JP2002340689A - サンプリングによる光信号測定装置及び光信号測定方法 - Google Patents

サンプリングによる光信号測定装置及び光信号測定方法

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JP2002340689A
JP2002340689A JP2001140022A JP2001140022A JP2002340689A JP 2002340689 A JP2002340689 A JP 2002340689A JP 2001140022 A JP2001140022 A JP 2001140022A JP 2001140022 A JP2001140022 A JP 2001140022A JP 2002340689 A JP2002340689 A JP 2002340689A
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optical fiber
optical
signal
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Norihide Yamada
範秀 山田
Katsuya Yamashita
勝也 山下
Satoshi Watanabe
智 渡辺
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  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】高周波の光信号に対応したサンプリングによる
光信号の測定装置及び方法を提供すること。 【解決手段】光信号測定装置１０は、閉ループ光ファイ
バ２０、その一部に設けられる和周波光発生器５０、和
周波光を検出する光検出器７０、及びデータ処理手段８
０を有する。被測定信号光及びそれと相違する波長のパ
ルス光は、入力用光ファイバ３０を介して、閉ループ光
ファイバ２０に導入される。これらは共に閉ループ光フ
ァイバ２０を周回し、パルス光が和周波光発生器５０を
通過する度に和周波光が発生する。和周波光は所定の周
回数にわたって光検出器７０により検出される。検出さ
れたデータはデータ処理手段８０へと送られて、データ
処理手段８０によってもとの信号光の波形が再構成され
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、概して高速光信号
の測定に関し、高周波の被測定光信号の信号波形を測定
する光信号測定装置及びそれによる測定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明の解決すべき課題】近年、測定、
通信、記憶或いは機械工作等多くの用途において光学技
術が盛んに用いられている。それにつれて、特に通信に
おいて顕著に見られるように、それらの用途で用いられ
る高速光信号のデータ転送周波数は数十Gbpsに達してい
る。同時に、これらの高速光信号を測定する要求に応じ
るためにはそれらのデータ転送周波数の数倍以上高い周
波数の光信号に応答できる測定装置が必要である。さら
に、高速光信号の強度変調周波数は日増しに上昇し、止
まるところを知らない。従って、高速光信号測定装置が
実地で用いられるためには、十分余裕をもった性能、例
えば周波数応答や測定要求に柔軟かつ容易に素早く対応
できることが望まれる。
【０００３】本発明は、特にそのような高周波の光信号
に対応したサンプリングによる光信号の測定装置及び方
法を提供することを目的とするものであり、より詳細に
は、数GHzから数１０THzまでの広い範囲における高周波
光信号に対応したサンプリングによる光信号測定装置及
び光信号測定方法を提供することを目的とするものであ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の光信号測定装置
は、閉ループ光ファイバ、閉ループ光ファイバの一部に
設けられる和周波光発生器、和周波光を検出できる光検
出器、及びデータ処理手段を有する。閉ループ光ファイ
バには必要な入力手段が用意される。入力手段は、被測
定信号光又はそれと相違する波長を有するパルス光を閉
ループ光ファイバに導入するために使用される。閉ルー
プ光ファイバに被測定信号光及びパルス光が導入される
と、これらは共に閉ループ光ファイバを周回する。この
とき、パルス光が和周波光発生器を通過する度に和周波
光が発生する。互いに波長の相違する信号光及びパルス
光に対して、閉ループ光ファイバが分散の効果による速
度差を生ぜしめるため、信号光及びパルス光は周回毎に
異なる位相で重なりあうことができ、その結果各周回毎
に発生する和周波光の強度は相違するものとなる。和周
波光は所定の周回数にわたって光検出器により検出さ
れ、光検出器はその検出データをデータ処理手段へと送
る。データ処理手段は、検出データを処理してもとの信
号光の波形を再構成する。
【０００５】更に、本発明による測定方法は、閉ループ
光ファイバ内に、信号光及び該信号光と相違する波長を
有するパルス光とを導入して共に周回させるようにする
工程と、閉ループファイバの一部に設けられた和周波光
発生器で信号光及びパルス光の和周波光を発生させる工
程と、パルス光の所定の周回数だけ和周波光を検出して
データを得る工程と、データを処理して信号光の波形を
再構成する工程とを含む。和周波光を検出する工程で
は、検出前に、和周波光発生器で発生した光から和周波
光を選択的に取り出すようにフィルタリングする工程を
含んでも良い。
【０００６】
【発明の実施形態】以下に添付図面を参照して、本発明
の好適実施形態となる光信号測定装置及び測定方法に関
して詳細に説明する。
【０００７】図１は、本発明の好適実施形態となる光信
号測定装置を示す概略図である。この光信号測定装置１
０は、閉ループ光ファイバ２０、入力用ポートとなる入
力用光ファイバ３０、及びこれらを光学的に結合するカ
プラ４０を有する。閉ループ光ファイバ（屈折率n, e.
g.約1.5）２０の全体又はその一部には、エルビウム（E
r）等がドープされており、その結果閉ループ光ファイ
バ２０はゲインを有するものとされる。また、カプラ４
０としては例えば３dBカプラ、光スイッチ等が使用され
る。
【０００８】入力用光ファイバ３０は第１及び第２のポ
ート３１、３２を有する。第１のポート３１からは、上
述のゲインを得るためのポンプ光が入力される。ポンプ
光は、カプラ４０を介して閉ループ光ファイバ２０に導
入され、少なくともその一部に設けられるエルビウム等
がドープされた部分を励起するよう作用する。また、第
２のポート３２からは、測定されるべき高周波光信号
（周波数f1, e.g.190THz）、及び波長がそれと異なるパ
ルス光（周波数f2, e.g.180THz）とが入力される。上述
のように、ファイバにはゲインがあるため、入力された
２つの光はループの中を減衰せずに周回を続ける。尚、
ゲインの度合いはそれが無い場合の減衰率と略等しくな
るようにドーピング量やポンプ光の強さを予め調節して
おく。例えば、カプラ４０として３dB固定のカプラを用
いた場合には、ループゲインを約３dBに設定しておく。
【０００９】閉ループ光ファイバ２０の一部には、非線
型光学性を持ち、和周波を発生できる和周波光発生部分
（和周波光発生器: Sum Frequency Generator, SFG）５
０が設けられている。和周波光発生器５０は、例えば光
学非線型性を有する光ファイバ、又は閉ループ光ファイ
バ２０を構成する光ファイバとは別体に設けられる光学
非線型性を有する結晶から成る。後者の場合には、閉ル
ープ光ファイバの一部に、光ファイバによらない（即
ち、レンズ等の光学系を使用する）光路が設けられて、
その光路の途中に光学非線型性を有する結晶が配置され
る。これにより、信号光及びパルス光の和周波光はこの
結晶内で発生する。
【００１０】和周波光発生器５０の長さlSFGは、信号の
最大周波数Fsignal（例えば1THz）に対して、以下の式
（１）から十分な時間分解能が取れる最大の長さ（例え
ばlS FG〜0.067mm）とする。
【００１１】
【００１２】閉ループ光ファイバ２０には、信号光及び
パルス光の両方が周回するので、和周波光発生部分５０
では、その非線型光学性によって、信号光の第二高調波
（光の周波数2×f1で、信号光強度の２乗に比例）、パ
ルス光の第二高調波（光の周波数2×f2で、パルス光強
度の２乗に比例）、及び信号光とパルス光の和周波光
（光の周波数f1+f2で、信号光強度×パルス光強度に比
例）が得られる。本実施形態ではこれらの中から、和周
波光のみを取り出すことにより被測定光信号のサンプリ
ングを行う。
【００１３】本装置１０は、この和周波光を取り出すべ
く、更に、光学フィルタ６０、光検出器７０、及びデー
タ処理手段８０を有する。即ち、和周波光発生部分５０
で発生した和周波光（光の周波数f1+f2）は、光学フィ
ルタ６０を用いて取り出され、光検出器７０で検出され
る。光検出器７０はその後段に位置するデータ処理手段
８０で処理される。このとき、パルス光強度を予め較正
しおくことにより、信号光の強度を知る、即ちサンプリ
ングすることができる。尚、Fsignalはf1よりは遥かに
小さい点に注意すべきである。また、ポンプ光に関係す
る和周波成分や第二高調波も発生してしまうが、それら
は無視できる程に弱いか、さもなくば光学フィルタ６０
で容易に除去できる程度のものである。
【００１４】ところで、図中に示してあるように閉ルー
プ光ファイバ２０の屈折率は波長依存性を持つ為、被測
定信号光とパルス光では屈折率が異なり（差Δｎ）、速
度が異なる。和周波光はパルス光がSFGを通過する時に
のみ得られるが、速度差の為に、それぞれの周回数ごと
に、同時にそこを通過している信号光の位置が異なる。
その位置の周回ごとの変化Δtが、充分な分解能を得ら
れる程度以下に（＜1/2Fsignal, e.g.＜0.5ps）小さく
なるように、屈折率の波長依存性や閉ループ光ファイバ
の長さlを設定しておく（e.g. lΔn〜0.1mm）。
【００１５】
【００１６】パルス光が周回するごとに、サンプリング
測定される和周波光強度をデータ処理手段８０に含まれ
るA/D変換器８１及びディジタルメモリ８２等を用いて
記録しておき、やはりデータ処理手段８０に含まれる波
形再生手段８３によって、データを並列させる等の繋ぎ
合わせの方法により、信号光の強度波形を再生すること
ができる。
【００１７】尚、閉ループ光ファイバの長さは、そこに
入れる信号光の空間的長さTsignal、及び望まれるサン
プリングの繰り返し周期Trepetitionを考慮して決定さ
れる。具体的には、以下の式（３）及び式（４）を満足
するようlを決定することになる。
【００１８】
【００１９】
【００２０】例えば、Tsignalが1nsならばl＞0.2mとな
り、Trepetitionが100nsならばｌ＜20mとなるので、そ
の範囲の中から10mという長さを選択することができ
る。
【００２１】この装置或いは測定方法によれば、F
signalとして数GHz から数10THzまでの高速光信号の測
定が可能となる。即ち、本実施形態の測定装置及び測定
方法によれば、従来のものに比較して、特に高周波数側
により広い周波数領域で光信号の測定が可能となり、実
用上極めて有効である。
【００２２】図１に示した好適実施形態は、あくまでも
本発明の主要な構成を例示するものであり、当業者によ
って更に様々な変形例が考えられる。以下にそれらのい
くつかの変形例について説明する。
【００２３】第１の変形例は、被測定信号光及びパルス
光の入力ポートの変更である。上述の実施形態では、被
測定信号光とパルス光とは共に入力用光ファイバ３０の
第２のポート３２から入力されたが、これらは必ずしも
同一のポートから入力される必要はなく、いずれか一方
が第１のポート３１から入力され得る。この場合は、カ
プラ４０を介して閉ループ光ファイバ２０に導入された
被測定信号光及びパルス光は互いに逆方向に周回する。
しかし、この場合においても、和周波発生器でそれらが
出会うタイミングは周回ごとにずれ、そのずれは同一方
向に進行している場合と同じであるので、同様の測定結
果を得ることができる。
【００２４】また、上述の実施形態では、入力用光ファ
イバ３０は一つのみが示されるが、必ずしもこれは単一
である必要はない。例えば、２以上の入力用光ファイバ
が用意され、被測定信号光、パルス光、ポンプ光のうち
の一つを他の光ファイバとは別個に、又はそれぞれの光
を導入するための入力用光ファイバを全て別個のものと
しても良い。
【００２５】第２の変形例は、ポンプ光の入力ポートの
変更である。ポンプ光は閉ループ光ファイバ２０にゲイ
ンを与えるためのものであるので、その入力ポートは第
１及び第２のポート３１、３２のいずれでも良く、ま
た、上述したように追加の入力用ファイバに設けられる
他のポートであっても良い。
【００２６】第３の変形例は、ゲインを与える構造に関
する。例えば、総測定時間内での減衰が充分小さければ
ゲインはなくても、充分なサンプリングの測定が可能で
ある。従って、ポンプ光の入力手段等は不要となる。但
し通常はカプラ４０における損失は無視できない程度に
大きいので、この変形例が適用されるのは、閉ループ光
ファイバ及び入力用光ファイバの結合手段として、光ス
イッチ等の損失の小さな素子を用いた場合に限られる。
【００２７】第４の変形例は、パルスをレーザ発振によ
って提供することである。上述のように閉ループ光ファ
イバ２０の少なくとも一部はゲインを持つので、このゲ
インを大きく設定することでレーザ発振を生じさせ、閉
ループ光ファイバ２０内にモードロックレーザを構成す
ることができる。この場合には、パルスを外部から注入
することなく、周回するパルスを実現できる。パルスの
周期は、パルスが周回に要する時間に等しい。
【００２８】第５の変形例は、和周波光の発生のタイミ
ングを調整できる調整手段が付加的に設けられることで
ある。調整手段は、閉ループ光ファイバに外力を加えて
それを伸縮させる手段、又は閉ループ光ファイバの光路
の一部を光ファイバによらず例えば他の光学系によって
構成し、その光学系における光路の一部の長さを調整で
きるようにする光学系手段等から構成され得る。
【００２９】以上のように本発明の好適実施形態及びそ
の変形例について説明した。本発明をそれらの実施形態
及び変形例に即して説明すると、本発明は、閉ループ光
ファイバ２０、閉ループ光ファイバ２０の一部に設けら
れる和周波光発生器５０、和周波光発生器５０で発生す
る和周波光を検出できる光検出器７０、及びデータ処理
手段８０を有し、被測定信号光及び信号光と相違する波
長を有するパルス光を閉ループ光ファイバ２０に周回さ
せ、パルス光が和周波光発生器５０を通過する度に発生
する和周波光を所定の周回数にわたって光検出器７０に
より検出し、検出したデータをデータ処理手段８０が処
理して信号光の波形を再構成できるよう構成されること
を特徴とするサンプリングによる光信号測定装置１０を
提供する。
【００３０】好ましくは、光信号測定装置１０では、和
周波光発生器５０と光検出器７０との間に、和周波光を
選択的に通過させるフィルタ手段６０が配置される。
【００３１】好ましくは、光信号測定装置１０には、閉
ループ光ファイバ２０に光学的に結合される少なくとも
一つの入力用光ファイバ３０が設けられる。
【００３２】好ましくは、光信号測定装置１０で、閉ル
ープ光ファイバ２０の少なくとも一部が光ゲインを有す
る光ファイバによって構成されており、入力用ファイバ
３０の一つからゲインを誘起するためのポンプ光Ｐが入
力され、ポンプ光Ｐが閉ループ光ファイバ２０内を周回
するよう構成される。
【００３３】好ましくは、光信号測定装置１０で、光ゲ
インを有するファイバは、エルビウムがドープされたも
のとされる。
【００３４】好ましくは、光信号測定装置１０で、信号
光及びパルス光は、少なくとも一つの入力用光ファイバ
３０から入力されて閉ループ光ファイバ２０に導入され
るよう構成される。
【００３５】好ましくは、光信号測定装置１０で、信号
光とパルス光とは、同一の入力用光ファイバ３０から入
力される。
【００３６】好ましくは、光信号測定装置で、信号光と
パルス光とは、相違する入力用光ファイバから入力され
る。
【００３７】好ましくは、光信号測定装置で、信号光
は、該入力用光ファイバの一つから入力されて閉ループ
光ファイバに導入され、更に、閉ループ光ファイバの少
なくとも一部にはモードロックファイバレーザ手段が形
成され、モードロックファイバレーザ手段によってパル
ス光が発生するよう構成される。
【００３８】好ましくは、光信号測定装置１０で、入力
用光ファイバ３０と閉ループ光ファイバ２０とを光学的
に結合するカプラ手段４０は、３dBカプラ又は光スイッ
チとされる。
【００３９】好ましくは、光信号測定装置１０で、和周
波光発生器５０は、光学非線型性を有する光ファイバ又
は閉ループ光ファイバ２０を構成する光ファイバとは別
体に設けられる光学非線型性を有する結晶によって構成
される。
【００４０】好ましくは、光信号測定装置１０で、デー
タ処理手段は、前記データを並列させることにより前記
波形を再構成する。
【００４１】好ましくは、光信号測定装置１０で、信号
光及びパルス光は、閉ループ光ファイバ２０を同一方向
に周回する。
【００４２】好ましくは、光信号測定装置で、信号光及
びパルス光は、閉ループ光ファイバを互いに逆方向に周
回する。
【００４３】好ましくは、光信号測定装置で、和周波光
の発生のタイミングを調整できる調整手段が更に設けら
れる。
【００４４】好ましくは、光信号測定装置で、調整手段
は、閉ループ光ファイバを伸縮させる手段又は閉ループ
光ファイバの光路の一部を空間に出して、その一部の長
さを調整する手段から構成される。
【００４５】更に本発明は、閉ループ光ファイバ２０内
に、信号光及び信号光とは相違する波長を有するパルス
光とを導入して共に周回させるようにする工程と、閉ル
ープファイバ２０の一部に設けられた和周波光発生器５
０で、信号光及びパルス光の和周波光を発生させる工程
と、パルス光の所定の周回数だけ和周波光を検出してデ
ータを得る工程と、データを処理して信号光の波形を再
構成する工程と、を有することを特徴とするサンプリン
グによる光信号測定方法を提供する。
【００４６】好ましくは、光信号測定方法で、和周波光
発生器５０で発生した和周波光を光検出器７０で検出す
る前に、和周波光を選択的に通過させるようフィルタリ
ングする工程を更に含む。
【００４７】好ましくは、光信号測定方法で、閉ループ
光ファイバ２０の少なくとも一部に形成された光ゲイン
を有する光ファイバによって、閉ループ光ファイバ２０
を周回する信号光及びパルス光を増幅する工程を更に有
する。
【００４８】好ましくは、光信号測定方法で、信号光及
びパルス光を導入する工程は、閉ループ光ファイバ２０
に光学的に結合した入力用光ファイバから信号光及びパ
ルス光を導入する工程を含む。
【００４９】好ましくは、光信号測定方法で、信号光及
びパルス光を導入する工程は、閉ループ光ファイバに光
学的に結合した入力用光ファイバから信号光を導入する
工程と、閉ループ光ファイバの少なくとも一部に形成さ
れるモードロックファイバレーザ手段によってパルス光
を発生する工程とを含む。
【００５０】好ましくは、光信号測定方法で、データを
処理する工程は、検出されたデータを並列させる工程を
含む。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の好適実施形態となる高周波光信号の測
定装置を示す概略図である。
【符号の説明】
１０ 光信号測定装置 ２０ 閉ループ光ファイバ ３０ 入力用光ファイバ ４０ カプラ ５０ 和周波発生器 ６０ フィルタ手段（光学フィルタ） ７０ 光検出器 ８０ データ処理手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 範秀 東京都八王子市高倉町９番１号 アジレン ト・テクノロジー株式会社内 (72)発明者 山下 勝也 東京都八王子市高倉町９番１号 アジレン ト・テクノロジー株式会社内 (72)発明者 渡辺 智 東京都八王子市高倉町９番１号 アジレン ト・テクノロジー株式会社内 Ｆターム(参考） 2G065 AA12 AB09 AB16 BB02 BC28 BC33 BC35 DA13 2K002 AA04 AB12 BA01 DA01 DA10 HA20 5F072 AB09 AK06 HH07 LL17 QQ02 YY11 5K002 BA04 BA05 BA06 CA13 EA06

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】閉ループ光ファイバ、該閉ループ光ファイ
    バの一部に設けられる和周波光発生器、該和周波光発生
    器で発生する和周波光を検出できる光検出器、及びデー
    タ処理手段を有し、 被測定信号光及び該信号光と相違する波長を有するパル
    ス光を前記閉ループ光ファイバに周回させ、前記パルス
    光が前記和周波光発生器を通過する度に発生する前記和
    周波光を所定の周回数にわたって前記光検出器により検
    出し、前記データ処理手段が検出した前記データを処理
    して前記信号光の波形を再構成できるよう構成されるこ
    とを特徴とするサンプリングによる光信号測定装置。
  2. 【請求項２】前記和周波光発生器と前記光検出器との間
    に、前記和周波光を選択的に通過させるフィルタ手段を
    配置したことを特徴とする請求項１に記載の光信号測定
    装置。
  3. 【請求項３】前記閉ループ光ファイバに光学的に結合さ
    れる少なくとも一つの入力用光ファイバが設けられるこ
    とを特徴とする請求項１に記載の光信号測定装置。
  4. 【請求項４】前記閉ループ光ファイバの少なくとも一部
    が光ゲインを有する光ファイバによって構成されてお
    り、前記入力用ファイバの一つからゲインを誘起するた
    めのポンプ光が入力され、該ポンプ光が前記閉ループ光
    ファイバ内を周回するよう構成されることを特徴とする
    請求項３に記載の光信号測定装置。
  5. 【請求項５】前記光ゲインを有するファイバには、エル
    ビウムがドープされていることを特徴とする請求項４に
    記載の光信号測定装置。
  6. 【請求項６】前記信号光及び前記パルス光は、少なくと
    も一つの前記入力用光ファイバから入力されて前記閉ル
    ープ光ファイバに導入されるよう構成されることを特徴
    とする請求項３に記載の光信号測定装置。
  7. 【請求項７】前記信号光と前記パルス光とは、同一の前
    記入力用光ファイバから入力されることを特徴とする請
    求項６に記載の光信号測定装置。
  8. 【請求項８】前記信号光と前記パルス光とは、相違する
    前記入力用光ファイバから入力されることを特徴とする
    請求項６に記載の光信号測定装置。
  9. 【請求項９】前記信号光は、該入力用光ファイバの一つ
    から入力されて前記閉ループ光ファイバに導入され、更
    に、該閉ループ光ファイバの少なくとも一部にはモード
    ロックファイバレーザ手段が形成され、該モードロック
    ファイバレーザ手段によってパルス光が発生するよう構
    成されることを特徴とする請求項３に記載の光信号測定
    装置。
  10. 【請求項１０】前記入力用光ファイバと前記閉ループ光
    ファイバとを光学的に結合する手段は、３dBカプラ又は
    光スイッチとされることを特徴とする請求項３に記載の
    光信号測定装置。
  11. 【請求項１１】前記和周波光発生器は、光学非線型性を
    有する光ファイバ又は前記閉ループ光ファイバを構成す
    る光ファイバとは別体に設けられる光学非線型性を有す
    る結晶によって構成されることを特徴とする請求項１に
    記載の光信号測定装置。
  12. 【請求項１２】前記データ処理手段は、前記データを並
    列させることにより前記波形を再構成することを特徴と
    する請求項１に記載の光信号測定装置。
  13. 【請求項１３】前記信号光及び前記パルス光は、前記閉
    ループ光ファイバを同一方向に周回することを特徴とす
    る請求項１に記載の光信号測定装置。
  14. 【請求項１４】前記信号光及び前記パルス光は、前記閉
    ループ光ファイバを互いに逆方向に周回することを特徴
    とする請求項１に記載の光信号測定装置。
  15. 【請求項１５】前記和周波光の発生のタイミングを調整
    できる調整手段が更に設けられることを特徴とする請求
    項１に記載の光信号測定装置。
  16. 【請求項１６】前記調整手段は、閉ループ光ファイバを
    伸縮させる手段又は前記閉ループ光ファイバの光路の一
    部を空間に出して、該一部の長さを調整する手段から構
    成されることを特徴とする請求項１５に記載の光信号測
    定装置。
  17. 【請求項１７】閉ループ光ファイバ内に、信号光及び該
    信号光と相違する波長を有するパルス光とを導入して共
    に周回させるようにする工程と、 前記閉ループファイバの一部に設けられた和周波光発生
    器で、前記信号光及び前記パルス光の和周波光を発生さ
    せる工程と、 前記パルス光の所定の周回数だけ前記和周波光を検出し
    てデータを得る工程と、 前記データを処理して前記信号光の波形を再構成する工
    程と、を有することを特徴とするサンプリングによる光
    信号測定方法。
  18. 【請求項１８】前記和周波光発生器で発生した前記和周
    波光を前記光検出器で検出する前に、前記和周波光を選
    択的に通過させるようフィルタリングする工程を更に含
    むことを特徴とする、請求項１７に記載の光信号測定方
    法。
  19. 【請求項１９】前記閉ループ光ファイバの少なくとも一
    部に形成された光ゲインを有する光ファイバによって、
    前記閉ループ光ファイバを周回する前記信号光及び前記
    パルス光を増幅する工程を更に有することを特徴とする
    請求項１７に記載の光信号測定方法。
  20. 【請求項２０】前記信号光及び前記パルス光を導入する
    工程は、前記閉ループ光ファイバに光学的に結合した入
    力用光ファイバから前記信号光及び前記パルス光を導入
    する工程を含むことを特徴とする請求項１７に記載の光
    信号測定方法。
  21. 【請求項２１】前記信号光及び前記パルス光を導入する
    工程は、前記閉ループ光ファイバに光学的に結合した入
    力用光ファイバから前記信号光を導入する工程と、前記
    閉ループ光ファイバの少なくとも一部に形成されるモー
    ドロックファイバレーザ手段によってパルス光を発生す
    る工程とを含むことを特徴とする請求項１７に記載の光
    信号測定方法。
  22. 【請求項２２】前記データを処理する工程は、検出され
    た前記データを並列させる工程を含むことを特徴とする
    請求項１７に記載の光信号測定方法。
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