JP2002346929A - 粉粒体の供給方法及び装置 - Google Patents
粉粒体の供給方法及び装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ホッパ内の粉粒体の量に関わりなく、常に一
定量の粉粒体を安定して供給することができる粉粒体の
供給方法及び装置を提供する。 【解決手段】 粉粒体の供給部２１を備えた粉粒体ホッ
パ２０と、エア源３１に接続され前記ホッパ内に設置さ
れたエア吹出し部３０と、前記ホッパ内の粉粒体の堆積
量を測定する測定部４０と、前記測定部によって測定さ
れた粉粒体の堆積量に比例して前記エア吹出し部から吹
き出されるエアの圧力を制御する制御部５０とを有す
る。なお、エアの圧力の制御は、ホッパ内の粉粒体の堆
積量に比例して段階的又は連続的に変化させて行われ
る。
定量の粉粒体を安定して供給することができる粉粒体の
供給方法及び装置を提供する。 【解決手段】 粉粒体の供給部２１を備えた粉粒体ホッ
パ２０と、エア源３１に接続され前記ホッパ内に設置さ
れたエア吹出し部３０と、前記ホッパ内の粉粒体の堆積
量を測定する測定部４０と、前記測定部によって測定さ
れた粉粒体の堆積量に比例して前記エア吹出し部から吹
き出されるエアの圧力を制御する制御部５０とを有す
る。なお、エアの圧力の制御は、ホッパ内の粉粒体の堆
積量に比例して段階的又は連続的に変化させて行われ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、粉粒体の供給方
法及びその装置に関する。
法及びその装置に関する。
【０００２】例えばガラス製品の表面をくもり状の艶消
面に加工するフロスト加工の一つに、１００μｍ以下の
Ａｌ2Ｏ3やＳｉＣ等の微粒体よりなる研磨材をガラス表
面に投射して該表面を粗面とするサンドブラスト加工が
知られている（特開２０００−６２７２７号）。この投
射用研磨材は投射装置に付属されるホッパから吸引エア
によって投射用ガンに供給されガラス製品に投射され
る。
面に加工するフロスト加工の一つに、１００μｍ以下の
Ａｌ2Ｏ3やＳｉＣ等の微粒体よりなる研磨材をガラス表
面に投射して該表面を粗面とするサンドブラスト加工が
知られている（特開２０００−６２７２７号）。この投
射用研磨材は投射装置に付属されるホッパから吸引エア
によって投射用ガンに供給されガラス製品に投射され
る。
【０００３】ところで、この投射用研磨材のホッパにあ
っては、研磨材の流動性を向上させることを目的とし
て、ホッパ下部から研磨材内へエアを送り込む、いわゆ
るエアレーションが行われる。
っては、研磨材の流動性を向上させることを目的とし
て、ホッパ下部から研磨材内へエアを送り込む、いわゆ
るエアレーションが行われる。
【０００４】しかるに、従来のエアレーションは、ホッ
パ内の研磨材に対して常に一定のエアを送り込むように
したものであるから、ホッパ内に研磨材が大量に堆積さ
れているとき（例えば４００ｋｇ）には、その積圧によ
りエアレーションの浮力による流動性が低くなって研磨
材の投射用ガンへの供給量が減少し、一方ホッパ内の研
磨材の残量が少ないとき（例えば１００ｋｇ以下）に
は、逆に研磨材の浮力が大きくなって流動が激しくな
り、この場合にも研磨材の投射用ガンへの供給量が減少
するという問題が生じている。通常、投射ガンによる研
磨材の投射時間は一定に定められているので、研磨材の
供給量が変動すると、製品に対して所期の投射効果を得
ることができない。
パ内の研磨材に対して常に一定のエアを送り込むように
したものであるから、ホッパ内に研磨材が大量に堆積さ
れているとき（例えば４００ｋｇ）には、その積圧によ
りエアレーションの浮力による流動性が低くなって研磨
材の投射用ガンへの供給量が減少し、一方ホッパ内の研
磨材の残量が少ないとき（例えば１００ｋｇ以下）に
は、逆に研磨材の浮力が大きくなって流動が激しくな
り、この場合にも研磨材の投射用ガンへの供給量が減少
するという問題が生じている。通常、投射ガンによる研
磨材の投射時間は一定に定められているので、研磨材の
供給量が変動すると、製品に対して所期の投射効果を得
ることができない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、このよう
な問題点を解消するために提案されたものであって、ホ
ッパ内の粉粒体の量に関わりなく、常に一定量の粉粒体
を安定して供給することができる粉粒体の供給方法及び
装置を提供しようとするものである。
な問題点を解消するために提案されたものであって、ホ
ッパ内の粉粒体の量に関わりなく、常に一定量の粉粒体
を安定して供給することができる粉粒体の供給方法及び
装置を提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち、請求項１の発
明は、粉粒体ホッパ内にエアを吹き込むことによって粉
粒体の流動性を向上して供給するに際して、前記エアの
吹き込み圧力をホッパ内の粉粒体の堆積量に比例して段
階的又は連続的に変化させて行うことを特徴とする粉粒
体の供給方法に係る。
明は、粉粒体ホッパ内にエアを吹き込むことによって粉
粒体の流動性を向上して供給するに際して、前記エアの
吹き込み圧力をホッパ内の粉粒体の堆積量に比例して段
階的又は連続的に変化させて行うことを特徴とする粉粒
体の供給方法に係る。
【０００７】請求項２の発明は、粉粒体の供給部を備え
た粉粒体ホッパと、エア源に接続され前記ホッパ内に設
置されたエア吹出し部と、前記ホッパ内の粉粒体の堆積
量を測定する測定部と、前記測定部によって測定された
粉粒体の堆積量に比例して前記エア吹出し部から吹き出
されるエアの圧力を制御する制御部とを有することを特
徴とする粉粒体の供給装置に係る。
た粉粒体ホッパと、エア源に接続され前記ホッパ内に設
置されたエア吹出し部と、前記ホッパ内の粉粒体の堆積
量を測定する測定部と、前記測定部によって測定された
粉粒体の堆積量に比例して前記エア吹出し部から吹き出
されるエアの圧力を制御する制御部とを有することを特
徴とする粉粒体の供給装置に係る。
【０００８】また、請求項３の発明は、請求項２におい
て、前記エア吹出し部が粉粒体ホッパの底部に形成され
た多孔部材からなる粉粒体の供給装置に係る。
て、前記エア吹出し部が粉粒体ホッパの底部に形成され
た多孔部材からなる粉粒体の供給装置に係る。
【０００９】また、請求項４の発明は、請求項２又は３
において、前記粉粒体がガラス表面を艶消し面とするた
めの微粒体よりなる投射用研磨材である粉粒体の供給装
置に係る。
において、前記粉粒体がガラス表面を艶消し面とするた
めの微粒体よりなる投射用研磨材である粉粒体の供給装
置に係る。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下添付の図面に従い、この発明
の詳細を説明する。図１はこの発明の一実施例を表す全
体構成図、図２は図１の要部拡大断面図、図３は粉粒体
の堆積量とエアの吹き込み圧力との関係を表すグラフで
ある。
の詳細を説明する。図１はこの発明の一実施例を表す全
体構成図、図２は図１の要部拡大断面図、図３は粉粒体
の堆積量とエアの吹き込み圧力との関係を表すグラフで
ある。
【００１１】まず、請求項１の発明は、粉粒体の供給方
法に係り、粉粒体ホッパ内にエアを吹き込むことによっ
て粉粒体の流動性を向上して供給するに際して、前記エ
アの吹き込み圧力をホッパ内の粉粒体の堆積量に比例し
て段階的又は連続的に変化させて行うことを特徴とす
る。以下、上記方法発明を図に示す請求項２の装置発明
について、具体的に説明する。
法に係り、粉粒体ホッパ内にエアを吹き込むことによっ
て粉粒体の流動性を向上して供給するに際して、前記エ
アの吹き込み圧力をホッパ内の粉粒体の堆積量に比例し
て段階的又は連続的に変化させて行うことを特徴とす
る。以下、上記方法発明を図に示す請求項２の装置発明
について、具体的に説明する。
【００１２】請求項２の発明は、粉粒体の供給装置に係
り、図１に図示したように、粉粒体ホッパ２０と、エア
吹出し部３０と、測定部４０と、制御部５０とを有す
る。なお、図示の実施例では、前記した１００μｍ以下
のＡｌ2Ｏ3やＳｉＣ等の微粒体よりなる投射用研磨材Ｋ
を粉粒体の例として述べる。図において、符号６０は投
射用研磨材Ｋをガラス製品Ｇに対して投射する投射装置
全体を表し、６１はその投射ガン、６２は落下した研磨
材Ｋを再使用するための戻し管路、６３はサイクロン、
６４は再使用されない微粉等を集塵機（図示せず）へ送
り出す排出管路である。
り、図１に図示したように、粉粒体ホッパ２０と、エア
吹出し部３０と、測定部４０と、制御部５０とを有す
る。なお、図示の実施例では、前記した１００μｍ以下
のＡｌ2Ｏ3やＳｉＣ等の微粒体よりなる投射用研磨材Ｋ
を粉粒体の例として述べる。図において、符号６０は投
射用研磨材Ｋをガラス製品Ｇに対して投射する投射装置
全体を表し、６１はその投射ガン、６２は落下した研磨
材Ｋを再使用するための戻し管路、６３はサイクロン、
６４は再使用されない微粉等を集塵機（図示せず）へ送
り出す排出管路である。
【００１３】粉粒体ホッパ２０は、前記サイクロン６３
の下部に配置されていて、再利用される研磨材及び新規
研磨材Ｋが適宜投入される。粉粒体ホッパ２０の下部に
は、研磨材Ｋを前記した投射装置６０の投射ガン６１に
供給する供給部２１が備えられている。この供給部２１
は、図示のように吸引パイプ２２からなり、ここでは投
射ガン６１と連動して作動するエア吸引装置（図示せ
ず）によってホッパ２０内の研磨材Ｋを吸引して投射ガ
ン６１に供給する。図の符号２３は二次エアの吹き出し
パイプである。
の下部に配置されていて、再利用される研磨材及び新規
研磨材Ｋが適宜投入される。粉粒体ホッパ２０の下部に
は、研磨材Ｋを前記した投射装置６０の投射ガン６１に
供給する供給部２１が備えられている。この供給部２１
は、図示のように吸引パイプ２２からなり、ここでは投
射ガン６１と連動して作動するエア吸引装置（図示せ
ず）によってホッパ２０内の研磨材Ｋを吸引して投射ガ
ン６１に供給する。図の符号２３は二次エアの吹き出し
パイプである。
【００１４】エア吹出し部３０は、エア源３１に接続さ
れて前記ホッパ２０内に設置されている。エア吹出し部
３０の構造としては種々のものがあるが、この例では、
請求項３の発明として規定し図２の要部拡大図に図示し
たように、粉粒体ホッパ２０の底部に形成された多孔部
材３５から構成されている。なお、この例の多孔部材３
５は上下の多孔板３６，３７と中間の連通気泡構造の板
状合成樹脂発泡体３８の積層構造よりなる。符号３３は
エア吹出し管、３４はエアチャンバーである。
れて前記ホッパ２０内に設置されている。エア吹出し部
３０の構造としては種々のものがあるが、この例では、
請求項３の発明として規定し図２の要部拡大図に図示し
たように、粉粒体ホッパ２０の底部に形成された多孔部
材３５から構成されている。なお、この例の多孔部材３
５は上下の多孔板３６，３７と中間の連通気泡構造の板
状合成樹脂発泡体３８の積層構造よりなる。符号３３は
エア吹出し管、３４はエアチャンバーである。
【００１５】測定部４０は、ホッパ２０内の粉粒体（研
磨材）の堆積量を測定するものであって、例えば図１に
図示のような接触型のセンサー４２，４３，４４等をホ
ッパ２０の所定深さ位置に配置しておいて、粉粒体（研
磨材）の堆積量を測定機本体４１で検出するようにすれ
ばよい。実施例のホッパ２０は４００ｋｇタイプである
ので、堆積量を概ね３分して、高位置（４００〜３００
ｋｇ）センサー４２、中位置（３００〜２００ｋｇ）セ
ンサー４３、低位置（２００ｋｇ以下）センサー４４と
した。この例では段階式のセンサーを用いたが、もちろ
ん連続式のリニアセンサーを用いてもよい。
磨材）の堆積量を測定するものであって、例えば図１に
図示のような接触型のセンサー４２，４３，４４等をホ
ッパ２０の所定深さ位置に配置しておいて、粉粒体（研
磨材）の堆積量を測定機本体４１で検出するようにすれ
ばよい。実施例のホッパ２０は４００ｋｇタイプである
ので、堆積量を概ね３分して、高位置（４００〜３００
ｋｇ）センサー４２、中位置（３００〜２００ｋｇ）セ
ンサー４３、低位置（２００ｋｇ以下）センサー４４と
した。この例では段階式のセンサーを用いたが、もちろ
ん連続式のリニアセンサーを用いてもよい。
【００１６】制御部５０は、前記測定部４０によって測
定された粉粒体の堆積量に比例して前記エア吹出し部３
０から吹き出されるエアの圧力を制御するものである。
制御部５０は前記した測定部４０の信号を受けて変動す
る例えば電磁弁等のエア流量制御弁からなる。この制御
部５０の制御例が図３のグラフに示されている。図の実
線が段階的（ステップ）制御例で、破線が連続的制御例
である。参考までに、この実施例では、４００ｋｇタイ
プのホッパにおいて、エア圧力は、高位置で０．１ＭＰ
ａ、低位置で０．０５ＭＰａとなるように制御されてい
る。
定された粉粒体の堆積量に比例して前記エア吹出し部３
０から吹き出されるエアの圧力を制御するものである。
制御部５０は前記した測定部４０の信号を受けて変動す
る例えば電磁弁等のエア流量制御弁からなる。この制御
部５０の制御例が図３のグラフに示されている。図の実
線が段階的（ステップ）制御例で、破線が連続的制御例
である。参考までに、この実施例では、４００ｋｇタイ
プのホッパにおいて、エア圧力は、高位置で０．１ＭＰ
ａ、低位置で０．０５ＭＰａとなるように制御されてい
る。
【００１７】この発明は、実施例として説明し請求項４
の発明として規定したように、前記粉粒体がガラス表面
を艶消し面とするための微粒体よりなる投射用研磨材と
した場合には、当該研磨材の投射装置（ガン）への供給
量が安定するので、効率よく安定した品質の研磨効果を
得ることができる。
の発明として規定したように、前記粉粒体がガラス表面
を艶消し面とするための微粒体よりなる投射用研磨材と
した場合には、当該研磨材の投射装置（ガン）への供給
量が安定するので、効率よく安定した品質の研磨効果を
得ることができる。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、エアレーションにおけるエアの吹込み圧力をホッパ
内の粉粒体の堆積量に比例して変化させるようにしたも
のであるから、ホッパ内の粉粒体の流動性が安定して、
常に一定量の粉粒体を安定的に供給することができる。
従って、粉粒体の供給先である、例えば実施例の投射用
研磨材の投射装置の作動も効率よく安定した品質の投射
効果を得ることが可能となる。
ば、エアレーションにおけるエアの吹込み圧力をホッパ
内の粉粒体の堆積量に比例して変化させるようにしたも
のであるから、ホッパ内の粉粒体の流動性が安定して、
常に一定量の粉粒体を安定的に供給することができる。
従って、粉粒体の供給先である、例えば実施例の投射用
研磨材の投射装置の作動も効率よく安定した品質の投射
効果を得ることが可能となる。
【図１】この発明の一実施例を表す全体構成図である。
【図２】図１の要部拡大断面図である。
【図３】粉粒体の堆積量とエアの吹き込み圧力との関係
を表すグラフである。
を表すグラフである。
２０ 粉粒体ホッパ ２１ 供給部 ２２ 吸引パイプ ３０ エア吹出し部 ３１ エア源 ３５ 多孔部材 ４０ 測定部 ４１ 測定機本体 ４２，４３，４４ 位置センサー ５０ 制御部 ６０ 投射装置 ６１ 投射ガン Ｋ 投射用研磨材 Ｇ ガラス製品
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ６５Ｇ 53/66 Ｂ６５Ｇ 53/66 Ｂ (72)発明者 細江 功一 愛知県名古屋市昭和区高辻町11番15号 石 塚硝子株式会社内 Ｆターム(参考） 3E070 AA19 AB11 CA04 CB03 DA01 FA01 FB01 WF13 3F047 AA11 CA01 CC11 4G068 AA01 AB22 AC04 AC20 AD36 AE02 AF21 AF31
Claims (4)
- 【請求項１】 粉粒体ホッパ内にエアを吹き込むことに
よって粉粒体の流動性を向上して供給するに際して、前
記エアの吹き込み圧力をホッパ内の粉粒体の堆積量に比
例して段階的又は連続的に変化させて行うことを特徴と
する粉粒体の供給方法。 - 【請求項２】 粉粒体の供給部を備えた粉粒体ホッパ
と、エア源に接続され前記ホッパ内に設置されたエア吹
出し部と、前記ホッパ内の粉粒体の堆積量を測定する測
定部と、前記測定部によって測定された粉粒体の堆積量
に比例して前記エア吹出し部から吹き出されるエアの圧
力を制御する制御部とを有することを特徴とする粉粒体
の供給装置。 - 【請求項３】 請求項２において、前記エア吹出し部が
粉粒体ホッパの底部に形成された多孔部材からなる粉粒
体の供給装置。 - 【請求項４】 請求項２又は３において、前記粉粒体が
ガラス表面を艶消し面とするための微粒体よりなる投射
用研磨材である粉粒体の供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001150760A JP2002346929A (ja) | 2001-05-21 | 2001-05-21 | 粉粒体の供給方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001150760A JP2002346929A (ja) | 2001-05-21 | 2001-05-21 | 粉粒体の供給方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002346929A true JP2002346929A (ja) | 2002-12-04 |
Family
ID=18995721
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001150760A Pending JP2002346929A (ja) | 2001-05-21 | 2001-05-21 | 粉粒体の供給方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002346929A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008037556A (ja) * | 2006-08-04 | 2008-02-21 | Tomohiro Aga | 粉粒体輸送装置及び粉粒体輸送方法 |
| DE102007040154A1 (de) * | 2007-08-24 | 2009-05-07 | Dürr Systems GmbH | Verfahren zur Versorgung einer Beschichtungsanlage mit einem partikelförmigen Hilfsmaterial |
| JP2016215707A (ja) * | 2015-05-15 | 2016-12-22 | 宇部興産海運株式会社 | 揚荷装置 |
| KR102028288B1 (ko) * | 2018-06-28 | 2019-10-02 | 식 김 | 사일로용 막힘 방지장치 및 이를 구비한 사일로장치 |
| CN110950089A (zh) * | 2019-12-28 | 2020-04-03 | 姚春祥 | 一种pvc制品加工用的无污染物料输送风送系统 |
| CN111660207A (zh) * | 2019-03-06 | 2020-09-15 | 株式会社不二制作所 | 粉末接触构件及粉末接触构件的表面处理方法 |
-
2001
- 2001-05-21 JP JP2001150760A patent/JP2002346929A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008037556A (ja) * | 2006-08-04 | 2008-02-21 | Tomohiro Aga | 粉粒体輸送装置及び粉粒体輸送方法 |
| DE102007040154A1 (de) * | 2007-08-24 | 2009-05-07 | Dürr Systems GmbH | Verfahren zur Versorgung einer Beschichtungsanlage mit einem partikelförmigen Hilfsmaterial |
| US8584616B2 (en) | 2007-08-24 | 2013-11-19 | Durr Systems Gmbh | Method for supplying a coating system with a particulate auxiliary material |
| JP2016215707A (ja) * | 2015-05-15 | 2016-12-22 | 宇部興産海運株式会社 | 揚荷装置 |
| KR102028288B1 (ko) * | 2018-06-28 | 2019-10-02 | 식 김 | 사일로용 막힘 방지장치 및 이를 구비한 사일로장치 |
| CN111660207A (zh) * | 2019-03-06 | 2020-09-15 | 株式会社不二制作所 | 粉末接触构件及粉末接触构件的表面处理方法 |
| CN110950089A (zh) * | 2019-12-28 | 2020-04-03 | 姚春祥 | 一种pvc制品加工用的无污染物料输送风送系统 |
| CN110950089B (zh) * | 2019-12-28 | 2020-07-28 | 佛山市华红包装材料有限公司 | 一种pvc制品加工用的无污染物料输送风送系统 |
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