JP2002318355A - 照明の強度を部分的に低減する装置を有する光学的観察装置 - Google Patents
照明の強度を部分的に低減する装置を有する光学的観察装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 選択された照明領域において、選
択された波長の光の強度を、任意の程度に減衰すること
ができ、更に被検試料の感受性領域を適正に保護するこ
とができる装置を提供すること。 【解決手段】 例えば、照明光路、主対物レン
ズ、光源及びスペクトルフィルタを有する顕微鏡におけ
る、照明の光強度（明るさ）を部分的に減衰する装置に
おいて、互いに異なる空間的照明領域（２１）におい
て、異なる波長レンジ（２２）の光強度を所定の程度
（減衰強度Int０）（２４）に減衰するように、スペク
トルフィルタ（４）が構成されていることを特徴とす
る。
択された波長の光の強度を、任意の程度に減衰すること
ができ、更に被検試料の感受性領域を適正に保護するこ
とができる装置を提供すること。 【解決手段】 例えば、照明光路、主対物レン
ズ、光源及びスペクトルフィルタを有する顕微鏡におけ
る、照明の光強度（明るさ）を部分的に減衰する装置に
おいて、互いに異なる空間的照明領域（２１）におい
て、異なる波長レンジ（２２）の光強度を所定の程度
（減衰強度Int０）（２４）に減衰するように、スペク
トルフィルタ（４）が構成されていることを特徴とす
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、照明の強度（明る
さ）を部分的に減衰する装置に関し、例えば、照明光
路、主対物レンズ、光源、スペクトルフィルタを有する
顕微鏡に関する。より詳しくは本発明は、例えば、エク
リプスフィルタ（Eclipse-Filter）を有するステレオ手
術顕微鏡において、照明の強度（明るさ）を部分的に減
衰する装置を有する光学的観察装置に関する。ここで、
エクリプスフィルタとは、照明（の光）の強度（明る
さ）を所定の波長レンジにおいて部分的に減衰する、照
明光路中のスペクトルフィルタのことを言う。
さ）を部分的に減衰する装置に関し、例えば、照明光
路、主対物レンズ、光源、スペクトルフィルタを有する
顕微鏡に関する。より詳しくは本発明は、例えば、エク
リプスフィルタ（Eclipse-Filter）を有するステレオ手
術顕微鏡において、照明の強度（明るさ）を部分的に減
衰する装置を有する光学的観察装置に関する。ここで、
エクリプスフィルタとは、照明（の光）の強度（明る
さ）を所定の波長レンジにおいて部分的に減衰する、照
明光路中のスペクトルフィルタのことを言う。
【０００２】
【従来の技術】照明光路において折畳開閉可能な遮光器
（絞り）による、所定の空間物体領域における照明の減
衰は、種々の応用に対しますます多く使用されている。
というのは、これによって物体（被検試料）の光感受性
面をあまりにも強い光線から保護することができるから
である。
（絞り）による、所定の空間物体領域における照明の減
衰は、種々の応用に対しますます多く使用されている。
というのは、これによって物体（被検試料）の光感受性
面をあまりにも強い光線から保護することができるから
である。
【０００３】このような絞りは、通常、所定の空間領域
において照明光路を完全に及び／又は部分的に暗化（光
減衰）する折畳開閉（差込−引出）可能な絞りとして構
成される。
において照明光路を完全に及び／又は部分的に暗化（光
減衰）する折畳開閉（差込−引出）可能な絞りとして構
成される。
【０００４】DE 93 01 448 U（実用新案）には、所定の
空間領域において部分的暗化を可能にする、直径が異な
る複数のフィルタを有するフィルタシステムが開示され
ている。これは、４００〜７００ｎｍの可視光レンジ
で、非波長依存的に構成されている。４００ｎｍ未満の
波長レンジにおいてより強い暗化を行うことができるこ
とのみが開示されている。
空間領域において部分的暗化を可能にする、直径が異な
る複数のフィルタを有するフィルタシステムが開示され
ている。これは、４００〜７００ｎｍの可視光レンジ
で、非波長依存的に構成されている。４００ｎｍ未満の
波長レンジにおいてより強い暗化を行うことができるこ
とのみが開示されている。
【０００５】DE 88 08 871 Uから、散乱特性（曲線）
（Streucharakteristik）において優先方向（Vorzugsri
chtung）を生じさせる、細隙（スリット）灯装置のため
の散乱プレートが既知である。
（Streucharakteristik）において優先方向（Vorzugsri
chtung）を生じさせる、細隙（スリット）灯装置のため
の散乱プレートが既知である。
【０００６】更に、US 4,715,704には、中央部が暗化さ
れる領域を有する光トラップ（Lichtfalle）が開示され
ている。
れる領域を有する光トラップ（Lichtfalle）が開示され
ている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、既知のシステ
ムには、以下のような欠点がある。 ａ） 光強度の減衰は、デジタル的に行われる、即ち、
光減衰物体領域が観察者にとって（完全に）暗いか完全
な明るさで可視的かであるように行われるか、或いは、
光強度の減衰は、段階的なフィルタ作用により行われる
ものの、これは光の色（波長）に関して最適化されてい
ない。このため、被検試料（例えば患者の眼）に悪影響
を及ぼし得る。 ｂ） 光減衰領域を観察者のために真正な色で（褪色せ
ずに）視えるようにするためには、被検試料にとっては
完全なかつ一般的には被検試料損傷性の照射を意味す
る、絞りの（光路からの）除去が必要となる。 ｃ） 絞りは照明光路において位置が固定されているの
で、光ビームの形状及び／又は減衰される照明ビームの
形状、光の波長その他の特性を変化させることができな
い。 ｄ） 被検試料（例えば、患者の眼）の損傷は、同じ危
険性で、一般的に光の波長レンジ全てに亘ってではな
く、所定の波長レンジ（例えば、４２０ｎｍ〜４７０ｎ
ｍ、及び４００ｎｍ未満）においてのみ生じる。
ムには、以下のような欠点がある。 ａ） 光強度の減衰は、デジタル的に行われる、即ち、
光減衰物体領域が観察者にとって（完全に）暗いか完全
な明るさで可視的かであるように行われるか、或いは、
光強度の減衰は、段階的なフィルタ作用により行われる
ものの、これは光の色（波長）に関して最適化されてい
ない。このため、被検試料（例えば患者の眼）に悪影響
を及ぼし得る。 ｂ） 光減衰領域を観察者のために真正な色で（褪色せ
ずに）視えるようにするためには、被検試料にとっては
完全なかつ一般的には被検試料損傷性の照射を意味す
る、絞りの（光路からの）除去が必要となる。 ｃ） 絞りは照明光路において位置が固定されているの
で、光ビームの形状及び／又は減衰される照明ビームの
形状、光の波長その他の特性を変化させることができな
い。 ｄ） 被検試料（例えば、患者の眼）の損傷は、同じ危
険性で、一般的に光の波長レンジ全てに亘ってではな
く、所定の波長レンジ（例えば、４２０ｎｍ〜４７０ｎ
ｍ、及び４００ｎｍ未満）においてのみ生じる。
【０００８】従って、本発明の一課題は、被検試料−感
受性領域（例えば、患者の眼）を適正に保護し、上述の
従来技術の不利を解消する装置を提供することである。
更に、本発明は、被検試料−感受性領域が、どのような
空間的形状を有するか、或いはどの程度の（装置の光
の）強度によって、被検試料の保護されるべき領域が損
傷されるか、に依存することなく、被検試料−感受性領
域を保護する装置を提供することを他の課題とする。
受性領域（例えば、患者の眼）を適正に保護し、上述の
従来技術の不利を解消する装置を提供することである。
更に、本発明は、被検試料−感受性領域が、どのような
空間的形状を有するか、或いはどの程度の（装置の光
の）強度によって、被検試料の保護されるべき領域が損
傷されるか、に依存することなく、被検試料−感受性領
域を保護する装置を提供することを他の課題とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に、本発明の一視点によれば、例えば、照明光路、主対
物レンズ、光源及びスペクトルフィルタを有する顕微鏡
における、照明の光強度を部分的に減衰する装置が提供
される。この装置は、互いに異なる空間的照明領域にお
いて、異なる波長レンジの光強度を所定の程度（強度減
衰）に減衰するように、スペクトルフィルタが構成され
ていることを特徴とする。
に、本発明の一視点によれば、例えば、照明光路、主対
物レンズ、光源及びスペクトルフィルタを有する顕微鏡
における、照明の光強度を部分的に減衰する装置が提供
される。この装置は、互いに異なる空間的照明領域にお
いて、異なる波長レンジの光強度を所定の程度（強度減
衰）に減衰するように、スペクトルフィルタが構成され
ていることを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下に本発明の好ましい実施の形
態を示す。上記の装置は、更に、スペクトルフィルタの
少なくとも一部が、例えば、４２０〜４７０ｎｍのレン
ジ及び／又は４００ｎｍ未満のレンジ、ないし網膜／角
膜損傷性領域に含まれる、所定の波長λ０を吸収するこ
と、及び／又はスペクトルフィルタが、例えば、内側に
おいては４２０〜４７０ｎｍの光が５０％減衰されかつ
外側においては全可視光スペクトルに亘って減衰されて
いないような、内側と外側とでは光強度の減衰が異なる
ような波長レンジ（光強度減衰波長レンジ）を有する特
性プロフィールを有することが好ましい。上記の装置
は、更に、光強度減衰波長レンジの少なくとも一部の吸
収端（のプロフィール）が、平坦又は急勾配的に構成さ
れていること、及び／又はスペクトルフィルタが、例え
ば内側では９０％、外側では０％であるような、異なる
波長レンジにおいて異なる光強度減衰Int０を有する特
性を有することが好ましい。上記の装置は、更に、スペ
クトルフィルタが、例えば、とりわけ４２０〜４７０ｎ
ｍの波長レンジにおいて、０〜９０％の間にあるよう
な、所定の光強度減衰Int０を有することが好ましい。
上記の装置は、更に、スペクトルフィルタが、光強度が
減衰される可変照明領域を有するディスク状形態を有す
ること、及びスペクトルフィルタが、機械的に内外に旋
回及び／又は摺動可能、及び／又は、その使用面及び／
又は使用軸において空間的に摺動可能であることが好ま
しい。上記の装置は、更に、所定の光波長レンジにおい
て、フィルタ特性を種々変化できるように、スペクトル
フィルタが傾動可能（kippbar）に配されることが好ま
しい。上記の装置は、更に、単独で及び／又は照明光学
系と共に（組合せて）軸方向に摺動することにより、光
強度減衰領域が拡大可能ないし縮小可能であるように、
スペクトルフィルタが構成されることが好ましい。上記
の装置は、更に、スペクトルフィルタの空間的摺動能及
び／又は遮光オンオフ（挿入・引出）切換が、電子的又
は手動で制御可能であることが好ましい。上記の装置
は、更に、スペクトルフィルタが、薄層、ＬＣＤ及びエ
レクトロクロミック層の少なくとも１つとして構成され
ることが好ましい。上記の装置は、更に、強度減衰Int
０、波長λ０及び光減衰波長レンジの少なくとも１つ
が、電子的に制御されることが好ましい。上記の装置
は、更に、スペクトルフィルタの空間的摺動及び／又は
遮光オンオフ（挿入・引出）切換が、制御系を介して、
被検試料の結像と連動可能であることが好ましい。
態を示す。上記の装置は、更に、スペクトルフィルタの
少なくとも一部が、例えば、４２０〜４７０ｎｍのレン
ジ及び／又は４００ｎｍ未満のレンジ、ないし網膜／角
膜損傷性領域に含まれる、所定の波長λ０を吸収するこ
と、及び／又はスペクトルフィルタが、例えば、内側に
おいては４２０〜４７０ｎｍの光が５０％減衰されかつ
外側においては全可視光スペクトルに亘って減衰されて
いないような、内側と外側とでは光強度の減衰が異なる
ような波長レンジ（光強度減衰波長レンジ）を有する特
性プロフィールを有することが好ましい。上記の装置
は、更に、光強度減衰波長レンジの少なくとも一部の吸
収端（のプロフィール）が、平坦又は急勾配的に構成さ
れていること、及び／又はスペクトルフィルタが、例え
ば内側では９０％、外側では０％であるような、異なる
波長レンジにおいて異なる光強度減衰Int０を有する特
性を有することが好ましい。上記の装置は、更に、スペ
クトルフィルタが、例えば、とりわけ４２０〜４７０ｎ
ｍの波長レンジにおいて、０〜９０％の間にあるよう
な、所定の光強度減衰Int０を有することが好ましい。
上記の装置は、更に、スペクトルフィルタが、光強度が
減衰される可変照明領域を有するディスク状形態を有す
ること、及びスペクトルフィルタが、機械的に内外に旋
回及び／又は摺動可能、及び／又は、その使用面及び／
又は使用軸において空間的に摺動可能であることが好ま
しい。上記の装置は、更に、所定の光波長レンジにおい
て、フィルタ特性を種々変化できるように、スペクトル
フィルタが傾動可能（kippbar）に配されることが好ま
しい。上記の装置は、更に、単独で及び／又は照明光学
系と共に（組合せて）軸方向に摺動することにより、光
強度減衰領域が拡大可能ないし縮小可能であるように、
スペクトルフィルタが構成されることが好ましい。上記
の装置は、更に、スペクトルフィルタの空間的摺動能及
び／又は遮光オンオフ（挿入・引出）切換が、電子的又
は手動で制御可能であることが好ましい。上記の装置
は、更に、スペクトルフィルタが、薄層、ＬＣＤ及びエ
レクトロクロミック層の少なくとも１つとして構成され
ることが好ましい。上記の装置は、更に、強度減衰Int
０、波長λ０及び光減衰波長レンジの少なくとも１つ
が、電子的に制御されることが好ましい。上記の装置
は、更に、スペクトルフィルタの空間的摺動及び／又は
遮光オンオフ（挿入・引出）切換が、制御系を介して、
被検試料の結像と連動可能であることが好ましい。
【００１１】本発明では、照明光路（ビーム）にスペク
トルフィルタが配されるが、スペクトルフィルタは、例
えばフィルタの中心軸への距離に応じて、そのスペクト
ルフィルタ作用が、（多）段階的及び／又は無段階的に
変化され、並びに、以下のとおり制御可能である。 １） 例えば保護されるべき被検試料の形状を有するよ
うに、所与の空間的に構成され、及び／又は ２） その吸収（率）及び／又は反射（率）は、とりわ
け４２０〜４７０ｎｍの波長レンジにおいて、０％〜９
０％の間で任意に設定され、及び／又は ３） その吸収（率）及び／又は反射（率）は、例えば
とりわけ４２０〜４７０ｎｍの波長レンジにおいて、薄
層によって、波長依存的に構成され、及び／又は ４） その使用面、使用軸及び広がり（Ausdehnung）に
おいて空間的に摺動可能であり、及び／又は ５） （多）段階的ないし無段階的移行を有し、上記
２）に応じた種々の吸収特性及び／又は反射特性を有す
る複数の領域（フィールド）へ分配可能であり、及び／
又は ６） 特別な展開形態では、例えばＬＣＤ及び／又はエ
レクトロクロミック層として構成可能であり、かつそれ
ゆえ電子的に制御可能である。
トルフィルタが配されるが、スペクトルフィルタは、例
えばフィルタの中心軸への距離に応じて、そのスペクト
ルフィルタ作用が、（多）段階的及び／又は無段階的に
変化され、並びに、以下のとおり制御可能である。 １） 例えば保護されるべき被検試料の形状を有するよ
うに、所与の空間的に構成され、及び／又は ２） その吸収（率）及び／又は反射（率）は、とりわ
け４２０〜４７０ｎｍの波長レンジにおいて、０％〜９
０％の間で任意に設定され、及び／又は ３） その吸収（率）及び／又は反射（率）は、例えば
とりわけ４２０〜４７０ｎｍの波長レンジにおいて、薄
層によって、波長依存的に構成され、及び／又は ４） その使用面、使用軸及び広がり（Ausdehnung）に
おいて空間的に摺動可能であり、及び／又は ５） （多）段階的ないし無段階的移行を有し、上記
２）に応じた種々の吸収特性及び／又は反射特性を有す
る複数の領域（フィールド）へ分配可能であり、及び／
又は ６） 特別な展開形態では、例えばＬＣＤ及び／又はエ
レクトロクロミック層として構成可能であり、かつそれ
ゆえ電子的に制御可能である。
【００１２】光学的観察装置の照明光路におけるスペク
トルフィルタの上述の使用により、後続する各段階にお
いて、以下のような改善が得られる。
トルフィルタの上述の使用により、後続する各段階にお
いて、以下のような改善が得られる。
【００１３】・保護されるべき被検試料領域の波長依存
的暗化（光減衰）により、光の色（波長）が適正化さ
れ、被検試料は損傷から保護される。
的暗化（光減衰）により、光の色（波長）が適正化さ
れ、被検試料は損傷から保護される。
【００１４】・保護されるべき被検試料領域の完全には
行われない暗化（光減衰）により、暗化（光減衰）は、
デジタル的ではなく、アナログ的に例えば０％〜５０％
で行われる。このため、暗化された領域は、観察者に対
し、所定の安全な光波長レンジでは、常に可視的である
（視えている）。
行われない暗化（光減衰）により、暗化（光減衰）は、
デジタル的ではなく、アナログ的に例えば０％〜５０％
で行われる。このため、暗化された領域は、観察者に対
し、所定の安全な光波長レンジでは、常に可視的である
（視えている）。
【００１５】・保護されるべき被検試料面が所定の光強
度までは損傷されないことが既知の場合、暗化（光減
衰）は−自ずから分かることだが−この強度にまでの数
値に設定される。
度までは損傷されないことが既知の場合、暗化（光減
衰）は−自ずから分かることだが−この強度にまでの数
値に設定される。
【００１６】・保護されるべき被検試料面が所定の波長
レンジによってのみ損傷可能な場合、光減衰は、この波
長レンジに−位置特異的に−制限される。
レンジによってのみ損傷可能な場合、光減衰は、この波
長レンジに−位置特異的に−制限される。
【００１７】・スペクトルフィルタを種々のレンジに分
布して設ける（Aufteilung）ことにより、異なる吸収推
移プロフィール（波長の関数での強度減衰）を生じさせ
ることができる。
布して設ける（Aufteilung）ことにより、異なる吸収推
移プロフィール（波長の関数での強度減衰）を生じさせ
ることができる。
【００１８】・スペクトルフィルタがその使用面及び／
又は使用軸において空間的に摺動可能であることによ
り、保護される領域を所定の程度で変化させることがで
きる。
又は使用軸において空間的に摺動可能であることによ
り、保護される領域を所定の程度で変化させることがで
きる。
【００１９】・薄層を使用することにより、光の任意的
吸収曲線ないしプロフィール（Absorptions-Bilder）
（波長の関数での強度減衰）を形成することができる。
吸収曲線ないしプロフィール（Absorptions-Bilder）
（波長の関数での強度減衰）を形成することができる。
【００２０】・ＬＣＤ及び／又はエレクトロクロミック
層を使用することにより、電子的に制御されて、任意の
吸収面及び／又は吸収推移（波長の関数での強度減衰）
を形成することができる。
層を使用することにより、電子的に制御されて、任意の
吸収面及び／又は吸収推移（波長の関数での強度減衰）
を形成することができる。
【００２１】上記の実施形態は、とりわけ手術顕微鏡に
関して説明したが、本発明は、これに限定されず、照明
強度及び／又は物体光線の部分的減衰を伴う光学装置の
他の利用形態にも適用可能である。
関して説明したが、本発明は、これに限定されず、照明
強度及び／又は物体光線の部分的減衰を伴う光学装置の
他の利用形態にも適用可能である。
【００２２】
【実施例】本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明
する。ここで、同一の参照符号は、同一の構造部材を表
し、異なる添え字を有する参照符号は、機能の等しい構
造部材を表す。なお、特許請求の範囲に付した図面参照
符号は、発明の理解の容易化ためであって、本発明を図
示の態様に限定することを意図しない。また、以下の実
施例も発明の理解の容易化のためであり、本発明の技術
的思想を逸脱しない範囲において当業者により実施可能
な置換・変更等を排除することも意図しない。なお、こ
の点は、出願当初から補正後に亘るまで同様である。
する。ここで、同一の参照符号は、同一の構造部材を表
し、異なる添え字を有する参照符号は、機能の等しい構
造部材を表す。なお、特許請求の範囲に付した図面参照
符号は、発明の理解の容易化ためであって、本発明を図
示の態様に限定することを意図しない。また、以下の実
施例も発明の理解の容易化のためであり、本発明の技術
的思想を逸脱しない範囲において当業者により実施可能
な置換・変更等を排除することも意図しない。なお、こ
の点は、出願当初から補正後に亘るまで同様である。
【００２３】図１は、例えば、ステレオ（立体）手術顕
微鏡のような光学的観察装置の全体構造の模式図であ
る。この装置には、光源１（例えば、ランプ又は光ガイ
ドの終端部）、照明光路２、照明光学系３ａ及び３ｂ、
スペクトルフィルタ４、主対物レンズ６、例えば瞳７、
虹彩８及び眼球９から模式的に構成された眼（被検試
料）に向かう、光強度減衰照明光路（ビーム）５が含ま
れる。更に、物体光路（ビーム）１０、接眼レンズ系１
１及び観察者１２も模式的に示されている。
微鏡のような光学的観察装置の全体構造の模式図であ
る。この装置には、光源１（例えば、ランプ又は光ガイ
ドの終端部）、照明光路２、照明光学系３ａ及び３ｂ、
スペクトルフィルタ４、主対物レンズ６、例えば瞳７、
虹彩８及び眼球９から模式的に構成された眼（被検試
料）に向かう、光強度減衰照明光路（ビーム）５が含ま
れる。更に、物体光路（ビーム）１０、接眼レンズ系１
１及び観察者１２も模式的に示されている。
【００２４】スペクトルフィルタ４は、バリエーション
として、（４）の位置、即ち光源１と照明光学系３との
間にも配置可能である。
として、（４）の位置、即ち光源１と照明光学系３との
間にも配置可能である。
【００２５】図２には、瞳７、虹彩８及び眼球９から構
成された眼が上面図として模式的に示されている。更
に、スペクトルフィルタ４による光強度減衰照明領域２
１の位置座標（ｘ,ｙ）の関数として所定の波長λ０
（λ０）の場合の強度減衰の特性曲線（推移）も示され
ている。図２で減衰強度は極小値２４Int０（Int０）を
示す。
成された眼が上面図として模式的に示されている。更
に、スペクトルフィルタ４による光強度減衰照明領域２
１の位置座標（ｘ,ｙ）の関数として所定の波長λ０
（λ０）の場合の強度減衰の特性曲線（推移）も示され
ている。図２で減衰強度は極小値２４Int０（Int０）を
示す。
【００２６】図３には、所定の光強度減衰波長レンジ２
２と所定の波長λ０（符号２３参照）に関する波長λの
関数による光強度減衰の可能な特性曲線（推移）が示さ
れている。
２と所定の波長λ０（符号２３参照）に関する波長λの
関数による光強度減衰の可能な特性曲線（推移）が示さ
れている。
【００２７】図４には、スペクトルフィルタ４（これ
は、例えば、エレクトロクロミック層又はＬＣＤとして
構成され得る）の電子的制御装置２５が模式的に示され
ている。ここには、特定の形状の光強度減衰照明領域２
１が、一例として模式的に示されている。この形状は任
意に電子的に形状・寸法調節可能であり、プログラム制
御可能である。
は、例えば、エレクトロクロミック層又はＬＣＤとして
構成され得る）の電子的制御装置２５が模式的に示され
ている。ここには、特定の形状の光強度減衰照明領域２
１が、一例として模式的に示されている。この形状は任
意に電子的に形状・寸法調節可能であり、プログラム制
御可能である。
【００２８】光源１から出発する照明光路２を通過する
光は、照明光学系３ａ及び３ｂを介し、照明光学系３ａ
と３ｂの間に配置されたスペクトルフィルタ４を介し、
所定の空間領域５において、波長に依存して、光の強度
（明るさ）が減衰される。フィルタ４の位置は、図１で
「４」によって表された位置と異なり、「（４）」で表
されるように光源１と照明光学系３ａ及び３ｂとの間に
配置することもできる。かくして、所定の光感受性空間
的物体領域（ｘ，ｙ）に亘って、例えば眼（網膜／角
膜）において、強度（明るさ）がスペクトルフィルタ４
によって、減衰される。減衰（ないし光減衰領域２１）
が、所定の波長レンジ（例えば、４２０ｎｍ〜４７０ｎ
ｍ）において行われるように及び／又は所定の値（例え
ば０％〜９０％）になるように、スペクトルフィルタ４
は構成される。減衰がされなかった残りの照明領域で
は、全光パワー（強度）及び／又は波長に応じた光パワ
ー（強度）が割り当てられる（分布される）。このよう
な構造のため、スペクトルフィルタ４の構成を介して光
減衰照明領域（ｘ，ｙ）を空間的に任意に形成すること
（図２）ができ、スペクトルフィルタ４の摺動及び／又
は照明光学系３ａ、３ｂの摺動を介して空間的広がり
（ｘ、ｙ）を所定の程度で拡大ないし縮小することがで
きる。
光は、照明光学系３ａ及び３ｂを介し、照明光学系３ａ
と３ｂの間に配置されたスペクトルフィルタ４を介し、
所定の空間領域５において、波長に依存して、光の強度
（明るさ）が減衰される。フィルタ４の位置は、図１で
「４」によって表された位置と異なり、「（４）」で表
されるように光源１と照明光学系３ａ及び３ｂとの間に
配置することもできる。かくして、所定の光感受性空間
的物体領域（ｘ，ｙ）に亘って、例えば眼（網膜／角
膜）において、強度（明るさ）がスペクトルフィルタ４
によって、減衰される。減衰（ないし光減衰領域２１）
が、所定の波長レンジ（例えば、４２０ｎｍ〜４７０ｎ
ｍ）において行われるように及び／又は所定の値（例え
ば０％〜９０％）になるように、スペクトルフィルタ４
は構成される。減衰がされなかった残りの照明領域で
は、全光パワー（強度）及び／又は波長に応じた光パワ
ー（強度）が割り当てられる（分布される）。このよう
な構造のため、スペクトルフィルタ４の構成を介して光
減衰照明領域（ｘ，ｙ）を空間的に任意に形成すること
（図２）ができ、スペクトルフィルタ４の摺動及び／又
は照明光学系３ａ、３ｂの摺動を介して空間的広がり
（ｘ、ｙ）を所定の程度で拡大ないし縮小することがで
きる。
【００２９】スペクトルフィルタ４の吸収特性（図３）
により、本発明では、波長λの関数として所定の光強度
減衰、例えばスペクトルフィルタ４の位置領域に応じた
透過性の相違（図２）が可能となる。
により、本発明では、波長λの関数として所定の光強度
減衰、例えばスペクトルフィルタ４の位置領域に応じた
透過性の相違（図２）が可能となる。
【００３０】本発明の一展開例では、スペクトルフィル
タは、例えばＰＣ制御装置２５により、電子的に制御さ
れるＬＣＤ及び／又はエレクトロクロミック層として構
成される。このため、空間的広がり（ｘ，ｙ）、強度
（明るさ）及び光減衰領域２１の波長の少なくとも１つ
を可変的に制御可能なよう構成することができる。
タは、例えばＰＣ制御装置２５により、電子的に制御さ
れるＬＣＤ及び／又はエレクトロクロミック層として構
成される。このため、空間的広がり（ｘ，ｙ）、強度
（明るさ）及び光減衰領域２１の波長の少なくとも１つ
を可変的に制御可能なよう構成することができる。
【００３１】
【発明の効果】本発明の独立請求項１により、所定の課
題として掲げた効果が達成される。即ち、本発明の装置
により、選択された照明領域において、選択された波長
の光の強度を、任意の程度に減衰することができ、更に
被検試料の感受性領域を適正に保護することができる。
各従属請求項により、更に付加的な効果が上述の通り達
成される。
題として掲げた効果が達成される。即ち、本発明の装置
により、選択された照明領域において、選択された波長
の光の強度を、任意の程度に減衰することができ、更に
被検試料の感受性領域を適正に保護することができる。
各従属請求項により、更に付加的な効果が上述の通り達
成される。
【図１】本発明の装置の全体構造の模式図。
【図２】被検試料及び対応する領域の関数（ｘ、ｙ）に
よる光強度減衰特性曲線。
よる光強度減衰特性曲線。
【図３】所定の光強度減衰波長レンジと所定の波長λ０
に関するλ波長の関数による光強度減衰特性曲線。
に関するλ波長の関数による光強度減衰特性曲線。
【図４】スペクトルフィルタの電子的制御装置。
１ 光源（ランプ又は光ガイドの端部） ２ 照明光路 ３、３ａ、３ｂ 照明光学系 ４ スペクトルフィルタ ５ 光強度減衰照明光路 ６ 主対物レンズ ７ 瞳 ８ 虹彩 ９ 眼球 １０ 物体光路 １１ 接眼レンズ系 １２ 観察者 ２１ 光強度減衰照明領域 ２２ 光強度減衰波長レンジ ２３ λ０ ２４ 減衰強度（Int０） ２５ エレクトロクロミック層及び／又はＬＣＤのＰＣ
制御装置
制御装置
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H041 AA07 AA21 AB07 AB10 AC01 AZ01 AZ05 2K001 AA11 FA06
Claims (5)
- 【請求項１】照明の光強度を部分的に減衰する光学的装
置において、 互いに異なる空間的照明領域（２１）において、異なる
波長レンジ（２２）の光強度を所定の程度（強度減衰In
t０）（２４）に減衰するように、スペクトルフィルタ
（４）が構成されていることを特徴とする光学的装置。 - 【請求項２】前記スペクトルフィルタ（４）の少なくと
も一部は、所定の波長λ０（２３）を吸収すること、及
び／又は該スペクトルフィルタ（４）は、内側と外側と
では光強度の減衰が異なるような波長レンジ（光強度減
衰波長レンジ）（２２）を有する特性プロフィールを有
することを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項３】前記光強度減衰波長レンジ（２２）の少な
くとも一部の吸収端は、平坦又は急勾配的に構成されて
いること、及び／又は前記スペクトルフィルタ（４）
は、異なる波長レンジ（２２）において異なる光強度減
衰Int０（２４）を有する特性プロフィールを有するこ
とを特徴とする請求項１又は２に記載の装置。 - 【請求項４】前記スペクトルフィルタ（４）は、所定の
光強度減衰Int０（２４）を有することを特徴とする請
求項１に記載の装置。 - 【請求項５】前記スペクトルフィルタ（４）は、光強度
が減衰される可変照明領域（２１）を有するディスク状
形態を有すること、及び該スペクトルフィルタ（４）
は、機械的に内外に旋回及び／又は摺動可能、及び／又
は、その使用面及び／又は使用軸において空間的に摺動
可能であることを特徴とする請求項１に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10108254.1 | 2001-02-21 | ||
| DE10108254A DE10108254A1 (de) | 2001-02-21 | 2001-02-21 | Optische Betrachtungseinrichtung mit Vorrichtung zur partiellen Reduktion der Intensität der Beleuchtung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002318355A true JP2002318355A (ja) | 2002-10-31 |
| JP4225734B2 JP4225734B2 (ja) | 2009-02-18 |
Family
ID=7674941
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002044203A Expired - Lifetime JP4225734B2 (ja) | 2001-02-21 | 2002-02-21 | 照明の強度を部分的に低減する装置を有する光学的観察装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP1235093A3 (ja) |
| JP (1) | JP4225734B2 (ja) |
| DE (1) | DE10108254A1 (ja) |
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| JP2006218206A (ja) * | 2005-02-14 | 2006-08-24 | Olympus Corp | 手術用顕微鏡 |
| JP2010513971A (ja) * | 2006-12-19 | 2010-04-30 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | エレクトロクロミック装置、およびそのようなエレクトロクロミック装置を有するフォトダイナミック処理装置 |
| US11016300B2 (en) | 2014-09-29 | 2021-05-25 | Magic Leap, Inc. | Architectures and methods for outputting different wavelength light out of waveguides |
| US11086125B2 (en) | 2016-05-12 | 2021-08-10 | Magic Leap, Inc. | Distributed light manipulation over imaging waveguide |
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| DE10144067A1 (de) | 2001-09-07 | 2003-03-27 | Leica Microsystems | Prismenkonstruktion für Simultane 0 DEG - und Schräg-Beleuchtung eines Stereo-Operationsmikroskops |
| KR100672406B1 (ko) | 2002-07-22 | 2007-01-23 | 엘지전자 주식회사 | 특정 프로그램에 대한 시청허가 장치 및 그 방법 |
| DE10304267B9 (de) | 2003-02-03 | 2006-06-29 | Carl Zeiss | Augenchirurgie-Mikroskopiesystem |
| US7465050B2 (en) * | 2004-02-04 | 2008-12-16 | The Johns Hopkins University | Method and apparatus for three-dimensional video-oculography |
| JP4370215B2 (ja) * | 2004-07-29 | 2009-11-25 | オリンパス株式会社 | 投影表示装置 |
| JP4960602B2 (ja) * | 2005-04-15 | 2012-06-27 | 三鷹光器株式会社 | 蛍光観察時の明視野光源及びそれを搭載した手術顕微鏡 |
| DE102006047723A1 (de) * | 2006-08-25 | 2008-02-28 | Carl Zeiss Surgical Gmbh | Operationsmikroskop mit Beleuchtungseinrichtung |
| ES2281301B1 (es) | 2006-10-16 | 2008-07-16 | Universidad Complutense De Madrid | Dispositivo de iluminacion con filtro terapeutico y profilactico para ojos sanos, pseudo-afaquicos y/o en proceso de neurodegeneracion. |
| US7832903B2 (en) * | 2006-11-07 | 2010-11-16 | Universidad Complutense De Madrid | Illumination system fitted with a therapeutic/prophylactic filter for healthy eyes, pseudoaphakic eyes or eyes suffering neurodegeneration |
| US7914177B2 (en) * | 2006-11-07 | 2011-03-29 | Universidad Complutense De Madrid | Prophylaxic/therapeutic vehicle filter component for healthy eyes, pseudoaphakic eyes or eyes suffering neurodegeneration |
| ES2289957B1 (es) | 2007-02-07 | 2008-12-01 | Universidad Complutense De Madrid | Fuente de iluminacion con emision reducida de longitudes de onda corta para la proteccion de ojos. |
| JP2009118955A (ja) * | 2007-11-13 | 2009-06-04 | Topcon Corp | 手術用顕微鏡装置 |
| DE102008041821A1 (de) | 2008-09-04 | 2010-03-11 | Leica Microsystems (Schweiz) Ag | Videoadapter für eine Mikroskopkamera |
| US8172751B2 (en) | 2008-11-10 | 2012-05-08 | Steris Corporation | Method and apparatus for electronic adjustment of illuminance of surgical lamp |
| DE102012221955A1 (de) * | 2012-11-30 | 2014-06-05 | Leica Microsystems (Schweiz) Ag | Beleuchtungseinrichtung für ein Operationsmikroskop |
| GB2525163B (en) * | 2014-03-05 | 2018-06-06 | Qioptiq Ltd | An optical assembly |
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| DE3339172A1 (de) | 1983-10-28 | 1985-05-15 | Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim | Lichtfalle fuer augenuntersuchungsgeraete |
| JPS6238133A (ja) * | 1985-08-12 | 1987-02-19 | 株式会社トプコン | 眼底カメラ |
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| DE8808871U1 (ja) | 1988-07-09 | 1988-09-01 | Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim, De | |
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| DE9301448U1 (ja) | 1993-02-03 | 1993-03-18 | J.D. Moeller Optische Werke Gmbh, 2000 Wedel, De | |
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- 2002-02-18 EP EP02003684A patent/EP1235093A3/de not_active Ceased
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- 2002-02-21 US US10/078,383 patent/US7234815B2/en not_active Expired - Lifetime
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