JP2002357814A - Liquid crystal display device, method for manufacturing the same and electronic appliance - Google Patents
Liquid crystal display device, method for manufacturing the same and electronic applianceInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置、そ
の製造方法および電子機器に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display, a method of manufacturing the same, and an electronic apparatus.
【０００２】[0002]
【技術背景】従来より、反射型表示が可能な液晶表示装
置が普及している。この種の液晶表示装置においては、
自然光や室内照明等の外光が前面側（観察側）から入射
し、この光が反射層によって反射することによって反射
型表示が行われる構成となっている。この構成によれ
ば、バックライトが不要となるから、低消費電力化およ
び軽量化を図ることができるという利点がある。このた
め、反射型液晶表示装置は、携帯型電子機器等を中心に
広く普及している。2. Description of the Related Art Conventionally, liquid crystal display devices capable of reflection type display have been widely used. In this type of liquid crystal display device,
External light such as natural light or indoor lighting enters from the front side (observation side), and this light is reflected by a reflective layer to perform a reflective display. According to this configuration, since no backlight is required, there is an advantage that power consumption and weight can be reduced. For this reason, reflection type liquid crystal display devices are widely used mainly in portable electronic devices and the like.
【０００３】ここで、図１１は、従来の反射型液晶表示
装置の構成を例示する断面図である。なお、同図におい
てはパッシブマトリクス方式の液晶表示装置５Ａが例示
されている。この図に示されるように、液晶表示装置５
Ａは、背面基板５１と前面基板５２とが、枠状のシール
材５３を介して接合された構成となっている。両基板の
間には液晶５４が封入される。また、前面基板５２の液
晶５４側の表面には、所定の方向に延在する複数の透明
電極５２１が形成されている。また、透明電極５２１が
形成された前面基板５２の表面は、配向膜５２２によっ
て覆われている。この配向膜５２２には、電圧が印加さ
れていないときの液晶５４の配向方向を規定するための
ラビング処理が施されている。FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating the configuration of a conventional reflection type liquid crystal display device. Note that FIG. 2 illustrates a passive matrix type liquid crystal display device 5A. As shown in this figure, the liquid crystal display 5
A has a configuration in which a rear substrate 51 and a front substrate 52 are joined via a frame-shaped sealing material 53. A liquid crystal 54 is sealed between the two substrates. Further, a plurality of transparent electrodes 521 extending in a predetermined direction are formed on the surface of the front substrate 52 on the liquid crystal 54 side. The surface of the front substrate 52 on which the transparent electrodes 521 are formed is covered with an alignment film 522. The alignment film 522 has been subjected to a rubbing process for defining the alignment direction of the liquid crystal 54 when no voltage is applied.
【０００４】一方、背面基板５１の液晶５４側の表面に
は、反射層５１１、絶縁層５１２、カラーフィルタ層５
１３および保護層５１４がこの順に形成されている。反
射層５１１は、反射性を有する金属（例えばアルミニウ
ム等）の薄膜である。絶縁層５１２は、反射層５１１を
保護するための薄膜である。カラーフィルタ層５１３
は、複数のカラー画素５１３ａと遮光層（ブラックマト
リクス）５１３ｂとからなる。On the other hand, a reflective layer 511, an insulating layer 512, a color filter layer 5
13 and a protective layer 514 are formed in this order. The reflective layer 511 is a thin film of a reflective metal (for example, aluminum or the like). The insulating layer 512 is a thin film for protecting the reflection layer 511. Color filter layer 513
Is composed of a plurality of color pixels 513a and a light shielding layer (black matrix) 513b.
【０００５】保護層５１４は、カラーフィルタ層５１３
を保護するための薄膜である。この保護層５１４の表面
には、上記透明電極５２１と直交する方向に延在する複
数の透明電極５１５が形成されている。これらの透明電
極５１５が形成された保護層５１４の表面は、上記配向
膜５２２と同様の配向膜５１６によって覆われている。[0005] The protective layer 514 includes a color filter layer 513.
It is a thin film for protecting. On the surface of the protective layer 514, a plurality of transparent electrodes 515 extending in a direction orthogonal to the transparent electrode 521 are formed. The surface of the protective layer 514 on which the transparent electrodes 515 are formed is covered with an alignment film 516 similar to the alignment film 522.
【０００６】さらに、背面基板５１側の配向膜５１６と
前面基板５２側の配向膜５２２との間には球状のスペー
サ５５が複数散布されている。これらのスペーサ５５
は、背面基板５１と前面基板５２との間の距離（以下、
「セルギャップ」という。）を均一に保つためのもので
ある。Further, a plurality of spherical spacers 55 are scattered between the alignment film 516 on the rear substrate 51 and the alignment film 522 on the front substrate 52. These spacers 55
Is a distance between the rear substrate 51 and the front substrate 52 (hereinafter, referred to as a distance).
It is called "cell gap." ) Is kept uniform.
【０００７】このような構成において、前面基板５２側
から入射した光は、前面基板５２および液晶５４等を通
過した後、反射層５１１の表面において反射する。そし
てこの反射光は、再び液晶５４および前面基板５２を通
過して、観察側に出射する。この結果、反射型表示が行
われる。In such a configuration, light incident from the front substrate 52 side is reflected on the surface of the reflective layer 511 after passing through the front substrate 52 and the liquid crystal 54 and the like. Then, the reflected light passes through the liquid crystal 54 and the front substrate 52 again and exits to the observation side. As a result, a reflective display is performed.
【０００８】ここで、反射層５１１の表面は鏡面状であ
る。このため、図１２に示されるように、当該液晶表示
装置５Ａの基板面と垂直な方向Ｈには強い光（正反射
光）が出射することとなる。しかしながら、図１２に示
す角度θが大きくなるにつれて出射光の強度は弱くな
る。したがって、角度θが大きい位置においては、表示
画像が暗くなってしまうという問題がある。Here, the surface of the reflection layer 511 is mirror-like. For this reason, as shown in FIG. 12, strong light (specular reflection light) is emitted in the direction H perpendicular to the substrate surface of the liquid crystal display device 5A. However, as the angle θ shown in FIG. 12 increases, the intensity of the emitted light decreases. Therefore, there is a problem that the display image becomes dark at a position where the angle θ is large.
【０００９】このような問題を解決するために、外部散
乱方式の液晶表示装置が提案されている。図１３は、こ
の種の液晶表示装置の構成を例示する断面図である。な
お、図１３中の各要素のうち、図１１に示された要素と
共通するものについては、同一の符号を付してその説明
を省略する。図１３に示されるように、この液晶表示装
置５Ｂは、前面基板５２の外側に拡散フィルタ５６を有
している。In order to solve such a problem, an external scattering type liquid crystal display device has been proposed. FIG. 13 is a cross-sectional view illustrating the configuration of this type of liquid crystal display device. In addition, among the elements in FIG. 13, the elements common to the elements illustrated in FIG. 11 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. As shown in FIG. 13, the liquid crystal display device 5B has a diffusion filter 56 outside the front substrate 52.
【００１０】この液晶表示装置５Ｂにおいて、前面基板
５２側から入射した光は、拡散フィルタ５６によって散
乱した後、前面基板５２および液晶５４等を通過して、
反射層５１１の表面において反射する。そしてこの反射
光は、再び液晶５４および前面基板５２を通過して、拡
散フィルタ５６によって散乱した後、観察側に出射す
る。このように、外部散乱方式を採用した液晶表示装置
５Ｂによれば、正反射光に加えて、拡散フィルタ５６に
よって散乱された散乱光を利用することができる。した
がって、正反射光のみを利用する液晶表示装置５Ａと比
較して、より広い範囲にわたって強い光を出射させるこ
とができる。そしてこの結果、広い範囲において明るい
表示を行うことができる。In this liquid crystal display device 5B, light incident from the front substrate 52 side is scattered by the diffusion filter 56, and then passes through the front substrate 52, the liquid crystal 54 and the like.
The light is reflected on the surface of the reflective layer 511. The reflected light passes through the liquid crystal 54 and the front substrate 52 again, is scattered by the diffusion filter 56, and is emitted to the observation side. As described above, according to the liquid crystal display device 5B employing the external scattering method, the scattered light scattered by the diffusion filter 56 can be used in addition to the specularly reflected light. Therefore, compared to the liquid crystal display device 5A using only specular reflection light, it is possible to emit strong light over a wider range. As a result, a bright display can be performed in a wide range.
【００１１】しかしながら、この液晶表示装置５Ｂにお
いて、観察者によって視認される光は、当該液晶表示装
置５Ｂに入射してから観察側に出射するまでの間に、拡
散フィルタ５６において２回散乱する。このため、表示
される画像の輪郭がぼやけるという問題がある。However, in the liquid crystal display device 5B, the light visually recognized by the observer is scattered twice in the diffusion filter 56 between the time when the light is incident on the liquid crystal display device 5B and the time when the light is emitted to the observation side. For this reason, there is a problem that the outline of the displayed image is blurred.
【００１２】この問題を解決するために、内部散乱方式
の液晶表示装置が提案されている。図１４は、この種の
液晶表示装置の構成を例示する断面図である。なお、図
１４中の各要素のうち、図１１に示された要素と共通す
るものについては、同一の符号を付してその説明を省略
する。In order to solve this problem, there has been proposed an internal scattering type liquid crystal display device. FIG. 14 is a cross-sectional view illustrating the configuration of this type of liquid crystal display device. Note that among the elements in FIG. 14, those that are common to the elements shown in FIG. 11 are given the same reference numerals, and descriptions thereof will be omitted.
【００１３】図１４に示されるように、内部散乱方式の
液晶表示装置５Ｃにおいては、背面基板５１の液晶５４
側の表面が粗面化されている。すなわち、この表面には
多数の微細な突起と窪みとが形成されている。反射層５
１７はこの粗面上に形成される。したがって、反射層５
１７の表面には、粗面に形成された突起と窪みとを反映
した突起と窪みとが形成される。As shown in FIG. 14, in the liquid crystal display device 5C of the internal scattering system, the liquid crystal 54 on the rear substrate 51 is provided.
The surface on the side is roughened. That is, many fine projections and depressions are formed on this surface. Reflective layer 5
17 is formed on this rough surface. Therefore, the reflection layer 5
On the surface of 17, projections and depressions are formed that reflect the projections and depressions formed on the rough surface.
【００１４】この液晶表示装置５Ｃにおいて、前面基板
５２側から入射した光は、前面基板５２および液晶５４
等を通過した後、反射層５１７の表面において反射す
る。ここで、上記のように、反射層５１７の表面には微
細な突起と窪みとが形成されている。したがって、反射
層５１７に至った光は、適度に散乱した状態で反射し、
再び液晶５４および前面基板５２を通過して、観察側に
出射する。このような構成によれば、正反射光に加えて
散乱光も利用できるため、正反射光のみを利用する液晶
表示装置５Ａと比較して、より広い範囲にわたって強い
光を出射させることができる。この結果、広い範囲にわ
たって高品位な表示を行うことができる。さらに、この
液晶表示装置５Ｃにおいては、光が散乱する回数は１回
である。したがって、上述した外部散乱方式の液晶表示
装置５Ｂと比較して、表示画像の輪郭がぼやけるのを抑
えることができる。In the liquid crystal display device 5C, light incident from the front substrate 52 side is reflected by the front substrate 52 and the liquid crystal 54.
After that, the light is reflected on the surface of the reflective layer 517. Here, as described above, fine projections and depressions are formed on the surface of the reflective layer 517. Therefore, the light that has reached the reflective layer 517 is reflected in an appropriately scattered state,
The light passes through the liquid crystal 54 and the front substrate 52 again and is emitted to the observation side. According to such a configuration, scattered light can be used in addition to the specularly reflected light, so that intense light can be emitted over a wider range as compared with the liquid crystal display device 5A using only the specularly reflected light. As a result, high-quality display can be performed over a wide range. Further, in the liquid crystal display device 5C, the number of times light is scattered is one. Therefore, blurring of the outline of the display image can be suppressed as compared with the above-described external scattering type liquid crystal display device 5B.
【００１５】また、内部散乱方式を採用した半透過反射
型液晶表示装置も提案されている。図１５は、この種の
液晶表示装置の構成を例示する断面図である。なお、図
１５中の各要素のうち、図１１または図１４に示された
要素と共通するものについては、同一の符号を付してそ
の説明を省略する。A transflective liquid crystal display device employing an internal scattering system has also been proposed. FIG. 15 is a cross-sectional view illustrating the configuration of this type of liquid crystal display device. Note that among the elements in FIG. 15, those that are common to the elements shown in FIG. 11 or FIG. 14 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
【００１６】図１５に示されるように、液晶表示装置５
Ｄは、背面基板５１の背面側にバックライトユニット５
７を備えている。このバックライトユニット５７は、光
源５７１と導光板５７２とを含む。光源５７１は、例え
ば冷陰極管である。導光板５７２は、光源５７１から側
端面に入射した光を背面基板５１側に導く。また、液晶
表示装置５Ｄにおいては、前述した液晶表示装置５Ｃに
おける反射層５１７に代えて、反射半透過層５１９が設
けられている。反射半透過層５１９は、複数の開口部５
１９ａが形成されたアルミニウム等の薄膜である。As shown in FIG. 15, the liquid crystal display 5
D indicates the backlight unit 5 on the rear side of the rear substrate 51.
7 is provided. The backlight unit 57 includes a light source 571 and a light guide plate 572. The light source 571 is, for example, a cold cathode tube. The light guide plate 572 guides light incident on the side end surface from the light source 571 to the rear substrate 51 side. In the liquid crystal display device 5D, a transflective layer 519 is provided instead of the reflective layer 517 in the liquid crystal display device 5C described above. The reflective transflective layer 519 includes a plurality of openings 5.
19a is a thin film of aluminum or the like on which is formed.
【００１７】このような構成において、前面基板５２側
から入射した光は、前面基板５２および液晶５４等を通
過した後、反射半透過層５１９の表面において反射す
る。この反射光は、再び液晶５４および前面基板５２を
通過して、観察側に出射する。この結果、反射型表示が
行われる。In such a configuration, light incident from the front substrate 52 side is reflected on the surface of the reflective semi-transmissive layer 519 after passing through the front substrate 52 and the liquid crystal 54 and the like. This reflected light passes through the liquid crystal 54 and the front substrate 52 again and is emitted to the observation side. As a result, a reflective display is performed.
【００１８】一方、暗所では光源５７１が点灯して透過
型表示が行われる。すなわち、まず、光源５７１から出
射した光は、導光板５７２によって背面基板５１側に導
かれる。この光は、背面基板５１、反射半透過層５１９
の開口部５１９ａ、液晶５４および前面基板５２等を通
過して、観察側に出射する。この結果、透過型表示が行
われる。On the other hand, in a dark place, the light source 571 is turned on to perform a transmissive display. That is, first, the light emitted from the light source 571 is guided to the rear substrate 51 by the light guide plate 572. This light is applied to the back substrate 51, the reflective semi-transmissive layer 519.
Through the opening 519a, the liquid crystal 54, the front substrate 52, and the like. As a result, a transmissive display is performed.
【００１９】ここで、上記内部散乱方式を採用した液晶
表示装置５Ｃまたは５Ｄにおいて、図１４または図１５
に示されるように、背面基板５１の全面を粗面化した場
合を想定する。この場合、シール材５３は粗面上に形成
される。しかしながら、この構成を採用した場合、シー
ル材５３と背面基板５１表面との密着性が低くなってし
まうため、シール材５３の強度が部分的に低下してしま
うという問題がある。また、このようにシール材５３と
背面基板５１表面との密着性が低下する結果、双方の間
に隙間が生じ得る。さらには、このような隙間が、液晶
５４が封入される領域（すなわち、背面基板５１と前面
基板５２とが対向する領域）から外部に至るように形成
されることもあり得る。かかる隙間が形成された場合、
封入された液晶５４の一部がこの隙間を通って外部に漏
れたり、または水分が外部からこの隙間を通って流入し
て液晶５４に混入するといった事態が生じ、ひいては液
晶表示装置の表示特性が劣化するという問題が生じる。Here, in the liquid crystal display device 5C or 5D adopting the internal scattering system, FIG. 14 or FIG.
It is assumed that the entire surface of the rear substrate 51 is roughened as shown in FIG. In this case, the sealing material 53 is formed on the rough surface. However, when this configuration is employed, the adhesion between the sealing material 53 and the surface of the back substrate 51 is reduced, and thus the strength of the sealing material 53 is partially reduced. In addition, as a result of the reduced adhesion between the sealing material 53 and the surface of the rear substrate 51, a gap may be formed between the two. Furthermore, such a gap may be formed so as to extend from a region where the liquid crystal 54 is sealed (that is, a region where the rear substrate 51 and the front substrate 52 face each other) to the outside. When such a gap is formed,
A part of the enclosed liquid crystal 54 leaks to the outside through this gap, or water enters from the outside through this gap to be mixed into the liquid crystal 54, and as a result, the display characteristics of the liquid crystal display device are deteriorated. A problem of deterioration occurs.
【００２０】また、セルギャップを均一にするために、
円柱状のガラスファイバが混入されたシール材５３を用
いることが提案されている。しかしながら、粗面上にシ
ール材５３を形成した場合、一部のガラスファイバが粗
面における突起の頂上部に位置し、他のガラスファイバ
が粗面における窪みの底部に位置するといった状態とな
り、この結果セルギャップを均一に保つことができない
という問題も生じ得る。In order to make the cell gap uniform,
It has been proposed to use a sealing material 53 mixed with a columnar glass fiber. However, when the sealing material 53 is formed on the rough surface, a part of the glass fiber is located at the top of the projection on the rough surface, and the other glass fiber is located at the bottom of the depression on the rough surface. As a result, a problem that the cell gap cannot be kept uniform may occur.
【００２１】[0021]
【発明が解決しようとする課題】このような問題を解決
するために、背面基板５１の表面のうちシール材５３が
形成される領域を平坦な領域とすることが考えられる。
こうすれば、シール材５３と背面基板５１とを十分に密
着させることができるので、上述した問題を解決するこ
とができる。しかしながら、この構成を採用した場合、
平坦な領域と粗面化された領域との境界をいずれの位置
に設定すべきかということが問題となる。In order to solve such a problem, it is conceivable that a region where the sealing material 53 is formed on the surface of the rear substrate 51 is a flat region.
In this case, the sealing material 53 and the back substrate 51 can be sufficiently adhered to each other, so that the above-described problem can be solved. However, when this configuration is adopted,
The problem is where to set the boundary between the flat area and the roughened area.
【００２２】ここで、一般の液晶表示装置においては、
シール材５３の内側から１ないし３の画素をダミーの画
素として機能させる構成が採られる。図１４または図１
５においては、シール材５３の内側から１個の画素をダ
ミーの画素とする場合が例示されている。したがって、
シール材５３の内側から１画素分までの領域は表示に寄
与しない非表示領域６４となり、これよりも内側の領域
が実際の表示に寄与する表示領域６３となる。Here, in a general liquid crystal display device,
A configuration is adopted in which one to three pixels from the inside of the sealing material 53 function as dummy pixels. FIG. 14 or FIG.
5 illustrates a case where one pixel from the inside of the sealing material 53 is a dummy pixel. Therefore,
An area from the inside of the sealing material 53 to one pixel is a non-display area 64 that does not contribute to display, and an area inside this area is a display area 63 that contributes to actual display.
【００２３】一方、上記のように散乱光を用いた良好な
表示を行うためには、背面基板５１表面のうち、少なく
とも表示領域６３に対応する領域は粗面とする必要があ
る。この事情を考慮すれば、図１６に示されるように、
背面基板５１表面のうち表示領域６３に対応する領域を
粗面とする一方、非表示領域に対応する領域は平坦な領
域とすることが考えられる。On the other hand, in order to perform good display using scattered light as described above, at least a region corresponding to the display region 63 on the surface of the rear substrate 51 needs to be roughened. Considering this situation, as shown in FIG.
A region corresponding to the display region 63 on the surface of the rear substrate 51 may be roughened, while a region corresponding to the non-display region may be a flat region.
【００２４】ところで、背面基板５１の粗面は、例えば
平坦な基板面の一部をエッチングによって除去すること
によって形成することができる。また、平坦な基板面に
対して多数の研磨粉を吹き付けて基板面に微細な窪みを
形成するサンドブラスト処理によって形成することもで
きる。ここで、これらの方法により形成された粗面の高
さは平坦面の高さよりも低くなる。すなわち、図１６に
示されるように、粗面と平坦面との境界（すなわち、表
示領域６３と非表示領域６４との境界６５）には段差ｈ
が形成される。上述したように、表示に寄与する画素は
表示領域６３内に位置し、表示に寄与しない画素（ダミ
ー画素）は非表示領域６４内に位置する。したがって、
上述したカラーフィルタ層５１３や配向膜５１６等は、
この段差ｈを跨ぐ構成となる。この結果、図１６に示さ
れるように、カラーフィルタ層５１３や配向膜５１６等
の表面には、背面基板５１上の段差ｈに対応した段差が
形成される。しかしながら、こうして配向膜５１６等の
表面に段差が形成された場合、以下に示す問題が生じ
る。The rough surface of the rear substrate 51 can be formed, for example, by removing a part of the flat substrate surface by etching. Alternatively, it can be formed by sandblasting in which a large number of polishing powders are sprayed on a flat substrate surface to form fine depressions on the substrate surface. Here, the height of the rough surface formed by these methods is lower than the height of the flat surface. That is, as shown in FIG. 16, a step h is formed at the boundary between the rough surface and the flat surface (that is, the boundary 65 between the display region 63 and the non-display region 64).
Is formed. As described above, pixels that contribute to display are located in the display area 63, and pixels that do not contribute to display (dummy pixels) are located in the non-display area 64. Therefore,
The above-described color filter layer 513, alignment film 516, etc.
The configuration is such that the step h is straddled. As a result, as shown in FIG. 16, a step corresponding to the step h on the rear substrate 51 is formed on the surface of the color filter layer 513, the alignment film 516, and the like. However, when a step is formed on the surface of the alignment film 516 or the like, the following problem occurs.
【００２５】ここで、複数のスペーサ５５は、配向膜５
１６上に散布される。しかしながら、この配向膜５１６
の表面に段差が形成された場合、段差を挟んだ一方の側
と他方の側とで、複数のスペーサ５５が散布される高さ
が異なる。この結果、セルギャップが不均一となってし
まう。このようにセルギャップが不均一となると、表示
される画像に色ムラが発生し、表示品質が低下してしま
うという問題がある。特に、ＳＴＮ（Super Twisted Ne
matic）モードの液晶表示装置においては、セルギャッ
プのわずかな不均一さが、大幅な表示品質の低下を招く
こととなるから、上述した問題は深刻である。Here, the plurality of spacers 55 are
16 is sprayed. However, this alignment film 516
When a step is formed on the surface of the surface, the height at which the plurality of spacers 55 are dispersed is different between one side and the other side across the step. As a result, the cell gap becomes non-uniform. When the cell gap becomes non-uniform as described above, there is a problem that color unevenness occurs in a displayed image and display quality deteriorates. In particular, STN (Super Twisted Ne)
In the matic mode liquid crystal display device, the above-mentioned problem is serious because a slight non-uniformity of the cell gap causes a significant decrease in display quality.
【００２６】また、配向膜５１６にはラビング処理が施
される。このラビング処理は、配向膜５１６の表面を布
などによって所定方向に擦る処理である。しかしなが
ら、この配向膜５１６の表面に段差が形成されている場
合、この段差の影となる表示領域６３の周端部には布が
接触しない。つまり、表示領域６３の一部にラビング処
理が施されない領域が発生する。液晶５４は、このよう
にラビング処理が施されない領域では所望の方向に配向
しない。この結果、表示領域６３の周縁部において表示
不良が発生してしまう。The alignment film 516 is subjected to a rubbing process. The rubbing process is a process of rubbing the surface of the alignment film 516 with a cloth or the like in a predetermined direction. However, when a step is formed on the surface of the alignment film 516, the cloth does not come into contact with the peripheral edge of the display area 63 which is a shadow of the step. That is, an area where the rubbing process is not performed occurs in a part of the display area 63. The liquid crystal 54 is not aligned in a desired direction in the region where the rubbing treatment is not performed. As a result, display defects occur at the peripheral portion of the display area 63.
【００２７】なお、図１１ないし図１５においては、パ
ッシブマトリクス方式の液晶表示装置を例示した。しか
しながら、上述した問題は、ＴＦＤ（Thin Film Diod
e）に代表される二端子型素子や、ＴＦＴ（Thin Film T
ransistor）に代表される三端子型素子を備えたアクテ
ィブマトリクス方式の液晶表示装置においても同様に生
じ得る。FIGS. 11 to 15 illustrate a passive matrix type liquid crystal display device. However, the above-mentioned problem is caused by TFD (Thin Film Diod).
e) and two-terminal devices such as TFTs and TFTs (Thin Film T).
This can also occur in an active matrix type liquid crystal display device having a three-terminal element represented by a ransistor.
【００２８】[0028]
【課題を解決するための手段】そこで、かかる問題を解
決すべく、本発明は、枠状のシール材を介して貼り合わ
された一対の基板と、両基板間に挟持された液晶と、一
方の基板の前記液晶側に形成された反射層と、当該反射
層の前記液晶側に形成された配向膜とを具備する液晶表
示装置であって、前記一方の基板の前記液晶側の表面
は、粗面化された粗面領域と、当該粗面領域を囲む平坦
な平坦領域とを有し、前記配向膜は前記粗面領域内に形
成され、前記シール材は前記平坦領域内に形成されるこ
とを特徴とする。換言すれば、本発明は、前記粗面領域
と前記平坦領域との境界が、前記シール材の内周部と前
記配向膜の縁端部との間に位置することを特徴としてい
る。In order to solve such a problem, the present invention provides a pair of substrates bonded together via a frame-shaped sealing material, a liquid crystal sandwiched between the two substrates, and one of the substrates. A liquid crystal display device comprising: a reflective layer formed on the liquid crystal side of a substrate; and an alignment film formed on the liquid crystal side of the reflective layer, wherein the surface of the one substrate on the liquid crystal side has a rough surface. A roughened surface region, and a flat flat region surrounding the roughened region, wherein the alignment film is formed in the roughened region, and the sealing material is formed in the flattened region. It is characterized by. In other words, the present invention is characterized in that a boundary between the rough surface region and the flat region is located between an inner peripheral portion of the sealing material and an edge of the alignment film.
【００２９】この液晶表示装置においては、配向膜が粗
面領域内に形成される。したがって、配向膜が、粗面領
域と平坦領域との境界に形成される段差を跨ぐことはな
いから、当該配向膜の表面に段差は形成されない。この
結果、複数のスペーサを同一の高さの表面上に散布する
ことができるから、一対の基板間のセルギャップを均一
に保つことができる。In this liquid crystal display device, the alignment film is formed in the rough surface region. Therefore, since the alignment film does not straddle the step formed at the boundary between the rough surface region and the flat region, no step is formed on the surface of the alignment film. As a result, a plurality of spacers can be scattered on the surface of the same height, so that the cell gap between the pair of substrates can be kept uniform.
【００３０】さらに、配向膜の表面に段差が形成されな
いので、当該配向膜の全面に対してラビング処理を施す
ことができる。つまり、段差に起因してラビング処理が
施されない領域が発生するのを有効に回避することがで
きる。したがって、表示領域の全面にわたって良好な表
示を実現することができる。Further, since no step is formed on the surface of the alignment film, a rubbing treatment can be performed on the entire surface of the alignment film. That is, it is possible to effectively avoid the generation of a region where the rubbing process is not performed due to the step. Therefore, good display can be realized over the entire display area.
【００３１】一方、シール材は、平坦領域内に形成され
るから、シール材と一方の基板とを十分に密着させるこ
とができる。したがって、シール材と一方の基板との間
に隙間が形成されるのを回避することができる。この結
果、液晶が外部に漏れたり、外部から水分が流入すると
いった事態を回避することができる。On the other hand, since the sealing material is formed in the flat area, the sealing material and one of the substrates can be sufficiently adhered. Therefore, formation of a gap between the sealing material and the one substrate can be avoided. As a result, it is possible to avoid such a situation that the liquid crystal leaks to the outside or that moisture flows from the outside.
【００３２】なお、上記液晶表示装置においては、前記
反射層に複数の開口部を設ける構成が望ましい。こうす
れば、反射層による反射光を用いた反射型表示に加え
て、前記一方の基板側から入射して前記開口部を通過し
た光を用いた透過型表示を行うこともできる。したがっ
て、十分な外光が存在しない状況下でも、明るい表示を
行うことができる。In the above liquid crystal display device, it is desirable that a plurality of openings are provided in the reflective layer. In this case, in addition to the reflective display using the light reflected by the reflective layer, a transmissive display using the light incident from the one substrate side and passing through the opening can be performed. Therefore, a bright display can be performed even in a situation where sufficient external light does not exist.
【００３３】さらに、前記反射層と前記配向膜との間に
あって前記一方の基板の粗面領域内に、カラーフィルタ
層、および当該カラーフィルタ層を保護する保護層を設
ける構成も望ましい。こうすれば、カラー表示を実現す
ることができる。また、カラーフィルタ層および保護層
は、粗面領域内に形成されるから、これらの表面に段差
が形成されることはない。したがって、上記と同様の理
由により、シール材と前記一方の基板との密着性を高め
つつ、セルギャップの均一化を図ることができる。加え
て、保護層の表面に配向膜を形成する場合であっても、
当該保護層の表面には段差が形成されていないため、配
向膜の表面に段差が形成されるのを回避することができ
る。Further, it is desirable that a color filter layer and a protective layer for protecting the color filter layer are provided between the reflective layer and the alignment film in the rough surface region of the one substrate. In this way, a color display can be realized. In addition, since the color filter layer and the protective layer are formed in the rough surface region, no step is formed on these surfaces. Therefore, for the same reason as described above, the cell gap can be made uniform while improving the adhesion between the sealing material and the one substrate. In addition, even when forming an alignment film on the surface of the protective layer,
Since no step is formed on the surface of the protective layer, the formation of a step on the surface of the alignment film can be avoided.
【００３４】また、上述した目的を達成するため、本発
明に係る電子機器は、上述したいずれかの液晶表示装置
を備えることを特徴としている。上述したように、この
液晶表示装置によれば良好な表示特性を得ることができ
るから、各種の電子機器の表示装置として好適である。Further, in order to achieve the above-mentioned object, an electronic apparatus according to the present invention includes any one of the above-described liquid crystal display devices. As described above, according to this liquid crystal display device, good display characteristics can be obtained, and thus the liquid crystal display device is suitable as a display device for various electronic devices.
【００３５】さらに、上述した目的を達成するため、本
発明に係る液晶表示装置の製造方法は、シール材を介し
て貼り合わされた一対の基板と、両基板間に挟持された
液晶と、一方の基板の前記液晶側に形成された反射層
と、当該反射層の前記液晶側に形成された配向膜とを具
備する液晶表示装置の製造方法であって、前記一方の基
板の表面のうち、当該基板の縁部近傍の部分をマスク材
によって覆う工程と、前記表面のうち前記マスク材によ
って覆われた領域以外の領域を粗面化して粗面領域を形
成する工程と、前記粗面領域内に前記反射層および前記
配向膜を形成する工程と、前記マスク材によって覆われ
ていた平坦領域内に前記シール材を形成する工程と、当
該一方の基板を、前記シール材を介して他方の基板と貼
り合わせる工程とを有することを特徴とする。Further, in order to achieve the above-mentioned object, a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention comprises a method of manufacturing a liquid crystal display device comprising: a pair of substrates bonded to each other via a sealing material; a liquid crystal sandwiched between the substrates; A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a reflective layer formed on the liquid crystal side of a substrate; and an alignment film formed on the liquid crystal side of the reflective layer, wherein a surface of the one substrate includes A step of covering a portion near the edge of the substrate with a mask material, a step of forming a rough surface region by roughening a region of the surface other than the region covered by the mask material, Forming the reflective layer and the alignment film, forming the sealing material in a flat region covered by the mask material, and forming the one substrate with the other substrate via the sealing material. Bonding process Characterized in that it.
【００３６】かかる製造方法によって得られた液晶表示
装置によれば、上記と同様の効果を得ることができる。
なお、上記マスク材としては、フォトレジスト、エポキ
シ樹脂等の樹脂系接着剤または塗料等を用いることがで
きる。According to the liquid crystal display device obtained by this manufacturing method, the same effects as described above can be obtained.
Note that as the mask material, a resin adhesive such as a photoresist or an epoxy resin, a paint, or the like can be used.
【００３７】なお、上記製造方法において、前記一方の
基板を、網状の形状を有する第１組成物と、当該第１組
成物の網間に存在する第２組成物とを含むものとし、前
記粗面化の際には、前記第１組成物と前記第２組成物と
で溶出速度が異なる処理液を用いて、前記一方の基板に
エッチングを施すことによって、前記マスク材によって
覆われた領域以外の領域に前記第１組成物の形状に応じ
た粗面を形成するようにしてもよい。なお、上記処理液
としては、例えば硝酸、硫酸、塩酸、過酸化水素、水素
二弗化アンモニウム、弗化アンモニウム、硝酸アンモニ
ウム、硫酸アンモニウム、塩酸アンモニウム等のうちの
いずれかまたは複数を、処理対象となる前記一方の基板
の原料に応じて、適宜所定の割合で組合わせたものを用
いることができる。粗面化の対象となる一方の基板とし
ては、例えばソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラス、バ
リウムホウ珪酸ガラス、バリウムアルミノ珪酸ガラス、
アルミノ珪酸ガラス等を用いることができる。一般に、
弗化水素酸水溶液のみで上記基板を処理した場合、当該
基板の全面が均一にエッチングされるため、粗面領域を
形成することはできない。しかしながら、基板に含まれ
る構成成分を選択的に溶出させるような補助薬品を適宜
添加することによって、多数の微小な山部と谷部とを有
する粗面領域を形成することができる。なお、処理液に
混合される補助薬品は、上記に限定されるものではな
い。また、各処理液の種類や混合割合等は、処理対象と
なる基板の材質に応じて適宜選定されることが望まし
い。In the above manufacturing method, the one substrate includes a first composition having a net-like shape and a second composition present between the nets of the first composition, and At the time of chemical conversion, the first composition and the second composition are subjected to etching on the one substrate by using a processing solution having a different elution rate, so that a region other than the region covered by the mask material is etched. A rough surface corresponding to the shape of the first composition may be formed in the region. In addition, as the treatment liquid, for example, one or more of nitric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, hydrogen peroxide, ammonium hydrogen difluoride, ammonium fluoride, ammonium nitrate, ammonium sulfate, ammonium hydrochloride, etc. Depending on the material of one of the substrates, a material appropriately combined at a predetermined ratio can be used. As one substrate to be roughened, for example, soda lime glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, barium aluminosilicate glass,
Aluminosilicate glass or the like can be used. In general,
When the substrate is treated only with the hydrofluoric acid aqueous solution, the entire surface of the substrate is uniformly etched, so that a rough surface region cannot be formed. However, a rough surface region having many minute peaks and valleys can be formed by appropriately adding an auxiliary chemical that selectively elutes the components contained in the substrate. Note that the auxiliary chemicals mixed with the processing liquid are not limited to the above. Further, it is desirable that the type, the mixing ratio, and the like of each processing liquid are appropriately selected according to the material of the substrate to be processed.
【００３８】ここで、上記製造方法における粗面化の際
には、前記一方の基板の表面に対し、前記マスク材を介
して粒状部材を衝突させることによって、当該マスク材
によって覆われた領域以外の領域に前記山部および谷部
を形成することも考えられる。すなわち、いわゆるサン
ドブラスト処理を一方の基板の表面に対して施すのであ
る。ここで、このマスク材としては、例えばステンレス
スチール等の金属板に開口部を設けたものを用いること
ができる。このようなマスク材は一般に安価であり、ま
た、耐久性も高いため、製造コストを大幅に低減するこ
とができるという利点がある。さらに、マスク材は、サ
ンドブラスト処理後に容易に取り外すことができるた
め、別途マスク材を除去するための工程を必要としな
い。Here, when the surface is roughened in the above-mentioned manufacturing method, the granular material is caused to collide with the surface of the one substrate via the mask material, thereby excluding the area covered by the mask material. It is also conceivable to form the peaks and valleys in the region of. That is, so-called sandblasting is performed on the surface of one substrate. Here, as the mask material, a material in which an opening is provided in a metal plate such as stainless steel can be used. Since such a mask material is generally inexpensive and has high durability, there is an advantage that the manufacturing cost can be greatly reduced. Further, since the mask material can be easily removed after the sandblasting, a separate step for removing the mask material is not required.
【００３９】なお、上述した各製造方法においては、前
記粗面領域を形成する工程の後に前記マスク材を除去す
る工程と、当該マスク材によって覆われていた領域およ
び前記粗面領域に対してエッチングを施す工程とを有す
ることが望ましい。かかるエッチングによって、粗面領
域の形状を所望の形状に調節することができる。ここ
で、マスク材を除去する前にかかるエッチングを施した
場合には、粗面領域と平坦領域との間の高低差が拡大し
てしまうという問題がある。この結果、上記高低差が液
晶表示装置の所望のセルギャップよりも大きくなってし
まうと、その基板を当該液晶表示装置に用いることはで
きない。これに対し、マスク材を除去した後に、粗面領
域と平坦領域の双方に対して均一にエッチングを施すこ
とにより、双方の高低差の拡大を抑制することができる
という利点がある。In each of the above-described manufacturing methods, the step of removing the mask material after the step of forming the rough surface region and the step of etching the region covered by the mask material and the rough surface region And the step of applying By this etching, the shape of the rough surface region can be adjusted to a desired shape. Here, if such etching is performed before removing the mask material, there is a problem that the height difference between the rough surface region and the flat region is enlarged. As a result, if the height difference becomes larger than a desired cell gap of the liquid crystal display device, the substrate cannot be used for the liquid crystal display device. On the other hand, by uniformly etching both the rough surface area and the flat area after removing the mask material, there is an advantage that the difference in height between the two can be suppressed.
【００４０】[0040]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面を参照して説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００４１】＜Ａ：液晶表示装置の構成＞ ＜Ａ−１：第１実施形態＞最初に、本発明の第１実施形
態に係る液晶表示装置の構成を説明する。なお、本実施
形態においては、スイッチング素子としてＴＦＤ（Thin
Film Diode）を用いた内面散乱方式の反射型液晶表示
装置を例示する。<A: Configuration of Liquid Crystal Display><A-1: First Embodiment> First, the configuration of the liquid crystal display according to the first embodiment of the present invention will be described. In this embodiment, TFD (Thin) is used as a switching element.
An example of a reflection type liquid crystal display device of an internal scattering type using a film diode is shown.
【００４２】図１は、本実施形態に係る液晶表示装置１
Ａの一部の構成を例示する断面図である。図２は、液晶
表示装置１Ａの分解斜視図である。なお、図１は、図２
におけるＡ−Ａ’線視断面図となっている。これらの図
に示されるように、液晶表示装置１Ａは、背面基板１１
と前面基板１２とが枠状のシール材１３を介して接合さ
れた構成となっている。両基板の間には液晶１４が封入
される。背面基板１１および前面基板１２は、ガラスや
石英、プラスティック等からなり、光透過性を有してい
る。なお、実際には、前面基板１１の液晶１４とは反対
側の表面に、入射光を偏光させるための偏光板や位相差
板等が貼着されるが、これらの図示は省略されている。FIG. 1 shows a liquid crystal display device 1 according to this embodiment.
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a partial configuration of A. FIG. 2 is an exploded perspective view of the liquid crystal display device 1A. FIG. 1 is similar to FIG.
3 is a sectional view taken along the line AA ′ in FIG. As shown in these figures, the liquid crystal display device 1A includes a rear substrate 11
And the front substrate 12 are joined via a frame-shaped sealing material 13. Liquid crystal 14 is sealed between the two substrates. The back substrate 11 and the front substrate 12 are made of glass, quartz, plastic, or the like, and have light transmittance. Note that, in practice, a polarizing plate or a phase difference plate for polarizing incident light is attached to the surface of the front substrate 11 on the side opposite to the liquid crystal 14, but these are not shown.
【００４３】図１および図２に示されるように、前面基
板１２の液晶１４側の表面には、複数の画素電極１２１
がマトリクス状に配列している。各画素電極１２１は、
例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料に
よって形成される。また、図２に示されるように、前面
基板１２の液晶１４側の表面には、所定方向に延在する
複数の走査線１２３が形成される。各画素電極１２１と
これに隣接する走査線１２３とは、ＴＦＤ１２２を介し
て接続される。As shown in FIGS. 1 and 2, a plurality of pixel electrodes 121 are provided on the surface of the front substrate 12 on the liquid crystal 14 side.
Are arranged in a matrix. Each pixel electrode 121
For example, it is formed of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide). Further, as shown in FIG. 2, a plurality of scanning lines 123 extending in a predetermined direction are formed on the surface of the front substrate 12 on the liquid crystal 14 side. Each pixel electrode 121 and a scanning line 123 adjacent thereto are connected via a TFD 122.
【００４４】図１に示されるように、画素電極１２１、
ＴＦＤ１２２および走査線１２３が形成された前面基板
１２の表面は、配向膜１２４によって覆われている。こ
の配向膜１２４は、電圧が印加されていないときの液晶
１４の配向方向を規定するためのラビング処理が施され
ている。このラビング処理は、配向膜１２４の表面を布
などによって所定方向に擦る処理である。As shown in FIG. 1, the pixel electrodes 121,
The surface of the front substrate 12 on which the TFD 122 and the scanning lines 123 are formed is covered with an alignment film 124. The alignment film 124 has been subjected to a rubbing process for defining the alignment direction of the liquid crystal 14 when no voltage is applied. The rubbing process is a process of rubbing the surface of the alignment film 124 in a predetermined direction with a cloth or the like.
【００４５】一方、図１に示されるように、背面基板１
１の液晶１４側の表面は、平坦領域１１ａと粗面領域１
１ｂとからなる。粗面領域１１ｂは、多数の微細な突起
と窪みとを有する領域である。なお、粗面領域１１ｂに
おける突起の頂上部から窪みの底部までの距離は、０．
５×１０−６ないし２．５×１０−６ｍ程度である。ま
た、粗面領域１１ｂにおける任意の突起の頂上部から、
当該突起に隣接する他の突起の頂上部までの距離は、１
０×１０−６ないし１５×１０−６ｍ程度である。一
方、平坦領域１１ａは、表面が平坦な領域である。On the other hand, as shown in FIG.
1 has a flat region 11 a and a rough surface region 1.
1b. The rough surface region 11b is a region having many fine projections and depressions. Note that the distance from the top of the projection to the bottom of the depression in the rough surface region 11b is equal to 0.
It is about 5 × 10 −6 to 2.5 × 10 −6 m. Also, from the top of any protrusion in the rough surface region 11b,
The distance to the top of another protrusion adjacent to the protrusion is 1
It is about 0 × 10 −6 to 15 × 10 −6 m. On the other hand, the flat region 11a is a region having a flat surface.
【００４６】ここで、図３には、背面基板１１の表面に
おける平坦領域１１ａと粗面領域１１ｂとの位置関係が
示されている。この図に示されるように、平坦領域１１
ａは、背面基板１１の縁部に沿って粗面領域１１ｂ（図
３において斜線が付された領域）を囲むように形成され
る。上述した枠状のシール材１３は、平坦領域１１ａ内
に形成される。シール材１３の幅ｃ１（図１参照）は、
例えば０．８×１０− ３ないし１．１×１０−３ｍ程度
である。なお、背面基板１１の表面に平坦領域１１ａお
よび粗面領域１１ｂを選択的に形成する方法については
後述する。Here, FIG. 3 shows the positional relationship between the flat region 11a and the rough surface region 11b on the surface of the rear substrate 11. As shown in FIG.
a is formed along the edge of the back substrate 11 so as to surround the rough surface region 11b (the hatched region in FIG. 3). The above-mentioned frame-shaped sealing material 13 is formed in the flat region 11a. The width c1 (see FIG. 1) of the sealing material 13 is
For example 0.8 × 10 - 3 are to 1.1 × 10 -3 order m. A method for selectively forming the flat region 11a and the rough surface region 11b on the surface of the back substrate 11 will be described later.
【００４７】また、図１に示されるように、背面基板１
１の粗面領域１１ｂ内には、反射層１１１が形成され
る。この反射層１１１は、前面基板１２側からの入射光
を反射させるための層である。反射層１１１は、アルミ
ニウム等の反射性を有する金属により形成される。図１
に示されるように、この反射層１１１の表面には、粗面
領域１１ｂの微細な突起と窪みとを反映した突起と窪み
とが形成される。すなわち、当該反射層１１１に至った
光を適度に散乱させた状態で反射させるための散乱構造
が形成される。この反射層１１１は、絶縁層１１２によ
って覆われている。絶縁層１１２は、反射層１１１を保
護するための薄膜であり、二酸化珪素等により形成され
る。図１に示されるように、この絶縁層１１２の表面に
は、反射層１１１表面の突起と窪みとを反映した突起と
窪みとが形成される。Also, as shown in FIG.
The reflection layer 111 is formed in the one rough surface region 11b. The reflection layer 111 is a layer for reflecting incident light from the front substrate 12 side. The reflective layer 111 is formed of a reflective metal such as aluminum. FIG.
As shown in the figure, on the surface of the reflection layer 111, projections and depressions reflecting the fine projections and depressions in the rough surface region 11b are formed. That is, a scattering structure for reflecting the light that has reached the reflective layer 111 in an appropriately scattered state is formed. The reflection layer 111 is covered with the insulating layer 112. The insulating layer 112 is a thin film for protecting the reflective layer 111, and is formed of silicon dioxide or the like. As shown in FIG. 1, on the surface of the insulating layer 112, projections and depressions reflecting the projections and depressions on the surface of the reflection layer 111 are formed.
【００４８】絶縁層１１２上には、複数のカラー画素１
１３ａと遮光層１１３ｂとからなるカラーフィルタ層１
１３が形成される。各カラー画素１１３ａは、例えばＲ
（赤色）、Ｇ（緑色）またはＢ（青色）のうちのいずれ
かに着色されている。図２に示されるように、各色のカ
ラー画素１１３ａは、所定の規則に従って配列される。
これらのカラー画素１１３ａは、例えば着色感材法、染
色法、転写法または印刷法などにより形成される。一
方、遮光層１１３ｂは、各カラー画素１１３ａの間に形
成される。この遮光層１１３ｂは、例えばクロム等の金
属や、黒色顔料を分散させたカラーレジスト等により形
成される。On the insulating layer 112, a plurality of color pixels 1
Color filter layer 1 composed of 13a and light shielding layer 113b
13 are formed. Each color pixel 113a is, for example, R
(Red), G (green) or B (blue). As shown in FIG. 2, the color pixels 113a of each color are arranged according to a predetermined rule.
These color pixels 113a are formed by, for example, a coloring material method, a dyeing method, a transfer method, a printing method, or the like. On the other hand, the light shielding layer 113b is formed between each color pixel 113a. The light-shielding layer 113b is formed of, for example, a metal such as chromium or a color resist in which a black pigment is dispersed.
【００４９】カラーフィルタ層１１３の表面には保護層
１１４が形成される。この保護層１１４は、カラーフィ
ルタ１１３を保護するための有機薄膜である。図１に示
されるように、保護層１１４は、反射層１１１、絶縁層
１１２およびカラーフィルタ層１１３を完全に覆うよう
に形成される。反射層１１１の縁端部２１から保護層１
１４の縁端部２２までの距離ａ１は、例えば０．０２×
１０−３ないし０．０５×１０−３ｍ程度である。ま
た、保護層１１４の縁端部２２からシール材１３の内周
端までの距離ｂ１は、０．１×１０−３ないし１．１×
１０−３ｍ程度であることが望ましい。On the surface of the color filter layer 113, a protective layer 114 is formed. The protective layer 114 is an organic thin film for protecting the color filter 113. As shown in FIG. 1, the protective layer 114 is formed to completely cover the reflective layer 111, the insulating layer 112, and the color filter layer 113. From the edge 21 of the reflective layer 111 to the protective layer 1
The distance a1 to the edge 22 of the 14 is, for example, 0.02 ×
10 -3 to a 0.05 × 10 -3 order m. The distance b1 from the edge 22 of the protective layer 114 to the inner peripheral edge of the sealing material 13 is 0.1 × 10 −3 to 1.1 ×.
It is desirable to be about 10 −3 m.
【００５０】この保護層１１４の表面には、複数の透明
電極１１５が形成されている。図２に示されるように、
各透明電極１１５は、上述した複数の走査線１２３と交
差する方向に延在する帯状の電極である。各透明電極１
１５は、前面基板１２側に列をなす複数の画素電極１２
１と対向する。これらの透明電極１１５が形成された保
護層１１４の表面は配向膜１１６によって覆われてい
る。この配向膜１１６は、前面基板１２上に形成された
配向膜１２４と同様の有機薄膜である。On the surface of the protective layer 114, a plurality of transparent electrodes 115 are formed. As shown in FIG.
Each transparent electrode 115 is a strip-shaped electrode extending in a direction intersecting the plurality of scanning lines 123 described above. Each transparent electrode 1
Reference numeral 15 denotes a plurality of pixel electrodes 12 in a row on the front substrate 12 side.
Opposed to 1. The surface of the protective layer 114 on which these transparent electrodes 115 are formed is covered with an alignment film 116. The alignment film 116 is an organic thin film similar to the alignment film 124 formed on the front substrate 12.
【００５１】前面基板１２上の配向膜１２４と、背面基
板１１上の配向膜１１６との間隙には、複数のスペーサ
１５が散布される（図２においては省略されてい
る。）。これらのスペーサ１５は、両基板のセルギャッ
プを均一に保つためのものであり、例えば二酸化珪素や
ポリスチレン等により形成される。In the gap between the alignment film 124 on the front substrate 12 and the alignment film 116 on the rear substrate 11, a plurality of spacers 15 are scattered (not shown in FIG. 2). These spacers 15 are for maintaining a uniform cell gap between the two substrates, and are formed of, for example, silicon dioxide, polystyrene, or the like.
【００５２】ここで、反射層１１１、絶縁層１１２、カ
ラーフィルタ層１１３、保護層１１４および配向膜１１
６は、背面基板１１上の粗面領域１１ｂ内に形成され
る。詳述すると、以下の通りである。まず、本実施形態
においては、図１に示すように、保護層１１４の縁端部
２２が、反射層１１１の縁端部２１よりも外側（すなわ
ち、シール材１３側）に位置する。さらに、配向膜１１
６は、保護層１１４の表面上に形成される。したがっ
て、背面基板１１上に形成される要素のうち、保護層１
１４の縁端部２２が、前面基板１２側から見て最も外側
に位置することとなる。そして、図３に示されるよう
に、この保護層１１４が、背面基板１１の粗面領域１１
ｂに含まれるように形成される。したがって、反射層１
１１、絶縁層１１２、カラーフィルタ層１１３、保護層
１１４および配向膜１１６のすべてが、粗面領域１１ｂ
内に形成される。換言すれば、背面基板１１上に形成さ
れるいずれの要素も、平坦領域１１ａと粗面領域１１ｂ
との境界２３に形成された段差を跨ぐことはない。な
お、図１に示されるように、シール材１３の内周端か
ら、マトリクス状に配列する画素のうち最も外側に位置
する画素までの領域は非表示領域２５であり、非表示領
域２５よりも内側の領域は表示領域２６である。したが
って、図３に示された境界２６からも判るとおり、前面
基板１２側から見て、表示領域２６の全体が粗面領域１
１ｂ内に含まれる。Here, the reflective layer 111, the insulating layer 112, the color filter layer 113, the protective layer 114, and the alignment film 11
6 is formed in the rough surface region 11b on the rear substrate 11. The details are as follows. First, in the present embodiment, as shown in FIG. 1, the edge 22 of the protective layer 114 is located outside the edge 21 of the reflective layer 111 (that is, on the side of the sealing material 13). Further, the alignment film 11
6 is formed on the surface of the protective layer 114. Therefore, of the elements formed on the back substrate 11, the protective layer 1
14 is located at the outermost position when viewed from the front substrate 12 side. Then, as shown in FIG. 3, this protective layer 114
b. Therefore, the reflection layer 1
11, the insulating layer 112, the color filter layer 113, the protective layer 114, and the alignment film 116 all have the rough surface region 11b.
Formed within. In other words, any of the elements formed on the back substrate 11 include the flat region 11a and the rough surface region 11b.
Does not straddle the step formed at the boundary 23 between the two. As shown in FIG. 1, a region from the inner peripheral end of the sealing material 13 to the outermost pixel among the pixels arranged in a matrix is a non-display region 25, which is more than the non-display region 25. The inner area is a display area 26. Therefore, as can be seen from the boundary 26 shown in FIG.
1b.
【００５３】以上説明したように、本実施形態において
は、背面基板１１の液晶１４側表面が平坦領域１１ａと
粗面領域１１ｂとからなる。そして、反射層１１１、絶
縁層１１２、カラーフィルタ層１１３、保護層１１４お
よび配向膜１１６のすべてが粗面領域１１ｂ内に形成さ
れる。つまり、背面基板１１上に形成されるいずれの要
素も、粗面領域１１ｂと平坦領域１１ａとの境界２３に
形成された段差を跨ぐことはない。したがって、これら
の各要素の表面に、平坦領域１１ａと粗面領域１１ｂと
の段差に対応した段差が形成されることはない。このた
め、本実施形態によれば、セルギャップを均一に保つこ
とができる。また、配向膜１１６の表面に段差が形成さ
れることはないから、ラビング処理が施されない領域が
発生するのを回避することができる。As described above, in this embodiment, the surface of the back substrate 11 on the side of the liquid crystal 14 is composed of the flat region 11a and the rough surface region 11b. Then, all of the reflective layer 111, the insulating layer 112, the color filter layer 113, the protective layer 114, and the alignment film 116 are formed in the rough surface region 11b. That is, none of the elements formed on the back substrate 11 cross over the step formed at the boundary 23 between the rough surface region 11b and the flat region 11a. Therefore, a step corresponding to the step between the flat region 11a and the rough surface region 11b is not formed on the surface of each of these elements. Therefore, according to the present embodiment, the cell gap can be kept uniform. Further, since no step is formed on the surface of the alignment film 116, it is possible to avoid generation of a region where rubbing treatment is not performed.
【００５４】一方、シール材１３が形成される領域は平
坦な平坦領域１１ａであるから、シール材１３と背面基
板１１とを十分に密着させることができる。したがっ
て、シール材１３と背面基板１１との間に隙間が形成さ
れるのを回避することができる。この結果、液晶１４が
外部に漏れたり、外部から水分が流入するといった事態
を回避することができる。また、シール材１３に混入さ
れるガラスファイバ等は平坦領域１１ａ上に位置するか
ら、セルギャップを均一に保つことができる。この結
果、高品質な表示を実現することができる。On the other hand, since the region where the sealing material 13 is formed is the flat flat region 11a, the sealing material 13 and the back substrate 11 can be sufficiently adhered. Therefore, formation of a gap between the sealing material 13 and the back substrate 11 can be avoided. As a result, it is possible to avoid a situation in which the liquid crystal 14 leaks to the outside or water flows in from the outside. Further, since the glass fiber or the like mixed into the sealing material 13 is located on the flat region 11a, the cell gap can be kept uniform. As a result, high quality display can be realized.
【００５５】＜Ａ−２：第２実施形態＞上記第１実施形
態に係る反射型液晶表示装置１Ａは、低電力による駆動
が可能である。しかしながら、外光が十分に存在しない
状況の下では、表示が暗くなってしまうという問題があ
る。以下に示す半透過反射型液晶表示装置においては、
十分な外光が存在する状況下では反射型表示が行われる
一方、外光が不十分な状況下では透過型表示が行われ
る。図４は、本実施形態に係る液晶表示装置１Ｂの構成
を表す断面図である。なお、図４中の各要素のうち、図
１に示された要素と共通するものについては、同一の符
号を付してその説明を省略する。<A-2: Second Embodiment> The reflection type liquid crystal display device 1A according to the first embodiment can be driven with low power. However, there is a problem that the display becomes dark under a situation where sufficient external light does not exist. In the transflective liquid crystal display device shown below,
Reflective display is performed in a situation where there is sufficient external light, while transmissive display is performed in a situation where there is insufficient external light. FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal display device 1B according to the present embodiment. Note that among the elements in FIG. 4, those that are common to the elements shown in FIG. 1 are given the same reference numerals, and descriptions thereof will be omitted.
【００５６】図４に示されるように、液晶表示装置１Ｂ
における背面基板１１の背面側には、バックライトユニ
ット１６が配設されている。このバックライトユニット
１６は、光源１６１と導光板１６２とを含んで構成され
る。光源１６１は、例えば冷陰極管であり、導光板１６
２に対して光を照射する。導光板１６２は、光源１６１
から側端面に入射した光を、背面基板１１側に導く。As shown in FIG. 4, the liquid crystal display device 1B
The backlight unit 16 is disposed on the back side of the back substrate 11 in FIG. The backlight unit 16 includes a light source 161 and a light guide plate 162. The light source 161 is, for example, a cold cathode tube, and
2 is irradiated with light. The light guide plate 162 includes a light source 161.
The light incident on the side end surface from is guided to the rear substrate 11 side.
【００５７】本実施形態に係る液晶表示装置１Ｂにおい
ては、上述した液晶表示装置１Ａにおける反射層１１１
に代えて、反射半透過層１１７が設けられている。この
反射半透過層１１７は、複数の開口部１１７ａを有する
薄膜である。本実施形態においては、図４に示されるよ
うに、各画素ごとに１つの開口部１１７ａが設けられて
いる。導光板１６２から出射して背面基板１１を透過し
た光は、この開口部１１７ａを通過して前面基板１１側
に至る。この結果、透過型表示が行われる。なお、１画
素あたりの開口部１１７ａの個数は、所望の透過特性に
応じた開口率が得られる個数とすることが望ましい。In the liquid crystal display 1B according to the present embodiment, the reflection layer 111 in the liquid crystal display 1A described above is used.
, A reflective semi-transmissive layer 117 is provided. The transflective layer 117 is a thin film having a plurality of openings 117a. In the present embodiment, as shown in FIG. 4, one opening 117a is provided for each pixel. Light emitted from the light guide plate 162 and transmitted through the rear substrate 11 passes through the opening 117a and reaches the front substrate 11 side. As a result, a transmissive display is performed. It is desirable that the number of the openings 117a per pixel is such that an aperture ratio corresponding to a desired transmission characteristic can be obtained.
【００５８】また、この反射半透過層１１７は、例えば
アルミニウム等の反射性を有する金属によって形成され
る。したがって、前面基板１１側に入射した光は、この
反射半透過層１１７の表面において反射する。この結
果、反射型表示が行われる。The reflective semi-transmissive layer 117 is formed of a reflective metal such as aluminum. Therefore, light incident on the front substrate 11 side is reflected on the surface of the reflective semi-transmissive layer 117. As a result, a reflective display is performed.
【００５９】本実施形態においても、上記第１実施形態
と同様の効果が得られる。さらに、本実施形態によれ
ば、上述したように、外光が不十分な状況下でも、明る
い表示を行うことができる。In this embodiment, the same effects as in the first embodiment can be obtained. Furthermore, according to the present embodiment, as described above, a bright display can be performed even in a situation where external light is insufficient.
【００６０】＜Ａ−３：第３実施形態＞次に、図５を参
照して、本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置１Ｃ
の構成を説明する。なお、図５中の各構成要素のうち、
図１に示された要素と共通するものについては、同一の
符号を付してその説明を省略する。<A-3: Third Embodiment> Next, referring to FIG. 5, a liquid crystal display device 1C according to a third embodiment of the present invention will be described.
Will be described. In addition, among the components in FIG.
Components common to those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
【００６１】上記第１および第２各実施形態において
は、前面基板１２に形成された配向膜１２４と、背面基
板１１に形成された配向膜１１６との間にのみ、複数の
スペーサ１５を散布する構成とした。これに加え、本実
施形態においては、背面基板１１の平坦領域１１ａと前
面基板１２との間にも複数のスペーサ１７が散布されて
いる。各スペーサ１７は球状である。また、図５に示さ
れるように、このスペーサ１７の直径は、背面基板１１
の平坦領域１１ａと前面基板１２との間隔と略同一であ
る。したがって、スペーサ１７の直径は、スペーサ１５
の直径よりも大きい。なお、複数のスペーサ１５および
複数のスペーサ１７は、インクジェット方式によって上
述した領域に選択的に散布される。In the first and second embodiments, a plurality of spacers 15 are sprayed only between the alignment film 124 formed on the front substrate 12 and the alignment film 116 formed on the rear substrate 11. The configuration was adopted. In addition, in the present embodiment, a plurality of spacers 17 are also scattered between the flat region 11a of the back substrate 11 and the front substrate 12. Each spacer 17 is spherical. Further, as shown in FIG. 5, the diameter of the spacer 17 is
The distance between the flat region 11a and the front substrate 12 is substantially the same. Therefore, the diameter of the spacer 17 is
Larger than the diameter of. Note that the plurality of spacers 15 and the plurality of spacers 17 are selectively dispersed in the above-described regions by an inkjet method.
【００６２】本実施形態においても、上記第１実施形態
と同様の効果が得られる。さらに、本実施形態によれ
ば、配向膜１２４と配向膜１１６との間のみならず、背
面基板１１の平坦領域１１ａと前面基板１２との間にも
スペーサ１７が散布されるので、セルギャップをより確
実に均一化することができる。したがって、より高品質
な表示を実現することができる。In this embodiment, the same effects as in the first embodiment can be obtained. Further, according to the present embodiment, the spacers 17 are dispersed not only between the alignment films 124 and 116 but also between the flat region 11a of the rear substrate 11 and the front substrate 12, so that the cell gap is reduced. Uniformity can be ensured more reliably. Therefore, higher quality display can be realized.
【００６３】＜Ａ−４：変形例＞ （１）背面基板１１の粗面領域１１ｂの形状は、図１、
図４および図５に示された形状に限られない。すなわ
ち、当該粗面領域１１ｂ上に形成される反射層１１１
（第２実施形態においては反射半透過層１１７）が所望
の散乱特性を発揮できるような形状であれば、粗面領域
１１ｂにおける突起および窪みの態様はいかなるもので
あってもよい。<A-4: Modification> (1) The shape of the rough surface area 11b of the rear substrate 11 is shown in FIG.
The shape is not limited to those shown in FIGS. That is, the reflection layer 111 formed on the rough surface region 11b
As long as the (semi-transmissive layer 117 in the second embodiment) has a shape capable of exhibiting a desired scattering characteristic, the shape of the projections and depressions in the rough surface region 11b may be any.
【００６４】（２）第１ないし第３実施形態において
は、背面基板１１上にカラーフィルタ層１１３が形成さ
れ、前面基板１２上にＴＦＤ１２４が形成された。しか
しながら、背面基板１１上にＴＦＤ１２４を形成し、前
面基板１２上にカラーフィルタ層１１３を形成してもよ
い。この場合、反射層１１１の表面に、複数のＴＦＤ素
子１２２、複数の画素電極１２１および複数の走査線１
２３が形成される。また、これらの各部が形成された反
射層１１１の表面は、配向膜１２４によって覆われる。
さらに、背面基板１１にＴＦＤ１２２を形成する場合、
反射層１１１が、入射光を反射させる機能と、画素電極
１２１の機能とを兼ね備えるようにしてもよい。(2) In the first to third embodiments, the color filter layer 113 is formed on the rear substrate 11, and the TFD 124 is formed on the front substrate 12. However, the TFD 124 may be formed on the rear substrate 11 and the color filter layer 113 may be formed on the front substrate 12. In this case, the plurality of TFD elements 122, the plurality of pixel electrodes 121, and the plurality of scanning lines 1 are provided on the surface of the reflective layer 111.
23 are formed. The surface of the reflective layer 111 on which these parts are formed is covered with the alignment film 124.
Further, when the TFD 122 is formed on the rear substrate 11,
The reflective layer 111 may have both the function of reflecting incident light and the function of the pixel electrode 121.
【００６５】（３）上記第１ないし第３実施形態におい
ては、アクティブマトリクス方式の液晶表示装置を例示
した。しかしながら、本発明は、パッシブマトリクス方
式の液晶表示装置にも適用可能である。また、上記第１
ないし第３実施形態においては、スイッチング素子とし
て二端子型素子であるＴＦＤ１２２を用いた場合を例示
した。しかしながら、本発明は、ＴＦＴ（Thin Film Tr
ansistor）に代表される三端子型素子をスイッチング素
子として備えた液晶表示装置にも適用可能である。(3) In the first to third embodiments, the active matrix type liquid crystal display device has been exemplified. However, the present invention is also applicable to a passive matrix type liquid crystal display device. In addition, the first
In the third to third embodiments, the case where the TFD 122 which is a two-terminal element is used as the switching element has been exemplified. However, the present invention relates to a TFT (Thin Film Tr).
The present invention can also be applied to a liquid crystal display device having a three-terminal element represented by an anistor) as a switching element.
【００６６】（４）上記第１ないし第３実施形態におい
ては、背面基板１１上に形成される要素のすべて、すな
わち、反射層１１１（反射半透過層１１７）、絶縁層１
１２、カラーフィルタ層１１３、保護層１１４、配向膜
１１６のすべてが、粗面領域１１ｂ内に形成されるよう
にした。しかしながら、必ずしもこれらのすべての要素
が粗面領域１１ｂ内に形成される必要はなく、少なくと
も配向膜１１６が、粗面領域１１ｂ内に形成されていれ
ばよい。あるいは、この配向膜１１６は保護層１１４の
表面上に形成されるので、この保護層１１４が粗面領域
１１ｂ内に形成されていればよい。(4) In the first to third embodiments, all of the elements formed on the back substrate 11, that is, the reflective layer 111 (reflective transflective layer 117), the insulating layer 1
12, the color filter layer 113, the protective layer 114, and the alignment film 116 are all formed in the rough surface region 11b. However, not all of these elements need to be formed in the rough surface region 11b, and it is sufficient that at least the alignment film 116 is formed in the rough surface region 11b. Alternatively, since the alignment film 116 is formed on the surface of the protective layer 114, the protective layer 114 may be formed in the rough surface region 11b.
【００６７】＜Ｂ：液晶表示装置の製造方法＞次に、上
述した第１ないし第３実施形態に係る液晶表示装置の製
造方法を例示する。なお、以下では、１枚のガラス基板
から４枚の背面基板が多面取りされる場合を想定する。<B: Method of Manufacturing Liquid Crystal Display> Next, the method of manufacturing the liquid crystal display according to the above-described first to third embodiments will be described. In the following, it is assumed that four rear substrates are formed in multiple from one glass substrate.
【００６８】＜Ｂ−１：第１の製造方法＞最初に、図６
Ａないし図６Ｆを参照して、液晶表示装置の第１の製造
方法について説明する。<B-1: First Manufacturing Method> First, FIG.
A first method for manufacturing a liquid crystal display device will be described with reference to FIGS.
【００６９】まず、背面基板４枚分の大きさのガラス基
板３１が用意される。このガラス基板３１の表面のう
ち、背面基板１１の平坦領域１１ａとなるべき領域に、
マスク材３２が形成される。具体的には、図６Ａおよび
図６Ｂに示されるように、ガラス基板３１の表面を４分
割した各領域（背面基板１１に相当する。）の縁部を囲
む形状にマスク材３２が形成される。なお、このマスク
材３２は、例えばフォトレジストやラミネートフィルム
等である。First, a glass substrate 31 having a size of four rear substrates is prepared. In the surface of the glass substrate 31, a region to be the flat region 11 a of the back substrate 11 is
A mask material 32 is formed. Specifically, as shown in FIGS. 6A and 6B, the mask material 32 is formed in a shape surrounding the edge of each area (corresponding to the back substrate 11) obtained by dividing the surface of the glass substrate 31 into four parts. . The mask material 32 is, for example, a photoresist or a laminate film.
【００７０】次に、図６Ｃに示されるように、ガラス基
板３１の表面のうち、マスク材３２によって覆われてい
ない領域が粗面化される。なお、この粗面化のための処
理については後述する。さらに、図６Ｄに示されるよう
に、マスク材３２が除去される。この結果、ガラス基板
３１の一方の表面のうち、マスク材３２が形成されてい
た領域は平坦領域１１ａとなり、それ以外の領域は粗面
領域１１ｂとなる。Next, as shown in FIG. 6C, a region of the surface of the glass substrate 31 which is not covered by the mask material 32 is roughened. The processing for this roughening will be described later. Further, as shown in FIG. 6D, the mask material 32 is removed. As a result, on one surface of the glass substrate 31, the region where the mask material 32 is formed becomes the flat region 11a, and the other region becomes the rough surface region 11b.
【００７１】続いて、図６Ｅに示されるように、平坦領
域１１ａと粗面領域１１ｂとからなるガラス基板３１の
全面に、反射性を有する金属膜３３が形成される。この
金属膜３３は、たとえばアルミニウムまたは銀等の単体
金属、もしくはアルミニウム、銀等を主成分とする合金
によって形成される。この後、図６Ｆに示されるよう
に、粗面領域１１ｂ内の領域を残して金属膜３３が除去
される。この金属膜３３のパターニングには、例えばフ
ォトリソグラフィを用いることができる。こうして粗面
領域１１ｂ内に残った金属膜３３が、上述した反射層１
１１となる。この反射層１１１の表面には、粗面領域１
１ｂの微細な突起と窪みとを反映した突起と窪みとが形
成される。以上の処理の後、反射層１１１によって覆わ
れた背面基板１１の粗面領域１１ｂ内に、絶縁層１１
２、カラーフィルタ層１１３、保護層１１４、透明電極
１１５および配向膜１１６が順次形成される。なお、上
記第２実施形態に係る液晶表示装置１Ｂの製造に際して
は、上記反射層１１１に開口部１１７ａを設けて反射半
透過層１１７を形成する工程がさらに実行される。続い
て、粗面領域１１ｂを囲む平坦領域１１ａ上に、枠状の
シール材１３が形成される。Subsequently, as shown in FIG. 6E, a reflective metal film 33 is formed on the entire surface of the glass substrate 31 including the flat region 11a and the rough surface region 11b. The metal film 33 is formed of, for example, a single metal such as aluminum or silver, or an alloy mainly containing aluminum, silver, or the like. Thereafter, as shown in FIG. 6F, the metal film 33 is removed except for the region within the rough surface region 11b. For patterning the metal film 33, for example, photolithography can be used. The metal film 33 remaining in the rough surface region 11b in this way is
It becomes 11. The surface of the reflection layer 111 has a rough surface region 1
Projections and depressions reflecting the minute projections and depressions of 1b are formed. After the above processing, the insulating layer 11 is placed in the rough surface region 11b of the back substrate 11 covered by the reflective layer 111.
2. A color filter layer 113, a protective layer 114, a transparent electrode 115, and an alignment film 116 are sequentially formed. In the manufacture of the liquid crystal display device 1B according to the second embodiment, a step of forming an opening 117a in the reflective layer 111 and forming a transflective layer 117 is further performed. Subsequently, a frame-shaped sealing material 13 is formed on the flat region 11a surrounding the rough surface region 11b.
【００７２】こうして反射層１１１やシール材１３等が
形成されたガラス基板３１が得られると、当該シール材
１３を介して当該ガラス基板３１と他のガラス基板とが
貼り合わされる。さらに、この一対のガラス基板間であ
って、シール材１３によって囲まれた領域に液晶１４が
封入される。この後、一対のガラス基板は、各液晶表示
装置ごとに分断される。When the glass substrate 31 on which the reflection layer 111, the sealing material 13 and the like are formed is thus obtained, the glass substrate 31 and another glass substrate are bonded via the sealing material 13. Further, a liquid crystal 14 is sealed in a region between the pair of glass substrates and surrounded by the sealant 13. Thereafter, the pair of glass substrates is divided for each liquid crystal display device.
【００７３】以下、背面基板１１の表面を選択的に粗面
化して粗面領域１１ｂを形成するための工程（すなわ
ち、図６Ａから図６Ｄまでの工程）の具体例を示す。Hereinafter, a specific example of a process for selectively roughening the surface of the back substrate 11 to form the rough surface region 11b (ie, the processes from FIG. 6A to FIG. 6D) will be described.
【００７４】（１）第１の粗面化方法 以下に示す第１の粗面化方法では、ガラス基板３１とし
てアルミノ珪酸ガラス基板を用いる。(1) First Roughening Method In the first roughening method described below, an aluminosilicate glass substrate is used as the glass substrate 31.
【００７５】図７Ａは、ガラス基板３１の断面構造を模
式的に表している。同図に示されるように、このガラス
基板３１は、網目状構造体３１１と、この網目状構造体
３１１の網目間を埋めるように存在する網目修飾体３１
２とからなる。網目状構造体３１１は、例えば珪酸と酸
化アルミニウムとの共重合体によって形成される。網目
修飾体３１２は、例えば酸化マグネシウム等によって形
成される。FIG. 7A schematically shows a sectional structure of the glass substrate 31. As shown in the figure, the glass substrate 31 is composed of a network structure 311 and a network modifier 31 existing so as to fill a space between the networks of the network structure 311.
Consists of two. The network structure 311 is formed of, for example, a copolymer of silicic acid and aluminum oxide. The network modifier 312 is formed of, for example, magnesium oxide.
【００７６】まず、ガラス基板３１に対して洗浄を兼ね
たエッチングが施される。具体的には、ガラス基板３１
が、例えば５ｗｔ％程度の弗化水素酸水溶液に、２５℃
において５秒間程度浸漬される。First, the glass substrate 31 is etched for cleaning. Specifically, the glass substrate 31
Is added to, for example, an aqueous solution of about 5 wt% hydrofluoric acid at 25 ° C.
For about 5 seconds.
【００７７】次に、図７Ｂに示されるように、ガラス基
板３１のうちの平坦領域１１ａが形成されるべき領域
に、マスク材３２が形成される。このマスク材３２の形
状は、図６Ａおよび図６Ｂに例示された通りである。Next, as shown in FIG. 7B, a mask material 32 is formed in a region of the glass substrate 31 where the flat region 11a is to be formed. The shape of the mask material 32 is as illustrated in FIGS. 6A and 6B.
【００７８】続いて、このガラス基板３１が、３０ｗｔ
％弗化水素酸水溶液の酸化アルミニウムおよび酸化マグ
ネシウムの過飽和溶液に、２５℃において３０秒程度浸
漬される（以下、この処理を「第１エッチング」とい
う。）。この処理において、網目状構造体３１１のうち
の酸化アルミニウムが局在する部分に、過飽和溶液中の
酸化アルミニウムが析出するとともに、網目修飾体３１
２のうちの酸化マグネシウムが局在する部分に過飽和溶
液中の酸化マグネシウムが析出する。そして、この結
果、図７Ｃに示されるように、ガラス基板３１の表面に
は微細なネットワーク構造３１３が形成される。一方、
網目状構造体３１１および網目修飾体３１２のうち、処
理液に過飽和溶解されていない成分（すなわち、酸化ア
ルミニウムおよび酸化マグネシウム以外の成分）によっ
て形成される部分は、弗化水素酸によって侵食される。
この結果、ガラス基板３１の表面のうち、上述したネッ
トワーク構造３１３が形成された領域以外の領域には、
窪み３１４が形成される。Subsequently, when the glass substrate 31 has a thickness of 30 wt.
A 30% hydrofluoric acid aqueous solution of aluminum oxide and magnesium oxide is immersed in a supersaturated solution for about 30 seconds at 25 ° C. (this process is hereinafter referred to as “first etching”). In this process, aluminum oxide in the supersaturated solution is deposited on a portion of the network structure 311 where aluminum oxide is localized, and the network modifier 31
Magnesium oxide in the supersaturated solution precipitates in the portion where magnesium oxide is localized among the two. Then, as a result, a fine network structure 313 is formed on the surface of the glass substrate 31, as shown in FIG. 7C. on the other hand,
Of the network structure 311 and the network modifier 312, a portion formed by a component that is not supersaturated and dissolved in the treatment liquid (that is, a component other than aluminum oxide and magnesium oxide) is eroded by hydrofluoric acid.
As a result, on the surface of the glass substrate 31 other than the region where the network structure 313 is formed,
A depression 314 is formed.
【００７９】次に、図７Ｄに示されるように、マスク材
３２が除去される。マスク材３２が形成されていた領域
には、第１エッチングが施されないから、平坦な表面の
ままである。Next, as shown in FIG. 7D, the mask material 32 is removed. Since the first etching is not performed on the region where the mask material 32 has been formed, the surface remains flat.
【００８０】続いて、ガラス基板３１の全面に対して、
均一なエッチングが施される（以下、この処理を「第２
エッチング」という。）。具体的には、まず、５０ｗｔ
％の弗化水素酸と、４０ｗｔ％の弗化アンモニウム水溶
液とが重量比１：３で混合された溶液が用意される。そ
して、ガラス基板３１が、この溶液に２５℃において２
０秒程度浸漬される。この処理により、上述したネット
ワーク構造３１３と、窪み３１４に形成された微細な突
起（図示略）とが除去される。この結果、図７Ｅに示さ
れるように、ガラス基板３１のうちのマスク材３２が形
成されなかった領域は、滑らかな突起と窪みとを有する
粗面領域１１ｂとなる。一方、マスク材３２が形成され
ていた領域は、平坦な平坦領域１１ａとなる。Subsequently, the entire surface of the glass substrate 31 is
Uniform etching is performed (hereinafter, this process is referred to as “second
Etching ". ). Specifically, first, 50wt
% Hydrofluoric acid and a 40 wt% aqueous ammonium fluoride solution in a weight ratio of 1: 3 are prepared. Then, a glass substrate 31 is added to this solution at 25 ° C. for 2 hours.
It is immersed for about 0 seconds. By this processing, the above-described network structure 313 and fine projections (not shown) formed in the depressions 314 are removed. As a result, as shown in FIG. 7E, a region of the glass substrate 31 where the mask material 32 is not formed becomes a rough surface region 11b having smooth protrusions and depressions. On the other hand, the area where the mask material 32 has been formed becomes a flat flat area 11a.
【００８１】ところで、マスク材３２の除去前に、ガラ
ス基板３１に対して第２エッチングを施すことも一応考
えられる。しかしながら、こうした場合、マスク材３２
が形成された領域には第２エッチングが施されず、それ
以外の領域にはエッチングが施される。この結果、平坦
領域１１ａと粗面領域１１ｂとの高低差が、第２エッチ
ングに伴って拡大してしまう。ここで、ガラス基板３１
における平坦領域１１ａと粗面領域１１ｂとの高低差
が、液晶表示装置の所望のセルギャップよりも大きくな
ってしまうと、このガラス基板を用いたのでは当該セル
ギャップを得ることができないという問題が生じ得る。
これに対し、本実施形態においては、マスク材３２が除
去された後にガラス基板３１の全面に対して第２エッチ
ングが施されるため、平坦領域１１ａと粗面領域１１ｂ
との高低差が拡大するのを回避することができる。By the way, before the mask material 32 is removed, the glass substrate 31 may be subjected to the second etching. However, in such a case, the mask material 32
The second etching is not performed on the region where is formed, and the other region is etched. As a result, the height difference between the flat region 11a and the rough surface region 11b increases with the second etching. Here, the glass substrate 31
If the height difference between the flat region 11a and the rough surface region 11b becomes larger than a desired cell gap of the liquid crystal display device, the cell gap cannot be obtained using this glass substrate. Can occur.
On the other hand, in the present embodiment, since the second etching is performed on the entire surface of the glass substrate 31 after the mask material 32 is removed, the flat region 11a and the rough surface region 11b
It is possible to avoid an increase in the height difference from.
【００８２】（２）第２の粗面化方法 次に、図８Ａないし図８Ｅを参照して、背面基板１１の
表面を選択的に粗面化するための第２の粗面化方法につ
いて説明する。なお、以下では、ガラス基板３１として
ソーダライムガラス基板を用いた場合を例示する。(2) Second Roughening Method Next, a second roughening method for selectively roughening the surface of the back substrate 11 will be described with reference to FIGS. 8A to 8E. I do. In the following, a case where a soda lime glass substrate is used as the glass substrate 31 will be exemplified.
【００８３】このガラス基板３１は、図８Ａに示される
ように、網目状構造体３１１と網目修飾体３１２とを有
する点において、上記第１の粗面化方法におけるガラス
基板３１と同様である。ただし、図８Ａに示すガラス基
板３１は、網目状構造体３１１が珪酸によって形成され
ている点、および網目修飾体３１２がアルカリ金属やア
ルカリ土類金属によって形成されている点において、上
記第１の粗面化方法におけるガラス基板３１とは異なっ
ている。As shown in FIG. 8A, the glass substrate 31 is the same as the glass substrate 31 in the first roughening method in that it has a network structure 311 and a network modifier 312. However, the glass substrate 31 shown in FIG. 8A is different from the first in that the network structure 311 is formed of silicic acid and the network modifier 312 is formed of an alkali metal or an alkaline earth metal. This is different from the glass substrate 31 in the roughening method.
【００８４】まず、ガラス基板３１に対して洗浄を兼ね
たエッチングが施される。具体的には、ガラス基板３１
が、５ｗｔ％の弗化水素酸水溶液に、２５℃において５
秒程度浸漬される。続いて、図８Ｂに示されるように、
ガラス基板３１の表面のうちの平坦領域１１ａが形成さ
れるべき領域に、マスク材３２が形成される。このマス
ク材３２の形状は、図６Ａおよび図６Ｂに示された通り
である。First, the glass substrate 31 is subjected to etching for cleaning. Specifically, the glass substrate 31
In a 5 wt% aqueous hydrofluoric acid solution at 25 ° C.
Immerse for about a second. Subsequently, as shown in FIG. 8B,
A mask material 32 is formed in a region of the surface of the glass substrate 31 where the flat region 11a is to be formed. The shape of the mask material 32 is as shown in FIGS. 6A and 6B.
【００８５】次に、このガラス基板３１が、弗化水素酸
が３０ｗｔ％、水素二弗化アンモニウムが４５ｗｔ％含
まれる処理液に、２５℃において１５秒程度浸漬され
る。ここで、図８Ｃに示されるように、ガラス基板３１
を構成する成分のうち、網目修飾体３１２が上記処理液
に溶出する速度は、網目状構造体３１１が当該処理液に
溶出する速度よりも速い。したがって、ガラス基板３１
が上記処理液に浸漬されると、図８Ｄに示されるよう
に、網目状構造体３１１の形状に応じた突起と窪みとを
有する粗面領域１１ｂが形成される。この後、図８Ｅに
示されるように、マスク材３２が除去されて、平坦領域
１１ａおよび粗面領域１１ｂを有するガラス基板３１が
得られる。Next, the glass substrate 31 is immersed in a treatment liquid containing 30 wt% of hydrofluoric acid and 45 wt% of ammonium hydrogen difluoride at 25 ° C. for about 15 seconds. Here, as shown in FIG.
The rate at which the network modifier 312 elutes into the treatment liquid is faster than the rate at which the network structure 311 elutes into the treatment liquid. Therefore, the glass substrate 31
Is immersed in the treatment liquid, as shown in FIG. 8D, a rough surface region 11b having projections and depressions corresponding to the shape of the network structure 311 is formed. Thereafter, as shown in FIG. 8E, the mask material 32 is removed, and the glass substrate 31 having the flat region 11a and the rough surface region 11b is obtained.
【００８６】＜Ｂ−２：第２の製造方法＞次に、図９Ａ
ないし図９Ｆを参照して、上記第１ないし第３実施形態
に係る液晶表示装置の第２の製造方法を説明する。な
お、以下においても、上記第１の製造方法と同様、１枚
のガラス基板３１から４枚の背面基板１１を多面取りす
る場合を想定する。また、ガラス基板３１はソーダライ
ムガラス基板である。<B-2: Second Manufacturing Method> Next, FIG. 9A
9F, a second method for manufacturing the liquid crystal display device according to the first to third embodiments will be described. In the following, as in the case of the above-described first manufacturing method, it is assumed that four rear substrates 11 are formed from one glass substrate 31 in multiples. The glass substrate 31 is a soda lime glass substrate.
【００８７】まず、図９Ａおよび図９Ｂに示されるよう
に、ガラス基板３１の一方の面側に、マスク材としてス
テンレススチール板３４が配置される。このステンレス
スチール板３４には、ガラス基板３１のうちの粗面領域
１１ｂとなるべき領域に対応して開口部３４ａが形成さ
れている。First, as shown in FIGS. 9A and 9B, a stainless steel plate 34 is arranged on one side of a glass substrate 31 as a mask material. In the stainless steel plate 34, an opening 34a is formed in the glass substrate 31 so as to correspond to a region to be the rough surface region 11b.
【００８８】次に、図９Ｃに示されるように、多数の微
細な研磨粉３５が、上記ステンレススチール板３４を介
してガラス基板３１の表面に吹き付けられる。この工程
において、ガラス基板３１の表面のうち、ステンレスス
チール板３４の開口部３４ａに対応する領域には、研磨
粉３５の衝突による多数の窪みが形成される。一方、ス
テンレススチール板３４によって覆われた領域には、研
磨粉３５が衝突しないため、平坦な表面のままとなる。Next, as shown in FIG. 9C, a large number of fine abrasive powders 35 are sprayed on the surface of the glass substrate 31 via the stainless steel plate 34. In this step, a large number of depressions due to the collision of the abrasive powder 35 are formed in a region of the surface of the glass substrate 31 corresponding to the opening 34a of the stainless steel plate 34. On the other hand, since the abrasive powder 35 does not collide with the area covered by the stainless steel plate 34, the surface remains flat.
【００８９】続いて、ガラス基板３１が洗浄される。す
なわち、当該ガラス基板３１に吹き付けられた研磨粉３
５や、研磨粉３５の衝突によって生じたガラス粉が除去
される。この後、ガラス基板３１が所定の処理液に浸漬
されることにより、当該ガラス基板３１の全面に対して
均一なエッチングが施される。上記所定の処理液として
は、例えば弗化水素酸（５０ｗｔ％）と弗化アンモニウ
ム水溶液（４０ｗｔ％）とが重量比１：３で混合された
処理液が用いられる。Subsequently, the glass substrate 31 is cleaned. That is, the polishing powder 3 sprayed on the glass substrate 31
5 and the glass powder generated by the collision of the polishing powder 35 are removed. Thereafter, the glass substrate 31 is immersed in a predetermined processing liquid, so that the entire surface of the glass substrate 31 is uniformly etched. As the predetermined treatment liquid, for example, a treatment liquid in which hydrofluoric acid (50 wt%) and an aqueous solution of ammonium fluoride (40 wt%) are mixed at a weight ratio of 1: 3 is used.
【００９０】以上の処理によって、図９Ｄに示されるよ
うに、平坦領域１１ａと粗面領域１１ｂとが選択的に形
成されたガラス基板３１が得られる。この後、上記第１
の製造方法と同様、図９Ｅに示されるように、ガラス基
板３１上に金属膜３３が形成される。そして、この金属
膜３３がパターニングされて、図９Ｆに示されるよう
に、反射層１１１が形成される。以後の工程は、上記第
１の製造方法と同様である。By the above processing, as shown in FIG. 9D, a glass substrate 31 on which the flat region 11a and the rough surface region 11b are selectively formed is obtained. After this, the first
As shown in FIG. 9E, a metal film 33 is formed on a glass substrate 31 in the same manner as in the manufacturing method described above. Then, the metal film 33 is patterned to form the reflection layer 111 as shown in FIG. 9F. Subsequent steps are the same as in the first manufacturing method.
【００９１】以上説明した第１および第２の製造方法に
よれば、突起と窪みとが不規則に配列した粗面領域１１
ｂを形成することができる。すなわち、上記第１の製造
方法によれば、網目状構造体３１１の形状に応じた不規
則な粗面領域１１ｂが形成され、また、上記第２の製造
方法によれば、研磨粉３５の衝突に応じた不規則な粗面
領域１１ｂが形成される。反射層１１１（または反射半
透過層１１７）は、このような不規則な粗面領域１１ｂ
上に形成されるから、良好な散乱特性を発揮することが
できる。さらに、このような粗面領域１１ｂがガラス基
板３１の表面に形成されているにも拘わらず、平坦領域
１１ａにおけるガラス基板３１の表面は平坦である。シ
ール材１３は、この平坦領域１１ａ上に形成されるか
ら、背面基板１１とシール材１３とを十分に密着させる
ことができる。According to the first and second manufacturing methods described above, the rough surface region 11 in which protrusions and depressions are irregularly arranged.
b can be formed. That is, according to the first manufacturing method, the irregular rough surface region 11b corresponding to the shape of the mesh structure 311 is formed, and according to the second manufacturing method, the collision of the polishing powder 35 occurs. Irregular surface region 11b is formed according to. The reflective layer 111 (or the reflective semi-transmissive layer 117) has such an irregular rough surface region 11b.
Since it is formed on the top, good scattering characteristics can be exhibited. Further, the surface of the glass substrate 31 in the flat region 11a is flat, though such a rough surface region 11b is formed on the surface of the glass substrate 31. Since the sealing material 13 is formed on the flat region 11a, the back substrate 11 and the sealing material 13 can be sufficiently adhered.
【００９２】＜Ｃ：電子機器＞次に、以上例示した液晶
表示装置１Ａないし１Ｃを適用した電子機器について説
明する。<C: Electronic Equipment> Next, electronic equipment to which the liquid crystal display devices 1A to 1C exemplified above are applied will be described.
【００９３】図１０Ａは、電子機器の一例である携帯電
話機の構成を示す斜視図である。この図に示されるよう
に、携帯電話機４１本体の前面上方部には、表示装置と
して機能する液晶表示装置４１１が設けられる。FIG. 10A is a perspective view showing a configuration of a mobile phone as an example of an electronic apparatus. As shown in the figure, a liquid crystal display device 411 functioning as a display device is provided in an upper part on the front surface of the main body of the mobile phone 41.
【００９４】図１０Ｂは、電子機器の一例である携帯型
情報処理装置の構成を示す斜視図である。この図に示さ
れるように、携帯型情報処理装置４２は、キーボード等
の入力部４２２を有する本体４２３と、表示装置として
機能する液晶表示装置４２１とを含む。FIG. 10B is a perspective view showing the configuration of a portable information processing apparatus as an example of an electronic apparatus. As shown in this figure, the portable information processing device 42 includes a main body 423 having an input unit 422 such as a keyboard, and a liquid crystal display device 421 functioning as a display device.
【００９５】図１０Ｃは、電子機器の一例である腕時計
型電子機器の構成を示す斜視図である。この図に示され
るように、腕時計型電子機器４３の本体４３１には、表
示装置として機能する液晶表示装置４３２が設けられ
る。FIG. 10C is a perspective view showing the configuration of a wristwatch-type electronic device as an example of the electronic device. As shown in the figure, a liquid crystal display device 432 functioning as a display device is provided on a main body 431 of the wristwatch-type electronic device 43.
【００９６】図１０Ａないし図１０Ｃに示された電子機
器は、本発明に係る液晶表示装置を備えたものであるか
ら、高品質な表示を実現することができる。Since the electronic apparatus shown in FIGS. 10A to 10C includes the liquid crystal display device according to the present invention, high quality display can be realized.
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の構
成を例示する断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the invention.
【図２】本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の構
成を例示する分解斜視図である。FIG. 2 is an exploded perspective view illustrating the configuration of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.
【図３】本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置にお
いて、背面基板の粗面領域と、シール材および配向膜と
の位置関係を例示する平面図である。FIG. 3 is a plan view illustrating a positional relationship between a rough surface region of a rear substrate, a sealing material, and an alignment film in the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.
【図４】本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の構
成を例示する断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the invention.
【図５】本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の構
成を例示する断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the invention.
【図６】Ａは、本発明に係る液晶表示装置の第１の製造
方法において、背面基板上にフォトレジストが形成され
た様子を示す平面図である。Ｂは、図６ＡにおけるＢ−
Ｂ’線視断面図である。Ｃは、本発明に係る液晶表示装
置の第１の製造方法において、背面基板の表面の一部が
粗面化された様子を示す断面図である。Ｄは、本発明に
係る液晶表示装置の第１の製造方法において、マスク材
が除去された様子を示す断面図である。Ｅは、本発明に
係る液晶表示装置の第１の製造方法において、背面基板
上に金属膜が形成された様子を例示する断面図である。
Ｆは、本発明に係る液晶表示装置の第１の製造方法にお
いて、背面基板上に反射層が形成された様子を例示する
断面図である。FIG. 6A is a plan view showing a state in which a photoresist is formed on a rear substrate in the first method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention. B is B- in FIG. 6A.
FIG. 3 is a sectional view taken along line B ′. C is a cross-sectional view showing a state where a part of the surface of the rear substrate is roughened in the first manufacturing method of the liquid crystal display device according to the present invention. D is a cross-sectional view showing a state in which the mask material has been removed in the first manufacturing method of the liquid crystal display device according to the present invention. E is a cross-sectional view illustrating a state in which a metal film is formed on the back substrate in the first method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.
F is a cross-sectional view illustrating a state in which a reflective layer is formed on the back substrate in the first method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.
【図７】Ａは、背面基板に粗面領域を形成するための第
１の粗面化方法において、ガラス基板の構成を模式的に
表す断面図である。Ｂは、上記第１の粗面化方法におい
て、ガラス基板上にマスク材が形成された様子を示す断
面図である。Ｃは、上記第１の粗面化方法において、ガ
ラス基板に第１エッチングが施された様子を表す断面図
である。Ｄは、上記第１の粗面化方法において、ガラス
基板上のマスク材が除去された様子を示す断面図であ
る。Ｅは、上記第１の粗面化方法において、ガラス基板
に第２エッチングが施された様子を表す断面図である。FIG. 7A is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration of a glass substrate in a first roughening method for forming a rough surface region on a rear substrate. B is a cross-sectional view showing a state where a mask material is formed on a glass substrate in the first roughening method. FIG. 3C is a cross-sectional view illustrating a state where the first etching is performed on the glass substrate in the first roughening method. D is a cross-sectional view showing a state in which the mask material on the glass substrate has been removed in the first roughening method. FIG. 5E is a cross-sectional view illustrating a state where the glass substrate is subjected to the second etching in the first roughening method.
【図８】Ａは、背面基板に粗面領域を形成するための第
２の粗面化方法において、ガラス基板の構成を模式的に
表す断面図である。Ｂは、上記第２の粗面化方法におい
て、ガラス基板上にマスク材が形成された様子を示す断
面図である。Ｃは、上記第２の粗面化方法において、エ
ッチングの過程の様子を示す断面図である。Ｄは、上記
第２の粗面化方法において、エッチング終了時の様子を
示す断面図である。Ｅは、上記第２の粗面化方法におい
て、ガラス基板上のマスク材が除去された様子を示す断
面図である。FIG. 8A is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration of a glass substrate in a second roughening method for forming a rough surface region on a rear substrate. B is a cross-sectional view showing a state where a mask material is formed on a glass substrate in the second roughening method. C is a cross-sectional view showing the state of the etching process in the second surface roughening method. D is a sectional view showing a state at the end of etching in the second roughening method. E is a cross-sectional view showing a state where the mask material on the glass substrate has been removed in the second roughening method.
【図９】Ａは、本発明に係る液晶表示装置の第２の製造
方法において、ガラス基板上にステンレススチール板が
配置された様子を表す平面図である。Ｂは、図９Ａにお
けるＣ−Ｃ’線視断面図である。Ｃは、上記第２の製造
方法において、ガラス基板の表面に対して研磨粉を吹き
つけている様子を表す断面図である。Ｄは、上記第２の
製造方法において、ガラス基板上に平坦領域と粗面領域
とが形成された様子を表す断面図である。Ｅは、上記第
２の製造方法において、ガラス基板上に金属膜が形成さ
れた様子を例示する断面図である。Ｆは、上記第２の製
造方法において、ガラス基板上に反射層が形成された様
子を例示する断面図である。FIG. 9A is a plan view illustrating a state in which a stainless steel plate is arranged on a glass substrate in a second method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention. FIG. 9B is a sectional view taken along line CC ′ in FIG. 9A. FIG. 3C is a cross-sectional view illustrating a state where abrasive powder is sprayed on the surface of the glass substrate in the second manufacturing method. D is a cross-sectional view illustrating a state where a flat region and a rough surface region are formed on a glass substrate in the second manufacturing method. E is a cross-sectional view illustrating a state where a metal film is formed on the glass substrate in the above-described second manufacturing method. F is a cross-sectional view illustrating a state in which a reflective layer is formed on a glass substrate in the second manufacturing method.
【図１０】Ａは、本発明に係る液晶表示装置を用いた携
帯型通信端末を表す斜視図である。Ｂは、本発明に係る
液晶表示装置を用いたノート型パーソナルコンピュータ
を表す斜視図である。Ｃは、本発明に係る液晶表示装置
を用いたウォッチを表す斜視図である。FIG. 10A is a perspective view illustrating a portable communication terminal using the liquid crystal display device according to the present invention. FIG. 1B is a perspective view showing a notebook personal computer using the liquid crystal display device according to the present invention. C is a perspective view showing a watch using the liquid crystal display device according to the present invention.
【図１１】従来の反射型液晶表示装置の構成を例示する
断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating the configuration of a conventional reflective liquid crystal display device.
【図１２】従来の反射型液晶表示装置の問題点を説明す
るための図である。FIG. 12 is a diagram for explaining a problem of a conventional reflective liquid crystal display device.
【図１３】従来の外部散乱方式の反射型液晶表示装置の
構成を例示する断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view illustrating the configuration of a conventional external scattering type reflection type liquid crystal display device.
【図１４】従来の内面散乱方式の反射型液晶表示装置の
構成を例示する断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view illustrating the configuration of a conventional reflection type liquid crystal display device of the internal scattering type.
【図１５】従来の内面散乱方式の半透過反射型液晶表示
装置の構成を例示する断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view illustrating the configuration of a conventional transflective liquid crystal display device of the internal scattering type.
【図１６】従来の内面散乱方式の反射型液晶表示装置に
おける表示領域と非表示領域との境界近傍の構成を拡大
して例示する断面図である。FIG. 16 is a cross-sectional view illustrating, in an enlarged manner, a configuration near a boundary between a display area and a non-display area in a conventional internal scattering type reflection type liquid crystal display device.
背面基板１１ 平坦領域１１ａ 粗面領域１１ｂ 前面基板１２ シール材１３ 液晶１４ 表示領域６３ 反射層１１１ 配向膜１１６ Back substrate 11 Flat region 11a Rough surface region 11b Front substrate 12 Sealant 13 Liquid crystal 14 Display region 63 Reflective layer 111 Alignment film 116
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宇敷 武義 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 山口 善夫 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 2H090 JA03 JA05 JB02 JC03 LA01 LA03 LA15 LA20 2H091 FA04Y FA16Y FA34Y FB08 FC26 FD06 FD22 FD23 FD24 GA01 GA03 GA08 GA09 GA16 LA06 LA16 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Takeyoshi Ushiki 3-3-5 Yamato, Suwa City, Nagano Prefecture Inside Seiko Epson Corporation (72) Inventor Yoshio Yamaguchi 3-5-5 Yamato Suwa City, Nagano Prefecture Seiko Epson F term (for reference) 2H090 JA03 JA05 JB02 JC03 LA01 LA03 LA15 LA20 2H091 FA04Y FA16Y FA34Y FB08 FC26 FD06 FD22 FD23 FD24 GA01 GA03 GA08 GA09 GA16 LA06 LA16
Claims (9)
一対の基板と、両基板間に挟持された液晶と、一方の基
板の前記液晶側に形成された反射層と、当該反射層の前
記液晶側に形成された配向膜とを具備する液晶表示装置
であって、 前記一方の基板の前記液晶側の表面は、粗面化された粗
面領域と、当該粗面領域を囲む平坦な平坦領域とを有
し、 前記配向膜は、前記粗面領域内に形成され、 前記シール材は、前記平坦領域内に形成されることを特
徴とする液晶表示装置。1. A pair of substrates bonded together via a frame-shaped sealing material, a liquid crystal sandwiched between the two substrates, a reflective layer formed on the liquid crystal side of one of the substrates, A liquid crystal display device having an alignment film formed on the liquid crystal side, wherein the surface of the one substrate on the liquid crystal side has a roughened roughened region and a flat surface surrounding the roughened region. A liquid crystal display device having a flat region, wherein the alignment film is formed in the rough surface region, and the sealing material is formed in the flat region.
は、前記シール材の内周部と前記配向膜の縁端部との間
に位置することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示
装置。2. The device according to claim 1, wherein a boundary between the rough surface region and the flat region is located between an inner peripheral portion of the sealing material and an edge of the alignment film. Liquid crystal display.
とを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示装
置。3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the reflection layer has a plurality of openings.
前記一方の基板の粗面領域内に、 カラーフィルタ層、および当該カラーフィルタ層を保護
する保護層をさらに具備することを特徴とする請求項１
ないし３のいずれかに記載の液晶表示装置。4. A color filter layer further comprising a color filter layer and a protective layer for protecting the color filter layer in a rough surface region of the one substrate between the reflective layer and the alignment film. Claim 1
4. The liquid crystal display device according to any one of items 3 to 3.
晶表示装置を備えることを特徴とする電子機器。5. An electronic apparatus comprising the liquid crystal display device according to claim 1.
基板と、両基板間に挟持された液晶と、一方の基板の前
記液晶側に形成された反射層と、当該反射層の前記液晶
側に形成された配向膜とを具備する液晶表示装置の製造
方法であって、 前記一方の基板の表面のうち、当該基板の縁部近傍の部
分をマスク材によって覆う工程と、 前記表面のうち前記マスク材によって覆われた領域以外
の領域を粗面化して粗面領域を形成する工程と、 前記粗面領域内に前記反射層および前記配向膜を形成す
る工程と、 前記マスク材によって覆われていた平坦領域内に前記シ
ール材を形成する工程と、 当該一方の基板を、前記シール材を介して他方の基板と
貼り合わせる工程とを有することを特徴とする液晶表示
装置の製造方法。6. A pair of substrates bonded to each other via a sealing material, a liquid crystal sandwiched between the two substrates, a reflective layer formed on the liquid crystal side of one of the substrates, and a liquid crystal side of the reflective layer. A method of manufacturing a liquid crystal display device comprising: an alignment film formed on the substrate; and a step of covering a portion of the surface of the one substrate near an edge of the substrate with a mask material; Forming a rough surface region by roughening a region other than the region covered by the mask material; forming the reflective layer and the alignment film in the rough surface region; Forming the sealing material in the flat region, and bonding the one substrate to the other substrate via the sealing material.
第１組成物と、当該第１組成物の網間に存在する第２組
成物とを含み、 前記粗面化の際には、前記第１組成物と前記第２組成物
とで溶出速度が異なる処理液を用いて、前記一方の基板
にエッチングを施すことによって、前記マスク材によっ
て覆われた領域以外の領域に前記第１組成物の形状に応
じた粗面を形成することを特徴とする請求項６に記載の
液晶表示装置の製造方法。7. The one substrate includes a first composition having a net-like shape, and a second composition existing between the nets of the first composition. The first composition is etched in a region other than the region covered by the mask material by etching the one substrate using a processing solution having a different elution rate between the first composition and the second composition. The method according to claim 6, wherein a rough surface is formed according to the shape of the object.
表面に対し、前記マスク材を介して粒状部材を衝突させ
ることによって、当該マスク材によって覆われた領域以
外の領域を粗面化することを特徴とする請求項６に記載
の液晶表示装置の製造方法。8. In the roughening, a region other than the region covered by the mask material is roughened by colliding a granular member with the surface of the one substrate via the mask material. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 6, wherein the surface is planarized.
マスク材を除去する工程と、 前記平坦領域および前記粗面領域に対してエッチングを
施す工程とを有することを特徴とする請求項６ないし８
のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。9. The method according to claim 6, further comprising: a step of removing the mask material after the step of forming the rough surface region; and a step of etching the flat region and the rough surface region. Or 8
The method for manufacturing a liquid crystal display device according to any one of the above.
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2002
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