JP2002323767A5

JP2002323767A5 -

Info

Publication number: JP2002323767A5
Application number: JP2001157366A
Authority: JP
Filing date: 2001-05-25
Publication date: 2006-01-19
Anticipated expiration: 2021-05-25

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤、
（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、
（Ｃ）塩基性化合物、及び
（Ｄ）フッ素及び／又はシリコン系界面活性剤
を含有し、且つ（Ａ）酸発生剤が、トリアリールスルフォニウム塩を少なくとも１種及びフェナシルスルフォニウム塩構造を有する化合物を少なくとも１種含有する混合物であることを特徴とするポジ型感光性組成物。
【請求項２】（Ｅ）水酸基を含有する溶剤と水酸基を含有しない溶剤とを混合した混合溶剤を含有する請求項１に記載のポジ型感光性組成物。
【請求項３】（Ｃ）塩基性化合物が、イミダゾール構造、ジアザビシクロ構造、オニウムヒドロキシド構造、オニウムカルボキシレート構造、及びアニリン構造から選ばれる構造を有する化合物を少なくとも１種含有する請求項１又は２に記載のポジ型感光性組成物。
【請求項４】更に（Ｆ）酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有し、分子量３０００以下の溶解阻止低分子化合物を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のポジ型感光性組成物。
【請求項５】請求項１〜４のいずれかに記載のポジ型感光性組成物により膜を形成し、当該膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。 [Claims]
(A) an acid generator that generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation,
(B) a resin having a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure, decomposed by the action of an acid, and having increased solubility in an alkali developer;
(C) a basic compound, and (D) a fluorine and / or silicon-based surfactant, and (A) the acid generator has at least one triarylsulfonium salt and a phenacylsulfonium salt structure. A positive photosensitive composition, which is a mixture containing at least one compound having the same.
2. The positive photosensitive composition according to claim 1, comprising (E) a mixed solvent obtained by mixing a solvent containing a hydroxyl group and a solvent not containing a hydroxyl group.
3. The method according to claim 1, wherein (C) the basic compound contains at least one compound having a structure selected from an imidazole structure, a diazabicyclo structure, an onium hydroxide structure, an onium carboxylate structure, and an aniline structure. 4. The positive photosensitive composition according to item 1.
4. The composition according to claim 1, further comprising (F) a dissolution inhibiting low molecular weight compound having a group capable of decomposing under the action of an acid to increase solubility in an alkaline developer and having a molecular weight of 3000 or less. Item 4. The positive photosensitive composition according to any one of Items 1 to 3.
5. A pattern forming method comprising: forming a film from the positive photosensitive composition according to claim 1; and exposing and developing the film.