JP4392656B2 - Electro-optical device and electronic apparatus - Google Patents

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Description

本発明は情報を可視的に表示する電気光学装置と、該電気光学装置を備えた電子機器に関するものである。   The present invention relates to an electro-optical device that displays information visually and an electronic apparatus including the electro-optical device.

電気光学装置の分野では、情報によって変調された光を発生する表示パネルの電気光学層の耐久性向上の観点から電気光学素子や該電気光学素子の駆動回路等から発生した熱の放熱方法が課題となっている。例えば、有機エレクトロルミネッセンス(EL)ディスプレイを構成する有機EL素子は、無機陽極、電気光学層としての有機発光層、無機陰極等を含むが、該有機発光層は一般的に熱の影響を受けやすく、通電により有機発光層自身及び駆動回路から発生した熱が表示パネル内に蓄積することにより、輝度や発光効率の低下を引き起こす。また、酸素や水分の浸入によっても有機発光層は影響を受け、非発光部分が発生するなどの不具合が生じ得る。   In the field of electro-optical devices, there is a problem of a method for radiating heat generated from an electro-optical element, a drive circuit of the electro-optical element, etc. from the viewpoint of improving durability of an electro-optical layer of a display panel that generates light modulated by information. It has become. For example, an organic EL element constituting an organic electroluminescence (EL) display includes an inorganic anode, an organic light emitting layer as an electro-optical layer, an inorganic cathode, and the like, and the organic light emitting layer is generally easily affected by heat. The heat generated from the organic light emitting layer itself and the drive circuit by energization accumulates in the display panel, thereby causing a decrease in luminance and light emission efficiency. Moreover, the organic light emitting layer is also affected by the intrusion of oxygen or moisture, and problems such as the generation of non-light emitting parts may occur.

これらの問題を解決するために、例えば、特開2002−343559号は光を取り出さない第2の電極上にフィンを持つ金属製のヒートシンクを放熱部材として貼り合わせて、熱を大気中に放出する方法を提案している。   In order to solve these problems, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-343559 attaches a metal heat sink having fins on a second electrode that does not extract light as a heat radiating member, and releases heat to the atmosphere. Proposed method.

また、例えば、特開2003−22891号は下部基板と封止基板で中空構造を形成し、その内部に第2の電極の封止基板と対抗する表面に突出形成された放熱部を設ける方法を提案している。
特開2002−343559公報 特開2003−22891公報
Also, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-22891 is a method in which a hollow structure is formed by a lower substrate and a sealing substrate, and a heat radiating part formed on the surface facing the sealing substrate of the second electrode is provided inside the hollow structure. is suggesting.
JP 2002-343559 A JP 2003-22891 A

しかしながら、上述した放熱方法では金属製のヒートシンクや中空構造の追加による電気光学装置の重量増加や体積増加を伴う。これは電気光学装置である有機ELディスプレイ、プラズマディスプレイ、表面電界発光ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイの特長である軽薄短小という利点を損なうことになる。   However, the heat dissipation method described above involves an increase in weight and volume of the electro-optical device due to the addition of a metal heat sink and a hollow structure. This impairs the advantages of lightness, thinness, and smallness, which are the characteristics of flat panel displays such as organic EL displays, plasma displays, and surface electroluminescent displays that are electro-optical devices.

よって、本発明は、フラットパネルディスプレイの特長である軽薄短小という長所を犠牲にせずに、放熱効果の優れた構造の電気光学装置を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an electro-optical device having a structure with an excellent heat dissipation effect without sacrificing the light and thin advantages of flat panel displays.

また、本発明は、発光に伴う熱から電気光学装置を保護してその耐久性の向上を図ることを目的とする。   Another object of the present invention is to protect the electro-optical device from heat associated with light emission and improve its durability.

また、本発明は耐熱性の電気光学装置を備えて信頼性を向上した電子機器を提供することを目的とする。   Another object of the present invention is to provide an electronic apparatus having a heat-resistant electro-optical device and improved reliability.

上記目的を達成するため本発明の電気光学装置は、情報を可視的に表示する電気光学装置であって、画素を構成する電気光学素子を配列して画像を表示する表示パネルと、前記表示パネルの少なくとも一つの面に水分を吸着する親水性層とを有することを特徴とする。   In order to achieve the above object, an electro-optical device of the present invention is an electro-optical device that displays information visibly, a display panel that displays an image by arranging electro-optical elements constituting pixels, and the display panel And a hydrophilic layer that adsorbs moisture on at least one surface.

上記構造によれば、上記電気光学装置の最表面に形成された上記親水性層は、大気中の水分を吸着し薄い水の層が形成される。この水分が上記電気光学装置の発熱により蒸発することで気化熱を奪い、発熱した上記電気光学装置の熱を大気中に放出することができる。特に、少なくとも表示領域を含む電気光学装置の面に親水性層を一様に形成することにより、大気中の水分を親水性層を形成した電気光学装置の面に一様に吸着させることができる。これにより、電気光学装置の発熱を一様に放熱することができる共に、電気光学装置に吸着した水分による電気光学装置の表示品位の劣化、例えば水分による局部的な光の乱反射、を防止することができる。また、ヒートシンクや中空構造によらないため、フラットパネルディスプレイの特長である軽薄短小という長所を犠牲にせずに、放熱性を向上させることができる。
これらにより、電気光学装置の信頼性を向上させることができる。
According to the above structure, the hydrophilic layer formed on the outermost surface of the electro-optical device adsorbs moisture in the atmosphere to form a thin water layer. The moisture evaporates due to the heat generation of the electro-optical device, thereby removing the heat of vaporization and releasing the generated heat of the electro-optical device into the atmosphere. In particular, by uniformly forming a hydrophilic layer on the surface of the electro-optical device including at least the display region, moisture in the atmosphere can be uniformly adsorbed on the surface of the electro-optical device on which the hydrophilic layer is formed. . As a result, the heat generated by the electro-optical device can be uniformly dissipated, and deterioration of the display quality of the electro-optical device due to moisture adsorbed on the electro-optical device, for example, local diffused reflection of light due to moisture can be prevented. Can do. Moreover, since it does not depend on a heat sink or a hollow structure, the heat dissipation can be improved without sacrificing the advantages of lightness, thinness, and smallness, which are the features of flat panel displays.
As a result, the reliability of the electro-optical device can be improved.

上記親水性層は、透明性を有する金属酸化物からなる材料である。また、上記材料はエネルギーバンドギャップが3eV乃至6eVまでの酸化物半導体材料を主成分とする。具体的には、上記金属酸化物はチタン、亜鉛、錫、インジウムの内のいずれかの金属を主成分とするものである。   The hydrophilic layer is a material made of a transparent metal oxide. The above material contains an oxide semiconductor material whose energy band gap is 3 eV to 6 eV as a main component. Specifically, the metal oxide is mainly composed of any one of titanium, zinc, tin, and indium.

上記材料によれば、エネルギーバンドギャップを3eVから6eVの金属酸化物を親水性層に用いることで、可視光の吸収がない透光性を得ることができ、ディスプレイの表示側にも放熱機能を持たせることができる。更に、上記材料によれば、光触媒機能により防汚効果や抗菌効果の点でも好適である。エネルギーバンドギャップを3eVから6eVの金属酸化物であり、かつ、光触媒機能を有することにより、電気光学素子からの可視光を効率よく透過すると共に、外光などによる紫外線により光触媒能を発揮して、親水性層の濡れ性を向上でき大気中の水分を親水性層に効率よく吸着することができる。   According to the above materials, by using a metal oxide having an energy band gap of 3 eV to 6 eV for the hydrophilic layer, it is possible to obtain translucency without absorption of visible light, and a heat dissipation function is also provided on the display side of the display. You can have it. Furthermore, the above material is suitable in terms of antifouling effect and antibacterial effect due to the photocatalytic function. It is a metal oxide having an energy band gap of 3 eV to 6 eV, and has a photocatalytic function, thereby efficiently transmitting visible light from the electro-optical element, and exhibiting photocatalytic activity by ultraviolet rays such as external light, The wettability of the hydrophilic layer can be improved, and moisture in the atmosphere can be efficiently adsorbed to the hydrophilic layer.

また、上記電気光学装置は、更に、上記親水性層と上記電気光学素子との間に少なくとも水分の通過を阻止するガスバリア性を有する封止層(あるいは阻止層)を有する。   The electro-optical device further includes a sealing layer (or a blocking layer) having a gas barrier property that prevents at least moisture from passing between the hydrophilic layer and the electro-optical element.

これにより、水分や酸素が上記電気光学素子に浸入ことを防ぐことができ、上記電気光学装置の耐久性を向上させることができる。   Accordingly, moisture and oxygen can be prevented from entering the electro-optical element, and the durability of the electro-optical device can be improved.

上記封止層は珪素化合物である。   The sealing layer is a silicon compound.

上記材料によれば、透明かつ防湿性、化学安定性に優れる珪素化合物を用いることで発光層や電極などの水分による変質を防ぎ、上記電気光学装置の耐久性を向上させることができる。   According to the above material, by using a silicon compound that is transparent, moisture-proof, and excellent in chemical stability, it is possible to prevent the light-emitting layer and the electrode from being deteriorated by moisture, and to improve the durability of the electro-optical device.

また、封止層が中空部分を持たない構造、あるいは、電気光学素子と親水性層との間にガラス基板などの基板を介さない構造にすることで、熱の伝達を阻害する気体層もしくは基板がなくなり、電極配線や有機発光層で発生した熱を迅速に上記親水性層まで伝えることができ、放熱性をさらに向上させることができる。   In addition, a gas layer or a substrate that inhibits heat transfer by having a structure in which the sealing layer does not have a hollow portion, or a structure in which a substrate such as a glass substrate is not interposed between the electro-optic element and the hydrophilic layer. The heat generated in the electrode wiring and the organic light emitting layer can be quickly transferred to the hydrophilic layer, and the heat dissipation can be further improved.

上記親水性層は、上記表示パネルの両面に設けられる。   The hydrophilic layer is provided on both surfaces of the display panel.

これにより、更に、放熱効果を向上させることができる。   Thereby, the heat dissipation effect can be further improved.

上記電気光学装置は、上記親水性層に吸着させる水分の供給源を有する。   The electro-optical device includes a supply source of moisture to be adsorbed on the hydrophilic layer.

これにより、親水性層への水分供給を連続して行うことができ、放熱効果を継続することができる。   Thereby, the water | moisture content can be continuously supplied to a hydrophilic layer, and the thermal radiation effect can be continued.

上記水分の供給源は、上記表示パネルに電源を供給する燃料電池である。   The moisture supply source is a fuel cell that supplies power to the display panel.

これにより、該燃料電池から排出される水分を利用できるため好適である。   This is preferable because the water discharged from the fuel cell can be used.

上記水分の供給源は、保湿性を有する物質である。   The water supply source is a substance having moisture retention.

これにより、該保湿性を有する物質から排出される水分を利用できるため好適である。   This is preferable because moisture discharged from the moisture-retaining substance can be used.

本発明は、上述した電気光学装置を表示部に備えた電子機器である。ここで、電子機器は、回路基板やその他の要素を備え、一定の機能を奏する機器一般が該当し、その構成に特に限定はない。電子機器には、例えば、ICカード、携帯電話、ビデオカメラ、パーソナルコンピュータ、ヘッドマウントディスプレイ、リア型またはフロント型のプロジェクター、テレビジョン(TV)、ロールアップ式TV、更に、表示機能付きファックス装置、デジタルカメラのファインダ、携帯型TV、PDA、電子手帳、電光掲示盤、宣伝広告用ディスプレイ等が含まれる。   The present invention is an electronic apparatus including the above-described electro-optical device in a display unit. Here, the electronic device generally includes a device having a circuit board and other elements and having a certain function, and the configuration thereof is not particularly limited. Electronic devices include, for example, IC cards, mobile phones, video cameras, personal computers, head mounted displays, rear or front projectors, televisions (TVs), roll-up TVs, and fax machines with display functions. Examples include digital camera finders, portable TVs, PDAs, electronic notebooks, electronic bulletin boards, and advertising displays.

まず、本発明の着目点について説明する。   First, points of interest of the present invention will be described.

上述したように、有機ELディスプレイの耐久性向上のため、放熱手段や封止層の提案がなされているが、該ディスプレイの大型化及び薄型化や軽量化に伴い、外部応力に耐えるパネル強度を保持するために中空構造から薄膜の積層構造からなるソリッド構造に切り替える必要がある。また、パネルの大型化に伴い、輝度の向上や配線の高密度化からパネル内部に発生する熱を放出しなければならず、金属製で重い大型のヒートシンクに代わるような薄膜の放熱層を設ける必要がある。更に、大型化に伴ってスイッチング用TFTや配線回路の面積を十分に確保するため、回路基板の反対側から発光させるトップエミッション構造を用いる必要がある。そのため、透明で且つ、軽量、耐強度性に優れた薄い構造をとる必要があり、又、放熱性に優れた構造が求められている。   As mentioned above, in order to improve the durability of organic EL displays, heat dissipation means and sealing layers have been proposed, but as the display becomes larger, thinner and lighter, the panel strength can withstand external stress. In order to maintain, it is necessary to switch from a hollow structure to a solid structure having a thin film laminated structure. In addition, as the size of the panel increases, heat generated inside the panel must be released due to improved brightness and higher wiring density, and a thin heat dissipation layer is provided to replace the heavy metal heat sink. There is a need. Furthermore, it is necessary to use a top emission structure that emits light from the opposite side of the circuit board in order to sufficiently secure the area of the switching TFT and the wiring circuit as the size increases. Therefore, it is necessary to take a thin structure that is transparent, lightweight and excellent in strength resistance, and a structure excellent in heat dissipation is required.

近年、薄膜封止と呼ばれる透明でガスバリア性に優れたSiOx、SiNx、AlOx薄膜が研究されており、高密度プラズマ源を用いた高密度プラズマ成膜法(イオンプレーティング、ECRプラズマスパッタ、ECRプラズマCVD、表面波プラズマCVD、ICP−CVD等)を用いることで、水分を完全に遮断する薄膜ガスバリア層の形成ができる。しかし、このガスバリア層の放熱性は十分ではない。   In recent years, SiOx, SiNx, and AlOx thin films that are transparent and have excellent gas barrier properties called thin film sealing have been studied, and high-density plasma film forming methods (ion plating, ECR plasma sputtering, ECR plasma) using a high-density plasma source have been studied. By using CVD, surface wave plasma CVD, ICP-CVD, etc., a thin film gas barrier layer that completely blocks moisture can be formed. However, the heat dissipation of this gas barrier layer is not sufficient.

そこで、種々検討した結果、ガスバリア層からなる封止層の最表面に透明の親水性層を設けることで、従来パネルの非発光面側からしか出来なかった放熱を発光面側でもおこなうことが可能となることが判った。さらに、これらを非発光面側にも用いることで、大型のヒートシンクを使わなくても、放熱性の良い薄型軽量パネルの製造が可能となることも判った。   Therefore, as a result of various studies, by providing a transparent hydrophilic layer on the outermost surface of the sealing layer composed of a gas barrier layer, it is possible to dissipate heat on the light emitting surface side, which could only be done from the non-light emitting surface side of the conventional panel. It turned out that it becomes. Furthermore, it has also been found that by using these also on the non-light emitting surface side, it is possible to manufacture a thin and lightweight panel with good heat dissipation without using a large heat sink.

上記の表示パネルを構成する電気光学素子には、液晶やEL材料等の種々の電気光学材料を適用することができる。また、電気光学素子は、単一の層のみならず、複数の機能層の積層膜として構成することができる。例えば、第1の電極と第2の電極との間に、正孔注入層、正孔輸送層、EL発光層、電子輸送層、電子注入層等からなる複数の機能層を積層して設けることで、電気光学素子としてEL発光素子を形成することができる。特に、EL発光素子のように第1の電極または第2の電極から供給されるキャリアがEL層を通過することによって機能を発現する素子の場合、少なくとも一部に電子と正孔の存在確率が異なる部分が生成し、その部分の電荷バランスが崩れることがある。このような部分は概して反応性が高く、例えば、酸素や水などと反応して構造欠陥(即ち、キャリアの捕捉サイト)となり、電気光学層の機能低下の要因となる。このため、他の方法により機能を発現するものに比べてガスバリア層を設ける効果は大きい。   Various electro-optic materials such as liquid crystal and EL materials can be applied to the electro-optic elements constituting the display panel. In addition, the electro-optic element can be configured not only as a single layer but also as a laminated film of a plurality of functional layers. For example, a plurality of functional layers including a hole injection layer, a hole transport layer, an EL light-emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and the like are stacked between the first electrode and the second electrode. Thus, an EL light emitting element can be formed as an electro-optical element. In particular, in the case of an element that exhibits a function when carriers supplied from the first electrode or the second electrode pass through the EL layer, such as an EL light-emitting element, the existence probability of electrons and holes is at least partially. Different portions may be generated, and the charge balance of the portions may be lost. Such a portion is generally highly reactive, and reacts with, for example, oxygen or water to form a structural defect (that is, a carrier trapping site), which causes a decrease in the function of the electro-optic layer. For this reason, the effect which provides a gas barrier layer is large compared with what expresses a function by other methods.

本発明の電気光学装置は、基板上に、少なくとも第1の電極、電気光学層、第2の電極を順に積層してなる電気光学素子を有する電気光学装置であって、上記表示パネルの最表面には親水性層が形成されている。   The electro-optical device of the present invention is an electro-optical device having an electro-optical element formed by sequentially laminating at least a first electrode, an electro-optical layer, and a second electrode on a substrate, and is the outermost surface of the display panel. Has a hydrophilic layer.

本装置では、固体からなる封止層(阻止層)の最表面に親水性層が形成されているため、有機発光層及び配線で発生した熱が封止層を伝達して、最表面の親水性層に伝わる。親水性層は、大気中に存在する水蒸気を引き寄せて表面に薄い水の層を形成する。そして、パネル温度の上昇により再度蒸発する際に、気化熱としてパネルが持つ熱を奪って蒸発する。そして、表面温度の低下により再び大気中の水分が吸着する。このような水の吸着と蒸発を繰り返すことで、パネル温度の上昇を防ぐことができる。   In this device, since the hydrophilic layer is formed on the outermost surface of the solid sealing layer (blocking layer), the heat generated in the organic light emitting layer and the wiring is transmitted to the sealing layer, and the outermost hydrophilic layer is formed. It is transmitted to the sex layer. The hydrophilic layer attracts water vapor present in the atmosphere to form a thin water layer on the surface. And when it evaporates again by the rise in panel temperature, it takes away the heat which a panel has as vaporization heat, and evaporates. And the water | moisture content in air | atmosphere adsorb | sucks again by the fall of surface temperature. By repeating such adsorption and evaporation of water, an increase in panel temperature can be prevented.

また、封止層が中空部分を持たないことで熱が伝達しやすくなり、薄い封止層配線や有機発光層で発生した熱を迅速に親水性層まで伝えることができ、放熱性を向上させることができる。   In addition, since the sealing layer does not have a hollow portion, heat can be easily transferred, and heat generated in the thin sealing layer wiring or the organic light emitting layer can be quickly transferred to the hydrophilic layer, improving heat dissipation. be able to.

上記親水性層は、発光面にも放熱性を持たせることを目的としており、透明性を有する必要があることから、金属酸化物、例えばエネルギーバンドギャップが3eVから6eVまでの酸化物半導体材料を主成分とすることが好ましい。熱を伝達しやすい封止層と親水性層を設けることで、放熱性に優れるトップエミッションパネルを作成することができる。なお、エネルギーバンドギャップが3eVを下回る材料は可視光を吸収してしまうので、透光性が必要なトップエミッション構造には用いることができない。そのため、エネルギーバンドギャップが3eVから6eVまでの酸化物半導体材料を主成分とするものであることが望ましい。   The hydrophilic layer is intended to impart heat dissipation to the light emitting surface and needs to have transparency. Therefore, a metal oxide such as an oxide semiconductor material having an energy band gap of 3 eV to 6 eV is used. It is preferable to use it as a main component. By providing a sealing layer and a hydrophilic layer that easily transmit heat, a top emission panel with excellent heat dissipation can be created. Note that a material having an energy band gap of less than 3 eV absorbs visible light, and thus cannot be used for a top emission structure that requires translucency. Therefore, it is desirable that the main component is an oxide semiconductor material having an energy band gap of 3 eV to 6 eV.

また、親水性層には、光触媒活性を有するような材料であることが好ましい。有機発光層の光や外光などでこれらの層が励起することで、層の最表面が強い触媒作用を発揮し、パネル表面の清浄効果をもたらす。パネル表面に皮脂等の有機物などの不純物が付着しても、これらの付着物は上記触媒作用により分解、除去され、親水性層の表面を常に清浄に保つことができる。   The hydrophilic layer is preferably a material having photocatalytic activity. When these layers are excited by light of the organic light-emitting layer or external light, the outermost surface of the layer exerts a strong catalytic action and brings about a cleaning effect on the panel surface. Even if impurities such as sebum adhere to the panel surface, these deposits are decomposed and removed by the catalytic action, and the surface of the hydrophilic layer can always be kept clean.

このような光触媒活性を有する材料としては、例えば酸化チタン(TiO2)、チタン酸ストロンチウム(SrTiO3)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化タングステン(WO3)、酸化錫(SnO2)、酸化ニオブ(Nb26)、タンタル酸カリウム(KTaO3)、酸化鉄(Fe23)、酸化インジウム(In23)等の酸化物半導体が知られており、本発明の親水性層にも上述の材料を主成分として用いることができるが、比較的光触媒活性が得られやすいことを考慮すると、上記親水性層がチタン、亜鉛、錫、インジウムの内のいずれかを含む透光性の酸化物半導体材料を主成分とすることが望ましい。 Examples of such a material having photocatalytic activity include titanium oxide (TiO 2 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), zinc oxide (ZnO), tungsten oxide (WO 3 ), tin oxide (SnO 2 ), niobium oxide ( Nb 2 O 6 ), potassium tantalate (KTaO 3 ), iron oxide (Fe 2 O 3 ), indium oxide (In 2 O 3 ) and other oxide semiconductors are known, and the hydrophilic layer of the present invention is also used. The above-mentioned material can be used as a main component, but considering that photocatalytic activity can be relatively easily obtained, the hydrophilic layer contains a light-transmitting oxide containing any of titanium, zinc, tin, and indium. It is desirable that the main component is a physical semiconductor material.

上記親水性層の放熱性能を極力高めるには、基板側の有機発光層や配線から親水性層までの距離を極力小さくして熱の伝導時間を短くする必要がある。そのため、封止層の膜厚を薄くする必要があり、例えば薄膜のガスバリア層などを用いて薄膜の封止層構造にすることが好ましい。   In order to improve the heat dissipation performance of the hydrophilic layer as much as possible, it is necessary to shorten the heat conduction time by reducing the distance from the organic light emitting layer or wiring on the substrate side to the hydrophilic layer as much as possible. Therefore, it is necessary to reduce the thickness of the sealing layer. For example, it is preferable to use a thin gas barrier layer to form a thin sealing layer structure.

封止層の目的の1つであるガスバリア機能を持つガスバリア層として、上記高密度プラズマ成膜法により酸化珪素、窒化珪素、酸窒化珪素等の珪素化合物を形成することが好ましい。また、有機発光層や画素隔壁などの凹凸を平坦化しガスバリア層のクラックやピンホールを防ぐため、有機材料からなる緩衝層を設けた後にガスバリア層を形成してもよい。特に、窒素を含有した窒化珪素や酸窒化珪素は緻密な膜を形成することから、酸素や水分に対するバリア性が良好になる。   As a gas barrier layer having a gas barrier function, which is one of the purposes of the sealing layer, it is preferable to form a silicon compound such as silicon oxide, silicon nitride, or silicon oxynitride by the high-density plasma film forming method. Further, the gas barrier layer may be formed after providing a buffer layer made of an organic material in order to flatten irregularities such as the organic light emitting layer and the pixel partition wall and prevent cracks and pinholes in the gas barrier layer. In particular, since silicon nitride or silicon oxynitride containing nitrogen forms a dense film, barrier properties against oxygen and moisture are improved.

そして、ガスバリア層の表面には、スクラッチや落下衝撃など外部からの物理的なダメージからガスバリア層を守るため樹脂や保護フィルム等で表面を保護しても良く、これらも封止層に含まれる。   The surface of the gas barrier layer may be protected with a resin or a protective film in order to protect the gas barrier layer from external physical damage such as scratches and drop impacts, and these are also included in the sealing layer.

上記ガスバリア層を用いなくても、透明なガラス基板を接着剤等で貼りあわせて封止層としても良い。この場合、放熱性を考慮すると、極力薄いガラス基板を用いたほうが好ましく、貼り合わせ時には接着剤に入り込んでしまう気泡を除去するため、減圧下で圧着する製造方法が好ましい。   Even if the gas barrier layer is not used, a transparent glass substrate may be bonded with an adhesive or the like to form a sealing layer. In this case, in consideration of heat dissipation, it is preferable to use a glass substrate that is as thin as possible, and a manufacturing method in which pressure bonding is performed under reduced pressure is preferable in order to remove bubbles that enter the adhesive during bonding.

また、貼り合わせに用いる接着剤の防湿性を上げるため、複数の接着剤を用いても良い。例えば、発光面には透光性の高い接着剤、周辺部には防湿性を優先して無機粒子を添加した不透明な接着剤を用いても良い。   A plurality of adhesives may be used in order to increase the moisture resistance of the adhesive used for bonding. For example, an adhesive with high translucency may be used for the light emitting surface, and an opaque adhesive to which inorganic particles are added with priority given to moisture resistance may be used for the peripheral portion.

さらに、より防湿性を高めるために、ガスバリア層とガラス基板を組み合わせて用いてもよい。この場合は、緩衝層、ガスバリア層、保護層、ガラス基板を合わせて封止層となる。   Furthermore, in order to further improve moisture resistance, a gas barrier layer and a glass substrate may be used in combination. In this case, the buffer layer, the gas barrier layer, the protective layer, and the glass substrate are combined to form a sealing layer.

本発明の電気光学装置は、上述の製造方法により製造され、基板上に第1の電極、電気光学層、第2の電極、封止層、親水性層が順に積層されたことを特徴とする。本構成により装置の長寿命化を図ることができる。   An electro-optical device of the present invention is manufactured by the above-described manufacturing method, and is characterized in that a first electrode, an electro-optical layer, a second electrode, a sealing layer, and a hydrophilic layer are sequentially stacked on a substrate. . With this configuration, the life of the apparatus can be extended.

また、本発明の電子機器は、上述の電気光学装置を備えたことを特徴とする。これにより、パネル温度の上昇を防ぎ、耐久性に優れた電子機器を提供することができる。   According to another aspect of the present invention, there is provided an electronic apparatus including the above-described electro-optical device. Thereby, an increase in panel temperature can be prevented, and an electronic device having excellent durability can be provided.

さらに、本発明の電気光学装置は、親水性層に吸着させる水分の供給源を備えたことを特徴とする。これにより、乾燥した雰囲気中でも放熱を連続して行うことができる。   Furthermore, the electro-optical device of the present invention is characterized by including a supply source of moisture to be adsorbed on the hydrophilic layer. Thereby, heat radiation can be continuously performed even in a dry atmosphere.

例えば、本発明の電気光学装置を駆動するために使用する燃料電池から排出される水分を利用すると好適である。あるいは、保湿性を有する材料を水分の供給源として本発明の電気光学装置の近傍に配置してもよい。   For example, it is preferable to use water discharged from the fuel cell used to drive the electro-optical device of the present invention. Alternatively, a material having moisture retention may be disposed in the vicinity of the electro-optical device of the present invention as a moisture supply source.

本発明の第1の実施例について図1を参照して説明する。図1は本発明の電気光学装置として有機EL表示装置を例にとり、その構造を説明する説明図である。   A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is an explanatory view illustrating the structure of an organic EL display device as an example of the electro-optical device of the present invention.

本例の有機EL表示装置は、同図に示すように電気絶縁性を有する基板100上に絶縁層101を形成し、該絶縁層101内にスイッチング用TFT(薄膜トランジスタ)102に配線103を介して接続された、第1の電極としての画素電極104が該基板100上にマトリックス状に配置されてなる画素電極域(図示せず)と、該画素電極域の周囲に配置されるとともに各該画素電極104に接続される電源線(図示せず)と、該画素電極域上に位置する平面視ほぼ矩形の画素部とを具備して構成されたアクティブマトリクス駆動型となっている。   In the organic EL display device of this example, an insulating layer 101 is formed on an electrically insulating substrate 100 as shown in the figure, and a switching TFT (thin film transistor) 102 is formed in the insulating layer 101 via a wiring 103. A connected pixel electrode 104 as a first electrode is arranged in a matrix on the substrate 100 (not shown), and is arranged around the pixel electrode area and each pixel. The active matrix driving type is configured to include a power supply line (not shown) connected to the electrode 104 and a substantially rectangular pixel portion in plan view located on the pixel electrode area.

図2はアクティブマトリクス駆動回路の一例を示している。同図において、アクティブマトリクス駆動回路200は、映像信号を出力する信号線駆動回路21と走査パルスを出力する走査線駆動回路22等から構成される。信号線駆動回路21には信号電極線X1、X2、X3・・・が、走査線駆動回路22には走査電極線Y1、Y2、Y3・・・が連結され、有機EL素子の共通電極線(C)とともに画素電極域23が形成されている。画素電極域23内にはポリシリコン等で第1のTFT24及び第2のTFT25が構成されている。第1のTFT24で電気的スイッチングを行い、第2のTFT25とコンデンサ26で有機発光層27に電流を印加して駆動する。しかし、本発明の効果としては、スイッチング素子や回路を基体外部に持つパッシブマトリックス駆動型でも同様の効果が得られる。   FIG. 2 shows an example of an active matrix driving circuit. In the figure, an active matrix driving circuit 200 includes a signal line driving circuit 21 that outputs a video signal, a scanning line driving circuit 22 that outputs a scanning pulse, and the like. The signal electrode lines X1, X2, X3,... Are connected to the signal line drive circuit 21, and the scan electrode lines Y1, Y2, Y3,. A pixel electrode region 23 is formed together with C). In the pixel electrode region 23, a first TFT 24 and a second TFT 25 are made of polysilicon or the like. Electrical switching is performed by the first TFT 24, and driving is performed by applying a current to the organic light emitting layer 27 by the second TFT 25 and the capacitor 26. However, as the effect of the present invention, the same effect can be obtained even in a passive matrix drive type having a switching element and a circuit outside the substrate.

該画素電極104上には電気光学層としての有機発光層105が、赤、緑、青に、バンク層(または画素隔壁層)106で隔離される形で縦横にそれぞれ離間してマトリックス状に配置されている。さらに、該有機発光層105上には第2の電極としての陰極107、陰極保護層108、緩衝層109、ガスバリア層110を順次積層し、次に保護層111を介して保護基板112をさらに積層する。そして該保護基板112上の最表面に、放熱効果を有する親水性層113を形成する。   On the pixel electrode 104, an organic light-emitting layer 105 as an electro-optical layer is arranged in a matrix in the form of red, green, and blue, separated from each other by a bank layer (or pixel partition wall layer) 106 vertically and horizontally. Has been. Further, a cathode 107 as a second electrode, a cathode protective layer 108, a buffer layer 109, and a gas barrier layer 110 are sequentially laminated on the organic light emitting layer 105, and then a protective substrate 112 is further laminated via the protective layer 111. To do. Then, a hydrophilic layer 113 having a heat dissipation effect is formed on the outermost surface of the protective substrate 112.

基板100としては、いわゆるトップエミッション型の有機EL表示装置の場合、該基板100の対向側である封止層側から表示光を取り出す構成であるので、透明基板及び不透明基板のいずれも用いることができる。不透明基板としては、例えばアルミナ等のセラミックス、アルミニウム等の金属シートやシリコン基板に表面酸化などの絶縁処理を施したもの、またポリイミドフィルムや熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂などのプラスチックフィルムなどが挙げられる。また、ボトムエミッション型の有機EL表示装置の場合には、基板100側から表示光を取り出す構成であるので、該基板100としては、透明あるいは半透明のものが採用される。例えば、ガラス、石英、透光性プラスチックフィルム等が挙げられ、一般的には耐熱性に優れるガラス基板が好適に用いられる。なお、本実施形態では、封止層側から発光光を取り出すトップエミッション型としている。   In the case of a so-called top emission type organic EL display device, the substrate 100 is configured to extract display light from the sealing layer side that is the opposite side of the substrate 100, so that either a transparent substrate or an opaque substrate can be used. it can. Examples of opaque substrates include ceramics such as alumina, metal sheets such as aluminum, and silicon substrates that have been subjected to insulation treatment such as surface oxidation, and polyimide films, plastic films such as thermosetting resins and thermoplastic resins, and the like. It is done. In the case of a bottom emission type organic EL display device, since the display light is extracted from the substrate 100 side, a transparent or translucent substrate is employed as the substrate 100. For example, glass, quartz, a translucent plastic film, etc. are mentioned, and generally a glass substrate having excellent heat resistance is preferably used. In the present embodiment, a top emission type in which emitted light is extracted from the sealing layer side is used.

このような構成のもとに、発光素子はその有機発光層105において、陽極及び正孔輸送層から注入された正孔と陰極及び電子輸送層から注入された電子が結合することにより、発光光を生じるようになっている。   Under such a configuration, the light emitting element emits light from the organic light emitting layer 105 by combining holes injected from the anode and the hole transport layer and electrons injected from the cathode and the electron transport layer. It has come to produce.

画素電極104は、本例ではトップエミッション型であることから透明である必要がなく、アルミニウム、チタン、銅などの導電性の高い金属でもITO(インジウム錫酸化物)などの金属酸化物導電層でも良い。したがって適宜な導電材料によって形成されている。   Since the pixel electrode 104 is a top emission type in this example, it does not need to be transparent, and may be a highly conductive metal such as aluminum, titanium, or copper, or a metal oxide conductive layer such as ITO (indium tin oxide). good. Therefore, it is formed of an appropriate conductive material.

陰極107を形成するための材料としては、本実施例はトップエミッション型であることから光透過性である必要があり、したがって透光性の良い金属酸化物導電材料が用いられる。透明導電材料としてはITO(インジウム錫酸化物)が好適とされるが、これ以外にも、例えばインジウム亜鉛酸化物、アルミニウム亜鉛酸化物、酸化錫等の金属酸化物を用いることができる。   As a material for forming the cathode 107, since this embodiment is a top emission type, it needs to be light transmissive, and therefore a metal oxide conductive material having good light transmissive property is used. ITO (indium tin oxide) is preferably used as the transparent conductive material, but other metal oxides such as indium zinc oxide, aluminum zinc oxide, and tin oxide can be used.

また、透明性を低下させない程度に、アルミニウムや金、銀などの低抵抗な金属膜を薄膜で用いても良く、ボトムエミッションではこれらが好適に用いられる。さらに、透明性と電気抵抗の低下を考慮して、これらを積層して用いても良い。   In addition, a low resistance metal film such as aluminum, gold, or silver may be used as a thin film as long as the transparency is not lowered, and these are preferably used in bottom emission. Furthermore, these may be laminated and used in consideration of transparency and a decrease in electric resistance.

このような陰極107の上には、該陰極107を覆うように封止層が形成される。封止層としては、放熱性を考慮して極力薄くする必要があり、例えば、高密度プラズマ成膜法により珪素化合物からなるガスバリア性を持つ透明薄膜を形成するのが好ましい。   A sealing layer is formed on the cathode 107 so as to cover the cathode 107. The sealing layer needs to be as thin as possible in consideration of heat dissipation. For example, it is preferable to form a transparent thin film having a gas barrier property made of a silicon compound by a high density plasma film forming method.

ガスバリア層110は、水分や酸素を遮断するため、高密度で非常に硬い膜を形成する必要がある。そのため、バンク層106や画素隔壁などの構造体を直接被覆するとクラックやピンホールが発生しやすく、これらの構造物やパーティクル等を被覆する有機材料からなる緩衝層109を下地に設けることで、その後形成する該ガスバリア層110の欠陥を防ぐことができる。該緩衝層109は、有機材料からなることが好ましく、スリットダイコーターなどの湿式プロセス等によって形成することで平坦性が得られる。これにより電子注入層や有機発光層105への酸素や水分の浸入を防止し、これらの変質を抑えることができる。   The gas barrier layer 110 needs to form a high-density and extremely hard film in order to block moisture and oxygen. For this reason, if a structure such as the bank layer 106 or the pixel partition wall is directly covered, cracks and pinholes are likely to occur. By providing a buffer layer 109 made of an organic material covering these structures, particles, and the like, Defects in the gas barrier layer 110 to be formed can be prevented. The buffer layer 109 is preferably made of an organic material, and flatness can be obtained by forming it by a wet process such as a slit die coater. This prevents oxygen and moisture from entering the electron injection layer and the organic light emitting layer 105 and suppresses these alterations.

ガスバリア層110の上には、樹脂材料からなる保護層111を設ける。該保護層111は、該ガスバリア層110の保護を目的としており、封止層に含まれる。構成としては、オーバーコート層のような単層でも、接着層と保護フィルムを組み合わせた2層構造にしてもよい。接着層としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂等の透明樹脂材料からなる接着剤を好適に用いることができる。また、低温で硬化させるために、イソシアネート等の硬化剤を添加する2液混合型でもよい。   A protective layer 111 made of a resin material is provided on the gas barrier layer 110. The protective layer 111 is intended to protect the gas barrier layer 110 and is included in the sealing layer. The constitution may be a single layer such as an overcoat layer or a two-layer structure in which an adhesive layer and a protective film are combined. As the adhesive layer, an adhesive made of a transparent resin material such as an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, or a silicone resin can be suitably used. Moreover, in order to harden | cure at low temperature, the 2 liquid mixing type which adds hardening | curing agents, such as isocyanate, may be sufficient.

次に、該保護層111の上には保護基板112を設ける。該保護基板112としては、ガラスや透明なプラスチックフィルム(PET,アクリル,ポリカーボネート,ポリオレフィン等)等を用いることができる。貼り合わせには、気泡の混入を防ぐため、減圧をしながら圧着する方法がより好ましい。該保護基板112も封止層の一部として扱われる。   Next, a protective substrate 112 is provided on the protective layer 111. As the protective substrate 112, glass, a transparent plastic film (PET, acrylic, polycarbonate, polyolefin, etc.) or the like can be used. For the bonding, a method of pressure bonding while reducing pressure is more preferable in order to prevent mixing of bubbles. The protective substrate 112 is also treated as a part of the sealing layer.

本実施形態では、これらの封止層の最表面に親水性層113を形成する。該親水性層113は、表面に吸着した水分が蒸発する際に、ディスプレイの熱を持って放出する放熱層の役割を果たす。材料としては、大気中の水分を吸着するものであれば、いずれも用いることができるが、表面の清浄性や透明性を考慮すると、光触媒活性を有する金属酸化物材料を用いるのが好適である。具体的には、エネルギーバンドギャップが3eVから6eVまでの金属酸化物材料が好適である。例えば、酸化チタン(3.2eV)や酸化亜鉛(3.2eV)、酸化錫(3.5eV)、酸化インジウム(3.8eV)などが挙げられるが、エネルギーバンドギャップが3eV以下の材料では可視光の一部(青色光等)が遮断されるため、トップエミッション型には用いることができない。しかし、ボトムエミッション型に用いる場合は、透明性が求められないため、アルミニウムなどの金属材料でも親水性層に用いることができる。   In the present embodiment, the hydrophilic layer 113 is formed on the outermost surface of these sealing layers. The hydrophilic layer 113 serves as a heat dissipation layer that releases heat with the heat of the display when moisture adsorbed on the surface evaporates. Any material can be used as long as it adsorbs moisture in the atmosphere. However, in view of surface cleanliness and transparency, it is preferable to use a metal oxide material having photocatalytic activity. . Specifically, a metal oxide material having an energy band gap of 3 eV to 6 eV is preferable. Examples include titanium oxide (3.2 eV), zinc oxide (3.2 eV), tin oxide (3.5 eV), and indium oxide (3.8 eV). Since a part of (such as blue light) is blocked, it cannot be used for the top emission type. However, when used in the bottom emission type, since transparency is not required, a metal material such as aluminum can be used for the hydrophilic layer.

親水性の指標として、図3に示す水との接触角(θ)で表すことができる。接触角は、被測定物である固体の表面に水を滴下して、その水滴の盛り上がりの角度で表す。接触角が低いほど水が広がりやすく、親水性であると言える。上記の酸化チタン(10度)や酸化錫(22度)は接触角が30度以下と極めて親水性である。また、光触媒活性があるため、外光や発光光によって励起し、表面に有機物や皮脂などの汚染物質を分解することができる。さらに、親水性層に6eV以下の材料を用いることで、有機材料等を分解する短波長側の紫外光を遮断することができるため、太陽光に含まれる紫外線も遮断できる。   As a hydrophilic index, it can be represented by a contact angle (θ) with water shown in FIG. The contact angle is expressed as an angle at which water drops when the water is dropped on the surface of a solid object to be measured. It can be said that the lower the contact angle, the easier the water spreads and the more hydrophilic it is. Titanium oxide (10 degrees) and tin oxide (22 degrees) are extremely hydrophilic with a contact angle of 30 degrees or less. Moreover, since it has photocatalytic activity, it can be excited by external light or emitted light to decompose contaminants such as organic substances and sebum on the surface. Furthermore, by using a material of 6 eV or less for the hydrophilic layer, ultraviolet light on the short wavelength side that decomposes the organic material or the like can be blocked, so that ultraviolet light contained in sunlight can also be blocked.

該親水性層113の材料としては、外光照射により水の接触角が低下し、光触媒活性にも優れる酸化チタンを用いる。形成方法としては、光触媒活性や保護層との密着性を考慮して、ガスバリア層と同様に高密度プラズマ成膜法で形成するのが好適である。また、酸化チタン微粒子を溶媒で希釈してスリットダイコーター等で塗布、乾燥して該親水性層113を形成しても良い。膜厚は、50〜2000nmで形成する。   As the material of the hydrophilic layer 113, titanium oxide, which has a contact angle with water that is reduced by external light irradiation and is excellent in photocatalytic activity, is used. As a formation method, in consideration of photocatalytic activity and adhesion to a protective layer, it is preferable to form the film by a high-density plasma film formation method, similarly to the gas barrier layer. Alternatively, the hydrophilic layer 113 may be formed by diluting titanium oxide fine particles with a solvent and applying and drying with a slit die coater or the like. The film thickness is 50 to 2000 nm.

次に、本実施例の効果について実験結果に基づいて説明する。気温25℃−湿度50%の無風の環境下において、14インチサイズのフルカラー有機ELディスプレイ(アクティブマトリックス駆動)にテレビ画像を10分間表示し続け、ディスプレイ中央部の温度を計測することによって本実施例の効果を確認した。ディスプレイ中央部の温度は親水性層が存在しないと98℃であったが、本実施例の親水性層として酸化チタン形成した場合は60℃となった。本実験結果より、有機ELディスプレイの駆動時の温度上昇を抑えられ、電気光学装置が有する熱量を低減するという本発明の効果が確認された。その結果、発光層や電極の劣化等の発熱に起因する特性劣化が抑えられ、発光素子を長寿命化することができる。   Next, the effect of the present embodiment will be described based on experimental results. In this embodiment, a TV image is continuously displayed on a 14-inch size full-color organic EL display (active matrix drive) for 10 minutes in a windless environment with a temperature of 25 ° C. and a humidity of 50%, and the temperature at the center of the display is measured. The effect of was confirmed. The temperature at the center of the display was 98 ° C. when no hydrophilic layer was present, but it was 60 ° C. when titanium oxide was formed as the hydrophilic layer of this example. From the results of this experiment, it was confirmed that the effect of the present invention that the temperature rise during driving of the organic EL display can be suppressed and the amount of heat of the electro-optical device is reduced. As a result, deterioration of characteristics due to heat generation such as deterioration of the light emitting layer and the electrode can be suppressed, and the life of the light emitting element can be extended.

また、酸化チタンは光触媒効果を有する為、該有機ELディスプレイ表面に付着した皮脂等の有機物を分解し、親水性層の表面を清浄に保つことができるという効果もある。   In addition, since titanium oxide has a photocatalytic effect, there is also an effect that the surface of the hydrophilic layer can be kept clean by decomposing organic substances such as sebum adhering to the surface of the organic EL display.

第2の実施例について図4を参照して説明する。図4は本発明の電気光学装置として有機EL表示装置を例にとりその構造を説明する説明図であるが、同図において図1と対応する部分は同一符号を付し、かかる部分の説明は省略する。なお、第2の実施例は、第1の実施例の有機EL表示装置の構造で採用した緩衝層とガスバリア層を省略し、代わりに基板側面をガラスで封止する構造とするものである。   A second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 4 is an explanatory view illustrating the structure of an organic EL display device as an example of the electro-optical device of the present invention. In FIG. 4, portions corresponding to those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description of such portions is omitted. To do. In the second embodiment, the buffer layer and the gas barrier layer employed in the structure of the organic EL display device of the first embodiment are omitted, and instead the substrate side surface is sealed with glass.

具体的には、陰極保護層108を覆うかたちで樹脂材料からなる保護層111を形成し、その上に保護基板112を設ける。なお、該保護基板112にはガラスを使用する。   Specifically, a protective layer 111 made of a resin material is formed so as to cover the cathode protective layer 108, and a protective substrate 112 is provided thereon. Note that glass is used for the protective substrate 112.

次に、封止部材301を、接着層302を介して基板側面を封止するために周囲に配置する。該接着層302を形成する接着剤は透明性を必要としないので、無機粒子などを多く配合された防湿性の高い接着剤を用いることができる。そして、保護基板112の最表面には親水性層113を形成する。本実施例では、酸化錫を高密度プラズマ成膜法で形成する。   Next, the sealing member 301 is disposed around the substrate side surface through the adhesive layer 302 to seal the substrate side surface. Since the adhesive forming the adhesive layer 302 does not require transparency, an adhesive with high moisture resistance that contains a large amount of inorganic particles can be used. Then, a hydrophilic layer 113 is formed on the outermost surface of the protective substrate 112. In this embodiment, tin oxide is formed by a high density plasma film forming method.

本構造により側面から侵入する酸素や水分の侵入を抑えて封止性能を向上させることができる。また、親水性層からの放熱効果により、有機ELディスプレイの駆動時の温度上昇を抑えられる。その結果、発光層や電極の劣化等の発熱に起因する特性劣化が抑えられ、発光素子を長寿命化することができる。   With this structure, it is possible to improve the sealing performance by suppressing the intrusion of oxygen and moisture from the side surface. Moreover, the temperature rise at the time of the drive of an organic EL display can be suppressed by the heat dissipation effect from a hydrophilic layer. As a result, deterioration of characteristics due to heat generation such as deterioration of the light emitting layer and the electrode can be suppressed, and the life of the light emitting element can be extended.

また、酸化錫は光触媒効果を有する為、該有機ELディスプレイ表面に付着した皮脂等の有機物を分解し、親水性層の表面を清浄に保つことができるという効果もある。   Moreover, since tin oxide has a photocatalytic effect, there is also an effect that organic substances such as sebum adhering to the surface of the organic EL display can be decomposed to keep the surface of the hydrophilic layer clean.

第3の実施例について図5を参照して説明する。図5は本発明の電気光学装置として有機EL表示装置を例にとりその構造を説明する説明図であるが、同図において図1と対応する部分は同一符号を付し、かかる部分の説明は省略する。なお、第3の実施例は
放熱層としての親水性層を、表示パネルの両面に設けた構造とするものである。
A third embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 5 is an explanatory view illustrating the structure of an organic EL display device as an example of the electro-optical device of the present invention. In FIG. 5, portions corresponding to those in FIG. To do. In the third embodiment, a hydrophilic layer as a heat dissipation layer is provided on both sides of the display panel.

具体的には、第1の実施例における基板100の、第1の電極とは反対面側の最表面に親水性層401を設ける。具体的には、実施例1で述べたようにエネルギーバンドギャップが3eVから6eVまでの金属酸化物材料が好適である。本実施例ではエネルギーバンドギャップが3.2eVの酸化チタンを材料として使用する。形成方法としては、高密度プラズマ成膜法で形成する。   Specifically, the hydrophilic layer 401 is provided on the outermost surface of the substrate 100 opposite to the first electrode of the substrate 100 in the first embodiment. Specifically, as described in Example 1, a metal oxide material having an energy band gap of 3 eV to 6 eV is preferable. In this embodiment, titanium oxide having an energy band gap of 3.2 eV is used as a material. As a forming method, a high density plasma film forming method is used.

本実施例の効果について実験結果に基づいて説明する。気温25℃、湿度50%の無風の環境下において、14インチサイズのフルカラー有機ELディスプレイ(アクティブマトリックス駆動)にテレビ画像を10分間表示し続け、ディスプレイ中央部の温度を計測することによって本実施例の効果を確認した。ディスプレイ中央部の温度は親水性層が存在しないと98℃であったが、本実施例の場合は50℃となった。本実験結果より、有機ELディスプレイの駆動時の温度上昇を抑えられ、電気光学装置が有する熱量を低減するという本発明の効果が確認された。その結果、発光層や電極の劣化等の発熱に起因する特性劣化が抑えられ、発光素子を長寿命化することができる。   The effect of the present embodiment will be described based on experimental results. In this embodiment, a TV image is continuously displayed on a 14-inch size full-color organic EL display (active matrix drive) for 10 minutes in a windless environment with an air temperature of 25 ° C. and a humidity of 50%, and the temperature at the center of the display is measured. The effect of was confirmed. The temperature at the center of the display was 98 ° C. when no hydrophilic layer was present, but it was 50 ° C. in this example. From the results of this experiment, it was confirmed that the effect of the present invention that the temperature rise during driving of the organic EL display can be suppressed and the amount of heat of the electro-optical device is reduced. As a result, deterioration of characteristics due to heat generation such as deterioration of the light emitting layer and the electrode can be suppressed, and the life of the light emitting element can be extended.

また、酸化チタンは光触媒効果を有する為、該有機ELディスプレイ表面に付着した皮脂等の有機物を分解し、親水性層の表面を清浄に保つことができるという効果もある。   In addition, since titanium oxide has a photocatalytic effect, there is also an effect that the surface of the hydrophilic layer can be kept clean by decomposing organic substances such as sebum adhering to the surface of the organic EL display.

第4の実施例について図6を参照して説明する。図6は本発明の電気光学装置を備えた電子機器としてのノートパソコンを示す斜視図である。   A fourth embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a perspective view showing a notebook personal computer as an electronic apparatus equipped with the electro-optical device of the present invention.

第4の実施例では、本発明の電気光学装置の親水性層に吸着させる水分の供給源として、ノートパソコンに内蔵した燃料電池を使用している。   In the fourth embodiment, a fuel cell built in a notebook computer is used as a supply source of moisture to be adsorbed on the hydrophilic layer of the electro-optical device of the present invention.

図6において、該ノートパソコンを動作させたり、本発明の電気光学装置500を駆動するための必要な電気エネルギーは、燃料電池501から供給する。該燃料電池501としては、例えばメタノールを改質させた水素を原料とする固体高分子型燃料電池を使用すると、水素と空気(酸素)との電気化学反応によって電気エネルギーとともに水蒸気が生成する。この水蒸気は導管502を経由して放散穴503から上方に向けて放散され、本発明の電気光学装置500の親水性層に吸着される。   In FIG. 6, electric energy necessary for operating the notebook personal computer or driving the electro-optical device 500 of the present invention is supplied from the fuel cell 501. As the fuel cell 501, for example, when a solid polymer fuel cell using hydrogen reformed from methanol as a raw material is used, water vapor is generated together with electric energy by an electrochemical reaction between hydrogen and air (oxygen). The water vapor is diffused upward from the radiation hole 503 via the conduit 502 and is adsorbed by the hydrophilic layer of the electro-optical device 500 of the present invention.

本実施例のように、水分の供給源を設けることによって乾燥した環境下でも、放熱効果を維持することができる。   As in this embodiment, the heat radiation effect can be maintained even in a dry environment by providing a moisture supply source.

第5の実施例について図7を参照して説明する。図7は本発明の電気光学装置を備えた電子機器としての携帯電話を示す斜視図である。   A fifth embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a perspective view showing a mobile phone as an electronic apparatus equipped with the electro-optical device of the present invention.

第5の実施例では、本発明の電気光学装置の親水性層に吸着させる水分の供給源として、保水性を有する物質を該電気光学装置の近傍に配置している。   In the fifth embodiment, a substance having water retention capacity is disposed in the vicinity of the electro-optical device as a supply source of moisture to be adsorbed to the hydrophilic layer of the electro-optical device of the present invention.

具体的には図7に示すように、電気光学装置600の近傍、例えば、外周に沿って保水性を有する物質601を枠状に配置する。該物質としては、例えば、保湿性を有する高分子化合物である。保水性物質から蒸発した水分が親水性層に吸着される。   Specifically, as shown in FIG. 7, a substance 601 having water retention properties is arranged in a frame shape in the vicinity of the electro-optical device 600, for example, along the outer periphery. The substance is, for example, a polymer compound having moisture retention. Moisture evaporated from the water-retaining substance is adsorbed on the hydrophilic layer.

本実施例のような形態をとることにより、乾燥した環境下でも放熱効果を維持することができる。   By taking the form as in this embodiment, the heat dissipation effect can be maintained even in a dry environment.

本発明による電気光学装置を表示部に備えた電子機器について図8を参照して説明する。図8は、上述した電気光学装置を含んで構成される電子機器の具体例を説明する図である。   An electronic apparatus including the electro-optical device according to the present invention in a display unit will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a diagram illustrating a specific example of an electronic apparatus including the above-described electro-optical device.

図8(A)は携帯電話への適用例であり、当該携帯電話230はアンテナ部231、音声出力部232、音声入力部233、操作部234、および本発明の電気光学装置700を備えている。このように本発明に係る電気光学装置は表示部として利用可能である。図8(B)はビデオカメラへの適用例であり、当該ビデオカメラ240は受像部241、操作部242、音声入力部243、および本発明の電気光学装置700を備えている。図8(C)はテレビジョンへの適用例であり、当該テレビジョン300は本発明の電気光学装置700を備えている。なお、パーソナルコンピュータ等に用いられるモニタ装置に対しても同様に本発明に係る電気光学装置を適用し得る。図8(D)はロールアップ式テレビジョンへの適用例であり、当該ロールアップ式テレビジョン310は本発明の電気光学装置700を備えている。また、電子機器はこれらに限定されず、表示機能を有する各種の電子機器に適用可能である。例えばこれらの他に、表示機能付きファックス装置、デジタルカメラのファインダ、携帯型TV、電子手帳、電光掲示盤、宣伝公告用ディスプレイなども含まれる。なお、本発明にかかる回路基板は、電気光学装置の構成部品として上記のような電子機器に含まれる場合の他に、単独で電子機器の構成部品としても適用し得る。   FIG. 8A shows an application example to a mobile phone. The mobile phone 230 includes an antenna portion 231, an audio output portion 232, an audio input portion 233, an operation portion 234, and the electro-optical device 700 of the present invention. . As described above, the electro-optical device according to the invention can be used as a display unit. FIG. 8B shows an application example to a video camera. The video camera 240 includes an image receiving unit 241, an operation unit 242, an audio input unit 243, and the electro-optical device 700 of the present invention. FIG. 8C shows an application example to a television, and the television 300 includes the electro-optical device 700 of the present invention. The electro-optical device according to the present invention can be similarly applied to a monitor device used for a personal computer or the like. FIG. 8D shows an application example to a roll-up television, and the roll-up television 310 includes the electro-optical device 700 of the present invention. Further, the electronic device is not limited to these, and can be applied to various electronic devices having a display function. For example, in addition to these, a fax machine with a display function, a finder for a digital camera, a portable TV, an electronic notebook, an electric bulletin board, a display for advertising, etc. are also included. The circuit board according to the present invention can be applied alone as a component part of an electronic device, in addition to the case where it is included in the electronic device as described above as a component part of an electro-optical device.

なお、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

例えば、上記実施形態では、電気光学装置としてアクティブマトリックス基板によるトップエミッション型の構造を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されることなく、ボトムエミッション型にも、また、両側に表示光を出射するタイプのものにも適用可能である。また、アクティブマトリックス型でもパッシブマトリックス型でも同様の効果が得られるので、どちらにも適用可能である。   For example, in the above-described embodiment, the top emission type structure using the active matrix substrate is described as an example of the electro-optical device. However, the present invention is not limited to this, and the bottom emission type is also provided on both sides. The present invention can also be applied to a type that emits display light. Moreover, since the same effect is acquired even if it is an active matrix type and a passive matrix type, it is applicable to both.

第1の実施例における有機EL表示装置(電気光学装置)の構造を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the structure of the organic electroluminescent display apparatus (electro-optical apparatus) in a 1st Example. 有機EL表示装置(電気光学装置)のアクティブマトリックス駆動回路の機構を説明する回路図である。It is a circuit diagram explaining the mechanism of the active matrix drive circuit of an organic EL display device (electro-optical device). 接触角を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating a contact angle. 第2の実施例における有機EL表示装置の構造を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the structure of the organic electroluminescence display in a 2nd Example. 第3の実施例における有機EL表示装置の構造を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the structure of the organic electroluminescence display in a 3rd Example. 第4の実施例における本発明の実施の形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows embodiment of this invention in a 4th Example. 第5の実施例における本発明の実施の形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows embodiment of this invention in a 5th Example. 電気光学装置を使用する電子機器の例を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the example of the electronic device which uses an electro-optical apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

21…信号線駆動回路、22…走査線駆動回路、23…画素電極域、26…コンデンサ、100…基板、101…絶縁層、24、25、102…薄膜トランジスタ、103…配線、104…画素電極、27、105…有機発光層、106…バンプ層、107…陰極、108…陰極保護層、109…緩衝層、110…ガスバリア層、111…保護層、112…保護基板、113、401…親水性層、301…封止部材、302…接着層、500、600、700…本発明の電気光学装置、501…燃料電池、502…導管、503…放散穴、601…保水性を有する物質、230…携帯電話、231…アンテナ部、232…音声出力部、233…音声入力部、234…操作部、240…ビデオカメラ、241…受像部、242…操作部、243…音声入力部、300…テレビジョン、ロールアップ式テレビジョン

DESCRIPTION OF SYMBOLS 21 ... Signal line drive circuit, 22 ... Scanning line drive circuit, 23 ... Pixel electrode area, 26 ... Capacitor, 100 ... Substrate, 101 ... Insulating layer, 24, 25, 102 ... Thin film transistor, 103 ... Wiring, 104 ... Pixel electrode, 27, 105 ... organic light emitting layer, 106 ... bump layer, 107 ... cathode, 108 ... cathode protective layer, 109 ... buffer layer, 110 ... gas barrier layer, 111 ... protective layer, 112 ... protective substrate, 113, 401 ... hydrophilic layer , 301, sealing member, 302, adhesive layer, 500, 600, 700, electro-optical device of the present invention, 501, fuel cell, 502, conduit, 503, diffusion hole, 601, substance having water retention property, 230, portable. Telephone, 231 ... Antenna unit, 232 ... Audio output unit, 233 ... Audio input unit, 234 ... Operation unit, 240 ... Video camera, 241 ... Image receiving unit, 242 ... Operation unit, 243 An audio input portion, 300 ... television, roll-up television

Claims (11)

画像を表示する電気光学装置であって、
画素を構成する電気光学素子が配列された表示パネルと、
前記表示パネルの少なくとも一面に形成されて水分を吸着する親水性層と、
前記電気光学素子と前記親水性層との間に形成されて、水分の通過を阻止するガスバリア性を有する封止層と、を有し、
前記表示パネルの熱が前記親水性層に吸着された水分の気化熱によって放出される、ことを特徴とする電気光学装置。
An electro-optical device for displaying an image,
A display panel in which electro-optic elements constituting pixels are arranged;
A hydrophilic layer formed on at least one surface of the display panel to adsorb moisture;
A sealing layer that is formed between the electro-optic element and the hydrophilic layer and has a gas barrier property that prevents the passage of moisture;
An electro-optical device, wherein heat of the display panel is released by heat of vaporization of moisture adsorbed on the hydrophilic layer.
前記電気光学装置が、更に、前記親水性層に吸着させる水分の供給源を前記表示パネルの近傍に有する請求項1の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, further comprising a supply source of moisture to be adsorbed on the hydrophilic layer in the vicinity of the display panel. 前記水分の供給源が、前記表示パネルに電源を供給する燃料電池である請求項2の電気光学装置。   3. The electro-optical device according to claim 2, wherein the moisture supply source is a fuel cell that supplies power to the display panel. 前記水分の供給源が、保湿性を有する物質である請求項2の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 2, wherein the moisture supply source is a substance having moisture retention. 前記親水性層が、透明性を有する金属酸化物からなる材料である請求項1の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, wherein the hydrophilic layer is made of a transparent metal oxide. 前記金属酸化物が、エネルギーバンドギャップが3eV乃至6eVまでの酸化物半導体材料を主成分とする請求項5の電気光学装置。   6. The electro-optical device according to claim 5, wherein the metal oxide is mainly composed of an oxide semiconductor material having an energy band gap of 3 eV to 6 eV. 前記金属酸化物が、チタン、亜鉛、錫、インジウムの内のいずれかの金属を主成分とする請求項5の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 5, wherein the metal oxide is mainly composed of any one of titanium, zinc, tin, and indium. 前記封止層が、珪素化合物である請求項1の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, wherein the sealing layer is a silicon compound. 前記封止層が、ガラス基板によって構成される請求項1の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, wherein the sealing layer is formed of a glass substrate. 前記親水性層が、前記表示パネルの両面に設けられる請求項1の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, wherein the hydrophilic layer is provided on both surfaces of the display panel. 請求項1乃至10のいずれかの電気光学装置を表示部に備えた電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1 in a display unit.
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