JP2002292235A - 湿度調整装置及びこれを用いた光触媒装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡単な構成で被処理気体の湿度を調整可能な
湿度調整装置及び被処理気体中に含まれる被処理成分に
応じて湿度を調節することにより高い分解除去能力を発
揮することができる光触媒装置を提供する。 【解決手段】 湿度調整装置は被処理気体中の水分を凝
結除去する凝結部を有している。また、光触媒装置はこ
の湿度調整装置と湿度調整された被処理気体を光触媒作
用により処理する光触媒反応装置とを有している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は湿度調整装置及びこ
れを用いた光触媒装置に係り、特に、被処理気体中の水
分を凝結除去して被処理気体の湿度を調整する湿度調整
装置及びこれを用いた光触媒装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】湿度は各種の化学反応や生活環境等に大
きな影響を与える。例えば、気体に含まれる化学物質を
分解、除去する手段として用いられる光触媒装置の分解
除去効率は絶対湿度に対する依存性が高い。具体的に
は、トリクロロエチレン（ＴＣＥ）やテトラクロロエチ
レン（ＰＣＥ）等は低湿度下でなければ高い分解除去率
を得ることができない。一方、ベンゼン等は高湿度下で
なければ高い分解除去率を得ることができない。従っ
て、光触媒装置により化学物質を処理しようとする場
合、被処理気体の絶対湿度を調整することが重要にな
る。

【０００３】また、半導体製造の分野等では、製造雰囲
気下での空気中の湿度が高くなると、半導体表面に結露
水が生じ、製品の性状を悪化させる。このため、半導体
の製造は、通常、−６０℃の飽和蒸気圧に相当する湿度
条件下で行われている。しかし、半導体装置の高度化に
伴い、半導体製造をさらに低い湿度条件下で行うことが
要望されている。

【０００４】さらに、医療の分野では、気体又は霧状の
薬品を口内に供給する吸入器が用いられている。この吸
入器から供給された気体の湿度が室温の飽和蒸気圧に相
当する湿度より高いと、供給された気体に含まれる水蒸
気が口内で液体となり、使用者に不快感を与えたり、使
用者が呼吸しずらくなるという問題がある。これを防止
するためには、吸入器から供給される気体の湿度を、室
温よりやや低い温度の飽和蒸気圧に相当する湿度に調整
する必要がある。上記のように、各種の分野で被処理気
体の湿度を調整することができる湿度調整装置が要望さ
れている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上述した課題
を解決するためになされたものであり、簡単な構成で被
処理気体の湿度を広範囲に渡って精度よく調整可能な湿
度調整装置及び被処理気体中の被処理成分に応じて湿度
を調節することにより高い分解除去能力を発揮すること
が可能な光触媒装置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は以下の内容を有する。請求項１の発明は、
被処理気体を通過させる通気路と、前記通気路を冷却す
る冷却部と、前記通気路に導入された前記被処理気体が
前記通気路を通過する過程で前記被処理気体中の水分が
凝結して付着する凝結部とを備え、前記冷却部は前記通
気路から所望の水分含有量の被処理気体が流出するよう
に温度調整されていることを特徴とする湿度調整装置で
ある。本発明では、通気路を通過している被処理気体が
冷却部で冷却されることにより、被処理気体中に含まれ
る水分は凝結部で凝結される。この冷却部は温度調整さ
れていることにより、凝結部を通過した被処理気体は所
望の水分を含有するように湿度調整される。本発明によ
れば、簡単な構成で被処理気体の湿度を広範囲に渡って
精度よく調整することができる。

【０００７】上記の発明においては、冷却部は冷媒によ
り冷却されることができる。この冷媒は特に限定される
ものではなく、冷却温度に応じて適宜選択することがで
きる。例えば、水、エタノールやメタノール等のアルコ
ール、空気、炭酸ガス、ヘリウム等が挙げられる。特
に、気体に比べて熱伝導率が高い液体を冷媒として用い
ると冷却効率が高くなる。また、液体を用いる場合、塩
化ナトリウム等の凝固点降下をもたらすものを添加する
ことができる。

【０００８】請求項２の発明は、前記被処理気体が前記
凝結部に導かれる前に前記被処理気体を加湿する加湿部
を有する請求項１記載の湿度調整装置である。本発明に
よれば、低湿度の被処理気体を目標とする湿度に調整す
ることが可能になる。請求項３の発明は、前記加湿部は
凝結部以上の温度に維持された水中に前記被処理気体を
バブリングさせるものである請求項２記載の湿度調整装
置である。本発明によれば、簡単な装置で被処理気体を
効率よく加湿することが可能になる。

【０００９】請求項４の発明は、請求項１から３のいず
れか１項記載の湿度調整装置と、前記湿度調整装置によ
り湿度調整された被処理気体を光触媒作用により処理す
る光触媒反応装置とを有する光触媒装置である。本発明
によれば、簡単な構成で被処理気体の湿度を精度良く調
整し、光触媒反応装置の能力を最大限に発揮させること
により、被処理物質を効率的に分解、除去することが可
能になる。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１は本発明に係る湿度調整装置
の第１実施形態を示す。この湿度調整装置１０は、被処
理気体を加湿する加湿部１２と、この加湿部１２を経た
被処理気体に含まれる水蒸気を凝結除去する凝結部２０
とを備えており、下側の加湿部１２と上側の凝結部２０
とが一体化された密閉容器として形成されている。

【００１１】加湿部１２は被処理気体を目標とする湿度
よりやや高い値にまで加湿するもので、被処理気体の湿
度が目標湿度より低い場合に用いられる。加湿部１２は
内部に水槽１４を形成する容器であり、加熱手段（図示
せず）により所定温度に加熱される。この水槽１４には
被処理気体を供給する供給管１６が差し込まれており、
被処理気体が水槽１４内に吹き込まれて、バブリングさ
れるようになっている。加湿部１２には消費された水を
補うための補給水タンク１８が接続されている。この補
給水タンク１８には水道水やイオン交換水等が貯留され
ている。

【００１２】凝結部２０は被処理気体中の過剰な水蒸気
を凝結させて除去し、絶対湿度を所定の目標値まで下げ
るものである。この凝結部２０は加湿部１２を経た被処
理気体が導かれる通気路２２と、この通気路２２に沿っ
て形成されており、通気路２２を通る被処理気体を冷却
するための冷却部２４とを備えている。通気路２２を通
る被処理気体は冷却部２４で冷却され、これによって、
被処理気体に含まれる水蒸気は凝結して凝結部２０に付
着し、加湿部１２に戻される。

【００１３】このような凝結部２０としては、例えば、
図１及び図２に示されるような玉状の内管が連続して形
成された通気路２２の周りに冷却水、アルコール等の冷
媒が供給される冷却部２４が外管として形成されている
玉入冷却器を用いることができる。また、凝結部として
は、図３に示されるような通気路２２である直線状の内
管の周りに冷媒が供給される冷却部２４が外管として形
成されているリービヒ冷却器や、図４に示されるような
通気路２２である外管の内部に冷媒が供給される螺旋状
の内管と直線状の内管が連絡して冷却部２４とされてい
るディムロート冷却管等を用いることができる。通気路
２２の出口はポンプ２６に接続されており、これによっ
て、被処理気体は供給管１６から加湿部１２を通じて凝
結部２０に導かれる。

【００１４】このように構成された湿度調整装置１０で
は、通気路２２の出口における被処理気体の絶対湿度
は、理論的には、冷却部２４の温度Ｔｃにおける飽和蒸
気圧に相当する値となる。表１に各温度での飽和蒸気圧
に相当する絶対湿度を示す。

【表１】

【００１５】従って、冷却部２４に導かれる冷媒の温度
は、目標絶対湿度に応じて表１から求めることができ
る。但し、実際の装置では、得られる絶対湿度は冷媒の
温度での飽和蒸気圧に相当する値とならないこともある
ので、若干の補正が必要になる場合もある。この補正値
は実験的に求めることができる。一方、加湿部１２の温
度Ｔｈの温度は、被処理気体に目標湿度よりやや高い湿
度まで水分を含ませるような温度に設定される。最適な
ΔＴ＝Ｔｈ−Ｔｃの値は実験的に求めることができる。

【００１６】上記の湿度調整装置１０を用いた被処理気
体の湿度調整は以下のように行われる。まず、目標とな
る絶対湿度に応じて冷却部２４に供給される冷媒の温度
が設定される。そして、被処理気体の湿度が目標湿度よ
り低い場合には、加湿部１２に温度がＴｃより所定温度
高いような温度Ｔｈの水槽１４が形成される。

【００１７】被処理気体は供給管１６より湿度調整装置
１０に導かれ、加湿部１２で水槽１４中でバブリングさ
れる。これによって、被処理気体は、温度Ｔｈでの飽和
水蒸気圧に相当する絶対湿度に加湿される。次いで、こ
の被処理気体は凝結部２０を通過する際に冷却部２４に
接触し、温度Ｔｃでの飽和蒸気圧を超える水蒸気は凝結
する。これにより、被処理気体の絶対湿度は温度Ｔｃの
飽和蒸気圧に相当する値に調整される。この被処理気体
はポンプ２６を経由して外部に取り出される。

【００１８】上記説明では、被処理気体中の水分が目標
湿度より低い場合を扱ったが、被処理気体中の水分が目
標湿度より高い場合には加湿を行う必要が無いので、加
湿部１２の水槽１４を形成する必要が無い。この場合、
加湿部１２には凝結部２０から流下する凝結水が徐々に
貯まるが、適宜排出すればよい。被処理気体の湿度が不
明な場合、又は一定でない場合には、通常、目標絶対湿
度以上に加湿される。

【００１９】以上の説明から明らかなように、本発明に
よれば、冷却部２４に供給される冷媒の温度及び加湿部
１２における水槽１４の温度を調整するのみで被処理気
体の絶対湿度を目標値に調整することができる。また、
構成が簡易であるため、製造コストが低く、装置の小型
化も容易である。従って、本発明の湿度調整装置は、光
触媒装置おける湿度調整や、各種の製造分野、医療分野
等における湿度調整に用いることが可能である。

【００２０】次に、本発明に係る湿度調整装置の他の実
施形態について説明する。以下の説明においては、上述
した構成と同一のものについては同一の参照番号を付
し、詳細な説明は省略する。

【００２１】図５は本発明に係る湿度調整装置の第２実
施形態を示す。この湿度調整装置３０では、加湿部１２
は恒温水槽２８の中に収容されており、補給水タンク１
８から水が加湿部１２及び恒温水槽２８の双方に供給さ
れるように構成されている。本形態の湿度調整装置３０
によれば、加湿部１２の温度を一定に保持し易くなるの
で、被処理気体の加湿を確実に行うことができる。

【００２２】図６は本発明に係る湿度調整装置の第３実
施形態を示す。この湿度調整装置４０では加湿部１２は
恒温水槽２８の中に収容されている。この恒温水槽２８
中の水は凝結部２０の冷却部２４に供給されており、こ
れによって、加湿部１２と冷却部２４が同温度に設定さ
れている。

【００２３】恒温水槽２８には投入式のクーラ３２が設
置されており、これにより恒温水槽２８及び冷却部２４
は一定の冷却温度に維持される。即ち、恒温水槽２８の
水は冷却部２４を通って循環し凝結部２０の冷却部２４
の温度を一定に保つ冷却媒体としても用いられている。

【００２４】この湿度調整装置４０は、被処理気体の湿
度が目標湿度より高い場合と低い場合の双方の場合に使
用される。被処理気体の絶対湿度が目標とする絶対湿度
よりも高い場合には、加湿部１２の水槽１４でバブリン
グされる際及び凝結部２０を通過する際に除湿され、目
標とする水蒸気濃度に調整される。一方、被処理気体の
水蒸気濃度が目標とする水蒸気濃度よりも低い場合に
は、加湿部１２の水槽１４でバブリングされる際に加湿
され、凝結部２０を通過する際に最終的に目標とする湿
度に調整される。

【００２５】本形態の湿度調整装置４０によれば、被処
理気体は凝結部２０に至る前に凝結部２０の冷却部２４
と同温度に保たれている加湿部１２の水槽１４でバブリ
ングされているため、この時点で凝結部２０の温度に近
づくように温度調整される。従って、凝結部２０におけ
る絶対湿度の調整をより効率的に行うことができる。

【００２６】また、本実施形態の湿度調整装置４０は、
被処理気体の絶対湿度が目標とする絶対湿度より高い場
合のみでなく、低い場合にも使用可能である。従って、
絶対湿度の高い夏季の大気を被処理気体とする場合と絶
対湿度の低い冬季の大気を被処理気体とする場合の双方
に使用することができる。

【００２７】次に、本発明に係る湿度調整装置を用いた
光触媒装置について説明する。図７は本発明に係る光触
媒装置５０を示す。この光触媒装置５０は被処理気体の
絶対湿度を調整する湿度調整部５２と、被処理気体に含
まれる被処理成分を処理するための光触媒反応部７０と
を備えている。

【００２８】湿度調整部５２では、湿度調整された希釈
空気と被処理気体を混合することによって被処理気体の
絶対湿度が調整される。この湿度調整部５２は、希釈空
気を取り入れる第１バッファタンク５４と、第１バッフ
ァタンク５４に取り入れられた希釈空気の絶対湿度を調
整する湿度調整装置１０と、湿度調整装置１０により湿
度調整された希釈空気と被処理気体との混合気体を貯蔵
する第２バッファタンク５６とを備えている。

【００２９】第１バッファタンク５４の出口は湿度調整
装置１０の供給管１６と接続されている。これによっ
て、第１バッファタンク５４を経た希釈空気の湿度が調
整される。この湿度調整装置１０としては、上述した湿
度調整装置１０、３０、４０のいずれをも用いることが
できる。

【００３０】第２バッファタンク５６の入口には被処理
気体を導く被処理気体流入管５６ａが接続されている。
この被処理気体流入管５６ａには被処理気体の流量を調
整するためのマフスコントローラ５６ｂが設けられてい
る。また、湿度調整装置１０の出口は流量調整弁５８、
ポンプ６０及び補助フィルタ６２を経由して被処理気体
流入管５６ａに連結している。これによって、湿度調整
装置１０により湿度調整された希釈空気と被処理気体と
を混合して第２バッファタンク５６に導くことが可能に
なる。本発明に係る光触媒装置では、流量調整弁５８と
マスフコントローラ５６ｂを調整することにより、希釈
空気と被処理気体との混合比が設定される。この混合比
は被処理気体の希釈度によって定められ、混合比と混合
気体の目標湿度から、湿度調整装置１０の凝結部２０の
温度が設定される。第２バッファタンク５６の出口は光
触媒反応部７０に接続されている。

【００３１】光触媒反応部７０は光触媒フィルタ７２
と、この光触媒フィルタ７２を経た被処理気体が導かれ
るポンプ９０及び補助フィルタ９２とを備えている。光
触媒フィルタ７２は、図８に示されるように、光触媒フ
ァイバ７４が束ねられたファイバ束７６と、ファイバ束
７６が収納されるケーシング７８と、ケーシング７８の
端面に形成された導光窓８０と、導光窓８０から光触媒
ファイバ７４に光を供給するための光源８２とを備えて
いる。ファイバ束７６はケーシング７８の中間筒状部に
密に挿入されており、その両端部以外は外部から密閉さ
れている。これによって、ファイバ束７６は光触媒ファ
イバ７４の長手方向に連通する無数の微細空隙を持つフ
ィルタ構造を形成する。

【００３２】ケーシング７８の両端部には、光源８２の
光をファイバ束７６の端面に入射させるために、ガラス
等の透明部材で形成された導光窓８０が設けられてい
る。これによって、ファイバ束７６を構成する各光触媒
ファイバ７４内に光が入射される。ケーシング７８の両
端部には、被処理気体をファイバ束の端面に導入するた
めの流入口８４及び流出口８６が設けられている。流入
口８４とファイバ束７６の一端面との間及び流出口８６
とファイバ束７６の他端面との間には、被処理気体の溜
まり室８８、９０が形成されている。

【００３３】溜まり室８８、９０は、ファイバ束７６の
両端面における被処理気体の圧力分布を均一化して、フ
ァイバ束７６内での流量分布を均等に分散させるように
作用する。この場合、流入側の溜まり室８８はファイバ
束７６の一端面にかかる正圧の分布を均一化するように
作用し、流出側の溜まり室９０はファイバ束７６の他端
面にかかる負圧の分布を均一化するように作用する。

【００３４】光触媒ファイバ７４としては、例えば、漏
光型光ファイバの外側に酸化チタンなどの光触媒層が形
成されたものが用いられる。この場合、光触媒ファイバ
７４に導入されて漏洩しながら伝達される光によって光
触媒層が活性化されて触媒作用が発揮される。この光触
媒ファイバ７４が束ねられることにより、触媒作用を持
つフィルタすなわち漏光型光触媒フィルタが形成され
る。

【００３５】光触媒ファイバ７４の端面は、光の入射効
率を高めるために、長手方向に対して正確な直角面に形
成されていると共に、表面が研磨されさらに反射防止層
が形成されていることが望ましい。

【００３６】被処理気体は各光触媒ファイバ７４間に形
成される無数の微細空隙を通ってフィルタ処理される。
この微細空隙は、図８（Ｃ）に示されるように、各光触
媒ファイバ７４間に粒状スペーサ８８を介在させること
により、その粒状スペーサ８８のサイズに応じた大きき
で形成される。この場合、粒状スペーサ８８はファイバ
束７６内で自由に移動しないよう、あらかじめ光触媒フ
ァイバ７４の表面に固着されていることが好ましい。

【００３７】上記の光触媒装置１０を用いた被処理気体
の処理は以下のように行われる。まず、第１バッファタ
ンク５４に吸引された希釈空気は湿度調整装置１０に導
かれ、ここで希釈空気の湿度調整が行われる。この希釈
空気の湿度は、希釈空気が被処理気体と混合されたと
き、混合気体の湿度が光触媒反応部７０による処理に最
も適した湿度となるように調整される。

【００３８】この希釈空気はポンプ６０及び補助フィル
タ６２を経て被処理気体導入管５６ａに導かれ、ここで
マフスコントローラ５６ｂを経た被処理気体と混合さ
れ、第２バッファタンク５６に送られる。このとき、希
釈空気と被処理気体の混合気体の絶対湿度は、光触媒フ
ィルタ７２による被処理気体の処理に最も適した湿度と
なるように調整されている。この混合気体は光触媒反応
部７０に導かれる。

【００３９】光触媒反応部７０において、光触媒フィル
タ７２の流入口８４から導入された被処理気体は、溜ま
り室８８からファイバ束７６の一端面に導入されて、フ
ァイバ束７６内を長手方向に通過させられる。この過程
で、被処理気体に含まれる被処理成分は光触媒ファイバ
７４による光触媒反応によって分解処理される。ファイ
バ束７６内を通過した被処理気体は、ファイバ束７６の
他端面側の溜まり室９０から流出口８６へ導出される。
このように、本発明に係る光触媒装置５０によれば、被
処理気体の絶対湿度が被処理成分に応じて最適な値とな
るように事前に調整されているので、被処理気体の処理
を効率良く行うことができる。

【００４０】また、被処理気体がファイバ束７６の長手
方向に沿って通過させられることにより、フィルタ内通
過距離（パス長）、即ち、有効フィルタ長を大きく確保
することができるとともに、流路抵抗を小さくしてフィ
ルタでの圧力損失を小さくすることができる。さらに、
被処理気体をファイバ束７６の端面から導入することに
より、そのファイバ束７６内での流量分布を均等に分散
させることができる。

【００４１】本発明は上述した形態に限定されるもので
はなく、適宜変更を加えて実施することが可能である。
例えば、上述した光触媒装置では、湿度調整装置により
絶対湿度を調整した希釈空気を被処理気体に混合するこ
とによって被処理気体の絶対湿度の調整を行っていた
が、本発明はこれに限定されるものではなく、被処理気
体を直接湿度調整装置に導くことにより絶対湿度を調整
するようにしてもよい。

【００４２】

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明する。 （実施例１）図６に示される湿度調整装置４０を用いて
被処理気体の湿度調整を行った。凝結部２０として長さ
３０ｃｍの玉入冷却器を用い、恒温水槽２８内の水の温
度を１２℃にし、凝結部２０の冷却部２４及び恒温水槽
２８の冷却水が１２℃になるようにした。

【００４３】供給管から絶対湿度３７±２ｇ／ｍ^３（夏
季を想定した３６℃における相対湿度９０％に相当）の
被処理気体を流速２Ｌ／分で供給し、加湿部１２及び凝
結部２０を通過させた。そして、通気管２２の出口から
流出する被処理気体の絶対湿度を測定した。結果を図９
に示す。図９から明らかなように、通気管２２の出口か
ら流出する気体の絶対湿度は、湿度調整を開始してから
約１時間の初期稼動時間を除けば、１１．５±０．２ｇ
／ｍ^３の範囲に安定して調整された。

【００４４】また、被処理気体として絶対湿度０．６ｇ
／ｍ^３（冬期を想定した１０℃における相対湿度１０％
に相当）のものを用いたほかは同条件で湿度調整を行っ
たところ、同様に、水蒸気濃度の調整を開始してから約
１時間の初期稼動時間を除けば、水蒸気濃度は１１．５
±０．２ｇ／ｍ^３の範囲に安定して調整された。

【００４５】（実施例２）図７に示される光触媒装置５
０を用いてベンゼン及びトリクロロエチレンの処理を行
った。この光触媒装置５０においては、湿度調整装置と
しては実施例１と同一のものが用いられた。また、光触
媒フィルタ７２としては、図４に示される構造を有し、
直径１２５μｍのガラスファイバに、ＴｉＯ_２微粒子ス
ラリー（多木化学（株）製タイノックＨ−３０）を塗布
したのち、５００℃で２時間熱処理した２．５μｍ厚の
ＴｉＯ_２膜付きガラスファイバが１００００本束ねられ
ている直径３０ｍｍ、長さ２００ｍｍのフィルタ束を有
するものが用いられた。光源としてはブラックライトブ
ルー（中心波長３５２ｎｍ）を用い、照射光量を１０ｍ
Ｗ／ｃｍ ^２とした。また、希釈空気の流量は２Ｌ／分と
した。凝結部２０の冷媒温度を表２に示されるように設
定して、希釈空気の絶対湿度の調整を行ったところ、調
整開始から４時間経過以降、表２に示した水蒸気濃度
（実測値）の範囲に安定化した。この実測値は固有値に
ほぼ近い値であった。

【表２】

【００４６】また、上記操作によって絶対湿度が１１．
５±０．２ｇ／ｍ^３に安定化された希釈空気に被処理気
体流入管５６ａからベンゼン標準気体を１ｐｐｍ添加
し、光触媒フィルタ７２の出口におけるベンゼン濃度を
１５日間測定した。その結果、表３及び図１０に示され
るように、光触媒フィルタ７２の出口におけるベンゼン
濃度はほぼ０．２ｐｐｍの一定値が得られた。

【００４７】また、上記操作によって絶対湿度６．５±
０．２ｇ／ｍ^３に安定化した希釈空気について同様な操
作を行ったところ、表３及び図１０に示されるように、
光触媒フィルタ７２の出口におけるベンゼン濃度は、初
期は０ｐｐｍであったが徐々に増加して、０．３ｐｐｍ
に至った。

【表３】

【００４８】以上の結果から、本発明の濃度調整部５２
は光触媒反応部７０によるベンゼンの分解能力の調整が
できる程度に絶対湿度の調整が行えることが明らかにな
った。また、湿度調整部５２と光触媒反応部７０を組み
合わせた光触媒装置５０が所望のベンゼン分解能力を有
することが明らかになった。

【００４９】さらに、凝結部２０の冷却温度を−２０〜
１９℃の範囲で設定したこと及び被処理気体としてベン
ゼンの代りにトリクロロエチレンを２０ｐｐｍ添加した
ことを除いて同様な操作を行ったところ、希釈空気の湿
度は調整開始から4時間経過後に表４に示される絶対湿
度（実測値）の範囲に安定化した。この実測値は固有値
にほぼ近い値であった。

【表４】

【００５０】また、湿度調整開始から８時間後に、光触
媒フィルタ７２の出口のトリクロロエチレン濃度につい
て測定した。その結果、表４に示されるように、冷媒の
温度を低くすればする程、即ち被処理気体の湿度を下げ
れば下げる程、光触媒フィルタの出口におけるトリクロ
ロエチレンの濃度が減少する傾向が見られた。

【００５１】このように、本試験例により、本発明の湿
度調整部５２は光触媒反応部７０によるトリクロロエチ
レンの分解の調整ができる程度に絶対湿度の調整が行え
ることが明らかになった。また、このような湿度調整部
５２と光触媒反応部７０を組み合わせた光触媒装置５０
が所望のトリクロロエチレン分解能力を有することが明
らかになった。

【００５２】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の湿度調整装置によれば、簡単な構成で被処理気体の湿
度を精度良く調整することが可能になる。また本発明の
光触媒装置によれば、湿度調整装置により被処理気体の
湿度調整を行うことにより、高い効率で光触媒反応装置
の能力を発揮させることが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る湿度調整装置の第１実施形態の概
略を示す図である。

【図２】凝結部の一例を示す斜視図である。

【図３】凝結部の他の例を示す斜視図である。

【図４】凝結部の他の例を示す斜視図である。

【図５】本発明に係る湿度調整装置の第２実施形態の概
略を示す図である。

【図６】本発明に係る湿度調整装置の第３実施形態の概
略を示す図である。

【図７】本発明に係る光触媒装置の概略を示す図であ
る。

【図８】光触媒フィルタの構成を示す図であり、（Ａ）
は断面図、（Ｂ）は要部拡大図、（Ｃ）は要部断面図で
ある。

【図９】本発明に係る湿度調整装置による湿度調整の結
果を示すグラフである。

【図１０】本発明に係る光触媒装置によるベンゼンの処
理結果を示すグラフである。

【符号の説明】

１０ 湿度調整装置 １２ 加湿部 ２０ 凝結部 ２４ 冷却部 ３０ 湿度調整装置 ４０ 湿度調整装置 ５０ 光触媒装置 ５２ 湿度調整部 ７０ 光触媒反応部 ７２ 光触媒フィルタ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D052 AA00 BA03 BB03 BB04 GA01 GA03 GB02 GB03

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理気体を通過させる通気路と、 前記通気路を冷却する冷却部と、 前記通気路に導入された前記被処理気体が前記通気路を
   通過する過程で前記被処理気体中の水分が凝結して付着
   する凝結部とを備え、 前記冷却部は前記通気路から所望の水分含有量の被処理
   気体が流出するように温度調整されていることを特徴と
   する湿度調整装置。
2. 【請求項２】 前記被処理気体が前記凝結部に導かれる
   前に前記被処理気体を加湿する加湿部を有する請求項１
   記載の湿度調整装置。
3. 【請求項３】 前記加湿部は凝結部以上の温度に維持さ
   れた水中に前記被処理気体をバブリングさせるものであ
   る請求項２記載の湿度調整装置。
4. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれか１項記載の湿度
   調整装置と、 前記湿度調整装置により湿度調整された被処理気体を光
   触媒作用により処理する光触媒反応装置とを有する光触
   媒装置。