JP2002329959A - Printed wiring board and manufacturing method therefor - Google Patents

Printed wiring board and manufacturing method therefor

Info

Publication number
JP2002329959A
JP2002329959A JP2001132489A JP2001132489A JP2002329959A JP 2002329959 A JP2002329959 A JP 2002329959A JP 2001132489 A JP2001132489 A JP 2001132489A JP 2001132489 A JP2001132489 A JP 2001132489A JP 2002329959 A JP2002329959 A JP 2002329959A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating resin
resin layer
wiring board
printed wiring
surface roughness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001132489A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Kuritani
弘之 栗谷
Kazuhisa Otsuka
和久 大塚
Masanori Yamaguchi
正憲 山口
Yasushi Shimada
靖 島田
Yoshitake Hirata
善毅 平田
Kazunori Yamamoto
和徳 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2001132489A priority Critical patent/JP2002329959A/en
Publication of JP2002329959A publication Critical patent/JP2002329959A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed wiring board for a high frequency circuit, which reduces transmission loss. SOLUTION: The printed wiring board has an insulating resin layer and a wiring conductor made on this insulating resin layer. The surface roughness of the boundary face between the wiring conductor and the insulating resin layer is not less than 0.01 μm and not more than 1.2 μm. Preferably, the surface roughness is not more than 0.4 μm, and more preferably, it is not more than 0.2 μm. It is desired that the wiring conductor is the wiring pattern composed of the conductor film made by combining a drive process such as deposition, sputtering, etc., and plating treatment. The lamination composed of the insulating resin layer and the wiring conductor of such surface roughness can also be used as the inner-layer circuit or outer-layer circuit of a multilayer printed wiring board.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高周波回路に用い
られるプリント配線板と、その製造方法に関し、特に伝
送損失を低減した高周波プリント配線板およびその製造
方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printed wiring board used for a high-frequency circuit and a method for manufacturing the same, and more particularly to a high-frequency printed wiring board with reduced transmission loss and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】高度
情報化時代である今日、情報通信技術、特に無線通信技
術では使用周波数帯域がますます高周波帯域へと移行し
ている。特に、携帯電話や広帯域通信ネットワークシス
テムの普及につれ、数百MHz〜数十GHzで使用され
る高周波プリント配線基板が必要とされている。
2. Description of the Related Art In the age of advanced information technology, the frequency band used in information communication technology, especially in wireless communication technology, is shifting to higher and higher frequency bands. In particular, with the spread of mobile phones and broadband communication network systems, high-frequency printed wiring boards used at several hundred MHz to several tens of GHz are required.

【0003】プリント配線基板上には、コンデンサ、イ
ンダクタ、レジスタなどの受動素子を含む特定の回路配
線パターンが形成されるが、高周波になると電流は導体
表面に集中して流れるようになり、導体と接する基板表
面からの伝送損失が大きくなる。高周波/高速システム
用の基板材料の損失を低減するために、GHz帯で優れ
た誘電特性、すなわち誘電損失(または誘電正接tan
δ)が小さく、広い範囲で誘電率が一定である特性を備
えた基板が開発されている。最近では、フッ素樹脂やP
PO(ポリフェニレンオキサイド)樹脂を使用したガラ
ス布銅張積層板が実用化され、10GHzで誘電正接が
0.005以下という良好な特性を示している。
[0003] A specific circuit wiring pattern including passive elements such as capacitors, inductors, and resistors is formed on a printed wiring board. At a high frequency, current flows intensively on the surface of the conductor. Transmission loss from the contacting substrate surface increases. In order to reduce the loss of substrate material for high frequency / high speed systems, excellent dielectric properties in the GHz band, namely dielectric loss (or dielectric loss tangent tan)
δ) is small, and a substrate having a characteristic that the dielectric constant is constant over a wide range has been developed. Recently, fluoroplastics and P
A glass cloth copper-clad laminate using a PO (polyphenylene oxide) resin has been put to practical use, and has a good characteristic of a dielectric loss tangent of 0.005 or less at 10 GHz.

【0004】しかし、伝送損失は配線導体パターンと、
この導体パターンが形成される絶縁樹脂層との境界面の
表面粗さとも関係する。一般に表面粗さが大きいほど損
失は大きくなることが知られているが、現在のプリント
配線基板の製造方法として主流となっているサブトラク
ティブ法では、銅張積層板を用い、銅箔の不用箇所をた
とえばエッチングなどにより選択的に除去して導体パタ
ーンを形成する。銅張積層板では、プリプレグ樹脂と銅
箔との接着力を高めるために、表面粗化処理を施してお
り、一般的な銅張積層板の銅箔と樹脂との境界面の表面
粗さは6〜8μm程度、ロープロファイル箔でも2〜3
μm程度である。このため、基板材料で誘電正接を低減
したとしても、高周波電流の導体表面への集中による伝
送損失の低減には限界があった。
[0004] However, the transmission loss depends on the wiring conductor pattern,
It is also related to the surface roughness of the interface between the conductor pattern and the insulating resin layer. It is generally known that the larger the surface roughness, the greater the loss.However, the subtractive method, which is currently the mainstream method of manufacturing printed wiring boards, uses copper-clad laminates and uses copper foil in areas where copper foil is not needed. Is selectively removed by, for example, etching to form a conductor pattern. In copper-clad laminates, a surface roughening treatment is applied to increase the adhesive strength between the prepreg resin and the copper foil, and the surface roughness of the boundary surface between the copper foil and the resin of a general copper-clad laminate is About 6-8 μm, 2-3 for low profile foil
It is about μm. For this reason, even if the dielectric loss tangent is reduced by the substrate material, there is a limit in reducing the transmission loss due to the concentration of the high-frequency current on the conductor surface.

【0005】さらに、携帯電話、モバイル等の移動通信
機器に使用される配線基板では、その配線長が長いた
め、全体として伝送損失が累積的に大きくなるという問
題があり、基板表面での伝送損失を極力低減することが
望まれる。
Further, wiring boards used for mobile communication devices such as mobile phones and mobile phones have a long wiring length, so that there is a problem that the transmission loss is cumulatively increased as a whole, and the transmission loss on the surface of the board is large. It is desired to reduce as much as possible.

【0006】そこで、本発明は、基板表面からの伝送損
失を効果的に低減した高周波プリント配線基板と、その
製造方法を提供する。
Accordingly, the present invention provides a high-frequency printed wiring board in which transmission loss from the board surface is effectively reduced, and a method of manufacturing the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の高周波プリント配線基板は、絶縁樹脂層
と、この絶縁樹脂層に接する配線導体とを有し、配線導
体に接する面の絶縁樹脂層の表面粗さが0.01μm以
上、1.2μm以下、好ましくは0.4μm以下、さら
に好ましくは0.2μm以下であるプリント配線基板を
提供する。
In order to achieve the above object, a high-frequency printed circuit board according to the present invention has an insulating resin layer and a wiring conductor in contact with the insulating resin layer. Provided is a printed wiring board in which the surface roughness of the insulating resin layer is 0.01 μm or more and 1.2 μm or less, preferably 0.4 μm or less, and more preferably 0.2 μm or less.

【0008】絶縁樹脂層の表面粗さが0.01μm以下
とすると、樹脂層の表面処理が困難になり、プリント配
線板の製造コストが高くなる。一方、表面粗さの上限
は、使用する周波数帯域によって変動するが、1.2μ
m以上になると、GHz帯域でのストリップラインある
いはマイクロストリップラインの損失が大きくなるので
好ましくない。たとえば、2GHzの周波数では、表面
粗さを1.2μmにすることによって損失の割合を50
%に低減することができるが、これ以上の粗さにする
と、損失を十分に低減することができない。
When the surface roughness of the insulating resin layer is 0.01 μm or less, the surface treatment of the resin layer becomes difficult, and the production cost of the printed wiring board increases. On the other hand, the upper limit of the surface roughness varies depending on the frequency band to be used.
If m or more, the loss of the strip line or microstrip line in the GHz band increases, which is not preferable. For example, at a frequency of 2 GHz, by setting the surface roughness to 1.2 μm, the rate of loss can be reduced to 50%.
%, But if the roughness is further increased, the loss cannot be sufficiently reduced.

【0009】また、上限を0.4μm以下とすることに
よって、20GHz程度の高周波に対しても十分に伝送
損失を低減することができ、0.2μm以下とすると、
80GHz以上の高周波に対しても有効に伝送損失を低
減することができる。
By setting the upper limit to 0.4 μm or less, transmission loss can be sufficiently reduced even at a high frequency of about 20 GHz.
Transmission loss can be effectively reduced even at a high frequency of 80 GHz or more.

【0010】このような表面粗さを達成するために、平
滑な面を有するフィルムや板、成形型などを用いてプレ
ス成形法や圧縮成形法、移送成形法などにより絶縁樹脂
層を成形する。
In order to achieve such surface roughness, an insulating resin layer is formed by a press molding method, a compression molding method, a transfer molding method, or the like using a film, a plate, a molding die or the like having a smooth surface.

【0011】また、表面粗さが1.2μmを超える絶縁
樹脂板の表面に、平滑処理を行なってもよい。処理方法
としては、絶縁樹脂板表面に液状樹脂または樹脂ワニス
を塗布する方法が好ましく、コーティングやディッピン
グ、スタンピング、キャスティング等公知の方法を用い
ることができる。また、鏡面を有する金型や鏡板を用い
てモールディングやプレスにより平滑面を得る方法も好
適である。さらには、予め平滑面をもったフィルムや薄
膜を、熱圧着や接着材を介して接着する方法も用いるこ
とができる。表面処理に用いられる被覆用の樹脂として
は熱硬化性樹脂でも熱可塑性樹脂でもよいが、耐熱性が
必要な場合は熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂のように
架橋反応により網目構造をとるものが好ましい。
The surface of the insulating resin plate having a surface roughness of more than 1.2 μm may be subjected to a smoothing treatment. As a treatment method, a method of applying a liquid resin or a resin varnish to the surface of the insulating resin plate is preferable, and a known method such as coating, dipping, stamping, or casting can be used. Further, a method of obtaining a smooth surface by molding or pressing using a mold or a mirror plate having a mirror surface is also suitable. Furthermore, a method of bonding a film or a thin film having a smooth surface in advance through thermocompression bonding or an adhesive can also be used. The resin for coating used in the surface treatment may be a thermosetting resin or a thermoplastic resin, but when heat resistance is required, a resin having a network structure by a crosslinking reaction such as a thermosetting resin or a photocurable resin. Is preferred.

【0012】また、上述した範囲での表面粗さを有する
絶縁樹脂層表面に導体パターンを付着性よく形成するた
めに、まず、金属をスパッタリング、CVD、蒸着法な
どにより、上述の絶縁樹脂上に導体膜を形成する。この
時の金属は特に限定しないが、電気伝導性のよいものが
好ましい。次に、形成した導体膜上にレジスト膜を形成
し、フォトリソグラフィによってパタニングし、エッチ
ング等により所定の導体パターンを形成する。
In order to form a conductive pattern on the surface of the insulating resin layer having a surface roughness in the above-mentioned range with good adhesion, first, a metal is formed on the above-mentioned insulating resin by sputtering, CVD, vapor deposition or the like. A conductor film is formed. The metal at this time is not particularly limited, but a metal having good electric conductivity is preferable. Next, a resist film is formed on the formed conductor film, patterned by photolithography, and a predetermined conductor pattern is formed by etching or the like.

【0013】このように、所定の範囲の表面粗さを有す
る絶縁樹脂層上に、ドライプロセスで導体パターンを形
成することによって、接着性を保証するとともに、高周
波における伝送損失を低減するプリント配線板を提供す
ることができる。
As described above, by forming a conductor pattern by a dry process on an insulating resin layer having a predetermined range of surface roughness, a printed wiring board which ensures adhesion and reduces transmission loss at high frequencies. Can be provided.

【0014】このように、十分に高周波に対応できるプ
リント配線板に高周波帯域で動作するICチップ等を搭
載することによって、動作の信頼性の高い電子機器を製
造することが可能になる。
As described above, by mounting an IC chip or the like operating in a high frequency band on a printed wiring board capable of coping with a sufficiently high frequency, it is possible to manufacture an electronic device with high operation reliability.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】図1は、ICパッケージ12を本
発明のプリント配線板11上に実装した電子機器の概略
断面図であり、図2は、図1に示したプリント配線板の
構成例を示す図である。本発明のプリント配線板は、絶
縁樹脂層21と、絶縁樹脂層上に形成された導体パター
ン22を有する。絶縁樹脂21と配線導体との境界面の
表面粗さは、図2の例では1μmである。
FIG. 1 is a schematic sectional view of an electronic device in which an IC package 12 is mounted on a printed wiring board 11 of the present invention. FIG. 2 is a structural example of the printed wiring board shown in FIG. FIG. The printed wiring board of the present invention has an insulating resin layer 21 and a conductor pattern 22 formed on the insulating resin layer. The surface roughness of the interface between the insulating resin 21 and the wiring conductor is 1 μm in the example of FIG.

【0016】図2(a)では、表面粗さが1μmである
絶縁樹脂21上に形成した導体パターン22を内層回路
として含む多層プリント配線板の構成例を、図2(b)
は、同様の表面粗さの絶縁樹脂上に形成した導体パター
ンを外層回路用として用いる構成例を示す。図2に示す
例において、絶縁樹脂21の厚さは約0.2mm、導体
パターン22の厚さは約18μm、導体パターン22の
線幅は約0.4mmである。絶縁樹脂21としてエポキ
シ樹脂を使用し、導体パターン22は銅(Cu)の配線
パターンとした。
FIG. 2A shows an example of the configuration of a multilayer printed wiring board including, as an inner layer circuit, a conductor pattern 22 formed on an insulating resin 21 having a surface roughness of 1 μm.
Shows a configuration example in which a conductor pattern formed on an insulating resin having a similar surface roughness is used for an outer layer circuit. In the example shown in FIG. 2, the thickness of the insulating resin 21 is about 0.2 mm, the thickness of the conductor pattern 22 is about 18 μm, and the line width of the conductor pattern 22 is about 0.4 mm. An epoxy resin was used as the insulating resin 21, and the conductor pattern 22 was a copper (Cu) wiring pattern.

【0017】図2(a)に示すように、内層回路として
使用する場合は、図示はしないが、導体パターン22は
スルーホールを介して、銅箔25を加工して形成される
外層回路と接続される。本発明の特徴として、導体パタ
ーン22は、表面粗さが1μmと極めて平滑な樹脂表面
にスパッタリングなどで直接形成された導体膜からなる
パターンである。内層回路と外層回路材料としての銅箔
25は、プリプレグ23を介して積層成形される。
As shown in FIG. 2 (a), when used as an inner layer circuit, although not shown, the conductor pattern 22 is connected to an outer layer circuit formed by processing a copper foil 25 through a through hole. Is done. As a feature of the present invention, the conductor pattern 22 is a pattern formed of a conductor film directly formed by sputtering or the like on a very smooth resin surface having a surface roughness of 1 μm. The copper foil 25 as the material of the inner layer circuit and the outer layer circuit is formed by lamination through the prepreg 23.

【0018】図2(b)では、高周波電子部品を搭載す
るためのプリント配線基板として、外層回路にも適用で
きる例を示している。本発明のプリント配線基板を用い
ることによる損失の低減効果については、後述する。
FIG. 2B shows an example that can be applied to an outer layer circuit as a printed wiring board for mounting high frequency electronic components. The effect of reducing loss by using the printed wiring board of the present invention will be described later.

【0019】なお、絶縁樹脂21としては上述の例に限
定されず、その他の熱硬化性樹脂、あるいは熱可塑性樹
脂を用いることができる。熱硬化性樹脂としては、フェ
ノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、
アルキル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタ
レート樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、シクロペン
タジエンから合成した樹脂、トリス(2−ヒドロキシエ
チル)イソシアヌラートを含む樹脂、芳香族ニトトリル
から合成した樹脂、3量化芳香族ジシアナミド樹脂、ト
リアリルトリメタリクレートを含む樹脂、架橋性ポリベ
ンゾシクロブテン、フラン樹脂、ゲトン樹脂、キシレ樹
脂、縮合多環芳香族を含む熱硬化性樹脂などを用いるこ
とができる。
It should be noted that the insulating resin 21 is not limited to the above-described example, and other thermosetting resins or thermoplastic resins can be used. As thermosetting resins, phenolic resins, urea resins, melamine resins, alkyd resins,
Alkyl resin, unsaturated polyester resin, diallyl phthalate resin, epoxy resin, silicone resin, resin synthesized from cyclopentadiene, resin containing tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, resin synthesized from aromatic nitrile, trimerized aromatic A group dicyanamide resin, a resin containing triallyl trimethacrylate, a crosslinkable polybenzocyclobutene, a furan resin, a geton resin, a xylene resin, a thermosetting resin containing a condensed polycyclic aromatic, or the like can be used.

【0020】熱可塑性樹脂としては、ポリエチレン、ポ
リプロピレンや、4−メチルペンテン−1樹脂、ポリブ
テン−1樹脂、及び高圧法エチレンコポリマーなどのポ
リオレフィン樹脂;スチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル、
ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリアク
リロニトリル、ポリアクリル酸系プラスチック、ジエン
系プラスチック、ポリアミド、ポリエステル、ポリカー
ボネート、ポリアセタール、ポリベンゾシクロブテン、
フッ素系樹脂、ポリウレタン系プラスチック;及びポリ
スチレン系熱可塑性エラストマー、ポリアレフィン系熱
可塑性エラストマー、ポリウレタン系熱可塑性エラスト
マー、ポリエステル系熱可塑性エラストマー、ポリアミ
ド系熱可塑性エラストマー、低結晶系1、2−ポリブタ
ジエン、塩素化ポリマー系熱可塑性エラストマー、フッ
素系熱可塑性エラストマー、あるいはイオン架橋熱可塑
性エラストマーなどの熱可塑性エラストマーなどを用い
ることができる。
Examples of the thermoplastic resin include polyethylene, polypropylene, polyolefin resins such as 4-methylpentene-1 resin, polybutene-1 resin, and high-pressure ethylene copolymer; styrene resins, polyvinyl chloride;
Polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyacrylonitrile, polyacrylic plastic, diene plastic, polyamide, polyester, polycarbonate, polyacetal, polybenzocyclobutene,
Fluorine-based resin, polyurethane-based plastic; and polystyrene-based thermoplastic elastomer, polyalefin-based thermoplastic elastomer, polyurethane-based thermoplastic elastomer, polyester-based thermoplastic elastomer, polyamide-based thermoplastic elastomer, low-crystalline 1,2-polybutadiene, chlorinated A thermoplastic elastomer such as a polymer-based thermoplastic elastomer, a fluorine-based thermoplastic elastomer, or an ion-crosslinked thermoplastic elastomer can be used.

【0021】絶縁樹脂層を成形する際に用いる平滑な面
を有するフィルムや板としては、4−メチルペンテン−
1樹脂、テドラー樹脂、フッ素樹脂、離型処理したポリ
エステル樹脂、離型処理した金属箔や金属板など、耐熱
性がありかつ離型性のよいものが好ましい。成形型とし
ては硬質クロムめっきを施した金型が好適である。
Examples of the film or plate having a smooth surface used for forming the insulating resin layer include 4-methylpentene-
Preferred are resins having heat resistance and good releasability, such as resin 1, Tedlar resin, fluororesin, release-treated polyester resin, release-treated metal foil and metal plate. As a molding die, a die subjected to hard chromium plating is preferable.

【0022】樹脂板表面を平滑処理する場合に用いられ
る樹脂は、上記絶縁樹脂板と同様の熱硬化性樹脂または
熱可塑性樹脂を用いることができる。
As the resin used for smoothing the surface of the resin plate, the same thermosetting resin or thermoplastic resin as the above-mentioned insulating resin plate can be used.

【0023】図3は、図2に示したプリント配線板にお
ける絶縁樹脂の表面粗さΔと伝送損失の増加率Δαcと
の関係を示すグラフである。図4は、表面粗さΔを1.
2μmとしたときの周波数fと表皮深さ(skin depth)
δの関係、および周波数fと伝送損失の増加率Δαcの
関係を示すグラフである。図3のデータを得るために、
サンプルとして異なる表面粗さの絶縁樹脂を用意し、絶
縁樹脂上に体積抵抗率ρ=1.74×10-8Ωm、透磁
率μ=1.26×10-6H/mの銅のマイクロストリ
ップラインを形成した。表面粗さを0.01μmとした
ときの伝送損失を基準にして、表面粗さを変化させたと
きの伝送損失の増加率を種々の周波数で測定したもので
ある。
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the surface roughness Δ of the insulating resin in the printed wiring board shown in FIG. 2 and the increase rate Δαc of the transmission loss. FIG. 4 shows that the surface roughness Δ was 1.
Frequency f and skin depth at 2 μm
6 is a graph showing a relationship between δ and a relationship between a frequency f and a transmission loss increase rate Δαc. To obtain the data in FIG.
Insulating resin having different surface roughness is prepared as a sample, and a copper microstrip having a volume resistivity ρ = 1.74 × 10 −8 Ωm and a magnetic permeability μ = 1.26 × 10 −6 H / m is provided on the insulating resin. A line was formed. The rate of increase in transmission loss when the surface roughness was changed was measured at various frequencies with reference to the transmission loss when the surface roughness was 0.01 μm.

【0024】グラフから明かなように、たとえば2GH
z帯域で伝送損失の増加率を50%以下に抑えようとす
ると、表面粗さを1.2μm程度あるいはそれ以下にす
る必要がある。この場合、表面粗さΔと損失の増加率Δ
αcとの間には、 Δαc=(2/π)tan-1{1.4(Δ/δ)2} という関係がある。
As is clear from the graph, for example, 2GH
In order to suppress the rate of increase in transmission loss in the z band to 50% or less, it is necessary to reduce the surface roughness to about 1.2 μm or less. In this case, the surface roughness Δ and the loss increase rate Δ
There is a relationship between αc and Δαc = (2 / π) tan −1 {1.4 (Δ / δ) 2 }.

【0025】より具体的には、損失の増加率Δαcの上
限を50%とした場合に、個々の周波数における粗さΔ
の上限は、2GHzで1.253μm、20GHzで
0.396μm、40GHzで0.280μm、80G
Hzで0.198μmである。PHSの使用帯域が1.
9GHzであることから、絶縁樹脂層と導体回路パター
ンとの境界面での表面粗さは、1.2μm以下であるこ
とが好ましい。また、静止衛星を用いた移動通信システ
ムへの適用や、数GHz以上の高周波トランジスタを搭
載する場合を考えると、表面粗さが0.4μm以下であ
ることが望ましい。また、将来のさらなる高周波化を考
えると、表面粗さは0.2μm以下であることがさらに
望ましい。
More specifically, when the upper limit of the loss increase rate Δαc is set to 50%, the roughness Δ
Are 1.253 μm at 2 GHz, 0.396 μm at 20 GHz, 0.280 μm at 40 GHz, 80 G
It is 0.198 μm in Hz. The band used by PHS is 1.
Since the frequency is 9 GHz, the surface roughness at the boundary between the insulating resin layer and the conductive circuit pattern is preferably 1.2 μm or less. Further, in consideration of application to a mobile communication system using a geostationary satellite or a case where a high-frequency transistor of several GHz or more is mounted, the surface roughness is desirably 0.4 μm or less. Further, considering future higher frequency, the surface roughness is more preferably 0.2 μm or less.

【0026】基準とした表面粗さ0.01μmを下限と
したのは、表面粗さがこの値を下回ると、製造コスト的
に不利になるからである。その理由は、絶縁樹脂板を成
形する際の離型フィルムや鏡板、金型の表面加工費が著
しく高くなるためである。また、表面を平滑処理する場
合は、処理用樹脂の表面に微細な凹凸が発生する場合あ
り、これを抑制するような処理工程では時間が多くかか
るためである。
The lower limit of the standard surface roughness of 0.01 μm is because if the surface roughness is lower than this value, the production cost becomes disadvantageous. The reason is that the surface processing cost of the release film, the end plate, and the mold at the time of molding the insulating resin plate becomes extremely high. Further, when the surface is smoothed, fine irregularities may be generated on the surface of the processing resin, and a long time is required in a processing step for suppressing this.

【0027】次に、図1に示したプリント配線板と、こ
のようなプリント配線板上にICチップ等の電子部品を
搭載した電子機器の製造方法について、図5および6を
参照して述べる。
Next, a method of manufacturing the printed wiring board shown in FIG. 1 and an electronic device in which an electronic component such as an IC chip is mounted on such a printed wiring board will be described with reference to FIGS.

【0028】(a)まず、表面粗さが0.01μm〜
1.2μmである絶縁樹脂板を用意する。このような絶
縁樹脂板の成形方法としては、(i)あらかじめ上述した
範囲の表面粗さの平滑フィルムを最上層としてプレス成
形、圧縮成形などにより、絶縁樹脂板を形成する方法
と、(ii)表面粗さが1.2μm以上の絶縁樹脂板の表面
に、平滑処理を行なうことにより、最終的に表面粗さが
0.01μm〜1.2μmの範囲になるようにする方
法、の2通りがある。図3(a)の例では、後者の方法
を採用する。すなわち、フェノール硬化系エポキシ樹脂
を含浸させたガラスクロス53を、4−メチルペンテン
−1樹脂フィルム(三井化学(株)製TPX)54とステ
ンレス製鏡板52で挟み、プレス成形を行い厚さ0.2
mmの絶縁樹脂層を得た。この絶縁樹脂層の表面粗さは
0.2μmであるため、表面の平滑化を図るために、さ
らに絶縁樹脂層の表面にポリベンゾシクロブテン樹脂5
5を膜厚5μmになるようにスピンコートし、絶縁樹脂
板51を得た。この絶縁樹脂板の表面粗さは0.01μ
mであった。
(A) First, the surface roughness is 0.01 μm or more.
An insulating resin plate of 1.2 μm is prepared. As a method of forming such an insulating resin plate, (i) a method of forming an insulating resin plate by press molding, compression molding, or the like with a smooth film having a surface roughness in the above-described range as the uppermost layer; A method of performing a smoothing process on the surface of an insulating resin plate having a surface roughness of 1.2 μm or more so that the surface roughness finally falls within a range of 0.01 μm to 1.2 μm. is there. In the example of FIG. 3A, the latter method is adopted. That is, a glass cloth 53 impregnated with a phenol-cured epoxy resin is sandwiched between a 4-methylpentene-1 resin film (TPX manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) 54 and a stainless steel end plate 52, and is pressed to a thickness of 0.1 mm. 2
mm of the insulating resin layer was obtained. Since the surface roughness of the insulating resin layer is 0.2 μm, a polybenzocyclobutene resin 5 is further added to the surface of the insulating resin layer in order to smooth the surface.
5 was spin-coated to a film thickness of 5 μm to obtain an insulating resin plate 51. The surface roughness of this insulating resin plate is 0.01μ
m.

【0029】(b)次に、ガス圧0.2Pa、RF電力
1kWのRFスパッタを用いて、上記絶縁樹脂板上に膜
厚0.05μmのCr薄膜56を形成した後、その上に
DCスパッタで膜厚0.5μmのCu膜を形成した。こ
のようなドライプロセスを用いることによって、平滑な
樹脂表面に良好な付着力で導体パターンの基部を形成す
ることができる。Cu膜上にさらに膜厚5μmの電気銅
めっきを行い、最終的にCu導体膜57を形成した。
(B) Next, a Cr thin film 56 having a thickness of 0.05 μm is formed on the insulating resin plate by using RF sputtering at a gas pressure of 0.2 Pa and an RF power of 1 kW. A Cu film having a thickness of 0.5 μm was formed. By using such a dry process, the base of the conductor pattern can be formed on a smooth resin surface with good adhesion. A 5 μm-thick electrolytic copper plating was further performed on the Cu film to finally form a Cu conductor film 57.

【0030】(c)Cu導体膜57上にドライフィルム
レジスト(日立化成工業(株)製フォテックH−W42
5)58をラミネートし、フォトリソグラフにより配線
パターンを形成した後、塩化第2鉄エッチング液で銅を
エッチングした。
(C) A dry film resist (Fotech H-W42 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is formed on the Cu conductor film 57.
5) After laminating 58 and forming a wiring pattern by photolithography, copper was etched with a ferric chloride etching solution.

【0031】(d)レジスト58を剥離した後、さらに
アルカリ性フェリシアン化カリウム溶液でCr薄膜56
をエッチングして内層回路の導体パターンを形成した。
このような内層回路は、絶縁樹脂板51と導体パターン
との境界面の表面粗さが0.1μmと平滑であり、高周
波においても伝送損失を著しく低減することができる。
ここまでの工程で、単層のプリント配線板が実現され
る。
(D) After the resist 58 has been stripped, the Cr thin film 56 is further diluted with an alkaline potassium ferricyanide solution.
Was etched to form a conductor pattern of the inner layer circuit.
Such an inner layer circuit has a smooth surface roughness of 0.1 μm at the boundary between the insulating resin plate 51 and the conductor pattern, and can significantly reduce transmission loss even at high frequencies.
Through the steps so far, a single-layer printed wiring board is realized.

【0032】(e)得られた配線板と、フェノール硬化
系エポキシ樹脂を含浸させたガラスクロス60と銅箔6
1とをプレス成形する。銅箔61は、外層回路の導体パ
ターンとして、後の工程で加工されることになる。
(E) Obtained wiring board, glass cloth 60 impregnated with phenol-cured epoxy resin and copper foil 6
1 and press-formed. The copper foil 61 will be processed in a later step as a conductor pattern of the outer layer circuit.

【0033】(f)表層の銅箔61にドライフィルムレ
ジスト(不図示)をラミネートし、フォトリソグラフに
より配線パターンを形成した後、塩化第2鉄エッチング
液で銅箔61をエッチングし、レジストを剥離して導体
パターン61を形成した。個々までの工程により、高周
波対応の内装回路を含む多層プリント配線板が製造され
る。
(F) Laminating a dry film resist (not shown) on the surface copper foil 61, forming a wiring pattern by photolithography, etching the copper foil 61 with a ferric chloride etching solution, and removing the resist. Thus, a conductor pattern 61 was formed. Through the steps up to the individual steps, a multilayer printed wiring board including a high frequency compatible internal circuit is manufactured.

【0034】(g)得られた多層プリント配線板表面
に、はんだ付けする部分以外の部分にソルダーレジスト
をスクリーン印刷し、紫外線を照射してレジストを硬化
させた後、はんだ付けする部分にはんだペースト63を
スクリーン印刷し、ICパッケージ65などの電子部品
を搭載して、赤外線リフロー装置によりはんだ付けを行
い電子機器を得た。なお、図示はしないが、内層回路の
導体パターン57と、外層回路の(表面)導体パターン
61とは、スルーホールで接続されている。搭載される
電子部品は、図示のようなフラットパッケージに限られ
ず、リードレスチップ部品、リード部品などでもよい。
さらに、BGA型パッケージを搭載してもよい。この場
合は、直接プリント配線板上にリフローで表面実装する
代わりに、ハンダバンプを融着させるフリップチップ方
式を採用する。
(G) On the surface of the obtained multilayer printed wiring board, a solder resist is screen-printed on a portion other than a portion to be soldered, and the resist is cured by irradiating ultraviolet rays. 63 was screen printed, electronic components such as an IC package 65 were mounted, and soldering was performed by an infrared reflow device to obtain an electronic device. Although not shown, the conductor pattern 57 of the inner layer circuit and the (surface) conductor pattern 61 of the outer layer circuit are connected by through holes. The electronic components to be mounted are not limited to the flat package as shown, but may be leadless chip components, lead components, or the like.
Further, a BGA type package may be mounted. In this case, a flip chip method in which solder bumps are fused is adopted instead of directly mounting the surface on the printed wiring board by reflow.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明では、絶縁樹脂板と、この絶縁樹
脂板上に形成される導体パターンの境界面の表面粗さを
十分平滑にして伝送損失を低減するプリント配線板が実
現する。このようなプリント配線板上に電子部品を搭載
することによって、高周波でも伝送損失を十分に抑制で
きる電子機器が提供される。
According to the present invention, a printed wiring board is realized which reduces the transmission loss by sufficiently smoothing the surface roughness of the interface between the insulating resin plate and the conductor pattern formed on the insulating resin plate. By mounting an electronic component on such a printed wiring board, an electronic device capable of sufficiently suppressing transmission loss even at a high frequency is provided.

【0036】本発明は、搭載する電子部品が高周波で動
作する場合に特に効果的であるが、伝送損失を低減する
効果は、1GHz以下の動作帯域の部品を搭載する場合
にも同様に達成される。
The present invention is particularly effective when the mounted electronic components operate at a high frequency. However, the effect of reducing transmission loss is similarly achieved when mounting components having an operation band of 1 GHz or less. You.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係るプリント配線板を用
いた電子機器の概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of an electronic device using a printed wiring board according to an embodiment of the present invention.

【図2】所定の表面粗さの絶縁樹脂層上に導体パターン
を形成した基板を多層プリント配線基板の内層回路用、
および外層回路用に用いた構成例を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a substrate in which a conductor pattern is formed on an insulating resin layer having a predetermined surface roughness for an inner layer circuit of a multilayer printed wiring board;
FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration example used for an outer layer circuit.

【図3】絶縁樹脂層と配線導体との境界面の表面粗さと
伝送損失の増加率との関係を示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the surface roughness of the interface between the insulating resin layer and the wiring conductor and the rate of increase in transmission loss.

【図4】周波数と表皮深さの関係、および周波数と伝送
損失の増加率の関係を示すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing a relationship between a frequency and a skin depth, and a relationship between a frequency and an increase rate of a transmission loss.

【図5】本発明のプリント配線板の製造工程を示す図で
ある。
FIG. 5 is a diagram showing a manufacturing process of the printed wiring board of the present invention.

【図6】本発明のプリント配線板の製造工程であって、
図5に引き続く工程を示す図である。
FIG. 6 is a process for manufacturing the printed wiring board of the present invention,
FIG. 6 is a diagram illustrating a process following the process in FIG. 5.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12、65 ICパッケージ 21、51 絶縁樹脂板 22、57 導体パターン 25、61 銅箔 12, 65 IC package 21, 51 Insulating resin plate 22, 57 Conductor pattern 25, 61 Copper foil

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山口 正憲 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社総合研究所内 (72)発明者 島田 靖 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社総合研究所内 (72)発明者 平田 善毅 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社総合研究所内 (72)発明者 山本 和徳 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社総合研究所内 Fターム(参考) 5E343 AA16 AA17 AA18 AA19 BB16 BB24 BB38 BB54 BB72 CC67 DD03 DD25 DD43 DD76 GG13 5E346 AA12 AA15 AA35 CC04 CC08 CC09 CC10 CC12 CC13 CC14 CC32 CC40 DD02 DD03 DD17 DD24 DD48 GG22 HH02 HH06 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Masanori Yamaguchi 1500 Oji Ogawa, Shimodate City, Ibaraki Prefecture Inside Hitachi Chemical Co., Ltd. Within the Research Institute (72) Inventor Yoshiki Hirata 1500 Oji Ogawa, Shimodate City, Ibaraki Prefecture Inside the Hitachi Chemical Co., Ltd. F term (reference) 5E343 AA16 AA17 AA18 AA19 BB16 BB24 BB38 BB54 BB72 CC67 DD03 DD25 DD43 DD76 GG13 5E346 AA12 AA15 AA35 CC04 CC08 CC09 CC10 CC12 CC13 CC14 CC32 CC40 DD02 DD03 DD17 DD24 DD48 GG22 HH02H06H

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁樹脂層と、 前記絶縁樹脂層に接する配線導体とを備え、前記絶縁樹
脂層と配線導体との境界面の表面粗さが0.01μm以
上、1.2μm以下であることを特徴とするプリント配
線板。
1. An insulating resin layer, and a wiring conductor in contact with the insulating resin layer, wherein a surface roughness of a boundary surface between the insulating resin layer and the wiring conductor is 0.01 μm or more and 1.2 μm or less. A printed wiring board characterized by the above.
【請求項2】 絶縁樹脂層と、前記絶縁樹脂層に接する
配線導体とを備え、前記絶縁樹脂層と配線導体との境界
面の表面粗さが0.01μm以上、0.4μm以下であ
ることを特徴とするプリント配線板。
2. An insulating resin layer, and a wiring conductor in contact with the insulating resin layer, wherein a surface roughness of a boundary surface between the insulating resin layer and the wiring conductor is 0.01 μm or more and 0.4 μm or less. A printed wiring board characterized by the above.
【請求項3】 表面粗さが0.01μm以上、1.2μ
m以下である絶縁樹脂層と、 前記絶縁樹脂層上に形成された配線導体とを有する内層
回路を含む多層プリント配線板。
3. The surface roughness is not less than 0.01 μm and not more than 1.2 μm.
A multilayer printed wiring board including an inner layer circuit having an insulating resin layer having a thickness of not more than m and a wiring conductor formed on the insulating resin layer.
【請求項4】 表面粗さが0.01μm以上、1.2μ
m以下である絶縁樹脂層と、 前記絶縁樹脂層上に形成された配線導体とを有する外層
回路を含む多層プリント配線板。
4. A surface roughness of not less than 0.01 μm and not more than 1.2 μm.
A multilayer printed wiring board including an outer layer circuit having an insulating resin layer having a thickness of not more than m and a wiring conductor formed on the insulating resin layer.
【請求項5】 絶縁樹脂層と、前記絶縁樹脂層に直接接
する配線導体とを備え、前記絶縁樹脂層と配線導体との
境界面の表面粗さが0.01μm以上、1.2μm以下
であるプリント配線板と、 前記プリント配線板上に搭載される1以上の電子部品と
を含む電子機器。
5. An insulating resin layer, and a wiring conductor directly contacting the insulating resin layer, wherein a surface roughness of a boundary surface between the insulating resin layer and the wiring conductor is 0.01 μm or more and 1.2 μm or less. An electronic device comprising: a printed wiring board; and one or more electronic components mounted on the printed wiring board.
【請求項6】 表面粗さが0.01μm以上、1.2μ
m以下である絶縁樹脂板を成形するステップと、 前記絶縁樹脂板上にドライプロセスにより導体薄膜を形
成するステップと、 前記導体薄膜上に、この導体薄膜と同じ金属材料を用い
て、めっきにより導体膜を形成するステップと、 前記導体膜を加工して配線導体を形成するステップと、
を含む、プリント配線板の製造方法。
6. The surface roughness is not less than 0.01 μm and not more than 1.2 μm.
m, forming a conductive thin film on the insulating resin plate by a dry process, and forming a conductive thin film on the conductive thin film using the same metal material as the conductive thin film. Forming a film; forming the wiring conductor by processing the conductive film;
And a method for manufacturing a printed wiring board.
【請求項7】 絶縁樹脂板を成形するステップと、 前記絶縁樹脂板の表面を処理して、表面粗さが0.01
μm以上、1.2μm以下である絶縁樹脂層を形成する
ステップと、 前記絶縁樹脂層上に、ドライプロセスと、これに引き続
くめっきプロセスにより導体膜を形成するステップと、 前記導体膜を加工して配線導体を形成するステップと、
を含む、プリント配線板の製造方法。
7. A step of forming an insulating resin plate; and treating the surface of the insulating resin plate to have a surface roughness of 0.01.
forming an insulating resin layer of not less than μm and not more than 1.2 μm, forming a conductive film on the insulating resin layer by a dry process and a subsequent plating process, and processing the conductive film. Forming a wiring conductor;
And a method for manufacturing a printed wiring board.
JP2001132489A 2001-04-27 2001-04-27 Printed wiring board and manufacturing method therefor Pending JP2002329959A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001132489A JP2002329959A (en) 2001-04-27 2001-04-27 Printed wiring board and manufacturing method therefor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001132489A JP2002329959A (en) 2001-04-27 2001-04-27 Printed wiring board and manufacturing method therefor

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002329959A true JP2002329959A (en) 2002-11-15

Family

ID=18980495

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001132489A Pending JP2002329959A (en) 2001-04-27 2001-04-27 Printed wiring board and manufacturing method therefor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002329959A (en)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004311627A (en) * 2003-04-04 2004-11-04 Denso Corp Multilayer circuit board and its manufacturing method
JP2005159330A (en) * 2003-11-05 2005-06-16 Hitachi Chem Co Ltd Method of manufacturing multilayer circuit board and multilayer circuit board manufactured by the same, and board with semiconductor chip mounted thereon and semiconductor package using the same
JP2006135271A (en) * 2003-11-27 2006-05-25 Fuji Photo Film Co Ltd Metallic pattern forming method, metallic pattern, and printed circuit board
KR100759004B1 (en) * 2005-06-09 2007-09-17 가부시키가이샤 덴소 Multi-layer substrate having conductive pattern and resin film and method for manufacturing the same
JP2010192864A (en) * 2009-01-21 2010-09-02 Shinko Electric Ind Co Ltd Method of manufacturing multilayer wiring board
JP2010239133A (en) * 2009-03-13 2010-10-21 Ajinomoto Co Inc Metal-clad laminate
JP2011100798A (en) * 2009-11-04 2011-05-19 Panasonic Electric Works Co Ltd Circuit board
US8252364B2 (en) 2003-11-27 2012-08-28 Fujifilm Corporation Metal pattern forming method, metal pattern obtained by the same, printed wiring board, conductive film forming method, and conductive film obtained by the same
JP2020516771A (en) * 2017-04-05 2020-06-11 武漢光谷創元電子有限公司Richview Electronics Co.,Ltd. Microwave dielectric member and manufacturing method thereof
JPWO2019188837A1 (en) * 2018-03-27 2020-12-10 三井金属鉱業株式会社 Manufacturing method of surface-treated copper foil, copper-clad laminate, and printed wiring board
JP2021160856A (en) * 2020-03-31 2021-10-11 Agc株式会社 Fluorine resin film and method for producing the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05283843A (en) * 1992-04-03 1993-10-29 Shirai Denshi Kogyo Kk Method for forming conductive pattern on surface of electric insulation board or on surface of insulation layer board
JPH07336017A (en) * 1994-06-08 1995-12-22 Hitachi Ltd Manufacture of thin-film circuit by periodic reverse electrolyzing method and thin-film circuit board, thin-film multilayer circuit board and electronic circuit device using the same
JPH0964536A (en) * 1995-08-29 1997-03-07 Hitachi Ltd Thin film wiring board and production thereof
JP2000294921A (en) * 1999-04-01 2000-10-20 Victor Co Of Japan Ltd Printed circuit board and manufacture thereof

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05283843A (en) * 1992-04-03 1993-10-29 Shirai Denshi Kogyo Kk Method for forming conductive pattern on surface of electric insulation board or on surface of insulation layer board
JPH07336017A (en) * 1994-06-08 1995-12-22 Hitachi Ltd Manufacture of thin-film circuit by periodic reverse electrolyzing method and thin-film circuit board, thin-film multilayer circuit board and electronic circuit device using the same
JPH0964536A (en) * 1995-08-29 1997-03-07 Hitachi Ltd Thin film wiring board and production thereof
JP2000294921A (en) * 1999-04-01 2000-10-20 Victor Co Of Japan Ltd Printed circuit board and manufacture thereof

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100620129B1 (en) 2003-04-04 2006-09-13 가부시키가이샤 덴소 Multi-layer circuit board
JP2004311627A (en) * 2003-04-04 2004-11-04 Denso Corp Multilayer circuit board and its manufacturing method
US7356917B2 (en) 2003-04-04 2008-04-15 Denso Corporation Method for manufacturing multi-layer printed circuit board
JP2005159330A (en) * 2003-11-05 2005-06-16 Hitachi Chem Co Ltd Method of manufacturing multilayer circuit board and multilayer circuit board manufactured by the same, and board with semiconductor chip mounted thereon and semiconductor package using the same
JP4684632B2 (en) * 2003-11-27 2011-05-18 富士フイルム株式会社 Metal pattern forming method, metal pattern and printed wiring board
JP2006135271A (en) * 2003-11-27 2006-05-25 Fuji Photo Film Co Ltd Metallic pattern forming method, metallic pattern, and printed circuit board
US8252364B2 (en) 2003-11-27 2012-08-28 Fujifilm Corporation Metal pattern forming method, metal pattern obtained by the same, printed wiring board, conductive film forming method, and conductive film obtained by the same
KR100759004B1 (en) * 2005-06-09 2007-09-17 가부시키가이샤 덴소 Multi-layer substrate having conductive pattern and resin film and method for manufacturing the same
JP2010192864A (en) * 2009-01-21 2010-09-02 Shinko Electric Ind Co Ltd Method of manufacturing multilayer wiring board
JP2010239133A (en) * 2009-03-13 2010-10-21 Ajinomoto Co Inc Metal-clad laminate
JP2011100798A (en) * 2009-11-04 2011-05-19 Panasonic Electric Works Co Ltd Circuit board
JP2020516771A (en) * 2017-04-05 2020-06-11 武漢光谷創元電子有限公司Richview Electronics Co.,Ltd. Microwave dielectric member and manufacturing method thereof
JP2022046488A (en) * 2017-04-05 2022-03-23 武漢光谷創元電子有限公司 Microwave dielectric member and method of manufacturing the same
US11552617B2 (en) 2017-04-05 2023-01-10 Richview Electronics Co., Ltd. Microwave dielectric component and manufacturing method thereof
JP7284096B2 (en) 2017-04-05 2023-05-30 武漢光谷創元電子有限公司 Microwave dielectric member and manufacturing method thereof
JPWO2019188837A1 (en) * 2018-03-27 2020-12-10 三井金属鉱業株式会社 Manufacturing method of surface-treated copper foil, copper-clad laminate, and printed wiring board
JP2021160856A (en) * 2020-03-31 2021-10-11 Agc株式会社 Fluorine resin film and method for producing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10993331B2 (en) High-speed interconnects for printed circuit boards
US7599190B2 (en) High-frequency module, and method of producing same
US9257217B2 (en) Inductor element, method for manufacturing inductor element, and wiring board
US6714422B2 (en) High frequency module device and method for its preparation
JP4894067B2 (en) Method for forming conductor pattern
JP2008270532A (en) Substrate with built-in inductor and manufacturing method thereof
JP2002329959A (en) Printed wiring board and manufacturing method therefor
KR20140116679A (en) Inductor and method for manufacturing the same
JP2002344106A (en) Board with built-in circuit components and its manufacturing method
TWI714953B (en) Printed circuit board
KR100872131B1 (en) Manufacturing method for printed circuit board
US8247705B2 (en) Circuit substrate and manufacturing method thereof
US7189598B2 (en) Wiring board, method of manufacturing the same, semiconductor device, and electronic instrument
US11600936B2 (en) Circuit board structure
JP4747569B2 (en) Manufacturing method of substrate with built-in solid electrolytic capacitor
JP5207811B2 (en) Mounting structure and wiring board
JP4459360B2 (en) Circuit board and manufacturing method thereof
JP2003008204A (en) Method of manufacturing double-sided printed wiring board
TW202007239A (en) Printed circuit board
CN111201843B (en) Method for manufacturing printed circuit board and printed circuit board manufactured by the method
KR100567094B1 (en) PCB having the embedded capacitor and manufacturing method thereof
JP2004259731A (en) Method and jig for manufacturing circuit board
JP3748361B2 (en) Wiring board with built-in electrical elements
RU2149526C1 (en) Multilayer printed circuit board
JPH0427188A (en) Flexible circuit board and manufacture thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080314

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100628

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100706

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20101124