JP2002319362A - 走査電子顕微鏡用９０°変換試料台 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】集束イオンビーム加工観察装置で加工したの
ち、走査電子顕微鏡で観察をする場合、試料を貼り替え
るかまたは試料台を固定するための専用ホルダを必要と
していた。 【解決手段】走査電子顕微鏡と集束イオンビーム加工観
察装置の試料台を兼用とし、加工表面と断面の双方向を
観察できる形状とした。 【効果】試料台を兼用することにより、試料の貼り替え
を無くし、試料交換時間を減少させ作業効率を向上する
ことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、走査電子顕微鏡お
よび集束イオンビーム加工観察装置の試料固定用ホルダ
の改良に関する。

【０００２】

【従来の技術】集束イオンビーム加工観察装置により加
工した試料を走査電子顕微鏡で観察する場合、各々の装
置で用いている試料台に試料を貼り付けて観察を行って
いる。つまり同じ試料を使用目的が異なる装置で作業す
る場合、貼り付けおよび取り外しをしなければならな
い。特に観察と加工を交互に繰り返し行う際は大変煩わ
しく時間を要していた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】走査電子顕微鏡と集束
イオンビーム加工観察装置では異なる試料台を使用して
いるため、試料の貼り替えが必要となる。

【０００４】このため、試料の貼り替え時間を減らし作
業効率を向上することが必要となる。

【０００５】

【課題を解決するための手段】走査電子顕微鏡と集束イ
オンビーム加工観察装置の互いの試料ホルダに取り付け
られる形状に試料台を改良することにより、試料の貼り
替えを無くし、試料台をホルダに付け替えるだけで、加
工および観察を行うことができる。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき詳述する。

【０００７】図７は、一般的な走査電子顕微鏡を示した
概略図である。

【０００８】本装置は電子ビーム１を取り出すための電
子銃２を有する電子銃室３と集束レンズ４ａ、偏向コイ
ル５ａ、対物レンズ６ａを有する中間室７と、試料８、
試料ホルダ９ａ、試料ステージ１０ａ、検出器１１ａを
有する試料室１２ａおよび装置内を真空に保つための排
気ポンプ１３ａと排気配管１４から構成されている。

【０００９】電子銃２から取り出された電子ビーム１
は、集束レンズ４ａと対物レンズ６ａによって細く集束
され、偏向コイル５ａによって試料８上を走査する。走
査された試料８から放出された二次荷電粒子を検出器１
１ａで捕らえることにより画像観察を行う。

【００１０】図５は、走査電子顕微鏡用試料ホルダを示
した概略図である。試料８を試料台１７ａ上に貼り付
け、ホルダ１８ａ、ロックナット１９、高さ調整ねじ２
０を組み合わせることで試料台の高さの設定および固定
を行い、図７の試料ステージ１０ａに取り付けて使用す
る。主に試料表面の観察を行う。

【００１１】図８は、一般的な集束イオンビーム加工観
察装置を示した概略図である。本装置は、イオンビーム
１５を取り出すためのイオン源１６と集束レンズ４ｂ、
偏向コイル５ｂ、対物レンズ６ｂと試料８、試料ホルダ
９ｂ、試料ステージ１０ｂ、検出器１１ｂを有する試料
室１２ｂおよび装置内を真空に保つための排気ポンプ１
３ｂから構成されている。

【００１２】イオン源１６から取り出されたイオンビー
ム１５は、集束レンズ４ｂと対物レンズ６ｂによって細
く集束され、偏向コイル５ｂで走査することで特定の領
域に照射し試料の加工を行う。また、走査された試料８
から放出された二次荷電粒子を検出器１１ｂで捕らえる
ことにより画像観察を行う。

【００１３】図６は、従来の集束イオンビーム加工観察
装置用試料ホルダを示した概略図である。試料８を試料
台１７ｂ上に貼り付け、ホルダ１８ｂ、オサエイタ２１
にて試料台１７ｂを固定し、図８の試料ステージ１０ｂ
に取り付けて使用する。主に、試料表面および側面の加
工または像観察を行う。

【００１４】加工後の試料は集束イオンビーム加工観察
装置で観察できるが、より高分解能な観察を行う場合は
走査電子顕微鏡を使用している。

【００１５】しかし集束イオンビーム加工観察装置で加
工したのち、走査電子顕微鏡で加工表面および断面を観
察する場合、試料を貼り替えるかまたは試料台を固定す
るための専用ホルダを必要としていた。

【００１６】このため走査電子顕微鏡と集束イオンビー
ム加工観察装置に兼用できる試料台を考案した。

【００１７】図１に走査電子顕微鏡と集束イオンビーム
加工観察装置に兼用できる試料台を示す。９０°変換試
料台１７ｃに試料８を貼り付ける。これを図４の集束イ
オンビーム加工観察装置用ホルダ１８ｂに固定したのち
図８の試料ステージ１０ｂに取り付け試料８の加工を行
う。加工後９０°変換試料台１７ｃを図２の走査電子顕
微鏡用ホルダ１８ａ、ロックナット１９、高さ調整ねじ
２０で固定し、図７の試料ステージ１０ａに取り付けて
試料８加工表面の観察を行う。また、９０°変換試料台
１７ｃを図３に示す方向で固定することにより試料８の
加工断面の観察を行うことができる。

【００１８】

【発明の効果】本発明によれば、走査電子顕微鏡と集束
イオンビーム加工観察装置の試料台を兼用し試料台への
試料の貼り替えを無くすることにより、試料交換時間を
減少させ作業効率を向上することができる。

【００１９】また、試料台の取り付け位置を変えるだけ
で加工表面と断面の双方向を試料ホルダ中心位置で観察
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】９０°変換試料台の概略図。

【図２】試料加工表面観察時における走査電子顕微鏡用
試料ホルダへの取り付け方を示す概略図。

【図３】試料加工断面観察時における走査電子顕微鏡用
試料ホルダへの取り付け方を示す概略図。

【図４】集束イオンビーム加工観察装置用試料ホルダへ
の取り付け方を示す概略図。

【図５】従来の走査電子顕微鏡用試料ホルダの概略図。

【図６】従来の集束イオンビーム加工観察装置用試料ホ
ルダの概略図。

【図７】走査電子顕微鏡の概略図。

【図８】集束イオンビーム加工観察装置の概略図。

【符号の説明】

１…電子ビーム、２…電子銃、３…電子銃室、４ａ…集
束レンズ、４ｂ…集束レンズ、５ａ…偏向コイル、５ｂ
…偏向コイル、６ａ…対物レンズ、６ｂ…対物レンズ、
７…中間室、８…試料、９ａ…試料ホルダ、９ｂ…試料
ホルダ、１０ａ…試料ステージ、１０ｂ…試料ステー
ジ、１１ａ…検出器、１１ｂ…検出器、１２ａ…試料
室、１２ｂ…試料室、１３ａ…排気ポンプ、１３ｂ…排
気ポンプ、１４…排気配管、１５…イオンビーム、１６
…イオン源、１７ａ…試料台、１７ｂ…試料台、１７ｃ
…９０°変換試料台、１８ａ…ホルダ、１８ｂ…ホル
ダ、１９…ロックナット、２０…高さ調整ねじ、２１…
オサエイタ。

フロントページの続き (72)発明者 伊東 祐博 茨城県ひたちなか市大字市毛1040番地 株 式会社日立サイエンスシステムズ内 Ｆターム(参考） 5C001 AA01 BB07 CC04 CC08 5C033 FF10 JJ07 MM07 UU03 5C034 DD09

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 走査電子顕微鏡による試料観察装置と集
   束イオンビーム加工観察装置に兼用で使用できる試料
   台。
2. 【請求項２】 集束イオンビーム加工観察装置で加工し
   た試料の加工表面および断面を同一の試料台を用い走査
   電子顕微鏡で観察することができる試料台。
3. 【請求項３】 試料の加工表面と断面を試料ホルダ中心
   位置で観察できる試料台。