JP2002299801A - Circuit board - Google Patents

Circuit board

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JP2002299801A
JP2002299801A JP2001097939A JP2001097939A JP2002299801A JP 2002299801 A JP2002299801 A JP 2002299801A JP 2001097939 A JP2001097939 A JP 2001097939A JP 2001097939 A JP2001097939 A JP 2001097939A JP 2002299801 A JP2002299801 A JP 2002299801A
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Japan
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overcoat layer
conductor film
wiring conductor
circuit board
parts
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Application number
JP2001097939A
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Japanese (ja)
Inventor
Yukihiro Murakami
幸弘 村上
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Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a circuit board which is capable of restraining Ag contained in a surface wiring conductor film from being diffused into an overcoat layer. SOLUTION: An Ag wiring conductor film 2 is formed on the surface of a glass ceramic board 1, and an overcoat layer 6 of glass ceramic material is formed on the surface of the glass ceramic board 1 for the formation of a circuit board, partially covering the wiring conductor film 2. The overcoat layer 6 is formed of material composed of 100 pts.wt. inorganic solid component and 4.0 to below 6.0 pts.wt. metal oxide as an additive selected out of metal oxides such as MnO2 , CrO3 , and Fe2 O3 .

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、回路基板の表面に
配線導体層を形成し、実質的に基板と同一材料からなる
オーバーコート層を被覆した回路基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a circuit board in which a wiring conductor layer is formed on the surface of a circuit board and is covered with an overcoat layer made of substantially the same material as the board.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、回路基板の表面には、表面配線導
体膜を形成し、その表面の一部をオーバーコート層によ
って被覆されていた。そして、このオーバーコート層か
ら露出する表面配線導体膜は、例えば、基板上に搭載す
る電子部品素子の接続パッドや端子電極として用いられ
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, a surface wiring conductor film has been formed on the surface of a circuit board, and a part of the surface has been covered with an overcoat layer. The surface wiring conductor film exposed from the overcoat layer is used, for example, as a connection pad or a terminal electrode of an electronic component element mounted on a substrate.

【0003】このオーバーコート層は、表面配線導体膜
の保護や耐候性の向上を目的として形成される。具体的
には、基板との熱膨張係数との差を考慮したガラス材料
や基板材料と同一成分の絶縁材料が用いれる。
This overcoat layer is formed for the purpose of protecting the surface wiring conductor film and improving the weather resistance. Specifically, an insulating material having the same component as the glass material or the substrate material is used in consideration of the difference from the thermal expansion coefficient of the substrate.

【0004】また、このうようなオーバーコート層を被
着形成した回路基板は、電子部品素子を搭載する前に、
オーバーコート層の印刷にじみ、印刷かすれ等の発生が
ないか外観検査を行なったていた。
[0004] Further, a circuit board having such an overcoat layer formed thereon is mounted on an electronic component element before mounting.
The appearance was inspected for the occurrence of print blurring and blurring of the overcoat layer.

【0005】この外観検査において、オーバーコート層
は、実質的に基板と同一の白色系を呈しており、Ag系
の表面配線導体膜であっては銀白色系であり、オーバー
コート層と表面配線導体膜との間でのコントラストが悪
く、外観検査が非常に困難であった。このような外観検
査を容易に行なえるようにするため、従来、オーバーコ
ート層に着色剤としてMnO2を添加して、オーバーコ
ート層自体の色彩を淡茶黒色系としていた。これによ
り、上述のようにオーバーコート層を淡茶黒色系によ
り、識別性を容易としていた。
In the appearance inspection, the overcoat layer has substantially the same white color as that of the substrate, and the silver-based surface wiring conductor film is silver-white. The contrast with the conductor film was poor, and the appearance inspection was very difficult. Conventionally, in order to easily perform such an appearance inspection, MnO2 was added as a coloring agent to the overcoat layer, and the color of the overcoat layer itself was light brown black. Thereby, as described above, the overcoat layer is made of a light brown-black color to facilitate discrimination.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、このうような
回路基板では、回路基板上の表面配線導体膜のAg成分
が、オーバーコート層に拡散してしまうという問題があ
った。このようにオーバーコート層にAg成分が拡散が
発生すると、回路基板の電気的特性が劣化してしまう。
即ち、絶縁保護層として機能するオーバーコート層自身
の絶縁抵抗が低下してしまうためである。また、オーバ
ーコート層の耐候性も劣化してしまい、その結果、湿気
の浸透度合いが促進されて、表面配線導体膜のマイグレ
ーション等の不具合が発生する可能性がある。
However, in such a circuit board, there is a problem that the Ag component of the surface wiring conductor film on the circuit board diffuses into the overcoat layer. When the diffusion of the Ag component in the overcoat layer as described above, the electrical characteristics of the circuit board deteriorate.
That is, the insulation resistance of the overcoat layer itself functioning as an insulating protective layer is reduced. In addition, the weather resistance of the overcoat layer is also deteriorated, and as a result, the degree of penetration of moisture is promoted, which may cause problems such as migration of the surface wiring conductor film.

【0007】また、MnO2のみの添加では着色が淡い
黒色あるいは茶色系となり、さらに表面配線導体膜とオ
ーバーコート層とのコントラストを求められる。
Further, when only MnO 2 is added, the color becomes pale black or brown, and the contrast between the surface wiring conductor film and the overcoat layer is required.

【0008】本発明は、上述の問題点に鑑みて案出され
たものであり、その目的は、オーバーコート層への表面
配線導体膜のAg成分の拡散を抑制可能な回路基板を提
供することである。
The present invention has been devised in view of the above problems, and has as its object to provide a circuit board capable of suppressing the diffusion of the Ag component of the surface wiring conductor film into the overcoat layer. It is.

【0009】また、別の目的は、回路基板の表面配線導
体膜とオーバーコート層との識別をより容易にすること
ができる回路基板を提供するものである。
Another object of the present invention is to provide a circuit board capable of making it easier to distinguish between a surface wiring conductor film and an overcoat layer of the circuit board.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、表面にAg系
配線導体膜を形成したガラスセラミック材料からなる基
板上に、前記配線導体膜の一部を被覆するように、ガラ
スセラミック材料からなるオーバーコート層を被覆形成
してなる回路基板において、前記オーバーコート層は、
MnO2、CrO3、Fe23の少なくとも1つを含有
し、且つその含有量が、オーバーコート層の無機物固形
成分100重量部に対して4.0重量部〜6.0重量部
添加した回路基板である。
According to the present invention, a glass-ceramic material is formed on a substrate made of a glass-ceramic material having an Ag-based wiring conductor film formed on its surface so as to cover a part of the wiring conductor film. In the circuit board formed by covering the overcoat layer, the overcoat layer,
A circuit containing at least one of MnO 2 , CrO 3 , and Fe 2 O 3 and having a content of 4.0 to 6.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the inorganic solid component of the overcoat layer. It is a substrate.

【0011】また、前記オーバーコート層にはMn
2、CrO3、Fe23を含有し、且つその含有量が、
オーバーコート層の無機固形成分100重量部に対して
1.5〜1.7重量部である回路基板である。
Further, Mn is contained in the overcoat layer.
O 2 , CrO 3 , Fe 2 O 3 , and the content is
The circuit board is 1.5 to 1.7 parts by weight based on 100 parts by weight of the inorganic solid component of the overcoat layer.

【作用】このオーバーコート層には、MnO2、Cr
3、Fe23の金属酸化物いずれかの1つの金属酸化
物が、オーバーコート層の無機材料に100重量部に対
して4.0〜6.0重量部添加されている。
In the overcoat layer, MnO 2 , Cr
One metal oxide of either O 3 or Fe 2 O 3 is added to the inorganic material of the overcoat layer in an amount of 4.0 to 6.0 parts by weight based on 100 parts by weight.

【0012】これにより、回路基板の表面配線導体膜の
Ag成分がオーバーコート層に拡散することを抑制する
ことができる。即ち、Agの拡散による絶縁層の変質
(絶縁特性の劣化、耐湿性の低下)を抑えることができ
る。
Thus, it is possible to suppress the Ag component of the surface wiring conductor film of the circuit board from diffusing into the overcoat layer. That is, it is possible to suppress the deterioration of the insulating layer (deterioration of the insulating properties and deterioration of the moisture resistance) due to the diffusion of Ag.

【0013】また、オーバーコート層に添加するMnO
2、CrO3、Fe23のいずれかを添加量することによ
り、オーバーコート層自身に着色させることができ、表
面配線導体膜とオーバーコート層との間のコントラスト
を鮮明にすることができる。しかも、MnO2、Cr
3、Fe23の添加量を、オーバーコート層となる無
機材料に100重量部に対して、夫々1.5〜1.7重
量部とすることにより、特にオーバーコート層の色彩を
濃黒色系とすることができ、上述の表面配線導体膜とオ
ーバーコート層との間のコントラストを一層鮮明にし、
オーバーコート層となる材料の印刷時でのにじみ、かす
れを目視による外観検査が容易となる。
Further, MnO added to the overcoat layer
2 , by adding any of CrO 3 and Fe 2 O 3 , the overcoat layer itself can be colored and the contrast between the surface wiring conductor film and the overcoat layer can be sharpened. . Moreover, MnO 2 , Cr
By adding O 3 and Fe 2 O 3 in amounts of 1.5 to 1.7 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the inorganic material to be the overcoat layer, the color of the overcoat layer is particularly enhanced. It can be made to be a black system, making the contrast between the above surface wiring conductor film and the overcoat layer clearer,
Bleeding and blurring during printing of the material to be the overcoat layer can be easily visually inspected.

【0014】尚、MnO2、CrO3、Fe23の合計
は、6.0重量部を越えないように、また単独の金属酸
化物を添加する場合に、2.0重量部を越えないように
する。このように、金属酸化物の添加量が過剰となる
と、オーバーコート層と回路基板または表面配線導体膜
との焼結挙動が相違し、また、オーバーコート層自身の
焼結条件が変動して、回路基板や表面配線導体膜の焼結
状態との相違により、オーバーコート層の機能を充分に
発揮できない状態となる。極端な場合には、オーバーコ
ート層が未焼結状態となってしまう。
Incidentally, the total of MnO 2 , CrO 3 and Fe 2 O 3 should not exceed 6.0 parts by weight, and if a single metal oxide is added, it should not exceed 2.0 parts by weight. To As described above, when the addition amount of the metal oxide is excessive, the sintering behavior of the overcoat layer and the circuit board or the surface wiring conductor film is different, and the sintering conditions of the overcoat layer itself vary, Due to the difference from the sintered state of the circuit board or the surface wiring conductor film, the function of the overcoat layer cannot be sufficiently exhibited. In an extreme case, the overcoat layer is in an unsintered state.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の回路基板を図面に
基づいて詳説する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a circuit board according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0016】図1は、本発明の回路基板の断面図であ
る。尚、実施例の回路基板1の構造としては、例えば5
つの絶縁層が積層され、その層を貫くビアホール導体、
その層間に内部配線を配置した多層基板で説明する。
FIG. 1 is a sectional view of a circuit board according to the present invention. The structure of the circuit board 1 of the embodiment is, for example, 5
Two insulating layers are laminated and a via-hole conductor penetrates the layer,
A description will be given of a multilayer substrate in which internal wirings are arranged between the layers.

【0017】図1において、10は回路基板であり、1
a〜1eは絶縁層であり、3は内部配線導体膜であり、
4はビアホール導体であり、2は表面配線導体膜であ
り、5は電子部品素子、6はオーバーコート層ある。
In FIG. 1, reference numeral 10 denotes a circuit board;
a to 1e are insulating layers, 3 is an internal wiring conductor film,
4 is a via hole conductor, 2 is a surface wiring conductor film, 5 is an electronic component element, and 6 is an overcoat layer.

【0018】回路基板10を構成する絶縁層1a〜1e
は、ガラスセラミック材料からなる。具体的にはガラス
セラミック材料とは、例えば、結晶化ガラスと無機物フ
ィラーからなる。無機物フィラーとしては、クリストバ
ライト、石英、コランダム(αアルミナ)、ムライト、
ジルコニア、コージェライト等が例示でき、1種または
複数種類を含むものであり、総称してセラミック材料と
いう。このセラミック材料の平均粒径は1.0〜6.0
μmが好ましい。
The insulating layers 1a to 1e constituting the circuit board 10
Is made of a glass ceramic material. Specifically, the glass ceramic material includes, for example, crystallized glass and an inorganic filler. Cristobalite, quartz, corundum (α alumina), mullite,
Examples thereof include zirconia and cordierite, which include one or more types, and are collectively called ceramic materials. The average particle size of the ceramic material is 1.0 to 6.0.
μm is preferred.

【0019】結晶化ガラス材料は、複数の金属酸化物を
含むガラスフリットであり、800〜1000℃で焼成
した際に、コージェライト、ムライト、アノーサイト、
セルジアン、スピネル、ガーナイト、ウイレマイト、ド
ロマイト、ペタライト、オオスミライト及びその置換誘
導体の結晶を少なくとも1種析出するものがあげられ、
この結晶化ガラス材料の平均粒径は、1.0〜5.0μ
mが好ましい。また、セラミック材料とガラス材料の構
成比率は、セラミック材料が10重量部〜60重量部、
好ましくは、30重量部〜50重量部、ガラス材料が9
0重量部〜40重量部、好ましくは、70重量部〜50
重量部である。具体的には、これらの粉末と有機バイン
ダ、可塑剤と溶剤を混練しスラリー化したものをドクタ
ーブレード法や引き上げ法でグリーンシートにして用
い、内部のグリーンシートにビアホール導体を含む内部
配線導体膜となる導体膜を形成する。または、塗布乾燥
を繰り返して多層の基板を作成する。
The crystallized glass material is a glass frit containing a plurality of metal oxides, and when fired at a temperature of 800 to 1000 ° C., cordierite, mullite, anorthite,
Those that precipitate at least one type of crystal of Celsian, spinel, garnite, willemite, dolomite, petalite, osmillite and substituted derivatives thereof,
The average particle size of the crystallized glass material is 1.0 to 5.0 μm.
m is preferred. The composition ratio of the ceramic material and the glass material is such that the ceramic material is 10 to 60 parts by weight,
Preferably, 30 to 50 parts by weight, and the glass material is 9 parts by weight.
0 to 40 parts by weight, preferably 70 to 50 parts by weight
Parts by weight. Specifically, a slurry obtained by kneading these powders, an organic binder, a plasticizer and a solvent and forming a slurry is used as a green sheet by a doctor blade method or a pulling method. Is formed. Alternatively, coating and drying are repeated to form a multilayer substrate.

【0020】絶縁層1a〜1eは、1層あたり50〜3
00μm程度の厚みを有し、その厚み方向にビアホール
導体4が形成されている。また、絶縁層1a〜1eの層
間には、所定回路網を構成する内部配線導体膜3が形成
されている。
The insulating layers 1a to 1e are 50 to 3 per layer.
It has a thickness of about 00 μm, and the via-hole conductor 4 is formed in the thickness direction. Further, an internal wiring conductor film 3 forming a predetermined circuit network is formed between the insulating layers 1a to 1e.

【0021】内部配線導体膜3、ビアホール導体4は、
Ag、Ag−Pdなどを主成分とする導体材料により構
成されている。
The internal wiring conductor film 3 and the via hole conductor 4
It is made of a conductive material mainly composed of Ag, Ag-Pd or the like.

【0022】この基板1をガラスセラミックが燒結する
800〜1000℃で焼成する。
The substrate 1 is fired at 800 to 1000 ° C., at which the glass ceramic is sintered.

【0023】この基板1の表面に、Agなどを主成分
(Ag単体またはAg−Pd、Ag−PtなどのAg合
金)とする導体材料から成る表面配線導体膜2が配置さ
れている。この表面配線導体膜2は焼成状態の基板1上
に、表面配線導体膜2となる導体膜が被着され、焼成さ
れて構成される。この表面配線導体膜2は、ビアホール
導体4を介して内部配線導体膜3と電気的に接続し所定
回路網を構成するとともに、電子部品素子5が接合され
る電極パッド部21、外部回路と接続する接続端子21
などから成る。尚、表面配線導体膜2は、上述の金属材
料に必要に応じてガラス成分などが含有されている。
On the surface of the substrate 1, a surface wiring conductor film 2 made of a conductor material containing Ag or the like as a main component (Ag alone or an Ag alloy such as Ag-Pd or Ag-Pt) is disposed. The surface wiring conductor film 2 is formed by applying a conductor film to be the surface wiring conductor film 2 on the fired substrate 1 and firing it. The surface wiring conductor film 2 is electrically connected to the internal wiring conductor film 3 via the via-hole conductor 4 to form a predetermined circuit network, and is connected to an electrode pad portion 21 to which the electronic component element 5 is joined, and to an external circuit. Connection terminal 21
Etc. In addition, the surface wiring conductor film 2 contains a glass component or the like as necessary in the above-described metal material.

【0024】この表面配線導体膜2上には、主成分とし
て基板材料と実質的に同一材料のガラスセラミック材料
(無機物固定成分)と有機バインダからなるオーバーコ
ート層6が被着形成されている。このオーバコート層6
は、上述の電極パッド部や接続端子となる部位を露出す
るように被着形成されている。尚、オーバーコート層6
は実質的に基板の熱膨張係数差を同一または小さくする
ため、また、基板などの焼結条件を近似させるために、
基板材料と同一の材料を主成分としている。
On the surface wiring conductor film 2, an overcoat layer 6 composed of a glass ceramic material (inorganic fixing component), which is substantially the same as the substrate material, and an organic binder as main components is formed. This overcoat layer 6
Is formed so as to expose the above-mentioned electrode pad portion and the portion serving as the connection terminal. The overcoat layer 6
Is to make the difference in thermal expansion coefficient of the substrate substantially the same or small, and to approximate the sintering conditions of the substrate, etc.
The main material is the same as the substrate material.

【0025】オーバーコート層6には、上述の無機物固
形成分にMnO2、CrO3、Fe23が添加されてい
る。MnO2、CrO3、Fe23(金属酸化物)は、着
色作用があり、即ち、これらの金属産科物の添加によ
り、少なくとも淡茶色程度の色彩作用がある。
In the overcoat layer 6, MnO 2 , CrO 3 , and Fe 2 O 3 are added to the above-mentioned inorganic solid components. MnO 2 , CrO 3 , and Fe 2 O 3 (metal oxides) have a coloring effect, that is, at least a light brown color effect due to the addition of these metal products.

【0026】このMnO2、CrO3、Fe23の1種
類、2種類または全部の合計は、オーバーコート層6の
無機固形成分100重量%に対して、4.0重量部以上
添加されている。尚、上限は、6.0重量%未満であ
る。
One or more of MnO 2 , CrO 3 and Fe 2 O 3 are added in an amount of 4.0 parts by weight or more based on 100% by weight of the inorganic solid component of the overcoat layer 6. I have. The upper limit is less than 6.0% by weight.

【0027】このようにMnO2、CrO3、Fe23
の合計の添加量を、4.0重量部以上とすることによ
り、オーバーコート層6に拡散しようとする表面配線導
体膜2のAg成分を有効に抑えることができる。具体的
には、Ag成分の拡散深さが、表面配線導体膜2との接
触界面から10μm未満とすることができる。
As described above, MnO 2 , CrO 3 , Fe 2 O 3
By setting the total addition amount to 4.0 parts by weight or more, it is possible to effectively suppress the Ag component of the surface wiring conductor film 2 that tends to diffuse into the overcoat layer 6. Specifically, the diffusion depth of the Ag component can be less than 10 μm from the contact interface with the surface wiring conductor film 2.

【0028】尚、MnO2、CrO3、Fe23の合計
の添加量が6.0重部以上となると、オーバーコート層
の焼結挙動が大きく変動し、また、焼結条件が大きく変
化して、基板1の反りが発生したり、耐湿性、密着性が
劣化してしまう。
If the total amount of MnO 2 , CrO 3 , and Fe 2 O 3 is 6.0 parts by weight or more, the sintering behavior of the overcoat layer greatly varies, and the sintering conditions vary greatly. As a result, the substrate 1 may be warped or the moisture resistance and the adhesion may be deteriorated.

【0029】さらに、オーバーコート層6の色彩を、淡
茶色から濃黒色として、オーバーコート層6と表面配線
導体膜2とのコントラストを鮮やかにするためには、M
nO 2、CrO3、Fe23の3者を添加して、さらに、
MnO2、CrO3、Fe23の添加量を厳密に制御する
必要がある。即ち、MnO2、CrO3、Fe23の単一
の体添加量を、オーバーコート層6となる無機固形成分
100重量部に対して、1.5〜1.9%とする。これ
により、オーバーコート層6の色彩を濃黒色系とするこ
とができ、オーバーコート層6と表面配線導体膜2の境
界部分を鮮明に識別することができ、オーバーコート層
6の形成位置、印刷状態(にじみ、かすれ)を目視によ
って検査することができる。
Further, the color of the overcoat layer 6 is
From brown to dark black, overcoat layer 6 and surface wiring
In order to increase the contrast with the conductor film 2, M
nO Two, CrOThree, FeTwoOThreeAdd the three of
MnOTwo, CrOThree, FeTwoOThreeStrictly control the amount of
There is a need. That is, MnOTwo, CrOThree, FeTwoOThreeSingle
The inorganic solid component which becomes the overcoat layer 6
1.5 to 1.9% with respect to 100 parts by weight. this
With this, the color of the overcoat layer 6 becomes dark black.
At the boundary between the overcoat layer 6 and the surface wiring conductor film 2.
The boundary area can be clearly identified, and the overcoat layer
The formation position and printing state (bleeding, blurring) of 6 were visually observed.
Can be inspected.

【0030】上述のセラミック回路基板10の製造方法
を説明する。
A method for manufacturing the above-described ceramic circuit board 10 will be described.

【0031】まず、絶縁層1a〜1eとなるグリーンシ
ートを作成する。例えば、グリーンシートは、例えば、
セラミック粉末の無機物フィラーと、結晶化ガラス材料
と、例えばアルキルメタクリレート等の有機バインダ
と、例えばDBP等の可塑剤と、例えばトルエン等の有
機溶剤とを混合し、ボールミルで48時間混練してスラ
リーを作成する。
First, green sheets to be used as the insulating layers 1a to 1e are prepared. For example, a green sheet, for example,
An inorganic filler of ceramic powder, a crystallized glass material, an organic binder such as alkyl methacrylate, and a plasticizer such as DBP, and an organic solvent such as toluene are mixed, and the slurry is kneaded with a ball mill for 48 hours to form a slurry. create.

【0032】このスラリーをドクターブレード法や引き
上げ法を用いて、例えば100μmなどにテープ成型
し、所定寸法に切断してグリーンシートを作成する。
This slurry is tape-molded to, for example, 100 μm using a doctor blade method or a lifting method, and cut into a predetermined size to form a green sheet.

【0033】次に、所定グリーンシートにビアホール導
体4となる貫通孔を形成し、この貫通孔にビアホール導
体4となる導体及び内部配線導体膜3となる導体膜を導
電性ペーストの印刷充填により形成する。
Next, a through hole serving as a via hole conductor 4 is formed in a predetermined green sheet, and a conductor serving as a via hole conductor 4 and a conductor film serving as an internal wiring conductor film 3 are formed in the through hole by printing and filling a conductive paste. I do.

【0034】ここで、内部配線導体膜3を形成する導電
性ペーストは、例えば、所定量のAg粉末等の金属粉末
と、必要に応じて例えば所定量のホウケイ酸系低融点ガ
ラスと、例えばエチルセルロース等の有機バインダー
と、例えば2.2.4−トリメチル−1.3−ペンタジ
オールモノイソブチレート等の有機溶剤を混合し、3本
ロールミルで混練して作成する。ここで、ビアホール導
体4を形成する導体ペーストは、例えば、所定量のAg
粉末等の金属粉末とβ-石英と例えばエチルセルロース
等の有機バインダーと、例えば2.2.4−トリメチル
−1.3−ペンタジオールモノイソブチレート等の有機
溶剤を混合し、3本ロールミルで混練して作成する。こ
こで、β-石英はビアホール導体の熱膨張係数をセラミ
ック基板の熱膨張係数に近いものとするものである。
Here, the conductive paste for forming the internal wiring conductor film 3 includes, for example, a predetermined amount of metal powder such as Ag powder, and if necessary, for example, a predetermined amount of borosilicate low melting point glass, and, for example, ethyl cellulose. And an organic solvent such as 2.2.4-trimethyl-1.3-pentadiol monoisobutyrate are mixed and kneaded with a three-roll mill. Here, the conductive paste for forming the via-hole conductor 4 is, for example, a predetermined amount of Ag.
Metal powder such as powder, β-quartz, an organic binder such as ethyl cellulose, and an organic solvent such as 2.2.4-trimethyl-1.3-pentadiol monoisobutyrate are mixed and kneaded by a three-roll mill. To create. Here, β-quartz makes the thermal expansion coefficient of the via hole conductor close to that of the ceramic substrate.

【0035】このように内部配線導体膜3となる導体
膜、ビアホール導体4となる導体が形成されたグリーン
シートを、基板1の積層順序に応じて、積層して、未焼
成状態の基板を形成する。
The green sheet on which the conductor film serving as the internal wiring conductor film 3 and the conductor serving as the via hole conductor 4 are formed is laminated in accordance with the lamination order of the substrate 1 to form an unfired substrate. I do.

【0036】その後、未焼成状態の基板を一体的に80
0〜1000℃の比較的低温で焼成する。この焼成にお
ける脱バインダ過程は概ね600℃以下の温度領域であ
り、絶縁層1a〜1e及びビアホール導体4となる導体
や内部配線3に含まれている有機バインダを焼失する過
程である。尚、焼成条件は、例えば、ピーク温度800
〜1000℃、例えば950℃30分の大気雰囲気、ま
たは、中性雰囲気である。
Thereafter, the unfired substrate is integrated with 80
Baking at a relatively low temperature of 0 to 1000C. The binder removal process in this firing is a temperature range of approximately 600 ° C. or less, and is a process of burning off the insulating layers 1 a to 1 e, the conductor serving as the via hole conductor 4, and the organic binder contained in the internal wiring 3. The firing conditions are, for example, a peak temperature of 800.
It is an air atmosphere or a neutral atmosphere at a temperature of up to 1000 ° C., for example, 950 ° C. for 30 minutes.

【0037】この基板1の表面に、Agなどを主成分
(Ag単体またはAg−Pd、Ag−PtなどのAg合
金)とする導体材料から成る表面配線導体膜2が配置さ
れている。この表面配線導体膜2は焼成状態の基板1上
に、表面配線導体膜2となる導体膜が被着され、焼成さ
れて構成される。この表面配線導体膜2は、ビアホール
導体4を介して内部配線導体膜3と電気的に接続し所定
回路網を構成するとともに、外部回路や実装部品と接続
する電極パッド部、接続接続端子21などになる。
On the surface of the substrate 1, a surface wiring conductor film 2 made of a conductor material containing Ag or the like as a main component (Ag alone or an Ag alloy such as Ag-Pd or Ag-Pt) is disposed. The surface wiring conductor film 2 is formed by applying a conductor film to be the surface wiring conductor film 2 on the fired substrate 1 and firing it. The surface wiring conductor film 2 is electrically connected to the internal wiring conductor film 3 via the via-hole conductor 4 to form a predetermined circuit network, and further includes an electrode pad portion connected to an external circuit or a mounted component, a connection connection terminal 21, and the like. become.

【0038】尚、表面配線導体膜2は、上述の金属材料
に必要に応じてガラス成分などが含有されている。ここ
で、表面導体層2を形成する導電性ペーストは、例え
ば、金属成分中99重量部以上のAg粉末と、1重量部
以下のPt粉末と、必要に応じて例えば所定量のホウケ
イ酸系低融点ガラスや酸化物と、例えばエチルセルロー
ス等の有機バインダと、例えば2.2.4−トリメチル
−1.3−ペンタジオールモノイソブチレート等の有機
溶剤を混合し、3本ロールミルで混練して作成する。
The surface wiring conductor film 2 contains a glass component or the like as necessary in the above-described metal material. Here, the conductive paste forming the surface conductor layer 2 may be, for example, 99 parts by weight or more of Ag powder and 1 part by weight or less of Pt powder in a metal component, and if necessary, for example, a predetermined amount of a borosilicate-based powder. A melting point glass or oxide, an organic binder such as ethyl cellulose, and an organic solvent such as 2.2.4-trimethyl-1.3-pentadiol monoisobutyrate are mixed and kneaded by a three-roll mill. I do.

【0039】尚、各導電性ペーストにおいで、金属成分
はAg−Ptだけではなく、Ag−Pd等のAg合金を
用いても構わない。
In each conductive paste, the metal component is not limited to Ag-Pt, but may be an Ag alloy such as Ag-Pd.

【0040】この表面配線導体膜2が配置された基板1
上にガラスセラミック材料、MnO 2、CrO3、Fe2
3等の金属酸化物、有機バインダからなるオーバーコ
ート材を用いて、オーバーコート層6となる塗膜を被着
形成し、大気雰囲気または中性雰囲気で焼成処理を行な
う。
The substrate 1 on which the surface wiring conductor film 2 is disposed
Glass ceramic material on top, MnO Two, CrOThree, FeTwo
OThreeOvercopper made of metal oxides and organic binders
Using a coating material, apply a coating film to be the overcoat layer 6
Formed and fired in air or neutral atmosphere.
U.

【0041】尚、上述の焼成工程は、基板1の焼成、表
面配線導体膜2の焼成、オーバーコート層6の焼成のす
べての焼成を、同一に処理することで焼成工程が簡略化
して、生産効率が向上する。
In the above-described firing step, the firing step of the substrate 1, the firing of the surface wiring conductor film 2, and the firing of the overcoat layer 6 are all performed in the same manner, so that the firing step is simplified and the production is simplified. Efficiency is improved.

【0042】その後、オーバーコート層6から露出した
表面配線導体膜2である電極パッド部21などに各種電
子部品5を実装する。
After that, various electronic components 5 are mounted on the electrode pads 21 and the like, which are the surface wiring conductor films 2 exposed from the overcoat layer 6.

【0043】尚、上述の製造方法は、グリーンシートを
利用した多層方法であるが、絶縁層となるスラリーや内
部配線導体膜3を順次印刷した印刷多層を行ってもよ
い。この時、スラリーに光硬化可能なモノマーを添加し
ておき、グリーンシート、または、塗布印刷した誘電体
塗布膜を選択的な露光・現像処理しても構わない。ま
た、未焼成状態の基板1を複数の基板が抽出できるよう
な形状としておき、焼成前に必要に応じて分割溝を形成
し、焼成後個々の回路基板に分割しても構わない。オー
バーコート層6に含まれているMnO2、CrO3、Fe
23は、オーバーコート層6中に、表面配線導体膜2の
Ag成分がオーバーコート層6に拡散することを有効に
抑えるという作用する。
Although the above-described manufacturing method is a multilayer method using green sheets, a printing multilayer in which slurry serving as an insulating layer and the internal wiring conductor film 3 are sequentially printed may be performed. At this time, a photocurable monomer may be added to the slurry, and a green sheet or a dielectric coating film coated and printed may be selectively exposed and developed. Alternatively, the substrate 1 in an unfired state may be formed in a shape that allows a plurality of substrates to be extracted, and division grooves may be formed as necessary before firing, and the substrate 1 may be divided into individual circuit boards after firing. MnO 2 , CrO 3 , Fe contained in the overcoat layer 6
2 O 3 is in the overcoat layer 6, Ag component of the surface wiring conductor film 2 acts as effectively suppressed from being diffused into the overcoat layer 6.

【0044】このAg成分の拡散を有効に抑え、さら
に、焼成時に基板1の反りを防止するために、そのMn
2、CrO3、Fe23の全部の添加量を制御してい
る。即ち、この合計添加量は、オーバーコート層6を構
成する無機固形成分(ガラスセラミック材料)100重
量部に対して4.0重量部以上、6.0重量部未満とす
る。
In order to effectively suppress the diffusion of the Ag component and to prevent the substrate 1 from warping during firing, the Mn
The total amount of O 2 , CrO 3 , and Fe 2 O 3 is controlled. That is, the total addition amount is 4.0 parts by weight or more and less than 6.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the inorganic solid component (glass ceramic material) constituting the overcoat layer 6.

【0045】この合計添加量が4.0重量部未満となる
と、オーバーコート層6に表面配線導体膜2のAg成分
が、例えば10μm以上の深さを拡散してしまう。仮
に、オーバーコート層6にAg成分が10μm以上の拡
散すると、オーバーコート層6自身の特性が変質してし
まい、例えば誘電率が小さくなったり、絶縁特性が劣化
したり、耐湿性が劣化してしまう。
If the total amount is less than 4.0 parts by weight, the Ag component of the surface wiring conductor film 2 diffuses into the overcoat layer 6 at a depth of, for example, 10 μm or more. If the Ag component diffuses into the overcoat layer 6 by 10 μm or more, the properties of the overcoat layer 6 itself are deteriorated, for example, the dielectric constant is reduced, the insulation properties are deteriorated, and the moisture resistance is deteriorated. I will.

【0046】また、この合計添加量が6.0重量部以上
になると、オーバーコート層6の材料性質が変質してし
まい、その焼成挙動、焼成条件が変動してしまい、その
結果、基板1や表面配線導体膜2とオーバーコート層6と
の間に剥離が発生したり、基板に反りが発生したり、さ
らにはオーバーコート層6を一体焼結した時には、この
オーバーコート層6の焼結条件と基板や表面配線導体膜
2の焼結条件との差により、オーバーコート層6の充分
な焼結が達成できない。
If the total amount exceeds 6.0 parts by weight, the material properties of the overcoat layer 6 are altered, and the firing behavior and firing conditions are changed. When peeling occurs between the surface wiring conductor film 2 and the overcoat layer 6, when the substrate warps, and when the overcoat layer 6 is integrally sintered, the sintering conditions of the overcoat layer 6 And sintering conditions of the substrate and the surface wiring conductor film 2, the overcoat layer 6 cannot be sufficiently sintered.

【0047】[0047]

【実施例】本発明者は、基板材料と同一の無機固形成分
を有するコート部材により、オーバーコート層6を形成
し、オーバーコート層6内にAg成分の拡散度合い(オ
ーバーコート層6内の浸入距離)、オーバーコート層6
の色彩をしらべた。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present inventor formed an overcoat layer 6 using a coating member having the same inorganic solid component as the substrate material, and diffused the Ag component into the overcoat layer 6 (penetration into the overcoat layer 6). Distance), overcoat layer 6
I examined the colors of.

【0048】尚、製造方法は、未焼成状態の基板上に、
Ag系の表面配線導体膜2となる導体膜を印刷し、その
後、オーバーコート層6となる塗布膜を形成し、大気雰
囲気で、950℃で焼成した。その結果を表1に示す結
果となった。
The manufacturing method is as follows.
A conductive film to be the Ag-based surface wiring conductive film 2 was printed, and then a coating film to be the overcoat layer 6 was formed and baked at 950 ° C. in the air atmosphere. The results are shown in Table 1.

【0049】[0049]

【表1】 [Table 1]

【0050】試料番号1〜10は、オーバーコート層6
の無機固形成分にMnO2、CrO3、Fe23の少なく
とも1つの添加した。その合計の添加量が4.0重量部
未満である。この場合、オーバーコート層6内に拡散す
る表面配線導体膜2のAg成分は、10μm以上拡散し
てしまう。即ち、多量のAg成分がオーバーコート層6
側に拡散してしまう。これにより、オーバーコート層6
の本来の機能である絶縁性や耐湿性を損ねてしまう。
Sample Nos. 1 to 10 correspond to the overcoat layer 6
At least one of MnO 2 , CrO 3 , and Fe 2 O 3 was added to the inorganic solid component. The total added amount is less than 4.0 parts by weight. In this case, the Ag component of the surface wiring conductor film 2 that diffuses into the overcoat layer 6 diffuses by 10 μm or more. That is, a large amount of Ag component is contained in the overcoat layer 6.
Will spread to the side. Thereby, the overcoat layer 6
This impairs the insulation and moisture resistance, which are the original functions.

【0051】また、試料番号23は、MnO2、Cr
3、Fe23の合計の添加量が6.0重量部である。
この場合、オーバーコート層6内ヘのAgの拡散は4.
1μmであるが、逆に金属酸化物の添加が過剰過ぎて、
オーバーコート層6の焼成条件、焼結挙動が大きく変動
してしまい、基板1や表面配線導体膜2との不整合が発
生してしまい、その結果、オーバーコート層6と基板1
や表面配線導体膜2との間の剥離が発生してしまう。ま
た、オーバーコート層6が充分に焼結されないため、オ
ーバーコート層6としての本来の機能が低下してしま
う。
Sample No. 23 is composed of MnO 2 , Cr
The total added amount of O 3 and Fe 2 O 3 is 6.0 parts by weight.
In this case, the diffusion of Ag into the overcoat layer 6 is 4.
1 μm, but conversely, the addition of the metal oxide is excessive,
The firing conditions and sintering behavior of the overcoat layer 6 fluctuate greatly, causing inconsistency with the substrate 1 and the surface wiring conductor film 2. As a result, the overcoat layer 6 and the substrate 1
Or separation from the surface wiring conductor film 2 occurs. In addition, since the overcoat layer 6 is not sufficiently sintered, its original function as the overcoat layer 6 is reduced.

【0052】試料番号11〜22に示すように、オーバ
ーコート層6に添加するMnO2、CrO3、Fe23
制御することにより、オーバーコート層6の色彩を濃黒
色系にすることができる。
As shown in Sample Nos. 11 to 22, by controlling MnO 2 , CrO 3 , and Fe 2 O 3 added to the overcoat layer 6, the color of the overcoat layer 6 can be made deep black. it can.

【0053】即ち、オーバーコート層6に添加する金属
酸化物は、MnO2、CrO3、Fe 23のすべてを含む
こと、1つの添加量は、1.5重量部以上、2.0重量
部未満とすることである。
That is, the metal added to the overcoat layer 6
The oxide is MnOTwo, CrOThree, Fe TwoOThreeIncluding all of
That one addition amount is 1.5 parts by weight or more, 2.0 parts by weight
Parts.

【0054】このような条件で、MnO2、CrO3、F
23を添加することにより、オーバーコート層6を、
確実に濃黒色系とすることができ、外観検査上、オーバ
ーコート層6と表面配線導体膜2とのコントラストが鮮
明となり、その結果、オーバーコート層6のコート材の
印刷のにじみ、かすれが容易に把握できる。
Under these conditions, MnO 2 , CrO 3 , F
By adding e 2 O 3 , the overcoat layer 6
The overcoat layer 6 and the surface wiring conductor film 2 can be clearly contrasted in appearance inspection because of the dark black color. As a result, the coating material of the overcoat layer 6 is easily printed and blurred. Can be grasped.

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明によれば、回路基板上にAgを主
成分とする表面配線導体膜上にオーバーコート層を形成
するにあたり、オーバーコート層内にMnO2、Cr
3、Fe 23の少なくとも1つの添加量が4.0重量
部以上、6.0重量部未満としている。これにより、オ
ーバーコート層に拡散するAg成分を抑制でき、オーバ
ーコート層の本来の機能である絶縁性や耐湿性を維持で
きる。
According to the present invention, Ag is mainly deposited on a circuit board.
Form an overcoat layer on the surface wiring conductor film as a component
In doing so, MnO was added to the overcoat layer.Two, Cr
OThree, Fe TwoOThreeAt least one added amount of 4.0 wt.
Parts or more and less than 6.0 parts by weight. As a result,
-Ag component that diffuses into the bar coat layer can be suppressed,
-Maintains the insulation and moisture resistance that are the original functions of the coat layer.
Wear.

【0056】また、夫々の金属産科物の添加量を規定し
て、オーバーコート層の色彩を濃黒色系にすることがで
き、表面配線導体膜との境界部分の外観検査が容易とな
る。
Further, the color of the overcoat layer can be made dark black by defining the amount of each metal object to be added, and the appearance inspection of the boundary portion with the surface wiring conductor film becomes easy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るセラミック回路基板の断面図であ
る。
FIG. 1 is a sectional view of a ceramic circuit board according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10・・・・セラミック回路基板 1・・・・・基板 1a〜1e・・・ガラスセラミック層 2・・・・・・表面配線導体膜 3・・・・・内部配線導体膜 5・・・・・電子部品 6・・・・・オーバーコートガラス 10 Ceramic circuit board 1 Substrate 1a-1e Glass ceramic layer 2 Surface wiring conductor film 3 Internal wiring conductor film 5・ Electronic parts 6 ・ ・ ・ ・ ・ Overcoat glass

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】表面にAg系配線導体膜を形成したガラス
セラミック材料からなる基板上に、前記配線導体膜の一
部を被覆するように、ガラスセラミック材料からなるオ
ーバーコート層を被覆形成してなる回路基板において、 前記オーバーコート層は、MnO2、CrO3、Fe2
3の少なくとも1つを含有し、且つその含有量が、オー
バーコート層の無機物固形成分100重量部に対して
4.0重量部〜6.0重量部添加したことを特徴とする
回路基板。
An overcoat layer made of a glass ceramic material is formed on a substrate made of a glass ceramic material having an Ag-based wiring conductor film formed on its surface so as to cover a part of the wiring conductor film. In the above circuit board, the overcoat layer is made of MnO 2 , CrO 3, Fe 2 O
3. A circuit board comprising at least one of ( 3 ) and 4.0 to 6.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the inorganic solid component of the overcoat layer.
【請求項2】前記オーバーコート層にはMnO2、Cr
3、Fe23を含有し、且つその含有量が、オーバー
コート層の無機固形成分100重量部に対して1.5〜
1.7重量部であることを特徴とする請求項1記載の回
路基板。
2. The method according to claim 1, wherein the overcoat layer comprises MnO 2 , Cr
O 3 , Fe 2 O 3 , and the content is 1.5 to 100 parts by weight of the inorganic solid component of the overcoat layer.
2. The circuit board according to claim 1, wherein the amount is 1.7 parts by weight.
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