JP2002356763A - ガス浸炭方法及びその装置 - Google Patents
ガス浸炭方法及びその装置Info
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- JP2002356763A JP2002356763A JP2002090895A JP2002090895A JP2002356763A JP 2002356763 A JP2002356763 A JP 2002356763A JP 2002090895 A JP2002090895 A JP 2002090895A JP 2002090895 A JP2002090895 A JP 2002090895A JP 2002356763 A JP2002356763 A JP 2002356763A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ノズル部品、その他の複雑形状を有する被処
理品の浸炭処理を通常の浸炭炉で有効に行うことができ
る浸炭方法を提供する。 【解決手段】 変成炉９への炭化水素系ガス、エアー及
び二酸化炭素ガスの混合供給装置１０が設けられ、前記
エアー及び／又は二酸化炭素ガスの供給量により変成ガ
ス中のＣＯ％を可変制御し、該ＣＯ％を制御した変成ガ
スを浸炭炉に供給して浸炭処理を行うガス浸炭方法。
理品の浸炭処理を通常の浸炭炉で有効に行うことができ
る浸炭方法を提供する。 【解決手段】 変成炉９への炭化水素系ガス、エアー及
び二酸化炭素ガスの混合供給装置１０が設けられ、前記
エアー及び／又は二酸化炭素ガスの供給量により変成ガ
ス中のＣＯ％を可変制御し、該ＣＯ％を制御した変成ガ
スを浸炭炉に供給して浸炭処理を行うガス浸炭方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、変成炉を用いたガ
ス浸炭方法及びその装置に関する。
ス浸炭方法及びその装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ガス浸炭方法として、変成炉を用
いる方法及び直接浸炭炉内に原料ガスとしての炭化水素
系ガスとエアー（酸素）を供給して炉内変成を行う方法
など提案されている。
いる方法及び直接浸炭炉内に原料ガスとしての炭化水素
系ガスとエアー（酸素）を供給して炉内変成を行う方法
など提案されている。
【０００３】前記変成炉を用いるガス浸炭方法は、原料
ガスとして、メタン、プロパンなどの炭化水素系ガスと
エアーとを変成炉に混合供給し、生成された変成ガス
（ＣＯ：約２０％、Ｈ２ ：約４０％、Ｎ２ ：約４０
％）をキャリアガスとして浸炭炉に供給し、さらに浸炭
炉にエンリッチガスを供給して炉内雰囲気を制御して行
っている。
ガスとして、メタン、プロパンなどの炭化水素系ガスと
エアーとを変成炉に混合供給し、生成された変成ガス
（ＣＯ：約２０％、Ｈ２ ：約４０％、Ｎ２ ：約４０
％）をキャリアガスとして浸炭炉に供給し、さらに浸炭
炉にエンリッチガスを供給して炉内雰囲気を制御して行
っている。
【０００４】しかしながら、前記変成ガスをキャリアガ
スとして使用した浸炭処理においては、例えば、細孔を
有するノズル部品、その他の複雑形状を有する被処理品
の浸炭処理に大量のキャリアガスと長時間の処理時間を
必要とし、さらに、前記ノズル部品の細孔、その他の複
雑形状部分の浸炭を確保するためのエンリッチガスの供
給に際しては、スーティング、浸炭むらの発生等に注意
する必要があった。そのため、前記ノズル部品、その他
複雑形状を有する被処理品の完全浸炭処理には真空炉を
使用する場合があった。しかしながら、真空浸炭炉の使
用は、作業条件や経済的にも必ずしも得策とは言えない
ものであった。
スとして使用した浸炭処理においては、例えば、細孔を
有するノズル部品、その他の複雑形状を有する被処理品
の浸炭処理に大量のキャリアガスと長時間の処理時間を
必要とし、さらに、前記ノズル部品の細孔、その他の複
雑形状部分の浸炭を確保するためのエンリッチガスの供
給に際しては、スーティング、浸炭むらの発生等に注意
する必要があった。そのため、前記ノズル部品、その他
複雑形状を有する被処理品の完全浸炭処理には真空炉を
使用する場合があった。しかしながら、真空浸炭炉の使
用は、作業条件や経済的にも必ずしも得策とは言えない
ものであった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記事情に
鑑み為されたもので、被処理品、その他の浸炭処理諸条
件に合わせて、変成炉においてＣＯ％を可変制御した変
成ガスを得、該得られた変成ガスを浸炭炉に供給して浸
炭処理を行うことにより、前記ノズル部品、その他の複
雑形状を有する被処理品の浸炭処理を通常の浸炭炉で有
効に行うことができるガス浸炭方法及び装置を提供する
ことを目的とする。
鑑み為されたもので、被処理品、その他の浸炭処理諸条
件に合わせて、変成炉においてＣＯ％を可変制御した変
成ガスを得、該得られた変成ガスを浸炭炉に供給して浸
炭処理を行うことにより、前記ノズル部品、その他の複
雑形状を有する被処理品の浸炭処理を通常の浸炭炉で有
効に行うことができるガス浸炭方法及び装置を提供する
ことを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本願請求項１の発明は、
変成炉への炭化水素系ガス、エアー及び二酸化炭素ガス
の混合供給装置が設けられ、前記空気及び／又は二酸化
炭素ガスの供給量により変成ガス中のＣＯ％を可変制御
し、該ＣＯ％を可変制御した変成ガスを浸炭炉に供給し
て浸炭処理を行う方法である。
変成炉への炭化水素系ガス、エアー及び二酸化炭素ガス
の混合供給装置が設けられ、前記空気及び／又は二酸化
炭素ガスの供給量により変成ガス中のＣＯ％を可変制御
し、該ＣＯ％を可変制御した変成ガスを浸炭炉に供給し
て浸炭処理を行う方法である。
【０００７】この請求項１によれば、浸炭炉で浸炭処理
する被処理品が、前記ノズル部品、その他、複雑形状を
有し、その複雑形状部分にも浸炭処理が必要な場合に
は、変成炉に混合供給される炭化水素系ガス、あるいは
該炭化水素系ガスに混合される空気に対して二酸化炭素
ガスの混合割合が高く設定される。
する被処理品が、前記ノズル部品、その他、複雑形状を
有し、その複雑形状部分にも浸炭処理が必要な場合に
は、変成炉に混合供給される炭化水素系ガス、あるいは
該炭化水素系ガスに混合される空気に対して二酸化炭素
ガスの混合割合が高く設定される。
【０００８】また、逆に、被処理品が比較的単純形状を
有する場合、あるいは、例えば、複雑形状部分の内部ま
では浸炭の必要がない場合には、混合供給する二酸化炭
素ガスの混合割合を低く設定し、あるいは混合供給する
エアー量を増やすことにより、前記浸炭不要部分に防炭
剤を塗布する等の手段を講ずることなく浸炭処理を行う
ことができる。
有する場合、あるいは、例えば、複雑形状部分の内部ま
では浸炭の必要がない場合には、混合供給する二酸化炭
素ガスの混合割合を低く設定し、あるいは混合供給する
エアー量を増やすことにより、前記浸炭不要部分に防炭
剤を塗布する等の手段を講ずることなく浸炭処理を行う
ことができる。
【０００９】請求項２に示す実施の一形態は、変成炉へ
の炭化水素ガス、エアー及び二酸化炭素ガスの混合供給
装置が設けられ、前記エアー及び／又は二酸化炭素ガス
の供給量により変成ガス中のＣＯ％を可変制御し、該Ｃ
Ｏ％を制御した変成ガスを浸炭炉に供給するとともに、
該浸炭炉にエンリッチガスを供給して浸炭処理を行う方
法である。
の炭化水素ガス、エアー及び二酸化炭素ガスの混合供給
装置が設けられ、前記エアー及び／又は二酸化炭素ガス
の供給量により変成ガス中のＣＯ％を可変制御し、該Ｃ
Ｏ％を制御した変成ガスを浸炭炉に供給するとともに、
該浸炭炉にエンリッチガスを供給して浸炭処理を行う方
法である。
【００１０】この請求項２によれば、浸炭炉へのエンリ
ッチガスの供給量の減少を図り、前記のごとき複雑形状
の被処理品の浸炭処理におけるスーティング、浸炭むら
の発生を防止等することができる。
ッチガスの供給量の減少を図り、前記のごとき複雑形状
の被処理品の浸炭処理におけるスーティング、浸炭むら
の発生を防止等することができる。
【００１１】請求項３は、前記ガス浸炭方法を実施する
ガス浸炭装置に関し、変成炉への炭化水素系ガス、エア
ー及び二酸化炭素ガスとの混合供給装置を有する変成炉
と、該変成炉から変成ガスが供給される浸炭炉とからな
る装置である。
ガス浸炭装置に関し、変成炉への炭化水素系ガス、エア
ー及び二酸化炭素ガスとの混合供給装置を有する変成炉
と、該変成炉から変成ガスが供給される浸炭炉とからな
る装置である。
【００１２】この請求項３によれば、従来の変成炉にお
ける炭化水素系ガスとエアーとの混合供給装置に、さら
に二酸化炭素ガスの混合供給が自在である。なお、変成
炉の内部構成は、従来と同様であるが、適宜ヒータ容量
アップ、さらに変成ガスの冷却速度などが必要に応じて
調整される。
ける炭化水素系ガスとエアーとの混合供給装置に、さら
に二酸化炭素ガスの混合供給が自在である。なお、変成
炉の内部構成は、従来と同様であるが、適宜ヒータ容量
アップ、さらに変成ガスの冷却速度などが必要に応じて
調整される。
【００１３】請求項４は、変成炉への炭化水素系ガス、
エアー及び二酸化炭素ガスの混合供給装置が、炭化水素
系ガス源から流量計を介した配管及び二酸化炭素源から
流量計を介した配管を合流してミキサーに導入し、該ミ
キサーから変成炉に至る配管に空気源から流量計を介し
た配管を連結してなる請求項３に記載のガス浸炭装置で
ある。
エアー及び二酸化炭素ガスの混合供給装置が、炭化水素
系ガス源から流量計を介した配管及び二酸化炭素源から
流量計を介した配管を合流してミキサーに導入し、該ミ
キサーから変成炉に至る配管に空気源から流量計を介し
た配管を連結してなる請求項３に記載のガス浸炭装置で
ある。
【００１４】この請求項４によれば、エアーの供給量制
御による変成ガス中のＣＯ％の可変制御が容易であり、
該ＣＯ％を可変制御した変成ガスを浸炭炉に供給して浸
炭処理を行うことができる。
御による変成ガス中のＣＯ％の可変制御が容易であり、
該ＣＯ％を可変制御した変成ガスを浸炭炉に供給して浸
炭処理を行うことができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下に本発明の一実施の形態を説
明する。図１には、本発明の装置の概略図が示されてい
る。図中、１は変成炉であり、内部にＮｉ触媒等２が充
填されたレトルト３及びヒータ４等が設けられている。
また、図中、５はブロワ、６は逆火防止弁、７は一次ク
ーラ、８は二次クーラ、９は浸炭炉である。
明する。図１には、本発明の装置の概略図が示されてい
る。図中、１は変成炉であり、内部にＮｉ触媒等２が充
填されたレトルト３及びヒータ４等が設けられている。
また、図中、５はブロワ、６は逆火防止弁、７は一次ク
ーラ、８は二次クーラ、９は浸炭炉である。
【００１６】本発明では、前記変成炉１への炭化水素系
ガス、エアー及び二酸化炭素の混合供給装置１０が設け
られる。該混合供給装置１０は実施の一形態では、炭化
水素系ガス源１１から流量計１２を介した配管１３が、
二酸化炭素源１４から流量計１５を介した配管１６と合
流されてミキサー１７に導入され、該ミキサー１７と前
記ブロワ５を連通する配管１８に空気源１９から流量計
２０を介した配管２１が連結されている。
ガス、エアー及び二酸化炭素の混合供給装置１０が設け
られる。該混合供給装置１０は実施の一形態では、炭化
水素系ガス源１１から流量計１２を介した配管１３が、
二酸化炭素源１４から流量計１５を介した配管１６と合
流されてミキサー１７に導入され、該ミキサー１７と前
記ブロワ５を連通する配管１８に空気源１９から流量計
２０を介した配管２１が連結されている。
【００１７】図中、２２は微調整用空気供給源、２３は
コントロールバルブ、２４は流量計、２５は炭化水素ガ
スの微調整用流量計である。
コントロールバルブ、２４は流量計、２５は炭化水素ガ
スの微調整用流量計である。
【００１８】（本願実施例）炭化水素系ガスとして、都
市ガス（１３Ａ）を使用し、該都市ガス、エアー及び二
酸化炭素ガスの混合比を３７：４１：２２にして、１０
８０℃に調整された前記変成炉１のおいて変成ガスを生
成した。該生成された変成ガス中のＣＯは３５％、Ｈ２
は４４％、Ｎ２は２１％であった。
市ガス（１３Ａ）を使用し、該都市ガス、エアー及び二
酸化炭素ガスの混合比を３７：４１：２２にして、１０
８０℃に調整された前記変成炉１のおいて変成ガスを生
成した。該生成された変成ガス中のＣＯは３５％、Ｈ２
は４４％、Ｎ２は２１％であった。
【００１９】前記組成の変成ガスを浸炭炉９に供給し、
さらにエンリッチガスとしてプロパン０．５％を供給
し、材質ＳＣｒ４２０からなる図２に示す形状のテスト
ピース、すなわち、溝部２６ａ及び軸部２６ｂを有する
テストピース２６を、図３に示すヒートパターン、すな
わち、９３０℃、３時間５０分加熱処理後、８５０℃に
降温後、焼き入れ（ＭＱ１２０℃）を行った。
さらにエンリッチガスとしてプロパン０．５％を供給
し、材質ＳＣｒ４２０からなる図２に示す形状のテスト
ピース、すなわち、溝部２６ａ及び軸部２６ｂを有する
テストピース２６を、図３に示すヒートパターン、すな
わち、９３０℃、３時間５０分加熱処理後、８５０℃に
降温後、焼き入れ（ＭＱ１２０℃）を行った。
【００２０】（比較例）従来変成ガス（ＣＯ：２０％、
Ｈ２ ：４０％、Ｎ２ ：４０％）を浸炭炉に供給し、エ
ンリッチガスとしてプロパン１．０％を供給し、前記本
願実施例と同一のテストピースを同一のヒートパターン
で浸炭処理した。
Ｈ２ ：４０％、Ｎ２ ：４０％）を浸炭炉に供給し、エ
ンリッチガスとしてプロパン１．０％を供給し、前記本
願実施例と同一のテストピースを同一のヒートパターン
で浸炭処理した。
【００２１】図４に、前記本願実施例による浸炭処理と
前記比較例における浸炭処理のテストピース２６の硬度
分布曲線を示す。同図中、曲線（Ａ）は、前記本願実施
例による浸炭処理、曲線（Ｂ）は、前記比較例による浸
炭処理を示す。図４を観察すると、前記テストピース２
６の溝部２６ａ及び軸部２６ｂのいずれの箇所も、前記
本願実施例による浸炭処理が前記比較例の浸炭処理より
も優れた硬度を示している。
前記比較例における浸炭処理のテストピース２６の硬度
分布曲線を示す。同図中、曲線（Ａ）は、前記本願実施
例による浸炭処理、曲線（Ｂ）は、前記比較例による浸
炭処理を示す。図４を観察すると、前記テストピース２
６の溝部２６ａ及び軸部２６ｂのいずれの箇所も、前記
本願実施例による浸炭処理が前記比較例の浸炭処理より
も優れた硬度を示している。
【００２２】同様の事実は、図５に示す、Ｈｖ５５０以
上の有効硬化層深さ（ｍｍ）の測定結果にも表れてい
る。すなわち、同図に示されているように、前記本願実
施例及び前記比較例の浸炭処理において、前記軸部２６
ｂにおける有効硬化層深さは略々同様であるが、前記溝
部２６ａにおける有効硬化層は、前記本願実施例による
浸炭処理が前記比較例による浸炭処理に比べてより深く
生成されていることが判明した。
上の有効硬化層深さ（ｍｍ）の測定結果にも表れてい
る。すなわち、同図に示されているように、前記本願実
施例及び前記比較例の浸炭処理において、前記軸部２６
ｂにおける有効硬化層深さは略々同様であるが、前記溝
部２６ａにおける有効硬化層は、前記本願実施例による
浸炭処理が前記比較例による浸炭処理に比べてより深く
生成されていることが判明した。
【００２３】（深孔部品浸炭テスト）図６に示す形状の
テストピース２７による深孔部品浸炭テストを行った。
該テストピース２７は、材質ＳＣＭ４２０からなり、棒
状であり、中心に一端が閉塞された深さ６０ｍｍ、Φ３
ｍｍの深孔２８を有する。
テストピース２７による深孔部品浸炭テストを行った。
該テストピース２７は、材質ＳＣＭ４２０からなり、棒
状であり、中心に一端が閉塞された深さ６０ｍｍ、Φ３
ｍｍの深孔２８を有する。
【００２４】浸炭条件は、前記本願実施例（変成ガス中
のＣＯ混合比：３５％）、前記比較例（変成ガス中のＣ
Ｏ混合比：２０％）及び真空浸炭処理である。
のＣＯ混合比：３５％）、前記比較例（変成ガス中のＣ
Ｏ混合比：２０％）及び真空浸炭処理である。
【００２５】なお、真空浸炭処理は、処理温度：９３０
℃、処理時間：３時間３０分、添加ガスはプロパンであ
る。
℃、処理時間：３時間３０分、添加ガスはプロパンであ
る。
【００２６】前記各処理における内径硬度Ｈｖ６３３
（ＨＲＣ５７）以上の範囲の測定結果を図７に示す。
（ＨＲＣ５７）以上の範囲の測定結果を図７に示す。
【００２７】同図によれば、前記本願実施例では、入口
から４０ｍｍ、前記比較例では、１４ｍｍ、前記真空浸
炭処理では、１８ｍｍであり、真空浸炭処理を越える効
果が確認された。
から４０ｍｍ、前記比較例では、１４ｍｍ、前記真空浸
炭処理では、１８ｍｍであり、真空浸炭処理を越える効
果が確認された。
【００２８】
【発明の効果】本願方法の発明は、被処理品、その他の
浸炭処理諸条件に合わせて、変成炉においてＣＯ％を可
変制御した変成ガスを生成して浸炭炉に供給し、あるい
はさらに浸炭炉にエンリッチガスを供給して浸炭処理を
行うものであり、その結果、通常の浸炭炉を使用して、
複雑形状を有する被処理品の浸炭処理が可能であり、本
願装置の発明によれば、前記方法の発明を有効に実施す
ることができる。
浸炭処理諸条件に合わせて、変成炉においてＣＯ％を可
変制御した変成ガスを生成して浸炭炉に供給し、あるい
はさらに浸炭炉にエンリッチガスを供給して浸炭処理を
行うものであり、その結果、通常の浸炭炉を使用して、
複雑形状を有する被処理品の浸炭処理が可能であり、本
願装置の発明によれば、前記方法の発明を有効に実施す
ることができる。
【図１】本発明のガス浸炭装置の概略図である。
【図２】テストピースの外観図である。
【図３】ヒートパターン図である。
【図４】図２に示すテストピースの溝部及び軸部の硬度
分布図である。
分布図である。
【図５】図４における有効硬化層深さの測定結果表であ
る。
る。
【図６】深孔テストピースの断面図である。
【図７】図６に示す深孔テストピースの孔内径硬度の測
定図である。
定図である。
１ 変成炉 １０ 混合供給装置
フロントページの続き (72)発明者 吉田 典生 愛知県刈谷市昭和町１丁目１番地 株式会 社デンソー内 (72)発明者 相木 正則 愛知県刈谷市昭和町１丁目１番地 株式会 社デンソー内 (72)発明者 梶山 進 愛知県刈谷市昭和町１丁目１番地 株式会 社デンソー内 (72)発明者 川村 敏行 東京都千代田区丸の内一丁目８番２号 同 和鉱業株式会社内 (72)発明者 丹野 義幸 東京都千代田区丸の内一丁目８番２号 同 和鉱業株式会社内 (72)発明者 北本 健一 東京都千代田区丸の内一丁目８番２号 同 和鉱業株式会社内 Ｆターム(参考） 4K028 AA01 AC08
Claims (4)
- 【請求項１】 変成炉への炭化水素系ガス、エアー及び
二酸化炭素ガスの混合供給装置が設けられ、前記エアー
及び／又は二酸化炭素ガスの供給量により変成ガス中の
ＣＯ％を可変制御し、該ＣＯ％を制御した変成ガスを浸
炭炉に供給して浸炭処理を行うことを特徴とするガス浸
炭方法。 - 【請求項２】 変成炉への炭化水素系ガス、エアー及び
二酸化炭素ガスの混合供給装置が設けられ、前記エアー
及び／又は二酸化炭素ガスの供給量により変成ガス中の
ＣＯ％を可変制御し、該ＣＯ％を制御した変成ガスを浸
炭炉に供給するとともに、該浸炭炉にエンリッチガスを
供給して浸炭処理を行うことを特徴とするガス浸炭方
法。 - 【請求項３】 変成炉への炭化水素系ガス、エアー及び
二酸化炭素ガスの混合供給装置を有する変成炉と、該変
成炉からの変成ガスが供給される浸炭炉とからなること
を特徴とするガス浸炭装置。 - 【請求項４】 変成炉への炭化水素系ガス、エアー及び
二酸化炭素ガスの混合供給装置が、炭化水素系ガス源か
ら流量計を介した配管及び二酸化炭素源から流量計を介
した配管を合流してミキサーに導入し、該ミキサーから
変成炉に至る配管に空気源から流量計を介した配管を連
結してなる請求項３に記載のガス浸炭装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002090895A JP2002356763A (ja) | 2001-03-29 | 2002-03-28 | ガス浸炭方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001094626 | 2001-03-29 | ||
| JP2001-94626 | 2001-03-29 | ||
| JP2002090895A JP2002356763A (ja) | 2001-03-29 | 2002-03-28 | ガス浸炭方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002356763A true JP2002356763A (ja) | 2002-12-13 |
Family
ID=26612472
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002090895A Pending JP2002356763A (ja) | 2001-03-29 | 2002-03-28 | ガス浸炭方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002356763A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005200695A (ja) * | 2004-01-14 | 2005-07-28 | Onex Corp | ガス浸炭方法 |
| JP2005290509A (ja) * | 2004-04-02 | 2005-10-20 | Chugai Ro Co Ltd | 浸炭用ガス製造装置 |
| JP2006161119A (ja) * | 2004-12-09 | 2006-06-22 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 真空浸炭装置とその方法 |
| JP2009156513A (ja) * | 2007-12-26 | 2009-07-16 | Daido Plant Kogyo Kk | 吸熱型ガス発生装置 |
-
2002
- 2002-03-28 JP JP2002090895A patent/JP2002356763A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005200695A (ja) * | 2004-01-14 | 2005-07-28 | Onex Corp | ガス浸炭方法 |
| JP2005290509A (ja) * | 2004-04-02 | 2005-10-20 | Chugai Ro Co Ltd | 浸炭用ガス製造装置 |
| JP4488782B2 (ja) * | 2004-04-02 | 2010-06-23 | 中外炉工業株式会社 | 浸炭用ガス製造装置 |
| JP2006161119A (ja) * | 2004-12-09 | 2006-06-22 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 真空浸炭装置とその方法 |
| JP4560779B2 (ja) * | 2004-12-09 | 2010-10-13 | 株式会社Ｉｈｉ | 真空浸炭装置とその方法 |
| JP2009156513A (ja) * | 2007-12-26 | 2009-07-16 | Daido Plant Kogyo Kk | 吸熱型ガス発生装置 |
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