JP2002305076A - Display equipment and its manufacturing method - Google Patents

Display equipment and its manufacturing method

Info

Publication number
JP2002305076A
JP2002305076A JP2002025731A JP2002025731A JP2002305076A JP 2002305076 A JP2002305076 A JP 2002305076A JP 2002025731 A JP2002025731 A JP 2002025731A JP 2002025731 A JP2002025731 A JP 2002025731A JP 2002305076 A JP2002305076 A JP 2002305076A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
region
substrate
display device
layer
desiccant
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2002025731A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2002305076A5 (en
Inventor
Junya Maruyama
純矢 丸山
Shunpei Yamazaki
舜平 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Original Assignee
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd filed Critical Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Priority to JP2002025731A priority Critical patent/JP2002305076A/en
Publication of JP2002305076A publication Critical patent/JP2002305076A/en
Publication of JP2002305076A5 publication Critical patent/JP2002305076A5/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress generating of a dark spot by moisture and occurring of exfoliation of a negative electrode in display equipment using an organic light emitting diode(OLED). SOLUTION: Making a peripheral edge part of a sealed substrate (a 2nd substrate) 102 have a convex-like structure, a gap between the sealed substrate and an element substrate is controlled by the convex-like part. Then, a layer 106, which has needed adhesive ability sticking the sealing substrate and the element substrate becomes unnecessary, and for this reason, the layer 16 can be made as thinly as possible. Thus, quantity of the moisture, which invades the sealing domain passing the layer, which consists of an organic material and has adhesive ability, can be reduced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機発光素子を用
いた表示装置及びその作製方法に関し、さらに詳細には
長期に渡って安定した発光特性を維持する有機発光素子
を用いた表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device using an organic light emitting device and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a display device using an organic light emitting device that maintains stable light emitting characteristics for a long period of time.

【0002】なお、本明細書において有機発光素子とは
二つの電極の間に有機化合物を挟んで発光させる素子を
示す。有機発光素子には、有機発光ダイオード(Organi
c Light Emitting Diode : OLED)を用いた発光素子が
挙げられる。有機発光ダイオードとは、二つの電極の間
に有機化合物が挟まれ、一方の電極から正孔が注入され
るとともに、他方の電極から電子が注入されることによ
り、有機化合物層内で電子と正孔とが結合して発光をす
る発光体である。
[0002] In this specification, an organic light-emitting element is an element which emits light with an organic compound interposed between two electrodes. Organic light emitting devices include organic light emitting diodes (Organi
c Light emitting devices using Light Emitting Diode (OLED). An organic light-emitting diode is a device in which an organic compound is sandwiched between two electrodes, holes are injected from one electrode, and electrons are injected from the other electrode, so that electrons and electrons are injected into the organic compound layer. A luminous body that emits light when combined with a hole.

【0003】[0003]

【従来の技術】近年、有機発光素子を用いた表示装置が
盛んに研究されている。有機発光素子を用いた表示装置
は、従来のCRTと比べ軽量化や薄型化が可能であり、
様々な用途への応用が進められている。携帯電話や個人
向け携帯型情報端末(PersonalDigital Assistant : PD
A)などは、インターネットに接続することが可能とな
り、映像表示で示される情報量が飛躍的に増え、表示装
置にはカラー化や高精細化の要求が高まっている。
2. Description of the Related Art In recent years, display devices using organic light emitting elements have been actively studied. A display device using an organic light emitting element can be lighter and thinner than a conventional CRT.
Applications to various applications are underway. Mobile phones and personal digital assistants (Personal Digital Assistant: PD
A), etc., can be connected to the Internet, and the amount of information shown on the video display has increased dramatically, and the demand for color and high definition display devices has increased.

【0004】一方、こうした携帯型情報端末に搭載する
表示装置は軽量化が重視される。例えば、携帯電話では
70gを切る製品が市場に出されている。軽量化の為に
は個々の電子部品、筐体、バッテリーなど使用する殆ど
の部品の見直しが図られている。しかし、さらなる軽量
化を実現するためには、表示装置の軽量化も推進する必
要がある。
On the other hand, the weight of the display device mounted on such a portable information terminal is emphasized. For example, a mobile phone weighing less than 70 g is on the market. In order to reduce the weight, most of the components used, such as individual electronic components, housings, and batteries, are being reviewed. However, in order to further reduce the weight, it is necessary to promote the reduction in the weight of the display device.

【0005】有機発光素子で画素部を形成した表示装置
は自発光型であり、液晶表示装置のようにバックライト
などの光源を必要としないので、軽量化や薄型化を実現
する手段として有望視されている。
A display device having a pixel portion formed of an organic light emitting element is a self-luminous type and does not require a light source such as a backlight unlike a liquid crystal display device. Therefore, it is promising as a means for achieving weight reduction and thinning. Have been.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】有機発光素子は青色発
色が可能であり、フルカラー表示の自発光型表示装置を
実現させることが可能である。しかし、有機発光素子に
は種々の劣化現象が確認されており、実用化を妨げる課
題として解決が急がれている。
The organic light-emitting element can emit blue light, and can realize a full-color display self-luminous display device. However, various deterioration phenomena have been confirmed in the organic light emitting device, and the solution is urgently required as a problem that hinders practical use.

【0007】例えば、ダークスポットは、画素部に現れ
る非発光の点欠陥であり、表示品位を著しく低下させる
ものとして問題視されている。ダークスポットは進行型
の欠陥であり、水分が存在すれば、素子を動作させなく
ても増加すると言われている。ダークスポットの原因
は、アルカリ金属を用いて形成される陰極の酸化反応で
あると考えられている。
[0007] For example, a dark spot is a non-light emitting point defect appearing in a pixel portion, and has been regarded as a problem as significantly reducing display quality. It is said that the dark spot is a progressive defect and increases when moisture is present without operating the device. It is considered that the cause of the dark spot is an oxidation reaction of a cathode formed using an alkali metal.

【0008】これゆえ、有機発光素子を用いた表示装置
は、発光素子が設けられた素子基板と、素子基板に対向
して設けられた封止基板とが、接着性を有するシール材
により貼り合わされた構造からなり、発光素子が水分を
含む外気に曝されないようにしている。封止基板は加工
が容易なステンレスやアルミニウム等の金属からなり、
封止基板の表面の窪みに乾燥剤が配置されている。
Therefore, in a display device using an organic light-emitting element, an element substrate provided with a light-emitting element and a sealing substrate provided opposite to the element substrate are bonded to each other with an adhesive sealing material. The light emitting element is not exposed to the outside air containing moisture. The sealing substrate is made of a metal such as stainless steel or aluminum which is easy to process,
A desiccant is arranged in a depression on the surface of the sealing substrate.

【0009】シール材中にはフィラーが混入されて、素
子基板と封止基板とのギャップを制御する。このため、
シール材は封止基板と素子基板とを貼り合わせる機能
と、封止基板と素子基板とのギャップを制御する機能と
を併せ持つ。このため、素子基板と封止基板とのギャッ
プを10μm〜50μmと一般的な値にするときは、シ
ール材の厚さもそれに合わせて変える必要があった。
A filler is mixed in the sealing material to control a gap between the element substrate and the sealing substrate. For this reason,
The sealant has both a function of bonding the sealing substrate and the element substrate and a function of controlling a gap between the sealing substrate and the element substrate. For this reason, when the gap between the element substrate and the sealing substrate is set to a general value of 10 μm to 50 μm, the thickness of the sealing material has to be changed accordingly.

【0010】なお、発光素子と、封止基板の発光素子と
向かい合う側の面との最短距離を、封止基板と素子基板
のギャップ、又は、単にギャップと称する。
[0010] The shortest distance between the light emitting element and the surface of the sealing substrate facing the light emitting element is referred to as a gap between the sealing substrate and the element substrate, or simply a gap.

【0011】ところで、素子基板と封止基板のギャップ
を制御するシール材は有機樹脂材料からなり、ガラス材
料等の無機材料に比べ透湿度が高い。例えば、60℃で
90%の湿度で透湿度は15g/m2・24hr〜30
g/m2・24hrとなる。封止基板と素子基板とをシ
ール材で封止したとしても、シール材を通過して封止領
域内に浸入する水蒸気により有機発光素子が劣化する。
シール材を通過する水蒸気の量は外気に曝されるシール
材の面積と透湿度の積で決まる。このため、外気に曝さ
れるシール材の面積は小さい方が望ましい。つまり、シ
ール材はできるだけ薄い方が望ましい。
Incidentally, the sealing material for controlling the gap between the element substrate and the sealing substrate is made of an organic resin material, and has a higher moisture permeability than an inorganic material such as a glass material. For example, at 60 ° C. and 90% humidity, the moisture permeability is 15 g / m 2 · 24 hr to 30
g / m 2 · 24 hr. Even when the sealing substrate and the element substrate are sealed with a sealant, the organic light-emitting element is deteriorated by water vapor passing through the sealant and entering the sealing region.
The amount of water vapor passing through the sealing material is determined by the product of the area of the sealing material exposed to the outside air and the moisture permeability. For this reason, it is desirable that the area of the sealing material exposed to the outside air be small. That is, it is desirable that the sealing material be as thin as possible.

【0012】すなわち、シール材が厚くなるにつれて、
シール材を通過する水分の量が大きくなり、乾燥剤を設
けたとしても、乾燥剤によって吸湿できない水分により
発光素子が劣化してしまう。よって、シール材を通過す
る水分の量を減らすことが、本発明の解決すべき課題で
ある。
That is, as the thickness of the sealing material increases,
The amount of moisture passing through the sealant increases, and even if a desiccant is provided, the light emitting element is deteriorated by moisture that cannot be absorbed by the desiccant. Therefore, it is an object of the present invention to reduce the amount of moisture passing through the sealing material.

【0013】また、携帯情報端末の軽量化のためには、
ガラス基板の厚さを薄くする方法が考えられる。しか
し、ガラス基板が薄くなるに伴って割れやすくなり耐衝
撃性が低下してしまう。特に、金属からなる封止基板
と、ガラスからなる素子基板とを貼り合わせたときは、
熱膨張係数の違いから、急激な温度変化によって歪が生
じ、ガラスからなる基板に亀裂が生じる。しかしそれで
は、携帯型情報端末に用いるうえで致命的な欠点となっ
てしまう。
[0013] To reduce the weight of a portable information terminal,
A method of reducing the thickness of the glass substrate can be considered. However, as the glass substrate becomes thinner, the glass substrate is liable to break and the impact resistance is reduced. In particular, when the sealing substrate made of metal and the element substrate made of glass are bonded together,
Due to a difference in thermal expansion coefficient, a strain is generated by a rapid temperature change, and a crack is generated in the glass substrate. However, this would be a fatal drawback for use in portable information terminals.

【0014】そこで、ガラス基板を薄くして、表示装置
の薄型化を図った構成において、基板の破損を防ぎ、耐
久性を高めることが本発明の解決すべき課題である。
Therefore, it is an object of the present invention to prevent the substrate from being damaged and to increase the durability in a structure in which the glass substrate is made thinner and the display device is made thinner.

【0015】このように、有機発光素子からなる表示装
置は表示装置の軽量化に対しては非常に有用であるが、
有機発光素子の信頼性を確保するためには解決しなけれ
ばならない課題が残存している。本発明はこのような問
題点を解決する技術であり、信頼性の高い有機発光素子
を用いた表示装置及びその作製方法を提供することを目
的としている。
As described above, the display device including the organic light emitting element is very useful for reducing the weight of the display device.
There remains a problem to be solved in order to ensure the reliability of the organic light emitting device. The present invention is a technique for solving such a problem, and an object of the present invention is to provide a display device using an organic light emitting element with high reliability and a method for manufacturing the display device.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】ガラスからなる基板の薄
型化に伴なって、ガラスからなる素子基板と金属からな
る封止基板とを組み合わせると、熱膨張係数の違いか
ら、急激な温度変化によってガラスからなる素子基板の
破損が発生する可能性が高くなる。これを防ぐために、
本発明は、ガラスからなる基板を素子基板と封止基板と
に適用し、熱膨張係数を等しくしている。これにより、
急激な温度変化に対する耐性を高め、本発明の課題を解
決する。
According to the thinning of a glass substrate, when an element substrate made of glass and a sealing substrate made of metal are combined, a rapid temperature change occurs due to a difference in thermal expansion coefficient. The possibility that the element substrate made of glass is damaged is increased. To prevent this,
In the present invention, a substrate made of glass is applied to an element substrate and a sealing substrate, and the thermal expansion coefficients are made equal. This allows
The object of the present invention is solved by increasing the resistance to a rapid temperature change.

【0017】さらに、本発明は、このガラスからなる封
止基板の表面を加工して窪みを設け、この窪みに乾燥剤
を設置する。これにより、従来と同様に素子基板と封止
基板とシール材とで封止された空隙に乾燥剤を設けて、
接着材を通過して浸入する水分を捕獲することができ
る。乾燥剤は酸化カルシウム、酸化バリウムなどを好適
に用いることができる。乾燥剤を設置する場所は、例え
ば、駆動回路上に設けても良い。すると、素子基板と封
止基板との間の封止領域において、発光素子と近接して
乾燥剤があるため、水分の発光素子への浸入を低減する
ことができる。これにより、発光素子の安定性を高める
ことができる。例えば、陰極が酸化して発生するダーク
スポットを減少させることができる。
Further, according to the present invention, the surface of the sealing substrate made of glass is processed to form a depression, and a desiccant is placed in the depression. Thereby, a desiccant is provided in the gap sealed with the element substrate, the sealing substrate, and the sealing material as in the related art,
Moisture entering through the adhesive can be captured. As the desiccant, calcium oxide, barium oxide, or the like can be suitably used. The place where the desiccant is installed may be provided, for example, on a drive circuit. Then, in the sealing region between the element substrate and the sealing substrate, the desiccant is present in proximity to the light emitting element, so that penetration of moisture into the light emitting element can be reduced. Thereby, the stability of the light emitting element can be improved. For example, dark spots generated by oxidization of the cathode can be reduced.

【0018】かつ、本発明はガラスからなる封止基板を
加工して、封止基板の外縁部を凸部状に突き出させて、
この凸部で素子基板と封止基板とのギャップを制御して
いる。このため、素子基板と封止基板の間に設けた接着
性を有する層は、素子基板と封止基板とを接着する機能
だけがあれば良く、ギャップを制御する機能が不要にな
る。このため、接着性を有する層は、材料が許す範囲で
可能な限り薄くすることができる。これにより、接着性
を有する層を通過して封止領域内に浸透する水分の量を
低減することができ、接着性を有する層を通過する水分
の量を低減するという本発明の課題が解決される。接着
性を有する層(接着材)の厚さは10μm以下、好まし
くは1μm以下とすると良い。
Further, according to the present invention, a sealing substrate made of glass is processed, and an outer edge portion of the sealing substrate is projected into a convex shape.
The projection controls the gap between the element substrate and the sealing substrate. For this reason, the adhesive layer provided between the element substrate and the sealing substrate only needs to have a function of bonding the element substrate and the sealing substrate, and does not need a function of controlling the gap. For this reason, the layer having adhesiveness can be made as thin as possible as far as the material allows. Accordingly, the amount of moisture that passes through the adhesive layer and penetrates into the sealing region can be reduced, and the problem of the present invention of reducing the amount of moisture that passes through the adhesive layer is solved. Is done. The thickness of the layer having an adhesive property (adhesive) is preferably 10 μm or less, more preferably 1 μm or less.

【0019】封止基板の表面を加工する方法としては、
砥粒加工法(サンドブラスト法)を用いることができ
る。砥粒加工法とは、砂や細かい鋼片などを圧縮空気と
ともに吹きつけ、ガラスからなる基板の表面を加工する
技術である。
As a method of processing the surface of the sealing substrate,
An abrasive processing method (sand blast method) can be used. The abrasive processing method is a technique of blowing sand or fine steel pieces together with compressed air to process the surface of a glass substrate.

【0020】本発明の構造の一例を図8(A)〜図8
(C)を用いて説明する。図8(A)〜図8(C)は、
本発明の有機発光素子を用いた表示装置の断面図を示
す。
An example of the structure of the present invention is shown in FIGS.
This will be described with reference to FIG. 8 (A) to 8 (C)
1 shows a cross-sectional view of a display device using the organic light emitting device of the present invention.

【0021】図8(A)は、素子基板と封止基板とを接
着性を有する層にて貼り合わせてなる表示装置におい
て、封止基板の表面を加工して、乾燥剤と透湿性のフィ
ルムとを封止領域内に設けた例を示す。第1の基板10
1及び第2の基板102とは透光性を有する基板、例え
ばガラス基板からなる。第1の基板は素子基板であり、
表示領域129に有機発光素子が設けられている。第2
の基板は封止基板であり、表面が加工されて窪んでお
り、乾燥剤107及び透湿性のフィルムが設置されてい
る。なお、有機発光素子の放射する光を封止基板の側か
ら取り出す場合は、乾燥剤及び透湿性のフィルムを設け
る領域は、表示領域外が望ましい。
FIG. 8A shows a display device in which an element substrate and a sealing substrate are bonded together with an adhesive layer by processing the surface of the sealing substrate to form a desiccant and a moisture-permeable film. Are shown in the sealing region. First substrate 10
Each of the first and second substrates 102 is a light-transmitting substrate, for example, a glass substrate. The first substrate is an element substrate,
An organic light emitting element is provided in the display area 129. Second
Is a sealing substrate, the surface of which is processed and depressed, on which a desiccant 107 and a moisture-permeable film are provided. When light emitted from the organic light-emitting element is extracted from the side of the sealing substrate, the area where the desiccant and the moisture-permeable film are provided is desirably outside the display area.

【0022】なお、本発明において接着性を有する層1
06が第2の基板に接着される部分と同一平面上にある
領域を第2の基板の第1の領域103とする。また、第
1の領域に対し凹状となる領域を第2の領域104とす
る。また、第2の領域に対し、凹状となる領域を第3の
領域105とする。つまり、有機発光素子と向かい合う
側の面を第2の基板の表面の面とした場合に、第2の基
板の裏面から見ると第1の領域は第2の領域及び第3の
領域に対し、凸状に迫り出している。
In the present invention, the layer 1 having an adhesive property is used.
A region where 06 is on the same plane as a portion to be bonded to the second substrate is referred to as a first region 103 of the second substrate. A region that is concave with respect to the first region is referred to as a second region 104. A region that is concave with respect to the second region is referred to as a third region 105. That is, when the surface on the side facing the organic light emitting element is the surface of the front surface of the second substrate, when viewed from the back surface of the second substrate, the first region is different from the second region and the third region. It is protruding in a convex shape.

【0023】第3の領域105には乾燥剤107が設け
られる。乾燥剤は粒状の材料を用いることもできるし、
平板状の材料を用いることもできる。乾燥剤を充填する
ために、第3の領域は第2の領域に対し、50〜150
μmの深さを有することが好ましい。
A desiccant 107 is provided in the third area 105. The desiccant can be a granular material,
A plate-like material can also be used. To fill the desiccant, the third region is 50-150 relative to the second region.
Preferably it has a depth of μm.

【0024】透湿度が高く、水蒸気透過性を有する透湿
性のフィルムは、粘着層125、多孔質層126及び基
材127とからなる。乾燥剤を第3の領域に閉じ込める
ために、第2の領域の一部に粘着層125が接して、透
湿性のフィルムが張られる。粘着層、多孔質層、基材か
らなる透湿性のフィルムは厚さが150〜300μmの
ものを用いる。また、透湿性のフィルムが第1の基板と
接しないように、透湿性のフィルムを構成する基材の表
面より10〜50μm以上離れて第1の基板があること
が望ましい。このため、第1の領域に対して、第2の領
域は160〜350μm窪んでいることが好ましい。
The moisture permeable film having high moisture permeability and water vapor permeability is composed of an adhesive layer 125, a porous layer 126 and a substrate 127. In order to confine the desiccant in the third area, an adhesive layer 125 is in contact with a part of the second area, and a moisture-permeable film is stretched. The moisture-permeable film composed of the adhesive layer, the porous layer, and the substrate has a thickness of 150 to 300 μm. Further, it is preferable that the first substrate is provided at a distance of 10 to 50 μm or more from the surface of the base material constituting the moisture permeable film so that the moisture permeable film does not contact the first substrate. For this reason, it is preferable that the second region is depressed by 160 to 350 μm with respect to the first region.

【0025】素子基板と封止基板とを接着する接着性を
有する層106としては、紫外線硬化型樹脂を用いるこ
とも可能であるし、熱硬化型樹脂を用いることも可能で
ある。封止領域内に浸入する水分の量は、接着性を有す
る層が外気に曝される面積と、接着性を有する層の透湿
度との積で決まる。このため、接着性を有する層は、可
能な限り薄くし、外気に触れる面積を低減することが望
ましい。
As the layer 106 having an adhesive property for adhering the element substrate and the sealing substrate, it is possible to use an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin. The amount of water entering the sealing region is determined by the product of the area of the adhesive layer exposed to the outside air and the moisture permeability of the adhesive layer. For this reason, it is desirable that the layer having adhesiveness be as thin as possible to reduce the area that is exposed to the outside air.

【0026】本発明によれば、第2の基板の外縁部(第
一の領域)を凸状に出っ張らせているため、第2の基板
の外縁部の凸状の部分の高さで第1の基板と第2の基板
とのギャップを決めることができる。接着性を有する層
はギャップを制御する機能が必要とされず、第2の基板
と第1の基板とを貼り合わせるために補助的に用いれば
良い。このため、接着性を有する層は材料が許す限り薄
くできる。
According to the present invention, since the outer edge (first region) of the second substrate protrudes in a convex shape, the first edge of the second substrate has a height equal to the height of the convex portion of the outer edge. The gap between the first substrate and the second substrate can be determined. The adhesive layer does not require a function of controlling a gap, and may be used as an auxiliary to bond the second substrate to the first substrate. For this reason, the layer having adhesiveness can be made as thin as the material allows.

【0027】次に本発明の別の例を示す。以下に示す本
発明は、接着性を有する層を通過して浸入する水分を低
減することだけでなく、封止領域内の乾燥気体に残存す
る水分の量を低減することまで考えに入れた構成であ
る。
Next, another example of the present invention will be described. The present invention described below has a configuration that takes into account not only reducing the amount of moisture that penetrates through the layer having adhesiveness, but also reducing the amount of moisture remaining in the dry gas in the sealed region. It is.

【0028】図8(B)は、有機発光素子の断面を示
す。図8(A)と異なるのは図8(A)に比べて表示領
域129において第1の基板と第2の基板とのギャップ
を10〜50μmに小さくする点である。透湿性のフィ
ルムは厚さ150〜300μmと厚く、ここまで厚いギ
ャップは透湿性のフィルムが設けられていない表示領域
においては不要である。表示装置において支配的な広さ
を占める表示領域においてギャップが図8(A)に比べ
て3%〜50%に低減されること(150〜300μm
のギャップが10〜50μmに低減されること)は、封
止空間の体積つまり乾燥気体の体積を小さくすることに
貢献し、気体中に残存する水分の総量が減少することに
つながる。
FIG. 8B shows a cross section of the organic light emitting device. 8A is different from FIG. 8A in that the gap between the first substrate and the second substrate in the display region 129 is reduced to 10 to 50 μm. The moisture-permeable film is as thick as 150 to 300 μm, and a gap so thick is unnecessary in a display area where no moisture-permeable film is provided. The gap is reduced to 3% to 50% in the display region occupying the dominant area in the display device as compared with FIG. 8A (150 to 300 μm).
Is reduced to 10 to 50 μm), which contributes to reducing the volume of the sealing space, that is, the volume of the dry gas, and reduces the total amount of moisture remaining in the gas.

【0029】図8(C)は第2の基板102の第3の領
域105に、平板状の乾燥剤107を設置した例を示
す。平板状の乾燥剤としては酸化カルシウム等を用いれ
ば良い。
FIG. 8C shows an example in which a flat desiccant 107 is provided in the third region 105 of the second substrate 102. Calcium oxide or the like may be used as the flat desiccant.

【0030】乾燥剤が衝撃により欠損して微粉末が表示
領域に混入することを防ぐため、接着剤109を乾燥剤
の表面の数箇所に設け、厚さ10〜30μmの多孔質の
フィルム108を接着剤109を用いて乾燥剤に貼りつ
ける。こうして、乾燥剤の周囲を多孔質のフィルムで覆
うことで、機械的衝撃に伴なって生じる微粉末を多孔質
のフィルムの内部に閉じ込めることができる。多孔質フ
ィルムの2〜3箇所を円状にくりぬいて乾燥剤を露呈さ
せ、露呈部に接着剤110を塗布し、乾燥剤と第2の基
板とを接着させると良い。接着剤は乾燥剤の表面に塗布
する量を調節することで、1〜5μmの厚さにすること
が可能である。図8(C)では、第2の領域に対し50
〜150μmに窪んだ第3の領域に乾燥剤や多孔質のフ
ィルムが入るように、多孔質のフィルムの厚さ、乾燥剤
の厚さ、接着剤の厚さを調節することが好ましい。
In order to prevent the desiccant from being lost due to the impact and the fine powder from being mixed into the display area, an adhesive 109 is provided at several places on the surface of the desiccant to form a porous film 108 having a thickness of 10 to 30 μm. Affix to the desiccant using adhesive 109. In this manner, by covering the periphery of the desiccant with the porous film, fine powder generated due to the mechanical impact can be confined inside the porous film. It is preferable that the desiccant is exposed by exposing the porous film to two or three places in a circular shape, the adhesive 110 is applied to the exposed part, and the desiccant and the second substrate are bonded. By adjusting the amount of the adhesive applied to the surface of the desiccant, the thickness can be 1 to 5 μm. In FIG. 8C, 50 is set for the second area.
It is preferable to adjust the thickness of the porous film, the thickness of the desiccant, and the thickness of the adhesive so that the desiccant or the porous film enters the third region recessed to 150 μm.

【0031】図8(A)及び図8(B)では、乾燥剤の
重みで破砕しないように、透湿性のフィルムは厚さ10
〜70μmくらいの多孔質のフィルム126に接して厚
さ100μm〜150μmの基材127を設け、基材、
多硬質のフィルムを厚くすることで機械的強度を高める
必要があった。さらに、基板にフィルムを接着させるた
めに40〜80μmの粘着層125が必要なため、透湿
性のフィルムの厚さは150〜300μmになってしま
う。このため、透湿性のフィルムの占める体積の分だけ
封止空間中のガスに残存する水分の量が多くなる。
In FIG. 8A and FIG. 8B, the moisture-permeable film has a thickness of 10 so as not to be crushed by the weight of the desiccant.
A substrate 127 having a thickness of 100 μm to 150 μm is provided in contact with a porous film 126 having a thickness of about 70 μm,
It was necessary to increase the mechanical strength by increasing the thickness of the multi-hard film. Furthermore, since the adhesive layer 125 having a thickness of 40 to 80 μm is required to adhere the film to the substrate, the thickness of the moisture-permeable film is 150 to 300 μm. Therefore, the amount of water remaining in the gas in the sealed space is increased by the volume occupied by the moisture-permeable film.

【0032】しかし、図8(C)によれば、フィルムは
乾燥剤の周囲を覆うだけで良く、それほど高い強度は必
要とされない。このため10〜30μmと薄い多孔質の
フィルムを用いても実用上問題はない。かつ、フィルム
が薄くなることに伴なって、封止空間の体積を低減する
ことができる。乾燥剤を包むためには、多孔質のフィル
ムが乾燥剤の上面(第2の基板に向かい合う面)と下面
(第1の基板に向かい合う面)とに設けられるため、1
0〜30μmの多孔質のフィルムを用いると、多孔質の
フィルムがギャップ間に占める厚さはその2倍の20〜
60μmになる。それでも多孔質のフィルムのギャップ
間に占める厚さは透湿性のフィルムの占める厚さに比べ
て薄くできる。乾燥剤の量が同じであれば、図8(C)
の構造をとる方が、封止領域の体積を低減することがで
き、気体中に残留する水分の量が少なくなる。これは、
水分に起因する陰極の酸化反応の抑制につながり、表示
装置の耐用年数を増加させることができる。
However, according to FIG. 8 (C), the film only needs to cover the periphery of the desiccant, and does not require a very high strength. Therefore, there is no practical problem even if a porous film as thin as 10 to 30 μm is used. In addition, as the film becomes thinner, the volume of the sealed space can be reduced. In order to enclose the desiccant, a porous film is provided on the upper surface (the surface facing the second substrate) and the lower surface (the surface facing the first substrate) of the desiccant.
When a porous film of 0 to 30 μm is used, the thickness occupied by the porous film between the gaps is twice that of 20 to 30 μm.
60 μm. Nevertheless, the thickness occupied between the gaps of the porous film can be made smaller than the thickness occupied by the moisture permeable film. If the amount of the desiccant is the same, FIG.
With this structure, the volume of the sealing region can be reduced, and the amount of moisture remaining in the gas decreases. this is,
This leads to suppression of the oxidation reaction of the cathode caused by moisture, and the useful life of the display device can be increased.

【0033】なお、図8(C)において、第1の領域に
対し、第2の領域104を10〜50μm窪ませて、表
示領域おける第1の基板と第2の基板とのギャップを1
0〜50μmにすることが好ましい。
In FIG. 8C, the second region 104 is depressed by 10 to 50 μm with respect to the first region, and the gap between the first substrate and the second substrate in the display region is reduced by one.
It is preferable to set it to 0 to 50 μm.

【0034】また、本発明において、封止基板及び素子
基板が透光性であるため、素子基板に設けられた有機発
光素子の放射光が出射する方向は、封止基板の側でも素
子基板の側でも良い。有機発光素子の発光面積等を考慮
して自由に設計することが可能である。
In the present invention, since the sealing substrate and the element substrate are translucent, the emission direction of the emitted light of the organic light emitting element provided on the element substrate is the same as that of the element substrate even on the sealing substrate side. The side is fine. It is possible to freely design in consideration of the light emitting area and the like of the organic light emitting element.

【0035】以上の説明に基づく本発明は、以下の通り
である。
The present invention based on the above description is as follows.

【0036】本明細書に記載の発明(1)は、有機発光
素子が設けられた第1の基板と、透光性を有する第2の
基板とを有し、前記第1の基板と前記第2の基板とは接
着性を有する層を用いて貼り合わされており、前記第2
の基板の前記第1の基板と向かい合う面は第1の領域
と、第2の領域とを有し、前記第1の領域は前記接着性
を有する層が接着し、前記第2の領域は前記第1の領域
の内側にあり前記第1の領域に対して凹状であることを
特徴とする表示装置である。
The invention (1) described in the present specification has a first substrate provided with an organic light-emitting element, and a second substrate having a light-transmitting property. The second substrate is bonded using an adhesive layer, and the second substrate is bonded to the second substrate.
The surface of the substrate facing the first substrate has a first region and a second region, the first region is bonded with the adhesive layer, and the second region is the second region. A display device, which is located inside a first region and is concave with respect to the first region.

【0037】本明細書に記載の発明(1)において、封
止基板の接着性を有する層を設ける部分が素子基板に対
して凸状であれば良い。これにより、第1の基板と第2
の基板とのギャップを第2の基板の凸状の部分により決
めることができ、接着性を有する層は第1の基板と第2
の基板とを貼り合せる目的だけに用いることができる。
In the invention (1) described in the present specification, it is sufficient that the portion of the sealing substrate on which the adhesive layer is provided is convex with respect to the element substrate. Thereby, the first substrate and the second substrate
The gap between the first substrate and the second substrate can be determined by the convex portion of the second substrate.
It can be used only for the purpose of bonding with the substrate.

【0038】本明細書に記載の発明(2)は、有機発光
素子が設けられた第1の基板と、透光性を有する第2の
基板とを有し、前記第1の基板と前記第2の基板とは接
着性を有する層を用いて貼り合わされており、前記第2
の基板の前記第1の基板と向かい合う面は第1の領域
と、第2の領域と、第3の領域とを有し、前記第1の領
域は前記接着性を有する層が接着し、前記第2の領域は
前記第1の領域の内側にあり前記第1の領域に対して凹
状であり、前記第3の領域は前記第2の領域の内側にあ
り前記第2の領域に対して凹状であり、前記第3の領域
に乾燥剤が設けられていることを特徴とする表示装置で
ある。
The invention (2) described in the present specification has a first substrate provided with an organic light emitting element, and a second substrate having a light-transmitting property. The second substrate is bonded using an adhesive layer, and the second substrate is bonded to the second substrate.
The surface of the substrate facing the first substrate has a first region, a second region, and a third region, and the first region is bonded with the adhesive layer, The second region is inside the first region and is concave with respect to the first region, and the third region is inside the second region and is concave with respect to the second region. And a desiccant is provided in the third region.

【0039】本明細書に記載の発明(2)は、第2の基
板のうち、接着性を有する層が接着する部分に対して凸
状のため、封止基板がギャップを制御する機能を持つ点
は本明細書に記載の発明(1)と同じである。さらに、
第2の基板の表面の窪みに乾燥剤を設け、封止領域に浸
透する水分を捕獲することで、有機発光素子の長期駆動
における安定性を確保する。
In the invention (2) described in this specification, the sealing substrate has a function of controlling the gap since the second substrate has a convex shape with respect to the portion to which the adhesive layer is adhered. This is the same as the invention (1) described in this specification. further,
A desiccant is provided in the depression on the surface of the second substrate to capture moisture penetrating into the sealing region, thereby ensuring the stability of the organic light-emitting element in long-term operation.

【0040】本明細書に記載の発明(3)は、本明細書
に記載の発明(2)において、透湿性のフィルムが前記
第2の領域の一部に接着し、前記乾燥剤を前記第3の領
域に閉じ込めるように設けられていることを特徴とする
表示装置である。
According to the invention (3) described in the present specification, in the invention (2) described in the present specification, a moisture-permeable film adheres to a part of the second region, and the desiccant is added to the second region. 3 is a display device that is provided so as to be confined in the region of No. 3.

【0041】本明細書に記載の発明(3)のように、乾
燥剤を第3の領域に設置する手段として透湿性のフィル
ムを用いてもよい。
As in the invention (3) described in the present specification, a moisture-permeable film may be used as a means for installing a desiccant in the third region.

【0042】本明細書に記載の発明(4)は、有機発光
素子が設けられた第1の基板と、前記第1の基板上の有
機発光素子が設けられた領域の周囲を間隙をおいて囲む
接着性を有する層と、透光性を有する第2の基板とを有
し、前記第1の基板と前記第2の基板とは前記接着性を
有する層を用いて貼り合わされており、前記第2の基板
の前記第1の基板と向かい合う面は第1の領域と、第2
の領域と、第3の領域とを有し、前記第1の領域は前記
接着性を有する層が接着し、前記第2の領域は前記第1
の領域に囲まれ前記第1の領域に対して凹状であり、前
記第3の領域は前記接着性を有する層と前記有機発光素
子が設けられた領域の上方との間にあり前記第2の領域
に対して凹状であり、前記第3の領域には乾燥剤が設置
されていることを特徴とする表示装置である。
According to the invention (4) described in the present specification, the first substrate provided with the organic light-emitting element and the periphery of the region provided with the organic light-emitting element on the first substrate are separated by a gap. An enclosing adhesive layer and a light-transmitting second substrate, wherein the first substrate and the second substrate are attached to each other using the adhesive layer; A surface of the second substrate facing the first substrate has a first region and a second region.
And a third region, wherein the first region is bonded with the adhesive layer, and the second region is the first region.
And the third region is between the layer having the adhesive property and the region above the organic light emitting element, and the third region is located between the first region and the second region. The display device is concave with respect to the region, and a desiccant is provided in the third region.

【0043】本明細書に記載の発明(4)は本明細書に
記載の発明(2)に比べて、乾燥剤を設ける領域を表示
領域外に限定している点が異なる。
The invention (4) described in the present specification is different from the invention (2) described in the present specification in that the region where the desiccant is provided is limited outside the display region.

【0044】本明細書に記載の発明(5)は、本明細書
に記載の発明(4)において、前記接着性を有する層と
前記有機発光素子が設けられる領域の上方との間に透湿
性のフィルムが設けられており、前記透湿性のフィルム
は前記第2の領域の一部に接着し、前記乾燥剤を前記第
3の領域に閉じ込めていることを特徴とする表示装置で
ある。
The invention (5) according to the present invention is the invention (4) according to the invention (4), in which the moisture-permeable layer is provided between the adhesive layer and the region above the organic light-emitting element. Wherein the moisture-permeable film is adhered to a part of the second region, and the desiccant is confined in the third region.

【0045】本明細書に記載の発明(5)のように、乾
燥剤を第3の領域に設置する手段として透湿性のフィル
ムを用いてもよい。透湿性のフィルムは表示領域外に配
置すると良い。
As in the invention (5) described in the present specification, a moisture-permeable film may be used as a means for installing a desiccant in the third region. The moisture-permeable film is preferably disposed outside the display area.

【0046】本明細書に記載の発明(6)は、本明細書
に記載の発明(3)又は本明細書に記載の発明(5)に
おいて、前記第2の領域に接着した前記透湿性のフィル
ムは、前記第1の領域に接する平面と前記透湿性のフィ
ルムが前記第2の領域に接着する面との間に収まること
を特徴とする表示装置である。つまり、少なくとも、透
湿性のフィルムは第1の基板に接しないようにする必要
がある。
The invention (6) described in the present specification is the invention (3) or the invention (5) described in the present specification, wherein the moisture-permeable material adhered to the second region is used. The display device is characterized in that the film fits between a plane contacting the first region and a surface where the moisture-permeable film adheres to the second region. That is, it is necessary at least that the moisture-permeable film does not contact the first substrate.

【0047】本明細書に記載の発明(7)は、本明細書
に記載の発明(2)又は本明細書に記載の発明(4)に
おいて前記第1の領域に対し凹状である前記第2の領域
の底部と前記第1の領域との高さの差は10μm以上5
0μm以下であることを特徴とする表示装置である。本
明細書に記載の発明(7)の一例は、図8(C)を用い
てすでに説明した。
The invention (7) described in the present specification is the invention (2) described in the present specification or the invention (4) described in the present specification, wherein the second region is concave with respect to the first region. The difference between the height of the bottom of the region and the height of the first region is 10 μm to 5 μm.
A display device having a thickness of 0 μm or less. An example of the invention (7) described in this specification has already been described with reference to FIG.

【0048】本明細書に記載の発明(8)は、本明細書
に記載の発明(3)又は本明細書に記載の発明(5)に
おいて、前記第1の領域に対し凹状である前記第2の領
域の底部と前記第1の領域との高さの差は160μm以
上350μm以下であることを特徴とする表示装置であ
る。請求項8に記載の本発明の一例は、図8(A)及び
図8(B)を用いてすでに説明した。
The invention (8) described in the present specification is the invention (3) or the invention (5) described in the present specification, wherein the first region is concave with respect to the first region. A height difference between the bottom of the second region and the first region is not less than 160 μm and not more than 350 μm. One example of the present invention described in claim 8 has already been described with reference to FIGS. 8A and 8B.

【0049】本明細書に記載の発明(9)は、本明細書
に記載の発明(1)乃至(8)のいずれか一項におい
て、前記第2の領域に対し凹状である前記第3の領域の
底部と前記第2の領域の高さの差は50μm以上150
μm以下であることを特徴とする表示装置である。本明
細書に記載の発明(9)に記載の本発明の一例は、図8
(A)〜図8(C)を用いてすでに説明した。
The invention (9) described in the present specification is the invention according to any one of the inventions (1) to (8) described in the present specification, wherein the third region is concave with respect to the second region. The difference between the bottom of the region and the height of the second region is 50 μm or more and 150 μm or more.
It is a display device characterized by being not more than μm. One example of the present invention described in the invention (9) described in this specification is shown in FIG.
This has already been described with reference to FIGS.

【0050】本明細書に記載の発明(10)に記載の本
発明は、本明細書に記載の発明(1)乃至(9)のいず
れか一項において、前記第1の基板又は前記第2の基板
はガラス基板であることを特徴とする表示装置である。
According to the invention described in the invention (10) described in this specification, the invention described in any one of the inventions (1) to (9) described in the specification is characterized in that the first substrate or the second substrate The substrate is a glass substrate.

【0051】基板の薄型化に伴なって耐衝撃性が低下す
る。このため、基板の材質が異なると急激な温度変化に
よりガラスからなる基板に亀裂が入り得る。これは、熱
膨張係数の違いに起因する現象である。しかし、第1の
基板と第2の基板とを同じ材質にすれば熱衝撃によるク
ラックの発生を防止できる。
As the thickness of the substrate is reduced, the impact resistance is reduced. Therefore, if the material of the substrate is different, a rapid change in temperature may cause a crack in the substrate made of glass. This is a phenomenon caused by a difference in thermal expansion coefficient. However, if the first substrate and the second substrate are made of the same material, generation of cracks due to thermal shock can be prevented.

【0052】本明細書に記載の発明(11)は、本明細
書に記載の発明(1)乃至(10)のいずれか一項にお
いて、前記第2の基板には凹凸が設けられており、凸部
と該凸部と隣接する凸部の先端の間隔が、0.05〜1
μmの範囲にあることを特徴とする表示装置である。
The invention (11) described in the present specification is the invention according to any one of the inventions (1) to (10) described in the present specification, wherein the second substrate is provided with irregularities, The distance between the protrusion and the tip of the protrusion adjacent to the protrusion is 0.05 to 1
A display device having a range of μm.

【0053】第2の基板には凹凸が設けられており、外
部から入射される光が第2の基板の表面の凹凸であらゆ
る方向に反射されるので、第2の基板への写り込みを防
止できる。
The second substrate is provided with projections and depressions, and light incident from the outside is reflected in all directions by the projections and depressions on the surface of the second substrate, so that reflection on the second substrate is prevented. it can.

【0054】本明細書に記載の発明(12)は、本明細
書に記載の発明(1)乃至(11)のいずれか一項にお
いて、前記接着性を有する層の厚さが10μm以下であ
ることを特徴とする表示装置である。
The invention (12) described in the present specification is the invention according to any one of the inventions (1) to (11) described in the present specification, wherein the thickness of the adhesive layer is 10 μm or less. A display device characterized in that:

【0055】本発明において、接着性を有する層により
ギャップを維持する必要がないため、接着性を有する層
の厚さは限りなく薄く出来る。特に、接着性を有する層
の厚さを10μm以下とすることが、水分の封止領域内
への浸透を抑える上で望ましい。
In the present invention, since it is not necessary to maintain the gap by the adhesive layer, the thickness of the adhesive layer can be reduced as much as possible. In particular, it is desirable that the thickness of the layer having adhesiveness be 10 μm or less in order to suppress the penetration of moisture into the sealing region.

【0056】本明細書に記載の発明(13)は、透光性
を有する第1の基板及び第2の基板が接着性を有する層
を用いて貼り合わされており、前記第1の基板に有機発
光素子が設けられている表示装置の作製方法において、
前記第2の基板の前記接着性を有する層が接着される領
域を第1の領域とし、少なくとも前記第1の領域に第1
のマスクを設ける第1の工程と、前記第2の基板を砥粒
加工法にて掘削し、前記第1の領域に対して凹状となる
第2の領域を形成する第2の工程と、前記第1のマスク
を除去する第3の工程と、前記第2の基板の少なくとも
前記第1のマスクが設けられた領域と、前記有機発光素
子が設けられる領域の上方にあたる領域とに第2のマス
クを設け、前記第2の基板を砥砂加工法にて掘削し、前
記第2の領域に対し凹状となる第3の領域を形成する第
4の工程と、前記第3の領域に乾燥剤を設ける第5の工
程とを有することを特徴とする表示装置の作製方法であ
る。
According to the invention (13) described in this specification, a first substrate having a light-transmitting property and a second substrate are attached to each other using a layer having an adhesive property, and an organic layer is provided on the first substrate. In a method for manufacturing a display device provided with a light-emitting element,
A region of the second substrate to which the layer having the adhesive property is adhered is defined as a first region, and at least a first region is formed in the first region.
A first step of providing a mask, and a second step of excavating the second substrate by an abrasive processing method to form a second region that is concave with respect to the first region; A third step of removing the first mask, and a second mask formed on at least a region of the second substrate provided with the first mask and a region above the region provided with the organic light emitting element. A fourth step of excavating the second substrate by a sand processing method to form a third region that is concave with respect to the second region, and applying a desiccant to the third region. And a fifth step of providing a display device.

【0057】本明細書に記載の発明(14)は、本明細
書に記載の発明(13)において、前記第5の工程の後
に、前記第2の領域に透湿性のフィルムを設ける第6の
工程を有することを特徴とする表示装置の作製方法であ
る。
The invention (14) according to the present invention is the invention (13) according to the invention (13), wherein a moisture-permeable film is provided in the second region after the fifth step. A method for manufacturing a display device, which includes a step.

【0058】乾燥剤を第3の領域に設置する方法とし
て、乾燥剤を第2の基板に接着する方法と、透湿性のフ
ィルムの粘着層を第2の領域に接着させて乾燥剤を第3
の領域に閉じ込める方法とがあるが、本明細書に記載の
発明(14)は後者の方法をとるために用いる方法であ
る。
As a method of installing the desiccant in the third area, a method of adhering the desiccant to the second substrate and a method of adhering the adhesive layer of the moisture-permeable film to the second area to apply the desiccant to the third area are used.
The invention (14) described in the present specification is a method used to adopt the latter method.

【0059】本明細書に記載の発明(15)は、本明細
書に記載の発明(14)において、前記第2の工程の前
記第2の基板の前記掘削の深さは前記透湿性のフィルム
の厚さに比べて深いことを特徴とする表示装置の作製方
法である。
According to the invention (15) described in the present specification, in the invention (14) described in the present specification, the excavation depth of the second substrate in the second step is the same as that of the moisture-permeable film. This is a method for manufacturing a display device, characterized in that the display device is deeper than the thickness of the display device.

【0060】本明細書に記載の発明(16)は、本明細
書に記載の発明(13)において、前記第2の工程にお
いて前記掘削の深さは10μm以上50μm以下である
ことを特徴とする表示装置の作製方法である。本明細書
に記載の発明(16)に記載の本発明によれば、例え
ば、図8(C)の構成において、第2の基板の表面を加
工することにより、第1の領域に対し第2の領域を10
μm以上50μm以下に窪ませることができる。
The invention (16) described in the present specification is characterized in that, in the invention (13) described in the present specification, the excavation depth in the second step is 10 μm or more and 50 μm or less. This is a method for manufacturing a display device. According to the invention described in the invention (16) described in this specification, for example, by processing the surface of the second substrate in the configuration of FIG. 10 areas
It can be recessed to at least 50 μm.

【0061】本明細書に記載の発明(17)に記載の本
発明は、本明細書に記載の発明(14)又は本明細書に
記載の発明(15)において、前記第2の工程において
前記掘削の深さは160μm以上350μm以下である
ことを特徴とする表示装置の作製方法。本明細書に記載
の発明(17)によれば、図8(A)又は図8(B)の
構成において、第2の領域104を第1の領域103に
対し、160μm以上350μm以下に窪ませることが
できる。
The invention described in the invention (17) described in the present specification is the invention (14) described in the specification or the invention (15) described in the present specification, wherein the second step is performed in the second step. A method for manufacturing a display device, wherein a depth of excavation is not less than 160 μm and not more than 350 μm. According to the invention (17) described in this specification, in the structure of FIG. 8A or 8B, the second region 104 is recessed from the first region 103 to 160 μm or more and 350 μm or less. be able to.

【0062】本明細書に記載の発明(18)は、本明細
書に記載の発明(13)乃至(17)のいずれか一項に
おいて、前記第3の工程において前記掘削の深さは50
μm以上150μm以下であることを特徴とする表示装
置の作製方法である。本明細書に記載の発明(18)に
よれば、図8(A)〜図8(C)のように、乾燥剤を設
ける第3の領域105を第2の領域104に対し50μ
m以上150μm以下に窪ませることができる。
The invention (18) described in the present specification is the invention according to any one of the inventions (13) to (17) described in the present specification, wherein the depth of the excavation is 50 in the third step.
A method for manufacturing a display device, which is not less than μm and not more than 150 μm. According to the invention (18) described in this specification, as shown in FIGS. 8A to 8C, the third region 105 where the desiccant is provided is 50 μm with respect to the second region 104.
m and 150 μm or less.

【0063】本明細書に記載の発明(19)は、本明細
書に記載の発明(13)乃至(16)において、前記第
5の工程の後に、前記第1の基板と前記第2の基板とを
前記接着性を有する層を用いて接着する第6の工程と、
前記第1の基板及び前記第2の基板を気体レーザーを用
いて切断する第7の工程とを有することを特徴とする表
示装置の作製方法である。
The invention (19) described in the present specification is the invention according to the inventions (13) to (16) described in the present specification, wherein the first substrate and the second substrate are provided after the fifth step. And a sixth step of bonding using the layer having the adhesive property,
And a seventh step of cutting the first substrate and the second substrate using a gas laser.

【0064】本明細書に記載の発明(20)は、本明細
書に記載の発明(14)乃至(16)のいずれか一項に
おいて、前記第6の工程の後に、前記第1の基板と前記
第2の基板とを前記接着性を有する層を用いて接着する
第7の工程と、前記第1の基板及び前記第2の基板を気
体レーザーを用いて切断する第8の工程とを有すること
を特徴とする表示装置の作製方法である。
According to the invention (20) described in the present specification, in any one of the inventions (14) to (16) described in the present specification, after the sixth step, the first substrate A seventh step of bonding the second substrate with the layer having the adhesive property, and an eighth step of cutting the first substrate and the second substrate using a gas laser. A method for manufacturing a display device, characterized in that:

【0065】本明細書に記載の発明(21)に記載の本
発明は、本明細書に記載の発明(19)又は本明細書に
記載の発明(20)において、前記気体レーザーはCO
2レーザーであることを特徴とする表示装置の作製方法
である。
According to the invention described in the invention (21) described in this specification, the gas laser according to the invention (19) described in this specification or the invention (20) described in this specification is CO 2
This is a method for manufacturing a display device, which is characterized by using two lasers.

【0066】[0066]

【発明の実施の形態】[実施形態1]本発明の実施の形態
について図1を用いて説明する。図1で示すのは有機発
光素子を用いたアクティブマトリクス方式の表示装置の
断面図である。
[Embodiment 1] An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view of an active matrix type display device using an organic light emitting element.

【0067】第1の基板(素子基板)101上には、T
FTを用いて駆動回路部111と画素部112とが形成
される。
On the first substrate (element substrate) 101, T
The driving circuit portion 111 and the pixel portion 112 are formed using FT.

【0068】第1の基板及び第2の基板(封止基板)1
02はバリウムホウケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸
ガラス、石英ガラスなどのガラスからなる基板を用い
る。
First substrate and second substrate (sealing substrate) 1
For 02, a substrate made of glass such as barium borosilicate glass, aluminoborosilicate glass, or quartz glass is used.

【0069】第2の基板の表面は砥粒加工法にて加工さ
れ、選択的に削られている。この加工により、第2の基
板の表面は、第1の領域103と第2の領域104と第
3の領域105とを有する。第1の領域は接着性を有す
る層が接着される面である。第2の基板の裏面を基準と
すると第1の領域は第2の領域及び第3の領域に比べて
凸部状に突き出ている。
The surface of the second substrate is processed by an abrasive processing method and is selectively shaved. Through this processing, the surface of the second substrate has a first region 103, a second region 104, and a third region 105. The first region is a surface to which an adhesive layer is bonded. With reference to the back surface of the second substrate, the first region protrudes in a convex shape as compared with the second region and the third region.

【0070】接着性を有する層106には、エポキシ系
接着剤が用いられる。接着性を有する層は可能な限り薄
いことが望ましい。接着剤はチッソ社が販売しているL
IXSON BOND LX‐0001を用いることも
できる。LX‐0001は二液性のエポキシ樹脂であ
る。第1の基板にLX‐0001を塗布後、第1の基板
と第2の基板の周囲に圧力をかけながら100℃で2時
間硬化する。硬化後の接着剤は0.5μm〜2.0μm
の厚さとなる。
For the layer 106 having adhesiveness, an epoxy-based adhesive is used. It is desirable that the adhesive layer be as thin as possible. The adhesive is L sold by Chisso
IXSON BOND LX-0001 can also be used. LX-0001 is a two-part epoxy resin. After applying LX-0001 to the first substrate, the substrate is cured at 100 ° C. for 2 hours while applying pressure around the first substrate and the second substrate. The adhesive after curing is 0.5 μm to 2.0 μm
Of thickness.

【0071】第3の領域の窪みには乾燥剤107が設け
られる。乾燥剤は酸化カルシウムを用いる。乾燥剤は公
知の材料を用いることができる。本実施形態では乾燥剤
は平板状のものを用いる。乾燥剤の厚さは10μm〜8
0μmとすることが望ましい。本実施形態では乾燥剤の
厚さを80μmとする。乾燥剤は特に、第1の基板と第
2の基板とを接着性を有する層を用いて封止した後、有
機発光素子に浸入してくる水分を吸湿する。乾燥剤を発
光素子が設けられた領域に近接して設けるため、封止領
域内の水分濃度を下げ、表示装置の寿命を長くすること
ができる。
A desiccant 107 is provided in the depression in the third region. The desiccant uses calcium oxide. Known materials can be used as the desiccant. In this embodiment, a desiccant is used in the form of a flat plate. The thickness of the desiccant is 10 μm to 8
Desirably, it is 0 μm. In the present embodiment, the thickness of the desiccant is 80 μm. In particular, the desiccant absorbs moisture that enters the organic light-emitting element after the first substrate and the second substrate are sealed with an adhesive layer. Since the desiccant is provided close to the region where the light-emitting element is provided, the moisture concentration in the sealing region can be reduced and the life of the display device can be prolonged.

【0072】乾燥剤の微粉末が画素部や駆動回路部に移
動しないように、多孔質のフィルム108を乾燥剤を覆
うように設ける。乾燥剤の表面に接着剤109を点状に
塗布し、多孔質のフィルムを乾燥剤に貼りつける。ま
た、多孔質のフィルムを円状にくり貫き、乾燥剤が露呈
した部分に接着剤110を塗布し、乾燥剤107と第2
の基板102とを接着する。
A porous film 108 is provided so as to cover the desiccant so that the fine powder of the desiccant does not move to the pixel portion and the drive circuit portion. The adhesive 109 is applied to the surface of the desiccant in a dot-like manner, and a porous film is attached to the desiccant. In addition, a porous film is cut out in a circular shape, an adhesive 110 is applied to a portion where the desiccant is exposed, and the desiccant 107 and the second
Is bonded to the substrate 102.

【0073】多孔質のフィルムの厚さは出来るだけ薄い
方が望ましい。本実施形態では多孔質のフィルムの厚さ
を10μmとする。また、接着剤は乾燥剤に塗布する量
を調節することで、5μm以下、好ましくは1μm以下
とすることができる。本実施形態では接着剤の厚さを
5.0μmとする。乾燥剤の厚さが80μmのため、第
2の領域に対し第3の領域を110μmほど凹状にすれ
ば、第3の領域に乾燥剤107、接着剤109〜11
0、多孔質のフィルム108を収めることができる。
It is desirable that the thickness of the porous film be as thin as possible. In this embodiment, the thickness of the porous film is 10 μm. The amount of the adhesive can be adjusted to 5 μm or less, preferably 1 μm or less by adjusting the amount of the adhesive applied to the desiccant. In the present embodiment, the thickness of the adhesive is 5.0 μm. Since the thickness of the desiccant is 80 μm, if the third region is formed to be 110 μm concave with respect to the second region, the desiccant 107 and the adhesives 109 to 11 are formed in the third region.
0, a porous film 108 can be accommodated.

【0074】また、画素部において第1の基板と第2の
基板とのギャップを10μm〜50μmにすることが好
ましい。画素部のギャップをこの範囲にするためには、
第1の領域103に対して第2の領域104を10〜5
0μmほど凹状にするとよい。本実施形態では、画素部
において第1の基板と第2の基板とのギャップを50μ
mにするために第1の領域に対して、第2の領域を48
μm凹状にする。これは、本実施形態における接着性を
有する層の厚さ(2μm)を考慮した値である。なお、
画素部の有機発光素子と封止基板とのギャップは、厳密
層間絶縁膜121の厚さによって数μmの差が生じる
が、説明の便宜上、層間絶縁膜の厚さは無視できるもの
とする。
It is preferable that the gap between the first substrate and the second substrate in the pixel portion is set to 10 μm to 50 μm. In order to keep the gap of the pixel part in this range,
The second area 104 is set to 10 to 5 with respect to the first area 103.
It is good to make it concave about 0 μm. In the present embodiment, the gap between the first substrate and the second substrate in the pixel portion is 50 μm.
m, the second area is 48
μm concave. This is a value in consideration of the thickness (2 μm) of the adhesive layer in the present embodiment. In addition,
The gap between the organic light emitting element in the pixel portion and the sealing substrate has a strict difference of several μm depending on the thickness of the interlayer insulating film 121, but for convenience of explanation, the thickness of the interlayer insulating film is assumed to be negligible.

【0075】多孔質のフィルム108と駆動回路部との
間には、ほぼ50μmの間隙があるため、多孔質のフィ
ルムが駆動回路部108と接し、駆動回路部のTFTを
破壊することが避けられる。
Since there is a gap of approximately 50 μm between the porous film 108 and the driving circuit, the porous film is in contact with the driving circuit 108 and it is possible to prevent the TFT of the driving circuit from being destroyed. .

【0076】有機発光素子116は、陰極113、有機
化合物層114、陽極115の順に積層し、発光素子か
ら放射される発光を第2の基板102の側へと出射させ
る構造とする。このような構成とすると、反射性の導電
膜からなる陰極を、TFTの電極や配線の上方に重ねて
設けることが可能となり、発光面積が大きくなり、発光
輝度が高く視認性の良い表示となる。
The organic light emitting device 116 has a structure in which a cathode 113, an organic compound layer 114, and an anode 115 are laminated in this order, and light emitted from the light emitting device is emitted toward the second substrate 102. With such a structure, a cathode made of a reflective conductive film can be provided over the electrodes and wirings of the TFT, so that a light-emitting area is increased, and a display with high luminance and high visibility is obtained. .

【0077】陰極113としては、仕事関数の小さいマ
グネシウム(Mg)、リチウム(Li)若しくはカルシ
ウム(Ca)を含む材料を用いる。好ましくはMgAg
(MgとAgをMg:Ag=10:1で混合した材料)
でなる電極を用いれば良い。他にもMgAgAl電極、
LiAl電極、また、LiFAl電極が挙げられる。陰
極はMgAgやLiFなどの材料を用いて形成される。
陰極の厚さは100nm〜200nmとすれば良い。
As the cathode 113, a material containing magnesium (Mg), lithium (Li) or calcium (Ca) having a small work function is used. Preferably MgAg
(Material in which Mg and Ag are mixed at Mg: Ag = 10: 1)
May be used. In addition, MgAgAl electrode,
A LiAl electrode and a LiFAl electrode are mentioned. The cathode is formed using a material such as MgAg or LiF.
The thickness of the cathode may be 100 nm to 200 nm.

【0078】陽極115は、透光性を有する導電膜であ
るITO(Indium Tin Oxide:酸化インジウム錫)膜を
形成する。陽極の厚さは100nm〜200nmとすれ
ば良い。
As the anode 115, an ITO (Indium Tin Oxide: Indium Tin Oxide) film which is a light-transmitting conductive film is formed. The thickness of the anode may be 100 nm to 200 nm.

【0079】有機化合物層114は、電子輸送層/発光
層/正孔輸送層/正孔注入層の順に積層されるが、電子
輸送層/発光層/正孔輸送層、または電子注入層/電子
輸送層/発光層/正孔輸送層/正孔注入層のような構造
としても良い。本発明では公知のいずれの構造を用いて
も良い。
The organic compound layer 114 is laminated in the order of electron transport layer / light emitting layer / hole transport layer / hole injection layer. A structure such as a transport layer / a light emitting layer / a hole transport layer / a hole injection layer may be employed. In the present invention, any known structure may be used.

【0080】具体的な発光層としては、赤色に発光する
発光層にはシアノポリフェニレン、緑色に発光する発光
層にはポリフェニレンビニレン、青色に発光する発光層
にはポリフェニレンビニレンまたはポリアルキルフェニ
レンを用いれば良い。発光層の厚さは30〜150nm
とすれば良い。
As a specific light emitting layer, cyanopolyphenylene is used for the light emitting layer emitting red light, polyphenylene vinylene is used for the light emitting layer emitting green light, and polyphenylene vinylene or polyalkylphenylene is used for the light emitting layer emitting blue light. good. The thickness of the light emitting layer is 30 to 150 nm
It is good.

【0081】上記の例は発光層として用いることのでき
る材料の一例であり、これに限定されるものではない。
発光層、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注
入層を形成するための材料は、その可能な組合せにおい
て自由に選択することができる。
The above example is an example of a material that can be used for the light emitting layer, and is not limited to this.
Materials for forming the light emitting layer, the hole transport layer, the hole injection layer, the electron transport layer, and the electron injection layer can be freely selected in a possible combination thereof.

【0082】絶縁性を有する下地膜117上に駆動回路
部及び画素部のTFTが設けられる。TFTは半導体膜
118、ゲート絶縁膜118、ゲート電極119、層間
絶縁膜121、ドレイン電極122及びソース電極12
3からなる。半導体層の厚さを10〜150nm、ゲー
ト絶縁膜の厚さを50〜200nm、ゲート電極の厚さ
を50〜800nm、層間絶縁膜の厚さを1〜6μm、
ドレイン電極及びソース電極の厚さを200nm〜80
0nmとすると良い。
The TFTs of the drive circuit portion and the pixel portion are provided on the insulating base film 117. The TFT includes a semiconductor film 118, a gate insulating film 118, a gate electrode 119, an interlayer insulating film 121, a drain electrode 122, and a source electrode 12.
Consists of three. The thickness of the semiconductor layer is 10 to 150 nm, the thickness of the gate insulating film is 50 to 200 nm, the thickness of the gate electrode is 50 to 800 nm, the thickness of the interlayer insulating film is 1 to 6 μm,
The thickness of the drain electrode and the source electrode is 200 nm to 80
It is good to be 0 nm.

【0083】有機化合物層114の断線や、有機発光素
子の断線に起因する陽極115と陰極113との短絡を
防止するために、陰極の端部に一部が重なるようにアク
リルやポリイミドなどの有機樹脂、好ましくは感光性の
有機樹脂からなるバンク124を設ける。バンク124
のなだらかなテーパーに沿って有機化合物層を形成する
ことで、陰極の端部における有機化合物層の断線を防止
し、ひいては有機化合物層の断線に起因する陽極と陰極
との短絡を防止する。バンクの膜厚を1〜3μmとす
る。
In order to prevent a short circuit between the anode 115 and the cathode 113 due to disconnection of the organic compound layer 114 or disconnection of the organic light emitting element, an organic material such as acryl or polyimide may be partially overlapped with the end of the cathode. A bank 124 made of a resin, preferably a photosensitive organic resin is provided. Bank 124
By forming the organic compound layer along the gentle taper, disconnection of the organic compound layer at the end of the cathode is prevented, and short-circuit between the anode and the cathode due to disconnection of the organic compound layer is prevented. The thickness of the bank is set to 1 to 3 μm.

【0084】本実施形態において、画素部の第1の基板
と第2の基板とのギャップを50μmとするに必要な接
着性を有する層の厚さは2μmで良い。このため、表示
装置の側面において有機樹脂材料が外気に曝される面積
が低減し、有機樹脂材料(接着性を有する層)を通過す
る水分の量を従来に比べ、大幅に低減することができ
る。
In the present embodiment, the thickness of the layer having an adhesive property necessary for setting the gap between the first substrate and the second substrate in the pixel portion to 50 μm may be 2 μm. Therefore, the area of the side surface of the display device where the organic resin material is exposed to the outside air is reduced, and the amount of moisture passing through the organic resin material (the layer having adhesiveness) can be significantly reduced as compared with the conventional case. .

【0085】すなわち、接着性を有する層を通過して封
止空間に浸入する水分の量を低減でき、本発明の課題が
解決され、有機発光素子の寿命を高めることが可能とな
る。
That is, it is possible to reduce the amount of water that penetrates the sealing space through the layer having adhesiveness, so that the object of the present invention can be solved and the life of the organic light emitting element can be increased.

【0086】図7は砥砂加工法により、基板を加工する
工程を説明するための断面図である。加工に用いる装置
の一例として、新東ブレーター社製のMB−1が挙げら
れる。
FIG. 7 is a cross-sectional view for explaining a step of processing a substrate by a grinding sand processing method. As an example of an apparatus used for processing, MB-1 manufactured by Shinto Breiter Co., Ltd. can be mentioned.

【0087】図7(A)は、加工前のガラスからなる基
板202の選択的位置に第1のマスク201を配置した
断面図を示す。第1のマスクは接着性を有する層が設け
られる領域に配置する。第1のマスクは、基板の表面に
フィルムを貼りつけ、フィルムを紫外線にて露光し、弱
アルカリ溶液にて現像し、乾燥して形成する。基板の表
面に貼りつけるフィルムは紫外線硬化型のウレタン樹脂
を用いることが望ましい。砥砂加工の工程において耐性
が高いからである。第1のマスクの厚さは0.05mm
〜0.5mmとすると良い。
FIG. 7A is a cross-sectional view in which a first mask 201 is disposed at a selective position on a substrate 202 made of glass before processing. The first mask is provided in a region where an adhesive layer is provided. The first mask is formed by attaching a film to the surface of a substrate, exposing the film to ultraviolet light, developing with a weak alkaline solution, and drying. It is desirable to use a UV-curable urethane resin for the film to be attached to the surface of the substrate. This is because the resistance is high in the step of grinding sand processing. The thickness of the first mask is 0.05 mm
It is good to be 0.5 mm.

【0088】図7(B)は、砥砂加工にて、微細な粉末
を基板に噴射し砥砂加工を行う第1の加工の工程を示す
断面図である。平均粒子径が3μm〜40μmの微細な
粉末を基板の表面に噴射し、第1のマスクの無い部分を
選択的に除去する。加工後基板を洗浄し、基板の加工屑
を除去する。これにより、基板の表面に第1の領域20
3と、第1の領域に対して窪んだ第2の領域204とが
できる。
FIG. 7B is a cross-sectional view showing a first processing step in which fine powder is sprayed onto a substrate by grinding sand processing to perform grinding sand processing. A fine powder having an average particle diameter of 3 μm to 40 μm is sprayed on the surface of the substrate, and a portion without the first mask is selectively removed. After processing, the substrate is washed to remove processing dust from the substrate. Thereby, the first region 20 is formed on the surface of the substrate.
3 and a second region 204 recessed with respect to the first region.

【0089】図7(C)は、第2のマスク206を基板
に設け砥砂加工を行う第2の加工の工程を示す断面図で
ある。微粉末を噴射し基板の表面を掘削することで、基
板の表面に第2の領域に対して窪んだ第3の領域205
ができる。
FIG. 7C is a cross-sectional view showing a second processing step in which the second mask 206 is provided on the substrate to perform grinding sand processing. By injecting fine powder and excavating the surface of the substrate, the third region 205 recessed with respect to the second region is formed on the surface of the substrate.
Can be.

【0090】図7(D)は、第2のマスクを除去した後
の基板の断面を示す。本実施形態においては、第1の加
工の工程の掘削の深さが48μm、第2の加工の工程の
掘削の深さが110μmとなる。加工前の基板の厚さを
0.6mmとすると、第1の領域203の基板の厚さは
0.6mm、第2の領域204の基板の厚さは0.55
2mm、第3の領域205の基板の厚さは0.442m
mとなる。本実施形態において面積的に多くを占めるの
は第2の領域である。第2の領域の基板の厚さ0.55
2mmは、表示装置の軽量化、薄型化の点で好ましい値
である。もちろん、第2の基板の加工前の厚さを0.6
mm以下として、さらに表示装置の軽量化を図ることも
可能である。
FIG. 7D shows a cross section of the substrate after removing the second mask. In the present embodiment, the excavation depth in the first processing step is 48 μm, and the excavation depth in the second processing step is 110 μm. Assuming that the thickness of the substrate before processing is 0.6 mm, the thickness of the substrate in the first region 203 is 0.6 mm, and the thickness of the substrate in the second region 204 is 0.55.
2 mm, the thickness of the substrate in the third region 205 is 0.442 m
m. In the present embodiment, the second region occupies a large area. 0.55 thickness of substrate in second region
2 mm is a preferable value in terms of reducing the weight and thickness of the display device. Of course, the thickness of the second substrate before processing is 0.6
mm or less, it is possible to further reduce the weight of the display device.

【0091】次に、第3の領域に設けられた乾燥剤の量
から捕獲できる水分の量を以下に見積もる。有機樹脂の
透湿度は60℃で湿度90%の環境において15〜30
g/m2・dayである。本実施形態では、接着剤の透
湿度を20g/m2・dayとして、接着剤を通過して
封止領域内に浸入する水分の量を見積もる。
Next, the amount of moisture that can be captured will be estimated from the amount of desiccant provided in the third region. The moisture permeability of the organic resin is 15 to 30 in an environment of 60 ° C. and 90% humidity.
g / m 2 · day. In the present embodiment, the moisture permeability of the adhesive is set to 20 g / m 2 · day, and the amount of moisture that passes through the adhesive and enters the sealing region is estimated.

【0092】本実施形態の表示装置を一辺が7cmの正
方形の外形とし、接着性を有する層(接着剤)の高さを
2μmとする。接着性を有する層が空気に曝露される面
積は、0.56×10-62であり、曝露される面積に
透湿度を乗じると、1日に透過する水分の量は114×
10-7g/日になる。
The display device of this embodiment has a square outer shape with a side of 7 cm, and the height of an adhesive layer (adhesive) is 2 μm. The area where the adhesive layer is exposed to air is 0.56 × 10 −6 m 2 , and when the exposed area is multiplied by the moisture permeability, the amount of water permeated per day is 114 ×
It is 10 -7 g / day.

【0093】接着性を有する層を通過する10年分の水
分の量は41.6×10-3gである。乾燥剤として酸化
カルシウムを用いると、水分を1g吸着するのに必要な
酸化カルシウムの量は3gであり、10年分の水分を完
全に吸着できる酸化カルシウムの量は125mgであ
る。酸化カルシウムの比重は3.0g/cm3であるた
め、酸化カルシウムが充填される体積が41.7mm3
あれば接着性を有する層から浸入する10年分の水分を
完全に吸着できる。
The amount of water for 10 years passing through the adhesive layer is 41.6 × 10 −3 g. When calcium oxide is used as a desiccant, the amount of calcium oxide required to adsorb 1 g of water is 3 g, and the amount of calcium oxide capable of completely adsorbing water for 10 years is 125 mg. Since the specific gravity of the calcium oxide is 3.0 g / cm 3 , if the volume filled with the calcium oxide is 41.7 mm 3, it is possible to completely adsorb moisture for 10 years that has penetrated from the adhesive layer.

【0094】表示領域を一辺が60mmの正方形とし、
駆動回路部の幅を表示領域と平行に60mm、表示領域
と垂直に3mmとする。駆動回路部を3つ(ゲートドラ
イバーが二つ、ソースドライバーが一つ)設けると、駆
動回路部の占める面積は540mm2である。つまり、
封止基板の駆動回路部上方にあたる位置に空隙を設け、
酸化カルシウムを充填すると、酸化カルシウムからなる
乾燥剤の厚さが77μmであれば、乾燥剤の体積が4
1.7mm3となり、接着性を有する層から浸入する1
0年分の水分を完全に吸着できる量を充填することがで
きる。本実施形態の乾燥剤の厚さは80μmであるため
計算上、長期に渡る使用(少なくとも10年の使用)に
十分な量の乾燥剤がある。
The display area is a square having a side of 60 mm.
The width of the drive circuit unit is set to 60 mm parallel to the display area and 3 mm perpendicular to the display area. When three drive circuit units are provided (two gate drivers and one source driver), the area occupied by the drive circuit units is 540 mm 2 . That is,
A gap is provided at a position above the drive circuit portion of the sealing substrate,
When calcium oxide is filled, if the thickness of the desiccant made of calcium oxide is 77 μm, the volume of the desiccant is 4 μm.
1.7 mm 3 , which penetrates from the adhesive layer 1
An amount that can completely absorb water for 0 years can be filled. Since the thickness of the desiccant in this embodiment is 80 μm, there is a sufficient amount of desiccant in terms of calculation for long-term use (use for at least 10 years).

【0095】シール材を透過する水分の量は温度や湿度
によって変わるため、本発明で用いる乾燥剤の量は、表
示装置の使用環境に従って、適宜決定すれば良い。
Since the amount of moisture passing through the sealant varies depending on the temperature and humidity, the amount of the desiccant used in the present invention may be determined as appropriate according to the use environment of the display device.

【0096】[実施形態2]本実施形態では、駆動回路部
の上方に乾燥剤及び透湿性のフィルムを設けた例を示
す。本実施形態では実施形態1と異なる点を詳細に説明
する。本実施形態を図2の断面図を用いて説明をする。
図2はアクティブマトリクス方式の有機発光素子を用い
たアクティブマトリクス方式の表示装置の断面図であ
り、画素部112と駆動回路部111とが同一基板上に
形成された駆動回路一体型の構成である。
[Embodiment 2] In this embodiment, an example is shown in which a desiccant and a moisture-permeable film are provided above a drive circuit portion. In the present embodiment, points different from the first embodiment will be described in detail. This embodiment will be described with reference to the cross-sectional view of FIG.
FIG. 2 is a cross-sectional view of an active-matrix display device using an active-matrix organic light-emitting element, which has a driving circuit integrated structure in which a pixel portion 112 and a driving circuit portion 111 are formed over the same substrate. .

【0097】第1の基板101及び第2の基板102は
ガラスからなる基板を用いることができる。
As the first substrate 101 and the second substrate 102, substrates made of glass can be used.

【0098】本実施形態では乾燥剤107として粒状の
材料を用いる。乾燥剤を粒状とすると表面積が増加し、
より水分を吸着しやすくなる。乾燥剤の粒径は10〜8
0μmとすることが望ましい。本実施形態では、30μ
mの粒径の乾燥剤を用いる。また、本実施形態におい
て、乾燥剤を設ける第3の領域105は第2の領域10
4に対し、100μmの深さを有するとする。乾燥剤は
酸化カルシウムを用いる。
In the present embodiment, a granular material is used as the drying agent 107. When the desiccant is granulated, the surface area increases,
It becomes easier to adsorb moisture. Particle size of desiccant is 10-8
Desirably, it is 0 μm. In this embodiment, 30 μm
A desiccant having a particle size of m is used. In the present embodiment, the third region 105 where the desiccant is provided is the second region 10.
4 has a depth of 100 μm. The desiccant uses calcium oxide.

【0099】乾燥剤を第3の領域105に閉じ込めるた
めに、粘着層125、多孔質層126、基材127から
なる透湿性のフィルムを用いる。基材はポリエステル、
多孔質層はポリフッ化エチレン系繊維を用いることがで
きる。多孔質フィルムは透湿度の高い日東電工社製のN
TF1121(JIS K 7129 MethodA
に準拠した測定で6800g/m2・24hrの透湿
度)を用いると良い。また、透湿性のフィルムの厚さは
150μm〜300μmが好ましい。本実施形態では透
湿性のフィルムの厚さは150μmとする。
In order to confine the desiccant in the third region 105, a moisture-permeable film composed of the adhesive layer 125, the porous layer 126, and the substrate 127 is used. The base material is polyester,
For the porous layer, a polyfluorinated ethylene fiber can be used. The porous film is made of Nitto Denko with high moisture permeability.
TF1121 (JIS K 7129 MethodA)
It is preferable to use 6800 g / m < 2 >. Further, the thickness of the moisture-permeable film is preferably 150 μm to 300 μm. In this embodiment, the thickness of the moisture-permeable film is 150 μm.

【0100】また、駆動回路部のTFTと透湿性のフィ
ルムとが接触しないように、透湿性のフィルムと駆動回
路部との間は50μmのほどの間隙を空ける。このた
め、透湿性のフィルムの厚さ(150μm)と、透湿性
のフィルムと駆動回路部との間隔とを考慮すると、第1
の領域103に対して透湿性のフィルムを設ける第2の
領域104を200μm窪ませる。
Also, a gap of about 50 μm is provided between the moisture-permeable film and the drive circuit so that the TFT of the drive circuit does not come into contact with the moisture-permeable film. For this reason, considering the thickness (150 μm) of the moisture-permeable film and the distance between the moisture-permeable film and the drive circuit section, the first
A second region 104 on which a moisture-permeable film is provided is recessed by 200 μm with respect to the region 103.

【0101】第1の基板と第2の基板とを貼り合せる接
着性を有する層106は、出来るだけ薄い方が望まし
い。本実施形態では接着性を有する層は1.5μmの厚
さとする。
It is desirable that the layer 106 having an adhesive property for bonding the first substrate and the second substrate be as thin as possible. In the present embodiment, the thickness of the adhesive layer is 1.5 μm.

【0102】第1の基板、第2の基板、接着性を有する
層に囲まれた封止空間の体積を小さくし、封止空間内の
乾燥気体に残存する水分の総量を減らすため、駆動回路
部の第1の基板と第2の基板との距離に比べて、画素部
の第1の基板と第2の基板との距離を小さくすると良
い。画素部は特に透湿性のフィルムを設けるという制約
がないため、表示領域の視認性等を考慮して画素部にお
ける基板間の距離を任意に決めることができる。本実施
形態では、画素部における第1の基板と第2の基板との
間の距離は50μmとする。
In order to reduce the volume of the sealed space surrounded by the first substrate, the second substrate, and the adhesive layer, and to reduce the total amount of moisture remaining in the dry gas in the sealed space, a driving circuit It is preferable that the distance between the first substrate and the second substrate in the pixel portion be smaller than the distance between the first substrate and the second substrate in the portion. Since the pixel portion is not particularly limited by providing a moisture-permeable film, the distance between the substrates in the pixel portion can be arbitrarily determined in consideration of the visibility of the display region and the like. In the present embodiment, the distance between the first substrate and the second substrate in the pixel portion is set to 50 μm.

【0103】本実施形態では、有機発光素子116を、
陽極113、有機化合物層114、陰極115の順に積
層する。陽極にITOからなる透明電極、陰極に仕事関
数の小さな金属としてMgAg等のアルカリ土類金属又
はAlLi等のアルカリ金属を用いることで、有機発光
素子の発光を第1の基板101の側から出射させる構成
となる。有機化合物層は正孔輸送層、発光層、電子輸送
層の順に積層する。カラー表示が可能となるように発光
層はRGBに対応した三種類の発光層を形成すると良
い。
In this embodiment, the organic light emitting device 116 is
An anode 113, an organic compound layer 114, and a cathode 115 are stacked in this order. By using a transparent electrode made of ITO for the anode and an alkaline earth metal such as MgAg or an alkali metal such as AlLi as the metal having a small work function for the cathode, light emission of the organic light emitting element is emitted from the first substrate 101 side. Configuration. The organic compound layer is stacked in the order of a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer. It is preferable to form three types of light emitting layers corresponding to RGB so that color display is possible.

【0104】第2の基板の厚さを0.7mmとすると、
第1の領域の基板の厚さは0.7mm、第2の領域の基
板の厚さは0.5mm、第3の領域の基板の厚さは0.
4mmとなる。第2の基板において、面積的に多く占め
るのは第2の領域のため、第2の基板の厚さや重量はほ
とんど、第2の領域におけるガラス基板の厚さにより決
まると考えて良い。つまり、基板の大半を占める第2の
領域において、0.5mmのガラス基板の厚さは、表示
装置の薄型化、軽量化という点で好ましい値である。
Assuming that the thickness of the second substrate is 0.7 mm,
The thickness of the substrate in the first region is 0.7 mm, the thickness of the substrate in the second region is 0.5 mm, and the thickness of the substrate in the third region is 0.5 mm.
4 mm. Since the second substrate occupies a large area in the second substrate, it can be considered that the thickness and weight of the second substrate are almost determined by the thickness of the glass substrate in the second region. That is, in the second region that occupies most of the substrate, the thickness of the glass substrate of 0.5 mm is a preferable value in terms of reducing the thickness and weight of the display device.

【0105】また、本実施形態の構成によれば、表面積
が大きく吸湿性が高い粒状の乾燥剤を、透湿性のフィル
ムを用いて封止領域内に設けることが可能となる。ま
た、本実施形態においては駆動回路部上に乾燥剤を設け
たが、画素部上に乾燥剤を設けることも可能である。有
機発光素子から放射される光の方向を考えると、乾燥剤
を画素部上に設けてもなんら表示に影響はないからであ
る。
Further, according to the structure of the present embodiment, a granular desiccant having a large surface area and a high hygroscopicity can be provided in the sealing region by using a moisture-permeable film. Further, in the present embodiment, the desiccant is provided on the drive circuit portion, but it is also possible to provide the desiccant on the pixel portion. This is because, considering the direction of light emitted from the organic light emitting element, even if the desiccant is provided on the pixel portion, there is no effect on display.

【0106】[実施形態3]本実施形態を図3を用いて説
明する。図3は有機発光素子116が設けられた表示装
置において、有機発光素子の発光が出射する基板の表面
に微細な凹凸を形成している。以下に本実施形態につい
て詳細に説明する。
[Embodiment 3] This embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 3 shows a display device provided with an organic light-emitting element 116, in which fine unevenness is formed on the surface of a substrate from which light emitted from the organic light-emitting element is emitted. Hereinafter, the present embodiment will be described in detail.

【0107】本実施形態にて、有機発光素子116は、
陰極113、有機化合物層114、陽極115の順に積
層され、有機発光素子116の発光は図の矢印で示す側
に放射される。つまり、ユーザーは第2の基板102の
側から画像を視認する。このとき、第2の基板102と
封止空間との界面及び第2の基板と空気との界面で外光
が反射するため、周囲の景色の映り込みが生じる。この
映り込みを防ぐために、第2の基板の表面に微細な凹凸
を形成する。
In this embodiment, the organic light emitting device 116 is
The cathode 113, the organic compound layer 114, and the anode 115 are stacked in this order, and the light emitted from the organic light emitting element 116 is emitted to the side indicated by the arrow in the figure. That is, the user views the image from the second substrate 102 side. At this time, since external light is reflected at the interface between the second substrate 102 and the sealing space and the interface between the second substrate and air, the surrounding scenery is reflected. In order to prevent this reflection, fine irregularities are formed on the surface of the second substrate.

【0108】砥粒加工法にて基板の表面を加工するさい
に、第2の基板の表面に第1の領域、第2の領域104
及び第3の領域を形成した後に、基板の表面に噴射する
微粉末の粒径や噴射速度を調節して、この微細な凹凸を
第1の領域、第2の領域及び第3の領域の表面に形成す
れば良い。微細な凹凸の高さは0.1μm〜3μm好ま
しくは0.1μm〜0.5μmとする。また、回折を防
ぐために曲率を異ならせた凹凸を設け、散乱性を上げる
ことが好ましい。凸部の先端と該凸部と隣接する凸部の
先端の間隔(ピッチ)を(X)とすると、X=0.05
〜1μm(好ましくは0.3〜0.8μm)とすることが
好ましい。即ち、可視光の波長とほぼ一致するようにピ
ッチを設定すると、反射光の乱反射を効果的に生じさせ
ることができる。
When the surface of the substrate is processed by the abrasive processing method, the first region and the second region 104 are formed on the surface of the second substrate.
After the formation of the third region, the particle size and the spraying speed of the fine powder to be sprayed on the surface of the substrate are adjusted so that the fine irregularities are formed on the surfaces of the first region, the second region and the third region. What is necessary is just to form. The height of the fine unevenness is 0.1 μm to 3 μm, preferably 0.1 μm to 0.5 μm. Further, it is preferable to provide unevenness having different curvatures in order to prevent diffraction, so as to enhance scattering. If the interval (pitch) between the tip of the protrusion and the tip of the protrusion adjacent to the protrusion is (X), X = 0.05
11 μm (preferably 0.3-0.8 μm). That is, if the pitch is set so as to substantially match the wavelength of visible light, diffused reflection of reflected light can be effectively generated.

【0109】また、本実施例ではユーザーが有機発光素
子により形成される画像を視認するさいに第2の基板と
空気の界面で外光が反射し、周囲の景色の映り込みが生
じることを防ぐために、第2の基板と空気との界面に反
射防止フィルム128を形成している。カラー表示が可
能な表示装置の場合、RGB三色の光が発光されるた
め、反射防止フィルムは広帯域の波長(400nm〜7
00nm)に渡って反射率が1%以下、好ましくは0.
5%以下となることが望ましい。
Further, in this embodiment, when the user visually recognizes the image formed by the organic light emitting element, external light is reflected at the interface between the second substrate and air, and the surrounding scene is prevented from being reflected. For this purpose, an antireflection film 128 is formed at the interface between the second substrate and air. In the case of a display device capable of color display, since light of three colors RGB is emitted, the antireflection film has a wide band wavelength (400 nm to 7
00 nm), preferably less than 1%, preferably 0.1%.
It is desirable that the content be 5% or less.

【0110】本実施形態によれば、微細な凹凸により第
2の基板と封止空間との界面における反射光が散乱す
る。第2の基板の表面に設けた反射防止フィルムの効果
とあいまって、第2の基板の周囲の景色が第2の基板の
界面で反射してユーザーに認識されることを防ぐことが
できる。
According to the present embodiment, the reflected light at the interface between the second substrate and the sealing space is scattered by the fine unevenness. In combination with the effect of the antireflection film provided on the surface of the second substrate, it is possible to prevent the scene around the second substrate from being reflected at the interface of the second substrate and recognized by the user.

【0111】[0111]

【実施例】[実施例1]本発明は有機発光素子を用いたあ
らゆる表示装置に適用することができる。図4はその一
例であり、TFTを用いて作製されるアクティブマトリ
クス型の表示装置の例を示す。実施例のTFTはチャネ
ル形成領域を形成する半導体膜の材質により、アモルフ
ァスシリコンTFTやポリシリコンTFTと区別される
ことがあるが、電界効果移動度が十分に高ければ本発明
はそのどちらにも適用することができる。
[Embodiment 1] The present invention can be applied to any display device using an organic light emitting device. FIG. 4 illustrates an example of such an active matrix display device manufactured using TFTs. The TFT of the embodiment may be distinguished from the amorphous silicon TFT or the polysilicon TFT depending on the material of the semiconductor film forming the channel formation region. However, if the field effect mobility is sufficiently high, the present invention can be applied to either of them. can do.

【0112】駆動回路部437にnチャネル型TFT4
31とpチャネル型TFT432が形成され、画素部4
38にスイッチング用TFT433、リセット用TFT
434、電流制御用TFT436及び保持容量435が
形成されている。
The drive circuit section 437 has an n-channel TFT 4
31 and a p-channel TFT 432 are formed.
38 is a switching TFT 433 and a reset TFT
434, a current control TFT 436 and a storage capacitor 435 are formed.

【0113】基板401は、石英やコーニング社の#7
059ガラスや#1737ガラスなどに代表されるバリ
ウムホウケイ酸ガラス、またはアルミノホウケイ酸ガラ
スなどのガラスから成る基板を用いる。
The substrate 401 is made of quartz or Corning # 7.
A substrate made of glass such as barium borosilicate glass represented by 059 glass or # 1737 glass or aluminoborosilicate glass is used.

【0114】次いで、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜
または酸化窒化シリコン膜などの絶縁膜から成る下地膜
402が設けられる。例えば、プラズマCVD法でSi
4、NH3、N2Oから作製される酸化窒化シリコン膜
402aを10〜200nm(好ましくは50〜100n
m)形成し、同様にSiH4、N2Oから作製される酸化
窒化水素化シリコン膜402bを50〜200nm(好
ましくは100〜150nm)の厚さに積層形成する。本
実施例では下地膜402を2層構造として示したが、前
記絶縁膜の単層膜または2層以上積層させた構造として
形成しても良い。
Next, a base film 402 made of an insulating film such as a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a silicon oxynitride film is provided. For example, the plasma CVD method
H 4, NH 3, silicon oxynitride is formed from N 2 O film 402a of 10 to 200 nm (preferably 50~100n
m) Then, a silicon oxynitride hydride film 402b similarly made of SiH 4 and N 2 O is formed to a thickness of 50 to 200 nm (preferably 100 to 150 nm). Although the base film 402 has a two-layer structure in this embodiment, the base film 402 may be formed as a single-layer film of the insulating film or a structure in which two or more layers are stacked.

【0115】次いで、島状半導体層403〜407、ゲ
ート絶縁膜408、ゲート電極409〜412を形成す
る。島状半導体膜403〜407は厚さを10〜150
nm、ゲート絶縁膜は厚さを50〜200nm、ゲート
電極は厚さを50〜800nmとする。
Next, island-shaped semiconductor layers 403 to 407, a gate insulating film 408, and gate electrodes 409 to 412 are formed. The thickness of the island-shaped semiconductor films 403 to 407 is 10 to 150.
nm, the gate insulating film has a thickness of 50 to 200 nm, and the gate electrode has a thickness of 50 to 800 nm.

【0116】次いで、窒化珪素、酸化窒化珪素などで形
成される無機材料からなる絶縁膜と、アクリルまたはポ
リイミドなどで形成される有機材料からなる絶縁膜との
積層構造から成る層間絶縁膜413を形成する。層間絶
縁膜の厚さは1〜3μmとすると良い。有機材料からな
る絶縁膜は島状半導体膜403〜407、ゲート電極4
09〜412に起因する凹凸を平坦化するに充分な厚さ
とすることが望ましい。
Next, an interlayer insulating film 413 having a laminated structure of an insulating film made of an inorganic material such as silicon nitride or silicon oxynitride and an insulating film made of an organic material such as acrylic or polyimide is formed. I do. The thickness of the interlayer insulating film is preferably 1 to 3 μm. The insulating film made of an organic material is the island-shaped semiconductor films 403 to 407, the gate electrode 4
It is desirable that the thickness be sufficient to flatten the unevenness caused by the components 09 to 412.

【0117】次いで、有機発光素子の陰極423を形成
する。陰極はMgAgやLiFなどの材料を用いると良
い。陰極の厚さは100nm〜200nmとすると良
い。
Next, a cathode 423 of the organic light emitting device is formed. It is preferable to use a material such as MgAg or LiF for the cathode. The thickness of the cathode is preferably 100 nm to 200 nm.

【0118】次いで、1〜5μmの厚さでアルミニウム
を主成分とする導電性を有する膜を形成し、エッチング
を行う。これにより、画素部においては、データ配線4
18、ドレイン側の配線419、電源供給配線420、
ドレイン側の電極421を形成する。データ配線418
はスイッチング用TFT433のソース側に接続し、ス
イッチング用TFTのドレイン側に接続したドレイン側
の配線419は図示していないが電流制御用TFT43
6のゲート電極411と接続し、電源供給配線420は
電流制御用TFT436のドレイン側と接続し、ドレイ
ン側の電極421は電流制御用TFT436のソース側
及び陰極と接続して設けられている。駆動回路部437
は、配線414及び配線416がnチャネル型TFT4
31の島状半導体膜403と接続され、配線415及び
配線417がpチャネル型TFT432の島状半導体膜
404と接続されている。なお、本実施例ではこのアル
ミニウムを主成分とする導電性を有する膜のエッチング
を行う条件を調節して、これらの配線の側面に層間絶縁
膜の表面(上面)に対して15°〜70°のテーパーを
つける。ランダムな方向に放射される有機発光素子の発
光をこれらの配線の側面で反射させて全反射を防止す
る。
Next, a conductive film containing aluminum as a main component and having a thickness of 1 to 5 μm is formed and etched. Thereby, in the pixel portion, the data wiring 4
18, a drain side wiring 419, a power supply wiring 420,
An electrode 421 on the drain side is formed. Data wiring 418
Is connected to the source side of the switching TFT 433, and the drain side wiring 419 connected to the drain side of the switching TFT 433 is not shown, but is not shown.
6, the power supply wiring 420 is connected to the drain side of the current control TFT 436, and the drain side electrode 421 is connected to the source side and the cathode of the current control TFT 436. Drive circuit section 437
Means that the wiring 414 and the wiring 416 are n-channel TFT4
The wiring 415 and the wiring 417 are connected to the island-shaped semiconductor film 404 of the p-channel TFT 432. In this embodiment, the conditions for etching the conductive film containing aluminum as a main component are adjusted, and the side surfaces of these wirings are formed at 15 ° to 70 ° with respect to the surface (upper surface) of the interlayer insulating film. With a taper. Light emitted from the organic light-emitting element radiated in random directions is reflected on the side surfaces of these wirings to prevent total reflection.

【0119】次いで、これら配線を覆うように絶縁材料
からなるバンク422が形成される。バンク422は、
陰極423の端部を覆うように形成され、この部分で陰
極と陽極とがショートすることを防ぐ。本実施例では、
酸化珪素、酸化窒化珪素などの無機材料を用いて厚さ1
〜3μmのバンクを形成する。無機絶縁膜はドレイン側
の電極421等のテーパーの面に平行に成膜されるた
め、スネルの法則を用いて反射光の進行方向を予測する
ことが容易となる。
Next, a bank 422 made of an insulating material is formed so as to cover these wirings. Bank 422 is
The cathode 423 is formed so as to cover the end of the cathode 423, and prevents the cathode and the anode from being short-circuited at this portion. In this embodiment,
A thickness of 1 using an inorganic material such as silicon oxide or silicon oxynitride;
A bank of about 3 μm is formed. Since the inorganic insulating film is formed parallel to the tapered surface of the drain-side electrode 421 or the like, it is easy to predict the traveling direction of the reflected light using Snell's law.

【0120】次いで、有機発光素子の有機化合物層42
4を形成する。有機化合物層は、単層又は積層構造で用
いられるが、積層構造で用いた方が発光効率は良い。一
般的には陽極上に正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電
子輸送層の順に形成されるが、正孔輸送層/発光層/電
子輸送層、または正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電
子輸送層/電子注入層のような構造でも良い。本発明で
は公知のいずれの構造を用いても良い。
Next, the organic compound layer 42 of the organic light emitting device
4 is formed. The organic compound layer is used in a single layer or a laminated structure, but the luminous efficiency is better when used in a laminated structure. In general, a hole injection layer / a hole transport layer / a light emitting layer / an electron transport layer are formed in this order on the anode, but a hole transport layer / a light emitting layer / an electron transport layer, or a hole injection layer / a hole A structure such as a transport layer / light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer may be used. In the present invention, any known structure may be used.

【0121】なお、本実施例ではRGBに対応した三種
類の発光層を蒸着する方式でカラー表示を行う。具体的
な発光層としては、赤色に発光する発光層にはシアノポ
リフェニレン、緑色に発光する発光層にはポリフェニレ
ンビニレン、青色に発光する発光層にはポリフェニレン
ビニレンまたはポリアルキルフェニレンを用いれば良
い。発光層の厚さは30〜150nmとすれば良い。上
記の例は発光層として用いることのできる有機化合物層
の一例であり、これに限定されるものではない。
In this embodiment, color display is performed by a method of depositing three kinds of light emitting layers corresponding to RGB. As specific light emitting layers, cyanopolyphenylene may be used for a light emitting layer emitting red light, polyphenylenevinylene may be used for a light emitting layer emitting green light, and polyphenylenevinylene or polyalkylphenylene may be used for a light emitting layer emitting blue light. The thickness of the light emitting layer may be 30 to 150 nm. The above example is an example of an organic compound layer that can be used as a light emitting layer, and the present invention is not limited to this.

【0122】なお、本実施例で示す有機化合物層は、発
光層とPEDOT(ポリ(3,4-チオエチレンジオキシチ
オフェン)またはPAni(ポリアニリン)から成る正
孔注入層を積層した構造とする。
The organic compound layer shown in this embodiment has a structure in which a light emitting layer and a hole injection layer made of PEDOT (poly (3,4-thioethylenedioxythiophene) or PAni (polyaniline) are laminated.

【0123】次いで、ITO(酸化インジウム・スズ)
で形成される陽極425を形成する。以上により、Mg
AgやLiFなどの材料を用いて形成される陰極、発光
層と正孔輸送層とを積層した有機化合物層、ITO(酸
化インジウム・スズ)で形成される陽極とからなる有機
発光素子が設けられる。なお、陽極に透明電極を用いる
ことで、図4において封止基板(第2の基板)427の
側へと光を放射させることができる。
Next, ITO (indium tin oxide)
An anode 425 is formed. As described above, Mg
An organic light emitting device including a cathode formed using a material such as Ag or LiF, an organic compound layer in which a light emitting layer and a hole transport layer are laminated, and an anode formed of ITO (indium tin oxide) is provided. . Note that by using a transparent electrode for the anode, light can be emitted toward the sealing substrate (second substrate) 427 in FIG.

【0124】封止基板427の外縁部は第1の基板に対
して凸状になっている。この凸状部で画素部438にお
ける第1の基板に設けられた有機発光素子と第2の基板
とのギャップを調節する。封止基板の凸状の外縁部でギ
ャップが決まるため、封止基板と素子基板との間に設け
る接着性を有する層439は可能な限り薄くできる。本
実施例では接着性を有する層の厚さを1.0μmとす
る。
The outer edge of the sealing substrate 427 is convex with respect to the first substrate. The gap between the organic light emitting element provided on the first substrate and the second substrate in the pixel portion 438 is adjusted by the convex portion. Since the gap is determined by the convex outer edge portion of the sealing substrate, the adhesive layer 439 provided between the sealing substrate and the element substrate can be made as thin as possible. In this embodiment, the thickness of the adhesive layer is set to 1.0 μm.

【0125】封止基板と、有機発光素子426を設けた
素子基板とはガラスからなる基板を用いる。ただし、本
実施例において封止基板の表面を加工して封止領域内に
乾燥剤429が設けられている。このため、封止基板に
金属製の基板を用いたときと変わりなく、封止領域内の
水分を乾燥剤によって吸着することができる。乾燥剤4
29は多孔質のフィルム430に包まれる。多孔質のフ
ィルムは接着剤428により乾燥剤と接着されている。
また、多孔質のフィルムが円状にくり貫かれ乾燥剤が露
呈した部分に接着剤440が塗布され封止基板427と
接着されている。
As the sealing substrate and the element substrate provided with the organic light emitting element 426, a substrate made of glass is used. However, in this embodiment, a desiccant 429 is provided in the sealing region by processing the surface of the sealing substrate. For this reason, as in the case where a metal substrate is used as the sealing substrate, moisture in the sealing region can be adsorbed by the desiccant. Desiccant 4
29 is wrapped in a porous film 430. The porous film is bonded to a desiccant by an adhesive 428.
An adhesive 440 is applied to a portion where the porous film is hollowed out and the desiccant is exposed, and is adhered to the sealing substrate 427.

【0126】図5は図4に示した画素部の上面図を示
し、便宜上図4と共通する符号を用いて示している。ま
た、図5において、A−A'線及びB−B'線に対応する
断面が図4において示されている。なお、鎖線で囲まれ
た領域の外側にバンクが設けられている。また、鎖線で
囲まれた領域の内側にRGBに対応した発光層が設けら
れる。
FIG. 5 is a top view of the pixel portion shown in FIG. 4, and is denoted by the same reference numerals as in FIG. 4 for convenience. In FIG. 5, a cross section corresponding to the line AA ′ and the line BB ′ is shown in FIG. Note that a bank is provided outside a region surrounded by a chain line. Further, a light emitting layer corresponding to RGB is provided inside a region surrounded by a chain line.

【0127】図6ではこのような画素部の等価回路を示
し、便宜上図4と共通する符号を用いて示している。ス
イッチング用TFT433をマルチゲート構造とし、電
流制御用TFT436にはゲート電極とオーバーラップ
するLDDを設けている。ポリシリコンを用いたTFT
は、高い動作速度を示すが故にホットキャリア注入など
の劣化も起こりやすい。そのため、画素内において機能
に応じて構造の異なるTFT(オフ電流の十分に低いス
イッチング用TFTと、ホットキャリア注入に強い電流
制御用TFT)を形成することは、高い信頼性を有し、
且つ、良好な画像表示が可能な(動作性能の高い)表示
装置を作製する上で非常に有効である。
FIG. 6 shows an equivalent circuit of such a pixel portion, and the same reference numerals as in FIG. 4 are used for convenience. The switching TFT 433 has a multi-gate structure, and the current control TFT 436 is provided with an LDD overlapping with the gate electrode. TFT using polysilicon
Has a high operating speed, and is liable to deteriorate such as hot carrier injection. Therefore, forming a TFT having a different structure (a switching TFT having a sufficiently low off-current and a current control TFT having a strong resistance to hot carrier injection) having a different structure in a pixel has high reliability.
Moreover, it is very effective in manufacturing a display device capable of displaying a good image (having high operation performance).

【0128】また、スイッチング用TFT433が、導
通状態から非導通状態へと変わった後も、電流制御用T
FT436を導通状態に維持し、有機発光素子の発光を
持続させ、輝度の高い表示を得るために保持容量(コン
デンサー)435を設けることが有効である。
Further, even after the switching TFT 433 changes from the conducting state to the non-conducting state, the current controlling T
It is effective to provide a storage capacitor (capacitor) 435 in order to maintain the FT 436 in the conductive state, keep the organic light-emitting element emitting light, and obtain a display with high luminance.

【0129】さらに、有機発光素子の発光の時間幅を変
えて階調表示をする時分割階調方式にあっては、リセッ
ト用TFT432を導通状態にして、有機発光素子を発
光の状態から非発光の状態へと変え、有機発光素子の発
光の時間幅を制御するとよい。
Further, in the time-division gray scale method in which gradation is displayed by changing the time width of light emission of the organic light emitting element, the resetting TFT 432 is turned on, and the organic light emitting element is turned off from the light emitting state. It is preferable to control the time width of light emission of the organic light emitting element by changing to the state of (1).

【0130】このような有機発光素子を用いた表示装置
において、乾燥剤を有機発光素子に近接して設けること
により有機発光素子の劣化を防ぎ、表示装置の長期的な
安定性を確保することができる。かつ、封止基板を用い
てギャップを制御できるため、封止基板と素子基板との
間に設けられた接着性を有する層を可能な限り薄くでき
る。このため、接着性を有する層が外気に露呈する面積
が低減し、接着性を有する層を通過する水蒸気の量を低
減することができる。
In a display device using such an organic light emitting device, by providing a drying agent close to the organic light emitting device, deterioration of the organic light emitting device can be prevented and long-term stability of the display device can be ensured. it can. In addition, since the gap can be controlled using the sealing substrate, the thickness of the adhesive layer provided between the sealing substrate and the element substrate can be reduced as much as possible. Therefore, the area where the adhesive layer is exposed to the outside air is reduced, and the amount of water vapor passing through the adhesive layer can be reduced.

【0131】[実施例2]本実施例では、単位パネルの面
積を多数合わせた面積に相当する母基板(マザーガラ
ス)を貼り合わせ、一つ一つのパネルに分断するさい
に、分断の手段としてCO2レーザーを用いる例を示
す。
[Embodiment 2] In this embodiment, when a mother substrate (mother glass) corresponding to an area obtained by combining a large number of unit panels is bonded and cut into individual panels, a means for cutting is used. An example using a CO 2 laser will be described.

【0132】CO2レーザーは、二酸化炭素を反応媒質
とするレーザーであり、二酸化炭素を励起状態にして反
転分布状態にして動作させる。赤外線領域の波長(1
0.6nm)の光を発振するため、レーザー光が照射さ
れる対象物を加熱することができる。
The CO 2 laser is a laser using carbon dioxide as a reaction medium, and is operated by setting carbon dioxide in an excited state and in an inverted distribution state. Infrared wavelength (1
(0.6 nm), the object to be irradiated with the laser light can be heated.

【0133】図9の斜視図を用いてCO2レーザーを用
いたガラス基板の切断方法を説明する。図9は貼り合せ
たガラス基板501〜502の一方を分断する方法を示
す斜視図である。矢印の方向に移動するガラス基板50
1に対してレーザー照射を行う光学系504により長円
のレーザービームスポットが照射され、そのビームスポ
ット503後方の部位(冷却部位506)に対して、ノ
ズル507によって冷媒が吹き付けられる。このよう
に、レーザー照射により過熱された部位が次に急速に冷
却されることにより、ガラス基板の内部に熱歪みが生じ
て、ガラス基板501がレーザー照射ライン505に沿
って分断される。
A method of cutting a glass substrate using a CO 2 laser will be described with reference to the perspective view of FIG. FIG. 9 is a perspective view showing a method of cutting one of the bonded glass substrates 501 to 502. Glass substrate 50 moving in the direction of the arrow
1 is irradiated with an elliptical laser beam spot by an optical system 504 that irradiates a laser, and a coolant is blown by a nozzle 507 to a portion (cooling portion 506) behind the beam spot 503. As described above, the portion heated by the laser irradiation is rapidly cooled next, so that thermal distortion occurs inside the glass substrate, and the glass substrate 501 is divided along the laser irradiation line 505.

【0134】CO2レーザーを用いたガラス基板の切断
をする装置としては、三星ダイヤモンド工業社製のレー
ザースクライバーを用いることができる。切断される母
基板(マザーガラス)は二枚を同時に切断しても良い
し、母基板(マザーガラス)を一枚ずつ切断しても良
い。二枚を同時に切断する方が、工程のタクトが向上し
生産性の増加につながるため好ましい。
As a device for cutting a glass substrate using a CO 2 laser, a laser scriber manufactured by Samsung Diamond Industrial Co., Ltd. can be used. Two mother substrates (mother glass) may be cut at the same time, or the mother substrates (mother glass) may be cut one by one. It is preferable to cut two sheets at the same time because the tact time of the process is improved and productivity is increased.

【0135】CO2レーザーをガラス基板面に照射して
切断することで、ガラス基板の切断屑の発生が抑制さ
れ、不良の発生を防止できる。また、CO2レーザーを
用いた基板の分断方式はレーザー照射と冷却媒質の噴射
を併用しており基板にかかる衝撃が小さい。このため、
表示装置の薄型化に伴なって基板の耐衝撃性が低くなっ
たときにCO2レーザーを用いたガラス基板の分断の方
式は有効である。
By irradiating the glass substrate surface with a CO 2 laser for cutting, the generation of cutting chips on the glass substrate can be suppressed, and the occurrence of defects can be prevented. In addition, the substrate cutting method using a CO 2 laser uses laser irradiation and injection of a cooling medium in combination, so that the impact applied to the substrate is small. For this reason,
When the impact resistance of the substrate is reduced as the display device becomes thinner, a method of dividing the glass substrate using a CO 2 laser is effective.

【0136】[実施例3]本発明を実施して形成された発
光装置は様々な電気器具に内蔵され、画素部は映像表示
部として用いられる。本発明の電子装置としては、携帯
電話、PDA、電子書籍、ビデオカメラ、ノート型パー
ソナルコンピュータ、記録媒体を備えた画像再生装置、
例えばDVD(Digital Versatile Disc)プレーヤー、
デジタルカメラ、などが挙げられる。それら電子装置の
具体例を図10、図11に示す。
[Embodiment 3] A light emitting device formed by carrying out the present invention is incorporated in various electric appliances, and a pixel portion is used as an image display portion. As the electronic device of the present invention, a mobile phone, a PDA, an electronic book, a video camera, a notebook personal computer, an image reproducing device equipped with a recording medium,
For example, DVD (Digital Versatile Disc) player,
Digital camera, and the like. Specific examples of these electronic devices are shown in FIGS.

【0137】図10(A)は携帯電話であり、表示用パ
ネル9001、操作用パネル9002、接続部9003
から成り、表示用パネル9001には表示装置900
4、音声出力部9005、アンテナ9009などが設け
られている。操作パネル9002には操作キー900
6、電源スイッチ9007、音声入力部9008などが
設けられている。本発明は表示装置9004に適用する
ことができる。
FIG. 10A shows a mobile phone, which includes a display panel 9001, an operation panel 9002, and a connection portion 9003.
The display panel 9001 includes a display device 900.
4, an audio output unit 9005, an antenna 9009, and the like. An operation key 900 is provided on the operation panel 9002.
6, a power switch 9007, a voice input unit 9008, and the like. The invention can be applied to the display device 9004.

【0138】図10(B)はモバイルコンピュータ或い
は携帯型情報端末であり、本体9201、カメラ部92
02、受像部9203、操作スイッチ9204、表示装
置9205で構成されている。本発明は表示装置920
5に適用することができる。このような電子装置には、
3インチから5インチクラスの表示装置が用いられる
が、本発明の表示装置を用いることにより、携帯型情報
端末の軽量化を図ることができる。
FIG. 10B shows a mobile computer or a portable information terminal.
02, an image receiving section 9203, operation switches 9204, and a display device 9205. The present invention relates to a display device 920.
5 can be applied. Such electronic devices include:
Although a display device of a 3 inch to 5 inch class is used, the weight of the portable information terminal can be reduced by using the display device of the present invention.

【0139】図10(C)は携帯書籍であり、本体93
01、表示装置9303、記憶媒体9304、操作スイ
ッチ9305、アンテナ9306から構成されており、
ミニディスク(MD)やDVDに記憶されたデータや、
アンテナで受信したデータを表示するものである。本発
明は表示装置9303に用いることができる。携帯書籍
は、4インチから12インチクラスの表示装置が用いら
れるが、本発明の表示装置を用いることにより、携帯書
籍の軽量化と薄型化を図ることができる。
FIG. 10C shows a portable book, and a main body 93.
01, a display device 9303, a storage medium 9304, operation switches 9305, and an antenna 9306,
Data stored on a mini disk (MD) or DVD,
This is for displaying the data received by the antenna. The present invention can be used for the display device 9303. As the portable book, a display device of a class of 4 inches to 12 inches is used. By using the display device of the present invention, the weight and thickness of the portable book can be reduced.

【0140】図10(D)はビデオカメラであり、本体
9401、表示装置9402、音声入力部9403、操
作スイッチ9404、バッテリー9405などで構成さ
れている。本発明は表示装置9402に適用することが
できる。
FIG. 10D shows a video camera, which includes a main body 9401, a display device 9402, an audio input portion 9403, operation switches 9404, a battery 9405, and the like. The present invention can be applied to the display device 9402.

【0141】図11(A)はパーソナルコンピュータで
あり、本体9601、画像入力部9602、表示装置9
603、キーボード9604で構成される。本発明は表
示装置9603に適用することができる。
FIG. 11A shows a personal computer, which includes a main body 9601, an image input section 9602, and a display device 9.
603 and a keyboard 9604. The present invention can be applied to the display device 9603.

【0142】図11(B)はプログラムを記録した記録
媒体(以下、記録媒体と呼ぶ)を用いるプレーヤーであ
り、本体9701、表示装置9702、スピーカ部97
03、記録媒体9704、操作スイッチ9705で構成
される。なお、この装置は記録媒体としてDVD(Digi
tal Versatile Disc)、CD等を用い、音楽鑑賞や映画
鑑賞やゲームやインターネットを行うことができる。本
発明は表示装置9702に適用することができる。
FIG. 11B shows a player that uses a recording medium (hereinafter, referred to as a recording medium) on which a program is recorded, and includes a main body 9701, a display device 9702, and a speaker unit 97.
03, a recording medium 9704, and operation switches 9705. This device uses a DVD (Digi
(tal Versatile Disc), CDs, etc., to enjoy music, movies, games and the Internet. The present invention can be applied to the display device 9702.

【0143】また、図10(A)と(B)で示す携帯電
話の操作において、操作キーを使用している時に輝度を
上げ、操作スイッチの使用が終わったら輝度を下げるこ
とで低消費電力化することができる。また、着信した時
に表示装置の輝度を上げ、通話中は輝度を下げることに
よっても低消費電力化することができる。また、継続的
に使用している場合に、リセットしない限り時間制御で
表示がオフになるような機能を持たせることで低消費電
力化を図ることもできる。なお、これらはマニュアル制
御であっても良い。
In the operation of the mobile phone shown in FIGS. 10A and 10B, the power consumption is reduced by increasing the luminance when using the operation keys and decreasing the luminance after using the operation switches. can do. The power consumption can also be reduced by increasing the brightness of the display device when an incoming call is received and decreasing the brightness during a call. In addition, when the device is continuously used, the power can be reduced by providing a function of turning off the display by time control unless resetting is performed. Note that these may be manually controlled.

【0144】ここでは図示しなかったが、本発明はその
他にもナビゲーションシステムをはじめ冷蔵庫、洗濯
機、電子レンジ、固定電話機、ファクシミリなどに組み
込む表示装置としても適用することも可能である。この
ように本発明の適用範囲はきわめて広く、さまざまな製
品に適用することができる。
Although not shown here, the present invention can also be applied as a display device incorporated in a navigation system, a refrigerator, a washing machine, a microwave oven, a fixed telephone, a facsimile, and the like. As described above, the applicable range of the present invention is extremely wide, and can be applied to various products.

【0145】[0145]

【発明の効果】以上、説明したように本発明を用いるこ
とで、封止基板の凸状部でギャップを制御することが可
能となり、封止基板と素子基板との間の接着性を有する
層は可能な限り薄くすることが可能となる。このため、
表示装置の側面において有機樹脂材料(接着性を有す
る)が外気に曝される面積が低減する。これに伴なっ
て、外気に曝される面積と透湿度との積で示され、有機
樹脂材料を通過して封止領域内に浸入する水分の量を低
減することができる。
As described above, by using the present invention, it is possible to control the gap at the convex portion of the sealing substrate, and to obtain a layer having an adhesive property between the sealing substrate and the element substrate. Can be made as thin as possible. For this reason,
The area of the side surface of the display device where the organic resin material (having adhesiveness) is exposed to the outside air is reduced. Along with this, it is indicated by the product of the area exposed to the outside air and the moisture permeability, and the amount of moisture that passes through the organic resin material and enters the sealing region can be reduced.

【0146】従来、乾燥剤を封止領域内に設けるには、
金属製の封止基板とガラス基板とを貼り合せる必要があ
った。このため、ガラス基板の薄型化に伴ない耐衝撃性
が低下すると、金属とガラスの熱膨張係数の違いから、
急激な熱変化により歪が生じ、ガラス基板が破損される
恐れがあった。しかし、本発明によれば、封止基板と素
子基板とを同じ材質で形成することが可能となり、熱衝
撃に対する耐性が向上する。かつ、ガラス基板の表面を
加工し、乾燥剤を設けているため、従来と同様、乾燥剤
によって水分を吸湿し、水分による発光輝度の減少や、
ダークスポットの発生や、ダークスポットの拡大に伴な
う発光面積の低下や、素子の劣化を抑えることができ
る。
Conventionally, in order to provide a desiccant in the sealing area,
It was necessary to bond a metal sealing substrate and a glass substrate. For this reason, when the impact resistance decreases with the thinning of the glass substrate, the difference in the thermal expansion coefficient between metal and glass causes
Strain is generated by a sudden change in heat, and the glass substrate may be damaged. However, according to the present invention, the sealing substrate and the element substrate can be formed of the same material, and resistance to thermal shock is improved. In addition, since the surface of the glass substrate is processed and a desiccant is provided, moisture is absorbed by the desiccant, and the emission luminance is reduced due to the moisture, as in the related art.
It is possible to suppress the occurrence of a dark spot, a decrease in the light emitting area due to the enlargement of the dark spot, and the deterioration of the element.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 実施形態1の有機発光素子を用いた表示装
置の断面図。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a display device using an organic light-emitting element of Embodiment 1.

【図2】 実施形態2の有機発光素子を用いた表示装
置の断面図。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a display device using the organic light-emitting element of Embodiment 2.

【図3】 実施形態3の有機発光素子を用いた表示装
置の断面図。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a display device using the organic light-emitting device of Embodiment 3.

【図4】 実施例1の有機発光素子を用いた表示装置
の断面図。
FIG. 4 is a cross-sectional view of a display device using the organic light emitting device of Example 1.

【図5】 実施例1の有機発光素子を用いた表示装置
の画素部の構成を説明する上面図。
FIG. 5 is a top view illustrating a configuration of a pixel portion of a display device using the organic light-emitting element of Example 1.

【図6】 実施例1の有機発光素子を用いた表示装置
の画素部の等価回路。
FIG. 6 is an equivalent circuit of a pixel portion of a display device using the organic light emitting device of Example 1.

【図7】 実施形態1の封止基板の作製方法を示す断
面図。
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating the method for manufacturing the sealing substrate of Embodiment 1.

【図8】 本発明の有機発光素子を用いた表示装置の
断面図。
FIG. 8 is a cross-sectional view of a display device using the organic light-emitting device of the present invention.

【図9】 CO2レーザーを用いたガラス基板の切断
方法を示す斜視図。
FIG. 9 is a perspective view showing a method for cutting a glass substrate using a CO 2 laser.

【図10】 電子装置の一例を説明する図。FIG. 10 illustrates an example of an electronic device.

【図11】 電子装置の一例を説明する図。FIG. 11 illustrates an example of an electronic device.

【図12】 実施形態3の表示装置の第2の基板の表面FIG. 12 shows the surface of a second substrate of the display device according to the third embodiment.

Claims (21)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】有機発光素子が設けられた第1の基板と、
透光性を有する第2の基板とを有し、前記第1の基板と
前記第2の基板とは接着性を有する層を用いて貼り合わ
されており、 前記第2の基板の前記第1の基板と向かい合う面は第1
の領域と、第2の領域とを有し、前記第1の領域は前記
接着性を有する層が接着し、前記第2の領域は前記第1
の領域の内側にあり前記第1の領域に対して凹状である
ことを特徴とする表示装置。
A first substrate provided with an organic light-emitting element;
A second substrate having a light-transmitting property, wherein the first substrate and the second substrate are bonded to each other using a layer having an adhesive property; The surface facing the substrate is the first
And a second region, wherein the first region is bonded with the adhesive layer, and the second region is the first region.
A display device which is inside the region and is concave with respect to the first region.
【請求項2】有機発光素子が設けられた第1の基板と、
透光性を有する第2の基板とを有し、前記第1の基板と
前記第2の基板とは接着性を有する層を用いて貼り合わ
されており、 前記第2の基板の前記第1の基板と向かい合う面は第1
の領域と、第2の領域と、第3の領域とを有し、前記第
1の領域は前記接着性を有する層が接着し、前記第2の
領域は前記第1の領域の内側にあり前記第1の領域に対
して凹状であり、前記第3の領域は前記第2の領域の内
側にあり前記第2の領域に対して凹状であり、前記第3
の領域に乾燥剤が設けられていることを特徴とする表示
装置。
2. A first substrate provided with an organic light emitting element,
A second substrate having a light-transmitting property, wherein the first substrate and the second substrate are bonded to each other using a layer having an adhesive property; The surface facing the substrate is the first
, A second region, and a third region, wherein the first region has the adhesive layer adhered thereto, and the second region is inside the first region. The third region is concave with respect to the first region, the third region is inside the second region and concave with respect to the second region, and the third region is concave with respect to the second region.
A display device, wherein a desiccant is provided in a region of (1).
【請求項3】請求項2において、 透湿性のフィルムが前記第2の領域の一部に接着し、前
記乾燥剤を前記第3の領域に閉じ込めるように設けられ
ていることを特徴とする表示装置。
3. A display according to claim 2, wherein a moisture-permeable film is provided so as to adhere to a part of said second region and to confine said desiccant in said third region. apparatus.
【請求項4】有機発光素子が設けられた第1の基板と、
前記第1の基板上の有機発光素子が設けられた領域の周
囲を間隙をおいて囲む接着性を有する層と、透光性を有
する第2の基板とを有し、前記第1の基板と前記第2の
基板とは前記接着性を有する層を用いて貼り合わされて
おり、 前記第2の基板の前記第1の基板と向かい合う面は第1
の領域と、第2の領域と、第3の領域とを有し、前記第
1の領域は前記接着性を有する層が接着し、前記第2の
領域は前記第1の領域に囲まれ前記第1の領域に対して
凹状であり、前記第3の領域は前記接着性を有する層と
前記有機発光素子が設けられた領域の上方との間にあり
前記第2の領域に対して凹状であり、前記第3の領域に
は乾燥剤が設置されていることを特徴とする表示装置。
4. A first substrate provided with an organic light emitting device,
An adhesive layer that surrounds a region of the first substrate on which the organic light emitting element is provided with a gap, and a light-transmitting second substrate; The second substrate is attached using the layer having the adhesive property, and a surface of the second substrate facing the first substrate is a first surface.
, A second region, and a third region, wherein the first region is adhered to the layer having the adhesive property, and the second region is surrounded by the first region. The third region is concave with respect to the first region, and the third region is concave between the adhesive layer and the region where the organic light emitting element is provided and is concave with respect to the second region. A display device, wherein a desiccant is provided in the third area.
【請求項5】請求項4において、 前記接着性を有する層と前記有機発光素子が設けられる
領域の上方との間に透湿性のフィルムが設けられてお
り、前記透湿性のフィルムは前記第2の領域の一部に接
着し、前記乾燥剤を前記第3の領域に閉じ込めているこ
とを特徴とする表示装置。
5. The moisture-permeable film according to claim 4, wherein a moisture-permeable film is provided between the adhesive layer and a region above the region where the organic light-emitting element is provided. Wherein the desiccant is adhered to a part of the third region and the desiccant is confined in the third region.
【請求項6】請求項3又は請求項5において、 前記第2の領域に接着した前記透湿性のフィルムは、前
記第1の領域に接する平面とが前記第2の領域に接する
表面との間に収まることを特徴とする表示装置。
6. The film according to claim 3, wherein the moisture-permeable film adhered to the second region is between a plane contacting the first region and a surface contacting the second region. A display device characterized in that the display device fits into a display device.
【請求項7】請求項2又は請求項4において、 前記第1の領域に対し凹状である前記第2の領域の底部
と前記第1の領域との高さの差は10μm以上50μm
以下であることを特徴とする表示装置。
7. The device according to claim 2, wherein a difference in height between a bottom of the second region which is concave with respect to the first region and the first region is not less than 10 μm and not more than 50 μm.
A display device characterized by the following.
【請求項8】請求項3又は請求項5において、 前記第1の領域に対し凹状である前記第2の領域の底部
と前記第1の領域との高さの差は160μm以上350
μm以下であることを特徴とする表示装置。
8. The method according to claim 3, wherein a difference between the height of the first region and the bottom of the second region, which is concave with respect to the first region, is 160 μm or more.
A display device having a thickness of not more than μm.
【請求項9】請求項1乃至8のいずれか一項において、 前記第2の領域に対し凹状である前記第3の領域の底部
と前記第2の領域の高さの差は50μm以上150μm
以下であることを特徴とする表示装置。
9. The device according to claim 1, wherein a difference between a height of the second region and a bottom of the third region, which is concave with respect to the second region, is 50 μm to 150 μm.
A display device characterized by the following.
【請求項10】請求項1乃至9のいずれか一項におい
て、 前記第1の基板又は前記第2の基板はガラス基板である
ことを特徴とする表示装置。
10. The display device according to claim 1, wherein the first substrate or the second substrate is a glass substrate.
【請求項11】請求項1乃至10のいずれか一項におい
て、 前記第2の基板には凹凸が設けられており、凸部と該凸
部と隣接する凸部の先端の間隔が、0.05〜1μmの
範囲にあることを特徴とする表示装置
11. The second substrate according to claim 1, wherein the second substrate is provided with irregularities, and a distance between a projecting portion and a tip of the projecting portion adjacent to the projecting portion is 0.1 mm. A display device characterized by being in the range of 0.5 to 1 μm.
【請求項12】請求項1乃至11のいずれか一項におい
て、 前記接着性を有する層の厚さが10μm以下であること
を特徴とする表示装置。
12. The display device according to claim 1, wherein the thickness of the adhesive layer is 10 μm or less.
【請求項13】透光性を有する第1の基板及び第2の基
板が接着性を有する層を用いて貼り合わされており、前
記第1の基板に有機発光素子が設けられている表示装置
の作製方法において、 前記第2の基板の前記接着性を有する層が接着される領
域を第1の領域とし、少なくとも前記第1の領域に第1
のマスクを設ける第1の工程と、 前記第2の基板を砥粒加工法にて掘削し、前記第1の領
域に対して凹状となる第2の領域を形成する第2の工程
と、 前記第1のマスクを除去する第3の工程と、 前記第2の基板の少なくとも前記第1のマスクが設けら
れた領域と、前記有機発光素子が設けられる領域の上方
にあたる領域とに第2のマスクを設け、前記第2の基板
を砥砂加工法にて掘削し、前記第2の領域に対し凹状と
なる第3の領域を形成する第4の工程と、 前記第3の領域に乾燥剤を設ける第5の工程とを有する
ことを特徴とする表示装置の作製方法。
13. A display device in which a first substrate having a light-transmitting property and a second substrate are attached to each other with an adhesive layer, and an organic light-emitting element is provided on the first substrate. In the manufacturing method, a region of the second substrate to which the layer having the adhesive property is adhered is defined as a first region, and at least the first region is formed in the first region.
A first step of providing a mask; a second step of excavating the second substrate by an abrasive processing method to form a second region that is concave with respect to the first region; A third step of removing the first mask; and a second mask formed on at least a region of the second substrate where the first mask is provided and a region above the region where the organic light emitting element is provided. A fourth step of excavating the second substrate by a sand processing method to form a third region that is concave with respect to the second region; and drying a desiccant in the third region. And a fifth step of providing a display device.
【請求項14】請求項13において、 前記第5の工程の後に、前記第2の領域に透湿性のフィ
ルムを設ける第6の工程を有することを特徴とする表示
装置の作製方法。
14. The method for manufacturing a display device according to claim 13, further comprising a sixth step of providing a moisture-permeable film in the second region after the fifth step.
【請求項15】請求項14において、 前記第2の工程の前記第2の基板の前記掘削の深さは前
記透湿性のフィルムの厚さに比べて深いことを特徴とす
る表示装置の作製方法。
15. The method according to claim 14, wherein the excavation depth of the second substrate in the second step is deeper than the thickness of the moisture-permeable film. .
【請求項16】請求項13において、 前記第2の工程において前記掘削の深さは10μm以上
50μm以下であることを特徴とする表示装置の作製方
法。
16. The method for manufacturing a display device according to claim 13, wherein the excavation depth in the second step is 10 μm or more and 50 μm or less.
【請求項17】請求項14又は請求項15において、 前記第2の工程において前記掘削の深さは160μm以
上350μm以下であることを特徴とする表示装置の作
製方法。
17. The method for manufacturing a display device according to claim 14, wherein the depth of the excavation in the second step is 160 μm or more and 350 μm or less.
【請求項18】請求項13乃至17のいずれか一項にお
いて、 前記第4の工程において前記掘削の深さは50μm以上
150μm以下であることを特徴とする表示装置の作製
方法。
18. The method for manufacturing a display device according to claim 13, wherein the depth of the excavation in the fourth step is 50 μm or more and 150 μm or less.
【請求項19】請求項13において、 前記第5の工程の後に、前記第1の基板と前記第2の基
板とを前記接着性を有する層を用いて接着する第6の工
程と、 前記第1の基板及び前記第2の基板を気体レーザーを用
いて切断する第7の工程とを有することを特徴とする表
示装置の作製方法。
19. The method according to claim 13, wherein, after the fifth step, a sixth step of bonding the first substrate and the second substrate using the adhesive layer. And a seventh step of cutting the first substrate and the second substrate using a gas laser.
【請求項20】請求項14乃至16のいずれか一項にお
いて、 前記第6の工程の後に、 前記第1の基板と前記第2の基板とを前記接着性を有す
る層を用いて接着する第7の工程と、 前記第1の基板及び前記第2の基板を気体レーザーを用
いて切断する第8の工程とを有することを特徴とする表
示装置の作製方法。
20. The method according to claim 14, wherein after the sixth step, the first substrate and the second substrate are bonded to each other by using the layer having the adhesive property. 7. A method for manufacturing a display device, comprising: a seventh step; and an eighth step of cutting the first substrate and the second substrate using a gas laser.
【請求項21】請求項19又は請求項20において、 前記気体レーザーはCO2レーザーであることを特徴と
する表示装置の作製方法。
21. The method according to claim 19, wherein the gas laser is a CO 2 laser.
JP2002025731A 2001-02-01 2002-02-01 Display equipment and its manufacturing method Withdrawn JP2002305076A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002025731A JP2002305076A (en) 2001-02-01 2002-02-01 Display equipment and its manufacturing method

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001-26176 2001-02-01
JP2001026176 2001-02-01
JP2002025731A JP2002305076A (en) 2001-02-01 2002-02-01 Display equipment and its manufacturing method

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009006659A Division JP2009076480A (en) 2001-02-01 2009-01-15 Formation method of display device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002305076A true JP2002305076A (en) 2002-10-18
JP2002305076A5 JP2002305076A5 (en) 2005-07-28

Family

ID=26608813

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002025731A Withdrawn JP2002305076A (en) 2001-02-01 2002-02-01 Display equipment and its manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002305076A (en)

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004017441A1 (en) * 2002-08-17 2004-02-26 Cambridge Display Technology Limited Organic optoelectronic device encapsulation package
US6730560B2 (en) * 2002-01-31 2004-05-04 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for fabricating semiconductor device
JP2005078946A (en) * 2003-08-29 2005-03-24 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Electronic apparatus, semiconductor device, and its manufacturing method
JP2005108825A (en) * 2003-09-12 2005-04-21 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light emitting apparatus and method of manufacturing the same
JP2005203329A (en) * 2003-12-18 2005-07-28 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light emitting device
JP2005216746A (en) * 2004-01-30 2005-08-11 Seiko Epson Corp Organic el display device, its manufacturing method, and electronic equipment
JP2007172873A (en) * 2005-12-19 2007-07-05 Kyocera Corp Image display device, and method of manufacturing the same
JP2008108682A (en) * 2006-10-24 2008-05-08 Lg Electron Inc Display element
JP2008182164A (en) * 2007-01-26 2008-08-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light-emitting element and light-emitting device
JP2008186681A (en) * 2007-01-29 2008-08-14 Hitachi Displays Ltd Organic electroluminescent display device
JP2009037745A (en) * 2007-07-31 2009-02-19 Canon Inc Organic el panel
JP2009076480A (en) * 2001-02-01 2009-04-09 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Formation method of display device
WO2010079640A1 (en) * 2009-01-07 2010-07-15 シャープ株式会社 Organic electroluminescence display device and method for producing the same
US7816863B2 (en) 2003-09-12 2010-10-19 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device and method for manufacturing the same
US7946897B2 (en) 2003-12-26 2011-05-24 Lg Display Co., Ltd. Dual panel type organic electroluminescent display device and method of fabricating the same
US8698994B2 (en) 2010-11-22 2014-04-15 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display device including anti-corrosion layer
JP2016062767A (en) * 2014-09-18 2016-04-25 パイオニア株式会社 Light-emitting device
JP2022022623A (en) * 2020-06-30 2022-02-07 キヤノン株式会社 Display device, module, and apparatus

Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009076480A (en) * 2001-02-01 2009-04-09 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Formation method of display device
US6730560B2 (en) * 2002-01-31 2004-05-04 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for fabricating semiconductor device
GB2407436A (en) * 2002-08-17 2005-04-27 Cambridge Display Tech Ltd Organic optoelectronic device encapsulation package
WO2004017441A1 (en) * 2002-08-17 2004-02-26 Cambridge Display Technology Limited Organic optoelectronic device encapsulation package
GB2407436B (en) * 2002-08-17 2006-07-05 Cambridge Display Tech Ltd Organic optoelectronic device encapsulation package
US8455873B2 (en) 2003-08-29 2013-06-04 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electronics device, semiconductor device, and method for manufacturing the same
JP2005078946A (en) * 2003-08-29 2005-03-24 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Electronic apparatus, semiconductor device, and its manufacturing method
US7960733B2 (en) 2003-08-29 2011-06-14 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electronics device, semiconductor device, and method for manufacturing the same
JP2005108825A (en) * 2003-09-12 2005-04-21 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light emitting apparatus and method of manufacturing the same
US8283862B2 (en) 2003-09-12 2012-10-09 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device and method for manufacturing the same
JP2011134733A (en) * 2003-09-12 2011-07-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light-emitting device and method for manufacturing the same
US7816863B2 (en) 2003-09-12 2010-10-19 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device and method for manufacturing the same
JP2005203329A (en) * 2003-12-18 2005-07-28 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light emitting device
US7946897B2 (en) 2003-12-26 2011-05-24 Lg Display Co., Ltd. Dual panel type organic electroluminescent display device and method of fabricating the same
JP2005216746A (en) * 2004-01-30 2005-08-11 Seiko Epson Corp Organic el display device, its manufacturing method, and electronic equipment
JP2007172873A (en) * 2005-12-19 2007-07-05 Kyocera Corp Image display device, and method of manufacturing the same
JP2008108682A (en) * 2006-10-24 2008-05-08 Lg Electron Inc Display element
US8319423B2 (en) 2006-10-24 2012-11-27 Lg Display Co., Ltd. Display device with protecting layer for getter layer
JP2008182164A (en) * 2007-01-26 2008-08-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light-emitting element and light-emitting device
JP2008186681A (en) * 2007-01-29 2008-08-14 Hitachi Displays Ltd Organic electroluminescent display device
JP2009037745A (en) * 2007-07-31 2009-02-19 Canon Inc Organic el panel
WO2010079640A1 (en) * 2009-01-07 2010-07-15 シャープ株式会社 Organic electroluminescence display device and method for producing the same
JPWO2010079640A1 (en) * 2009-01-07 2012-06-21 シャープ株式会社 Organic electroluminescent display device and manufacturing method thereof
US8698994B2 (en) 2010-11-22 2014-04-15 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display device including anti-corrosion layer
JP2016062767A (en) * 2014-09-18 2016-04-25 パイオニア株式会社 Light-emitting device
JP2022022623A (en) * 2020-06-30 2022-02-07 キヤノン株式会社 Display device, module, and apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2019133943A (en) Display device
JP4101529B2 (en) Display device and manufacturing method thereof
JP2002305076A (en) Display equipment and its manufacturing method
US6992439B2 (en) Display device with sealing structure for protecting organic light emitting element
US8482011B2 (en) Light-emitting device
KR100939927B1 (en) Display device and method of manufacturing the same
US7112115B1 (en) Light emitting device and method of manufacturing the same
JP6173019B2 (en) Light emitting device
JP2005235403A (en) Organic el display device
JP2004039542A (en) Light emitting device and its manufacturing method
JPWO2004060022A1 (en) Light emitting device and manufacturing method thereof
JP2005209631A (en) Light emitting device, electronic apparatus, and method for manufacturing light emitting device
KR102037871B1 (en) Organic light emitting diode display device
JP4286495B2 (en) Light emitting device and manufacturing method thereof
JP2006184879A (en) Display device
JP2011018508A (en) Electrooptic device and electronic equipment
JP2005203329A (en) Light emitting device
JP4392656B2 (en) Electro-optical device and electronic apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041221

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041221

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070620

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080325

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080523

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20081216

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090115

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20090224

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20090319

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20101007