JP2006313864A - Correcting device for angular position of substrate - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To simplify and shorten the time of correcting work for the angular position of rotation of a substrate by preventing the holding of the notch of substrate by fingers, and making the changing work for gripping of the substrate by the fingers unnecessary. <P>SOLUTION: The fingers 11, 12, 13 are stopped at positions, not opposed to sensors 31, 32, 33, upon carrying the substrate in. When the notch of substrate 100 is detected by the sensors 31, 32, 33 upon carrying the substrate in, a controlled rotating angle is measured by the calculated angular position of rotation of the notch 101, based on a detecting signal to support the substrate 100 by the fingers 11, 12, 13. When the notch of substrate 100 is not detected by the sensors 31, 32, 33 upon carrying in, the fingers 11, 12, 13 are turned to the positions of sensors 31, 32, 33. Thereafter, the fingers 11, 12, 13 are supported by the substrate 100 to turn the sensors 31, 32, 33 until detecting the notches 101 and measure the controlled rotating angle from the angular position of the notch 101 operated, based on the detecting signals. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

この発明は、半導体製造装置において任意の角度位置で搬入されるシリコンウェハ等の円形薄型基板を中心軸周りの所定の角度位置に制御して搬出するエッジホールド式の基板角度位置補正装置に関する。   The present invention relates to an edge hold type substrate angular position correction device that controls and carries out a circular thin substrate such as a silicon wafer carried at an arbitrary angular position in a semiconductor manufacturing apparatus at a predetermined angular position around a central axis.

半導体の製造に用いられるシリコンウェハ等の円形薄型基板(以下、単に基板という。)には、製造プロセスにおいて必要とされる結晶方向を明示するため、予め基板の外周部に直線部分(オリフラ)又はV字状の切欠き(ノッチ)が形成されている。半導体の製造プロセスでは、一般に、複数枚の基板がカセットケースに収納されており、ロボットアームを介してカセットケースから1枚ずつ基板を取り出してプロセス装置に搬入される。   In a circular thin substrate (hereinafter simply referred to as a substrate) such as a silicon wafer used for manufacturing a semiconductor, in order to clearly indicate a crystal direction required in the manufacturing process, a linear portion (orientation flat) or A V-shaped notch is formed. In a semiconductor manufacturing process, generally, a plurality of substrates are stored in a cassette case, and the substrates are taken out from the cassette case one by one via a robot arm and loaded into a process apparatus.

通常、カセットケースには、複数枚の基板が中心軸周りにおける互いの角度位置を統一せずに収納されているため、カセットケースから基板を取り出した後、プロセス装置に搬入する前に、オリフラ又はノッチを基準にして基板を中心軸周りにおける所定の角度位置に補正する必要がある。   Usually, since a plurality of substrates are stored in the cassette case without unifying the angular positions of each other around the central axis, the orientation flat or the substrate is taken out of the cassette case and then loaded into the process apparatus. It is necessary to correct the substrate to a predetermined angular position around the central axis with reference to the notch.

そこで、基板の端縁を把持又は支持する複数の基板把持部材(フィンガ)を備えた基板角度位置補正装置が使用されている(例えば、特許文献1参照。)。エッジホールド式の基板角度位置補正装置において、複数の基板把持部材は、基板の中心軸周りに一体的に回転する。   In view of this, a substrate angular position correction device including a plurality of substrate gripping members (finger) for gripping or supporting the edge of the substrate is used (for example, see Patent Document 1). In the edge hold type substrate angular position correction device, the plurality of substrate gripping members rotate integrally around the central axis of the substrate.

角度位置補正装置は、端縁がノッチ検出器に対向した状態で、基板を複数の基板把持部材によって把持し、複数の基板把持部材を回転させる。これによって、基板は、中心軸周りに基板面内で回転する。ノッチ検出器によりオリフラ又はノッチを検出した位置から所定角度だけ基板把持部材を基板の中心軸周りに回転させることにより、中心軸周りの基板の角度位置をプロセス装置における後の処理に適した所定の角度位置に補正する。
特開2003−163258号公報
The angular position correction device grips the substrate with the plurality of substrate gripping members and rotates the plurality of substrate gripping members in a state where the edge faces the notch detector. As a result, the substrate rotates in the substrate plane around the central axis. By rotating the substrate gripping member around the central axis of the substrate by a predetermined angle from the position where the orientation flat or the notch is detected by the notch detector, the angular position of the substrate around the central axis is changed to a predetermined value suitable for subsequent processing in the process apparatus. Correct the angular position.
JP 2003-163258 A

しかしながら、エッジホールド式の基板角度位置補正装置では、基板がランダムな角度位置で搬入されるため、搬入された基板の端縁においてノッチの形成されている部分が基板把持部材によって把持される可能性がある。通常、ノッチ検出器には、基板の端縁を上下に挟んで対向する光学センサが用いられる。基板把持部材が基板の端縁においてノッチの形成されている部分を把持すると、基板把持部材とノッチとが上下方向に重なり、基板把持部材とともに基板を360度回転させてもノッチ検出器が基板のノッチを検出することができない。   However, in the edge hold type substrate angular position correction device, since the substrate is carried in at random angular positions, there is a possibility that the portion where the notch is formed at the edge of the loaded substrate is held by the substrate holding member. There is. Usually, the notch detector uses an optical sensor facing the substrate with the edge of the substrate interposed therebetween. When the substrate gripping member grips the portion where the notch is formed at the edge of the substrate, the substrate gripping member and the notch overlap in the vertical direction, and the notch detector is not connected to the substrate even if the substrate is rotated 360 degrees together with the substrate gripping member. The notch cannot be detected.

このため、従来の基板角度位置補正装置では、ノッチ検出器が基板把持部材の回転によって基板の端縁の全周に対向する間においてノッチを検出しなかった場合、基板把持部材による基板の端縁の把持位置を変えた後、再度、基板把持部材とともに基板を回転させてノッチ検出器によるノッチの検出が行われていた。   For this reason, in the conventional substrate angular position correction apparatus, when the notch detector does not detect the notch while the notch detector faces the entire circumference of the edge of the substrate by the rotation of the substrate gripping member, the edge of the substrate by the substrate gripping member After changing the gripping position, the substrate is rotated again together with the substrate gripping member, and the notch is detected by the notch detector.

基板把持部材による基板の端縁の把持位置を変える持ち変え作業は、基板把持部材に対して基板を昇降させる工程を伴う。このため、搬入された基板の端縁においてノッチの形成されている部分が基板把持部材によって把持されると、基板の角度位置の補正作業が煩雑化及び長時間化する問題がある。   The holding work for changing the holding position of the edge of the substrate by the substrate holding member involves a step of moving the substrate up and down relative to the substrate holding member. For this reason, if the portion where the notch is formed at the edge of the loaded substrate is gripped by the substrate gripping member, there is a problem that the work of correcting the angular position of the substrate becomes complicated and takes a long time.

この発明の目的は、搬入された基板の端縁においてノッチの形成されている部分が基板把持部材によって把持されることを防止し、基板把持部材による基板の持ち変え作業を不要にして、基板の角度位置の補正作業を簡略化及び短時間化することができる基板角度位置補正装置を提供することにある。   An object of the present invention is to prevent a portion where a notch is formed at the edge of a substrate that has been carried in from being gripped by a substrate gripping member, eliminate the need to change the substrate by the substrate gripping member, and It is an object of the present invention to provide a substrate angular position correction apparatus that can simplify and shorten the angular position correction operation.

上記の課題を解決するために、この発明の基板角度位置補正装置は、基板の中心軸周りの一定角度間隔で複数の基板把持部材及び複数のノッチ検出器を備えている。複数の基板把持部材は、基板の中心軸周りに一体的に回転自在にされている。複数のノッチ検出器は、基板の中心軸周りの所定の位置に固定されている。複数の基板把持部材は、基板が搬入される前に、複数のノッチ検出器のいずれにも検出されない位置に回転させておく。基板が搬入された後において複数の基板把持部材が基板の端縁を把持する前に、複数のノッチ検出器の検出状態を読み取る。   In order to solve the above-described problems, a substrate angular position correction apparatus according to the present invention includes a plurality of substrate gripping members and a plurality of notch detectors at a constant angular interval around the central axis of the substrate. The plurality of substrate gripping members are integrally rotatable around the central axis of the substrate. The plurality of notch detectors are fixed at predetermined positions around the central axis of the substrate. The plurality of substrate gripping members are rotated to a position where none of the plurality of notch detectors is detected before the substrate is carried in. After the substrate is loaded, the detection states of the plurality of notch detectors are read before the plurality of substrate gripping members grip the edge of the substrate.

複数のノッチ検出器の全てがノッチ及び複数の基板把持部材のそれぞれを検出していない場合には、複数の基板把持部材の全てが複数のノッチ検出器によって検出される回転位置まで複数の基板把持部材を基板の中心軸周りに一体的に回転させた後に、基板を複数の基板把持部材に把持させ、複数のノッチ検出器の何れかがノッチを検出するまで複数の基板把持部材を一体的に回転させる。   If all of the plurality of notch detectors do not detect the notch and each of the plurality of substrate gripping members, the plurality of substrate gripping members are gripped to the rotational position where all of the plurality of substrate gripping members are detected by the plurality of notch detectors. After rotating the member integrally around the central axis of the substrate, the substrate is gripped by the plurality of substrate gripping members, and the plurality of substrate gripping members are integrated until one of the plurality of notch detectors detects the notch. Rotate.

複数のノッチ検出器の何れかがノッチを検出している場合には、基板を複数の基板把持部材に把持させる。   When any of the plurality of notch detectors detects a notch, the substrate is held by the plurality of substrate holding members.

これらの何れかの後に、複数のノッチ検出器のうちでノッチを検出したノッチ検出器の角度位置に基づいて基板の中心軸周りの角度位置を補正する。   After any of these, the angular position around the central axis of the substrate is corrected based on the angular position of the notch detector that detected the notch among the plurality of notch detectors.

この発明の基板角度位置補正装置によれば、基板のノッチを基板の中心軸周りの角度位置が既知である複数のノッチ検出器で検出し、基板が搬入された時に複数のノッチ検出器の何れかがノッチを検出している場合には、基板を把持した状態の複数の基板把持部材を回転させてノッチ検出器によりノッチを検出させることで基板の角度位置を補正することができる。また、基板が搬入された時に複数のノッチ検出器の何れもノッチを検出しなかった場合には、複数の基板把持部材を複数のノッチ検出器によって検出される回転位置まで一体的に回転させた後、複数の基板把持部材によって基板を把持させ、複数の基板把持部材とともに基板を回転させて複数のノッチ検出器の何れかによってノッチを検出させ、ノッチを検出したノッチ検出器の角度位置に基づいて基板の角度位置を補正することができる。何れの場合でも、複数の基板把持部材の何れかが基板の端縁におけるノッチの形成位置を把持することがなく、複数の基板把持部材による基板の持ち変えを行う必要がないため、基板の角度位置の補正作業を簡略化及び短時間化することができる。   According to the substrate angular position correcting apparatus of the present invention, the notch of the substrate is detected by the plurality of notch detectors whose angular positions around the central axis of the substrate are known, and any of the plurality of notch detectors is detected when the substrate is loaded. If the notch is detected, the angular position of the substrate can be corrected by rotating the plurality of substrate gripping members in the state of gripping the substrate and detecting the notch by the notch detector. Further, when none of the plurality of notch detectors detects the notch when the substrate is carried in, the plurality of substrate gripping members are integrally rotated to the rotation position detected by the plurality of notch detectors. Thereafter, the substrate is gripped by the plurality of substrate gripping members, the substrate is rotated together with the plurality of substrate gripping members, and the notch is detected by any one of the plurality of notch detectors, and based on the angular position of the notch detector that detected the notch. Thus, the angular position of the substrate can be corrected. In any case, since any of the plurality of substrate gripping members does not grip the position where the notch is formed at the edge of the substrate, it is not necessary to change the substrate by the plurality of substrate gripping members. The position correction operation can be simplified and shortened.

図1はこの発明の実施形態に係る基板角度位置補正装置10の構成を示す概略図であり、図1(A)は平面図、図1(B)は側面図である。基板角度位置補正装置10は、図示しないロボットアームによって搬入された基板100の端縁に形成された単一のノッチを、基板100の中心軸周りにおける所定の角度位置に位置させることで基板100の角度位置が後の処理に適した位置にする。このため、基板角度位置補正装置10は、3個の基板把持部材(以下、フィンガという。)11,12,13、回転モータ2、3個のノッチ検出器(以下、センサという。)31,32,33、図示しない基板昇降ピン、エンコーダ5、図示しない昇降モータを備えている。なお、以下において、基板100の中心軸周りにおける角度位置を、回転角度位置という。   FIG. 1 is a schematic view showing a configuration of a substrate angular position correction apparatus 10 according to an embodiment of the present invention, FIG. 1 (A) is a plan view, and FIG. 1 (B) is a side view. The substrate angular position correcting device 10 positions a single notch formed at the edge of the substrate 100 carried by a robot arm (not shown) at a predetermined angular position around the central axis of the substrate 100. Make the angular position suitable for later processing. For this reason, the substrate angle position correcting apparatus 10 includes three substrate gripping members (hereinafter referred to as fingers) 11, 12, and 13, a rotary motor 2, and three notch detectors (hereinafter referred to as sensors) 31, 32. 33, a substrate raising / lowering pin (not shown), an encoder 5, and a raising / lowering motor (not shown). Hereinafter, an angular position around the central axis of the substrate 100 is referred to as a rotational angular position.

フィンガ11,12,13は、先端部において基板100の端縁を把持する。フィンガ11,12,13は、基板100の中心軸周りに120度の角度間隔で配置されている。なお、本実施形態では、3つのフィンガ11,12,13を等角度間隔に配置しているが特にこれに限定されるものではなく、3以上のフィンガを等角度間隔に配置した構成であればよい。フィンガ11,12,13は、基部において支持板7に固定されている。回転モータ2は、この発明の回転機構であり、フィンガ11,12,13を支持板7とともに一体的に回転させる。エンコーダ5は、回転モータ2の回転軸に取り付けられており、フィンガ11,12,13の回転角度位置を検出する。   The fingers 11, 12, and 13 grip the edge of the substrate 100 at the tip. The fingers 11, 12, 13 are arranged at an angular interval of 120 degrees around the central axis of the substrate 100. In the present embodiment, the three fingers 11, 12, 13 are arranged at equiangular intervals. However, the present invention is not particularly limited to this, and any configuration may be used in which three or more fingers are arranged at equiangular intervals. Good. The fingers 11, 12, 13 are fixed to the support plate 7 at the base. The rotation motor 2 is the rotation mechanism of the present invention, and rotates the fingers 11, 12, and 13 together with the support plate 7. The encoder 5 is attached to the rotary shaft of the rotary motor 2 and detects the rotational angle positions of the fingers 11, 12, and 13.

センサ31,32,33は、基板100の中心軸周りに120度の角度間隔で配置されている。なお、本実施形態では、3つのフィンガ11,12,13を用いているので3つのセンサ31,32,33を等角度間隔に配置しているが特にこれに限定されるものではなく、フィンガと同数且つ等角度間隔が同一になるように複数のセンサを配置した構成であればよい。センサ31は、発光部31Aと受光部31Bとからなる。発光部31Aは、上リング8に固定されている。発光部31Aは、例えば、ライン式レーザ、LED又は光ファイバを用いることができる。受光部31Bは、一例として、CCDラインセンサによって構成されており、下リング9に固定されている。受光部31Bには、カメラを用いることもできる。発光部31Aと受光部31Bとは、基板100の端縁を上下に挟んで対向している。センサ32,33は、センサ31と同様に構成されている。なお、発光部31Aを下リング9に固定し、受光部31Bを上リング8に固定することもできる。   The sensors 31, 32, and 33 are arranged around the central axis of the substrate 100 at an angular interval of 120 degrees. In this embodiment, since the three fingers 11, 12, and 13 are used, the three sensors 31, 32, and 33 are arranged at equiangular intervals. However, the present invention is not limited to this. A configuration in which a plurality of sensors are arranged so as to have the same number and the same angular interval may be used. The sensor 31 includes a light emitting unit 31A and a light receiving unit 31B. The light emitting part 31 </ b> A is fixed to the upper ring 8. For example, a line laser, an LED, or an optical fiber can be used for the light emitting unit 31A. For example, the light receiving unit 31 </ b> B includes a CCD line sensor and is fixed to the lower ring 9. A camera can also be used for the light receiving unit 31B. The light emitting unit 31A and the light receiving unit 31B are opposed to each other with the edge of the substrate 100 being sandwiched up and down. The sensors 32 and 33 are configured in the same manner as the sensor 31. The light emitting unit 31A can be fixed to the lower ring 9 and the light receiving unit 31B can be fixed to the upper ring 8.

基板昇降ピンは、図示しない支持板に配置されている。昇降モータは、図示しない昇降機構を介して基板昇降ピンを上下に移動させる。基板昇降ピンは、昇降範囲の上限位置において、上リング8の底面とフィンガ11,12,13の上面との間隙D内に位置する基板100の端縁に当接する。基板昇降ピンは、昇降範囲の下限位置において、フィンガ11,12,13に把持された基板100の底面から離間する。   The substrate raising / lowering pins are disposed on a support plate (not shown). The lift motor moves the substrate lift pins up and down via a lift mechanism (not shown). The substrate lifting pins abut on the edge of the substrate 100 located in the gap D between the bottom surface of the upper ring 8 and the top surfaces of the fingers 11, 12, 13 at the upper limit position of the lifting range. The substrate lift pins are separated from the bottom surface of the substrate 100 held by the fingers 11, 12, 13 at the lower limit position of the lift range.

基板100は、図示しないロボットアームを介して間隔D内に水平方向に搬入される。このとき、基板100の中心軸は支持板7、上リング8及び下リング9の中心軸に一致する。   The substrate 100 is carried in the horizontal direction within the interval D via a robot arm (not shown). At this time, the central axis of the substrate 100 coincides with the central axes of the support plate 7, the upper ring 8 and the lower ring 9.

図2は、上記基板角度位置補正装置10の制御部200の構成を示すブロック図である。制御部200は、ROM202及びRAM203を備えたCPU201に回転モータ2、エンコーダ5、昇降モータ6、センサ31,32,33等の入出力機器を接続して構成されている。CPU201は、ROM202に記録されたプログラムに従って入出力機器を統括して制御する。この間に入出力されるデータは、RAM203に格納される。   FIG. 2 is a block diagram illustrating a configuration of the control unit 200 of the substrate angular position correction apparatus 10. The control unit 200 is configured by connecting input / output devices such as a rotary motor 2, an encoder 5, a lift motor 6, sensors 31, 32, and 33 to a CPU 201 having a ROM 202 and a RAM 203. The CPU 201 controls the input / output devices according to a program recorded in the ROM 202. Data input / output during this time is stored in the RAM 203.

回転モータ2及び昇降モータ6のそれぞれには、ドライバ204,205を介してCPU201から出力された駆動データに応じた駆動電力が供給される。CPU201には、エンコーダ5の検出信号がA/D変換器206を介して入力される。また、CPU201には、センサ31,32,33の検出信号がそれぞれA/D変換器207,208,209を介して入力される。   Drive power corresponding to the drive data output from the CPU 201 is supplied to the rotary motor 2 and the lift motor 6 via the drivers 204 and 205, respectively. A detection signal from the encoder 5 is input to the CPU 201 via the A / D converter 206. Further, detection signals from the sensors 31, 32, and 33 are input to the CPU 201 via A / D converters 207, 208, and 209, respectively.

CPU201は、センサ31,32,33の検出結果に基づいて、フィンガ11,12,13が位置すべき回転角度位置を演算する。CPU201は、この演算結果に基づいて、エンコーダ5の検出結果を参照しつつ、回転モータ2に駆動データを出力する。   Based on the detection results of the sensors 31, 32, 33, the CPU 201 calculates the rotation angle position where the fingers 11, 12, 13 should be positioned. Based on the calculation result, the CPU 201 outputs drive data to the rotary motor 2 while referring to the detection result of the encoder 5.

図5に示すように、基板100の周縁の一部にノッチ101が形成されている。一例として、ノッチ101がセンサ31に対向した場合、CPU201は、センサ31の検出信号に基づいて、ノッチ101の谷部の回転角度位置を算出する。   As shown in FIG. 5, a notch 101 is formed in a part of the periphery of the substrate 100. As an example, when the notch 101 faces the sensor 31, the CPU 201 calculates the rotational angle position of the valley of the notch 101 based on the detection signal of the sensor 31.

図3は、上記基板角度位置補正装置10の制御部200における処理手順を示すフローチャートである。また、図4は上記基板角度位置補正装置10におけるフィンガ11,12,13の回転角度位置の変化状態を示す平面図であり、図4(A)は基板100の搬入時の状態を示し、図4(B)は基板100の回転前の状態を示す図である。CPU201は、基板100が搬入される前に、予め、フィンガ11,12,13をセンサ31,32,33のいずれにも検出されない回転角度位置である搬入時位置(例えば、図4(A)に示す位置)に停止させておく(S1)。基板100が搬入されると、CPU201は、昇降モータ6を駆動して基板昇降ピンを上昇させ、基板昇降ピン上に基板100を載置させる(S2,S3)。次いで、CPU201は、センサ31,32,33の検出結果を読み取り(S4)、基板100のノッチ101がセンサ31,32,33の何れかによって検出されているか否かを判別する(S5)。   FIG. 3 is a flowchart showing a processing procedure in the control unit 200 of the substrate angular position correction apparatus 10. FIG. 4 is a plan view showing a change state of the rotation angle positions of the fingers 11, 12, and 13 in the substrate angular position correction apparatus 10. FIG. 4A shows a state when the substrate 100 is carried in, and FIG. 4B is a diagram illustrating a state before the substrate 100 is rotated. Before the substrate 100 is carried in, the CPU 201 preliminarily moves the fingers 11, 12, and 13 to the loading position that is not detected by any of the sensors 31, 32, and 33 (see, for example, FIG. 4A). It stops at the position shown (S1). When the substrate 100 is carried in, the CPU 201 drives the lift motor 6 to raise the substrate lift pins and place the substrate 100 on the substrate lift pins (S2, S3). Next, the CPU 201 reads the detection results of the sensors 31, 32, 33 (S4), and determines whether the notch 101 of the substrate 100 is detected by any of the sensors 31, 32, 33 (S5).

この時、センサ31,32,33の何れかが基板100のノッチ101を検出している場合には、CPU201は、昇降モータ6を駆動して基板昇降ピンを下降させ、フィンガ11,12,13によって基板100を支持させる(S6)。   At this time, if any of the sensors 31, 32, and 33 detects the notch 101 of the substrate 100, the CPU 201 drives the lift motor 6 to lower the substrate lift pin to move the fingers 11, 12, 13. Thus, the substrate 100 is supported (S6).

なお、図示しないロボットハンドによって基板100が搬入された時点でセンサ31,32,33によるノッチの検出を行い、この後にフィンガ11,12,13を回転させて基板昇降ピンを上昇させてもよい。   Note that when the substrate 100 is carried in by a robot hand (not shown), the notches are detected by the sensors 31, 32, 33, and then the fingers 11, 12, 13 may be rotated to raise the substrate lifting pins.

S5において、センサ31,32,33の何れかもが基板100のノッチ101を検出していない場合には、CPU201は、図4(B)に示すように、センサ31,32,33がフィンガ11,12,13を検出する支持位置まで、回転モータ2を駆動してフィンガ11,12,13を一体的に回転させる(S7)。フィンガ11,12,13の回転位置は、エンコーダ5の出力信号に基づいて管理することもできる。センサ31,32,33がフィンガ11,12,13を検出すると、CPU201は回転モータ2の駆動を停止し、昇降モータ6を駆動して基板昇降ピンを下降させ、フィンガ11,12,13によって基板100を支持させる(S8)。そして、CPU201は、センサ31,32,33の何れかが基板100のノッチ101を検出するまで、回転モータ2を駆動してフィンガ11,12,13とともに基板100を回転させる(S9,S10)。   In S5, when any of the sensors 31, 32, 33 has not detected the notch 101 of the substrate 100, the CPU 201 detects that the sensors 31, 32, 33 are the fingers 11, 32, as shown in FIG. The rotating motor 2 is driven to rotate the fingers 11, 12, and 13 integrally to the support position for detecting 12, 13 (S7). The rotational positions of the fingers 11, 12 and 13 can also be managed based on the output signal of the encoder 5. When the sensors 31, 32, 33 detect the fingers 11, 12, 13, the CPU 201 stops driving the rotary motor 2, drives the lifting motor 6 to lower the substrate lifting pins, and the fingers 11, 12, 13 move the substrate. 100 is supported (S8). The CPU 201 drives the rotary motor 2 to rotate the substrate 100 together with the fingers 11, 12, 13 until any of the sensors 31, 32, 33 detects the notch 101 of the substrate 100 (S9, S10).

センサ31,32,33の何れかが基板100のノッチ101を検出すると、CPU201は、回転モータ2の駆動を停止し、センサ31,32,33の何れかの検出結果に基づいてノッチ101の正確な制御回転角度を測定する(S11)。この制御回転角度は、例えば、図示しないプロセス装置に基板100を搬入する際に、ノッチ101が位置すべき回転角度位置を原点として、平面視における時計方向の回転を+、反時計方向を−とした基板100の中心軸周りの角度である。   When any of the sensors 31, 32, 33 detects the notch 101 of the substrate 100, the CPU 201 stops driving the rotary motor 2, and the notch 101 is accurately detected based on the detection result of any of the sensors 31, 32, 33. A control rotation angle is measured (S11). For example, when the substrate 100 is loaded into a process apparatus (not shown), the controlled rotation angle is set to + when the rotation angle position where the notch 101 is to be located is the origin and + in the counterclockwise direction in the plan view. The angle around the central axis of the substrate 100.

CPU201は、エンコーダ5の検出結果を参照しつつ回転モータ2を駆動し、フィンガ11,12,13とともに基板100を制御回転角度だけ回転させ、基板100の回転角度位置を補正する(S12)。この後、CPU201は、昇降モータ6を駆動して基板昇降ピンを上昇させ、基板昇降ピン上に基板100を載置させる。次いで、昇降モータ6を駆動して基板昇降ピンを下降させて基板100を把持できる位置に挿入された図示しないロボットアームに基板100を渡す(S13)。   The CPU 201 drives the rotary motor 2 while referring to the detection result of the encoder 5, rotates the substrate 100 together with the fingers 11, 12, 13 by the control rotation angle, and corrects the rotation angle position of the substrate 100 (S12). Thereafter, the CPU 201 drives the elevating motor 6 to raise the substrate elevating pins and place the substrate 100 on the substrate elevating pins. Next, the lift motor 6 is driven to lower the substrate lift pins, and the substrate 100 is transferred to a robot arm (not shown) inserted at a position where the substrate 100 can be gripped (S13).

以上のようにして、基板角度位置補正装置10によれば、基板100のノッチ101を回転角度位置が既知である複数のセンサ31,32,33で検出する。基板100が搬入された時には、フィンガ11,12,13は、センサ31,32,33によって検出されない回転角度位置にある。したがって、基板100が搬入された時にセンサ31,32,33の何れかがノッチ101を検出している場合には、センサ31,32,33の何れかの検出結果に基づいて基板100の回転角度位置を補正することができる。また、フィンガ11,12,13の回転角度位置を変えることなくフィンガ11,12,13によって基板100を支持しても、基板100の周縁におるけノッチ101の形成位置にフィンガ11,12,13が位置することはない。なお、フィンガ11,12,13の回転位置は、エンコーダ5の出力信号に基づいて管理することもできる。   As described above, according to the substrate angle position correction apparatus 10, the notch 101 of the substrate 100 is detected by the plurality of sensors 31, 32, and 33 whose rotation angle positions are known. When the substrate 100 is loaded, the fingers 11, 12, and 13 are at rotational angle positions that are not detected by the sensors 31, 32, and 33. Therefore, when any of the sensors 31, 32, and 33 detects the notch 101 when the substrate 100 is loaded, the rotation angle of the substrate 100 is determined based on the detection result of any of the sensors 31, 32, and 33. The position can be corrected. Further, even if the substrate 100 is supported by the fingers 11, 12, 13 without changing the rotation angle positions of the fingers 11, 12, 13, the fingers 11, 12, 13 are formed at the positions where the notches 101 are formed at the periphery of the substrate 100. Is never located. Note that the rotational positions of the fingers 11, 12, and 13 can be managed based on the output signal of the encoder 5.

また、基板100が搬入された時にセンサ31,32,33の何れもノッチ101を検出しなかった場合には、フィンガ11,12,13をセンサ31,32,33によって検出されるまで回転させた後に、フィンガ11,12,13によって基板100を把持させる。なお、この場合にも、フィンガ11,12,13の回転位置は、エンコーダ5の出力信号に基づいて管理することもできる。この状態で、フィンガ11,12,13によって基板100を支持しても、基板100の周縁におるけノッチ101の形成位置にフィンガ11,12,13が位置することはない。そして、フィンガ11,12,13とともに基板100を回転させてセンサ31,32,33の何れかによってノッチ101を検出させ、センサ31,32,33の何れかの検出結果に基づいて基板100の回転角度位置を補正することができる。   If none of the sensors 31, 32, and 33 detect the notch 101 when the substrate 100 is loaded, the fingers 11, 12, and 13 are rotated until they are detected by the sensors 31, 32, and 33. Later, the substrate 100 is held by the fingers 11, 12, and 13. Also in this case, the rotational positions of the fingers 11, 12, 13 can be managed based on the output signal of the encoder 5. In this state, even if the substrate 100 is supported by the fingers 11, 12, and 13, the fingers 11, 12, and 13 are not positioned at the position where the notch 101 is formed at the periphery of the substrate 100. Then, the substrate 100 is rotated together with the fingers 11, 12, 13, the notch 101 is detected by any of the sensors 31, 32, 33, and the substrate 100 is rotated based on the detection result of any of the sensors 31, 32, 33. The angular position can be corrected.

何れの場合でも、フィンガ11,12,13の何れかが基板100の端縁におけるノッチ101の形成位置を把持することがなく、フィンガ11,12,13による基板100の持ち変えを行う必要がないため、基板100の回転角度位置の補正作業を簡略化及び短時間化することができる。   In any case, any of the fingers 11, 12, 13 does not hold the formation position of the notch 101 at the edge of the substrate 100, and it is not necessary to change the substrate 100 by the fingers 11, 12, 13. Therefore, the correction work of the rotation angle position of the substrate 100 can be simplified and shortened.

なお、上記の実施形態では、ノッチ101を形成した基板100を例にあげて説明したが、オリフラを形成した基板についても同様にこの発明を実施することができる。   In the above-described embodiment, the substrate 100 on which the notch 101 is formed has been described as an example. However, the present invention can be similarly applied to a substrate on which the orientation flat is formed.

この発明の実施形態に係る基板角度位置補正装置10の構成を示す概略の平面図及び側面図である。It is the schematic plan view and side view which show the structure of the board | substrate angular position correction apparatus 10 which concerns on embodiment of this invention. 上記基板角度位置補正装置10の制御部200の構成を示すブロック図である。3 is a block diagram illustrating a configuration of a control unit 200 of the substrate angular position correction apparatus 10. FIG. 上記基板角度位置補正装置10の制御部200における処理手順を示すフローチャートである。4 is a flowchart illustrating a processing procedure in a control unit 200 of the substrate angular position correction apparatus 10. 上記基板角度位置補正装置10における基板100の搬入時及び基板100の回転前のフィンガ11,12,13の回転角度位置の変化状態を示す平面図である。5 is a plan view showing a change state of rotation angle positions of fingers 11, 12, and 13 when the substrate 100 is carried in and before the substrate 100 is rotated in the substrate angle position correction apparatus 10. FIG. センサ31によるノッチ101の検出状態を示す図である。It is a figure which shows the detection state of the notch 101 by the sensor 31. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

2 回転モータ
5 エンコーダ
6 昇降モータ
10 基板角度位置補正装置
11,12,13 フィンガ(基板把持部材)
31,32,33 センサ(ノッチ検出器)
100 基板
101 ノッチ
200 制御部
2 Rotating motor 5 Encoder 6 Elevating motor 10 Substrate angular position correction device 11, 12, 13 Finger (substrate gripping member)
31, 32, 33 Sensor (notch detector)
100 substrate 101 notch 200 control unit

Claims (2)

円形薄型基板の中心軸周りに一定角度間隔で配置され、前記円形薄型基板の端縁を選択的に把持する複数の基板把持部材と、
前記複数の基板把持部材を前記中心軸回りに一体的に回転させる回転機構と、
前記中心軸周りに前記一定角度間隔で配置され、前記円形薄型基板の端縁に予め形成されたノッチ、及び、前記複数の基板把持部材のそれぞれを検出する複数のノッチ検出器と、
前記円形薄型基板が搬入された後において前記複数の基板把持部材が前記円形薄型基板の端縁を把持する前に、前記複数のノッチ検出器の全てが前記ノッチ及び前記複数の基板把持部材のそれぞれを検出していない場合に、前記複数の基板把持部材の全てが前記複数のノッチ検出器によって検出される回転位置まで前記回転機構を動作させる処理、前記円形薄型基板を前記複数の基板把持部材に把持させる処理、前記複数のノッチ検出器の何れかが前記ノッチを検出するまで前記回転機構を動作させる処理、及び、前記複数のノッチ検出器による前記ノッチの検出結果に基づいて前記円形薄型基板の角度位置を補正する処理をこの順に実行する制御部と、を備えたことを特徴とする基板角度位置補正装置。
A plurality of substrate gripping members that are arranged at regular angular intervals around the central axis of the circular thin substrate and selectively grip the edge of the circular thin substrate;
A rotation mechanism for integrally rotating the plurality of substrate gripping members around the central axis;
A plurality of notch detectors that are arranged around the central axis at the predetermined angular intervals and that are formed in advance on an edge of the circular thin substrate, and a plurality of notch detectors that detect each of the plurality of substrate gripping members;
Before the plurality of substrate gripping members grip the edge of the circular thin substrate after the circular thin substrate is loaded, all of the plurality of notch detectors are connected to the notches and the plurality of substrate gripping members, respectively. When the rotation mechanism is operated to a rotational position where all of the plurality of substrate gripping members are detected by the plurality of notch detectors, and the circular thin substrate is used as the plurality of substrate gripping members. A process of gripping, a process of operating the rotating mechanism until any one of the plurality of notch detectors detects the notch, and a detection result of the notches by the plurality of notch detectors. And a control unit that executes processing for correcting the angular position in this order.
前記円形薄型基板が搬入された後において前記複数の基板把持部材が前記円形薄型基板の端縁を把持する前に、前記複数のノッチ検出器の何れかが前記ノッチを検出している場合に、前記円形薄型基板を前記複数の基板把持部材に把持させる処理、前記複数の基板把持部材を回転させて前記複数のノッチ検出器にノッチを検出させる処理、及び、前記複数のノッチ検出器による前記ノッチの検出結果に基づいて前記円形薄型基板の角度位置を補正する処理を順に実行することを特徴とする請求項1に記載の基板角度位置補正装置。   When any of the plurality of notch detectors detects the notch before the plurality of substrate gripping members grip the edge of the circular thin substrate after the circular thin substrate is loaded, A process of gripping the circular thin substrate by the plurality of substrate gripping members, a process of rotating the plurality of substrate gripping members to detect the notches by the plurality of notch detectors, and the notches by the plurality of notch detectors The substrate angular position correction apparatus according to claim 1, wherein processing for correcting the angular position of the circular thin substrate is sequentially executed based on the detection result of the step.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3790041A1 (en) * 2019-09-06 2021-03-10 Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki Wafer pre-aligner and method of pre-aligning wafer

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000021956A (en) * 1998-07-02 2000-01-21 Mecs Corp Notch aligner
JP2002359277A (en) * 2001-05-31 2002-12-13 Daihen Corp Notch-adjusting device for wafer
JP2003243294A (en) * 2002-02-20 2003-08-29 Jel:Kk Aligner
JP2005101040A (en) * 2003-09-22 2005-04-14 Jel:Kk Aligner apparatus

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000021956A (en) * 1998-07-02 2000-01-21 Mecs Corp Notch aligner
JP2002359277A (en) * 2001-05-31 2002-12-13 Daihen Corp Notch-adjusting device for wafer
JP2003243294A (en) * 2002-02-20 2003-08-29 Jel:Kk Aligner
JP2005101040A (en) * 2003-09-22 2005-04-14 Jel:Kk Aligner apparatus

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3790041A1 (en) * 2019-09-06 2021-03-10 Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki Wafer pre-aligner and method of pre-aligning wafer
EP3790041B1 (en) * 2019-09-06 2022-08-10 Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki Wafer pre-aligner and method of pre-aligning a wafer
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