JP2002310907A - 分析装置 - Google Patents
分析装置Info
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Abstract
等)に対して加熱したり、加圧した状態で測定可能であ
り、かつメンテナンス時にはプローブを取付けた状態で
プローブ先端の洗浄が可能な分光分析装置を提供する。 【解決手段】 貫通孔が形成された容器と、前記貫通孔
内を所定の温度に加熱する手段と、前記貫通孔の途中に
先端が対向して配置された一対のプローブと、前記貫通
孔に連通するとともに前記プローブの先端を洗浄可能に
形成された窓と、前記貫通孔を密閉空間とするための閉
塞手段を設けた。また、密閉空間にガスを供給するガス
供給手段を設け容器を覆う保温カバーを設けた。
Description
脂やガスなどの成分濃度や物理的特性を測定する赤外線
分光分析装置に関し、特にサンプルを加熱したりガス等
を加えることによって生じるサンプルの変化をスペクト
ルから物理的特性を観察するための分析装置に関する。
によってサンプルの成分や濃度を測定する装置である。
近赤外領域は吸収係数が小さいために液体又は固体(粉
末)サンプルの前処理が不要である。そのため、オンラ
インプロセスの成分濃度を直接リアルタイムに測定する
用途に適している。
般的構成例を示す。図4において1は分光分析計、2は
検出器である。分光分析計1は検出器2に対して光ファ
イバ3を介して所定の波長の近赤外光を出射する。この
近赤外光は測定対象のガスや液体によって所定の波長が
吸収される。吸収されて減衰した光を光ファイバ4で分
光分析計1に伝送してスペクトル分析を行なえば測定対
象の物理的特性を知ることができる。5はノイズを相殺
するためのダミーの光ファイバである。
容器(管路)10には一部に透明体からなる窓10aが
形成され貫通孔11には図では省略するが測定対象であ
るガス若しくは液体が流れている。12,13は窓10
aに対して略直交して配置された第1、第2プローブ
で、光ファイバ3を介して伝送された近赤外光の授受を
行なう。
うな分光分析装置では、測定対象を加熱したり、加圧状
態で測定することはできず、また従来はその様な要求も
なかった。近年ある種のプラスチック樹脂を加熱して反
応ガスを加えその成分を分析することによりプラスチッ
ク樹脂の物性を考察したり、また、プロセスガスを加熱
・加圧することによって発生する成分からガスの物性を
考察することが要求されている。
測定対象(プラスチック樹脂やプロセスガス等)に対し
て加熱したり、加圧した状態で測定可能であり、かつメ
ンテナンス時にはプローブを取付けた状態でプローブ先
端の洗浄が可能な分光分析装置を提供することにある。
るために、本発明のうち請求項1記載の発明は、貫通孔
が形成された容器と、前記貫通孔内を所定の温度に加熱
する手段と、前記貫通孔の途中に先端が対向して配置さ
れた一対のプローブと、前記貫通孔に連通するとともに
前記プローブの先端を洗浄可能に形成された窓と、前記
貫通孔を密閉空間とするための閉塞手段を設けたことを
特徴とする。
明において、前記密閉空間にガスを供給するガス供給手
段を設けたことを特徴とする。
明において、前記容器を覆う保温カバーを設けたことを
特徴とする。
明において、前記プローブ先端はねじ込み式であってね
じの緩み止めのための係止部材を設けたことを特徴とす
る。
細に説明する。図1〜3は本発明に係る分析装置の実施
形態の一例を示す構成図であり、図1は分析装置の全体
構成図、図2は分析装置の分解図、図3容器の断面構成
図である。これらの図において、20は円柱状の容器で
あり、軸心に貫通孔21が形成されている。容器の一方
の端面には4つのねじ穴23が等間隔に形成されてお
り、上蓋22には容器20に形成された4つのねじ穴2
3と合致するように4つの穴26が形成されている。上
蓋22と容器20はねじ27により固定される。
通する管体30の一端が気密に固定されている。上蓋に
形成された4つの穴26の中間に形成された2つのねじ
穴28は上蓋と容器が固着した場合にねじ29をねじ込
んでこれらを引き離すための分離ねじである。なお容器
と上蓋の間は貫通孔21と管体30の孔を気密に連結す
るためにO−リング31を用いて接続される。
0aが挿入される。この温度センサは管体30の内径よ
り小さな径の導管40aを有しており、導管の先端(セ
ンサ端)40bが上蓋22より少し突き出た位置で固定
金具41により固定される(図3参照)。この状態では
導管40aの外径部と管体30の外径部は固定金具41
により気密に固定され、固定金具を構成するT継手41
aを介して貫通孔21内に外部からガスを導入すること
が可能となっている。
固定金具42aにより外周に巻き付けた状態で固定され
る。45は軸心に容器の貫通孔21より小さな径の貫通
孔45a(図3参照)が形成された断面十字状の下蓋
で、一方の面は容器20の他端に形成されたねじ孔に上
蓋22と同様にO−リング46を用いて気密に固定され
る。この下蓋45の他方は中央部の凸部に形成されたね
じ(図3参照)にO−リング49とともにキャップ48
がねじ込まれて気密に固定される。
固定金具50aにより外周に巻き付けた状態で固定され
る。51は一対のL字状のブラケットでねじ52により
容器の他端(下部)に形成されたブラケット固定ねじ孔
45bに固定される。20aは容器20の外周から貫通
孔21に向って略直角に形成された貫通ねじで、この貫
通ねじ20aには容器の両側から一対のプローブ54,
55の一端に形成されたねじ部がねじ込まれている。
の距離を隔てて対向して配置され、Oーリング56,止
めねじ57によって気密に固定されている(図3参
照)。58は窓蓋で容器に形成された貫通ねじ20aに
対して90度回転した位置の外周からプローブの先端に
向って形成された窓孔59に挿入され、6本のねじ60
およびO−リング61により気密に固定されている。
て窓孔59からプローブ先端の汚れを洗浄可能となって
いる。また、この窓孔から所定の厚さの板材若しくは所
定の外径を有する棒を差し込んで、これらの板や棒にプ
ローブ54,55の先端を接触させた状態で固定すれば
プローブ先端の間隔を正確に保持することができる。
た窓孔59の反対側に形成されたねじ穴にねじ込まれて
いる。70は上保温カバーであり、図2の2点鎖線で示
すように下保温カバー71と共に容器全体を覆って熱の
放散を防止する。
樹脂の物性を測定する場合は、粉体や粒状等に形成した
所定の量の樹脂を貫通孔21の中に入れる。次にヒータ
をオンにして第2温度センサの出力に基づいて所定の温
度に加熱する。その場合、必要に応じてT継手を介して
例えばN2やCO2ガス等を流して樹脂から発生するガ
スと反応させる。なお、固定金具41を介して挿入され
た第1温度センサ40はガスに接触しその温度を測定す
る。
いる近赤外線で照射されガスの成分に対応した赤外線の
波長の光を吸収する。その光は第2プローブ55に入射
して分光分析器(図示省略)でガスの成分が特定され
る。なお、プロセスガスの成分を測定する場合はT継手
41aを介して導入する。その場合、キャップ48をは
ずして継手を接続し(図示せず)ガスが貫通孔1内を通
り抜けるようにすればガスの連続測定が可能となる。ま
た、貫通孔45aの径を貫通孔21より小さくしたり、
後段に絞りを設け加圧したプロセスガスを導入すれば光
学的に光路長を変化させることができる。更に必要に応
じて加熱することに多様な状態のガスの測定が可能とな
る。
目的として特定の好適な実施例を示したに過ぎない。し
たがって本発明はその本質から逸脱せずに多くの変更、
変形をなし得ることは当業者に明らかである。特許請求
の範囲の欄の記載により定義される本発明の範囲は、そ
の範囲内の変更、変形を包含するものとする。
本発明によれば、次の効果が期待できる。請求項1乃至
3記載の発明によれば、容器に設けた貫通孔内を所定の
温度に加熱する手段と、貫通孔の途中に先端が対向して
配置された一対のプローブと、貫通孔に連通するととも
にプローブの先端を洗浄可能に形成された窓と、貫通孔
を密閉空間とするための閉塞手段を設け、その密閉空間
にガスを供給するガス供給手段を容器全体を保温する構
成としたので、分析測定対象(プラスチック樹脂やプロ
セスガス等)に対して加熱したり、加圧した状態で測定
可能であり、様々な状態での測定が可能である。また、
メンテナンス時にはプローブを取付けた状態でプローブ
先端の洗浄が可能となる。請求項4記載の発明によれ
ば、プローブ先端のねじ部に緩み止めのための係止部材
を設けたので、振動などによるプローブの緩みを防止す
ることができる。
る。
分解図である。
Claims (4)
- 【請求項1】貫通孔が形成された容器と、前記貫通孔内
を所定の温度に加熱する手段と、前記貫通孔の途中に先
端が対向して配置された一対のプローブと、前記貫通孔
に連通するとともに前記プローブの先端を洗浄可能に形
成された窓と、前記貫通孔を密閉空間とするための閉塞
手段を設けたことを特徴とする分析装置。 - 【請求項2】前記密閉空間にガスを供給するガス供給手
段を設けたことを特徴とする請求項1記載の分析装置。 - 【請求項3】前記容器を覆う保温カバーを設けたことを
特徴とする請求項1記載の分析装置。 - 【請求項4】前記プローブ先端はねじ込み式であってね
じの緩み止めのための係止部材を設けたことを特徴とす
る請求項1記載の分析装置。
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JP2001116867A JP4158188B2 (ja) | 2001-04-16 | 2001-04-16 | 分析装置 |
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JP2008268107A (ja) * | 2007-04-24 | 2008-11-06 | Yokogawa Electric Corp | センサユニット及びマイクロリアクタシステム |
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2001
- 2001-04-16 JP JP2001116867A patent/JP4158188B2/ja not_active Expired - Lifetime
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