JP2002317151A - Hard coat film for film base material and method for producing the same - Google Patents

Hard coat film for film base material and method for producing the same

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JP2002317151A
JP2002317151A JP2001121609A JP2001121609A JP2002317151A JP 2002317151 A JP2002317151 A JP 2002317151A JP 2001121609 A JP2001121609 A JP 2001121609A JP 2001121609 A JP2001121609 A JP 2001121609A JP 2002317151 A JP2002317151 A JP 2002317151A
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JP
Japan
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group
film
hard coat
coat film
sol
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Application number
JP2001121609A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshio Yoshihara
俊夫 吉原
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hard coat film for a film base material which has sufficient adhesiveness to the base material and hardness, and is flexible. SOLUTION: The hard coat film for a film base material comprises a gel film obtained by hydrolyzing a mixture of an organic silicon compound and an aluminum compound to prepare a sol, which is applied on a transparent film base material followed by heating the formed film, wherein the organic silicon compound is represented by formula (1): Rm Si(OR')n (1) (wherein R is a hydrocarbon group having a group selected from a 1-10C alkyl group, vinyl group, (meth)acryloyl group, epoxy group, amide group, sulfonyl group, hydroxy group and carboxy group, R' is a 1-10C alkyl group, and m+n is an integer of 4); and the aluminum compound is represented by formula (2): Al(R1 )(R2 )(R3 ) (2) (wherein R1 , R2 , and R3 are the same as or different from each other, and each a group selected from a 1-10C alkyl group, alkoxy group, acyloxy group and hydroxy group, and all or any of them may be replaced with chelating ligands).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高強度で、高い柔
軟性を持つ性質を両立させ、且つ透明性が高いフィルム
基材用ハードコート膜に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hard coat film for a film substrate, which has both high strength and high flexibility and high transparency.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラスチックフィルム基材を保護する目
的で該プラスチックフィルム基材上に形成する各種ハー
ドコート膜が提案されている。特に、プラスチックフィ
ルム基材上の塗膜表面の硬さが要求される場合には、ポ
リマーバインダー中に無機フイラーを分散させたコーテ
ィング液を用いて塗膜を形成することが行われている。
一方、水ガラスからなるコーティング液を用いて表面保
護が要求される物品にハードコート膜を形成したり、オ
ルトケイ酸エチルに代表される有機金属化合物を含むコ
ーティング液を基材表面に塗布し、加水分解−縮合反応
により、金属酸化物膜を形成させてなるハードコート膜
が提案されている。
2. Description of the Related Art Various hard coat films formed on a plastic film substrate have been proposed for the purpose of protecting the plastic film substrate. In particular, when the hardness of the surface of a coating film on a plastic film substrate is required, a coating film is formed using a coating liquid in which an inorganic filler is dispersed in a polymer binder.
On the other hand, a hard coat film is formed on an article for which surface protection is required using a coating liquid composed of water glass, or a coating liquid containing an organometallic compound represented by ethyl orthosilicate is applied to the surface of a substrate, and the coating liquid is applied. A hard coat film formed by forming a metal oxide film by a decomposition-condensation reaction has been proposed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ポリマーバインダー液
中に無機フイラーを分散させてなるコーティング液を用
いて得るタイプの従来のハードコート膜は、十分な硬さ
を出すためには、無機フイラーを膜中に大量に含ませる
必要がある。しかしながら、無機フイラーを高濃度でポ
リマーバインダー液中に分散させることは一般に困難で
あり、また、高濃度の分散が行えても無機フイラーが凝
集するため液寿命が短かったり、また、得られるハード
コート膜の透明性が低くなるという問題がある。また、
このような無機フイラーを高濃度に分散させたコーティ
ング液を用いて形成された塗膜は、表面硬度が向上する
ものの、塗膜の柔軟性に欠け、プラスチックフィルムを
曲げると塗膜に傷が発生するという問題がある。
A conventional hard coat film of a type obtained by using a coating liquid obtained by dispersing an inorganic filler in a polymer binder liquid is required to form an inorganic filler in order to obtain sufficient hardness. It needs to be included in large quantities. However, it is generally difficult to disperse the inorganic filler in the polymer binder liquid at a high concentration, and the liquid life is short because the inorganic filler is agglomerated even when the dispersion at a high concentration can be performed. There is a problem that the transparency of the film is lowered. Also,
A coating film formed by using a coating liquid in which such an inorganic filler is dispersed at a high concentration has improved surface hardness, but lacks flexibility of the coating film, and the coating film is damaged when the plastic film is bent. There is a problem of doing.

【0004】また、従来の水ガラスからなるコーティン
グ液を用いてハードコート膜をプラスチックフィルム基
材上に形成する場合には、高温での焼成過程を必要とす
るため、プラスチックフィルム基材上に形成することは
不可能である。
Further, when a hard coat film is formed on a plastic film substrate using a conventional coating solution composed of water glass, a baking process at a high temperature is required. It is impossible to do.

【0005】また、従来の有機金属化合物の加水分解一
縮合反応から得られるゾルを用いて形成されるハードコ
ート膜は、プラスチックフィルムにダメージを与えない
程度の温度で加熱することにより得ることができるが、
完全に塗膜を硬化させるには長時間を要するため生産性
に劣る。また、一般にその分子量が1万以下であり、基
材への密着性に劣ると同時に塗膜にした時でも硬くて脆
いというガラス特有の性質があるために、フィルムの曲
げに追従できなかったり、十分な膜強度が得られないと
いう問題がある。
Further, a hard coat film formed using a sol obtained from a conventional hydrolysis-condensation reaction of an organometallic compound can be obtained by heating at a temperature at which a plastic film is not damaged. But,
It takes a long time to completely cure the coating film, resulting in poor productivity. In addition, the molecular weight is generally 10,000 or less, poor adhesion to the substrate, and at the same time hard and brittle even when formed into a coating film because of the unique properties of glass, can not follow the bending of the film, There is a problem that sufficient film strength cannot be obtained.

【0006】そこで、本発明は、ハードコート膜形成用
のコーティング液中に含まれるハード機能成分が液中で
安定で、しかも、コーティング液をフィルム基材上に塗
布して塗膜とした場合に、塗膜の基材密着性や塗膜の硬
さが十分である性質と、塗膜の柔軟性が優れている性質
を併せ持つフィルム基材用ハードコート膜を提供するこ
とを目的とする。
Accordingly, the present invention relates to a case where a hard functional component contained in a coating liquid for forming a hard coat film is stable in the liquid and the coating liquid is applied on a film substrate to form a coating film. It is another object of the present invention to provide a hard coat film for a film base material, which has a property that the coating film has sufficient adhesiveness to the substrate and the hardness of the coating film, and a property that the flexibility of the coating film is excellent.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的は以下の本発明
によって達成される。
The above object is achieved by the present invention described below.

【0008】即ち、本発明は、下記一般式(1)で表わ
される有機ケイ素化合物と下記一般式(2)で表される
アルミニウム化合物とを混合して加水分解して調製して
得たゾルをゾル膜とし、該ゾル膜をゲル化してなるゲル
膜を主成分とするフィルム基材用ハードコート膜であ
る。
That is, the present invention provides a sol obtained by mixing and hydrolyzing an organosilicon compound represented by the following general formula (1) and an aluminum compound represented by the following general formula (2). This is a hard coat film for a film base, which is a sol film and mainly comprises a gel film obtained by gelling the sol film.

【0009】[0009]

【化7】 (Rは炭素数1〜10の、アルキル基、ビニル基、(メ
タ)アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニ
ル基、水酸基及びカルボキシル基から選ばれた基を有す
る炭化水素基、R′は炭素数1〜10のアルキル基を表
し、m+nは4の整数である。)
Embedded image (R is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and having a group selected from an alkyl group, a vinyl group, a (meth) acryloyl group, an epoxy group, an amide group, a sulfonyl group, a hydroxyl group and a carboxyl group; Represents an alkyl group of Formulas 1 to 10, and m + n is an integer of 4.)

【0010】[0010]

【化8】 (R1 、R2 、R3 は、同一でも異なってもよく、ハロ
ゲン、炭素数1〜10の、アルキル基、アルコキシ基、
アシルオキシ基及びヒドロキシ基から選ばれた基であ
り、これらの基は全部または一部がキレート配位子によ
り置き換えられていてもよい。) 本発明のフィルム基材用ハードコート膜の製造方法は、
前記一般式(1)で表わされる有機ケイ素化合物と前記
一般式(2)で表されるアルミニウム化合物とを混合し
て加水分解して調製して得たゾルを透明フィルム基材に
塗布した後、形成された塗膜を加熱によりゲル膜にする
ことを特徴とする。別の本発明のフィルム基材用ハード
コート膜の製造方法は、上記製造方法において、加熱に
よりゲル膜とする方法に変えて、活性エネルギー線の照
射によりゲル膜にする方法である。
Embedded image (R 1 , R 2 , and R 3 may be the same or different and include halogen, an alkyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms,
It is a group selected from an acyloxy group and a hydroxy group, and these groups may be entirely or partially replaced by a chelating ligand. The method for producing a hard coat film for a film substrate of the present invention comprises:
After applying the sol obtained by mixing and hydrolyzing the organosilicon compound represented by the general formula (1) and the aluminum compound represented by the general formula (2) to a transparent film substrate, It is characterized in that the formed coating film is turned into a gel film by heating. Another method for producing a hard coat film for a film substrate according to the present invention is a method in which a gel film is formed by irradiating active energy rays instead of the method of forming a gel film by heating in the above-described method.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】次に好ましい実施態様を挙げて本
発明を更に詳しく説明する。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to preferred embodiments.

【0012】前記一般式(1)で表される本発明で使用
する有機ケイ素化合物は、具体的には、テトラメトキシ
シラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロ
ポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ
−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラ
ン、テトラ−t e r t −ブトキシシラン、テトラペンタ
エトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシ
ラン、テトラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペ
ンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブ
トキシシラン、テトラペンタ−t e r t −ブトキシシラ
ン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキ
シシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエト
キシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキ
シシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキ
シシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシ
シラン、へキシルトリメトキシシラン、ビニルトリエト
キシシラン、γ−(メタクリロキシプロピル)トリメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、3−(−2−アミノエチルアミノプロピル)トリ
メトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリ
ス(βメトキシエトキシ)シラン、ビニルトリメトキシ
シラン、β−(3、4エポキシシクロヘキシル)エチル
トリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチル
ジエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)γ−アミ
ノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリ
メトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラ
ン等が挙げられるがこれらには限定されない。
The organosilicon compound represented by the general formula (1) and used in the present invention is, specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, Tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec -Butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxy Sisilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane, dimethylbutoxysilane, methyldimethoxysilane, methyldiethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ- (methacryloxypropyl) trimethoxysilane, γ-glycidoxy Propyltrimethoxysilane, 3-(-2-aminoethylaminopropyl) trimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, vinyltrimethoxysilane, β- (3,4 epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane Γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, N-β- (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyl Pills trimethoxysilane, .gamma.-mercaptopropyltrimethoxysilane, although .gamma.-chloropropyl trimethoxy silane, and the like are not limited to these.

【0013】前記一般式(2)で表される本発明で使用
されるアルミニウム化合物は、そこから誘導されるオリ
ゴマーおよび/またはその錯体であっても構わない。
The aluminum compound used in the present invention represented by the general formula (2) may be an oligomer derived therefrom and / or a complex thereof.

【0014】本発明のフィルム基材用ハードコート膜
は、上記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物の割
合が好ましくは90〜70モル%の範囲、より好ましく
は85〜75モル%の範囲が望ましく、上記一般式
(2)で表されるアルミニウム化合物の割合が好ましく
は10〜30モル%、より好ましくは15〜25モル%
の範囲が望ましい。有機ケイ素化合物が70モル%未
満、すなわちアルミニウム化合物が30モル%を超える
場合は、フィルム基材に対するハードコート膜の密着性
が著しく低下し、また硬化した後のフィルムの柔軟性が
無くなるために好ましくない。有機ケイ素化合物が90
モル%を超える場合、すなわちアルミニウム化合物が1
0モル%未満の場合、ハードコート膜の硬化が不十分な
ことによる塗膜強度の低下が顕著となり、好ましくな
い。
In the hard coat film for a film substrate of the present invention, the proportion of the organosilicon compound represented by the above general formula (1) is preferably in the range of 90 to 70 mol%, more preferably 85 to 75 mol%. The range is desirable, and the ratio of the aluminum compound represented by the general formula (2) is preferably 10 to 30 mol%, more preferably 15 to 25 mol%.
Is desirable. When the amount of the organosilicon compound is less than 70 mol%, that is, the amount of the aluminum compound exceeds 30 mol%, the adhesion of the hard coat film to the film substrate is significantly reduced, and the flexibility of the cured film is lost. Absent. 90 organosilicon compounds
More than mol%, that is, 1
When the amount is less than 0 mol%, the hardening of the hard coat film is insufficient, and the strength of the coating film is remarkably reduced, which is not preferable.

【0015】上記有機ケイ素化合物とアルミニウム化合
物の加水分解は、これらの混合物に直接、或いは適当な
溶媒中に溶解して行う。使用する溶媒としては、例え
ば、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール、メ
タノール、エタノール、メチルイソブチルケトン、酢酸
エチル、酢酸ブチル等のアルコール、ケトン、エステル
類、ハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素、或いはこれらの混合物が挙げられる。
The above-mentioned hydrolysis of the organosilicon compound and the aluminum compound is carried out directly on these mixtures or by dissolving them in a suitable solvent. As the solvent used, for example, methyl ethyl ketone, isopropyl alcohol, methanol, ethanol, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, alcohols such as ethyl acetate, ketones, esters, halogenated hydrocarbons, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene, Alternatively, a mixture thereof may be mentioned.

【0016】上記加水分解によって生成したゾルは適度
な固形分濃度に調節することが可能であるが、塗工適性
や液の安定性等から、好ましくは固形分で3重量%〜7
0重量%、より好ましくは20重量%〜60重量%であ
ることが望ましい。ゾルの濃度が3重量%未満であると
塗工に適さなくなり、一方、70重量%を超えると透明
均質膜の形成が困難となる。又、本発明においては、前
記範囲内のゾルの固形分濃度であるならば、有機物や無
機物バインダーを添加併用することも可能である。
The sol produced by the above-mentioned hydrolysis can be adjusted to an appropriate solid content concentration, but preferably from 3% by weight to 7% by solid content from the viewpoint of coating suitability and liquid stability.
It is desirably 0% by weight, more preferably 20% to 60% by weight. If the concentration of the sol is less than 3% by weight, it is not suitable for coating, while if it exceeds 70% by weight, it becomes difficult to form a transparent homogeneous film. In the present invention, if the solid content of the sol is within the above range, it is also possible to add and use an organic or inorganic binder.

【0017】この溶液に加水分解に必要な量以上の水を
加え、好ましくは15〜90℃、より好ましくは22〜
80℃の温度で、好ましくは1〜30時間、より好まし
くは2〜12時間撹拌を行うことが望ましい。
To this solution is added water in an amount not less than the amount required for hydrolysis, preferably at 15 to 90 ° C., more preferably at 22 to 90 ° C.
It is desirable to carry out stirring at a temperature of 80 ° C. for preferably 1 to 30 hours, more preferably 2 to 12 hours.

【0018】上記加水分解においては、反応促進のため
に必要に応じて触媒を用いることが好ましく、これらの
触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸又は酢酸等が好ましく
使用できる。これらの酸を約0.001〜5N、好まし
くは0.005〜2N程度の水溶液として加え、該水溶
液中の水分を加水分解用の水分とすることができる。
In the above-mentioned hydrolysis, it is preferable to use a catalyst as required for accelerating the reaction, and as such a catalyst, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid or acetic acid can be preferably used. These acids are added as an aqueous solution of about 0.001 to 5N, preferably about 0.005 to 2N, and the water in the aqueous solution can be used as the water for hydrolysis.

【0019】この様にして得られたゾルは上記アルミニ
ウム化合物を含むため、有機ケイ素化合物単独を加水分
解した場合に比べ、分子同士の縮合が進行し、ゾル自体
が粘性を持つようになり、フィルム基材に対して良好な
密着性を示すようになる。
Since the sol thus obtained contains the above-mentioned aluminum compound, condensation between molecules proceeds and the sol itself becomes viscous as compared with the case where the organosilicon compound alone is hydrolyzed, and It shows good adhesion to the substrate.

【0020】また、本発明のフィルム基材用ハードコー
ト膜に使用される材料はまた、塗膜の強度を向上させる
必要がある場合は平均粒子径が10〜300nmの無機
酸化物微粒子をハードコート膜中に3〜80重量%、好
ましくは20〜60重量%含ませても良い。本発明で用
いる上記のゾルは、無機酸化物微粒子との親和性が良好
であり、溶液中、或いは塗膜中の無機酸化物微粒子の均
一分散を容易に達成できる。無機酸化物微粒子が3重量
%未満の場合は、塗膜の硬度向上に効果が無く、80重
量%を超える場合は、基材との密着性の低下や耐衝撃性
の低下が起こるために好ましくない。
The material used for the hard coat film for a film substrate according to the present invention may be formed by hard coating inorganic oxide fine particles having an average particle diameter of 10 to 300 nm when it is necessary to improve the strength of the coated film. The film may contain 3 to 80% by weight, preferably 20 to 60% by weight. The sol used in the present invention has good affinity for inorganic oxide fine particles, and can easily achieve uniform dispersion of the inorganic oxide fine particles in a solution or a coating film. When the amount of the inorganic oxide fine particles is less than 3% by weight, there is no effect in improving the hardness of the coating film, and when the amount is more than 80% by weight, the adhesion to the base material and the impact resistance decrease, which is preferable. Absent.

【0021】本発明で好ましく使用できる無機酸化物微
粒子の粒子径は、10nm〜300nmの範囲が望まし
く、この粒子径範囲がコーティング液中において高分子
鎖のセグメント運動を妨げず、塗膜としたときに無機酸
化物微粒子の独立したネットワークを形成しやすい、即
ち、無機酸化物微粒子の少なくとも一部が網目状に連結
することができる範囲である。塗膜中に無機酸化物微粒
子の独立したネットワークを形成した場合には、塗膜の
最表面に無機酸化物微粒子が多く存在するような場合で
あっても塗膜の透明性を損なわず、塗膜の強度を高める
ことができる。無機酸化物微粒子の平均粒子径が10n
m以下では分散が困難であり、一方、300nm以上で
は可視光域の波長の光を散乱し、塗膜の透明性が損なわ
れるために好ましくない。
The particle diameter of the inorganic oxide fine particles which can be preferably used in the present invention is desirably in the range of 10 nm to 300 nm. This is a range in which an independent network of inorganic oxide fine particles can be easily formed, that is, at least a part of the inorganic oxide fine particles can be connected in a network. When an independent network of inorganic oxide fine particles is formed in the coating film, the transparency of the coating film is not impaired even when a large amount of inorganic oxide fine particles are present on the outermost surface of the coating film. The strength of the film can be increased. The average particle diameter of the inorganic oxide fine particles is 10 n
If it is less than m, dispersion is difficult. On the other hand, if it is more than 300 nm, light having a wavelength in the visible light range is scattered, and the transparency of the coating film is unfavorably deteriorated.

【0022】本発明で好ましく使用できる無機酸化物微
粒子としては、チタニア、シリカ、ジルコニア、酸化亜
鉛、アルミナ、酸化スズ、インジウムドープ酸化スズ
(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、ア
ルミニウムドープ酸化亜鉛から選ばれる1種以上であ
る。これらの無機酸化物微粒子のうち、チタニア、ジル
コニア、酸化亜鉛等は塗膜の屈折率を向上させるため
に、ハードコート膜に反射性や反射防止性を持たせるこ
とが可能であり、ITOやATO、アルミニウムドープ
酸化亜鉛を用いた場合はハードコート膜に帯電防止等の
電気的な性能を付与することが可能となる。
The inorganic oxide fine particles preferably usable in the present invention include titania, silica, zirconia, zinc oxide, alumina, tin oxide, indium-doped tin oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), and aluminum-doped zinc oxide. At least one member selected from the group consisting of: Among these inorganic oxide fine particles, titania, zirconia, zinc oxide and the like can provide the hard coat film with reflectivity or antireflection property in order to improve the refractive index of the coating film. When aluminum-doped zinc oxide is used, the hard coat film can be provided with electrical performance such as antistatic.

【0023】上記ゾルには、各種の添加剤を添加するこ
とができる。最も重要な添加剤としては、成膜を促進す
る硬化剤が挙げられ、これらの硬化剤としては、酢酸ナ
トリウム、酢酸リチウム等の有機酸金属塩の酢酸、ギ酸
等の有機酸溶液が挙げられる。該有機酸溶液の濃度は約
0.01〜0.1重量%程度であり、ゾル溶液に対する
添加量は、ゾル粒子100重量部に対して上記有機酸金
属塩として約0.1〜1重量部程度の範囲が好ましい。
Various additives can be added to the sol. The most important additives include curing agents that promote film formation, and examples of these curing agents include organic acid solutions of organic acid metal salts such as sodium acetate and lithium acetate, such as acetic acid and formic acid. The concentration of the organic acid solution is about 0.01 to 0.1% by weight, and the amount of the organic acid metal salt is about 0.1 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the sol particles. The range of the degree is preferable.

【0024】本発明で使用するフィルム基材としては、
例えば、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポ
リエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィ
ルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィ
ルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィル
ム、ポリエーテルフィルム、トリメチルペンテンフィル
ム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリロニ
トリルフィルム等の透明プラスチックフィルム基材が使
用できるが、特に、一軸延伸ポリエステルフィルムが透
明性に優れ、光学的に異方性が無い点で好適に用いられ
る。その厚みは、通常は8μm〜1000μm程度のも
のが好適に用いられる。
The film substrate used in the present invention includes:
For example, acetate butyrate cellulose film, polyether sulfone film, polyacrylic resin film, polyurethane resin film, polyester film, polycarbonate film, polysulfone film, polyether film, trimethylpentene film, polyetherketone film, (meta) A transparent plastic film substrate such as an acrylonitrile film can be used, but a uniaxially stretched polyester film is particularly preferably used because it has excellent transparency and does not have optical anisotropy. Usually, the thickness of about 8 μm to 1000 μm is suitably used.

【0025】本発明では、前記ゾルを、前記フィルム基
材の表面に塗布し、その後塗布物を加熱、或いは活性エ
ネルギー線照射処理することにより、ゲル膜を形成す
る。
In the present invention, the gel is formed by applying the sol to the surface of the film substrate and then heating or irradiating the coated material with active energy rays.

【0026】前記ゾルの樹脂基体への塗布方法として
は、スピンコート法、デイップ法、スプレー法、ロール
コーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、
クリーン印刷法、ビードコーター法等が挙げられる。
The sol is applied to a resin substrate by spin coating, dipping, spraying, roll coating, meniscus coating, flexographic printing, or the like.
Examples include a clean printing method and a bead coater method.

【0027】加熱による硬化は、フィルム基材に与える
ダメージを考慮した場合、フィルム基材がプラスチック
フィルムである場合には、150℃以下、より好ましく
は120℃以下であることが好ましい。
The curing by heating is preferably 150 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or lower when the film substrate is a plastic film in consideration of damage to the film substrate.

【0028】活性エネルギー線の照射による硬化には、
電子線又は紫外線の照射を用いることができ、特に電子
線が好ましい。例えば、電子線硬化の場合にはコックロ
フトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コ
ア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の
各種電子線加速機から放出される50〜1,000Ke
v、より好ましくは80〜300Kevのエネルギーを
有する電子線が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧
水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キ
セノンアーク、メタルハライドランプ等の光源から発す
る紫外線等が利用される。活性エネルギー線の総照射量
として、活性エネルギー線が電子線である場合に2Mr
ad以上、好ましくは2〜50Mradの範囲が望まし
い。
For curing by irradiation with active energy rays,
Irradiation with an electron beam or ultraviolet rays can be used, and an electron beam is particularly preferable. For example, in the case of electron beam curing, 50 to 1 emitted from various electron beam accelerators such as Cockloft-Walton type, Bande graph type, Resonant transformation type, Insulating core transformer type, Linear type, Dynamitron type, High frequency type, etc. 2,000 Ke
v, more preferably an electron beam having an energy of 80 to 300 Kev. In the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays emitted from a light source such as an ultra-high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp. Used. When the active energy beam is an electron beam, the total irradiation amount of the active energy beam is 2 Mr.
ad or more, preferably in the range of 2 to 50 Mrad.

【0029】電子線照射は、空気を酸素で置換しなが
ら、或は十分な酸素雰囲気中で行うことが好ましく、酸
素雰囲気中で行うことにより塗膜中にSiO2 の生成、
重合・縮合が促進され、より均質且つ高品質のゲル層を
形成することが、短時間で行われる。これらの塗膜硬化
において、ゲル膜の膜厚は0.1〜100μmの間で任
意に調節することができる。
The electron beam irradiation, while replacing the air with oxygen, or it is preferably carried out with sufficient oxygen atmosphere, generation of SiO 2 in the coating film by carrying out in an oxygen atmosphere,
The polymerization / condensation is promoted, and a more uniform and high quality gel layer is formed in a short time. In curing these coating films, the thickness of the gel film can be arbitrarily adjusted between 0.1 and 100 μm.

【0030】[0030]

【実施例】以下に、本発明のフィルム基材用ハードコー
ト膜を実施例を用いて説明する。
EXAMPLES The hard coat film for a film substrate of the present invention will be described below with reference to examples.

【0031】〔実施例1〕 ゾル溶液の調製 10.0g(80モル%)の3−グリシドキシプロピル
トレメトキシシラン、2.60g(20モル%)のアル
ミニウムsec−ブトキシドをフラスコ中で、氷で冷却
しながら、5分間撹拌した。この混合物に2.85gの
蒸留水を徐々に滴下して加え、その混合物を60分間撹
拌し、透明で均一なゾル溶液を得た。これをゾル溶液
と称す。
Example 1 Preparation of Sol Solution 10.0 g (80 mol%) of 3-glycidoxypropyltremethoxysilane, 2.60 g (20 mol%) of aluminum sec-butoxide were placed in a flask and placed on ice. The mixture was stirred for 5 minutes while cooling. 2.85 g of distilled water was gradually added dropwise to the mixture, and the mixture was stirred for 60 minutes to obtain a transparent and uniform sol solution. This is called a sol solution.

【0032】 無機酸化物微粒子分散溶液の調製 表面が撥水性のルチル型酸化チタン微粒子(TTO51
(C):商品名、石原産業社製)10.0g、分散剤
(デイスパービック 163:商品名、ビックケミー・
ジャパン社製)4.O g をメチルイソブチルケトン5
6.0gをマヨネーズ瓶に入れ、混合物の約4倍量のジ
ルコニアビーズ(φ0.3mm)を媒体に用いてペイン
トシェーカーで10時間振とうし、一次の平均粒子径3
0nmのチタニア微粒子分散液を得た。
Preparation of Dispersion Solution of Inorganic Oxide Fine Particles Rutile-type titanium oxide fine particles having a water-repellent surface (TTO51)
(C): 10.0 g of a trade name (manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.), dispersant (Dispervic 163: trade name, BYK Chemie
Japan Co., Ltd.) 4. O g to methyl isobutyl ketone 5
6.0 g was placed in a mayonnaise bottle, and the mixture was shaken for 10 hours with a paint shaker using about 4 times the amount of zirconia beads (φ0.3 mm) as a medium to obtain a primary average particle diameter of 3%.
A 0 nm titania fine particle dispersion was obtained.

【0033】 無機酸化物微粒子分散ゾル溶液の調製 −1 無機酸化物微粒子を使用した系 上記のゾル溶液10.0gに対して、上記で調製し
たチタニア微粒子分散液10.0gを加え、10分間マ
グネチックスターラーで撹拌して無機酸化物微粒子を分
散させたゾル溶液を得た。これをゾル溶液−1と称
す。
Preparation of Inorganic Oxide Fine Particle-Dispersed Sol Solution -1 System Using Inorganic Oxide Fine Particles To 10.0 g of the above sol solution, 10.0 g of the above-prepared titania fine particle dispersion was added, and magnetized for 10 minutes The mixture was stirred with a tick stirrer to obtain a sol solution in which the inorganic oxide fine particles were dispersed. This is called sol solution-1.

【0034】−2 無機酸化物ゾルを使用した系 上記のゾル溶液10.0gに対して、日産化学株式会
社製の(MIBK−ST:商品名、固形分20重量%の
コロイダルシリカ)を10.0g加え、10分間マグネ
チックスターラーで撹拌して標記無機酸化物ゾル分散さ
せたゾル溶液を得た。これをゾル溶液−2と称す。
2. System Using Inorganic Oxide Sol Sol-based 10.0 g of the above sol solution was charged with (MIBK-ST: trade name, colloidal silica having a solid content of 20% by weight) manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. 0 g was added, and the mixture was stirred with a magnetic stirrer for 10 minutes to obtain a sol solution in which the title inorganic oxide sol was dispersed. This is called sol solution-2.

【0035】 ハードコート層の形成 透明フィルム基材として厚さ100μmのPETフィル
ム(A−4350:商品名、東洋紡社製)に上記、
−1、−2で得たゾル溶液を溶剤除去後の膜厚が、1
0μmとなるように塗工した。硬化の条件は以下の2通
りの手法を用いた。すなわち、(1)120℃で1時間
の熱処理を行った場合と、(2)電子線照射装置を用い
て180kv、20mAで1回の照射量を20Mr a d
として20回照射を行った場合の両者でハードコート膜
を示す。
Formation of Hard Coat Layer A 100 μm-thick PET film (A-4350: trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd.)
The thickness of the sol solution obtained in -1, 2 after removal of the solvent is 1
Coating was performed so as to be 0 μm. The curing conditions used were the following two methods. That is, (1) a case where heat treatment is performed at 120 ° C. for 1 hour, and (2) a single irradiation dose of 20 Mrad at 180 kV and 20 mA using an electron beam irradiation apparatus.
The hard coat film is shown in both cases where irradiation was performed 20 times.

【0036】 フィルム基材用ハードコート膜の特性
評価 上記の工程を経て、加熱、及び電子線照射(EB照
射)により得られた6種類のハードコート膜を形成した
フィルム基材の全光線透過率、JIS−K7361−1
に基づくヘイズ値、JIS K5600−5−4に基づ
く塗膜の鉛筆高度、セロテープ(登録商標)を用いた基
盤目剥離試験、また、傷を付けた後の下記手法による復
元性試験や基材の折り曲げ試験を行ったときの結果を下
記の表1にした。
Evaluation of Characteristics of Hard Coat Film for Film Substrate Total light transmittance of film substrate formed with six types of hard coat films obtained by heating and electron beam irradiation (EB irradiation) through the above steps , JIS-K7361-1
Haze value based on JIS, pencil height of coating film based on JIS K5600-5-4, peeling test of base board using Cellotape (registered trademark), restoration test after scratching, The results of the bending test are shown in Table 1 below.

【0037】復元性試験 JIS K5600−5−4に基づく塗膜の鉛筆高度試
験法を用いて4Hの鉛筆で1kgの荷重でフィルム基材
上の塗膜に傷を付けて所定時間放置した後、光学顕微鏡
の反射光で傷の見え具合を観察した。復元性試験の結果
として、与えた傷が光学顕微鏡で確認できなくなった放
置時間を下記の表1に示す。た。
Restorability test The coating film on the film substrate was scratched with a 4H pencil at a load of 1 kg using a pencil height test method based on JIS K5600-5-4 and left for a predetermined time. The appearance of the flaw was observed with reflected light from an optical microscope. Table 1 below shows the resting time as a result of the restorability test in which the scratches given were no longer confirmed by an optical microscope. Was.

【0038】折り曲げ試験 上記の工程で得られた塗工フィルムを10cm×10
cmに切り、中心を塗工面を山折りにして完全に折り曲
げたときの折り面の状況を観察した。その結果を下記の
表1に示した。
Folding test The coated film obtained in the above-mentioned process was 10 cm × 10
cm, and the center of the coated surface was mountain-folded to observe the state of the folded surface when completely folded. The results are shown in Table 1 below.

【0039】〔比較例1〕アルミニウム化合物を用いず
に、10.0g(80モル%)の3−グリシドキシプロ
ピルトレメトキシシランのみを用い、フラスコ中で氷で
冷却しながら、蒸留水2.29gを加えて60分間撹拌
して比較例1のコーティング液を得た。
[Comparative Example 1] Only 10.0 g (80 mol%) of 3-glycidoxypropyltremethoxysilane was used without using an aluminum compound. 29 g was added and stirred for 60 minutes to obtain a coating liquid of Comparative Example 1.

【0040】〔比較例2〕10.0g(95モル%)の
3−グリシドキシプロピルトレメトキシシラン、0.5
2g(5モル%)のアルミニウムsec−ブトキシドを
フラスコ中で、氷で冷却しながら、5分間撹拌した。
Comparative Example 2 10.0 g (95 mol%) of 3-glycidoxypropyltremethoxysilane, 0.5 g
2 g (5 mol%) of aluminum sec-butoxide was stirred in a flask for 5 minutes while cooling with ice.

【0041】この混合物に2.39gの蒸留水を徐々に
滴下して加え、その混合物を60分間撹拌し、比較例2
のコーティング液を得た。
To this mixture was slowly added dropwise 2.39 g of distilled water, and the mixture was stirred for 60 minutes.
Was obtained.

【0042】〔比較例3〕10.0g(60モル%)の
3−グリシドキシプロピルトレメトキシシラン、4.1
7g(40モル%)のアルミニウムsec−ブトキシド
をフラスコ中で、氷で冷却しながら、5分間撹拌した。
Comparative Example 3 10.0 g (60 mol%) of 3-glycidoxypropyltremethoxysilane, 4.1
7 g (40 mol%) of aluminum sec-butoxide was stirred in a flask for 5 minutes while cooling with ice.

【0043】この混合物に3.19gの蒸留水を徐々に
滴下して加え、その混合物を60分間撹拌し、比較例3
のコーティング液を得た。
To this mixture, 3.19 g of distilled water was gradually added dropwise, and the mixture was stirred for 60 minutes.
Was obtained.

【0044】以上の比較例1〜3で得られた3種類のコ
ーティング液を前記実施例1と同様に透明フィルム基材
として厚さ100μmのPETフィルム(A−435
0:商品名、東洋紡社製)に溶剤除去後の膜厚が10μ
mとなるように塗工した後、120℃で1時間の熱処理
を行って比較例1〜3の各塗膜を得た。
The three types of coating liquids obtained in Comparative Examples 1 to 3 were used as a transparent film substrate in the same manner as in Example 1 to form a PET film (A-435) having a thickness of 100 μm.
0: trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd.)
m, and heat-treated at 120 ° C. for 1 hour to obtain each coating film of Comparative Examples 1 to 3.

【0045】これらの塗膜を形成したフィルムの光学特
性として全光線透過率、へイズ値及び塗膜の復元性、折
り曲げ性、密着性について測定した結果を下記の表1に
示す。
Table 1 below shows the results obtained by measuring the total light transmittance, the haze value, and the resilience, bending property, and adhesion of the coating film as optical characteristics of the film on which these coating films were formed.

【0046】[0046]

【表1】 [Table 1]

【0047】表1によれば、実施例1のハードコート膜
は、塗膜の基材密着性や塗膜の硬さが十分である性質
と、塗膜の柔軟性が優れている性質を併せ持つことが分
かる。アルミニウム化合物を含有しない比較例1のコー
ティング膜に比べて、アルミニウム化合物を含むことを
除いて他の条件は比較例1と同じ実施例1のハードコー
ト膜は、高度、復元性、折り曲げ性、密着性が優れてい
ることが分かる。また、有機ケイ素化合物を95モル
%、アルミニウム化合物を5モル%含む本発明の範囲外
の成分組成の比較例2のハードコート膜は、実施例1の
ハードコート膜に比べて、硬度が低く、復元性が長いこ
とが分かる。また、有機ケイ素化合物を60%、アルミ
ニウム化合物を40モル%含む本発明の範囲外の成分組
成のハードコート膜は、実施例1のハードコート膜に比
べて、硬度が低く、復元性がなく、折り曲げ性が悪いこ
とが分かる。
According to Table 1, the hard coat film of Example 1 has both the property that the adhesion of the coating film to the substrate and the hardness of the coating film are sufficient, and the property that the flexibility of the coating film is excellent. You can see that. Compared to the coating film of Comparative Example 1 containing no aluminum compound, the hard coat film of Example 1 was the same as Comparative Example 1 except that it contained an aluminum compound. It can be seen that the properties are excellent. Further, the hard coat film of Comparative Example 2 having a component composition outside the range of the present invention containing 95 mol% of the organosilicon compound and 5 mol% of the aluminum compound has lower hardness than the hard coat film of Example 1, and It can be seen that the resilience is long. Further, the hard coat film having a component composition out of the range of the present invention containing 60% of the organosilicon compound and 40 mol% of the aluminum compound has lower hardness and less restoring property than the hard coat film of Example 1. It turns out that bending property is bad.

【0048】〔実施例2〕硬化時間試験 前記実施例1で本発明のゾル溶液の塗膜を完全硬化さ
せるのに120℃の加熱では1時間を要したが、加熱時
間を60℃にすると3日間要し、加熱時間を80℃にす
ると1日間要した。
Example 2 Curing time test In Example 1, heating at 120 ° C. took one hour to completely cure the coating film of the sol solution of the present invention. It took one day and one day when the heating time was 80 ° C.

【0049】比較のために前記比較例1のゾル溶液を完
全に硬化させるには60℃で2週間、80℃で1週間要
した。したがって発明のフィルム基材用ハードコート膜
は、塗膜の完全硬化が短時間で済むため、生産性に優
れ、トリアセチルセルロース等の熱ダメージを受けやす
いフィルム基材に対して適用できる利点がある 〔実施例3〕カール発生試験 前記実施例1で本発明のゾル溶液を用いて形成した塗
膜の膜厚を10μmまでとした場合には、フィルム基材
のカールの発生は認められなかった。本発明のゾル溶液
−1、−2を用いて形成した塗膜の膜厚を25μm
までとした場合にはカールの発生を認められなかった。
これに対して、比較例1のアルミ化合物の添加の無いゾ
ル溶液に対しては膜厚が5μを越えるとカールの発生が
認められた。比較例2の有機ケイ素化合物95%含むゾ
ル溶液に対しては、膜厚が8μmを超えるとカールが発
生した。比較例3では前記実施例1のゾル溶液と同程
度であった。
For comparison, it took two weeks at 60 ° C. and one week at 80 ° C. to completely cure the sol solution of Comparative Example 1. Therefore, the hard coat film for a film substrate of the present invention has an advantage that it can be applied to a film substrate that is easily damaged by heat, such as triacetyl cellulose, because the complete curing of the coating film is completed in a short time, so that the productivity is excellent. [Example 3] Curl generation test When the thickness of the coating film formed by using the sol solution of the present invention in Example 1 was up to 10 µm, no curl of the film substrate was observed. The thickness of the coating film formed using the sol solutions -1 and -2 of the present invention is 25 μm.
When it was up to, no curling was observed.
On the other hand, in the sol solution of Comparative Example 1 to which no aluminum compound was added, curling was observed when the film thickness exceeded 5 μm. For the sol solution containing 95% of the organosilicon compound of Comparative Example 2, curling occurred when the film thickness exceeded 8 μm. In Comparative Example 3, it was almost the same as the sol solution of Example 1.

【0050】[0050]

【発明の効果】本発明のフィルム基材用ハードコート膜
は、ハードコート膜形成用のコーティング液中に含まれ
るハード機能成分が液中で安定で、しかも、コーティン
グ液をフィルム基材上に塗布して塗膜とした場合に、塗
膜の基材密着性や塗膜の硬さが十分である性質と、塗膜
の柔軟性が優れている性質を併せ持つ。
According to the hard coat film for a film substrate of the present invention, the hard functional component contained in the coating solution for forming the hard coat film is stable in the solution, and the coating solution is applied onto the film substrate. When the film is formed by coating, the film has both a property that the substrate adhesion and hardness of the film are sufficient and a property that the flexibility of the film is excellent.

【0051】本発明のフィルム基材用ハードコート膜
は、前記有機ケイ素化合物と前記アルミニウム化合物と
を混合して加水分解して調製して得たゾルをゾル膜と
し、該ゾル膜をゲル化しているため、ゾル中に含まれて
いるアルミニウム化合物がシリカの重縮合の触媒として
働く。そのため、アルミニウム化合物を含んでいない場
合に比べ、より低温、より短時間での硬化が可能とな
る。
The hard coat film for a film substrate of the present invention is prepared by mixing the organosilicon compound and the aluminum compound and hydrolyzing the sol to prepare a sol, and the sol film is gelled. Therefore, the aluminum compound contained in the sol functions as a catalyst for polycondensation of silica. Therefore, curing can be performed at a lower temperature and in a shorter time than when no aluminum compound is contained.

【0052】本発明のフィルム基材用ハードコート膜
は、塗膜の完全硬化が短時間で行えるため、生産性に優
れる。本発明のフィルム基材用ハードコート膜は、加熱
硬化後の塗膜のカールの発生が少ない。
The hard coat film for a film substrate of the present invention is excellent in productivity because the coating film can be completely cured in a short time. In the hard coat film for a film substrate of the present invention, curling of the coating film after heat curing is small.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4F006 AA35 AB39 BA02 CA05 EA03 4F100 AA21B AH06B AH08B AK42A AT00A BA02 BA07 GB07 GB15 GB31 GB90 JB12 JK04 JK06 JK08 JL00 JM01B JM10B JN01 4J038 DL021 DL031 DM021 HA216 HA446 KA20 NA11 PA19 PC08  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page F term (reference) 4F006 AA35 AB39 BA02 CA05 EA03 4F100 AA21B AH06B AH08B AK42A AT00A BA02 BA07 GB07 GB15 GB31 GB90 JB12 JK04 JK06 JK08 JL00 JM01B JM10B JN01 4J038 DL021 HA03

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1)で表わされる有機ケイ
素化合物と下記一般式(2)で表されるアルミニウム化
合物とを混合して加水分解して調製して得たゾルをゾル
膜とし、該ゾル膜をゲル化してなるゲル膜を主成分とす
るフィルム基材用ハードコート膜。 【化1】 (Rは炭素数1〜10の、アルキル基、ビニル基、(メ
タ)アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニ
ル基、水酸基及びカルボキシル基から選ばれた基を有す
る炭化水素基、R′は炭素数1〜10のアルキル基を表
し、m+nは4の整数である。) 【化2】 (R1 、R2 、R3 は、同一でも異なってもよく、ハロ
ゲン、炭素数1〜10の、アルキル基、アルコキシ基、
アシルオキシ基及びヒドロキシ基から選ばれた基であ
り、これらの基は全部または一部がキレート配位子によ
り置き換えられていてもよい。)
A sol film obtained by mixing and hydrolyzing an organosilicon compound represented by the following general formula (1) and an aluminum compound represented by the following general formula (2) to form a sol film, A hard coat film for a film base, comprising a gel film obtained by gelling the sol film as a main component. Embedded image (R is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and having a group selected from an alkyl group, a vinyl group, a (meth) acryloyl group, an epoxy group, an amide group, a sulfonyl group, a hydroxyl group and a carboxyl group; Represents an alkyl group of Formulas 1 to 10, and m + n is an integer of 4.) (R 1 , R 2 , and R 3 may be the same or different and include halogen, an alkyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms,
It is a group selected from an acyloxy group and a hydroxy group, and these groups may be entirely or partially replaced by a chelating ligand. )
【請求項2】 前記一般式(1)で表される有機ケイ素
化合物の割合が90〜70モル%の範囲であり、前記一
般式(2)で表されるアルミニウム化合物の割合が10
〜30モル%の範囲であることを特徴とする請求項1記
載のフィルム基材用ハードコート膜。
2. The proportion of the organosilicon compound represented by the general formula (1) is in the range of 90 to 70 mol%, and the proportion of the aluminum compound represented by the general formula (2) is 10%.
The hard coat film for a film substrate according to claim 1, wherein the content is in a range of from 30 mol% to 30 mol%.
【請求項3】 前記ハードコート膜中に平均粒子径が1
0〜300nmの無機酸化物微粒子を3〜80重量%含
むことを特徴とする請求項1又は2記載のフィルム基材
用ハードコート膜。
3. The hard coat film having an average particle size of 1
3. The hard coat film for a film substrate according to claim 1, comprising 3 to 80% by weight of inorganic oxide fine particles of 0 to 300 nm.
【請求項4】 前記ハードコート膜中において前記無機
酸化物微粒子の少なくとも一部が網目状に連結している
ことを特徴とする請求項3記載のフィルム基材用ハード
コート膜。
4. The hard coat film for a film substrate according to claim 3, wherein at least a part of the inorganic oxide fine particles are connected in a network in the hard coat film.
【請求項5】 前記無機酸化物微粒子がチタニア、シリ
カ、ジルコニア、酸化亜鉛、アルミナ、酸化スズ、イン
ジウムドープ酸化スズ(ITO)、アンチモンドープ酸
化スズ(ATO)、アルミニウムドープ酸化亜鉛から選
ばれる1種以上の微粒子であることを特徴とする請求項
3又は4記載のフィルム基材用ハードコート膜。
5. The inorganic oxide fine particles are one selected from titania, silica, zirconia, zinc oxide, alumina, tin oxide, indium-doped tin oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), and aluminum-doped zinc oxide. The hard coat film for a film substrate according to claim 3 or 4, wherein the hard coat film is a fine particle.
【請求項6】 下記一般式(1)で表わされる有機ケイ
素化合物と下記一般式(2)で表されるアルミニウム化
合物とを混合して加水分解して調製して得たゾルを透明
フィルム基材に塗布した後、形成された塗膜を加熱によ
りゲル膜にすることを特徴とするフィルム基材用ハード
コート膜の製造方法。 【化3】 (Rは炭素数1〜10の、アルキル基、ビニル基、(メ
タ)アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニ
ル基、水酸基及びカルボキシル基から選ばれた基を有す
る炭化水素基、R′は炭素数1〜10のアルキル基を表
し、m+nは4の整数である。) 【化4】 (R1 、R2 、R3 は、同一でも異なってもよく、ハロ
ゲン、炭素数1〜10の、アルキル基、アルコキシ基、
アシルオキシ基及びヒドロキシ基から選ばれた基であ
り、これらの基は全部または一部がキレート配位子によ
り置き換えられていてもよい。)
6. A sol obtained by mixing and hydrolyzing an organosilicon compound represented by the following general formula (1) and an aluminum compound represented by the following general formula (2) to obtain a transparent film substrate A method for producing a hard coat film for a film substrate, comprising applying the formed coating film to a gel film by heating after coating the film. Embedded image (R is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and having a group selected from an alkyl group, a vinyl group, a (meth) acryloyl group, an epoxy group, an amide group, a sulfonyl group, a hydroxyl group and a carboxyl group; Represents an alkyl group of Formulas 1 to 10, and m + n is an integer of 4.) (R 1 , R 2 , and R 3 may be the same or different and include halogen, an alkyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms,
It is a group selected from an acyloxy group and a hydroxy group, and these groups may be entirely or partially replaced by a chelating ligand. )
【請求項7】 下記一般式(1)で表わされる有機ケイ
素化合物と下記一般式(2)で表されるアルミニウム化
合物とを混合して加水分解して調製して得たゾルを透明
フィルム基材に塗布した後、形成された塗膜を活性エネ
ルギー線の照射によりゲル膜にすることを特徴とするフ
ィルム基材用ハードコート膜の製造方法。 【化5】 (Rは炭素数1〜10の、アルキル基、ビニル基、(メ
タ)アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニ
ル基、水酸基及びカルボキシル基から選ばれた基を有す
る炭化水素基、R′は炭素数1〜10のアルキル基を表
し、m+nは4の整数である。) 【化6】 (R1 、R2 、R3 は、同一でも異なってもよく、ハロ
ゲン、炭素数1〜10の、アルキル基、アルコキシ基、
アシルオキシ基及びヒドロキシ基から選ばれた基であ
り、これらの基は全部または一部がキレート配位子によ
り置き換えられていてもよい。)
7. A sol obtained by mixing and hydrolyzing an organosilicon compound represented by the following general formula (1) and an aluminum compound represented by the following general formula (2) to obtain a transparent film substrate A method for producing a hard coat film for a film substrate, comprising applying the formed coating film to a gel film by irradiating the film with an active energy ray after applying the film to the substrate. Embedded image (R is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and having a group selected from an alkyl group, a vinyl group, a (meth) acryloyl group, an epoxy group, an amide group, a sulfonyl group, a hydroxyl group and a carboxyl group; Represents an alkyl group of Formulas 1 to 10, and m + n is an integer of 4.) (R 1 , R 2 , and R 3 may be the same or different and include halogen, an alkyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms,
It is a group selected from an acyloxy group and a hydroxy group, and these groups may be entirely or partially replaced by a chelating ligand. )
JP2001121609A 2001-04-19 2001-04-19 Hard coat film for film base material and method for producing the same Pending JP2002317151A (en)

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