JP2002357645A - 集積回路の検査装置及び検査方法 - Google Patents

集積回路の検査装置及び検査方法

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JP2002357645A
JP2002357645A JP2001164972A JP2001164972A JP2002357645A JP 2002357645 A JP2002357645 A JP 2002357645A JP 2001164972 A JP2001164972 A JP 2001164972A JP 2001164972 A JP2001164972 A JP 2001164972A JP 2002357645 A JP2002357645 A JP 2002357645A
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integrated circuit
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signal
voltage
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Tadashi Kamei
正 亀井
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 自動的に入力信号をスキャンさせて、ヒステ
リシス特性を有する被測定集積回路の2つの閾値電圧を
測定できる検査回路及び検査方法を提供する。 【解決手段】 カウンタ6のデジタルコードをデジタル
/アナログ変換するデジタル/アナログ・コンバータ7
で階段波を作成し、パルス発生器4のパルス信号と階段
波を加算して被測定集積回路2に入力する。被測定集積
回路2から出力される連続パルスでワンショットマルチ
バイブレータ9を作動させて、連続パルスをパルス整形
する。その整形パルスを周期測定器10において整形パ
ルスの前縁と後縁のタイミングを観測し、そのタイミン
グに対応した第1のDC電圧と第2のDC電圧とを求め
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ヒステリシス特性
を有する集積回路の検査装置及び検査方法に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】図4は従来例における集積回路の検査回
路の構成図であり、1は電源、2は被測定集積回路、3
は電圧計である。
【0003】図5は被測定集積回路2の入出力特性を示
す図であって、被測定集積回路2に電源1の電圧を入力
し、被測定集積回路2が有する2つの閾値電圧よりも低
い電圧からスタートして徐々に逓増していくと、経路
(1)の入出力特性を示し、ローレベルからハイレベル
への遷移点である第1閾値電圧V1を電圧計3により検
出することができる。次に、電源1の電圧を被測定集積
回路2が有する2つの閾値電圧よりも高い電圧から逓減
していくと、経路(2)の入出力特性を示し、ハイレベ
ルからローレベルへの遷移点である第2閾値電圧V2を
電圧計3により検出することができる。
【0004】前記のように得られた第1閾値電圧V1と
第2閾値電圧V2の差分(V1−V2)を計算すること
により、被測定集積回路2のヒステリシス幅VHを求め
ることができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来技術の構成では、被測定集積回路2の入出力特性の経
路(1),(2)を特定して、第1閾値電圧V1及び第
2閾値電圧V2を得るためには、電源1の電圧を逓増も
しくは逓減しなければならず、さらに、高精度測定を実
現するためには逓増もしくは逓減する1回当りのステッ
プ電圧を微少にする必要がある。
【0006】これを自動測定する場合、仮に逓増もしく
は逓減するスキャン電圧幅を1Vとし、かつステップ電
圧を1mVとすると、電源1の電圧設定と電圧計3によ
る測定を最大で1000回行う必要があり、コントロー
ラのプログラムからそれぞれのインターフェースを通し
て制御する必要があり、これらの制御に長時間を必要と
していた。
【0007】本発明は、前記従来の課題を解決し、自動
的に入力信号をスキャンさせて2つの閾値電圧を測定す
ることができ、検査時間を短縮することができる集積回
路の検査装置及び検査方法を提供することを目的とす
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の集積回路の検査装置は、パルス発生器より
出力される被測定集積回路のヒステリシス幅より大きな
振幅のパルス信号とそのパルス信号の一周期毎に逓増す
る階段波発生手段より出力される階段波を足し合わせた
信号を被測定集積回路に入力し、被測定集積回路の出力
信号に含まれる連続パルス部分をパルス整形して、その
連続パルス部分の期間に対応した整形パルスを発生さ
せ、整形パルスの前縁のタイミングに対応した第1のD
C電圧を求め、その整形パルスの後縁のタイミングに対
応した第2のDC電圧を求めることを特徴とする。
【0009】また、前記整形パルスを発生させるパルス
整形手段は、被測定集積回路の出力信号に含まれる連続
パルス部分の初回パルスに応じて作動し、前記連続パル
ス部分の最終パルスに応じて終了する整形パルスを発生
するものである。
【0010】また、前記階段波発生手段は、パルス発生
器より出力されるパルス信号を計数するカウンタと、そ
のカウンタのデジタル出力をDC電圧に変換するデジタ
ル/アナログ・コンバータに接続することで逓増する階
段波を発生するものである。
【0011】また、本発明の集積回路の検査装置は、パ
ルス信号が検査条件に対応した振幅でパルス発生器から
出力される場合は、そのパルス信号をロジックレベルに
変換するレベル変換器の出力をカウンタに入力すること
を特徴とする。
【0012】また本発明の集積回路の検査装置は、パル
ス信号がロジックレベルでパルス発生器から出力される
場合は、そのパルス信号を検査条件に対応した振幅に変
換するレベル変換器の出力を加算器に入力することを特
徴とする。
【0013】また、本発明の集積回路の検査装置におい
て、被測定集積回路の出力信号に含まれる連続パルス部
分をパルス整形して、その連続パルス部分の期間に対応
した整形パルスを発生させ、整形パルスの前縁時の第1
のDC電圧と整形パルスの後縁時の第2のDC電圧を求
める第1の検査装置は、被測定集積回路の出力信号の前
縁に応動して整形パルスを出力するワンショットマルチ
バイブレータと、その整形パルスの出力とカウンタの最
上位ビット出力とが入力され、最上位ビット出力の遷移
点から整形パルスの前縁までの第1の周期と、最上位ビ
ット出力の遷移点から整形パルスの後縁までの第2の周
期とを測定する周期測定器とを備えたことを特徴とす
る。
【0014】また、本発明の集積回路の検査装置は、パ
ルス信号の一周期より僅かに幅広のパルス幅でワンショ
ット動作するワンショットマルチバイブレータで整形パ
ルスを発生させ、その整形パルスを周期測定器に入力す
ることを特徴とする。
【0015】また、本発明の集積回路の検査装置におい
て、被測定集積回路の出力信号に含まれる連続パルス部
分をパルス整形して、その連続パルス部分の期間に対応
した整形パルスを発生させ、整形パルスの前縁時の第1
のDC電圧と整形パルスの後縁時の第2のDC電圧を求
める第2の検査装置は、被測定集積回路の出力信号の前
縁に応動して整形パルスを出力するワンショットマルチ
バイブレータと、カウンタの第1のデジタル出力を整形
パルスの前縁で記憶する第1のラッチ回路と、カウンタ
の第2のデジタル出力を整形パルスの後縁で記憶する第
2のラッチ回路とを備えたことを特徴とする。
【0016】また、本発明の集積回路の検査装置は、パ
ルス信号の一周期より僅かに幅広のパルス幅でワンショ
ット動作するワンショットマルチバイブレータで整形パ
ルスを発生させ、その整形パルスの前縁で記憶する第1
のラッチ回路及び後縁で記憶する第2のラッチ回路に入
力することを特徴とする。
【0017】また、本発明の集積回路の検査装置におい
て、被測定集積回路の出力信号に含まれる連続パルス部
分をパルス整形して、その連続パルス部分の期間に対応
した整形パルスを発生させ、整形パルスの前縁時の第1
のDC電圧と整形パルスの後縁時の第2のDC電圧を求
める第3の検査装置は、被測定集積回路の出力信号の前
縁に応動して整形パルスを出力するワンショットマルチ
バイブレータと、整形パルスの前縁で作動する第1の次
段ワンショットマルチバイブレータ及び後縁で作動する
第2の次段ワンショットマルチバイブレータと、その第
1の次段ワンショットマルチバイブレータ及び第2の次
段ワンショットマルチバイブレータのそれぞれの出力パ
ルスで動作するデジタル/アナログ・コンバータの第1
の出力電圧を検出する第1のサンプルホールド回路とデ
ジタル/アナログ・コンバータの第2の出力電圧を検出
する第2のサンプルホールド回路とを備えたことを特徴
とする。
【0018】また、本発明の集積回路の検査装置におい
て、パルス信号の一周期より僅かに幅広のパルス幅でワ
ンショット動作するワンショットマルチバイブレータで
整形パルスを発生させ、その整形パルスの前縁で作動す
る第1の次段ワンショットマルチバイブレータ及び後縁
で作動する第2の次段ワンショットマルチバイブレータ
に入力し、かつパルス信号の一周期より僅かに幅広に設
定したワンショットマルチバイブレータの出力パルス幅
の長めの分と第1の次段ワンショットマルチバイブレー
タもしくは、第2の次段ワンショットマルチバイブレー
タのパルス幅とを加えた時間をパルス信号の一周期より
短く設定したことを特徴とする。
【0019】さらに、本発明の集積回路の検査方法は、
前記集積回路の検査装置において、被測定集積回路のヒ
ステリシス幅より大きな振幅のパルス信号と、前記パル
ス信号の一周期毎にDC電位が逓増する階段波とを加算
した入力信号を被測定集積回路に入力し、被測定集積回
路の出力信号に含まれる連続パルス部分の期間に対応し
た整形パルスを発生させる第1の工程と、整形パルスの
前縁のタイミングに対応した被測定集積回路に入力され
る第1のDC電圧を求める第2の工程と、整形パルスの
後縁のタイミングに対応した被測定集積回路に入力され
る第2のDC電圧を求める第3の工程とを含むことを特
徴とする。
【0020】また、本発明の集積回路の検査方法は、被
測定集積回路に入力される前記加算した入力信号が、階
段波に重畳されたパルス信号のハイ電圧レベルが被測定
集積回路の第1閾値電圧より低く、階段波に重畳された
パルス信号のロー電圧レベルが被測定集積回路の第2閾
値電圧より高いことを特徴とする。
【0021】また、本発明の集積回路の検査方法は、第
1のDC電圧と第2のDC電圧との差を求めることを特
徴とする。
【0022】また、本発明の集積回路の検査方法は、被
測定集積回路のヒステリシス幅より大きな振幅のパルス
信号と、前記パルス信号の一周期毎にDC電位が逓増す
る階段波とを加算した入力信号を被測定集積回路に入力
し、被測定集積回路の出力信号の前縁に応じて動作する
ワンショットマルチバイブレータで整形パルスを発生さ
せる第1の工程と、整形パルスの前縁のタイミングに対
応した被測定集積回路に入力される第1のDC電圧を求
める第2の工程と、整形パルスの後縁のタイミングに対
応した被測定集積回路に入力される第2のDC電圧を求
める第3の工程とを含むことを特徴とする。
【0023】また、本発明の集積回路の検査方法におい
て、被測定集積回路に入力される第1のDC電圧と第2
のDC電圧を求める第1の検査方法は、ワンショットマ
ルチバイブレータのワンショット動作時の動作周期をパ
ルス信号の一周期より僅かに幅広となるように設定し、
そのワンショットマルチバイブレータの整形波形の前縁
と後縁から第1の周期と第2の周期とを検出し、パルス
信号が入力される毎の階段波の変移量から第1の周期に
対応した第1のDC電圧と、第2の周期に対応した第2
のDC電圧とを求めることを特徴とする。
【0024】また、本発明の集積回路の検査方法におい
て、被測定集積回路に入力される第1のDC電圧と第2
のDC電圧を求める第2の検査方法は、ワンショットマ
ルチバイブレータのワンショット動作時の動作周期をパ
ルス信号の一周期より僅かに幅広となるように設定し、
そのワンショットマルチバイブレータの整形波形の前縁
と後縁を基にカウンタの第1のデジタル出力と第2のデ
ジタル出力とを検出し、パルス信号が入力される毎の階
段波の変移量から第1のデジタル出力に対応した第1の
DC電圧と、第2のデジタル出力に対応した第2のDC
電圧とを求めることを特徴とする。
【0025】また、本発明の集積回路の検査方法におい
て、被測定集積回路に入力される第1のDC電圧と第2
のDC電圧を求める第3の検査方法は、ワンショットマ
ルチバイブレータのワンショット動作時の動作周期をパ
ルス信号の一周期より僅かに幅広となるように設定し、
そのワンショットマルチバイブレータの整形波形の前縁
と後縁を基に第1の次段ワンショットマルチバイブレー
タ及び第2の次段ワンショットマルチバイブレータを動
作させデジタル/アナログ・コンバータの第1の出力電
圧と第2の出力電圧とを検出することを特徴とする。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の集積回路の検査装置及び検査方法について説明する。
【0027】(第1の実施形態)図1は本発明の第1の
実施形態を説明するための集積回路の検査装置の回路構
成図であり、2は被測定集積回路、4はパルス発生器、
5はレベル変換器、6はカウンタ、7はデジタル/アナ
ログ・コンバータ(D/Aコンバータ)、8は加算器、
9はワンショットマルチバイブレータ、10は周期測定
器である。
【0028】被測定集積回路2は、シュミット回路ある
いはヒステリシスコンパレータなどを集積化した集積回
路であり、入力換算でヒステリシス幅VHのヒステリシ
ス特性を有したものであって、測定対象物となるもので
ある。
【0029】パルス発生器4は、所定の周期Tで繰り返
し動作し、ゼロからVpまでの振幅を持つ連続的なパル
ス信号を出力するものであり、その振幅は被測定集積回
路2のヒステリシス幅VHより大きく設定される。
【0030】レベル変換器5は、後述するカウンタ6に
入力されるデジタル入力の振幅と、被測定集積回路2に
入力するパルス信号の振幅との振幅レベルが異なるた
め、それらの整合性を図るためのものであり、本実施形
態では一種の増幅器に相当する。しかし、パルス発生器
4のパルス信号をカウンタ6に直接入力して、カウンタ
6がカウント動作する場合には、このレベル変換器5は
必ずしも必要ない。
【0031】カウンタ6は、バイナリーカウンタのよう
なものであり、パルス発生器4から入力されるパルス信
号の個数をカウントして、その個数に対応したデジタル
コードを出力する。
【0032】デジタル/アナログ・コンバータ7は、カ
ウンタ6のデジタルコードが入力され、そのデジタルコ
ードをDC(直流)電圧に変換して出力する。
【0033】ワンショットマルチバイブレータ9は、外
付けされる抵抗とコンデンサによる時定数で動作時間が
定まり、B入力に入力されるパルス波形の立ち上りエッ
ジ(前縁)に応答して動作する。なお、その動作時間は
パルス発生器4のパルス信号の1周期Tより僅かに幅広
く設定され、具体的にはパルス信号の周期Tの1.1〜
1.2倍に設定される。
【0034】このワンショットマルチバイブレータ9
は、単発のパルスが入力された場合には、外付け抵抗と
外付けコンデンサで決まる動作時間でワンショット動作
して、単発のパルスを出力する。しかし周期Tの連続パ
ルスが入力される場合には、1個目のパルスで1回目の
ワンショット動作を開始するが、そのワンショット動作
が完了する前に1個目のパルスに続く2個目のパルスが
入力され、2個目のパルスに応動して2個目のワンショ
ット動作を開始する。そのため、連続パルスが入力され
る期間中のQ出力はH(high:ハイ)レベルを維持
し続け、連続パルス中の最終パルスに応動したワンショ
ット動作が完了してからL(low:ロー)レベルとな
る整形パルスを出力する。すなわち連続パルスの期間中
が連なって1つのパルスに整形されたパルスをQ出力か
ら出力することになる。
【0035】周期測定器10は、ワンショットマルチバ
イブレータ9のQ出力とカウンタ6のMSB出力とが入
力され、カウンタ6のMSB出力を基準にワンショット
マルチバイブレータ9のQ出力波形またはその反転出力
波形を観測して、動作のタイミングを測定するものであ
る。
【0036】なお、第1の実施形態では、パルス発生器
4のパルス信号とデジタル/アナログ・コンバータ7の
出力との同期をとるために、カウンタ6の入力側に増幅
器となるレベル変換器5を設けたが、パルス発生器4の
出力パルスをロジックレベルで出力してカウンタ6に直
接入力し、パルス発生器4の出力パルスを減衰させるレ
ベル変換器を介して加算器8に入力して実施しても構わ
ない。
【0037】次に、図6を参照しながら回路動作を説明
する。図6(a)〜(g)は第1の実施形態においてカ
ウンタ6の最上位ビット(MSB)出力がハイからロー
に遷移した時点(カウンタ出力「ゼロ」)からのそれぞ
れのポイントにおける電圧を示す。
【0038】図6(a)は、パルス発生器4から出力さ
れるパルス信号であり、ゼロからVpまでの振幅は被測
定集積回路2のヒステリシス幅より大きい値に設定され
る。レベル変換器5を通してロジックレベルに変換し、
カウンタ6をインクリメントすることによりデジタル/
アナログ・コンバータ7の出力には、図6(b)に示す
ように1パルス毎に逓増する階段波が得られる。このと
き、カウンタ6に同期カウンタを使用すると全ビット同
期して変化するためデジタル/アナログ・コンバータ7
の出力にはグリッジができない。加算器8では、図6
(a)に示すパルス信号と図6(b)に示す階段波とが
足し合わされ、1パルス毎に逓増する階段波にパルス信
号成分が重畳された加算信号(図6(c)を参照)を出
力する。その加算信号は被測定集積回路2に入力され
る。
【0039】なお、本検査方法においては、加算信号の
パルス信号成分のハイ電圧が被測定集積回路2の第1閾
値電圧(ハイ側の閾値電圧)V1より低くなる状態と、
パルス信号成分のロー電圧が被測定集積回路2の第2閾
値電圧(ロー側の閾値電圧)V2より高くなる状態が存
在するように、加算信号を設定する必要がある。
【0040】被測定集積回路2の出力波形は、図6
(d)に示すように3つの出力状態を持つ。まず、階段
波に重畳されたパルス信号成分のハイ電圧が被測定集積
回路2の第1閾値電圧V1より低い期間Aでは、パルス
信号成分のロー電圧が入力されて出力が一度にローレベ
ルになると、被測定集積回路2の出力は図5に示す経路
(1)を経由してハイレベルにならず、被測定集積回路
2はローレベルの出力状態を保つ。
【0041】次に、階段波に重畳されたパルス信号成分
のハイ電圧が被測定集積回路2の第1閾値電圧V1より
高く、かつパルス信号成分のロー電圧が第2閾値電圧V
2より低くなる期間Bでは、パルス信号成分がハイにな
る時、被測定集積回路2の出力は図5に示す経路(1)
を通ってローからハイに遷移し、パルス信号成分がロー
になる時、被測定集積回路2の出力は図5に示す経路
(2)を通ってハイからローに遷移する。その結果、被
測定集積回路2の出力波形は、パルス発生器4のパルス
出力に応答してスイッチングされるパルス波形となる。
パルス発生器4のパルス振幅Vpは、被測定集積回路2
のヒステリシス幅より大きく設定されているため、この
状態は必ず発生する。
【0042】最後に、加算信号(図6(c)を参照)の
パルス信号のパルス信号成分のロー電圧が被測定集積回
路2の第2閾値電圧V2より高くなる期間Cでは、被測
定集積回路2の出力が一度ハイレベルになると、被測定
集積回路2の出力は図5に示す経路(2)を通ってロー
レベルにならず、被測定集積回路2はハイレベルの出力
状態を保つ。このことは、被測定集積回路2の出力パル
ス中の初回パルスを出力する時の入力パルス信号のハイ
電圧が被測定集積回路2の第1閾値電圧V1に相当し、
同じく最終パルスを出力する時のロー電圧が第2閾値電
圧V2に相当することを示している。
【0043】このようにして、図6(d)に示す部分的
な連続パルスが被測定集積回路2の出力端子から出力さ
れる。この部分的な連続パルスを検出するために、ワン
ショットマルチバイブレータ9を被測定集積回路2の出
力に接続する。ワンショットマルチバイブレータ9は、
出力パルス幅がパルス発生器4のパルス出力の一周期よ
り僅かに幅広(1.1〜1.2倍程度)に設定されてお
り、かつ、入力パルスの前縁(立ち上りエッジ)に応答
して動作する。そして、リトリガブルタイプのワンショ
ットマルチバイブレータ9を使用すると、その正論理出
力端子には図6(e)に示すパルス整形波形が得られ
る。図6(e)を見て分かるように、ワンショットマル
チバイブレータ9は、被測定集積回路2から出力される
連続パルス中の初回パルスの前縁(立ち上りエッジ)に
応答してワンショット動作を開始し、その連続パルスが
入力される期間B中は正論理出力端子からハイレベルを
出力し続ける。そして、その連続パルスの最終パルスに
応答したワンショット動作を完了すると、ワンショット
マルチバイブレータ9の正論理出力端子の出力波形が立
ち下る。従って、ワンショットマルチバイブレータ9の
正論理出力波形の立ち下りエッジは、被測定集積回路2
から出力される連続パルスの最終パルスの立ち上りエッ
ジからパルス発生器4のパルス信号のほぼ一周期分遅れ
ることになる。
【0044】図6(f)に示すカウンタ6の最上位ビッ
ト(MSB)出力の立ち下りエッジからワンショットマ
ルチバイブレータ9の正論理出力端子の立ち上りエッジ
までの時間T1と立ち下りエッジまでの時間T2とを周
期測定器10で測定することにより、被測定集積回路2
から出力される初回パルス時及び最終+1パルス時にお
ける逓増する階段波のDC電圧、さらには被測定集積回
路2の第1閾値電圧V1及び第2閾値電圧V2を求める
ことができる。パルス発生器4より出力されるパルス信
号の一周期をT、パルス信号の振幅をVp、デジタル/
アナログ・コンバータ7の1LSBあたりの変移量をV
rとすると、被測定集積回路2の第1閾値電圧V1及び
第2閾値電圧V2は(数1),(数2)によって求める
ことができる。
【0045】
【数1】V1=Vr×T1/T+Vp
【0046】
【数2】V2=Vr×(T2−T)/T T2は、ワンショットマルチバイブレータ9の出力パル
ス幅をパルス信号の一周期Tに比べて僅かに幅広に設定
した分だけ誤差を含むが、デジタル/アナログ・コンバ
ータ7のビット数を大きくし、かつパルス信号の繰返し
周波数を高くすると、その誤差は小さくすることができ
る。
【0047】さらに、求めた第1閾値電圧V1及び第二
閾値電圧V2から(数3)のように、差分を計算するこ
とによってヒステリシス幅VHを求めることができる。
【0048】
【数3】VH=V1−V2=Vp+Vr×(T1−T2
+T)/T カウンタ6は、クロック入力が入力されるたびにカウン
トアップされ、ゼロから徐々に逓増して最大値になり、
さらにカウントアップされるとオーバーフローして再び
ゼロに戻って、上述した動作を何度でも繰り返す。周期
測定器10の測定される時間T1及びT2の測定値は、
そのたびにリフレッシュされる。
【0049】なお、第1の実施形態における検査回路の
カウンタ6のデジタル出力とデジタル/アナログ・コン
バータ7のデジタル入力のビット数は、同じであること
を前提としているが、仮に使用した部品の都合でビット
数が異なったとしても、デジタル/アナログ・コンバー
タ7に入力されている最上位ビット(MSB)を周期測
定器10に入力することで何ら問題は発生しない。
【0050】(第2の実施形態)図2は本発明の第2の
実施形態を説明するための集積回路の検査装置の回路構
成図であり、2は被測定集積回路、4はパルス発生器、
5はレベル変換器、6はカウンタ、7はデジタル/アナ
ログ・コンバータ、8は加算器、9はワンショットマル
チバイブレータ、11は第1のラッチ回路、12は第2
のラッチ回路である。
【0051】第1の実施形態と異なる点は、図6(e)
に示すパルス整形波形の立ち上りエッジ及び立ち下りエ
ッジにおける階段波のDC電圧を検出する方法にあり、
ワンショットマルチバイブレータ9の正論理出力端子の
立ち上りエッジと立ち下りエッジ(またはワンショット
マルチバイブレータ9の負論理出力端子の立ち上りエッ
ジ)とでそれぞれ第1のラッチ回路11及び第2のラッ
チ回路12を作動させて、それぞれにカウンタ6のデジ
タル出力を記憶させる。
【0052】記憶した第1のラッチ回路11のデジタル
出力をD1、第2のラッチ回路12のデジタル出力をD
2とし、それらを読み取ることにより、被測定集積回路
2から出力される初回パルス時及び最終+1パルス時に
おける階段波のDC電圧を求め、さらには被測定集積回
路2の第1閾値電圧V1及び第2閾値電圧V2を求める
ことができる。パルス信号の振幅をVp、デジタル/ア
ナログ・コンバータ7の1LSBあたりの変移量をVr
とすると、被測定集積回路2の第1閾値電圧V1及び第
2閾値電圧V2は(数4),(数5)によって求めるこ
とができる。
【0053】
【数4】V1=Vr×D1+Vp
【0054】
【数5】V2=Vr×(D2−1) パルス整形波形の立ち下りエッジは、パルス発生器4の
パルス信号の立ち上りエッジからずれるが、カウンタ6
が1LSB分余分にカウントアップする前にカウンタ6
のデジタル出力を第2のラッチ回路12で読み取って記
憶させるため、パルス整形波形の立ち下りエッジのずれ
は測定誤差に影響しない。
【0055】さらに、求めた第1閾値電圧V1及び第2
閾値電圧V2から差分を計算してヒステリシス幅VHを
(数6)によって求めることができる。
【0056】
【数6】 VH=V1−V2=Vp+Vr×(D1−D2+1) 第2の実施形態における検査装置において、カウンタ6
のデジタル出力とデジタル/アナログ・コンバータ7の
デジタル入力のビット数は、同じであることを前提とし
ているが、仮に、使用した部品の都合でビット数が異な
ったとしても、デジタル/アナログ・コンバータ7に入
力されているビット数のみを第1のラッチ回路11及び
第2のラッチ回路12に入力することによって動作させ
ることができ、何ら問題はない。
【0057】(第3の実施形態)図3は本発明の第3の
実施形態を説明するための集積回路の検査装置の回路構
成図であり、2は被測定集積回路、4はパルス発生器、
5はレベル変換器、6はカウンタ、7はデジタル/アナ
ログ・コンバータ、8は加算器、9はワンショットマル
チバイブレータ、13は第1の次段ワンショットマルチ
バイブレータ、14は第2の次段ワンショットマルチバ
イブレータ、15は第1のサンプルホールド回路、16
は第2のサンプルホールド回路、17は第1の電圧計、
18は第2の電圧計である。
【0058】第1の実施形態と異なる点は、図6(e)
に示すパルス整形波形における立ち上りエッジ及び立ち
下りエッジにおける階段波のDC電圧を検出する方法で
ある。図3において、前段のワンショットマルチバイブ
レータ9の正論理出力端子の立ち上りエッジと立ち下り
エッジ(または前段のワンショットマルチバイブレータ
9の負論理出力端子の立ち上りエッジ)とで、それぞれ
次段のワンショットマルチバイブレータ13,14を作
動させて、図6(g)に示すサンプリングパルスg1,
g2を発生させ、第1のサンプルホールド回路15及び
第2のサンプルホールド回路16にデジタル/アナログ
・コンバータ7の出力電圧をそれぞれに記憶させる。
【0059】記憶した第1のサンプルホールド回路15
の出力電圧E1と第2のサンプルホールド回路16の出
力電圧E2とを、それぞれ第1の電圧計17及び第2の
電圧計18により測定することにより、被測定集積回路
2から出力される初回パルス時及び最終+1パルス時に
おける逓増する階段波のDC電圧、さらには被測定集積
回路2の第1閾値電圧V1及び第2閾値電圧V2を求め
ることができる。パルス信号の振幅をVp、デジタル/
アナログ・コンバータ7の1LSBあたりの変移量をV
rとすると被測定集積回路2の第1閾値電圧V1及び第
2閾値電圧V2は(数7),(数8)によって求めるこ
とができる。
【0060】
【数7】V1=E1+Vp
【0061】
【数8】V2=E2−Vr サンプルホールド回路15,16は、サンプリングパル
スg1,g2の印加によってデジタル/アナログ・コン
バータ7の出力電圧を読み取り(充電)動作するため、
その期間中にデジタル/アナログ・コンバータ7の出力
電圧が書き換わらないように配慮する必要がある。ワン
ショットマルチバイブレータ9の出力パルス幅をパルス
信号の一周期Tに比べて幅広にした時間幅とサンプリン
グパルスg2のパルス幅とを加算した時間幅が、パルス
発生器4のパルス信号の一周期より短ければ測定誤差に
は影響しない。したがって、サンプリングパルスg1,
g2のパルス幅はT/2程度に設定すればよい。
【0062】さらに、求められた第1閾値電圧V1及び
第2閾値電圧V2から差分を計算してヒステリシス幅V
Hを(数9)によって求めることができる。
【0063】
【数9】VH=V1−V2=Vp+E1−E2+Vr なお、前記各実施形態において、さらに効率良く被測定
集積回路2の第1閾値電圧V1及び第2閾値電圧V2を
求めるためには、加算器8にもう一つ電源を接続し、逓
増する階段波にオフセットを持たせるとよい。その電源
の出力電圧を(V1−Vp)より低く設定することによ
り、逓増する階段波のスキャン幅を狭く設定することが
できるため、逓増する階段波のステップ数を減らして測
定時間の短縮を図ったり、あるいは最小分解能を上げて
測定精度を向上させることができる。
【0064】また、本実施形態では、インクリメントカ
ウンタによる逓増する階段波を前提にして説明している
が、デクリメントカウンタによる逓減する階段波を用い
ても同様の効果が得られる。
【0065】このように、本実施形態によれば、従来例
のようにソフトウェアにより電源の電圧を逓増もしくは
逓減して閾値電圧をサーチする必要がないため、膨大な
電源の電圧設定と電圧計による測定作業をコントローラ
のプログラムから、それぞれのインターフェースを通し
て制御する必要がなくなる。被測定集積回路及び本実施
形態によるヒステリシス特性を測定するための周辺回路
を構成する各部品の応答速度のみに依存した測定時間に
より閾値電圧V1,V2を検出することができる。
【0066】仮にサーチする電圧幅を1Vとし、測定精
度を1mVとすると、1/1000の分解能を必要とす
るが、10ビットのデジタル/アナログ・コンバータを
使用すると2の10乗が1024であって、その条件を
満たすことができる。このデジタル/アナログ・コンバ
ータは、1024クロックで逓増する階段波を1回発生
させることができ、パルス発生器より出力されるパルス
信号の一周期を10μsとすると、約10msで1回発
生させることができる。閾値電圧の読み取りを検査回路
と非同期に行うとすると、最悪のタイミングでも逓増す
る階段波を2回繰り返せば、閾値電圧を得ることができ
る。すなわち、検査回路を動作させて約20ms後に
は、確実に閾値電圧を得ることができる。
【0067】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ヒステリシス特性を有する集積回路のヒステリシス特性
を測定するにあたって、簡単なハードウェアの追加によ
りソフトウェアによる膨大な数の電圧設定を実施せず
に、2つの閾値電圧やヒステリシス幅を測定することが
可能となり、検査時間の大幅な短縮を実現することがで
き、極めて有用な効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態を説明するための集積
回路の検査装置の回路構成図
【図2】本発明の第2の実施形態を説明するための集積
回路の検査装置の回路構成図
【図3】本発明の第3の実施形態を説明するための集積
回路の検査装置の回路構成図
【図4】従来例における集積回路の検査回路の構成図
【図5】従来の被測定集積回路の入出力特性を示す図
【図6】本実施形態において第1の閾値電圧V1及び第
2の閾値電圧V2を求める検査方法における検査回路の
各ポイントの信号波形を示す図
【符号の説明】
1 電源 2 被測定集積回路 3 電圧計 4 パルス発生器 5 レベル変換器 6 カウンタ 7 デジタル/アナログ・コンバータ 8 加算器 9 ワンショットマルチバイブレータ 10 周期測定器 11 第1のラッチ回路 12 第2のラッチ回路 13 第1の次段ワンショットマルチバイブレータ 14 第2の次段ワンショットマルチバイブレータ 15 第1のサンプルホールド回路 16 第2のサンプルホールド回路 17 第1の電圧計 18 第2の電圧計

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被測定集積回路のヒステリシス幅より大
    きな振幅のパルス信号を出力するパルス発生器と、前記
    パルス信号の一周期毎に一方向にDC電位がレベルシフ
    トする階段波を発生する階段波発生手段と、前記階段波
    と前記パルス信号を加算した出力を前記被測定集積回路
    に入力する加算器と、前記被測定集積回路の出力信号に
    含まれる連続パルス部分をパルス整形して、その連続パ
    ルス部分の期間に対応した整形パルスを発生するパルス
    整形手段とを備え、前記整形パルスの前縁のタイミング
    に対応した第1のDC電圧を求め、その整形パルスの後
    縁のタイミングに対応した第2のDC電圧を求めること
    を特徴とする集積回路の検査装置。
  2. 【請求項2】 パルス整形手段は、被測定集積回路の出
    力信号に含まれる連続パルス部分の初回パルスに応じて
    作動し、前記連続パルス部分の最終パルスに応じて終了
    する整形パルスを発生することを特徴とする請求項1記
    載の集積回路の検査装置。
  3. 【請求項3】 被測定集積回路のヒステリシス幅より大
    きな振幅のパルス信号を出力するパルス発生器と、前記
    パルス発生器より出力されるパルス信号を計数するカウ
    ンタと、前記カウンタのデジタル出力をDC電圧に変換
    するデジタル/アナログ・コンバータと、前記デジタル
    /アナログ・コンバータの出力信号と前記パルス信号を
    加算した出力を前記被測定集積回路に入力する加算器
    と、前記被測定集積回路の出力信号に含まれる連続パル
    ス部分をパルス整形して、その連続パルス部分の期間に
    対応した整形パルスを発生するパルス整形手段とを備
    え、前記パルス整形手段の整形パルスの前縁のタイミン
    グに対応した第1のDC電圧を求め、その整形パルスの
    後縁のタイミングに対応した第2のDC電圧を求めるこ
    とを特徴とする集積回路の検査装置。
  4. 【請求項4】 パルス信号が検査条件に対応した振幅で
    パルス発生器から出力される場合は、前記パルス信号を
    ロジックレベルに変換するレベル変換器の出力をカウン
    タに入力することを特徴とする請求項3記載の集積回路
    の検査装置。
  5. 【請求項5】 パルス信号がロジックレベルでパルス発
    生器から出力される場合は、前記パルス信号を検査条件
    に対応した振幅に変換するレベル変換器の出力を加算器
    に入力することを特徴とする請求項3記載の集積回路の
    検査装置。
  6. 【請求項6】 被測定集積回路のヒステリシス幅より大
    きな振幅のパルス信号を出力するパルス発生器と、前記
    パルス発生器より出力されるパルス信号を計数するカウ
    ンタと、前記カウンタのデジタル出力をDC電圧に変換
    するデジタル/アナログ・コンバータと、前記デジタル
    /アナログ・コンバータの出力信号と前記パルス信号を
    加算した出力を前記被測定集積回路に入力する加算器
    と、被測定集積回路の出力信号の前縁に応動して整形パ
    ルスを出力するワンショットマルチバイブレータと、前
    記整形パルスの出力と前記カウンタの最上位ビット出力
    とが入力され、前記最上位ビット出力の遷移点から前記
    整形パルスの前縁までの第1の周期と、前記最上位ビッ
    ト出力の遷移点から前記整形パルスの後縁までの第2の
    周期とを測定する周期測定器とを備えたことを特徴する
    集積回路の検査装置。
  7. 【請求項7】 パルス信号の一周期より僅かに幅広のパ
    ルス幅でワンショット動作するワンショットマルチバイ
    ブレータで整形パルスを発生させ、前記整形パルスを周
    期測定器に入力することを特徴とする請求項6記載の集
    積回路の検査装置。
  8. 【請求項8】 被測定集積回路のヒステリシス幅より大
    きな振幅のパルス信号を出力するパルス発生器と、前記
    パルス発生器より出力されるパルス信号を計数するカウ
    ンタと、前記カウンタのデジタル出力をDC電圧に変換
    するデジタル/アナログ・コンバータと、前記デジタル
    /アナログ・コンバータの出力信号と前記パルス信号を
    加算した出力を前記被測定集積回路に入力する加算器
    と、被測定集積回路の出力信号の前縁に応動して整形パ
    ルスを出力するワンショットマルチバイブレータと、前
    記カウンタの第1のデジタル出力を前記整形パルスの前
    縁で記憶する第1のラッチ回路と、前記カウンタの第2
    のデジタル出力を前記整形パルスの後縁で記憶する第2
    のラッチ回路とを備えたことを特徴する集積回路の検査
    装置。
  9. 【請求項9】 パルス信号の一周期より僅かに幅広のパ
    ルス幅でワンショット動作するワンショットマルチバイ
    ブレータで整形パルスを発生させ、前記整形パルスの前
    縁と後縁でそれぞれ記憶する第1のラッチ回路及び第2
    のラッチ回路に入力することを特徴とする請求項8記載
    の集積回路の検査装置。
  10. 【請求項10】 被測定集積回路のヒステリシス幅より
    大きな振幅のパルス信号を出力するパルス発生器と、前
    記パルス発生器より出力されるパルス信号を計数するカ
    ウンタと、前記カウンタのデジタル出力をDC電圧に変
    換するデジタル/アナログ・コンバータと、前記デジタ
    ル/アナログ・コンバータの出力信号と前記パルス信号
    を加算した出力を前記被測定集積回路に入力する加算器
    と、被測定集積回路の出力信号の前縁に応動して整形パ
    ルスを出力するワンショットマルチバイブレータと、前
    記整形パルスの前縁で作動する第1の次段ワンショット
    マルチバイブレータ及び前記整形パルスの後縁で作動す
    る第2の次段ワンショットマルチバイブレータと、前記
    第1の次段ワンショットマルチバイブレータ及び前記第
    2の次段ワンショットマルチバイブレータのそれぞれの
    出力パルスで動作する前記デジタル/アナログ・コンバ
    ータの第1の出力電圧を検出する第1のサンプルホール
    ド回路と前記デジタル/アナログ・コンバータの第2の
    出力電圧を検出する第2のサンプルホールド回路とを備
    えたことを特徴する集積回路の検査装置。
  11. 【請求項11】 パルス信号の一周期より僅かに幅広の
    パルス幅でワンショット動作するワンショットマルチバ
    イブレータで整形パルスを発生させ、前記整形パルスの
    前縁と後縁でそれぞれ作動する第1の次段ワンショット
    マルチバイブレータ及び第2の次段ワンショットマルチ
    バイブレータに入力し、かつパルス信号の一周期より僅
    かに幅広に設定したワンショットマルチバイブレータの
    出力パルス幅の長めの分と第1の次段ワンショットマル
    チバイブレータもしくは第2の次段ワンショットマルチ
    バイブレータのパルス幅とを加えた時間をパルス信号の
    一周期より短く設定したことを特徴とする請求項10記
    載の集積回路の検査装置。
  12. 【請求項12】 被測定集積回路のヒステリシス幅より
    大きな振幅のパルス信号と、前記パルス信号の一周期毎
    に一方向にDC電位がレベルシフトする階段波とを加算
    した入力信号を前記被測定集積回路に入力し、前記被測
    定集積回路の出力信号に含まれる連続パルス部分の期間
    に対応した整形パルスを発生させる第1の工程と、前記
    整形パルスの前縁のタイミングに対応した前記被測定集
    積回路に入力される第1のDC電圧を求める第2の工程
    と、前記整形パルスの後縁のタイミングに対応した前記
    被測定集積回路に入力される第2のDC電圧を求める第
    3の工程とを含むことを特徴とする集積回路の検査方
    法。
  13. 【請求項13】 被測定集積回路に入力される前記加算
    した入力信号は、階段波に重畳されたパルス信号のハイ
    電圧レベルが被測定集積回路の第1閾値電圧より低く、
    前記階段波に重畳された前記パルス信号のロー電圧レベ
    ルが前記被測定集積回路の第2閾値電圧より高いことを
    特徴とする請求項12記載の集積回路の検査方法。
  14. 【請求項14】 第1のDC電圧と第2のDC電圧との
    差を求めることを特徴とする請求項12記載の集積回路
    の検査方法。
  15. 【請求項15】 被測定集積回路のヒステリシス幅より
    大きな振幅のパルス信号と、前記パルス信号の一周期毎
    に一方向にDC電位がレベルシフトする階段波とを加算
    した入力信号を前記被測定集積回路に入力し、前記被測
    定集積回路の出力信号の前縁に応じて動作するワンショ
    ットマルチバイブレータで整形パルスを発生させる第1
    の工程と、前記整形パルスの前縁のタイミングに対応し
    た前記被測定集積回路に入力される第1のDC電圧を求
    める第2の工程と、前記整形パルスの後縁のタイミング
    に対応した前記被測定集積回路に入力される第2のDC
    電圧を求める第3の工程とを含むことを特徴とする集積
    回路の検査方法。
  16. 【請求項16】 ワンショットマルチバイブレータのワ
    ンショット動作時の動作周期をパルス信号の一周期より
    僅かに幅広となるように設定し、前記ワンショットマル
    チバイブレータの整形波形の前縁と後縁から第1の周期
    と第2の周期とを検出し、パルス信号が入力される毎の
    階段波の変移量から前記第1の周期に対応した第1のD
    C電圧を求め、前記変移量から前記第2の周期に対応し
    た第2のDC電圧を求めることを特徴とする請求項15
    記載の集積回路の検査方法。
  17. 【請求項17】 ワンショットマルチバイブレータのワ
    ンショット動作時の動作周期をパルス信号の一周期より
    僅かに幅広となるように設定し、前記ワンショットマル
    チバイブレータの整形波形の前縁と後縁を基にカウンタ
    の第1のデジタル出力と第2のデジタル出力とを検出
    し、パルス信号が入力される毎の階段波の変移量から前
    記第1のデジタル出力に対応した第1のDC電圧を求
    め、前記変移量から前記第2のデジタル出力に対応した
    第2のDC電圧を求めることを特徴とする請求項15記
    載の集積回路の検査方法。
  18. 【請求項18】 ワンショットマルチバイブレータのワ
    ンショット動作時の動作周期をパルス信号の一周期より
    僅かに幅広となるように設定し、前記ワンショットマル
    チバイブレータの整形波形の前縁と後縁を基に第1の次
    段ワンショットマルチバイブレータ及び第2の次段ワン
    ショットマルチバイブレータを動作させデジタル/アナ
    ログ・コンバータの第1の出力電圧と第2の出力電圧と
    を検出することを特徴とする請求項15記載の集積回路
    の検査方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009105548A (ja) * 2007-10-22 2009-05-14 Murata Mfg Co Ltd 光モジュール回路の閾値測定方法およびその装置

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