JP2002329950A - Method for applying electroplating to printed circuit board - Google Patents

Method for applying electroplating to printed circuit board

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JP2002329950A
JP2002329950A JP2001133106A JP2001133106A JP2002329950A JP 2002329950 A JP2002329950 A JP 2002329950A JP 2001133106 A JP2001133106 A JP 2001133106A JP 2001133106 A JP2001133106 A JP 2001133106A JP 2002329950 A JP2002329950 A JP 2002329950A
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Japan
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conductive
plated
plating
conductive film
circuit
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JP2001133106A
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Japanese (ja)
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Masahiro Tamura
田村雅浩
Toshihiro Saito
斉藤俊裕
Junsuke Tanaka
田中淳介
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Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plating method which can set a power supplying circuit simply and form an electroplating layer of high quality, irrespectively of a design of a circuit pattern and a position of a part to be plated, mainly in a board for mounting a semiconductor chip or a printed circuit for a package. SOLUTION: Through holes to circuit patterns 11, 12 having the parts to be plated are formed, a conductive material is spread on a rear, and a conductive coating film 18 is formed. By using the film 18 as an electrode, a current is made to flow in the circuit patterns having the parts to be plated, which are subjected to electroplatings 21, 22. Although a special restriction does not exist, the plating method is mainly suitable for the board for mounting a semiconductor chip or the printed circuit for a package.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線基
板、特に半導体チップ搭載用の基板として用いられるプ
リント配線基板を製造する際、その回路パターンの所望
の部位に電解メッキを施す方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a printed wiring board, particularly a printed wiring board used as a substrate for mounting a semiconductor chip, by subjecting a desired portion of a circuit pattern to electrolytic plating.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体搭載用基板あるいはパッケージに
用いられるプリント配線基板には、ハンダボールを搭載
したり、ワイヤボンディングを行う回路部分に金メッキ
等の貴金属メッキを施すことが必要である。このときの
メッキ方法には、電解メッキ法と無電解メッキ法とがあ
る。電解メッキ法によるときは銅箔とのピール強度と、
ワイヤないしはハンダとの接着強度が何れも高い高品質
のメッキ層が得られるが、この方法では、被メッキ部に
電流を供給するための導電路を確保する必要がある。
2. Description of the Related Art It is necessary to mount a solder ball on a printed circuit board used for a semiconductor mounting substrate or a package or to apply a noble metal plating such as gold plating to a circuit portion to be wire-bonded. The plating method at this time includes an electrolytic plating method and an electroless plating method. When using the electrolytic plating method, peel strength with copper foil,
Although a high-quality plating layer having a high bonding strength to a wire or solder can be obtained, this method needs to secure a conductive path for supplying current to a portion to be plated.

【0003】回路の一部は、グランドあるいは電源用の回路
パッドなどに接続しており、それらを通じて給電できる
部分もあるが、それらには通じていない孤立した回路部
分にある被メッキ部には、適宜の給電回路を設けて給電
し、所要部分にメッキを施した後、給電回路を撤去して
いる。しかしながら、このような給電回路の敷設はプリ
ント回路の設計に多大の影響を及ぼし、製品の小型化、
高周波応答性を阻害することになる。そのため、給電回
路を敷設できない製品に関しては、多くは無電解メッキ
法が採用されているが、この方法では良質なメッキ層が
得られないと言う問題があった。
[0003] A part of the circuit is connected to a ground or a circuit pad for a power supply, and there are also parts that can be supplied with power through them. An appropriate power supply circuit is provided to supply power, and after plating required portions, the power supply circuit is removed. However, the laying of such a power supply circuit has a great influence on the design of the printed circuit, so that the product can be downsized,
High frequency response will be impaired. Therefore, electroless plating is often used for products for which a power supply circuit cannot be laid, but this method has a problem that a high-quality plating layer cannot be obtained.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を解決するためなされたもので、その目的とするとこ
ろは、回路パターンの設計や被メッキ部の位置の如何に
拘わらず、簡単に給電回路を設定でき、高品質の電解メ
ッキ層を形成し得るメッキ方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a simple method irrespective of the design of a circuit pattern and the position of a portion to be plated. Another object of the present invention is to provide a plating method capable of setting a power supply circuit in the apparatus and forming a high-quality electrolytic plating layer.

【0005】[0005]

【課題を解決する手段】上記課題は、表面の銅箔層にエ
ッチングを施して成るプリント回路基板の回路の要所に
電解メッキを施すに当たって、下記の工程、即ち、(a)
被メッキ部を有する回路パターンから基板裏面に通じる
導電孔を設ける工程と、(b) 裏面の少なくとも導電孔に
通じる回路パターンの開口部を含む面に導電性被膜を形
成し、被メッキ部を有する回路パターンに通じる導電路
を形成する工程と、(c) 回路パターンに被メッキ部を除
いてマスキングを施す工程と、(d) 前記導電性被膜を電
極とし、被メッキ部に電解メッキ施す工程と、(e) 前記
導電性被膜を除去する工程と、によって電解メッキを施
すことにより達成される。
The object of the present invention is to provide a method for performing electrolytic plating on a key portion of a circuit of a printed circuit board formed by etching a surface copper foil layer, as follows:
Providing a conductive hole from the circuit pattern having the portion to be plated to the back surface of the substrate; (b) forming a conductive coating on a surface including at least the opening of the circuit pattern leading to the conductive hole on the back surface, having a portion to be plated; A step of forming a conductive path leading to the circuit pattern, (c) a step of masking the circuit pattern except for a portion to be plated, and (d) a step of electrolytic plating the portion to be plated with the conductive film as an electrode. And (e) removing the conductive film.

【0006】望ましい実施例においては、上記工程中に、導
電性被膜の表面に絶縁被覆を積層する工程と、導電性被
膜を除去した導体表面にプリフラックス処理を施す工程
が加えられる。又、一般的には電解メッキ層は,下地の
ニッケルメッキ層と表層の金メッキ層とにより構成され
る。
[0006] In a preferred embodiment, a step of laminating an insulating coating on the surface of the conductive film and a step of performing a preflux treatment on the conductor surface from which the conductive film has been removed are added during the above steps. In general, the electrolytic plating layer is composed of an underlying nickel plating layer and a surface gold plating layer.

【0007】更に、表裏両面の回路パターンにそれぞれ被メ
ッキ部が存在する場合においては、先ず、その一方の面
の被メッキ部に上記の方法により電解メッキを施し、そ
のとき用いた導電性被膜を少なくとも部分的に除去した
後、他の一方の面の被メッキ部に同様にして電解メッキ
を施し、導電性被膜を完全に除去して目的を達成する。
[0007] Further, in the case where portions to be plated are present in the circuit patterns on both the front and back surfaces, first, the portions to be plated on one surface are subjected to electrolytic plating by the above-described method, and the conductive coating used at that time is applied. After at least partial removal, electroplating is performed on the other portion to be plated in the same manner, and the conductive film is completely removed to achieve the object.

【0008】導電孔としては、回路基板に設けられるスルー
ホールをそのまま利用することが出来る。スルーホール
を有しない回路構成部分には、必要に応じて、裏面に通
じる単純な透孔を設け、これに導電性樹脂を充填する導
電孔として利用することが出来る。
[0008] As the conductive hole, a through hole provided in the circuit board can be used as it is. A circuit component having no through-hole may be provided with a simple through-hole as necessary, which can be used as a conductive hole to be filled with a conductive resin.

【0009】尚、この導電孔は被メッキ部を有する総ての回
路パターンに就いて設ける必要が無い場合がある。即
ち、回路パターンの一部に就いては、その機能などによ
っては、同一面上に存在する他の回路パターンと接続を
取り、被メッキ部に給電できるようにすることもある。
In some cases, the conductive holes need not be provided for all circuit patterns having portions to be plated. That is, depending on its function, a part of the circuit pattern may be connected to another circuit pattern existing on the same surface to supply power to the portion to be plated.

【0010】導電性被膜を形成する物質としては、比抵抗5
×10−2Ω/cm以下の導電性樹脂が推奨される。こ
れらの樹脂は、ワニス状又はペースト状として用いら
れ、ディスペンサ方式又は印刷方式により基板の全面若
しくは一部に塗布される。本発明は如何なるプリント回
路基板にも適用できるが、特に半導体チップ搭載用基板
に適用することが推奨される。
[0010] As the material for forming the conductive film, specific resistance 5
A conductive resin of × 10 −2 Ω / cm or less is recommended. These resins are used in the form of varnish or paste, and are applied to the entire surface or a part of the substrate by a dispenser method or a printing method. Although the present invention can be applied to any printed circuit board, it is particularly recommended to apply the present invention to a semiconductor chip mounting board.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、図面により本発明の実施例
について具体的に説明する。図1は、一面のみに被メッ
キ部を有し、本発明方法によりメッキを施されるプリン
ト配線基板のメッキ前の構成を示す一部拡大断面図、図
2は、図1に示したプリント配線基板にスルーホールとは
別の導電孔を設けた状態を示す一部拡大断面図、図3
は、図2に示したプリント配線基板の裏面に導電性被膜
を形成した状態を示す一部拡大断面図、図4は、図3に示
したプリント配線基板の導電性被膜上に絶縁被覆を施す
と共に、被メッキ部のある面にマスキングを施した状態
を示す一部拡大断面図、図5は、図4に示したプリント配
線基板の被メッキ部にニッケルメッキ及び金メッキを施
した状態を示す一部拡大断面図、図6は、図5に示した状
態から、導電性被覆、絶縁被覆及びマスキング層を除い
て得たメッキの完了状態を示す一部拡大断面図である。
Embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a partially enlarged cross-sectional view showing a configuration before plating of a printed wiring board which has a portion to be plated on only one surface and is plated by the method of the present invention,
2 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state in which a conductive hole different from a through hole is provided in the printed wiring board shown in FIG. 1, FIG.
Is a partially enlarged cross-sectional view showing a state in which a conductive coating is formed on the back surface of the printed wiring board shown in FIG. 2, and FIG. 4 is a drawing in which an insulating coating is applied on the conductive coating of the printed wiring board shown in FIG. FIG. 5 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state in which masking has been performed on a surface to be plated, and FIG. 5 is a view showing a state in which nickel and gold plating have been performed on the plated part of the printed wiring board shown in FIG. FIG. 6 is a partially enlarged cross-sectional view showing a completed plating state obtained by removing the conductive coating, the insulating coating, and the masking layer from the state shown in FIG. 5.

【0012】又、図7は、表裏両面に被メッキ部を有し、本
発明方法によりメッキを施されるプリント配線基板のメ
ッキ前の状態を示す一部拡大断面図、図8は、図7に示し
たプリント配線基板にスルーホールとは別の導電孔を設
けた状態を示す一部拡大断面図、図9は、図8に示したプ
リント配線基板の一方の面に導電性被膜と絶縁被覆とを
施し、他の一方の面にマスキングを施した状態を示す一
部拡大断面図、図10は、図9に示したプリント配線基板
の被メッキ部にメッキを施し、導電性被膜、絶縁被覆及
びマスキングを除いた状態を示す一部拡大断面図、図11
は、図9に示したのとはそれぞれ反対側の面に、導電性
被膜、絶縁被覆及びマスキングを施した状態を示す一部
拡大断面図、図12は、図11に示した未だメッキされてい
ない被メッキ部にニッケルメッキ及び金メッキを施し、
導電性被膜、絶縁被覆及びマスキングを除いて得たメッ
キ完了状態を示す一部拡大断面図である。
FIG. 7 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state before plating of a printed wiring board which has portions to be plated on both front and back sides and is plated by the method of the present invention, and FIG. 9 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state in which conductive holes different from through holes are provided in the printed wiring board shown in FIG. 9, and FIG. 9 is a diagram showing a conductive film and an insulating coating on one surface of the printed wiring board shown in FIG. FIG. 10 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state in which the other surface is masked, and FIG. 10 is a diagram showing a state in which a plated portion of the printed wiring board shown in FIG. FIG. 11 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state where masking is removed.
Is a partially enlarged cross-sectional view showing a state where a conductive coating, an insulating coating, and masking are applied to the surfaces opposite to those shown in FIG. 9, and FIG. 12 is still plated as shown in FIG. Apply nickel plating and gold plating to the parts to be plated,
FIG. 4 is a partially enlarged cross-sectional view showing a plating completed state obtained by removing a conductive film, an insulating coating, and masking.

【0013】而して、図1において、1はプリント配線基板で
あり、図には合成樹脂基板10の表裏に積層した銅箔をエ
ッチングして形成された回路パターン11、12及び13と、
回路パターン11及び13を電気的に結合するスルーホ−ル
14が示されている。而して、図中上面側に設けられた回
路パターン11及び12にはそれぞれ金メッキを施すべき被
メッキ部15、16が定められている。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a printed wiring board, and in the figure, circuit patterns 11, 12 and 13 formed by etching a copper foil laminated on the front and back of a synthetic resin substrate 10;
Through hole for electrically connecting circuit patterns 11 and 13
14 is shown. In the circuit patterns 11 and 12 provided on the upper surface side in the drawing, plated portions 15 and 16 to be plated with gold are defined.

【0014】本発明の目的は、このメッキのため、基板10の
表面に電解メッキ用の特別な回路を形成することなく、
電解メッキを施す方法を提供することにある。
An object of the present invention is to form a special circuit for electrolytic plating on the surface of the substrate 10 for this plating,
An object of the present invention is to provide a method for performing electrolytic plating.

【0015】この目的のため、本発明においては、電解浴中
に浸漬したプリント配線基板の一方の面に存在する被メ
ッキ部に連なる回路パターンへ、基板の他の一方の面か
ら給電して電解メッキし得るようにする。
[0015] For this purpose, in the present invention, a circuit pattern connected to a portion to be plated, which is present on one surface of a printed wiring board immersed in an electrolytic bath, is supplied from another side of the substrate by electrolysis. So that it can be plated.

【0016】このため、上記他の一方の面には、電極として
利用するために導電性被膜が形成され、この導電性被膜
から、上記一方の面に存する被メッキ部に連なる回路パ
ターンへ通じる通電路を形成する。このための給電路と
しては、スルーホールが利用されるが、スルーホールを
有しない回路パターンに対しては、基板に通電孔を設
け、その孔に導電性被覆の形成時に同じ導電性材料を充
填し、給電路を形成する。
[0016] For this reason, a conductive film is formed on the other surface for use as an electrode, and the conductive film leads from this conductive film to a circuit pattern connected to the portion to be plated on the one surface. Form an electrical path. Through-holes are used as power supply paths for this purpose, but for circuit patterns that do not have through-holes, conductive holes are provided on the substrate, and the holes are filled with the same conductive material when forming a conductive coating. Then, a power supply path is formed.

【0017】この導電性被膜には、電解浴中で金が析出しな
いようにするため、予め絶縁被覆を施しておくことが推
奨される。又、電解メッキが施されるプリント回路に
は、被メッキ部を除いてマスキングを施し、常法により
下地となるニッケルメッキ及び表層の金メッキを施こ
す。
It is recommended that this conductive film be previously coated with an insulating coating in order to prevent gold from being deposited in the electrolytic bath. The printed circuit to be subjected to electrolytic plating is subjected to masking except for a portion to be plated, and nickel plating as a base and gold plating of a surface layer are applied by a conventional method.

【0018】図2には、図1に示したプリント配線基板1に、
透孔17を設けた状態が示されている。この透孔17は、基
板10の上記他の一方の面から、スルーホールを有しない
回路パターン12に連なる導電路を形成するためのもので
ある。
In FIG. 2, the printed wiring board 1 shown in FIG.
The state where the through holes 17 are provided is shown. The through hole 17 is for forming a conductive path from the other surface of the substrate 10 to the circuit pattern 12 having no through hole.

【0019】次いで、図3に示されているように、前記他の
一方の面、即ち図中下側の面に導電性被膜18を形成す
る。この導電性被膜18を形成するため、導電性微粒子を
含むワニス、アクリル樹脂又はエポキシ樹脂のペースト
が塗布される。これらの導電性材料は、ディスペンサー
又は印刷により基板面に塗布されるがその際、その一部
は導電孔17内に侵入し、プリント回路要素12に通じる導
電路が形成される。この導電性被膜18は、その比抵抗が
5×10−2Ω/cm以下であることが望ましい。比抵抗がこ
のように低い場合、この被膜の厚みは50μm程度で足り
る。
Next, as shown in FIG. 3, a conductive film 18 is formed on the other surface, that is, the lower surface in the figure. In order to form the conductive film 18, a paste of varnish, acrylic resin or epoxy resin containing conductive fine particles is applied. These conductive materials are applied to the substrate surface by a dispenser or printing, a part of which penetrates into the conductive holes 17 and forms a conductive path to the printed circuit element 12. This conductive film 18 has a specific resistance
It is desirably 5 × 10 −2 Ω / cm or less. When the specific resistance is so low, the thickness of this coating is about 50 μm.

【0020】次いで、図4に示されているように、導電性被
膜18の表面に絶縁性被覆19が積層され、メッキすべき側
には、被メッキ部15及び16を除いてマスキング20が施さ
れる。絶縁性被覆19には、ドライフィルムや光硬化性樹
脂などを用いることが出来る。これらは電解メッキ浴中
で導電性被膜18の表面に金が析出しないようにするもの
である。
Next, as shown in FIG. 4, an insulating coating 19 is laminated on the surface of the conductive coating 18, and a masking 20 is applied to the side to be plated except for the parts 15 and 16 to be plated. Is done. For the insulating coating 19, a dry film, a photocurable resin, or the like can be used. These are to prevent gold from depositing on the surface of the conductive film 18 in the electrolytic plating bath.

【0021】この図4に示された状態で、常用の電解メッキ
浴を用い、導電性被膜18を電極として被メッキ部15及び
16に電解ニッケルメッキ及び金メッキを行う。メッキが
施された状態は図5に示されている。
In the state shown in FIG. 4, a portion to be plated 15 and a conductive film 18 are used as electrodes using a common electrolytic plating bath.
16 is subjected to electrolytic nickel plating and gold plating. The plated state is shown in FIG.

【0022】最後に、絶縁性被覆19、導電性被膜18及びマス
キング20を除去する。これらが除去された状態は図6に
示されている。この様に、本発明によるときは、給電の
ため特別な印刷回路要素を設けることなく、所望の被メ
ッキ部に所望の品質、形状及び厚みを有するニッケルメ
ッキ21及び金メッキ22を施すことができる。但し、マス
キング20の除去は、必須ではなく、これを残したまま製
品とすることもある。
Finally, the insulating coating 19, the conductive coating 18, and the masking 20 are removed. FIG. 6 shows a state where these are removed. As described above, according to the present invention, the nickel plating 21 and the gold plating 22 having a desired quality, shape and thickness can be applied to a desired portion to be plated without providing a special printed circuit element for power supply. However, removal of the masking 20 is not essential, and the product may be left as it is.

【0023】図7には、表裏両面に被メッキ部を有するプリ
ント配線基板が示されている。而して、図7において、1
00はプリント配線基板であり、図には合成樹脂基板110
の表裏に積層した銅箔をエッチングして形成された回路
パターン111、112、114、115と、回路パターン111及び1
13を電気的に結合するスルーホ−ル116が示されてい
る。而して、図中上面側に設けられた回路パターン111
ないし115にはそれぞれ金メッキを施すべき被メッキ部1
17、118、119,120及び121が定められている。
FIG. 7 shows a printed wiring board having portions to be plated on both front and back surfaces. Thus, in FIG.
Reference numeral 00 denotes a printed wiring board.
Circuit patterns 111, 112, 114, 115 formed by etching the copper foil laminated on the front and back, circuit patterns 111 and 1
A through hole 116 for electrically coupling 13 is shown. Thus, the circuit pattern 111 provided on the upper side in the drawing
To 115 each to be plated with gold
17, 118, 119, 120 and 121 are defined.

【0024】先ず、図8に示す如く、導電孔122及び123を穿
孔する。導電孔122はプリント回路要素114に給電する導
通路を形成するためのものであり、導電孔123は、プリ
ント回路要素112及び115を短絡する導通路を形成する
ためのものである。
First, as shown in FIG. 8, conductive holes 122 and 123 are formed. The conductive hole 122 is for forming a conductive path for supplying power to the printed circuit element 114, and the conductive hole 123 is for forming a conductive path for short-circuiting the printed circuit elements 112 and 115.

【0025】先ず、図中上面側の被メッキ部にメッキを施す
ため、図9に示されているように、下面側に導電性被膜1
24を形成し、その表面に絶縁層125を積層すると共に、
上面側の総ての回路要素に、その被メッキ部除きマスキ
ング126を施す。
First, in order to apply plating to the plated portion on the upper surface side in the figure, as shown in FIG.
24 is formed, and an insulating layer 125 is laminated on the surface,
Masking 126 is applied to all the circuit elements on the upper surface except for the portions to be plated.

【0026】図10には、図9に示されたプリント配線基板の
被メッキ部117及び118に、それぞれ電解メッキ127及び1
28を施し、マスキング126、導電性被膜127及び128を除
去した状態が示されている。
FIG. 10 shows that the plated portions 117 and 118 of the printed wiring board shown in FIG.
28, the masking 126 and the conductive coatings 127 and 128 are removed.

【0027】次いで、図中下側の面の被メッキ部に電解メッ
キを施すため、図11に示す如く、上側面に導電性被膜12
9を形成しその表面に絶縁性被覆130を積層すると共に、
下側面の回路要素113,114及び115の表面に被メッキ部11
9、120及び121を除きマスキング131を施し、次いでメッ
キ浴中で、導電性被膜129から給電して、被メッキ部11
9、120及び121にメッキを施す。
Next, in order to apply electrolytic plating to the portion to be plated on the lower surface in the figure, as shown in FIG.
Form 9 and laminate the insulating coating 130 on its surface,
Plated portions 11 are formed on the surfaces of circuit elements 113, 114 and 115 on the lower side.
Masking 131 is applied except for 9, 120 and 121, and then, in a plating bath, power is supplied from the conductive film 129, and
Plating 9, 120 and 121 are applied.

【0028】図12には、メッキが完了して総ての被メッキ部
にメッキ層127、128、132、133及び134が形成され、導
電性被膜129、絶縁性被覆130及びマスキング131が除さ
れた状態が示されている。但し、この段階では、マスキ
ングを残したまま製品とすることもある。このようにメ
ッキした後、公知の後処理、例えばプリフラックス処理
などを行って完成品を得る。
In FIG. 12, plating is completed, and plating layers 127, 128, 132, 133 and 134 are formed on all portions to be plated, and the conductive coating 129, the insulating coating 130 and the masking 131 are removed. Is shown. However, at this stage, the product may be made with the masking left. After plating in this manner, a known post-treatment such as a pre-flux treatment is performed to obtain a finished product.

【0029】本発明の構成は上述の実施例に限定されるもの
でなく、例えばメッキ方法も無電解メッキと組み合わせ
ることも考えられ、メッキに用いる金属としては、金、
ニッケルの他、用途などに応じて、銀、金、白金、パラ
ジウム、またはこれらの合金などを適宜に用いることも
あり、本発明はそれら総ての偏光例を包摂するものであ
る。
The structure of the present invention is not limited to the above-described embodiment. For example, the plating method may be combined with electroless plating.
In addition to nickel, silver, gold, platinum, palladium, an alloy thereof, or the like may be appropriately used depending on the application or the like, and the present invention covers all of the polarization examples.

【発明の効果】【The invention's effect】

【0030】本発明は叙上の如く構成されるから、本発明に
よるときは、プリント回路としてメッキのための引出配
線などを行うことなく、所望の部位に高品質の電解メッ
キを施すことができ、従ってプリント回路をコンパクト
にでき構成できるようになる。この本発明方法は量産化
に好適であり、不良率が極めて低く、そのため低コスト
でメッキ部の信頼性が高められるので高品位の半導体搭
載基板用その他のプリント配線基板を安価に提供し得る
ようになる
Since the present invention is configured as described above, according to the present invention, a high quality electrolytic plating can be applied to a desired portion without performing a lead wiring for plating as a printed circuit. Therefore, the printed circuit can be made compact and can be constructed. The method of the present invention is suitable for mass production, and has a very low reject rate, thereby increasing the reliability of the plated portion at low cost, so that it can provide inexpensively high-quality semiconductor mounting boards and other printed wiring boards. become

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】一面のみに被メッキ部を有し、本発明方法によ
りメッキを施されるプリント配線基板のメッキ前の構成
を示す一部拡大断面図である。
FIG. 1 is a partially enlarged cross-sectional view showing a configuration before plating of a printed wiring board having a portion to be plated on only one surface and plated by a method of the present invention.

【図2】図1に示したプリント配線基板にスルーホールと
は別の導電孔を設けた状態を示す一部拡大断面図であ
る。
FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state where conductive holes different from through holes are provided in the printed wiring board shown in FIG. 1;

【図3】図2に示したプリント配線基板の裏面に導電性被
膜を形成した状態を示す一部拡大断面図である。
FIG. 3 is a partially enlarged cross-sectional view illustrating a state where a conductive film is formed on the back surface of the printed wiring board illustrated in FIG. 2;

【図4】図3に示したプリント配線基板の導電性被膜上に
絶縁被覆を施すと共に、被メッキ部のある面にマスキン
グを施した状態を示す一部拡大断面図である。
FIG. 4 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state in which an insulating coating is applied on the conductive coating of the printed wiring board shown in FIG. 3 and a surface having a portion to be plated is masked.

【図5】図4に示したプリント配線基板の被メッキ部にニ
ッケルメッキ及び金メッキを施した状態を示す一部拡大
断面図である。
5 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state where a portion to be plated of the printed wiring board shown in FIG. 4 is plated with nickel and gold.

【図6】図5に示した状態から、導電性被覆、絶縁被覆及
びマスキング層を除いて得たメッキの完了状態を示す一
部拡大断面図である。
6 is a partially enlarged cross-sectional view showing a completed state of plating obtained by removing a conductive coating, an insulating coating, and a masking layer from the state shown in FIG. 5;

【図7】表裏両面に被メッキ部を有し、本発明方法によ
りメッキを施されるプリント配線基板のメッキ前の状態
を示す一部拡大断面図である。
FIG. 7 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state before plating of a printed wiring board which has portions to be plated on both front and back sides and is plated by the method of the present invention.

【図8】図7に示したプリント配線基板にスルーホールと
は別の導電孔を設けた状態を示す一部拡大断面図であ
る。
8 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state where conductive holes different from through holes are provided in the printed wiring board shown in FIG. 7;

【図9】図8に示したプリント配線基板の一方の面に導電
性被膜と絶縁被覆とを施し、他の一方の面にマスキング
を施した状態を示す一部拡大断面図である。
9 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state in which a conductive film and an insulating coating are provided on one surface of the printed wiring board shown in FIG. 8 and the other surface is masked.

【図10】図9に示したプリント配線基板の被メッキ部に
メッキを施し、導電性被膜、絶縁被覆及びマスキングを
除いた状態を示す一部拡大断面図である。
10 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state where a portion to be plated of the printed wiring board shown in FIG. 9 is plated and a conductive film, an insulating coating, and masking are removed.

【図11】図9に示したのとはそれぞれ反対側の面に、導
電性被膜、絶縁被覆及びマスキングを施した状態を示す
一部拡大断面図である。
FIG. 11 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state where a conductive film, an insulating coating, and masking have been applied to surfaces opposite to those shown in FIG. 9;

【図12】図11に示した未だメッキされていない被メッキ
部にニッケルメッキ及び金メッキを施し、導電性被膜、
絶縁被覆及びマスキングを除いて得たメッキ完了状態を
示す一部拡大断面図である。
FIG. 12 is a view showing an unplated portion shown in FIG. 11 which is subjected to nickel plating and gold plating to form a conductive film,
FIG. 4 is a partially enlarged cross-sectional view showing a completed plating state obtained by removing an insulating coating and masking.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、 100 プリント配線基板 10、110 合成樹脂基板 11、12、13、111、112、113、114、115 回路パターン 14、116 スルーホ−ル 15、16、117、118、119、120、121 被メッキ部 17、122,123 導電孔 18、124、129 導電性被膜 19、125、130 絶縁性被覆 20、126、131 マスキング 21 ニッケルメッキ層 22 金メッキ層 127、128 電解メッキ層 1, 100 Printed wiring board 10, 110 Synthetic resin board 11, 12, 13, 111, 112, 113, 114, 115 Circuit pattern 14, 116 Through hole 15, 16, 117, 118, 119, 120, 121 Plated Part 17, 122, 123 Conductive hole 18, 124, 129 Conductive coating 19, 125, 130 Insulating coating 20, 126, 131 Masking 21 Nickel plating layer 22 Gold plating layer 127, 128 Electrolytic plating layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/40 H05K 3/40 K Fターム(参考) 4K024 AA03 AA11 AB02 AB08 BA11 BB11 DA10 5E317 AA24 BB22 CD25 CD27 GG16 5E319 AA01 AC17 CC22 CD21 GG03 GG15 5E343 AA02 BB16 BB24 BB71 BB72 DD02 DD43 DD75 ER21 ER25 FF12 FF18 GG11 GG18 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05K 3/40 H05K 3/40 K F term (Reference) 4K024 AA03 AA11 AB02 AB08 BA11 BB11 DA10 5E317 AA24 BB22 CD25 CD27 GG16 5E319 AA01 AC17 CC22 CD21 GG03 GG15 5E343 AA02 BB16 BB24 BB71 BB72 DD02 DD43 DD75 ER21 ER25 FF12 FF18 GG11 GG18

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記の工程を含むことを特徴とする、表面
の銅箔層にエッチングを施して成るプリント回路基板の
回路の要所に電解メッキを施す方法。 (a) 被メッキ部を有する回路パターンから基板裏面に通
じる導電孔を設ける工程。 (b) 裏面の少なくとも導電孔に通ずる回路パターンの開
口部を含む面に導電性被膜を形成し、被メッキ部を有す
る回路パターンに通じる導電路を形成する工程。 (c) 回路パターンに被メッキ部を除いてマスキングを施
す工程。 (d) 前記導電性被膜を電極とし、被メッキ部に電解メッ
キ施す工程。 (e) 前記導電性被膜を除去する工程。
1. A method for electrolytically plating a key portion of a circuit of a printed circuit board, comprising etching a surface copper foil layer, comprising the following steps. (a) A step of providing a conductive hole from a circuit pattern having a portion to be plated to a back surface of the substrate. (b) forming a conductive coating on at least the surface of the back surface including the opening of the circuit pattern communicating with the conductive hole, and forming a conductive path communicating with the circuit pattern having the portion to be plated; (c) A step of masking the circuit pattern except for a portion to be plated. (d) a step of subjecting the portion to be plated to electrolytic plating using the conductive film as an electrode. (e) removing the conductive film.
【請求項2】導電性被膜の表面に絶縁被覆を積層する工
程を含む請求項1に記載のプリント回路基板の回路の要
所に電解メッキを施す方法。
2. The method according to claim 1, further comprising the step of laminating an insulating coating on the surface of the conductive coating.
【請求項3】導電性被膜を除去した導体表面にプリフラ
ックス処理を施す工程を含む1又は2に記載のプリント回
路基板の回路の要所に電解メッキを施す方法。
3. The method according to claim 1, further comprising the step of performing a pre-flux treatment on the conductor surface from which the conductive film has been removed.
【請求項4】電解メッキ層が,下地のニッケルメッキ層
と表層の金メッキ層とから成る請求項1ないし3の何れ
か一に記載のプリント回路基板の回路の要所に電解メッ
キを施す方法。
4. The method according to claim 1, wherein the electrolytic plating layer comprises a base nickel plating layer and a surface gold plating layer.
【請求項5】表裏両面の回路パターンにそれぞれ被メッ
キ部を有するプリント回路基板の被メッキ部に電解メッ
キを施す方法において、その一方の面の被メッキ部に請
求項1ないし4の何れか一に記載の方法により電解メッ
キを施し、そのとき用いた導電性被膜を少なくとも部分
的に除去した後、他の一方の面の被メッキ部に請求項1
ないし4の何れか一に記載の方法により電解メッキを施
した後、導電性被膜を完全に除去することを特徴とする
上記の電解メッキを施す方法。
5. A method for electroplating a plated portion of a printed circuit board having a plated portion on each of the circuit patterns on both front and back surfaces, wherein the plated portion on one surface is electroplated. Electroplating by the method described in the above, after removing at least partially the conductive film used at that time, the plating portion on the other one side of claim 1
5. The method for performing electrolytic plating according to any one of the above-described items 4, wherein the conductive coating is completely removed after the electrolytic plating is performed.
【請求項6】導電孔がスルーホールである、請求項1な
いし5の何れか一に記載のプリント回路基板の回路の要
所に電解メッキを施す方法。
6. The method according to claim 1, wherein the conductive holes are through holes.
【請求項7】導電孔が単純な透孔である請求項1ないし
5の何れか一に記載のプリント回路基板の回路の要所に
電解メッキを施す方法。
7. The method according to claim 1, wherein the conductive holes are simple through holes.
【請求項8】導電性被膜が、比抵抗5×10−2Ω/c
m以下の導電性樹脂から成る、請求項1ないし7の何れか
一に記載のプリント回路基板の回路の要所に電解メッキ
を施す方法。
8. The conductive film has a specific resistance of 5 × 10 −2 Ω / c.
8. The method according to claim 1, wherein the conductive resin is not more than m.
【請求項9】導電性被膜が、導電性樹脂ペーストをディ
スペンサ方式により塗布し、固化することにより形成さ
れる請求項8に記載のプリント回路基板の回路の要所に
電解メッキを施す方法。
9. The method according to claim 8, wherein the conductive film is formed by applying and solidifying a conductive resin paste by a dispenser method.
【請求項10】導電性被膜が、導電性樹脂ペーストを印刷
方式により塗布し、固化することにより形成される請求
項8に記載のプリント回路基板の回路の要所に電解メッ
キを施す方法。
10. The method according to claim 8, wherein the conductive film is formed by applying a conductive resin paste by a printing method and solidifying the conductive resin paste.
【請求項11】プリント回路基板が、半導体チップ搭載用
基板である、請求項1ないし10の何れか一に記載のプリ
ント回路基板の回路の要所に電解メッキを施す方法。
11. The method according to claim 1, wherein the printed circuit board is a substrate for mounting a semiconductor chip.
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JP2005191131A (en) * 2003-12-24 2005-07-14 Ngk Spark Plug Co Ltd Method of manufacturing wiring board
KR100942820B1 (en) 2007-11-19 2010-02-18 주식회사 심텍 Manufacturing method of printed circuit board using electrolytic plating lead

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