支持手段に支持した状態で、前記サセプターと前記
チャック部との間に挟持して保持する板状体の保持装置
において、前記サセプターを一軸方向に移動させる一軸
の駆動源と、前記駆動源に基づく前記サセプターの位置
と連動して、前記サセプターに対して前記チャック部を
移動自在に支持する第1の支持機構と、前記駆動源に基
づく前記サセプターの位置と連動して、前記サセプター
に対して前記支持手段を移動自在に支持する第2の支持
機構と、を有することを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, a susceptor capable of abutting on one surface of a plate-shaped member and a chuck portion abutting on the other surface of the plate-shaped member and capable of relatively varying a facing distance between the susceptor and the susceptor. And a support means for supporting the plate-shaped portion between the susceptor and the chuck portion, and the susceptor and the chuck portion with the plate-shaped body supported by the support means. In a holding device of a plate-like body that is sandwiched and held between, a uniaxial drive source that moves the susceptor in a uniaxial direction, and a position of the susceptor based on the drive source, in association with the susceptor, A first support mechanism for movably supporting the chuck portion, and a second support mechanism for movably supporting the support means with respect to the susceptor in association with the position of the susceptor based on the drive source, Having The features.

請求項1に記載の発明において、駆動源はサセプター
を一軸方向に駆動するものであり、かつ、前記チャック
部をサセプターに当接する側に常時付勢する付勢部材
と、前記チャック部の移動経路途中で当接して、チャッ
ク部の移動を規制するストッパーとを有し、前記チャッ
ク部がストッパーに当接した後は、前記付勢部材の付勢
力に抗してサセプターとチャック部との対向間距離を可
変とする構成が好ましい。
In the invention according to claim 1, the drive source drives the susceptor in one axial direction, and a biasing member that constantly biases the chuck portion toward the side in contact with the susceptor, and a movement path of the chuck portion. After the chuck portion comes into contact with the stopper, the contact between the susceptor and the chuck portion is opposed to each other against the urging force of the urging member. A configuration in which the distance is variable is preferable.

また、ピン支持機構は、前記サセプターに対して前記
一軸方向で前記ホールドピンを移動自在に支持するガイ
ド部材と、このホールドピンをサセプターより突出する
方向に常時付勢する付勢部材とで構成することが好まし
い。
The pin support mechanism includes a guide member that movably supports the hold pin in the uniaxial direction with respect to the susceptor, and a biasing member that constantly biases the hold pin in a direction projecting from the susceptor. It is preferable.

さらに、前記サセプター,チャック部間に突き上げ移
動される前記板状体の上端に当接して係止し、かつ、前
記突き上げ方向に移動自在なホルダーを具備するものが
好ましい。
Further, it is preferable that a holder is provided between the susceptor and the chuck portion so as to come into contact with and engage with the upper end of the plate-like body which is pushed up and moved, and is movable in the push-up direction.

(作用) 請求項1から3に記載の各発明によれば、前記サセプ
ター又はチャック部のいずれか一方を駆動する一軸の駆
動源によって、このサセプター、チャック部の対向間距
離を可変としているので、従来のように独立駆動源を有
するものに比べれば、装置の小型、軽量化を図ることが
でき、しかも、この一軸の駆動源によるサセプター、チ
ャック部間の位置関係に応じて、前記ホールドピン又は
支持手段の位置を変えられるようになっているので、よ
り一層の省力化及び構成の簡易化を図ることができる。
(Operation) According to the inventions of claims 1 to 3, since the uniaxial drive source that drives either one of the susceptor or the chuck portion, the distance between the facing surfaces of the susceptor and the chuck portion is variable. Compared with the conventional one having an independent drive source, the size and weight of the device can be reduced, and moreover, depending on the positional relationship between the susceptor and the chuck portion by this one-axis drive source, the hold pin or Since the position of the supporting means can be changed, further labor saving and simplification of the configuration can be achieved.

また、請求項3に記載の発明では、一軸の駆動源によ
って、チェック部を移動自在に支持する第1の支持機構
と、支持手段を移動自在に支持する第2の支持機構と、
がサセプターの位置と連動することで、チャック部及び
支持手段のサセプターに対する各位置関係の可変が自在
である。
Further, in the invention according to claim 3, a first supporting mechanism that movably supports the check portion by a uniaxial drive source, and a second supporting mechanism that movably supports the supporting means,
By interlocking with the position of the susceptor, it is possible to change the positional relationship of the chuck portion and the supporting means with respect to the susceptor.

(実施例) 以下、本発明を半導体ウエハの真空処理装置に具備さ
れるウエハ保持装置に適用した一実施例について、図面
を参照して具体的に説明する。
(Embodiment) An embodiment in which the present invention is applied to a wafer holding device provided in a semiconductor wafer vacuum processing apparatus will be specifically described with reference to the drawings.

第1図(A),(B)において、サセプター10は、板
状体の一例であるウエハ20の片面と当接し、これを保持
するもので、同図(A)の矢印A又はB方向に沿って、
例えばボールスクリュー等の直線駆動機構によって移動
自在となっている。
In FIGS. 1A and 1B, a susceptor 10 contacts and holds one side of a wafer 20, which is an example of a plate-shaped body, and holds it in the direction of arrow A or B in FIG. Along,
For example, it can be moved by a linear drive mechanism such as a ball screw.

尚、前記ウエハ20は、図示しない昇降機構によって、
第1図(A)の図示矢印C方向に移動されるようになっ
ている。
The wafer 20 is moved by an elevator mechanism (not shown).
It is adapted to be moved in the direction of arrow C in FIG. 1 (A).

前記サセプター10には、円周方向で3等分される各位
置に設けられたチャック支持機構30を介して移動自在に
取り付けられたチャック部40が設けられている。
The susceptor 10 is provided with a chuck portion 40 that is movably attached via a chuck support mechanism 30 provided at each position divided into three in the circumferential direction.

このチャック部40は、前記ウエハ20の緑辺に当接可能
なウエハチャック用爪41を具備し、前記サセプター10と
このチャック用爪41との間で前記ウエハ20を挟持できる
ようになっていて、この挟持によって前記ウエハ20をサ
セプター10に保持するようになっている。
The chuck section 40 is provided with a wafer chuck claw 41 that can come into contact with the green side of the wafer 20, and the wafer 20 can be sandwiched between the susceptor 10 and the chuck claw 41. The wafer 20 is held by the susceptor 10 by this holding.

また、前記チャック部40は、前記ウエハチャック爪41
を支持するリング状のチャックフレーム42を前記サセプ
ター10の外周に有している。
In addition, the chuck section 40 includes the wafer chuck claw 41.
A ring-shaped chuck frame 42 for supporting the susceptor 10 is provided on the outer circumference of the susceptor 10.

前記チャック支持機構30は、第2図(A)および
(B)に示すように、前記サセプター10に固着しベアリ
ングホルダー12に封入されているベアリング11に挿通自
在に挿通されるサポートロッド35を有し、このサポート
ロッド35の先端は前記チャックフレーム42に固着されて
いる。
As shown in FIGS. 2 (A) and 2 (B), the chuck support mechanism 30 has a support rod 35 which is fixedly attached to the susceptor 10 and is insertably inserted into the bearing 11 enclosed in the bearing holder 12. The tip of the support rod 35 is fixed to the chuck frame 42.

また、前記サポートロッド35を中心にその両側には第
2図(A)に示す通り、チャックフレーム42に対して、
スプリングガイト32がベアリングホルダー12に挿通自在
に取付けられ、このスプリングガイド32と、前記ベアリ
ングホルダー12との間に圧縮コイルスプリング33を配置
している。
Further, as shown in FIG. 2 (A) on both sides of the support rod 35 with respect to the chuck frame 42,
A spring guide 32 is attached to the bearing holder 12 so as to be insertable therein, and a compression coil spring 33 is arranged between the spring guide 32 and the bearing holder 12.

この結果、前記チャック用爪41は、前記サセプター10
に当接する方向に常時付勢されるようになっている。こ
の結果、前記チャック部10はサセプター10と一体移動が
可能となっている。又、サポートロッド35の前記チャッ
クフレーム42に固着されている以外の他の一端は前記ベ
アリングホルダー12より突出している。
As a result, the chuck claws 41 are attached to the susceptor 10.
Is always urged in the direction of abutting against. As a result, the chuck portion 10 can move integrally with the susceptor 10. Further, one end of the support rod 35 other than being fixed to the chuck frame 42 projects from the bearing holder 12.

そして、前記サポートロッド35の後端と対向する位置
には、このサポートロッド35と当接してその移動を停止
させるストッパー14が設けられている。この結果、前記
サセプター10が第1図(A)の矢印A方向に移動する際
には、前記チャック部40はサセプター10と共に移動する
ことになるが、矢印B方向に復帰移動する場合では、前
記サポートロッド35がストッパー14に当接前は同様であ
るが、当接後は前記ストッパー14によってチャック部40
の移動が規制され、サセプター10のみが後退するように
なっている。
A stopper 14 is provided at a position facing the rear end of the support rod 35 so as to come into contact with the support rod 35 and stop the movement thereof. As a result, when the susceptor 10 moves in the direction of arrow A in FIG. 1 (A), the chuck 40 moves together with the susceptor 10, but in the case of returning movement in the direction of arrow B, The support rod 35 is the same as before the contact with the stopper 14, but after the contact, the chuck portion 40 is moved by the stopper 14.
Is restricted so that only the susceptor 10 is retracted.

次に、前記サセプター10とチャック部40との間でウエ
ハ20を保持する機構について説明する。
Next, a mechanism for holding the wafer 20 between the susceptor 10 and the chuck section 40 will be described.

まず、第1図(A)および(B)に示すようにウエハ
20の下端を支持するために、ウエハホールドピン50が前
記サセプター10の2箇所に配置されている。
First, as shown in FIGS. 1A and 1B, the wafer
Wafer hold pins 50 are provided at two locations on the susceptor 10 to support the lower end of the 20.

このウエハホールドピン50は、第4図(A)に示す通
り前記サセプター10より突出する一端側にウエハ20を支
持可能なシャンク部50aを具備し、かつ、その軸部を前
記サセプター10に形成したホールド部15a,15bに挿通す
ることで、軸方向に移動自在に支持されている。そし
て、前記一方のホールド部15bと前記ウエハホールドピ
ン50の中間部に形成したショルダー51との間には、圧縮
コイルスプリング52が挿通して配置され、前記ウエハホ
ールドピン50の前記サセプター10より常時突出するよう
に付勢している。
As shown in FIG. 4A, the wafer hold pin 50 has a shank portion 50a capable of supporting the wafer 20 on one end side protruding from the susceptor 10, and the shaft portion thereof is formed on the susceptor 10. It is supported so as to be movable in the axial direction by being inserted into the hold portions 15a and 15b. A compression coil spring 52 is inserted between the one hold portion 15b and a shoulder 51 formed in the intermediate portion of the wafer hold pin 50 so that the compression coil spring 52 is always provided from the susceptor 10 of the wafer hold pin 50. It is urged to project.

また、前記ホールド部15bと対向する位置には、フラ
ンジ53aが形成されているボス53がウエハホールドピン5
0に固着されている。さらに前記ボス53には、フランジ5
3aと対向する他の一端にもフランジ53bが形成されてい
る。
In addition, a boss 53 having a flange 53a is formed at a position facing the hold portion 15b.
Fixed to 0. Further, the boss 53 has a flange 5
A flange 53b is also formed at the other end opposite to 3a.

この結果、前記サセプター10が第4図の矢印B方向に
移動すると、当初はサセプター10の移動に拘らず前記ス
プリング52の付勢力によって前記ウエハホールドピン50
はチャック41に対しその位置を変えずに停止(第4図
(A)→(B))されているが、前記サセプター10が前
記フランジ53aと当接することによって、サタプター10
と共にウエハホールドピン50が図示B方向に移動される
ことになる(第4図(B)→(C)→(D)の順)。
As a result, when the susceptor 10 moves in the direction of arrow B in FIG. 4, the wafer hold pin 50 is initially urged by the biasing force of the spring 52 regardless of the movement of the susceptor 10.
Is stopped without changing its position with respect to the chuck 41 (FIG. 4 (A) → (B)), but when the susceptor 10 contacts the flange 53a, the susceptor 10
At the same time, the wafer hold pin 50 is moved in the direction B in the figure (in the order of FIG. 4B → C → D).

そして、前記サセプター10の図示A方向の移動(第4
図(D)→(C)→(B)の順)により当初はウエハー
ホールドピン50がサセプター10と共に移動するが、前記
フランジ53bがストッパー43に当接した後は、前記ウエ
ハホールドピン50の突出を規制するようになっている
(第4図(B)→(A))。
Then, the movement of the susceptor 10 in the direction A in the figure (fourth
Initially, the wafer hold pins 50 move together with the susceptor 10 as shown in the order of (D) → (C) → (B). However, after the flange 53b contacts the stopper 43, the wafer hold pins 50 project. Are regulated (FIG. 4 (B) → (A)).

次に、前記ウエハ20の上端を保持する機構について説
明する。
Next, a mechanism for holding the upper end of the wafer 20 will be described.

ウエハ20の上端を保持する機構として、第1図(A)
の矢印D方向に揺動自在でかつ矢印A及びB方向に移動
自在なウエハホルダー60が設けられている。
A mechanism for holding the upper end of the wafer 20 is shown in FIG.
There is provided a wafer holder 60 which is swingable in the arrow D direction and movable in the arrow A and B directions.

このウエハホルダー60は下記のようにして支持されて
いる。すなわち、第3図(A)において前記サセプター
10の一部には2本のスライダーガイド16,16が固着さ
れ、このスライダーガイド16,16にはスライダー62がス
ライダーガイド16の軸方向に移動自在に支持されてい
る。前記スライダーガイド16,16の後端にはリテーナー1
7,17が固着され、前記スライダー62とリテーナー17,17
との間には、前記スライダーガイド16,16に挿通されて
圧縮コイルスプリング63,63が配置され、常にスライダ
ーガイド62に対し矢印A方向に付勢している。
The wafer holder 60 is supported as follows. That is, in FIG. 3 (A), the susceptor
Two slider guides 16 and 16 are fixed to a part of the slider 10, and a slider 62 is supported on the slider guides 16 and 16 so as to be movable in the axial direction of the slider guide 16. A retainer 1 is provided at the rear end of the slider guides 16, 16.
7,17 are fixed, the slider 62 and retainer 17,17
The compression coil springs 63, 63 are inserted between the slider guides 16 and 16 and are urged to the slider guide 62 in the direction of arrow A at all times.

また、前記スライダー62の中央に設けられている孔65
と、前記サセプター10のフランジ上に前記孔65とに対向
する位置に孔66が設けられ、これら孔65と66にホルダー
ガイド18が軸方向に移動自在に挿通されている。ホルダ
ーガイド18には、前記サセプター10に当接するようにポ
ジションカラー19aが挿通自在に挿通され、このポジシ
ョンカラー19aと前記スライダー62との間には、前記ホ
ルダーガイド18に挿通されてスライダー62を常時矢印B
方向に付勢するようにポジショニングスプリング19bが
配置されている。
In addition, a hole 65 provided at the center of the slider 62.
A hole 66 is provided on the flange of the susceptor 10 at a position facing the hole 65, and the holder guide 18 is inserted into the holes 65 and 66 so as to be axially movable. A position collar 19a is inserted through the holder guide 18 so as to come into contact with the susceptor 10, and between the position collar 19a and the slider 62, the position guide 19a is inserted through the holder guide 18 and the slider 62 is always inserted. Arrow B
The positioning spring 19b is arranged so as to bias in the direction.

ポジショニングスプリング19bをはさみポジションカ
ラー19aと反対側のホルダーガイド18の端部には、ポジ
ショニングスプリング19bの力によりスライダー62と当
接してボス21が固着されている。
A boss 21 is fixed to the end of the holder guide 18 on the side opposite to the position collar 19a with the positioning spring 19b in between, by contacting the slider 62 by the force of the positioning spring 19b.

そして、前記ウエハホルダー60は、支持端側をコ字状
の揺動片61とし、この揺動片61の端部を前記スライダー
62に対してピン64によって揺動自在に支持され、常時は
ウエハホルダー60は自重により下方に付勢するように支
持される。
The wafer holder 60 has a swinging piece 61 having a U-shape on the support end side, and the end portion of the swinging piece 61 is the slider.
The pins 64 are swingably supported by the pins 64, and the wafer holder 60 is normally supported so as to be urged downward by its own weight.

このため、ウエハホルダー60の支持されていない他方
の端部は落下する方向に回転運動を生じるが、前記ホル
ダーガイド18の先端部に設けられた小径部18bにより水
平に支持される。
Therefore, the other unsupported end of the wafer holder 60 causes a rotational motion in the falling direction, but is horizontally supported by the small diameter portion 18b provided at the tip of the holder guide 18.

以上により、ウエハホルダー60、スライダー62、ウエ
ハホルダー60は、同時にスライドが可能にもなってい
る。
As described above, the wafer holder 60, the slider 62, and the wafer holder 60 can be slid at the same time.

尚、前記ボス21の両端にはそれぞれフランジ21a,21b
が成形されており、前記チャックフレーム42に固着され
たストッパー44に当接可能となっていて、このチャック
フレーム42との位置関係で、前記ウエハホールダー60が
第1図(A)の図示B方向の所定位置以上に後退しない
ように規制されている(第3図(E)〜(J)参照)。
In addition, flanges 21a and 21b are provided on both ends of the boss 21, respectively.
Is formed so that it can come into contact with a stopper 44 fixed to the chuck frame 42, and the wafer holder 60 can be moved in the direction B shown in FIG. Is regulated so as not to retract beyond the predetermined position (see FIGS. 3 (E) to (J)).

次に、作用について第5図の動作説明図をも参照して
説明する。
Next, the operation will be described with reference to the operation explanatory diagram of FIG.

尚、第5図の基準線Lは、ウエハ20を突き上げる際の
ウエハ20の左側の面と一致している。
The reference line L in FIG. 5 coincides with the left side surface of the wafer 20 when the wafer 20 is pushed up.

以下、真空処理装置での処理が終了し、ウエハ20をサ
セプター10より取り外す動作について説明する。
The operation of removing the wafer 20 from the susceptor 10 after the processing in the vacuum processing apparatus is completed will be described below.

真空処理する状態では、同図(A)に示すように、ウ
エハ20はサセプター10とチャック部40との間に挟持され
た状態となっており、この状態でサセプター10とチャッ
ク部40とを一体的に図示B方向に移動する(第5図
(A)参照)。
In the vacuum processing state, the wafer 20 is sandwiched between the susceptor 10 and the chuck portion 40 as shown in FIG. 3A, and in this state, the susceptor 10 and the chuck portion 40 are integrated. It moves in the direction B shown in the figure (see FIG. 5 (A)).

この移動により、前記チャック部40のチャックフレー
ム42に固着されたサポートロッド35がストッパー14に当
接し、この当接以降はサセプター10の図示B方向の移動
に拘らず、チャック部40の移動が停止されることになる
(第5図(B)参照)。
By this movement, the support rod 35 fixed to the chuck frame 42 of the chuck portion 40 abuts on the stopper 14, and after this abutment, the movement of the chuck portion 40 is stopped regardless of the movement of the susceptor 10 in the direction B in the figure. (See FIG. 5 (B)).

さらに、サセプター10の図示B方向の移動を続行する
と、下記のように作用することになる。
Further, if the movement of the susceptor 10 in the B direction in the figure is continued, the following actions will occur.

まず、ウエハホールドピン50について説明すると、第
4図(A)の状態よりサセプター10が図示B方向に後退
すると、当初はこのサセプター10の移動に拘らず、圧縮
コイルスプリング52の付勢力によってウエハホールドピ
ン50の位置はチャック41に対して不変であり、サセプタ
ー10のみがウエハ20より離れることになる(第4図
(A)→(B))が、前記サセプター10のガイド15bが
ウエハホールドピン50に固着されている前記ボス53上の
フランジ53aに当接後は、サセプター10と共にウエハホ
ールドピン50も後退移動することになり、この結果、ウ
エハ20がチャック爪41より離されることになる(第4図
(C))。
First, the wafer hold pin 50 will be described. When the susceptor 10 retracts in the direction B in the drawing from the state shown in FIG. 4A, the wafer hold pin 50 is initially held by the biasing force of the compression coil spring 52 regardless of the movement of the susceptor 10. The position of the pin 50 does not change with respect to the chuck 41, and only the susceptor 10 is separated from the wafer 20 (FIGS. 4 (A) → (B)), but the guide 15b of the susceptor 10 uses the wafer hold pin 50. After coming into contact with the flange 53a on the boss 53 fixed to the boss 53, the wafer hold pin 50 also moves backward together with the susceptor 10, and as a result, the wafer 20 is separated from the chuck claw 41 ( FIG. 4 (C)).

そして、このような移動を、前記ウエハ20の左側面が
第5図の基準線Lに到達するまで続け、その位置に到達
したら停止する(第4図(C)および第5図(C)参
照)。
Then, such movement is continued until the left side surface of the wafer 20 reaches the reference line L in FIG. 5, and when it reaches that position, it is stopped (see FIGS. 4 (C) and 5 (C)). ).

一方、前記ウエハーホルダー60について考察すると、
前記サセプター10の図示B方向の移動により、ポジショ
ンカラー19aがポジショニングスプリング19bに当接する
まではサセプター10のみが単独で移動し、当接後はフレ
ーム62の移動によりウエハホルダー60も図示B方向に移
動される。
On the other hand, considering the wafer holder 60,
Due to the movement of the susceptor 10 in the B direction in the figure, only the susceptor 10 moves independently until the position collar 19a abuts on the positioning spring 19b, and after the abutment, the wafer holder 60 also moves in the B direction in the figure by the movement of the frame 62. To be done.

そして、前記フレーム62がチャックフレーム42に形成
されたストッパー44に当接するまで、すなわちウエハ20
の左側面が基準線Lに到達するまで上記移動を続行し、
その後停止する(第5図(C)および第3図(E),
(F)参照)。
Then, until the frame 62 contacts the stopper 44 formed on the chuck frame 42, that is, the wafer 20.
Continue moving until the left side of reaches the reference line L,
After that, it stops (Fig. 5 (C) and Fig. 3 (E),
(F)).

以上の動作により、ウエハ20はチャック爪41およびサ
セプター10のいずれからも離された状態で基準線Lに一
致して停止されることになる。
By the above operation, the wafer 20 is stopped in accordance with the reference line L while being separated from both the chuck claw 41 and the susceptor 10.

この後、第5図(D)に示すように、突き上げブレー
ド70を上昇させ、ウエハ20の下端を突き上げてウエハホ
ールドピン50よりウエハ20を離脱させる(第5図(E)
参照)。
After that, as shown in FIG. 5 (D), the push-up blade 70 is raised to push up the lower end of the wafer 20 to separate the wafer 20 from the wafer hold pin 50 (FIG. 5 (E)).
reference).

ここで、前記ウエハーホルダー60は、ピン64によって
揺動自在に支持されているので、斜め上方に揺動するこ
とによりウエハ20に損傷を与えることがない。
Here, since the wafer holder 60 is swingably supported by the pins 64, the wafer 20 is not damaged by swinging obliquely upward.

以上のようにして、ウエハ20を突き上げてウエハホー
ルドピン50より離脱した状態で、前記サセプター10をさ
らに矢印B方向に移動(第4図(C)→(D))させ
る。
As described above, the susceptor 10 is further moved in the direction of the arrow B (FIG. 4 (C) → (D)) with the wafer 20 being pushed up and separated from the wafer hold pin 50.

この結果、前記サセプター10と一体的にウエハホール
ドピン50が移動するので、ウエハ20の下降経路よりウエ
ハホールドピン50を退避させることができる(第5図
(F)および第4図(D)参照)。
As a result, since the wafer hold pin 50 moves integrally with the susceptor 10, the wafer hold pin 50 can be retracted from the descending path of the wafer 20 (see FIGS. 5 (F) and 4 (D)). ).

尚、この際、ウエハーホルダー60はサセプター10の移
動に拘らずそのウエハ保持位置を維持している。すなわ
ち、第3図(E),(F)→(G),(H)において、
サセプター10が移動しても、前記ウエハホルダー60を支
持するスライダー62がボス21のフランジ21bを介してス
トッパー44に移動を規制されているので、ウエハホルダ
ー60の保持位置をキープすることができる(第3図
(G),(H))。
At this time, the wafer holder 60 maintains the wafer holding position regardless of the movement of the susceptor 10. That is, in FIGS. 3 (E), (F) → (G), (H),
Even if the susceptor 10 moves, the slider 62 supporting the wafer holder 60 is restricted from moving by the stopper 44 via the flange 21b of the boss 21, so that the holding position of the wafer holder 60 can be kept ( Fig. 3 (G), (H)).

このように、ウエハ20の下降経路よりウエハホールド
ピン50を退避させた状態で、前記突き上げブレード70を
下降移動することで、第5図(G)に示すようにウエハ
20を離脱駆動することができ、この動作によってウエハ
20の離脱動作が完了する。ウエハが離脱後、ウエハホル
ダー60は、第3図(I),(J)に示されるようにホル
ダーガイド18の先端の小径部18bにより水平に保持され
る。
As described above, by moving the push-up blade 70 downward with the wafer hold pin 50 retracted from the descending path of the wafer 20, as shown in FIG.
20 can be driven to separate, and this operation allows the wafer
Complete 20 detachment actions. After the wafer is detached, the wafer holder 60 is horizontally held by the small diameter portion 18b at the tip of the holder guide 18 as shown in FIGS. 3 (I) and 3 (J).

尚、この以降の新たなウエハ20の保持動作について
は、前記離脱動作の逆工程を実行することで可能とな
る。
The subsequent holding operation of the wafer 20 can be performed by performing the reverse process of the detaching operation.

このように、本実施例によれば、サセプター10の一軸
の駆動動作に基づき、チャック部40,ウエハホールドピ
ン50およびウエハホルダー60の各移動を連動させて実行
することができるので、従来のように独立駆動源を有す
るものに比べれば、構成が大幅に簡易となり、装置の小
型化,軽量化及び低価格化を図ることができる。
As described above, according to the present embodiment, the movement of the chuck portion 40, the wafer hold pin 50, and the wafer holder 60 can be performed in an interlocking manner based on the uniaxial driving operation of the susceptor 10. In comparison with a device having an independent drive source, the configuration is greatly simplified, and the size, weight and cost of the device can be reduced.

また、真空中で使用する場合には、エアーシリンダ等
の駆動要素が必要になりリーク防止のための特別な配管
を要するが、本実施例の場合にはエアーシリンダを用い
ていないのでリーク対策が不要であり、たとえサセプタ
ー10の駆動にエアーシリンダを採用しても、従来のよう
にチャック部40,ウエハホールドピン50等の各機構毎に
エアーシリンダを要せず、従って、配管の配慮も少なく
て済む。
In addition, when used in a vacuum, a drive element such as an air cylinder is required and special piping is required to prevent leakage.However, in the present embodiment, no air cylinder is used, so a leak countermeasure is required. It is not necessary, and even if an air cylinder is used to drive the susceptor 10, there is no need for an air cylinder for each mechanism such as the chuck section 40, wafer hold pin 50, etc. as in the past, so there is less consideration for piping. Complete.

また、上記実施例ではウエハ20の上端を支持するウエ
ハホルダー60を用いているので、ウエハ20をウエハホー
ルドピン50上に支持した状態で、ウエハ20がいずれかに
傾くという弊害を確実に防止することができ、ウエハ20
のサセプター10に対する着脱を確実に実行することがで
きる。
Further, in the above embodiment, since the wafer holder 60 that supports the upper end of the wafer 20 is used, it is possible to reliably prevent the adverse effect that the wafer 20 tilts in any state while the wafer 20 is supported on the wafer hold pins 50. Can and wafer 20
The attachment / detachment to / from the susceptor 10 can be reliably performed.

尚、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
The present invention is not limited to the above embodiment,
Various modifications can be made within the scope of the present invention.

ウエハホールドピン50の支持機構をより簡易に構成す
るとすれば、第6図に示すように構成することができ
る。
If the support mechanism for the wafer hold pin 50 is made simpler, it can be made as shown in FIG.

第6図において、サセプター100はウエハホールドピ
ン110を移動自在に支持するガイド穴101を具備し、か
つ、前記ウエハホールドピン110の一端にはストッパー
ガイド111が形成され、前記サセプター100より所定長さ
以上突出しないように構成されている。
Referring to FIG. 6, the susceptor 100 has a guide hole 101 for movably supporting the wafer hold pin 110, and a stopper guide 111 is formed at one end of the wafer hold pin 110 so that the susceptor 100 has a predetermined length. It is configured so as not to project above.

前記サセプター100は、前記ウエハホールドピン110の
ストッパーガイド111の後端と当接し、前記ウエハホル
ダー110を常時サセプター100より突出する方向に付勢す
る板バネ102を、ネジ103によって固定している。尚、チ
ャック部40の構成は同様であるので第1図と同一符号を
付してその詳細な説明を省略する。
The susceptor 100 is in contact with a rear end of a stopper guide 111 of the wafer hold pin 110, and a leaf spring 102 that constantly urges the wafer holder 110 in a direction projecting from the susceptor 100 is fixed by a screw 103. Since the structure of the chuck portion 40 is the same, the same reference numerals as those in FIG. 1 are given and detailed description thereof is omitted.

また、第6図の機構では、ウエハホルダー60を設けて
いない構成となっている。
Further, in the mechanism of FIG. 6, the wafer holder 60 is not provided.

このような機構によれば、まず、サセプター100とチ
ャック部40とを離した状態で、かつ、ウエハホールドピ
ン110がウエハ20の昇降経路より退避した状態で、ま
ず、ウエハ20を突き上げブレード70によって上昇させる
(第6図(A)参照)。
According to such a mechanism, first, with the susceptor 100 and the chuck section 40 separated from each other, and with the wafer hold pins 110 retracted from the ascending / descending path of the wafer 20, first, the wafer 20 is lifted by the push-up blade 70. Raise it (see FIG. 6 (A)).

次に、前記サセプター100をチャック部40側に移動
し、前記ウエハホールドピン110がウエハ20の下方に対
向する位置まで移動する(第6図(B)参照)。
Next, the susceptor 100 is moved to the chuck portion 40 side, and is moved to a position where the wafer hold pin 110 faces below the wafer 20 (see FIG. 6 (B)).

ここで、前記ウエハ突き上げブレード70を下降させ、
この結果、ウエハ20の下端がウエハホールドピン70によ
って支持されることになり、突き上げブレード70を続け
て下降させることにより前記ウエハホールドピン110に
よってのみウエハ20が支持されることになる。
Here, the wafer push-up blade 70 is lowered,
As a result, the lower end of the wafer 20 is supported by the wafer hold pin 70, and the wafer 20 is supported only by the wafer hold pin 110 by continuously lowering the push-up blade 70.

次に、前記サセプター100をさらに移動させると、第
6図(C)に示すように、前記ウエハ20がサセプター10
0とチャック部40との間に挟持されて保持されることに
なる。
Next, when the susceptor 100 is further moved, the wafer 20 is moved to the susceptor 10 as shown in FIG. 6 (C).
It is sandwiched and held between 0 and the chuck portion 40.

この際、前記ウエハホールドピン110がチャック部40
と一体的なピン押さえ120に当接することで、このピン1
10は前記板バネ103の付勢力に抗して後退し、第6図
(C)に示す位置に設定されることになる。従って、前
記ウエハ20はサセプター100とチャック部40との間で密
着して保持されることが可能となる。
At this time, the wafer hold pin 110 is attached to the chuck portion 40.
By contacting the pin retainer 120 integrated with
10 moves backward against the biasing force of the leaf spring 103, and is set at the position shown in FIG. 6 (C). Therefore, the wafer 20 can be held in close contact between the susceptor 100 and the chuck portion 40.

また、前記サセプター及びチャック部はその位置関係
を相対的に可変できればよく、必ずしもサセプター側を
移動するものに限らない。
Further, the positional relationship between the susceptor and the chuck portion may be relatively variable, and the susceptor and the chuck portion are not necessarily moved on the susceptor side.

例えば、第7図に示すように、チャツク部130及びウ
エハホールドピン140を移動させ、サセプター150を固定
して上記と同様な動作を実行することができる。
For example, as shown in FIG. 7, the chuck portion 130 and the wafer hold pin 140 can be moved, the susceptor 150 can be fixed, and the same operation as described above can be performed.

[発明の効果] 請求項1から3に記載の各発明によれば、サセプタ
ー、チャック部間の相対移動を単一の一軸駆動源によっ
て実現しているので、従来のように独立駆動源によるも
のに比べれば、装置の小型、軽量化が図られ、さらに、
板状体をサセプター、チャック部間で支持するホールド
ピン又は支持手段を前記一軸の駆動源によるサセプタ
ー、チャック部の位置関係に応じて移動させているの
で、特別な駆動源を要せずにより一層の省力化を図るこ
とができる。
[Effects of the Invention] According to the inventions described in claims 1 to 3, since the relative movement between the susceptor and the chuck portion is realized by a single uniaxial drive source, the conventional independent drive source is used. Compared to, the size and weight of the device can be reduced, and
Since the hold pin or the supporting means for supporting the plate-shaped body between the susceptor and the chuck portion is moved according to the positional relationship between the susceptor and the chuck portion by the uniaxial drive source, a special drive source is not required. It is possible to save labor.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図(A),(B)は本発明の一実施例であるウエハ
保持装置の一部を切欠した正面図,側面図、 第2図(A),(B)はサセプターに対するチャック部
の支持機構を示す第1図の下面図および支持部の断面
図、 第3図(A)〜(J)はウエハーホルダーの支持機構を
示す第1図の上面図および支持部の断面図、 第4図(A)〜(D)はウエハホールドピンの支持機構
を示す概略断面図、 第5図は実施例装置の動作シーケンス図、 第6図(A),(B),(C)はホールドピンの支持を
簡易化した本発明の変形例の構成及び動作説明図、 第7図はチャック部を駆動側とした本発明の変形例を示
す概略説明図、 第8図(A),(B)は従来のウエハ保持機構を説明す
るための概略説明図、 第9図(A)〜(D)は第8図中の突き上げブレードと
ウエハとの関係を示す概略説明図である。 10,100……サセプター、 20……板状体(ウエハ)、 40……チャック部、 50,110……ウエハホールドピン、 60……ウエハホルダー、 70……突き上げブレード。
1 (A) and 1 (B) are front and side views in which a part of a wafer holding device according to an embodiment of the present invention is cut away, and FIGS. 2 (A) and 2 (B) show a chuck portion for a susceptor. 1 is a bottom view of the supporting mechanism and a sectional view of the supporting portion, and FIGS. 3A to 3J are top views of FIG. 1 showing the supporting mechanism of the wafer holder and sectional views of the supporting portion. (A) to (D) are schematic cross-sectional views showing the support mechanism of the wafer hold pin, FIG. 5 is an operation sequence diagram of the embodiment apparatus, and FIGS. 6 (A), (B), and (C) are hold pins. And FIG. 8 is a schematic explanatory view showing a configuration and operation of a modified example of the present invention in which the support of FIG. Is a schematic explanatory view for explaining a conventional wafer holding mechanism, and FIGS. 9 (A) to 9 (D) are push-up bumps in FIG. It is a schematic diagram showing the relationship between over de and the wafer. 10,100 ... Susceptor, 20 ... Plate (wafer), 40 ... Chuck, 50,110 ... Wafer hold pin, 60 ... Wafer holder, 70 ... Push-up blade.

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】板状体の片面に当接可能なサセプターと、 前記板状体の他の片面に当接し、前記サセプターとの対
向間距離を相対的に可変自在なチャック部と、 前記サセプターと前記チャック部との間にて、前記板状
体の下端を係止するホールドピンと、を有し、 この板状体をホールドピンに係止した状態で、前記サセ
プターと前記チャック部との間に挟持して保持する板状
体の保持装置において、 前記サセプターと前記チャック部との対向間距離を可変
する一軸の駆動源と、 この駆動源に基づく両部材の位置関係に連動して、前記
ホールドピンを前記サセプターに対して移動自在に支持
する支持機構とを有することを特徴とする板状体の保持
装置。
1. A susceptor capable of abutting on one surface of a plate-like body, a chuck portion abutting on the other surface of the plate-like body and capable of relatively varying a facing distance between the susceptor and the susceptor, And a hold pin that locks a lower end of the plate-shaped body between the chuck part and the chuck part. The plate-shaped body is locked to the hold pin, and between the susceptor and the chuck part. In a holding device of a plate-like body that is sandwiched and held by a uniaxial drive source that varies a facing distance between the susceptor and the chuck portion, and a positional relationship between both members based on the drive source, A holding device for a plate-shaped body, comprising: a support mechanism that movably supports the hold pin with respect to the susceptor.
【請求項2】板状体の片面に当接可能なサセプターと、 前記板状体の他の片面に当接し、前記サセプターとの対
向間距離を相対的に可変自在なチャック部と、 前記サセプターと前記チャック部との間にて、前記板状
体を支持する支持手段と、を有し、 この板状体を前記支持手段に支持した状態で、前記サセ
プターと前記チャック部との間に挟持して保持する板状
体の保持装置において、 前記サセプターと前記チャック部との対向間距離を可変
する一軸の駆動源と、 この駆動源に基づく両部材の位置関係に連動して、前記
支持手段を前記サセプターに対して移動自在に支持する
支持機構と、 を有することを特徴とする板状体の保持装置。
2. A susceptor capable of abutting on one surface of a plate-like body, a chuck portion abutting on the other surface of the plate-like body and capable of relatively varying a facing distance to the susceptor, and the susceptor. And a supporting means for supporting the plate-shaped body between the chuck part and the chuck part. The plate-shaped body is sandwiched between the susceptor and the chuck part while being supported by the supporting means. In the holding device for a plate-shaped body that holds the support means, the uniaxial drive source that varies the facing distance between the susceptor and the chuck portion, and the supporting means in association with the positional relationship between both members based on the drive source. A support mechanism for movably supporting the susceptor with respect to the susceptor;
【請求項3】板状体の片面に当接可能なサセプターと、 前記板状体の他の片面に当接し、前記サセプターとの対
向間距離を相対的に可変自在なチャック部と、 前記サセプターと前記チャック部との間にて、前記板状
体を支持する支持手段と、を有し、 この板状体を前記支持手段に支持した状態で、前記サセ
プターと前記チャック部との間に挟持して保持する板状
体の保持装置において、 前記サセプターを一軸方向に移動させる一軸の駆動源
と、 前記駆動源に基づく前記サセプターの位置と連動して、
前記サセプターに対して前記チャック部を移動自在に支
持する第1の支持機構と、 前記駆動源に基づく前記サセプターの位置と連動して、
前記サセプターに対して前記支持手段を移動自在に支持
する第2の支持機構と、 を有することを特徴とする板状体の保持装置。
3. A susceptor capable of abutting on one surface of a plate-like body, a chuck portion abutting on the other surface of the plate-like body and capable of relatively varying a facing distance between the susceptor and the susceptor, And a supporting means for supporting the plate-shaped body between the chuck part and the chuck part. The plate-shaped body is sandwiched between the susceptor and the chuck part while being supported by the supporting means. In a holding device of a plate-shaped body that holds the susceptor, a uniaxial drive source that moves the susceptor in a uniaxial direction, and a position of the susceptor based on the drive source,
A first support mechanism for movably supporting the chuck part with respect to the susceptor; and a position of the susceptor based on the drive source,
A second supporting mechanism for movably supporting the supporting means with respect to the susceptor;
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