JP2002343276A - Glass substrate for field emission display - Google Patents
Glass substrate for field emission displayInfo
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- JP2002343276A JP2002343276A JP2001140134A JP2001140134A JP2002343276A JP 2002343276 A JP2002343276 A JP 2002343276A JP 2001140134 A JP2001140134 A JP 2001140134A JP 2001140134 A JP2001140134 A JP 2001140134A JP 2002343276 A JP2002343276 A JP 2002343276A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/095—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing rare earths
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、電界放射型ディスプレ
イ用ガラス基板に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glass substrate for a field emission display.
【０００２】[0002]
【従来の技術】電界放射型ディスプレイは、薄型軽量で
表示が鮮明であり、画像の微細化が容易であるため高品
位画像が実現でき、フルカラー化が可能であるなど、多
くの利点を有するため、今後表示装置として益々普及す
る傾向にある。2. Description of the Related Art A field emission display has many advantages such as being thin and lightweight, having a clear display, and being easy to miniaturize an image, thereby realizing a high-quality image and being capable of full color. In the future, it will tend to be increasingly used as a display device.
【０００３】電界放射型ディスプレイは、透明電極や蛍
光体が形成された前面ガラス基板と、カソード電極、ゲ
ート電極、冷陰極（エミッタ）、絶縁膜等が形成された
背面ガラス基板とを対向させて、周囲をフリットシール
することで作製される。そして、冷陰極から放出される
電子線を蛍光体にあてることで発光させて映像を映し出
す。In a field emission display, a front glass substrate on which a transparent electrode or a phosphor is formed is opposed to a rear glass substrate on which a cathode electrode, a gate electrode, a cold cathode (emitter), an insulating film, etc. are formed. It is manufactured by frit sealing the periphery. Then, an electron beam emitted from the cold cathode is applied to the phosphor to emit light, thereby displaying an image.
【０００４】尚、透明導電膜、絶縁膜等の様々な膜やエ
ミッタは、熱処理やフォトエッチング等によって形成さ
れるため、ガラス基板は、種々の熱処理や薬品処理を受
ける。[0004] Since various films and emitters such as a transparent conductive film and an insulating film are formed by heat treatment, photoetching or the like, the glass substrate is subjected to various heat treatments and chemical treatments.
【０００５】そのため、電界放射型ディスプレイに使用
されるガラス基板には、次の特性が要求されている。 （１）フォトエッチング工程において使用される種々の
酸、アルカリ等の薬品によって、劣化しないような耐薬
品性を有すること。 （２）成膜等の熱工程でガラス基板が熱収縮して、パタ
ーンずれを起こさないように、高い歪点、具体的には、
５００℃以上（好ましくは５５０℃以上）の歪点を有す
ること。Therefore, the glass substrate used for the field emission display is required to have the following characteristics. (1) It has chemical resistance so that it is not deteriorated by various chemicals such as acids and alkalis used in the photo-etching step. (2) In order to prevent the glass substrate from thermally shrinking in a heating process such as film formation and causing a pattern shift, a high strain point, specifically,
Having a strain point of 500 ° C. or more (preferably 550 ° C. or more).
【０００６】従来より、このような特性を満足するガラ
ス基板としては、プラズマディスプレイ用ガラス基板で
あるソーダガラスや高歪点ガラス、または、液晶ディス
プレイ用ガラス基板である無アルカリガラスが知られて
いる。Conventionally, as a glass substrate satisfying such characteristics, soda glass or high strain point glass as a glass substrate for a plasma display, or non-alkali glass as a glass substrate for a liquid crystal display has been known. .
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、電界放
射型ディスプレイは、プラズマディスプレイや液晶ディ
スプレイとは発光原理が異なり、冷陰極から放出される
電子線が蛍光体にあたる際に、Ｘ線が発生する。そのた
め、電界放射型ディスプレイのガラス基板にソーダガラ
ス、高歪点ガラス、或いは無アルカリガラスを用いる
と、パネル内部で発生するＸ線により、ガラスが徐々に
着色して、ディスプレイに映し出された映像が見辛くな
ると言う問題が生じる。However, a field emission display has a different light emission principle from a plasma display or a liquid crystal display, and generates X-rays when an electron beam emitted from a cold cathode hits a phosphor. Therefore, if soda glass, high strain point glass, or non-alkali glass is used for the glass substrate of the field emission display, the glass is gradually colored by the X-rays generated inside the panel, and the image projected on the display is displayed. The problem that it becomes hard to see arises.
【０００８】本発明の目的は、Ｘ線によるガラスの着色
が起こりにくい高輝度の電界放射型ディスプレイ用ガラ
ス基板を提供する事である。An object of the present invention is to provide a glass substrate for a high-luminance field emission type display in which glass is hardly colored by X-rays.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明の電界放射型ディ
スプレイ用ガラス基板は、実質的にＰｂＯを含有せず、
質量百分率で、ＣｅＯ2を０．０１〜５％含有すること
を特徴とする。The glass substrate for a field emission display of the present invention contains substantially no PbO,
In percent by mass, characterized by containing a CeO 2 0.01 to 5%.
【００１０】[0010]
【作用】本発明の電界放射型ディスプレイ用ガラス基板
は、ＰｂＯを含有せず、しかも、ＣｅＯ2を必須成分と
して含有させているため、Ｘ線によるガラスの着色を抑
制することができる。The glass substrate for a field emission display of the present invention does not contain PbO and contains CeO 2 as an essential component, so that the glass can be suppressed from being colored by X-rays.
【００１１】ＣｅＯ2は、Ｘ線によるガラスの着色を抑
制する成分であるが、０．０１％より少ないと、前記効
果が得られない。一方、５％より多いと、ガラスが着色
し、透過率が低下するため好ましくない。好ましい範囲
は０．１〜３％である。より好ましくは０．１〜２％で
ある。CeO 2 is a component that suppresses the coloring of glass by X-rays. However, if it is less than 0.01%, the above effects cannot be obtained. On the other hand, if it is more than 5%, the glass is undesirably colored and the transmittance is reduced. The preferred range is 0.1-3%. More preferably, it is 0.1 to 2%.
【００１２】ＰｂＯがガラス中に含まれていると、パネ
ル内部で発生するＸ線によってガラスが著しく着色す
る。この着色はＣｅＯ2の添加によっても抑制すること
は困難であるため、本発明のガラスには導入すべきでは
ない。When PbO is contained in glass, the glass is markedly colored by X-rays generated inside the panel. Since this coloring is difficult to suppress even by adding CeO 2 , it should not be introduced into the glass of the present invention.
【００１３】また、Ｘ線による着色を抑制する以外に
も、先記した要求特性を満たすために、本発明の電界放
射型ディスプレイ用ガラス基板の組成は以下の組成範囲
から適宜選択すればよい。In addition to suppressing the coloring by X-rays, the composition of the glass substrate for a field emission display of the present invention may be appropriately selected from the following composition range in order to satisfy the above-mentioned required characteristics.
【００１４】その組成範囲は、実質的にＰｂＯを含ま
ず、質量百分率で、ＳｉＯ2 ４０〜８０％、Ａｌ2Ｏ3
０〜３０％、Ｂ2Ｏ3 ０〜２０％、ＭｇＯ ０〜１０
％、ＣａＯ ０〜３０％、ＳｒＯ ０〜３０％、ＢａＯ
０〜３０％、Ｌｉ2Ｏ ０〜２０％、Ｎａ2Ｏ ０〜２
０％、Ｋ2Ｏ ０〜２０％、ＺｎＯ ０〜１０％、Ｚｒ
Ｏ2 ０〜１０％、ＣｅＯ2 ０．０１〜５％である。The composition range is substantially free of PbO, 40 to 80% by mass of SiO 2 and Al 2 O 3 by mass percentage.
0~30%, B 2 O 3 0~20 %, MgO 0~10
%, CaO 0-30%, SrO 0-30%, BaO
0~30%, Li 2 O 0~20% , Na 2 O 0~2
0%, K 2 O 0~20% , 0~10% ZnO, Zr
O 2 0%, a CeO 2 0.01 to 5%.
【００１５】本発明においてガラスの組成を上記のよう
に限定した理由は、次のとおりである。The reasons for limiting the composition of the glass in the present invention as described above are as follows.
【００１６】ＳｉＯ2は、ガラスのネットワークフォー
マーとなる成分であるが、４０％より少ないと、ガラス
の歪点が低くなり耐熱性が低下したり、また、化学的耐
久性が低下する。一方、８０％より多いと、ガラスの溶
融温度が高くなり好ましくない。好ましい範囲は５０〜
８０％である。より好ましくは５０〜７５％である。[0016] SiO 2 is a component that serves as a network former for glass. If the content is less than 40%, the strain point of the glass is lowered, heat resistance is lowered, and chemical durability is lowered. On the other hand, if it is more than 80%, the melting temperature of the glass is undesirably high. The preferred range is 50 to
80%. More preferably, it is 50 to 75%.
【００１７】Ａｌ2Ｏ3はガラスの歪点を上げ、耐熱性を
高める成分であるが、３０％より多いと、ガラスの溶融
温度が高くなり好ましくない。好ましい範囲は０〜２０
％である。より好ましくは０〜１８％である。Al 2 O 3 is a component that raises the strain point of the glass and enhances the heat resistance. If it is more than 30%, however, the melting temperature of the glass is undesirably high. The preferred range is from 0 to 20
%. More preferably, it is 0 to 18%.
【００１８】Ｂ2Ｏ3は、融剤として作用し、ガラスの粘
性を下げ、溶融性を改善する成分であるが、２０％より
多いと、ガラスの歪点が低下して耐熱性が低下するため
好ましくない。好ましい範囲は０〜１８％である。より
好ましくは０〜１５％である。B 2 O 3 is a component that acts as a flux, lowers the viscosity of the glass, and improves the meltability. If it is more than 20%, however, the strain point of the glass is lowered and the heat resistance is lowered. Therefore, it is not preferable. The preferred range is 0-18%. More preferably, it is 0 to 15%.
【００１９】ＭｇＯは、歪点を下げることなく、高温粘
性を下げ、ガラスの溶融性を改善する成分であるが、１
０％より多いと、ガラスが失透しやすくなると共に、ガ
ラスの化学的耐久性が低下するため好ましくない。好ま
しい範囲は０〜８％である。より好ましくは０〜５％で
ある。MgO is a component that lowers the high-temperature viscosity and improves the melting property of glass without lowering the strain point.
If it is more than 0%, the glass tends to be devitrified, and the chemical durability of the glass is undesirably reduced. A preferred range is 0-8%. More preferably, it is 0 to 5%.
【００２０】ＣａＯは、ＭｇＯと同様に、歪点を下げる
ことなく、高温粘性を下げ、ガラスの溶融性を改善する
成分であるが、３０％より多いと、ガラスが失透しやす
くなると共に、ガラスの化学的耐久性が低下するため好
ましくない。好ましい範囲は０〜２０％である。より好
ましくは０〜１５％である。Like CaO, CaO is a component that lowers the viscosity at high temperature without lowering the strain point and improves the melting property of glass. However, if it is more than 30%, the glass tends to be devitrified. It is not preferable because the chemical durability of the glass decreases. The preferred range is 0-20%. More preferably, it is 0 to 15%.
【００２１】ＳｒＯは、ガラスの化学的耐久性や耐失透
性を向上させる成分であるが、３０％より多いと、ガラ
スの溶融性を損なう可能性があるため好ましくない。好
ましい範囲は０〜２５％である。より好ましくは５〜２
５％である。SrO is a component for improving the chemical durability and devitrification resistance of glass. However, if it is more than 30%, the melting property of glass may be impaired. The preferred range is 0 to 25%. More preferably, 5 to 2
5%.
【００２２】ＢａＯは、ＳｒＯと同様に、ガラスの化学
的耐久性や耐失透性を向上させる成分であるが、３０％
より多いと、ガラスの溶融性を損なう可能性があるため
好ましくない。好ましい範囲は０〜２５％である。より
好ましくは５〜２５％である。BaO, like SrO, is a component that improves the chemical durability and devitrification resistance of glass.
If the amount is larger, the melting property of the glass may be impaired, which is not preferable. The preferred range is 0 to 25%. More preferably, it is 5 to 25%.
【００２３】Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ及びＫ2Ｏは、ガラスの
粘度を低下させて、溶融性を改善する成分であるが、各
々２０％より多いと、ガラスの歪点が低下するため好ま
しくない。好ましい範囲は各々０〜１８％である。より
好ましくは各々０〜１５％である。Li 2 O, Na 2 O and K 2 O are components that lower the viscosity of the glass and improve the meltability. However, if each is more than 20%, the strain point of the glass is lowered, so that it is preferable. Absent. Preferred ranges are each 0 to 18%. More preferably, each is 0 to 15%.
【００２４】ＺｎＯは、歪点を下げることなく、高温粘
性を下げ、ガラスの溶融性を改善する成分であるが、１
０％より多いと、ガラスが分相したり、失透しやすくな
るため好ましくない。好ましい範囲は０〜８％である。
より好ましくは０〜５％である。ZnO is a component that lowers the viscosity at high temperatures and lowers the melting property of glass without lowering the strain point.
If it is more than 0%, the glass is likely to be phase-separated or devitrified, which is not preferable. A preferred range is 0-8%.
More preferably, it is 0 to 5%.
【００２５】ＺｒＯ2は、ガラスの化学的耐久性を向上
させる成分であるが、１０％より多いと、ガラス中にジ
ルコン等のブツが析出しやすくなるため好ましくない。
好ましい範囲は０〜８％である。より好ましくは０〜６
％である。ZrO 2 is a component for improving the chemical durability of glass. However, if it exceeds 10%, zircon or the like tends to precipitate in the glass, which is not preferable.
A preferred range is 0-8%. More preferably 0-6
%.
【００２６】尚、Ｘ線によるガラスの着色を更に抑制す
るために、ＣｅＯ2と共にＴｉＯ2を１０％まで添加して
も良い。In order to further suppress the coloring of the glass by X-rays, TiO 2 may be added up to 10% together with CeO 2 .
【００２７】また、本発明においては、上記の成分以外
にも、特性を損なわない範囲で他の成分を添加させるこ
とも可能であり、例えば清澄剤として、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ
2Ｏ3、ＳｎＯ2、Ｆ2、Ｃｌ2、ＳＯ3等を各々３％まで、
ガラスの化学的耐久性を向上させるために、Ｎｂ2Ｏ3、
Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3を各々５％まで、ガラスの耐失透性を
高めるために、Ｐ2Ｏ5を５％まで添加することが可能で
ある。In the present invention, it is also possible to add other components in addition to the above components as long as the properties are not impaired. For example, As 2 O 3 , Sb
2 O 3 , SnO 2 , F 2 , Cl 2 , SO 3 etc. up to 3% each,
In order to improve the chemical durability of glass, Nb 2 O 3 ,
Y 2 O 3 and La 2 O 3 can be added up to 5% each, and P 2 O 5 can be added up to 5% in order to increase the devitrification resistance of the glass.
【００２８】本発明のガラス基板は、板ガラスの成形方
法として知られているフロート法、オーバーフローダウ
ンドロー法、ロールアウト法、スリットダウンドロー法
等の方法を用いることで、安く大量に製造することがで
きる。The glass substrate of the present invention can be mass-produced inexpensively by using a method such as a float method, an overflow down draw method, a roll out method, or a slit down draw method, which is known as a method for forming a glass sheet. it can.
【００２９】[0029]
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to embodiments.
【００３０】本発明の実施例（試料Ｎｏ．１〜１１）と
比較例（試料Ｎｏ．１２及び１３）を表１〜３に示す。Tables 1 to 3 show examples (samples Nos. 1 to 11) and comparative examples (samples Nos. 12 and 13) of the present invention.
【００３１】[0031]
【表１】 [Table 1]
【００３２】[0032]
【表２】 [Table 2]
【００３３】[0033]
【表３】 [Table 3]
【００３４】表中の各試料は、次のようにして作製し
た。Each sample in the table was prepared as follows.
【００３５】まず、表の組成となるようにガラス原料を
調合し、白金ポットを用いて１４５０〜１６００℃で４
〜２４時間熔融した。その後、熔融ガラスをカーボン板
の上に流し出して板状に成形し、徐冷後、板厚が２ｍｍ
になるように両面研磨して、得られた板ガラスを２００
ｍｍ角の大きさに切断加工することでガラス試料を作製
した。First, a glass raw material was prepared so as to have the composition shown in the table, and was heated at 1450 to 1600 ° C. using a platinum pot.
Melted for ~ 24 hours. Thereafter, the molten glass was poured onto a carbon plate and formed into a plate shape.
Polished on both sides so that
A glass sample was prepared by cutting to a size of mm square.
【００３６】このようにして作製した各試料について、
色、Ｘ線着色量、熱膨張係数、歪点、耐バッファードフ
ッ酸性及び耐酸性について評価した。結果を表に示す。For each sample thus prepared,
The color, X-ray coloring amount, thermal expansion coefficient, strain point, buffered hydrofluoric acid resistance and acid resistance were evaluated. The results are shown in the table.
【００３７】色については、各試料を肉厚が２ｍｍとな
るように両面を光学研磨した後、Ｘ線を照射する前のガ
ラス基板を目視で観察し、透明なものを○、黄色く見え
たものを×とした。Regarding the color, each sample was optically polished on both sides so as to have a thickness of 2 mm, and the glass substrate before X-ray irradiation was visually observed. Is indicated by x.
【００３８】Ｘ線着色量については、各試料を肉厚が２
ｍｍとなるように両面を光学研磨した後、波長４００ｎ
ｍにおける可視光透過率を測定した。次いで、この試料
に３０ｋｖ、１５ｍＡのＲｈ管から発生させたＸ線を１
５分間照射した。その後、再度４００ｎｍにおける可視
光透過率を測定し、Ｘ線照射前後の透過率差（ΔＴ％）
を求め、これをＸ線着色量とした。このＸ線着色量が大
きい程、電界放射型ディスプレイの輝度が劣化しやすく
なる。Regarding the amount of X-ray coloring, the thickness of each sample was 2
mm, and both sides are optically polished to a wavelength of 400 nm.
m, the visible light transmittance was measured. Then, X-rays generated from a 30 kV, 15 mA Rh tube were applied to this sample for 1 hour.
Irradiated for 5 minutes. Thereafter, the visible light transmittance at 400 nm was measured again, and the transmittance difference before and after X-ray irradiation (ΔT%)
Was determined as the X-ray coloring amount. The greater the amount of X-ray coloring, the more likely the luminance of the field emission display is to deteriorate.
【００３９】熱膨張係数は、ディラトメーターを用い
て、３０〜３８０℃における平均熱膨張係数を測定した
ものである。The coefficient of thermal expansion is obtained by measuring the average coefficient of thermal expansion at 30 to 380 ° C. using a dilatometer.
【００４０】歪点は、ＡＳＴＭ Ｃ３３６−７１の方法
に基づいて測定し、この値が高いほど、耐熱性が良いこ
とを示す。The strain point is measured based on the method of ASTM C336-71. The higher the value, the better the heat resistance.
【００４１】耐バッファードフッ酸性は、各試料を２０
℃に保持された弗化アンモニウムとフッ酸からなるバッ
ファードフッ酸に１５分間浸漬した後、それらの表面状
態を目視で観察することによって評価した。耐ＨＣｌ性
は、各試料を８０℃に保持された１０％塩酸水溶液に１
時間浸漬した後、それらの表面状態を目視で観察するこ
とによって評価した。また、ガラス基板の表面に全く変
化のないものは○、変色したものは×で示した。The buffered hydrofluoric acid resistance of each sample was 20
After immersion for 15 minutes in buffered hydrofluoric acid composed of ammonium fluoride and hydrofluoric acid kept at ° C., their surface condition was evaluated by visual observation. HCl resistance was determined by subjecting each sample to a 10% aqueous hydrochloric acid solution maintained at 80 ° C.
After immersion for a period of time, their surface condition was evaluated by visual observation. In addition, も の indicates no change on the surface of the glass substrate, and X indicates discolored.
【００４２】表から明らかなように、実施例である試料
Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１１の各試料は、ＣｅＯ2含有量が
０．５〜５％の範囲内であるため、Ｘ線を照射する前の
ガラス基板の色は透明で、しかも、Ｘ線着色量が３１％
以下と低かった。As is clear from the table, the sample No. 1 to No. Since each sample of No. 11 had a CeO 2 content in the range of 0.5 to 5%, the color of the glass substrate before X-ray irradiation was transparent and the X-ray coloring amount was 31%.
It was low as below.
【００４３】これに対し、比較例である試料Ｎｏ．１２
は、Ｘ線を照射する前は、透明であったが、ＣｅＯ2を
含有していないため、Ｘ線着色量が５９％と高かった。
また、試料Ｎｏ．１３は、ＣｅＯ2を６％含有している
ため、Ｘ線着色量は１５％と小さいものの、Ｘ線を照射
する前でもガラス基板が着色していた。On the other hand, the sample No. 12
Before irradiation with X-rays, was transparent, but because it did not contain CeO 2 , the amount of X-ray coloring was as high as 59%.
In addition, the sample No. 13 contains 6% CeO 2 , and although the amount of X-ray coloring is as small as 15%, the glass substrate was colored even before X-ray irradiation.
【００４４】[0044]
【発明の効果】以上のように、本発明の電界放射型ディ
スプレイ用ガラス基板は、ガラス中にＣｅＯ2を必須成
分として所定量含有させているため、Ｘ線によるガラス
の着色を抑えることができ、長時間使用しても、ディス
プレイの輝度劣化を防止することができる。このため、
電解放射型ディスプレイに使用されるガラス基板として
好適である。As described above, the glass substrate for a field emission display according to the present invention contains CeO 2 as an essential component in the glass, so that the glass can be suppressed from being colored by X-rays. Even if the display is used for a long time, it is possible to prevent the luminance of the display from deteriorating. For this reason,
It is suitable as a glass substrate used for the field emission display.
フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G062 AA18 BB01 BB05 BB06 DA05 DA06 DA07 DB01 DB02 DB03 DB04 DC01 DC02 DC03 DC04 DD01 DE01 DE02 DE03 DF01 EA01 EA02 EA03 EA04 EA10 EB01 EB02 EB03 EB04 EC01 EC02 EC03 EC04 ED01 ED02 ED03 EE01 EE02 EE03 EE04 EF01 EF02 EF03 EF04 EG01 EG02 EG03 EG04 FA01 FB01 FC01 FC02 FC03 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL02 FL03 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM27 NN14 5C032 AA01 BB15 BB20 5C036 EE04 EE19 EF01 EF06 EF09 EG02 EG12 EH11 Continued on the front page F-term (reference) 4G062 AA18 BB01 BB05 BB06 DA05 DA06 DA07 DB01 DB02 DB03 DB04 DC01 DC02 DC03 DC04 DD01 DE01 DE02 DE03 DF01 EA01 EA02 EA03 EA04 EA10 EB01 EB02 EB03 EB04 EC01 EE03 EE03 EE03 EE03 EE03 EF01 EF02 EF03 EF04 EG01 EG02 EG03 EG04 FA01 FB01 FC01 FC02 FC03 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL02 FL03 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 KK JJH07 KK 5C032 AA01 BB15 BB20 5C036 EE04 EE19 EF01 EF06 EF09 EG02 EG12 EH11
Claims (2)
で、ＣｅＯ2を０．０１〜５％含有することを特徴とす
る電界放射型ディスプレイ用ガラス基板。1. A glass substrate for a field emission display, which is substantially free of PbO and contains 0.01 to 5% by mass of CeO 2 .
で、ＳｉＯ2 ４０〜８０％、Ａｌ2Ｏ3 ０〜３０％、
Ｂ2Ｏ3 ０〜２０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０
〜３０％、ＳｒＯ ０〜３０％、ＢａＯ ０〜３０％、
Ｌｉ2Ｏ ０〜２０％、Ｎａ2Ｏ ０〜２０％、Ｋ2Ｏ
０〜２０％、ＺｎＯ ０〜１０％、ＺｒＯ2 ０〜１０
％、ＣｅＯ2 ０．０１〜５％からなることを特徴とす
る請求項１記載の電界放射型ディスプレイ用ガラス基
板。2. It is substantially free of PbO and contains, by mass percentage, 40 to 80% of SiO 2 , 0 to 30% of Al 2 O 3 ,
B 2 O 3 0-20%, MgO 0-10%, CaO 0
-30%, SrO 0-30%, BaO 0-30%,
Li 2 O 0~20%, Na 2 O 0~20%, K 2 O
0-20%, ZnO 0-10%, ZrO 2 0-10
2. The glass substrate for a field emission display according to claim 1, wherein the glass substrate comprises 0.01 to 5% of CeO2.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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