JP2002316015A - Exhaust gas treating device - Google Patents

Exhaust gas treating device

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JP2002316015A
JP2002316015A JP2001119851A JP2001119851A JP2002316015A JP 2002316015 A JP2002316015 A JP 2002316015A JP 2001119851 A JP2001119851 A JP 2001119851A JP 2001119851 A JP2001119851 A JP 2001119851A JP 2002316015 A JP2002316015 A JP 2002316015A
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JP
Japan
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pipe
exhaust gas
scrubber
water
nozzle
Prior art date
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Application number
JP2001119851A
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Japanese (ja)
Inventor
Tadashi Seto
忠 瀬戸
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the attaching of a reaction product to the neighborhood of a connection part between a sucking pipe through which exhaust gas is supplied and an inlet scrubber. SOLUTION: A nozzle 9 which comprises a piping 9a for jetting having a ring shape along the inner surface of a sucking pipe 2 on the inner surface of the sucking pipe 2 and jetting ports 9b which are made by opening a plurality of holes along the shape on the piping 9a for jetting are disposed in the neighborhood of the connection part of the inlet scrubber 1 and the sucking pipe 2. The direction of the jetting from the respective jetting ports 9b is directed toward the connection part between the inlet scrubber 1 and the sucking pipe 2 and an air flow or a water flow is permitted to occur all over the inner surface of the sucking pipe 2 from the nozzle 9 to the connection part between the sucking pipe 2 and the inlet scrubber 1. In addition, an air stream adjusting plate 10 which has an inclination which gently stands up from the inner surface of the sucking pipe 2 is disposed on the upper part opposite to the side on which the jetting ports 9b of the nozzle 9 are disposed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置で
発生する排ガスから有害な成分を除去する排ガス処理装
置に関する。詳しくは、スクラバに接続された排ガスが
通る配管の内面で、前記スクラバと前記配管の接続部の
近傍に、このスクラバと配管の接続部を向いた噴出口を
有するノズルを設けて、少なくとも気体か液体の一方を
噴出することで、排ガスを供給する配管とスクラバとの
接続部の付近への反応物の付着を抑えることができるよ
うにした排ガス処理装置に関する。
The present invention relates to an exhaust gas treatment apparatus for removing harmful components from exhaust gas generated in a semiconductor manufacturing apparatus. Specifically, a nozzle having an ejection port facing the connection between the scrubber and the pipe is provided near the connection between the scrubber and the pipe on the inner surface of the pipe through which the exhaust gas connected to the scrubber passes. The present invention relates to an exhaust gas treatment apparatus capable of suppressing adhesion of a reactant near a connection between a pipe for supplying exhaust gas and a scrubber by ejecting one of liquids.

【0002】[0002]

【従来の技術】CVD装置等の半導体製造装置を有する
製造設備では、半導体製造装置で発生する排ガスから有
害成分を除去するために排ガス処理装置が使用されてい
る。図4は従来の排ガス処理装置の構成図である。入口
スクラバ1は、水により排ガス中の粉塵および水可溶性
成分の除去を行うものである。このため、入口スクラバ
1は、その上部に排ガスを吸気するための配管である吸
気管2が接続されるとともに、その内部には水を噴出す
るためのシャワーノズル1aが設けられている。
2. Description of the Related Art In a manufacturing facility having a semiconductor manufacturing apparatus such as a CVD apparatus, an exhaust gas processing apparatus is used to remove harmful components from exhaust gas generated in the semiconductor manufacturing apparatus. FIG. 4 is a configuration diagram of a conventional exhaust gas treatment apparatus. The inlet scrubber 1 removes dust and water-soluble components in exhaust gas with water. For this reason, the inlet scrubber 1 is connected to an intake pipe 2 which is a pipe for sucking exhaust gas, and a shower nozzle 1a for jetting water is provided inside the inlet scrubber 1.

【0003】ここで、入口スクラバ1は、内部の点検等
を目的として図示しない窓が設けられており、このた
め、側面が平面で構成されるように角柱形状となってい
る。これに対して、吸気管2は円筒形状である。反応器
3は、ガスを熱により酸化分解するものである。このた
め、反応器3にはヒータ4が設けられ、反応器3内を例
えば750℃程度に加熱する。
Here, the entrance scrubber 1 is provided with a window (not shown) for the purpose of inspecting the inside and the like, and thus has a prismatic shape such that the side surface is formed as a plane. In contrast, the intake pipe 2 has a cylindrical shape. The reactor 3 oxidizes and decomposes a gas by heat. For this reason, a heater 4 is provided in the reactor 3 and heats the inside of the reactor 3 to, for example, about 750 ° C.

【0004】出口スクラバ5は水により粉塵除去および
排ガスの冷却を行うものである。このため、出口スクラ
バ5は、その内部には水を噴出するためのシャワーノズ
ル5aが設けられているとともに、その上部に処理の完
了した排ガスを排気するための配管である排気管6が接
続されている。
The outlet scrubber 5 removes dust and cools exhaust gas with water. For this reason, the outlet scrubber 5 is provided therein with a shower nozzle 5a for ejecting water, and an exhaust pipe 6 serving as a pipe for exhausting the treated exhaust gas is connected to an upper portion thereof. ing.

【0005】入口スクラバ1と反応器3はその下部で接
続している。また、反応器3と出口スクラバ5とはその
下部で接続している。そして、入口スクラバ1、反応器
3および出口スクラバ5の下部には、シャワーノズル1
a,シャワーノズル5aより噴出した水および除去され
た粉塵等を溜めるドレンタンク7が設けられる。なお、
ドレンタンク7に溜まった水は図示しない排出口から外
部に排出される。
[0005] The inlet scrubber 1 and the reactor 3 are connected at the lower part. The reactor 3 and the outlet scrubber 5 are connected at the lower part. A shower nozzle 1 is provided below the inlet scrubber 1, the reactor 3 and the outlet scrubber 5.
a, a drain tank 7 for storing water spouted from the shower nozzle 5a, removed dust, and the like. In addition,
The water accumulated in the drain tank 7 is discharged to the outside from a discharge port (not shown).

【0006】従来の排ガス処理装置の動作を説明する
と、吸気管2からは、SiH,NH ,C,O
等を含む排ガスが供給される。入口スクラバ2では、
シャワーノズル1aから水を噴出して、吸気管2から供
給される排ガス中の水可溶性成分を除去する。例えば排
ガス中のNH(アンモニア)は水可溶性であり、入口
スクラバ1でシャワーノズル1aから噴出される水に溶
けてドレンタンク7に落下する。また、排ガス中の粉塵
も水の噴出で除去している。
The operation of a conventional exhaust gas treatment device will be described.
From the intake pipe 2, SiH4, NH 3, C2F6, O
2Exhaust gas containing the same is supplied. At entrance scrubber 2,
Water is spouted from the shower nozzle 1a and supplied from the intake pipe 2.
The water-soluble components in the supplied exhaust gas are removed. For example,
NH in gas3(Ammonia) is water soluble
Dissolve in water spouted from shower nozzle 1a by scrubber 1.
And falls into the drain tank 7. Also, dust in exhaust gas
It has also been removed with a jet of water.

【0007】入口スクラバ1を通過して粉塵および水可
溶性成分の除去が行われた排ガスは、反応器3に送り込
まれる。反応器3では、ヒータ4により排ガスを750
℃程度に加熱することで、熱酸化分解を行う。例えば排
ガス中のSiH(シラン)はSiO(シリカ)と水
に分解される。
The exhaust gas from which dust and water-soluble components have been removed through the inlet scrubber 1 is sent to the reactor 3. In the reactor 3, the exhaust gas 750 is discharged by the heater 4.
Thermal oxidation decomposition is performed by heating to about ° C. For example, SiH 4 (silane) in exhaust gas is decomposed into SiO 2 (silica) and water.

【0008】反応器3を通過した排ガスは出口スクラバ
5に送り込まれる。出口スクラバ5では、シャワーノズ
ル5aから水を噴出して、反応器3から送り込まれる排
ガス中に残留している水可溶性成分および反応器3で生
成された粉塵の除去、さらには反応器3で加熱された排
ガスの冷却を行い、排気管6から排出する。
The exhaust gas that has passed through the reactor 3 is sent to an outlet scrubber 5. At the outlet scrubber 5, water is spouted from the shower nozzle 5 a to remove water-soluble components remaining in the exhaust gas sent from the reactor 3 and dust generated in the reactor 3, and further heat the reactor 3. The exhaust gas is cooled and discharged from the exhaust pipe 6.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】図5は従来の問題点を
示す説明図である。入口スクラバ1では、排ガス中のS
iHとシャワーノズル1aから噴出される水が反応し
てSiOが生成される。ここで、入口スクラバ1内で
は、シャワーノズル1aから水を噴出することで発生す
る水蒸気が吸気管2方向へ上昇して来る。また、吸気管
2が円筒形状であるのに対して入口スクラバ1が角柱形
状であることから、吸気管2と入口スクラバ1との接続
部の付近は気流が悪くなりがちである。さらに、入口ス
クラバ1内で水を使用しているため、排ガスが冷却さ
れ、反応物が堆積しやすい状態となっている。このた
め、入口スクラバ1と吸気管2の接続部の付近には、反
応物8が堆積するという問題があった。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a conventional problem. At the inlet scrubber 1, S in the exhaust gas
The iH 4 reacts with the water jetted from the shower nozzle 1a to generate SiO 2 . Here, in the inlet scrubber 1, steam generated by jetting water from the shower nozzle 1a rises toward the intake pipe 2. In addition, since the inlet scrubber 1 has a prismatic shape while the intake pipe 2 has a cylindrical shape, the airflow tends to deteriorate near the connection between the inlet pipe 2 and the inlet scrubber 1. Further, since water is used in the inlet scrubber 1, the exhaust gas is cooled and the reactants are easily deposited. Therefore, there is a problem that the reactant 8 is deposited near the connection between the inlet scrubber 1 and the intake pipe 2.

【0010】また、入口スクラバ1と吸気管2との接続
部の付近に反応物8が堆積すると、吸気管2から入口ス
クラバ1への排ガスの流れが悪くなり、吸気管2側が高
圧になるとともに、入口スクラバ1側が低圧となる差圧
異常(インターロック)が発生するという問題があっ
た。
When the reactant 8 accumulates in the vicinity of the connection between the inlet scrubber 1 and the intake pipe 2, the flow of exhaust gas from the intake pipe 2 to the inlet scrubber 1 deteriorates, and the pressure on the intake pipe 2 side becomes high. However, there is a problem that a differential pressure abnormality (interlock) occurs in which the pressure on the inlet scrubber 1 side becomes low.

【0011】そして、差圧異常が発生すると、排ガスの
十分な処理が行えなくなるので、装置の運用を停止して
反応物8の除去を行わなければならないが、排ガス処理
装置を停止させるということは、排ガスの発生源である
設備全体を停止させなければならず、設備を運用するた
めの段取りが増加するという問題があった。本発明は、
このような問題を解決するためになされたもので、排ガ
スを供給する配管とスクラバとの接続部の付近への反応
物の付着を抑えることができる排ガス処理装置を提供す
ることを目的とする。
[0011] When an abnormal pressure difference occurs, the exhaust gas cannot be sufficiently treated. Therefore, it is necessary to stop the operation of the apparatus and remove the reactant 8. In addition, there has been a problem in that the entire facility, which is a source of exhaust gas, must be stopped, and the number of setups for operating the facility increases. The present invention
An object of the present invention is to provide an exhaust gas treatment apparatus capable of suppressing the adhesion of a reactant near a connection between a pipe for supplying exhaust gas and a scrubber.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明に係る排ガス処理
装置は、スクラバに排ガスを供給して有害成分を除去す
る排ガス処理装置において、前記スクラバに接続された
排ガスが通る配管の内面で、前記スクラバと前記配管の
接続部の近傍に、このスクラバと配管の接続部を向い
て、少なくとも気体か液体の一方を噴出する噴出口を有
するノズルを設けたものである。
An exhaust gas treatment apparatus according to the present invention is an exhaust gas treatment apparatus for supplying exhaust gas to a scrubber to remove harmful components, wherein the exhaust gas is connected to the scrubber at an inner surface of a pipe through which the exhaust gas passes. A nozzle having an ejection port for ejecting at least one of a gas and a liquid is provided near the connection between the scrubber and the pipe, facing the connection between the scrubber and the pipe.

【0013】本発明の排ガス処理装置は、排ガスが通る
配管に設けられるノズルの噴出口から例えばN2を噴出
することとすると、配管とスクラバとの接続部に向けて
N2が噴出されることになる。これにより、反応物の付
着しやすい配管とスクラバとの接続部の付近では、配管
の内面に沿って気流が生じることになり、反応物の付着
が抑えられる。
In the exhaust gas treatment apparatus of the present invention, if N2 is ejected from the ejection port of the nozzle provided in the pipe through which the exhaust gas passes, N2 is ejected toward the connection between the pipe and the scrubber. . Accordingly, an airflow is generated along the inner surface of the pipe near the connection between the pipe and the scrubber to which the reactant is likely to adhere, and thus the adherence of the reactant is suppressed.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】図1は本発明の排ガス処理装置の
実施の形態を示す構成図である。入口スクラバ1は、水
により排ガス中の粉塵および水可溶性成分の除去を行う
ものである。このため、入口スクラバ1は、その上部に
排ガスを吸気するための配管である吸気管2が接続され
るとともに、その内部には水を噴出するためのシャワー
ノズル1aが設けられている。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of an exhaust gas treatment apparatus according to the present invention. The inlet scrubber 1 removes dust and water-soluble components in exhaust gas with water. For this reason, the inlet scrubber 1 is connected to an intake pipe 2 which is a pipe for sucking exhaust gas, and a shower nozzle 1a for jetting water is provided inside the inlet scrubber 1.

【0015】ここで、入口スクラバ1は、内部の点検等
を目的として図示しない窓が設けられており、このた
め、側面が平面で構成されるように角柱形状となってい
る。これに対して、吸気管2は円筒形状である。
Here, the entrance scrubber 1 is provided with a window (not shown) for the purpose of inspecting the inside and the like, and thus has a prismatic shape such that the side surface is formed as a plane. In contrast, the intake pipe 2 has a cylindrical shape.

【0016】吸気管2の内部にはノズル9が設けられ
る。このノズル9は、吸気管2と入口スクラバ1の接続
部の近傍に設けられる。図2はこのノズル9の構成を示
す説明図で、図2(a)は排ガス処理装置のノズル9が
設けられている部分を上斜め方向から見た要部斜視図、
図2(b)は下斜め方向から見た要部斜視図である。な
お、図2では、吸気管2の内部に設けられるノズル9を
表示するため、吸気管2および入口スクラバ1は2点鎖
線で示している。また、図3はノズル9の構成を示す断
面図である。
A nozzle 9 is provided inside the intake pipe 2. This nozzle 9 is provided in the vicinity of a connection between the intake pipe 2 and the inlet scrubber 1. FIG. 2 is an explanatory view showing the configuration of the nozzle 9, and FIG. 2A is a perspective view of a main part of the exhaust gas treatment device where the nozzle 9 is provided, as viewed obliquely from above.
FIG. 2B is a perspective view of a main part viewed from a lower oblique direction. In FIG. 2, the intake pipe 2 and the inlet scrubber 1 are shown by two-dot chain lines in order to display the nozzles 9 provided inside the intake pipe 2. FIG. 3 is a sectional view showing the configuration of the nozzle 9.

【0017】ノズル9は噴出用配管9aと噴出口9bと
から構成される。噴出用配管9aは吸気管2の内面に沿
ったリング形状で、吸気管2と入口スクラバ1の接続部
の近傍で、吸気管2の内面に水平な状態で取り付けられ
る。なお、この噴出用配管9aは、吸気管2を通る排ガ
スの流れを妨げないように、吸気管2の内面からの高さ
が低く抑えられる径の小さな管を使用する。
The nozzle 9 is composed of an ejection pipe 9a and an ejection port 9b. The discharge pipe 9a has a ring shape along the inner surface of the intake pipe 2, and is attached to the inner surface of the intake pipe 2 in a horizontal state in the vicinity of a connection portion between the intake pipe 2 and the inlet scrubber 1. It should be noted that a pipe with a small diameter whose height from the inner surface of the intake pipe 2 is kept low so as not to obstruct the flow of exhaust gas passing through the intake pipe 2 is used as the jetting pipe 9a.

【0018】この噴出用配管9aの、排ガスが流れる方
向の上流を向いた側、すなわち上側には、吸気管2の内
面から緩やかに立ち上がる傾斜を持つ気流調整板10が
設けられている。この気流調整板10は、図3に示すよ
うに、噴出用配管9aの断面形状を略水滴形状とするこ
とで、噴出用配管9aと一体に形成することとしてもよ
いし、噴出用配管9aとは別体に設けてもよい。
An air flow adjusting plate 10 having a slope that rises gently from the inner surface of the intake pipe 2 is provided on the side of the jet pipe 9a facing upstream in the direction in which the exhaust gas flows, that is, on the upper side. As shown in FIG. 3, the airflow adjusting plate 10 may be formed integrally with the jetting pipe 9a by making the cross-sectional shape of the jetting pipe 9a substantially a water drop shape, or may be formed integrally with the jetting pipe 9a. May be provided separately.

【0019】噴出用配管9aには下向きに噴出口9bが
設けられる。この噴出口9bは噴出用配管9aの下側に
複数の穴を、例えば、噴出用配管9aの形状に沿って1
列に並べて開けることで形成されるものである。そし
て、各噴出口9bからの噴出方向は、吸気管2と入口ス
クラバ1の接続部の付近を向いている。なお、噴出口9
bは、例えば吸気管2の径に応じて、数を変化させたり
穴の大きさを変化させる。また、複数の噴出口9bを1
列に並べるのではなく、複数列に並べることとしてもよ
い。さらに、噴出口9bは噴出用配管9aの形状に沿っ
たスリット形状でもよい。
The ejection pipe 9a is provided with an ejection port 9b facing downward. The ejection port 9b has a plurality of holes below the ejection pipe 9a, for example, one hole along the shape of the ejection pipe 9a.
It is formed by lining up and opening. The direction of ejection from each ejection port 9b is directed to the vicinity of the connection between the intake pipe 2 and the inlet scrubber 1. In addition, spout 9
b changes the number or the size of the hole according to, for example, the diameter of the intake pipe 2. In addition, the plurality of ejection ports 9b are
Instead of arranging them in columns, they may be arranged in a plurality of columns. Further, the ejection port 9b may have a slit shape along the shape of the ejection pipe 9a.

【0020】図1に戻り、ノズル9の噴出用配管9aに
は供給用配管11が接続される。この供給用配管11を
通して、ノズル9の噴出用配管9aには、N(窒素ガ
ス)およびHO(水)が選択的に供給され、噴出口9
bから噴出する。なお、ノズル9はリング形状の噴出用
配管9aと、この噴出用配管9aに穴を開けてなる複数
の噴出口9bとから構成されるものであり、噴出用配管
9a内にNあるいは水を供給することで、すべての噴
出口9bからNあるいは水が噴出するので、1本の供
給用配管11を噴出用配管9aに接続するだけでよい。
Returning to FIG. 1, a supply pipe 11 is connected to the ejection pipe 9a of the nozzle 9. Through the supply pipe 11, N 2 (nitrogen gas) and H 2 O (water) are selectively supplied to the ejection pipe 9 a of the nozzle 9.
Spout from b. The nozzle 9 is a jet pipe 9a of the ring-shaped, which is composed of a plurality of ejection ports 9b consisting pierced the jet pipe 9a, the N 2 or water in the jet pipe 9a Since N 2 or water is ejected from all the ejection ports 9b by supplying, only one supply pipe 11 needs to be connected to the ejection pipe 9a.

【0021】供給用配管11に、Nと水を選択的に供
給する供給手段として、Nを供給する図示しない供給
源に接続される配管12aと水を供給する図示しない供
給源に接続される配管12bが接続される。そして、配
管12aにはNの流量を調整するフローメーター13
aが設けられるとともに、Nの供給/非供給を切り替
えるバルブ14aが設けられる。また、配管12bには
水の流量を調整するフローメータ13bが設けられると
ともに、水の供給/非供給を切り替えるバルブ14bが
設けられる。これらバルブ14aおよび14bはタイマ
ー15によって開閉が制御され、時間によりNおよび
水の供給/非供給を行う。
As supply means for selectively supplying N 2 and water to the supply pipe 11, a pipe 12a connected to a supply source (not shown) for supplying N 2 and a supply source (not shown) for supplying water are provided. Pipe 12b is connected. A flow meter 13 for adjusting the flow rate of N 2 is provided in the pipe 12a.
with a is provided, the valve 14a for switching the supply / non-supply of the N 2 is provided. The pipe 12b is provided with a flow meter 13b for adjusting the flow rate of water and a valve 14b for switching supply / non-supply of water. These valves 14a and 14b are opened and closed is controlled by the timer 15, to supply / non-supply of N 2 and water by the time.

【0022】入口スクラバ1には、その内面を水で濡ら
すため、上部に水の噴出口16が設けられる。反応器3
は、ガスを熱により酸化分解するものである。このた
め、反応器3にはヒータ4が設けられ、反応器3内を例
えば750℃程度に加熱する。出口スクラバ5は水によ
り粉塵除去および排ガスの冷却を行うものである。この
ため、出口スクラバ5は、その内部には水を噴出するた
めのシャワーノズル5aが設けられているとともに、そ
の上部に処理の完了した排ガスを排気するための配管で
ある排気管6が接続されている。
The inlet scrubber 1 is provided with a water outlet 16 at the top to wet the inner surface with water. Reactor 3
Oxidizes and decomposes a gas by heat. For this reason, a heater 4 is provided in the reactor 3 and heats the inside of the reactor 3 to, for example, about 750 ° C. The outlet scrubber 5 removes dust and cools exhaust gas with water. For this reason, the outlet scrubber 5 is provided therein with a shower nozzle 5a for ejecting water, and an exhaust pipe 6 serving as a pipe for exhausting the treated exhaust gas is connected to an upper portion thereof. ing.

【0023】入口スクラバ1と反応器3はその下部で接
続している。また、反応器3と出口スクラバ5とはその
下部で接続している。そして、入口スクラバ1、反応器
3および出口スクラバ5の下部には、シャワーノズル1
a,シャワーノズル5aより噴出した水および除去され
た粉塵等を溜めるドレンタンク7が設けられる。なお、
ドレンタンク7に溜まった水等は図示しない排出口から
外部に排出される。
The inlet scrubber 1 and the reactor 3 are connected at the lower part. The reactor 3 and the outlet scrubber 5 are connected at the lower part. A shower nozzle 1 is provided below the inlet scrubber 1, the reactor 3 and the outlet scrubber 5.
a, a drain tank 7 for storing water spouted from the shower nozzle 5a, removed dust, and the like. In addition,
Water and the like accumulated in the drain tank 7 are discharged to the outside through a discharge port (not shown).

【0024】次に図1〜図3を用いて本実施の形態の排
ガス処理装置の動作を説明する。まず、ノズル9からは
を噴出させている。すなわち、Nを供給する側の
バルブ14aを開き、水を供給する側のバルブ14bを
閉じることで、供給用配管11を介してノズル9の噴出
用配管9aにNを供給する。噴出用配管9aに供給さ
れたNは噴出口9bより噴出する。噴出口9bは、そ
の噴出方向が下向きに設けられているので、Nは吸気
管2の内面に沿うように噴出される。また、複数の噴出
口9bがリング形状の噴出用配管9aに沿って一列に並
べて設けられているので、円筒形状の吸気管2の内面全
体に亘りNが噴出される。ここで、噴出口9bより噴
出したNが、吸気管2のノズル9が設けられた位置か
ら、吸気管2と入口スクラバ1との接続部までの間Pに
おいて吸気管2の内面全体に亘り流れるように、フロー
メータ13aによりNの流量は調整されている。
Next, the operation of the exhaust gas treatment apparatus according to this embodiment will be described with reference to FIGS. First, N 2 is ejected from the nozzle 9. That is, opening the valve 14a of the side for supplying the N 2, water by closing the valve 14b of the supply side, and supplies a N 2 to jet pipe 9a of the nozzle 9 via the supply pipe 11. N 2 supplied to the jet pipe 9a is ejected from the ejection port 9b. Since the ejection direction of the ejection port 9 b is downward, N 2 is ejected along the inner surface of the intake pipe 2. Further, a plurality of ejection ports 9b because are provided side by side in a row along the jet pipe 9a of the ring-shaped, N 2 is blown over the entire inner surface of the intake pipe 2 of cylindrical shape. Here, the N 2 spouted from the spout 9 b extends over the entire inner surface of the intake pipe 2 at P from the position where the nozzle 9 of the intake pipe 2 is provided to the connection between the intake pipe 2 and the inlet scrubber 1. as flow, the flow rate of N 2 is adjusted by the flow meter 13a.

【0025】吸気管2からは、SiH,NH,C
,O等を含む排ガスが供給される。入口スクラバ
1では、シャワーノズル1aから水を噴出して、吸気管
2から供給される排ガス中の水可溶性成分を除去する。
例えば排ガス中のNH(アンモニア)は水可溶性であ
り、入口スクラバ1でシャワーノズル1aから噴出され
る水に溶けてドレンタンク7に落下する。また、排ガス
中の粉塵も水の噴出で除去している。
From the intake pipe 2, SiH 4 , NH 3 , C 2
Exhaust gas containing F 6 , O 2 and the like is supplied. In the inlet scrubber 1, water is spouted from the shower nozzle 1 a to remove water-soluble components in the exhaust gas supplied from the intake pipe 2.
For example, NH 3 (ammonia) in the exhaust gas is water-soluble, and is dissolved in water spouted from the shower nozzle 1 a at the inlet scrubber 1 and falls into the drain tank 7. Dust in the exhaust gas is also removed by jetting water.

【0026】また、入口スクラバ1では、排ガス中のS
iH(シラン)とシャワーノズル1aから噴出される
水が反応してSiO(シリカ)が生成される。ここ
で、入口スクラバ1内では、シャワーノズル1aから水
を噴出することで発生する水蒸気が吸気管2方向へ上昇
して来る。また、吸気管2が円筒形状であるのに対して
入口スクラバ1が角柱形状であることから、吸気管2と
入口スクラバ1との接続部の付近は気流が悪くなりがち
である。
In addition, at the inlet scrubber 1, S in the exhaust gas
iH 4 (silane) reacts with water spouted from the shower nozzle 1a to generate SiO 2 (silica). Here, in the inlet scrubber 1, steam generated by jetting water from the shower nozzle 1a rises toward the intake pipe 2. In addition, since the inlet scrubber 1 has a prismatic shape while the intake pipe 2 has a cylindrical shape, the airflow tends to deteriorate near the connection between the inlet pipe 2 and the inlet scrubber 1.

【0027】本実施の形態では、吸気管2と入口スクラ
バ1との接続部の付近において吸気管2の内面全体に亘
りNが流れているので、反応物が吸気管2と入口スク
ラバ1との接続部に付着することを抑制できる。そし
て、反応物はNの流れおよびシャワーノズル1aから
噴出される水によりドレンタンク7に落とされる。な
お、ノズル9の噴出用配管9aの上部に、吸気管2の内
面から緩やかに立ち上がる傾斜を持つ気流調整板10が
設けられているので、ノズル9が吸気管2において排ガ
スの流れの妨げにはならず、また、ノズル9上への反応
物の堆積を防いでいる。
In the present embodiment, since N 2 flows over the entire inner surface of the intake pipe 2 near the connection between the intake pipe 2 and the inlet scrubber 1, the reactant reacts with the intake pipe 2 and the inlet scrubber 1. Can be prevented from adhering to the connection part. Then, the reactant is dropped into the drain tank 7 by the flow of N 2 and the water jetted from the shower nozzle 1a. In addition, since the airflow adjusting plate 10 having a slope that rises gently from the inner surface of the intake pipe 2 is provided above the ejection pipe 9 a of the nozzle 9, the nozzle 9 prevents the exhaust pipe 2 from obstructing the flow of exhaust gas. However, it also prevents the deposition of reactants on the nozzle 9.

【0028】入口スクラバ1を通過して粉塵および水可
溶性成分の除去等が行われた排ガスは、反応器3に送り
込まれる。反応器3では、ヒータ4により排ガスを75
0℃程度に加熱することで、熱酸化分解を行う。例えば
排ガス中のSiHはSiO と2HOに分解され
る。
Dust and water pass through the inlet scrubber 1
The exhaust gas from which the soluble components have been removed is sent to the reactor 3.
Be included. In the reactor 3, the exhaust gas is reduced to 75 by the heater 4.
Thermal oxidative decomposition is performed by heating to about 0 ° C. For example
SiH in exhaust gas4Is SiO 2And 2H2Broken down into O
You.

【0029】反応器3を通過した排ガスは出口スクラバ
5に送り込まれる。出口スクラバ5では、シャワーノズ
ル5aから水を噴出して、反応器3から送り込まれる排
ガス中に残留している水可溶性成分および反応器3で生
成された粉塵の除去、さらには反応器3で加熱された排
ガスの冷却を行い、排気管6から排出する。
The exhaust gas passing through the reactor 3 is sent to an outlet scrubber 5. At the outlet scrubber 5, water is spouted from the shower nozzle 5 a to remove water-soluble components remaining in the exhaust gas sent from the reactor 3 and dust generated in the reactor 3, and further heat the reactor 3. The exhaust gas is cooled and discharged from the exhaust pipe 6.

【0030】ここで、供給用配管11にはタイマー15
の制御により例えば一日の中で、23.5時間はN
連続して流す。これにより、ノズル9から23.5時間
の間常時N2が噴出しており、吸気管2への反応物の付
着を抑えることができる。また、供給用配管11からノ
ズル9へ常時Nが流れていることから、噴出口9bの
目詰まりを抑えることができる。
Here, a timer 15 is connected to the supply pipe 11.
Controlled by in e.g. day, 23.5 hours continuously passes the N 2. As a result, N2 is constantly ejected from the nozzle 9 for 23.5 hours, so that adhesion of the reactant to the intake pipe 2 can be suppressed. Further, since the constant N 2 flows to the nozzle 9 from the supply pipe 11, it is possible to suppress the clogging of the ejection port 9b.

【0031】また、残りの0.5時間は、タイマー15
の制御によりNを供給する側のバルブ14aを閉じ、
水を供給する側のバルブ14bを開くことで、供給用配
管11を介してノズル9の噴出用配管9aに水を供給す
る。噴出用配管9aに供給された水は噴出口9bより円
筒形状の吸気管2の内面全体に亘り噴出される。
The remaining 0.5 hours are set by the timer 15
Control closed side of the valve 14a for supplying the N 2 by the,
By opening the valve 14b on the water supply side, water is supplied to the ejection pipe 9a of the nozzle 9 via the supply pipe 11. The water supplied to the ejection pipe 9a is ejected from the ejection port 9b over the entire inner surface of the cylindrical intake pipe 2.

【0032】ここで、噴出口9bより噴出した水が、吸
気管2のノズル9が設けられた位置から、吸気管2と入
口スクラバ1との接続部までの間の吸気管2の内面全体
に亘り流れるように、フローメータ13bにより水の流
量は調整されている。このように、ノズル9から水を流
すことで、Nを流してもなお付着する反応物の洗浄が
行える。なお、Nと水を流す時間設定についてはタイ
マー15のセットにより任意に行えるものである。
Here, the water spouted from the spout 9b spreads over the entire inner surface of the intake pipe 2 from the position where the nozzle 9 of the intake pipe 2 is provided to the connection between the intake pipe 2 and the inlet scrubber 1. The flow rate of the water is adjusted by the flow meter 13b so that the water flows over. In this way, by flowing water from the nozzle 9, enabling washing of the reaction product also flowing N 2 still attached. The time for flowing N 2 and water can be set arbitrarily by setting the timer 15.

【0033】本実施の形態の排ガス処理装置では、入口
スクラバ1と吸気管2の接続部の付近への反応物の付着
が抑えるられるので、差圧異常の発生を抑えることがで
きる。これにより、例えば、従来、週に一度のメンテナ
ンスを必要としていたものが、月に一度に減らすことが
できる。また、吸気管2と入口スクラバ1との接続部の
付近で、吸気管2内にNおよび水を流すことで、排ガ
ス中のSiH,NHの除去を促進することができ、
これら有害成分の除去効率を上げることができる。
In the exhaust gas treatment apparatus of the present embodiment, the adhesion of the reactant to the vicinity of the connection between the inlet scrubber 1 and the intake pipe 2 is suppressed, so that the occurrence of abnormal pressure difference can be suppressed. Thereby, for example, what conventionally required maintenance once a week can be reduced once a month. Also, by flowing N 2 and water into the intake pipe 2 near the connection between the intake pipe 2 and the inlet scrubber 1, removal of SiH 4 and NH 3 in the exhaust gas can be promoted,
The efficiency of removing these harmful components can be increased.

【0034】さらに、本実施の形態では、ノズル9は、
リング形状の噴出用配管9aに、複数の穴をあけてなる
噴出口9bを設けた構造で、これを吸気管2の内面に取
り付けてあるので、簡単な構造で、吸気管2の内面全体
に亘り気流や水流、例えばN の流れを作り出すことが
でき、低コストで反応物の付着を抑えた排ガス処理装置
を実現可能である。なお、本実施の形態では、ノズル9
からNと水を噴出することとしたが、N に替えてド
ライエアを噴出して、吸気管2の内面に気流を生じさせ
ることとしてもよい。
Further, in the present embodiment, the nozzle 9
A plurality of holes are made in the ring-shaped ejection pipe 9a.
The structure is provided with a jet port 9b, which is attached to the inner surface of the intake pipe 2.
Because it is attached, the simple structure, the entire inner surface of the intake pipe 2
Air flow and water flow, such as N 2To create the flow of
Exhaust gas treatment equipment that can be produced at low cost and suppresses the adhesion of reactants
Is feasible. In this embodiment, the nozzle 9
To N2And spout water, but N 2In place of
The air is blown out to generate airflow on the inner surface of the intake pipe 2.
It may be good.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、スクラ
バに接続された排ガスが通る配管の内面で、前記スクラ
バと前記配管の接続部の近傍に、このスクラバと配管の
接続部を向いて、少なくとも気体か液体の一方を噴出す
る噴出口を有するノズルを設けた排ガス処理装置であ
る。
As described above, the present invention is directed to the connection between the scrubber and the pipe near the connection between the scrubber and the pipe on the inner surface of the pipe through which the exhaust gas connected to the scrubber passes. An exhaust gas treatment apparatus provided with a nozzle having an ejection port for ejecting at least one of a gas and a liquid.

【0036】これにより、反応物の付着しやすい配管と
スクラバとの接続部の付近では、配管の内面に沿って気
流を生じさせることができ、配管とスクラバとの接続部
の付近への反応物の付着を抑えることができる。
In this way, an air flow can be generated along the inner surface of the pipe near the connection between the pipe and the scrubber to which the reactant easily adheres, and the reactant can be generated near the connection between the pipe and the scrubber. Adhesion can be suppressed.

【0037】よって、配管とスクラバとの間の差圧異常
の発生が抑えられる。そして、差圧異常の発生が抑えら
れることから、排ガス処理装置の故障率の低減を図ると
ともに安全性の向上を図ることができる。
Therefore, occurrence of abnormal pressure difference between the pipe and the scrubber can be suppressed. Since the occurrence of the differential pressure abnormality is suppressed, the failure rate of the exhaust gas treatment device can be reduced and the safety can be improved.

【0038】また、差圧異常の発生が抑えられることか
ら、排ガス処理装置の運用を停止する頻度が低減し、こ
れにより、この排ガス処理装置を使用している設備の安
定可動が可能となる。また、差圧異常の発生が抑えられ
ることから、メンテナンスの頻度が延長されるととも
に、作業時願が短縮される。
Further, since the occurrence of the differential pressure abnormality is suppressed, the frequency of stopping the operation of the exhaust gas treatment device is reduced, whereby the equipment using the exhaust gas treatment device can be operated stably. Further, since the occurrence of the differential pressure abnormality is suppressed, the frequency of the maintenance is extended, and the request for work is shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の排ガス処理装置の実施の形態を示す構
成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing an embodiment of an exhaust gas treatment apparatus of the present invention.

【図2】ノズルの構成を示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram showing a configuration of a nozzle.

【図3】ノズルの構成を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a nozzle.

【図4】従来の排ガス処理装置の構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram of a conventional exhaust gas treatment device.

【図5】従来の問題点を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram showing a conventional problem.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・入口スクラバ、1a・・・シャワーノズル、2
・・・吸気管、3・・・反応器、4・・・ヒータ、5・
・・出口スクラバ、5a・・・シャワーノズル、6・・
・排気管、7・・・ドレンタンク、9・・・ノズル、9
a・・・噴出用配管、9b・・・噴出口、10・・・気
流調整板、11・・・供給用配管、12a・・・配管、
12b・・・配管、13a・・・フローメータ、13b
・・・フローメータ、14a・・・バルブ、14b・・
・バルブ、15・・・タイマー
1 ... entrance scrubber, 1a ... shower nozzle, 2
... intake pipe, 3 ... reactor, 4 ... heater, 5 ...
..Outlet scrubber, 5a ... shower nozzle, 6 ...
・ Exhaust pipe, 7 ・ ・ ・ Drain tank, 9 ・ ・ ・ Nozzle, 9
a ... ejection pipe, 9b ... ejection port, 10 ... air flow adjustment plate, 11 ... supply pipe, 12a ... pipe,
12b: piping, 13a: flow meter, 13b
... Flow meter, 14a ... Valve, 14b ...
・ Valve, 15 ・ ・ ・ Timer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B01D 53/77 ZAB ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B01D 53/77 ZAB

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 スクラバに排ガスを供給して有害成分を
除去する排ガス処理装置において、 前記スクラバに接続された排ガスが通る配管の内面で、
前記スクラバと前記配管の接続部の近傍に、このスクラ
バと配管の接続部を向いて、少なくとも気体か液体の一
方を噴出する噴出口を有するノズルを設けたことを特徴
とする排ガス処理装置。
1. An exhaust gas treatment apparatus for supplying exhaust gas to a scrubber to remove harmful components, wherein an inner surface of a pipe through which exhaust gas is connected is connected to the scrubber.
An exhaust gas treatment apparatus, comprising: a nozzle having an ejection port for ejecting at least one of a gas and a liquid in the vicinity of the connection between the scrubber and the pipe, facing the connection between the scrubber and the pipe.
【請求項2】 前記ノズルの、排ガスが流れる方向の上
流を向いた側に、前記配管の内面から立ち上がる斜面を
設けたことを特徴とする請求項1記載の排ガス処理装
置。
2. The exhaust gas treatment apparatus according to claim 1, wherein a slope rising from an inner surface of the pipe is provided on a side of the nozzle facing upstream in a direction in which the exhaust gas flows.
【請求項3】 前記ノズルは、 前記配管の内面に沿った形状を有する噴出用配管と、 この噴出用配管に、その形状に沿って複数の穴を開けて
なる噴出口とから構成されることを特徴とする請求項1
記載の排ガス処理装置。
3. The nozzle comprises: an ejection pipe having a shape along an inner surface of the pipe; and an ejection port formed by drilling a plurality of holes in the ejection pipe according to the shape. Claim 1 characterized by the following:
An exhaust gas treatment device as described in the above.
【請求項4】 前記ノズルに窒素ガスと水を供給する供
給用配管を接続するとともに、 窒素ガスおよび水を選択的に前記供給用配管に供給する
供給手段を備えたことを特徴とする請求項1記載の排ガ
ス処理装置。
4. A supply pipe for supplying nitrogen gas and water to the nozzle, and a supply means for selectively supplying nitrogen gas and water to the supply pipe. 2. The exhaust gas treatment device according to 1.
【請求項5】 前記供給手段に、窒素ガスと水の選択的
な供給を時間により切り替えるタイマーを設けたことを
特徴とする請求項4記載の排ガス処理装置。
5. An exhaust gas treatment apparatus according to claim 4, wherein said supply means is provided with a timer for selectively switching the supply of nitrogen gas and water depending on time.
【請求項6】 前記供給手段に、窒素ガスと水の流量を
調整するフローメータを設けたことを特徴とする請求項
4記載の排ガス処理装置。
6. An exhaust gas treatment apparatus according to claim 4, wherein said supply means is provided with a flow meter for adjusting a flow rate of nitrogen gas and water.
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