JP2002323846A

JP2002323846A - ホログラムシートの製造方法

Info

Publication number: JP2002323846A
Application number: JP2001127768A
Authority: JP
Inventors: Tsutomu Sakai; 努酒井
Original assignee: Toppan Forms Co Ltd
Current assignee: Toppan Edge Inc
Priority date: 2001-04-25
Filing date: 2001-04-25
Publication date: 2002-11-08
Anticipated expiration: 2021-04-25
Also published as: JP4582747B2

Abstract

(57)【要約】【課題】構成が簡単で安価な上、製品全体が強い輝度
と強い虹彩を有しており偽造防止効果が高いホログラム
シートの製法の提供。【解決手段】下記の（１）〜（５）工程により製造す
る。（１）基材面に多数のホログラム微細片を含有した
放射線硬化型ホログラムインク層を設ける工程。（２）
前記インク層に放射線を照射して不完全硬化させる工
程。（３）不完全硬化させたインク層に平滑性を有しか
つ放射線透過性を有する押圧用基材を対接させて、押圧
する工程。（４）前記押圧用基材側から放射線を照射し
て前記インク層を完全硬化させる工程。（５）完全硬化
させたインク層から前記押圧用基材を剥離する工程。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はホログラムシートの
製造方法に関するものであり、さらに詳しくは、領収
書、有価証券などのフォーム、ＩＣカード、磁気カー
ド、リライトカードなどにおいて、意匠性に優れるとと
もに、特に偽造防止性の高いホログラムシートの製造方
法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、意匠性もあり、特に偽造を困難と
する目的で、フォームやカード類の基材面に、ホログラ
ムラベルや光輝ラベルなどを貼付したり、チタンコーテ
イングマイカなどの高輝度顔料を含有したインク（パー
ルインクなど）を基材面の特定部分に印刷したりしたも
のなどがある。

【０００３】これらは容易に偽造されず、特別な真贋判
定装置を必要としない点で優れているが、反面、ホログ
ラムラベルは製造方法が複雑で、高価であり、光輝ラベ
ルも高価であり、したがって製造コストがアップする問
題があった。高輝度顔料を含有したインクを用いたもの
はパール様の光沢を与えるが、輝度が低く、虹彩（角度
を変えて見たときの色の変化）が弱いという欠点があ
る。

【０００４】一方、特殊な蛍光インクでマークなどを印
刷する方法があり、この方法によれば製造コストのアッ
プや製造工程の煩雑さを伴わず、通常状態ではマークが
隠蔽されるために、使用者に意識させないという点で優
れているが、この種の特殊な蛍光インクは色調が淡く、
判別し難い場合が起こる可能性があり、加えて、真贋判
定にブラックライト照射装置が必要である。

【０００５】これらの真贋判定の技術は、技術的に確立
されてから年月日が経過し、一般に認知され、公知化さ
れるようになると逆に偽造され易くなる可能性が高くな
るという問題がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
の欠点や問題を解決し、強い輝度と強い虹彩を有するシ
ートであって、意匠性に優れるとともに、特に偽造防止
性が高く、特別な真贋判定装置を必要とせず、安価な領
収書、有価証券などのフォーム、ＩＣカード、磁気カー
ド、リライトカードなどのカード類に好適に適用できる
新規なシートの製造方法を提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者等は前記課題を
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、ホログラムフィルム
を利用し、このホログラムフィルムの微細片を多数含有
した放射線硬化型ホログラムインクを用いて基材面に塗
工するなどしてインク層を設けた後、このインク層に放
射線を照射して不完全硬化させ、不完全硬化させたイン
ク層の上に平滑な押圧用基材を対接させて押圧して、ホ
ログラムフィルムの微細片が前記基材面に対してほぼ平
行になるように配向させ、次いで前記インク層に放射線
を照射して完全硬化させ、前記押圧用基材を剥離すれば
全体的に強い輝度と強い虹彩を有する新規なホログラム
シートを得ることができることを見出し、本発明を完成
するに至った。

【０００８】すなわち、本発明の請求項１は、下記の
（１）〜（５）工程により製造することを特徴とするホ
ログラムシートの製造方法である。（１）基材面に多数のホログラム微細片を含有した放射
線硬化型ホログラムインク層を設ける工程。（２）前記インク層に放射線を照射して不完全硬化させ
る工程。（３）不完全硬化させたインク層に平滑性を有しかつ放
射線透過性を有する押圧用基材を対接させて、押圧する
工程。（４）前記押圧用基材側から放射線を照射して前記イン
ク層を完全硬化させる工程。（５）完全硬化させたインク層から前記押圧用基材を剥
離する工程。

【０００９】本発明の請求項２は、請求項１記載のホロ
グラムシートの製造方法において、前記押圧用基材が剥
離性を有することを特徴とする。

【００１０】本発明の請求項３は、請求項１あるいは請
求項２記載のホログラムシートの製造方法において、前
記インクが紫外線硬化型インクであることを特徴とす
る。

【００１１】本発明の請求項４は、請求項１から請求項
３のいずれかに記載のホログラムシートの製造方法にお
いて、前記押圧用基材として平滑度が１００秒以上の押
圧用基材を用いることを特徴とする。

【００１２】本発明においては、ホログラムフィルムを
利用し、このホログラムフィルムを微細片としたものを
含有した放射線硬化型ホログラムインクを用いて、基材
面に塗工するなどしてインク層を設けた後、先ずこのイ
ンク層に放射線を照射して不完全硬化させる。インク層
を不完全硬化させれば、ベタ付いたりせず取り扱い易い
上、図柄などがずれたりせず、そして次の工程で、不完
全硬化させたインク層の上に平滑な押圧用基材を対接さ
せて押圧すると、不完全硬化させたインク層中のホログ
ラムフィルムの微細片を前記基材面に対してほぼ平行に
配向させることができる。次の工程で前記インク層に再
度放射線を照射して、インク層中にホログラムフィルム
の微細片が前記基材面に対してほぼ平行に配向した状態
を維持したまま前記インク層を完全硬化することができ
る。そして、完全硬化させた後、前記押圧用基材を剥離
すれば全体として強い輝度と強い虹彩を有し、意匠性に
優れるとともに、特に偽造防止性の高い従来にない新規
なホログラムシートを得ることができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】図１（１Ａ）、（１Ｂ）〜（５
Ａ）、（５Ｂ）は本発明のホログラムシートの製造方法
の工程を説明する説明図である。（１）工程で、先ず、基材２の表面１に多数のホログラ
ム微細片３を含有した放射線硬化型ホログラムインクを
塗工して放射線硬化型ホログラムインク層４を設ける。
（１Ａ）は放射線硬化型ホログラムインク層４を設けた
基材２の断面説明図であり、（１Ｂ）は（１Ａ）に示し
た放射線硬化型ホログラムインク層４を設けた基材２を
平面からみた平面説明図ある。

【００１４】本発明において、微細片３はその表面が基
材２の表面１側に向いていても、基材２の表面１側と反
対側に向いていてもあるいはこれらが任意の割合で混じ
り合っていてもいずれでも差し支えない。

【００１５】塗工方法や塗工量などは特に限定されな
い。具体的には、例えば、凸版印刷、グラビア印刷法な
どの凹版印刷、オフセット方式などの平板印刷、スクリ
ーン印刷およびインクジェット方式その他の通常用いら
れる印刷方法を用いて印刷できる。中でも、シルクスク
リーン方式やメタルマスク方式の印刷方法が好ましく使
用でき、連続生産の場合はロータリースクリーン方式
（シルクスクリーン）、バッチ式の場合は枚葉スクリー
ン方式（シルクスクリーンやメタルマスク）が好ましく
使用できる。

【００１６】本発明で用いる基材としては、特に限定さ
れるものではなく、具体的には、例えば上質紙、アート
紙、コート紙、ミラーコート紙、コンデンサー紙、パラ
フィン紙、その他の紙の他に、それにオーバーコート層
（保護層）をもつ用紙やフィルム、シートなどの他に、
合成紙、あるいはポリエチレン、透明性を有するポリエ
チレンテレフタレート、ポリプロピレン、塩化ビニルな
どの合成フィルムやシートなどを例示できる。

【００１７】本発明で用いる基材の表面の平滑さは粗く
ても、多少粗くても、あるいは押圧用基材のように平滑
でもよく、いずれの場合でも微細片３が基材２の面１に
対してほぼ平行になるように配向するので、特に限定さ
れるものではない。

【００１８】（２）工程で、前記インク層４に矢印で示
したように公知の方法や装置を用いて放射線を照射して
前記インク層４を不完全硬化させる。この際、重要なこ
とは前記インク層４を不完全硬化させることである。放
射線の照射量が多すぎると硬化が進み過ぎて、次の
（３）工程で押圧した際にホログラム微細片３が動か
ず、基材２の面１に対して平行に配向しない。一方、前
記インク層４に放射線を照射しなかったり、あるいは放
射線の照射量が少な過ぎたりすると、ベタ付いたり、塗
工して設けたインク層４が動いて図柄などが損なわれる
恐れがあるので好ましくない。適切な放射線の照射量の
放射線を照射することが重要であるが、適切な放射線の
照射量は、放射線硬化型ホログラムインクの硬化性能、
放射線硬化成分の配合量、塗工量などによって決まるの
で、限定できない。

【００１９】（３）工程で、適度に不完全硬化させたイ
ンク層４に平滑性を有しかつ放射線透過性を有する押圧
用基材５を対接させて、白矢印で示したように押圧す
る。（２）工程で、前記インク層４を適度に不完全硬化
させてあると、（３）工程で押圧した際に基材２の面１
に対してほぼ平行に配向していないホログラム微細片３
が動いて、基材２の面１に対してほぼ平行に配向する。
押圧の方式はなんでも差し支えなく使用でき特に限定さ
れず、また押圧力は基材、押圧用基材の種類、放射線硬
化型ホログラムインクの種類、放射線照射量など、これ
らの組み合わせによって異なるので、適宜選定して決定
する必要があるため、特に限定されるものではない。

【００２０】本発明において大部分の微細片３が基材２
の面１に対してほぼ平行になるということは、含有した
全微細片３の約５０％以上、好ましくは約６０％以上、
特に好ましくは７０％以上の微細片３が基材２の面１に
対してほぼ平行になるということを意味する。

【００２１】本発明で用いる押圧用基材５としては、平
滑性を有しかつ放射線透過性を有するものであればよ
く、特に限定されるものではない。放射線透過特性はＵ
Ｖランプなどの放射線源の出力特性とも関係し、押圧用
基材５の放射線透過性が多少悪くても放射線照射量（出
力、時間）を増やせば本発明で使用できる押圧用基材５
となる。押圧用基材５の具体例としては、例えば、紙、
合成紙などの他に、ポリエチレン、透明性を有するポリ
エチレンテレフタレート、ポリプロピレン、塩化ビニル
などの合成フィルムやシートなどや、これらに公知の剥
離剤を塗工したものなどを例示できる。

【００２２】本発明で用いる押圧用基材５の平滑性の程
度も特に限定されないが、平滑度（ＪＩＳＰ８１１９
「紙及び紙板のベック試験器による平滑度試験方法によ
る測定値）が１００秒以上であることが好ましく、３０
０秒以上がより好ましく、さらに５００秒以上が特に好
ましい。１００秒未満であると、上記（３）工程で押圧
した時、ホログラムフィルムの微細片３が基材２の面１
に対して平行に配向しなくなる恐れがある。ホログラム
フィルムの微細片３が基材２の面１に対してほぼ平行に
配向しないと、ホログラムフィルムの微細片３が個々に
は輝くが、ホログラムシート製品全体として強い輝度と
強い虹彩を発揮しないので好ましくない。

【００２３】（４）工程で、前記押圧用基材５側から矢
印で示したように公知の方法、装置を使用して放射線を
照射して前記インク層４を完全硬化させる。この時の放
射線の照射量は前記インク層４を完全硬化できる量であ
ればよく、特に限定されるものではない。前記のように
押圧をしたままの状態で前記押圧用基材５側から放射線
を照射することがホログラムフィルムの微細片３を基材
２の面１に対して平行に配向した状態を維持したまま完
全硬化できるので好ましい。

【００２４】（５）工程で、完全硬化させたインク層４
から前記押圧用基材５を剥離してホログラムシート６を
得る。なお、（５Ａ）はホログラムシート６の断面説明
図であり、（５Ｂ）は（５Ａ）に示したホログラムシー
ト６を平面からみた平面説明図ある。（５Ａ）、（５
Ｂ）に示したようにホログラムシート６のホログラムフ
ィルムの微細片３は基材２の面１に対してほぼ平行に配
向している。

【００２５】本発明で用いるホログラムフィルムは、物
体からの光の波面に相当する干渉縞がホログラム像とし
て形成されているものであれば、特に限定するものでは
なく例えば、厚さ約１０〜２０μｍ程度の可視光に対し
て透明なポリエチレンテレフタレートフィルムにレーザ
ー光線などにより可視光スペクトルと同じ溝を形成し、
さらに反射率を高めるためにその表面にアルミ蒸着を施
したものである。

【００２６】また本発明においては、市販のホログラム
ホイルやホログラムフィルムを使用することができる。
例えばポリエステルフィルム等の支持フィルムの表面に
アクリルラッカー等の熱可塑性樹脂層を形成し、その表
面に２５００Å程度の凹凸を有するホログラム面を形成
させ、さらに種々の金属を蒸着させたものが一般的であ
る。また、支持フィルムの一部若しくは全面に、紫外線
（或いは電子線）硬化性樹脂液を塗布し、市販ホログラ
ムフィルムを圧着して紫外線（或いは電子線）を照射し
て硬化させ、市販ホログラムフィルムを剥離させて紫外
線（或いは電子線）硬化性樹脂層の表面にホログラム凹
凸を形成させる方法（特開平５−２３２８５３号公報）
により作製されるものや、或いはそれに金属蒸着層を形
成したものを使用しても良い。また、上述の種々のホロ
グラムフィルム表面に保護フィルムをラミネートしたも
のを使用しても良い。

【００２７】本発明においては、このホログラムフィル
ムを微細片としたものを用いる。このような微細片も市
販されている［例えば、巴工業社製、ジオメトリックピ
グメント、シルバー２５６（縦１００μｍ×横１００μ
ｍ×厚さ１２μｍ）、ジオメトリックピグメント、シル
バー５００（縦５０μｍ×横５０μｍ×厚さ１２μ
ｍ）］。

【００２８】本発明では、多数のホログラムフィルム微
細片３を含有した放射線硬化型インクを用いるが、その
ビヒクルは特に限定されるものではなく、放射線硬化成
分を含む公知の放射線硬化型インク用ビヒクルを用いる
ことができる。

【００２９】本発明で用いる放射線硬化成分は紫外線、
電子線、Ｘ線、ｉ線、ｇ線などの放射線により硬化しう
る成分であれば特に限定されないが、これらの中でも紫
外線硬化型および／または電子線硬化型は好ましく使用
でき、紫外線硬化型はさらに好ましく使用できる。

【００３０】本発明で用いる放射線硬化成分としては、
公知の光重合性モノマーおよび／または光重合性オリゴ
マーから任意に選んで用いることができる。このような
光重合性モノマーとしては、例えばアクリル酸やメタク
リル酸などの不飽和カルボン酸又はそのエステル、例え
ばアルキル−、シクロアルキル−、ハロゲン化アルキル
−、アルコキシアルキル−、ヒドロキシアルキル−、ア
ミノアルキル−、テトラヒドロフルフリル−、アリル
−、グリシジル−、ベンジル−、フェノキシ−アクリレ
ート及びメタクリレート、アルキレングリコール、ポリ
オキシアルキレングリコールのモノ又はジアクリレート
及びメタクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート及びメタクリレート、ペンタエリトリットテト
ラアクリレート及びメタクリレートなど、アクリルアミ
ド、メタクリルアミド又はその誘導体、例えばアルキル
基やヒドロキシアルキル基でモノ置換又はジ置換された
アクリルアミド及びメタクリルアミド、ジアセトンアク
リルアミド及びメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ′−アルキレ
ンビスアクリルアミド及びメタクリルアミドなど、アリ
ル化合物、例えばアリルアルコール、アリルイソシアネ
ート、ジアリルフタレート、トリアリルイソシアヌレー
トなど、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸又はそ
のエステル、例えばアルキル、ハロゲン化アルキル、ア
ルコキシアルキルのモノ又はジマレエート及びフマレー
トなど、その他の不飽和化合物、例えばスチレン、ビニ
ルトルエン、ジビニルベンゼン、Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、Ｎ−ビニルピロリドンなどが用いられる。

【００３１】また、硬化収縮が支障となる用途の場合に
は、例えばイソボルニルアクリレート又はメタクリレー
ト、ノルボルニルアクリレート又はメタクリレート、ジ
シクロペンテノキシエチルアクリレート又はメタクリレ
ート、ジシクロペンテノキシプロピルアクリレート又は
メタクリレートなど、ジエチレングリコールジシクロペ
ンテニルモノエーテルのアクリル酸エステル又はメタク
リル酸エステル、ポリオキシエチレン若しくはポリプロ
ピレングリコールジシクロペンテニルモノエーテルのア
クリル酸エステル又はメタクリル酸エステルなど、ジシ
クロペンテニルシンナメート、ジシクロペンテノキシエ
チルシンナメート、ジシクロペンテノキシエチルモノフ
マレート又はジフマレートなど、３，９−ビス（１，１
−ビスメチル−２−オキシエチル）−スピロ［５，５］
ウンデカン、３，９−ビス（１，１−ビスメチル−２−
オキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピ
ロ［５，５］ウンデカン、３，９−ビス（２−オキシエ
チル）−スピロ［５，５］ウンデカン、３，９−ビス
（２−オキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキ
サスピロ［５，５］ウンデカンなどのモノ−、ジアクリ
レート又はモノ−、ジメタアクリレート、あるいはこれ
らのスピログリコールのエチレンオキシド又はプロピレ
ンオキシド付加重合体のモノ−、ジアクリレート、又は
モノ−、ジメタアクリレート、あるいは前記モノアクリ
レート又はメタクリレートのメチルエーテル、１−アザ
ビシクロ［２，２，２］−３−オクテニルアクリレート
又はメタクリレート、ビシクロ［２，２，１］−５−ヘ
プテン−２，３−ジカルボキシルモノアリルエステルな
ど、ジシクロペンタジエニルアクリレート又はメタクリ
レート、ジシクロペンタジエニルオキシエチルアクリレ
ート又はメタクリレート、ジヒドロジシクロペンタジエ
ニルアクリレート又はメタクリレートなどの光重合性モ
ノマーを用いることができる。これらの光重合性モノマ
ーは単独で用いてもよいし２種以上組み合わせて用いて
もよい。

【００３２】光重合性オリゴマーとしては、エポキシ樹
脂のアクリル酸エステル例えばビスフェノールＡのジグ
リシジルエーテルジアクリレート、エポキシ樹脂とアク
リル酸とメチルテトラヒドロフタル酸無水物との反応生
成物、エポキシ樹脂と２−ヒドロキシエチルアクリレー
トとの反応生成物、エポキシ樹脂のジグリシジルエーテ
ルとジアリルアミンとの反応生成物などのエポキシ樹脂
系プレポリマーや、グリシジルジアクリレートと無水フ
タル酸との開環共重合エステル、メタクリル酸二量体と
ポリオールとのエステル、アクリル酸と無水フタル酸と
プロピレンオキシドから得られるポリエステル、ポリエ
チレングリコールと無水マレイン酸とグリシジルメタク
リレートとの反応生成物などのような不飽和ポリエステ
ル系プレポリマーや、ポリビニルアルコールとＮ−メチ
ロールアクリルアミドとの反応生成物、ポリビニルアル
コールを無水コハク酸でエステル化した後、グリシジル
メタクリレートを付加させたものなどのようなポリビニ
ルアルコール系プレポリマー、ピロメリット酸二無水物
のジアリルエステル化物に、ｐ，ｐ′−ジアミノジフェ
ニルを反応させて得られるプレポリマーのようなポリア
ミド系プレポリマーや、エチレン−無水マレイン酸共重
合体とアリルアミンとの反応生成物、メチルビニルエー
テル−無水マレイン酸共重合体と２−ヒドロキシエチル
アクリレートとの反応生成物又はこれにさらにグリシジ
ルメタクリレートを反応させたものなどのポリアクリル
酸又はマレイン酸共重合体系プレポリマーなど、そのほ
か、ウレタン結合を介してポリオキシアルキレンセグメ
ント又は飽和ポリエステルセグメントあるいはその両方
が連結し、両末端にアクリロイル基又はメタクロイル基
を有するウレタン系プレポリマーなどを挙げることがで
きる。これらの光重合性オリゴマーは、重量平均分子量
凡そ２０００〜３００００の範囲のものが適当である。

【００３３】本発明で用いる光重合開始剤には、熱によ
って分解しラジカルを生成する過酸化物やアゾ化合物な
どの熱分解型ラジカル重合開始剤［例えば、過酸化ベン
ゾイル、アゾビスイソブチロニトリル、キュメンハイド
ロパーオキサイド、ターシャリーブチルハイドロパーオ
キサイド、過硫酸塩（カリ塩、アンモニウム塩）、還元
剤を加えることによりラジカル生成速度を大にするレド
ックス系触媒など］の他に、例えば、ベンゾインやベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾイン−ｎ−プロピルエー
テル、ベンゾイン−イソプロピルエーテル、ベンゾイン
イソブチル−エーテルなどのベンゾインアルキルエーテ
ル類、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン、ベンゾフェノン、ベンジル、ジアセチル、ジフェニ
ルスルフィド、エオシン、チオニン、９，１０−アント
ラキノン、２−エチル−９，１０−アントラキノンなど
が挙げられる。これらの光重合開始剤は、それぞれ単独
で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよ
い。その含有量は、通常放射線硬化成分１００質量部当
り、５〜１５質量部の範囲で選ばれるのが好ましい。

【００３４】本発明で用いるインクには、さらに、所望
に応じて慣用されている添加成分、例えば、反応性希釈
剤、粘度調整剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、ｐＨ調節
剤、消泡剤、各種安定剤、着色剤、滑剤、増感剤などを
含有させることもできる。

【００３５】前記市販のホログラム微細片［例えば、巴
工業社製、ジオメトリックピグメント、シルバー２５６
（縦１００μｍ×横１００μｍ×厚さ１２μｍ）、ジオ
メトリックピグメント、シルバー５００（縦５０μｍ×
横５０μｍ×厚さ１２μｍ）］３０〜１５０質量部程度
を市販の紫外線硬化型インク［例えば、ＳＰＡ−３６
９、粘度２５００ｍＰａ・ｓ、帝国インキ製造社製、Ｓ
ＰＡ−３１４、粘度７０００ｍＰａ・ｓ、帝国インキ製
造社製、ＰＯＴ５０２０９、粘度２５０００ｍＰａ・
ｓ、帝国インキ製造社製］１００質量部に対して配合し
て本発明で使用する紫外線硬化型ホログラムインクを調
製することができる。

【００３６】なお、本発明は上記実施形態に限定される
ものではないので、特許請求の範囲に記載の趣旨から逸
脱しない範囲で各種の変形実施が可能である。

【００３７】

【実施例】以下実施例および比較例により本発明を更に
詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に何ら制約さ
れるものではない。（実施例１）市販の紫外線硬化型ワニス［ＳＰＡ−３６
９（粘度２５００ｍＰａ・ｓ）、ＳＰＡ−３１４（粘度
７０００ｍＰａ・ｓ）あるいはＰＯＴ５０２０９（粘度
２５０００ｍＰａ・ｓ）、帝国インキ製造社製］１００
質量部にホログラムフィルム微細片［巴工業社製、ジオ
メトリックピグメント、シルバー２５６（縦１００μｍ
×横１００μｍ×厚さ１２μｍ）］３０質量部を含有、
混合して本発明で用いるインクを調製した。図１（１
Ａ）に示すようにこのインクを用いて基材（紙）２の表
面１にグラビア印刷により塗工しインク層４を設けた。
図１（２）に示すようにこのインク層４に放射線を照射
して不完全硬化させ、図１（３）に示すように不完全硬
化させたインク層４に平滑性を有しかつ放射線透過性を
有する押圧用基材５（ＰＥＴフィルム）を対接させて、
押圧した。図１（４）に示すように押圧用基材４側から
放射線を照射してインク層４を完全硬化させた後、図１
（５Ａ）、（５Ｂ）に示すように完全硬化させたインク
層４から押圧用基材５を剥離して製品ホログラムシート
６を作った。この製品ホログラムシート６（塗膜厚さ２
０μｍ）について目視で輝度および虹彩（角度を変えて
見たときの色の変化）を評価した。また押圧用基材５の
表面の平滑度（ＪＩＳＰ８１１９「紙及び紙板のベッ
ク試験器による平滑度試験方法による測定値）を評価し
た。下記の評価基準で評価した結果、輝度５、虹彩５、
平滑度５であった。

【００３８】輝度評価基準；５：塗工面全体が強く輝いている。４：塗工面全体が一応輝いている。３：ホログラムフィルム微細片個々はそれぞれ輝いてい
るが、塗工面全体としては輝いていない。１：輝きがない。

【００３９】虹彩評価基準；５：塗工面全体としての強い虹彩が見られる。４：塗工面全体としての一応虹彩が見られる。１：ホログラムフィルム微細片個々はそれぞれ虹彩が見
られるが塗工面全体としての強い虹彩がない。

【００４０】平滑度評価基準；５：１００〜５００秒。３：１００秒未満２：８０秒以下。１：５０秒以下。

【００４１】（実施例２）ホログラムフィルム微細片８
０質量部とし、塗膜厚さ４０μｍとした以外は実施例１
と同様にして製品ホログラムシート６を作り、輝度、虹
彩および転写基材の表面の平滑さを評価した結果、輝度
５、虹彩５、平滑度５であった。

【００４２】（実施例３）ホログラムフィルム微細片１
５０質量部とし、塗膜厚さ８０μｍとした以外は実施例
１と同様にして製品ホログラムシート６を作り、輝度、
虹彩および転写基材の表面の平滑さを評価した結果、輝
度５、虹彩５、平滑度５であった。

【００４３】（実施例４）ホログラムフィルム微細片を
［巴工業社製、ジオメトリックピグメント、シルバー５
００（縦５０μｍ×横５０μｍ×厚さ１２μｍ）］と
し、塗膜厚さ３０μｍとした以外は実施例２と同様にし
て製品ホログラムシート６を作り、輝度、虹彩および転
写基材の表面の平滑さを評価した結果、輝度５、虹彩
５、平滑度５であった。

【００４４】（実施例５）ホログラムフィルム微細片１
５０質量部とし、塗膜厚さ６０μｍとした以外は実施例
４と同様にして製品ホログラムシート６を作り、輝度、
虹彩および転写基材の表面の平滑さを評価した結果、輝
度５、虹彩５、平滑度５であった。

【００４５】（比較例１）基材２上に直接スクリーン印
刷して、塗膜厚さ５０μｍとした以外は実施例１と同様
にして比較の製品ホログラムシート６を作り、輝度、虹
彩および転写基材の表面の平滑さを評価した結果、輝度
３、虹彩１、平滑度３であった。

【００４６】（比較例２）製品基材上に直接スクリーン
印刷して、塗膜厚さ１００μｍとした以外は実施例２と
同様にして比較の製品ホログラムシート６を作り、輝
度、虹彩および転写基材の表面の平滑さを評価した結
果、輝度３、虹彩１、平滑度２であった。

【００４７】（比較例３）製品基材上に直接スクリーン
印刷して、塗膜厚さ１５０μｍとした以外は実施例３と
同様にして比較の製品ホログラムシート６を作り、輝
度、虹彩および転写基材の表面の平滑さを評価した結
果、輝度３、虹彩１、平滑度１であった。

【００４８】

【発明の効果】本発明の請求項１記載のホログラムシー
トの製造方法によれば、ホログラムフィルムを利用し、
このホログラムフィルムを微細片としたものを含有した
放射線硬化型ホログラムインクを用いて、基材面に塗工
するなどしてインク層を設けた後、先ずこのインク層に
放射線を照射して不完全硬化させ、不完全硬化させたイ
ンク層の上に平滑な押圧用基材を対接させて押圧する
と、不完全硬化させたインク層中のホログラムフィルム
の微細片を前記基材面に対してほぼ平行に配向させるこ
とができ、完全硬化させた後、前記押圧用基材を剥離す
ればホログラムシート全体として強い輝度と強い虹彩を
有し、意匠性に優れるとともに、特に偽造防止性の高い
従来にない新規なホログラムシートを容易に製造できる
という顕著な効果を奏する。前記のようにインク層を不
完全硬化させれば、ベタ付いたりせず取り扱い易い上、
図柄などがずれたりせず、次の工程で、不完全硬化させ
たインク層の上に平滑な押圧用基材を対接させて押圧す
ると、不完全硬化させたインク層中の前記基材面に対し
て平行に配向していないホログラムフィルムの微細片が
動いて前記基材面に対してほぼ平行に配向できるという
顕著な効果を奏する。

【００４９】本発明の請求項２記載のホログラムシート
の製法によれば、前記押圧用基材が剥離性を有するの
で、請求項１と同じ効果を奏する上、（５）工程で前記
押圧用基材を容易に剥離して、ホログラムシートを容易
に製造できるという、さらに顕著な効果を奏する。

【００５０】本発明の請求項３記載のホログラムシート
の製法によれば、前記インクが紫外線硬化型インクであ
るので、請求項１記載のホログラムシートの製法と同じ
効果を奏するとともに、安定したインク層を基材面に容
易に形成できるという、さらに顕著な効果を奏する。

【００５１】本発明の請求項４記載のホログラムシート
の製法によれば、平滑度が１００秒以上の押圧用基材を
用いるので、請求項１記載のホログラムシートの製法と
同じ効果を奏するとともに、ホログラムフィルムの微細
片を基材面に対して確実にほぼ平行に配向させることが
できるという、さらに顕著な効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】（１Ａ）は放射線硬化型ホログラムインク層を
設けた基材の断面説明図であり、（１Ｂ）は（１Ａ）に
示した放射線硬化型ホログラムインク層を設けた基材を
平面からみた平面説明図であり、（２）はインク層に放
射線を照射してインク層を不完全硬化させる状況を説明
する説明図であり、（３）は不完全硬化させたインク層
に押圧用基材を対接させて、押圧する状況を説明する説
明図であり、（４）は押圧用基材側から放射線を照射し
てインク層を完全硬化させる状況を説明する説明図であ
り、（５）は完全硬化させたインク層から押圧用基材を
剥離してホログラムシートを得る状況を説明する説明図
であり、（５Ａ）はホログラムシートの断面説明図であ
り、（５Ｂ）は（５Ａ）に示したホログラムシートを平
面からみた平面説明図である。

【符号の説明】

１表面２基材３ホログラム微細片４放射線硬化型ホログラムインク層５押圧用基材６ホログラムシート

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０３Ｈ 1/02 Ｇ０３Ｈ 1/02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記の（１）〜（５）工程により製造す
ることを特徴とするホログラムシートの製造方法。（１）基材面に多数のホログラム微細片を含有した放射
線硬化型ホログラムインク層を設ける工程。（２）前記インク層に放射線を照射して不完全硬化させ
る工程。（３）不完全硬化させたインク層に平滑性を有しかつ放
射線透過性を有する押圧用基材を対接させて、押圧する
工程。（４）前記押圧用基材側から放射線を照射して前記イン
ク層を完全硬化させる工程。（５）完全硬化させたインク層から前記押圧用基材を剥
離する工程。
【請求項２】前記押圧用基材が剥離性を有することを
特徴とする請求項１記載のホログラムシートの製造方
法。
【請求項３】前記インクが紫外線硬化型インクである
ことを特徴とする請求項１あるいは請求項２記載のホロ
グラムシートの製造方法。
【請求項４】前記押圧用基材として平滑度が１００秒
以上の押圧用基材を用いることを特徴とする請求項１か
ら請求項３のいずれかに記載のホログラムシートの製造
方法。