JP2002318263A - Method of inspecting trace of probing needle - Google Patents

Method of inspecting trace of probing needle

Info

Publication number
JP2002318263A
JP2002318263A JP2001124014A JP2001124014A JP2002318263A JP 2002318263 A JP2002318263 A JP 2002318263A JP 2001124014 A JP2001124014 A JP 2001124014A JP 2001124014 A JP2001124014 A JP 2001124014A JP 2002318263 A JP2002318263 A JP 2002318263A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
needle
image data
pad
mark
needle mark
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001124014A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazunori Maeda
和則 前田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2001124014A priority Critical patent/JP2002318263A/en
Publication of JP2002318263A publication Critical patent/JP2002318263A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of inspecting a trace of probing needle capable of readily and accurately determining only the trace of a probing needle applied on a pad irrespective of the surface condition of the pad. SOLUTION: Image data A, B is obtained before and after the trace 3 of the probing needle is applied on the pad 31 to be inspected. The data A is compared with the data B to obtain image data C of only the trace 3, and then the trace 3 of the probing needle applied on the pad 31 to be inspected is specified.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、テスターの測定針
を半導体チップのパッドに接触させて行う電気的特性の
測定の際にパッドに付けられた測定針の針跡がパッド上
で許容範囲内にあるかどうかを検査する測定針の針跡検
査方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of measuring electrical characteristics by bringing a measuring needle of a tester into contact with a pad of a semiconductor chip, and the trace of the measuring needle attached to the pad is within an allowable range on the pad. The present invention relates to a needle mark inspection method of a measuring needle for inspecting whether or not there is a needle mark.

【0002】[0002]

【従来の技術】図3に示すように、半導体ウェーハW上
には多数(数百〜数千)の半導体チップTが形成されて
いる。図4は半導体チップTの拡大平面図を示し、半導
体チップTには、この半導体チップTの電気的特性の測
定の際に測定針が接触するパッド1が複数形成されてい
る。図5はパッド1の拡大平面図を示し、パッド1は例
えばアルミニウム材料よりなり、このパッド1の周囲に
は他の部分との絶縁を図る目的などのために保護膜2が
形成されている。
2. Description of the Related Art As shown in FIG. 3, a large number (several hundreds to thousands) of semiconductor chips T are formed on a semiconductor wafer W. FIG. 4 is an enlarged plan view of the semiconductor chip T. The semiconductor chip T is provided with a plurality of pads 1 with which a measurement needle contacts when measuring the electrical characteristics of the semiconductor chip T. FIG. 5 is an enlarged plan view of the pad 1. The pad 1 is made of, for example, an aluminum material, and a protective film 2 is formed around the pad 1 for the purpose of insulating the other parts from other parts.

【0003】半導体チップTの電気的特性の測定は、パ
ッド1に、テスターのテストヘッドに取り付けられた測
定針を接触させることによって行う。測定針はパッド1
に接触後、パッド1上を削るようにして滑らされる。こ
れにより、両者は適度な圧接状態とされ両者間で十分な
電気的導通が確保される。この状態でテスターが所定の
電気信号を測定針及びパッド1を介して半導体チップT
に出力すると共にその半導体チップTからの戻り信号を
受け半導体チップTの電気的特性を測定する。測定が終
わると測定針はパッド1から離れるが、パッド1上には
測定針の針跡3が残る。
The measurement of the electrical characteristics of the semiconductor chip T is performed by bringing a measuring needle attached to a test head of a tester into contact with the pad 1. Measuring needle is pad 1
After the contact, the pad 1 is slid so as to scrape it. As a result, the two are brought into an appropriate pressure contact state, and sufficient electrical conduction between them is ensured. In this state, the tester applies a predetermined electric signal to the semiconductor chip T via the measuring needle and the pad 1.
And receives the return signal from the semiconductor chip T to measure the electrical characteristics of the semiconductor chip T. When the measurement is completed, the measuring needle separates from the pad 1, but the needle mark 3 of the measuring needle remains on the pad 1.

【0004】電気的特性の測定の後に続いて、その針跡
3の検査が行われる。これは、測定針がパッド1からず
れた位置で圧接してしまうと(このときの針跡3を図4
で一点鎖線で示す)、十分な電気的導通が確保されずに
不正確な測定となるばかりでなく、測定針がパッド1周
囲の保護膜2を突き破ったり、保護膜2にクラック4等
を生じさせてしまい製品不良となってしまうため、パッ
ド1上に付けられた針跡3の位置を確認する検査が行わ
れる。
After the measurement of the electrical characteristics, an inspection of the needle mark 3 is performed. This is because if the measuring needle comes into pressure contact with a position shifted from the pad 1 (the needle mark 3 at this time is shown in FIG. 4).
In this case, sufficient electrical continuity is not ensured, resulting in inaccurate measurement. In addition, the measurement needle penetrates the protective film 2 around the pad 1 or cracks 4 are formed on the protective film 2. Inspection is performed to confirm the position of the needle mark 3 attached to the pad 1 because it causes the product to be defective.

【0005】この針跡検査を行うためには、パッド1上
でどれが針跡3であるかを特定する必要がある。従来、
針跡3を特定する方法の1つとして、基準パッド(測定
針による接触測定前の状態)と、検査対象パッドの測定
針による接触測定を行った後の状態とを比較する方法が
あった。
In order to perform the needle mark inspection, it is necessary to specify which needle mark 3 is on the pad 1. Conventionally,
As one method of specifying the needle mark 3, there is a method of comparing a reference pad (a state before the contact measurement with the measuring needle) with a state after the contact measurement of the inspection target pad with the measuring needle is performed.

【0006】これについて図6を参照して説明すると、
先ず、複数あるパッドの中から基準パッド11を1つ選
び、この基準パッド11の、測定針による接触測定前の
状態をCCDカメラで撮影し、この画像データA’をメ
モリに記憶する。基準パッド11としては、パッド表面
にシミやゴミなどがない表面状態の比較的よいものが選
ばれる。画像データとしては、濃淡が白(割り当てられ
る整数値としては0)と、黒(割り当てられる整数値と
しては0)の2値化された画像データとして処理され
る。すなわち、ある濃度値をしきい値として各画素を白
画素”0”と、黒画素”1”とに区別して表す。2値化
することにより画像データ量を少なくして、処理を簡単
にし、またメモリも節約できる。この場合は、パッド表
面に針跡やシミなどのない部分が白画素”0”の背景と
して、針跡やシミなどが黒画素”1”として表される。
This will be described with reference to FIG.
First, one reference pad 11 is selected from a plurality of pads, the state of the reference pad 11 before contact measurement by a measuring needle is photographed by a CCD camera, and the image data A 'is stored in a memory. As the reference pad 11, a pad having a relatively good surface condition without stains or dust on the pad surface is selected. The image data is processed as binarized image data in which the shading is white (0 as an assigned integer) and black (0 as an assigned integer). That is, each pixel is represented as a white pixel “0” and a black pixel “1” with a certain density value as a threshold. Binarization reduces the amount of image data, simplifies processing, and saves memory. In this case, a portion without a needle mark or a stain on the pad surface is represented as a background of a white pixel “0”, and a needle mark or a stain is represented as a black pixel “1”.

【0007】次いで、検査対象のパッド21に測定針を
接触させて電気的特性の測定を行った後、この接触測定
後のパッド21をCCDカメラで撮影し、この画像デー
タB’をメモリに記憶する。
Then, after measuring the electrical characteristics by bringing the measuring needle into contact with the pad 21 to be inspected, the pad 21 after the contact measurement is photographed with a CCD camera, and the image data B 'is stored in the memory. I do.

【0008】次いで、基準パッド11の画像データA’
と検査対象パッド21の画像データB’とを比較してこ
れらの差を検出することで針跡3を特定する。具体的に
は、CPUがメモリから両画像データA’、B’を読み
出して、対応する各画素ごとに論理演算(EXOR演
算)を行う。すなわち、両画像データA’、B’間で対
応するある画素(m行n列目の画素)が白画素”0”と
白画素”0”どうし、あるいは黒画素”1”と黒画素”
1”どうしであった場合にはそのm行n列目の画素を白
画素”0”とし、対応する各画素が白画素”0”と黒画
素”1”というように異なっていれば、そのm行n列目
の画素を黒画素”1”として処理して画像データC’を
得る。すなわち、画像データC’は、画像データA’に
は表れていないが、画像データB’には表れているもの
を黒画素”1”として抽出した画像データである。測定
針の接触測定前後で両画像データA’とB’との違いと
しては針跡3のみであるはずなので、画像データC’に
おいては黒画素”1”として表されているものを針跡3
として認識できる。
Next, the image data A 'of the reference pad 11 is
The needle mark 3 is identified by comparing the image data B ′ of the inspection target pad 21 with the image data B ′ and detecting these differences. Specifically, the CPU reads both image data A ′ and B ′ from the memory and performs a logical operation (EXOR operation) for each corresponding pixel. That is, a certain pixel (pixel in the m-th row and the n-th column) corresponding between both image data A ′ and B ′ is a white pixel “0” and a white pixel “0”, or a black pixel “1” and a black pixel “
If they are 1 ", the pixel in the m-th row and the n-th column is set to a white pixel" 0 ", and if each corresponding pixel is different such as a white pixel" 0 "and a black pixel" 1 ", The pixel at the m-th row and the n-th column is processed as a black pixel “1” to obtain image data C ′, that is, the image data C ′ does not appear in the image data A ′, but appears in the image data B ′. Is the image data extracted as the black pixel “1.” Since the difference between the two image data A ′ and B ′ before and after the contact measurement of the measuring needle is only the needle mark 3, the image data C ′ In the above, the mark represented as a black pixel "1"
Can be recognized as

【0009】次に、このようにして得られた画像データ
C’に、予め設定された許容範囲Lをかぶせて(合成し
て)画像データD’を得る。許容範囲Lはその輪郭を黒
画素”1”として画像データC’に合成される。そし
て、例えばオペレータが画像データD’を顕微鏡で見
て、図示のように針跡3が許容範囲L内にあれば測定針
は位置ずれを起こさず正常にパッド21に接触されたと
判断する。
Next, image data D 'is obtained by overlaying (synthesizing) the image data C' thus obtained with a predetermined allowable range L. The permissible range L is synthesized with the image data C ′ with the outline as a black pixel “1”. Then, for example, the operator looks at the image data D ′ with a microscope, and if the needle mark 3 is within the allowable range L as shown in the figure, it is determined that the measuring needle has been correctly contacted with the pad 21 without causing a positional shift.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】上記方法では、検査対
象パッド21と比較される基準パッド11は任意に選ば
れるものであり、よって比較される両者は同一のパッド
ではない。従って、検査対象パッド21にシミやゴミ5
a〜5c(一点鎖線で示したが実際には画像データB’
上で黒画素として表れる)があった場合には、これらも
画像データA’、B’間の差として抽出される。すなわ
ち、シミやゴミ5a〜5cまでも画像データC’で黒画
素として出てきて針跡として認識されてしまう。そし
て、シミやゴミ5a〜5cは、画像データD’におい
て、許容範囲L外にあるので、本来の針跡3は許容範囲
L内にあるにもかかわらず、結局、針跡が許容範囲L外
にある不良品と判断されてしまう。
In the above method, the reference pad 11 to be compared with the pad 21 to be inspected is arbitrarily selected, and therefore the two to be compared are not the same pad. Accordingly, the inspection target pad 21 has stains and dust 5
a to 5c (shown by dashed lines, but actually
(Appearing as black pixels above) are also extracted as differences between the image data A ′ and B ′. That is, spots and dust 5a to 5c also appear as black pixels in the image data C 'and are recognized as needle marks. Since the stains and dust 5a to 5c are outside the allowable range L in the image data D ', the original needle trace 3 is outside the allowable range L even though the original needle trace 3 is within the allowable range L. Is determined to be defective.

【0011】また、針跡3と、シミやゴミ5a〜5cと
の濃度値の差に基づいて画像データB’にフィルタ処理
を施し針跡3以外の対象を見え難くする方法がある。し
かし、2値(白/黒)化処理された画像データでは針跡
3に近い明暗のシミやゴミ5a〜5cはフィルタ処理を
いくら試みても針跡3と区別する事は難しく、実際には
判別できない場合が多い。このフィルタ処理を有効にす
るためには、画像データの階調数(濃度分解能)を大き
くすればよいが、この場合、画像の持つ情報量が大きく
なり処理の迅速化の妨げとなり、またメモリにおける記
憶容量も多くとってしまう。
Further, there is a method of performing a filtering process on the image data B 'based on the difference between the density values of the needle mark 3 and the stains or dust 5a to 5c to make the objects other than the needle mark 3 difficult to see. However, in the image data subjected to the binarization (white / black) processing, it is difficult to distinguish light and dark spots and dusts 5a to 5c close to the needle mark 3 from the needle mark 3 no matter how much the filter processing is performed. In many cases, it cannot be determined. In order to make this filter processing effective, the number of gradations (density resolution) of the image data may be increased. However, in this case, the amount of information of the image is increased, which hinders the speeding up of the processing, and also reduces the memory capacity. It also takes up a lot of storage capacity.

【0012】従って、従来は、結局、検査対象パッド2
1の測定針接触後の画像データB’のみを取得して、こ
の画像データB’をオペレータが顕微鏡を使って目視で
検査していた。すなわち、針跡3を形状や大きさなどか
らシミやゴミ5a〜5c、他の表面異常などと区別して
特定しており、オペレータの経験や能力に依存してい
た。これでは、オペレータに負担がかかると共に時間も
かかってしまう。また、例えば針跡3につながるように
して形成されたシミや、針跡3と同じような形状で同じ
様な大きさのシミなどがあるとどれが針跡か特定するの
が困難である。
Therefore, conventionally, the inspection target pad 2
Only the image data B 'after the first contact with the measuring needle is acquired, and the image data B' is visually inspected by an operator using a microscope. That is, the needle mark 3 is specified and distinguished from spots, dusts 5a to 5c, other surface abnormalities, and the like based on the shape and size, and depends on the experience and ability of the operator. This places a burden on the operator and also takes time. Further, for example, if there is a stain formed so as to be connected to the needle mark 3 or a stain having the same shape and the same size as the needle mark 3, it is difficult to identify which is the needle mark.

【0013】本発明は上述の問題に鑑みてなされ、パッ
ドの表面状態に左右されることなく、パッドに付けられ
た針跡のみを容易且つ正確に特定できる測定針の針跡検
査方法を提供することを課題とする。
The present invention has been made in view of the above-described problems, and provides a needle mark inspection method of a measuring needle which can easily and accurately specify only a needle mark attached to a pad without being affected by the surface condition of the pad. That is the task.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明では、検査対象の
パッドについて測定針の針跡が付けられる前後の画像デ
ータを取得し、これら画像データを比較することにより
検査対象のパッドに付けられた針跡を特定する。
According to the present invention, image data before and after a trace of a measuring needle is attached to a pad to be inspected is acquired, and these image data are compared to obtain a pad attached to the pad to be inspected. Identify needle traces.

【0015】これにより、測定針による接触測定後のパ
ッド表面にシミやゴミの付着、表面異常等があっても、
これらは接触測定前にもこの検査対象パッドに存在して
いるので、前記両画像データの差分をとることにより相
殺されて、結果として針跡のみを抽出することができ
る。
With this, even if the surface of the pad after the contact measurement with the measuring needle has stains or dust, surface irregularities, etc.
Since these are present in the inspection target pad even before the contact measurement, they are canceled by taking the difference between the two image data, and as a result, only the needle trace can be extracted.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態による
針跡検査方法について図1、2を参照して説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A needle mark inspection method according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0017】先ず、検査対象パッドに対して測定針を非
接触の状態で位置決めする(図1のステップS1)。
First, the measurement needle is positioned in a non-contact state with respect to the inspection target pad (step S1 in FIG. 1).

【0018】次いで、ステップS2として、図2に示す
画像データAを得る。これは、測定針接触前の検査対象
パッド31を例えばCCDカメラで撮影して得られる画
像データである。画像データとしては、従来と同様、各
画素を白画素”0”と、黒画素”1”との2値化された
画像データとして処理される。この場合も、パッド表面
に針跡やシミなどのない部分が白画素”0”の背景とし
て、針跡やシミ5dなどが黒画素”1”として表され
る。そして、この画像データAはメモリに記憶される。
Next, as step S2, image data A shown in FIG. 2 is obtained. This is image data obtained by photographing the inspection target pad 31 before contact with the measuring needle with, for example, a CCD camera. As the image data, each pixel is processed as binarized image data of a white pixel “0” and a black pixel “1” as in the related art. Also in this case, a portion without a needle mark or a stain on the pad surface is expressed as a background of a white pixel “0”, and a needle mark or a stain 5d is expressed as a black pixel “1”. Then, the image data A is stored in the memory.

【0019】次いで、検査対象のパッド31に測定針を
接触させて電気的特性の測定を行い(ステップS3)、
この接触測定後のパッド31をCCDカメラで撮影し、
この画像データBをメモリに記憶する(ステップS
4)。
Next, the measurement needle is brought into contact with the pad 31 to be inspected to measure the electrical characteristics (Step S3).
The pad 31 after the contact measurement is photographed with a CCD camera,
This image data B is stored in the memory (step S
4).

【0020】次いで、ステップS5として、画像処理手
段としてのCPUがメモリから両画像データA、Bを読
み出して、対応する各画素ごとに論理演算(EXOR演
算)を行う。すなわち、両画像データA、B間で対応す
るある画素(m行n列目の画素)が白画素”0”と白画
素”0”どうし、あるいは黒画素”1”と黒画素”1”
どうしであった場合にはそのm行n列目の画素を白画
素”0”とし、対応する各画素が白画素”0”と黒画
素”1”というように異なっていれば、そのm行n列目
の画素を黒画素”1”として処理して画像データCを得
る。このようにして得られた画像データCはメモリに記
憶される。
Next, in step S5, the CPU as the image processing means reads both image data A and B from the memory and performs a logical operation (EXOR operation) for each corresponding pixel. That is, certain pixels (pixels in the m-th row and the n-th column) corresponding to both image data A and B are white pixels “0” and white pixels “0”, or black pixels “1” and black pixels “1”.
If they are different, the pixel in the m-th row and the n-th column is set to a white pixel “0”, and if the corresponding pixels are different such as a white pixel “0” and a black pixel “1”, The image data C is obtained by processing the pixels in the n-th column as black pixels “1”. The image data C thus obtained is stored in the memory.

【0021】以上のような処理により、画像データCに
は、両画像データA、B間の差が表れる。すなわち、シ
ミ5dは測定針接触前後で両画像データA、B双方に表
れているので、上述した処理により画像データC上では
白画素”0”の背景として表され、結局、画像データA
には表れていないが画像データBには表れている針跡3
のみが黒画素”1”として画像データC上に抽出され
る。これにより、検査対象パッド31の表面状態に左右
されることなく、パッド31に付けられた針跡3を正確
且つ迅速に特定できる。
By the above processing, the difference between the two image data A and B appears in the image data C. That is, since the stain 5d appears in both the image data A and B before and after the contact with the measuring needle, it is represented as a background of the white pixel “0” on the image data C by the above-described processing.
Needle mark 3 not shown in the image data B but shown in the image data B
Only the black pixel “1” is extracted on the image data C. Thus, the needle mark 3 attached to the pad 31 can be accurately and quickly specified without being affected by the surface condition of the inspection target pad 31.

【0022】次に、ステップS6として、CPUがメモ
リから画像データCを読み出して、この画像データC
に、予め設定された許容範囲Lをかぶせて(合成して)
画像データDを得る。許容範囲Lはその輪郭を黒画素”
1”として画像データCに合成される。そして、例えば
オペレータが画像データDを顕微鏡で見て、図示のよう
に針跡3が許容範囲L内にあれば測定針は位置ずれを起
こさず正常にパッド31に接触されたと判断する。ある
いは、許容範囲L外に位置する画素が黒画素”1”のデ
ータを有しているかどうかをCPUにて判断してもよ
い。このようにすれば、全検査工程(ステップS1〜S
6)にわたって、人手を介しない自動化が実現できる。
Next, in step S6, the CPU reads out the image data C from the memory and
Over the predetermined allowable range L (combined)
Obtain image data D. The permissible range L is the outline of a black pixel.
1 "is synthesized with the image data C. Then, for example, when the operator looks at the image data D with a microscope and the needle mark 3 is within the allowable range L as shown in the figure, the measurement needle does not cause a positional shift and operates normally. It is determined that the pixel has been touched by the pad 31. Alternatively, the CPU may determine whether a pixel located outside the allowable range L has data of a black pixel “1”. Inspection process (Steps S1 to S
Over 6), automation without human intervention can be realized.

【0023】また、画像データAの取得〜測定針による
接触測定〜接触測定後の画像データBの取得に至る工程
を1パッドについて断続的に行うのでなく、あるパッド
で測定針の接触測定を行っている間に、次に接触測定を
行うべきパッドの測定針接触前の画像データを取得して
おくようにすれば、複数のパッドについての検査を連続
的に行うことができ検査時間の短縮化が図れる。
Also, the process from acquisition of image data A to contact measurement with a measuring needle to acquisition of image data B after the contact measurement is not performed intermittently for one pad, but the contact measurement of the measuring needle is performed with a certain pad. During this time, if the image data of the pad to be measured next before the contact with the measuring needle is acquired, the inspection of multiple pads can be performed continuously, thus shortening the inspection time. Can be achieved.

【0024】更に、画像データA、Bは1パッドずつ撮
影するのではなく、高解像度のCCDカメラを用いて、
1チップに形成された複数のパッドを同時にまとめて、
あるいは1ウェーハに形成された複数のパッドを同時に
まとめて撮影すれば、更なる検査工程の短縮化が図れ
る。更には、より処理能力の高いCPUを用いて、両画
像データA、B間の比較や、この比較によって得られる
針跡3のリミット判定の処理を複数のパッドについて同
時に行えば、更なる時間の短縮化が図れる。
Further, the image data A and B are not photographed one pad at a time, but by using a high-resolution CCD camera.
Simultaneously put together multiple pads formed on one chip,
Alternatively, by simultaneously photographing a plurality of pads formed on one wafer, the inspection process can be further shortened. Furthermore, if a comparison between the two image data A and B and a process of determining the limit of the needle mark 3 obtained by this comparison are simultaneously performed for a plurality of pads by using a CPU having a higher processing capability, a further time can be obtained. Shortening can be achieved.

【0025】また、上記2値化処理において、白画素を
整数値”1”に、黒画素を整数値”0”に割り当てても
よい。あるいは、2階調より大きな階調数の画像データ
として処理してもよい。この場合、ステップS5におけ
る画像データAとBとの比較は、対応する各画素の濃度
値(整数値)を単に画像データA、B間で引き算すれ
ば、画像データAとBとで同じ濃度値の部分は0とな
り、異なる部分、すなわち針跡3のみが、ある整数値と
して抽出できる。
In the above-described binarization processing, white pixels may be assigned to an integer value "1", and black pixels may be assigned to an integer value "0". Alternatively, the image data may be processed as image data having a number of gradations larger than two gradations. In this case, the comparison between the image data A and B in step S5 is performed by simply subtracting the density value (integer value) of each corresponding pixel between the image data A and B. Becomes 0, and only a different part, that is, the needle mark 3 can be extracted as a certain integer value.

【0026】また、画像データAとBとの比較をCPU
で行うのではなく、オペレータの目視による比較で針跡
を特定してもよい。この場合でも、従来のように画像デ
ータB’(図6)を目視して、形状や大きさなどからシ
ミやゴミと区別して針跡3を特定するよりも、図2から
明らかなように、目視であっても画像データAとBとを
比較すれば容易且つ確実に針跡3の特定を行える。
The comparison between the image data A and B is performed by the CPU.
Alternatively, the needle trace may be specified by visual comparison of the operator. Even in this case, as shown in FIG. 2, the image data B ′ (FIG. 6) is visually observed and the needle mark 3 is identified by distinguishing it from stains and dust based on the shape and size. The needle mark 3 can be easily and reliably specified by comparing the image data A and B even visually.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明の請求項1によれば、針跡を誤認
することなく且つ容易に特定でき、正確な針跡検査を行
える。
According to the first aspect of the present invention, the needle trace can be easily specified without being erroneously recognized, and an accurate needle trace inspection can be performed.

【0028】本発明の請求項2によれば、針跡の特定作
業を自動化でき、オペレータの負担を軽減できる。
According to the second aspect of the present invention, the operation of specifying the needle trace can be automated, and the burden on the operator can be reduced.

【0029】本発明の請求項3または請求項4によれ
ば、針跡検査に要する時間の短縮化が図れる。
According to the third or fourth aspect of the present invention, the time required for the needle mark inspection can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態による針跡検査方法の手順
を示すフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart showing a procedure of a needle mark inspection method according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態による針跡検査方法の概念
を示す模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram illustrating the concept of a needle mark inspection method according to an embodiment of the present invention.

【図3】半導体ウェーハの平面図である。FIG. 3 is a plan view of a semiconductor wafer.

【図4】半導体チップの拡大平面図である。FIG. 4 is an enlarged plan view of a semiconductor chip.

【図5】パッドの拡大平面図である。FIG. 5 is an enlarged plan view of a pad.

【図6】従来の針跡検査方法の概念を示す模式図であ
る。
FIG. 6 is a schematic view showing the concept of a conventional needle mark inspection method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2……保護膜、3……針跡、31……パッド、L……許
容範囲、T……半導体チップ、W……半導体ウェーハ。
2 ... protective film, 3 ... needle mark, 31 ... pad, L ... allowable range, T ... semiconductor chip, W ... semiconductor wafer.

フロントページの続き Fターム(参考) 2G003 AA07 AF02 AF03 AG03 AG12 AG13 AH05 AH07 2G011 AC02 AC14 AE03 2G051 AA51 AB02 CA03 CA04 EA08 EA11 EA14 EB01 EB02 ED07 4M106 AA01 AA20 BA10 CA38 DB04 DB21 DJ18 DJ20 DJ21 Continued on the front page F term (reference) 2G003 AA07 AF02 AF03 AG03 AG12 AG13 AH05 AH07 2G011 AC02 AC14 AE03 2G051 AA51 AB02 CA03 CA04 EA08 EA11 EA14 EB01 EB02 ED07 4M106 AA01 AA20 BA10 CA38 DB04 DB21 DJ18 DJ21 DJ21

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップに形成されたパッドに付け
られた測定針の針跡を検査する測定針の針跡検査方法に
おいて、 検査対象のパッドについて前記針跡が付けられる前後の
画像データを取得し、これら画像データを比較すること
により前記検査対象のパッドに付けられた前記針跡を特
定することを特徴とする測定針の針跡検査方法。
1. A method for inspecting a needle mark of a measuring needle attached to a pad formed on a semiconductor chip, the method comprising: acquiring image data before and after the needle mark is attached to a pad to be inspected. A method of inspecting a needle mark of a measuring needle, wherein the image data is compared to specify the needle mark attached to the pad to be inspected.
【請求項2】 前記針跡が付けられる前後の画像データ
間の差を画像処理手段により検出し、この検出結果に基
づいて前記パッドに前記針跡のみが表れた画像データを
得ることを特徴とする請求項1に記載の測定針の針跡検
査方法。
2. A method according to claim 1, wherein a difference between the image data before and after the needle mark is added is detected by an image processing means, and image data showing only the needle mark on the pad is obtained based on the detection result. The needle mark inspection method for a measuring needle according to claim 1.
【請求項3】 前記検査対象のパッドに前記測定針が接
触して測定を行っているときに、次の検査対象のパッド
の前記測定針の接触前の画像データを取得しておくこと
を特徴とする請求項1に記載の測定針の針跡検査方法。
3. When the measurement needle is in contact with the pad to be inspected and the measurement is being performed, image data before contact of the measurement needle with the next pad to be inspected is acquired. The needle mark inspection method for a measuring needle according to claim 1.
【請求項4】 前記針跡が付けられる前後の画像データ
のうち少なくとも一方の画像データを、複数のパッドに
ついて同時に取得することを特徴とする請求項1に記載
の測定針の針跡検査方法。
4. The method according to claim 1, wherein at least one of the image data before and after the needle mark is attached is acquired simultaneously for a plurality of pads.
JP2001124014A 2001-04-23 2001-04-23 Method of inspecting trace of probing needle Pending JP2002318263A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001124014A JP2002318263A (en) 2001-04-23 2001-04-23 Method of inspecting trace of probing needle

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001124014A JP2002318263A (en) 2001-04-23 2001-04-23 Method of inspecting trace of probing needle

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002318263A true JP2002318263A (en) 2002-10-31

Family

ID=18973475

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001124014A Pending JP2002318263A (en) 2001-04-23 2001-04-23 Method of inspecting trace of probing needle

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002318263A (en)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006278381A (en) * 2005-03-28 2006-10-12 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Inspection apparatus and method for acquiring amount of positional deviation
JP2007103860A (en) * 2005-10-07 2007-04-19 Tokyo Seimitsu Co Ltd Method of detecting probe contact trace, and prober
JP2007114073A (en) * 2005-10-21 2007-05-10 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Stylus trace detecting device and method
JP2010276477A (en) * 2009-05-28 2010-12-09 Fuji Electric Systems Co Ltd Device and method of testing semiconductor chip
US7863914B2 (en) 2007-01-08 2011-01-04 Samsung Electronics Co., Ltd. Method for testing semiconductor memory device using probe and semiconductor memory device using the same
CN104034737A (en) * 2014-06-13 2014-09-10 上海华岭集成电路技术股份有限公司 Method for detecting testability of three-dimensional chip
JP2015079912A (en) * 2013-10-18 2015-04-23 株式会社東京精密 Probing apparatus for electronic device, and probing method
TWI483325B (en) * 2008-05-23 2015-05-01 Tokyo Electron Ltd A stitch check device, a probe device and a stitch check method, and a memory medium
JP2015099943A (en) * 2015-02-25 2015-05-28 株式会社東京精密 Probing apparatus and probing method of electronic device
CN112362580A (en) * 2020-10-26 2021-02-12 琉明光电(常州)有限公司 Photographing detection system and method for probe mark
CN116342590A (en) * 2023-05-24 2023-06-27 合肥晶合集成电路股份有限公司 Method and device for detecting wafer test needle mark

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4594144B2 (en) * 2005-03-28 2010-12-08 大日本スクリーン製造株式会社 Inspection apparatus and positional deviation amount acquisition method
JP2006278381A (en) * 2005-03-28 2006-10-12 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Inspection apparatus and method for acquiring amount of positional deviation
JP2007103860A (en) * 2005-10-07 2007-04-19 Tokyo Seimitsu Co Ltd Method of detecting probe contact trace, and prober
JP2007114073A (en) * 2005-10-21 2007-05-10 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Stylus trace detecting device and method
US7863914B2 (en) 2007-01-08 2011-01-04 Samsung Electronics Co., Ltd. Method for testing semiconductor memory device using probe and semiconductor memory device using the same
TWI483325B (en) * 2008-05-23 2015-05-01 Tokyo Electron Ltd A stitch check device, a probe device and a stitch check method, and a memory medium
JP2010276477A (en) * 2009-05-28 2010-12-09 Fuji Electric Systems Co Ltd Device and method of testing semiconductor chip
JP2015079912A (en) * 2013-10-18 2015-04-23 株式会社東京精密 Probing apparatus for electronic device, and probing method
CN104034737A (en) * 2014-06-13 2014-09-10 上海华岭集成电路技术股份有限公司 Method for detecting testability of three-dimensional chip
CN104034737B (en) * 2014-06-13 2017-01-18 上海华岭集成电路技术股份有限公司 Method for detecting testability of three-dimensional chip
JP2015099943A (en) * 2015-02-25 2015-05-28 株式会社東京精密 Probing apparatus and probing method of electronic device
CN112362580A (en) * 2020-10-26 2021-02-12 琉明光电(常州)有限公司 Photographing detection system and method for probe mark
CN116342590A (en) * 2023-05-24 2023-06-27 合肥晶合集成电路股份有限公司 Method and device for detecting wafer test needle mark
CN116342590B (en) * 2023-05-24 2023-11-03 合肥晶合集成电路股份有限公司 Method and device for detecting wafer test needle mark

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3132565B2 (en) Defect inspection method and apparatus
US5581632A (en) Method and apparatus for ball bond inspection system
US6198529B1 (en) Automated inspection system for metallic surfaces
KR0169985B1 (en) Automatic package inspection method
KR20150070301A (en) Detecting defects on a wafer using defect-specific information
KR100997415B1 (en) Image binarizing method, image proccessing device and recording medium having a computer program
JP2002318263A (en) Method of inspecting trace of probing needle
JP2004340832A (en) Method and system for visual inspection of circuit board
KR101146081B1 (en) Detection of macro-defects using micro-inspection inputs
JPH07159337A (en) Fault inspection method for semiconductor element
CN109827970B (en) Semiconductor chip test system and method
JP2010091361A (en) Method and device for inspecting image
CN105136818B (en) The image detection method of printed base plate
KR100608225B1 (en) Method for verification of the components of printed circuit board
JP4131804B2 (en) Mounting component inspection method
JP6053579B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP4828741B2 (en) Probe mark measuring method and probe mark measuring apparatus
JP2010091360A (en) Method and device for inspecting image
JPH07312382A (en) Probe device
JPS62233746A (en) Checker for chip mounted board
KR101367193B1 (en) Inspection method for horizontality and pressure of collet
JPS62262192A (en) Mark inspection method
JPH10223707A (en) Wafer-testing method and device
KR19990087848A (en) Inspection Region Preparing Method and Visual Inspection Method
CN116804637A (en) Inspection system, teacher data generation device, teacher data generation method, and storage medium

Legal Events

Date Code Title Description
RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20071027