JP2002289571A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液面検出手段が異常な動作を行った場合であ
っても、十分な安全性を確保することができる基板処理
装置を提供する。 【解決手段】 レベルセンサ３０は、処理槽１０に設定
された液面検出位置Ｌｖ１〜Ｌｖ６のそれぞれにおける
処理液の存在の有無を検出してその検出結果をレベル補
正部４０に伝達する。レベルセンサ３０が異常動作を行
って、６つの液面検出位置Ｌｖ１〜Ｌｖ６のうちのある
液面検出位置（第１の液面検出位置）に処理液が存在
し、かつその液面検出位置よりも下方に位置するいずれ
かの液面検出位置（第２の液面検出位置）に処理液が存
在していないと検出したときに、レベル補正部４０が上
記第２の液面検出位置およびそれよりも上方に位置する
すべての液面検出位置に処理液が存在していないとみな
した液面検出結果およびレベルセンサ３０が異常である
旨の警告を投入制御部２０に伝達する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、処理槽に塩酸等の
処理液を投入することによって当該処理槽中にて半導体
基板、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラ
ス基板、光ディスク用基板等（以下、単に「基板」と称
する）に洗浄等の処理を行う基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、上記のような基板処理装置
は、予め定められた手順に従って塩酸や過酸化水素水等
の薬液および純水（以下、薬液および純水を総称して処
理液とする）へのロット（バッチ処理を行うときの一組
の複数の基板）の浸漬処理を繰り返し、基板表面の汚染
物質を除去したり、基板表面の酸化膜をエッチングした
り、レジスト膜を剥離したりする一連の基板処理を達成
している。浸漬処理は、処理槽に塩酸等の処理液を投入
し、その貯留した処理液中に基板を浸漬することによっ
て行われる。

【０００３】通常、かかる基板処理装置には、処理槽内
の液面レベルを検出するレベルセンサが設けられてい
る。レベルセンサは、例えば処理槽の高さ方向に沿って
設定された６点の液面検出位置のそれぞれにおける処理
液の存在の有無を検出する。レベルセンサによる検出結
果は、基板処理装置の動作（例えば、処理槽への処理液
の投入）を管理する制御部に伝達され、当該制御部はレ
ベルセンサの検出結果に基づいて所定の制御を行う。例
えば、ある高さの液面検出位置に処理液の液面レベルが
到達したことがレベルセンサによって検出されたとき
に、処理液の供給を停止するような制御を行う。

【０００４】また、これらの液面検出位置における検出
結果がインターロックの動作基準となっている場合もあ
る。例えば、ある高さの液面検出位置に処理液が存在し
ていないときには処理槽のヒータへの給電を停止した
り、別の高さの液面検出位置に処理液が存在していない
ときにはポンプを停止したりするようなインターロック
が設けられている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記のような基板処理
装置において、レベルセンサが正常に動作しているとき
には、空の処理槽に処理液を投入すると６点の液面検出
位置の最も下から順に処理液の存在が検出されることと
なる。また、逆に、処理槽から処理液を排液するときに
は６点の液面検出位置の最も上から順に処理液が存在し
ていないと検出される。

【０００６】しかしながら、レベルセンサが故障したり
調整不良であったりした場合には、処理液の検出が順番
になされないこともある。例えば、下から３番目の液面
検出位置にて処理液が存在すると検出されているにもか
かわらず、下から２番目の液面検出位置にて処理液が存
在しないとの検出結果が得られる場合がある。本明細書
においては、このようなレベルセンサによる処理液の検
出の順番が異常な状態を「歯抜け状態」と称する。

【０００７】このような歯抜け状態が生じた場合には、
基板処理装置の動作を管理している上記制御部の制御に
悪影響を与えるという問題が生じる。その結果、制御部
自体が異常動作を行って、例えば処理槽に過剰に処理液
を投入したりする危険も想定される。

【０００８】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、液面検出手段が異常な動作を行った場合であっ
ても、十分な安全性を確保することができる基板処理装
置を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項１の発明は、処理槽に処理液を投入すること
によって当該処理槽中にて基板に処理を行う基板処理装
置において、前記処理槽の高さ方向に沿って設定された
複数の液面検出位置のそれぞれにおける処理液の存在の
有無を検出する液面検出手段と、前記複数の液面検出位
置のうちの第１の液面検出位置に処理液が存在し、かつ
前記第１の液面検出位置よりも下方に位置する第２の液
面検出位置に処理液が存在していないと前記液面検出手
段が検出したときに、前記第２の液面検出位置および前
記第２の液面検出位置よりも上方に位置するすべての液
面検出位置に処理液が存在していないとみなす液面検出
結果を取得する液面検出補正手段と、を備える。

【００１０】また、請求項２の発明は、請求項１の発明
にかかる基板処理装置において、前記第１の液面検出位
置に処理液が存在し、かつ前記第２の液面検出位置に処
理液が存在していないと前記液面検出手段が検出したと
きに、前記液面検出手段が異常である旨の警告を発する
警告発生手段をさらに備える。

【００１１】また、請求項３の発明は、請求項２の発明
にかかる基板処理装置において、所定の処理手順にした
がって、前記処理槽への処理液の投入を管理する投入制
御手段をさらに備え、前記第１の液面検出位置に処理液
が存在し、かつ前記第２の液面検出位置に処理液が存在
していないと前記液面検出手段が検出したときに、前記
液面検出補正手段および前記警告発生手段に、それぞれ
前記液面検出結果および前記警告を前記投入制御手段に
伝達させている。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態について詳細に説明する。

【００１３】図１は、本発明にかかる基板処理装置の要
部構成を示す図である。この基板処理装置は、処理槽１
０に塩酸等の処理液を投入することによって処理槽１０
中にて基板Ｗに洗浄処理等の表面処理を行う装置であ
り、主として処理槽１０、投入制御部２０、レベルセン
サ３０およびレベル補正部４０を備えている。

【００１４】処理槽１０内の底部近傍には、２本の処理
液吐出ノズル１１が設けられている。処理液吐出ノズル
１１は、その表面に複数の吐出孔を備えた中空の円筒で
ある。２本の処理液吐出ノズル１１のそれぞれは、供給
配管１２を介して処理液供給源１３に連通接続されてい
る。供給配管１２の経路途中には、投入バルブ１５が設
けられている。投入バルブ１５を開放することによっ
て、処理液供給源１３から供給配管１２を通過して２本
の処理液吐出ノズル１１に処理液が送給され、処理液吐
出ノズル１１から処理槽１０内に処理液が吐出される。
吐出された処理液は処理槽１０内に貯留される。なお、
図１では図示を省略しているが、処理槽１０には、複数
の基板Ｗを一括して昇降する昇降機構や貯留されている
処理液を排液する排液機構等も設けられている。

【００１５】投入制御部２０は、メモリやＣＰＵ等を備
えたコンピュータを用いて構成されている。投入制御部
２０は、所定の処理手順を記述した処理用ソフトウェア
にしたがって、投入バルブ１５の開閉を制御することに
より、処理槽１０への処理液投入を管理する。投入制御
部２０は、投入バルブ１５を制御するときに、後述する
レベル補正部４０から伝達される情報を参照する。

【００１６】レベルセンサ３０は、その先端を処理槽１
０に貯留された処理液中に浸漬したパージ管３２に窒素
ガス供給源３１から窒素ガスを一定流量にて供給しつ
つ、パージ管３２内の窒素ガスの気圧を測定することに
よって処理槽１０内の処理液の液面レベルを検出する。
すなわち、処理槽１０内の液面レベルが高いほど、パー
ジ管３２内の窒素ガスの気圧が高くなるため、これを検
出して処理槽１０内の液面レベルに換算するのである。

【００１７】本実施形態においては、処理槽１０の高さ
方向に沿って下から順に６つの液面検出位置Ｌｖ１〜Ｌ
ｖ６が設定されている。これら６つの液面検出位置Ｌｖ
１〜Ｌｖ６のそれぞれにおける処理液の存在の有無は、
投入制御部２０の判断条件であったり、基板処理装置の
インターロックの動作基準であったりする。具体的に
は、まず、液面検出位置Ｌｖ１に処理液が存在しないと
きには処理槽１０が空であると投入制御部２０が判断し
てそれに応じた処理を行う。また、液面検出位置Ｌｖ２
に処理液が存在しないときには図示を省略する循環ポン
プを停止して、その循環ポンプを保護する。液面検出位
置Ｌｖ３に処理液が存在しないときには処理槽１０に付
随して設けられたヒータを停止していわゆる空焚きを防
止するとともに、当該ヒータを保護する。液面検出位置
Ｌｖ４に処理液が存在しているときには基板処理を行う
ときの定量であると投入制御部２０が判断する。また、
液面検出位置Ｌｖ５に処理液が存在しているときには槽
洗浄を行うときの定量であると投入制御部２０が判断す
る。さらに、液面検出位置Ｌｖ６に処理液が存在してい
るときには処理槽１０の上限まで処理液が貯留されてい
ると投入制御部２０が判断する。

【００１８】これら６つの液面検出位置Ｌｖ１〜Ｌｖ６
に液面レベルが位置していると、パージ管３２内の窒素
ガスの気圧が液面検出位置Ｌｖ１〜Ｌｖ６のそれぞれに
対応した異なる値となる。レベルセンサ３０は検出気圧
調整のための６つのレベル調整ボリューム３３ａ〜３３
ｆを備えており、これら６つのレベル調整ボリューム３
３ａ〜３３ｆの検出気圧は６つの液面検出位置Ｌｖ１〜
Ｌｖ６のそれぞれに液面レベルが位置しているときのパ
ージ管３２内の窒素ガスの気圧に予め合わせられてい
る。例えば、レベル調整ボリューム３３ａの検出気圧は
液面検出位置Ｌｖ１に液面レベルが位置しているときの
パージ管３２内の窒素ガスの気圧に調整されている。以
下同様に、レベル調整ボリューム３３ｂの検出気圧は液
面検出位置Ｌｖ２に、レベル調整ボリューム３３ｃの検
出気圧は液面検出位置Ｌｖ３に、レベル調整ボリューム
３３ｄの検出気圧は液面検出位置Ｌｖ４に、レベル調整
ボリューム３３ｅの検出気圧は液面検出位置Ｌｖ５に、
レベル調整ボリューム３３ｆの検出気圧は液面検出位置
Ｌｖ６に、それぞれ液面レベルが位置しているときのパ
ージ管３２内の窒素ガスの気圧に調整されている。

【００１９】また、レベルセンサ３０には液面レベルの
位置を示す６つのＬＥＤ３４ａ〜３４ｆが設けられてい
る。パージ管３２内の窒素ガスの気圧がレベル調整ボリ
ューム３３ａの検出気圧以上であるときには、レベルセ
ンサ３０が液面検出位置Ｌｖ１に処理液が存在している
ことを検出して、ＬＥＤ３４ａを点灯する。同様に、パ
ージ管３２内の窒素ガスの気圧がレベル調整ボリューム
３３ｂの検出気圧以上であるときには液面検出位置Ｌｖ
２に処理液が存在しているとしてＬＥＤ３４ｂを、レベ
ル調整ボリューム３３ｃの検出気圧以上であるときには
液面検出位置Ｌｖ３に処理液が存在しているとしてＬＥ
Ｄ３４ｃを、レベル調整ボリューム３３ｄの検出気圧以
上であるときには液面検出位置Ｌｖ４に処理液が存在し
ているとしてＬＥＤ３４ｄを、レベル調整ボリューム３
３ｅの検出気圧以上であるときには液面検出位置Ｌｖ５
に処理液が存在しているとしてＬＥＤ３４ｅを、レベル
調整ボリューム３３ｆの検出気圧以上であるときには液
面検出位置Ｌｖ６に処理液が存在しているとしてＬＥＤ
３４ｆを、それぞれ点灯する。

【００２０】なお、パージ管３２内の窒素ガスの気圧が
レベル調整ボリューム３３ａ〜３３ｆの検出気圧未満で
あるときには、レベルセンサ３０が液面検出位置Ｌｖ１
〜Ｌｖ６のそれぞれに処理液が存在していないものとし
てＬＥＤ３４ａ〜３４ｆのそれぞれを消灯することは勿
論である。また、パージ管３２の先端部は少なくとも処
理槽１０内の液面検出位置Ｌｖ１よりも下方に位置して
いる。さらに、レベル調整ボリューム３３ａ〜３３ｆの
検出気圧は、使用する処理液の比重に応じて微調整され
る。

【００２１】以上のようにして、レベルセンサ３０は、
処理槽１０の高さ方向に沿って設定された６つの液面検
出位置Ｌｖ１〜Ｌｖ６のそれぞれにおける処理液の存在
の有無を検出してＬＥＤ３４ａ〜３４ｆの点灯を制御す
るとともに、その検出結果を電気信号としてレベル補正
部４０に伝達する。レベル補正部４０は、レベルセンサ
３０が正常に動作しているときにはその検出結果をその
まま投入制御部２０に伝達する一方、レベルセンサ３０
が異常な動作を行ったとき（既述した歯抜け状態のと
き）にはその検出結果を補正して投入制御部２０に伝達
するとともに警告を発生する。

【００２２】図２は、レベル補正部４０の構成および信
号の授受を示す図である。レベルセンサ３０は、６つの
液面検出位置Ｌｖ１〜Ｌｖ６のそれぞれにおける処理液
の存在を検出したときには、ＬＥＤ３４ａ〜３４ｆを点
灯させるとともに検出信号Ａ１〜Ａ６を能動化する。す
なわち、レベルセンサ３０は、液面検出位置Ｌｖ１にお
ける処理液の存在を検出したときには検出信号Ａ１を能
動化し、液面検出位置Ｌｖ２における処理液の存在を検
出したときには検出信号Ａ２を能動化し、液面検出位置
Ｌｖ３における処理液の存在を検出したときには検出信
号Ａ３を能動化し、液面検出位置Ｌｖ４における処理液
の存在を検出したときには検出信号Ａ４を能動化し、液
面検出位置Ｌｖ５における処理液の存在を検出したとき
には検出信号Ａ５を能動化し、液面検出位置Ｌｖ６にお
ける処理液の存在を検出したときには検出信号Ａ６を能
動化する。なお、レベルセンサ３０は、６つの液面検出
位置Ｌｖ１〜Ｌｖ６のそれぞれにおける処理液の存在を
検出できないときには、検出信号Ａ１〜Ａ６のそれぞれ
を非能動とするのは勿論である。

【００２３】レベル補正部４０は、チャタリング除去回
路４１、レベル補正回路５０およびアラーム発生回路６
０を備えている。チャタリング除去回路４１は、処理液
の液面レベルが液面検出位置Ｌｖ１〜Ｌｖ６のライン上
に位置しているときに、レベルセンサ３０が処理液の検
出と非検出とを繰り返して検出信号が能動状態と非能動
状態とを繰り返すというチャタリングを除去する回路で
ある。レベルセンサ３０からの検出信号Ａ１〜Ａ６は、
すべてチャタリング除去回路４１を通過することによっ
て安定する。なお、チャタリング除去回路４１の回路構
成としては、公知の種々の構成を採用することができ
る。

【００２４】レベル補正回路５０は、検出信号Ａ１〜Ａ
６の入力に対して検出補正信号Ｂ１〜Ｂ６を出力する。
なお、レベル補正回路５０およびアラーム発生回路６０
に入力する検出信号Ａ１〜Ａ６はチャタリング除去回路
４１を通過して安定したものである。レベル補正回路５
０は論理回路であり、次の数１にて示す論理式によって
検出補正信号Ｂ１を生成する。

【００２５】

【数１】

【００２６】すなわち、レベル補正回路５０はレベルセ
ンサ３０からの検出信号Ａ１をそのまま検出補正信号Ｂ
１として出力する。また、レベル補正回路５０は、次の
数２にて示す論理式によって検出補正信号Ｂ２を生成す
る。

【００２７】

【数２】

【００２８】すなわち、レベル補正回路５０はレベルセ
ンサ３０からの検出信号Ａ１と検出信号Ａ２との論理積
を検出補正信号Ｂ２として出力する。従って、レベルセ
ンサ３０からの検出信号Ａ１または検出信号Ａ２のうち
の少なくとも一方が非能動のときには、レベル補正回路
５０は検出補正信号Ｂ２を非能動とする。また、レベル
補正回路５０は、次の数３にて示す論理式によって検出
補正信号Ｂ３を生成する。

【００２９】

【数３】

【００３０】すなわち、レベル補正回路５０はレベルセ
ンサ３０からの検出信号Ａ１と検出信号Ａ２と検出信号
Ａ３との論理積を検出補正信号Ｂ３として出力する。従
って、レベルセンサ３０からの検出信号Ａ１〜検出信号
Ａ３のうちの少なくとも一つが非能動のときには、レベ
ル補正回路５０は検出補正信号Ｂ３を非能動とする。ま
た、レベル補正回路５０は、次の数４にて示す論理式に
よって検出補正信号Ｂ４を生成する。

【００３１】

【数４】

【００３２】すなわち、レベル補正回路５０はレベルセ
ンサ３０からの検出信号Ａ１〜検出信号Ａ４の論理積を
検出補正信号Ｂ４として出力する。従って、レベルセン
サ３０からの検出信号Ａ１〜検出信号Ａ４のうちの少な
くとも一つが非能動のときには、レベル補正回路５０は
検出補正信号Ｂ４を非能動とする。同様に、レベル補正
回路５０は、次の数５にて示す論理式によって検出補正
信号Ｂ５を生成する。

【００３３】

【数５】

【００３４】すなわち、レベル補正回路５０はレベルセ
ンサ３０からの検出信号Ａ１〜検出信号Ａ５の論理積を
検出補正信号Ｂ５として出力する。従って、レベルセン
サ３０からの検出信号Ａ１〜検出信号Ａ５のうちの少な
くとも一つが非能動のときには、レベル補正回路５０は
検出補正信号Ｂ５を非能動とする。さらに、レベル補正
回路５０は、次の数６にて示す論理式によって検出補正
信号Ｂ６を生成する。

【００３５】

【数６】

【００３６】すなわち、レベル補正回路５０はレベルセ
ンサ３０からの検出信号Ａ１〜検出信号Ａ６の論理積を
検出補正信号Ｂ６として出力する。従って、レベルセン
サ３０からの検出信号Ａ１〜検出信号Ａ６のうちの少な
くとも一つが非能動のときには、レベル補正回路５０は
検出補正信号Ｂ６を非能動とする。

【００３７】以上の数１から数６を実現するレベル補正
回路５０の回路構成としては、例えば図３のようにすれ
ば良い。レベル補正回路５０には、論理積回路（ＡＮＤ
回路）５１〜５５が設けられている。論理積回路５１
は、レベルセンサ３０からの検出信号Ａ１および検出信
号Ａ２の論理積を演算し、その演算結果として検出補正
信号Ｂ２を出力する。論理積回路５２は、レベルセンサ
３０からの検出信号Ａ３および論理積回路５１から与え
られた検出補正信号Ｂ２の論理積を演算し、その演算結
果として検出補正信号Ｂ３を出力する。論理積回路５３
は、レベルセンサ３０からの検出信号Ａ４および論理積
回路５２から与えられた検出補正信号Ｂ３の論理積を演
算し、その演算結果として検出補正信号Ｂ４を出力す
る。論理積回路５４は、レベルセンサ３０からの検出信
号Ａ５および論理積回路５３から与えられた検出補正信
号Ｂ４の論理積を演算し、その演算結果として検出補正
信号Ｂ５を出力する。さらに、論理積回路５５は、レベ
ルセンサ３０からの検出信号Ａ６および論理積回路５４
から与えられた検出補正信号Ｂ５の論理積を演算し、そ
の演算結果として検出補正信号Ｂ６を出力する。

【００３８】処理槽１０に処理液を投入したときには必
ず下から順に、つまり液面検出位置Ｌｖ１から順に処理
液が満たされる。従って、ある液面検出位置に処理液が
存在しているときには、そこよりも下方に位置する液面
検出位置には必ず処理液が存在する。例えば、液面検出
位置Ｌｖ３に処理液が存在しているときにはそれよりも
下方の液面検出位置Ｌｖ１および液面検出位置Ｌｖ２に
は必ず処理液が存在している。

【００３９】よって、レベルセンサ３０が正常に動作し
ていれば、例えば検出信号Ａ３が能動のときには、検出
信号Ａ１および検出信号Ａ２も必然的に能動となる。こ
の場合、レベル補正回路５０が出力する検出補正信号Ｂ
３も能動となる（数３参照）。これと同様に、レベルセ
ンサ３０が正常に動作していれば、数１から数６および
図３から明らかなように、レベルセンサ３０から出力さ
れる検出信号Ａ１〜Ａ６の状態とレベル補正回路５０か
ら出力される検出補正信号Ｂ１〜Ｂ６の状態が完全に同
じとなる。すなわち、液面検出位置Ｌｖ１に処理液が存
在するときには検出信号Ａ１および検出補正信号Ｂ１が
能動化され、液面検出位置Ｌｖ２に処理液が存在すると
きには検出信号Ａ２および検出補正信号Ｂ２が能動化さ
れ、液面検出位置Ｌｖ３に処理液が存在するときには検
出信号Ａ３および検出補正信号Ｂ３が能動化され、液面
検出位置Ｌｖ４に処理液が存在するときには検出信号Ａ
４および検出補正信号Ｂ４が能動化され、液面検出位置
Ｌｖ５に処理液が存在するときには検出信号Ａ５および
検出補正信号Ｂ５が能動化され、液面検出位置Ｌｖ６に
処理液が存在するときには検出信号Ａ６および検出補正
信号Ｂ６が能動化される。すなわち、検出信号Ａ１〜Ａ
６および検出補正信号Ｂ１〜Ｂ６の状態（能動であるか
非能動であるか）は、それぞれ液面検出位置Ｌｖ１〜Ｌ
ｖ６における処理液の存在の有無を示している。

【００４０】レベル補正回路５０から出力される検出補
正信号Ｂ１〜Ｂ６は、投入制御部２０に伝達される。投
入制御部２０は、検出補正信号Ｂ１〜Ｂ６から処理槽１
０内に貯留されている処理液の液面レベルを識別する。
例えば、検出補正信号Ｂ１〜Ｂ４が能動であって、検出
補正信号Ｂ５，Ｂ６が非能動であるときには、投入制御
部２０は処理槽１０内において処理液の液面レベルが液
面検出位置Ｌｖ４以上であって液面検出位置Ｌｖ５より
も下であると判断する。そして、投入制御部２０は、レ
ベル補正回路５０から出力された検出補正信号Ｂ１〜Ｂ
６に基づいて、投入バルブ１５の制御等を行う。

【００４１】ここで、レベルセンサ３０が故障やレベル
調整ボリューム３３ａ〜３３ｆの調整不良等により異常
な動作を行うと、例えば検出信号Ａ３が能動のときに、
検出信号Ａ１または検出信号Ａ２が非能動となるような
歯抜け状態が生じる場合がある。液面検出位置Ｌｖ３に
処理液が存在しているときに、それよりも下方の液面検
出位置Ｌｖ１および液面検出位置Ｌｖ２に処理液が存在
しないことはあり得ず、これは明らかな異常動作であ
る。

【００４２】レベルセンサ３０がこのような異常動作を
行ったとき、例えば、検出信号Ａ１および検出信号Ａ３
が能動であって、検出信号Ａ２が非能動のときには、数
１から数６および図３から明らかなように、レベル補正
回路５０が出力する検出補正信号Ｂ１は能動となるもの
の、検出信号Ａ２が非能動であるため検出補正信号Ｂ２
〜Ｂ６は全て非能動となる。すなわち、レベルセンサ３
０が異常動作を行って、６つの液面検出位置Ｌｖ１〜Ｌ
ｖ６のうちのある液面検出位置（第１の液面検出位置）
に処理液が存在し、かつその液面検出位置よりも下方に
位置するいずれかの液面検出位置（第２の液面検出位
置）に処理液が存在していないとレベルセンサ３０が検
出したときに、レベル補正回路５０がその検出結果の補
正を行い、上記第２の液面検出位置およびそれよりも上
方に位置するすべての液面検出位置に処理液が存在して
いないとみなす液面検出結果を取得するのである。

【００４３】レベル補正回路５０は、その補正後の液面
検出結果である検出補正信号Ｂ１〜Ｂ６を投入制御部２
０に伝達する。レベルセンサ３０が異常動作を行ったと
き、例えば上記の例において、検出信号Ａ２または検出
信号Ａ３のいずれが異常であるかは不明であり、検出補
正信号Ｂ１〜Ｂ６は必ずしも処理槽１０内の処理液貯留
状態を正確に反映したものではない。より具体的に述べ
ると、液面検出位置Ｌｖ３まで処理液が貯留されてい
て、かつ検出信号Ａ２が異常である（検出信号Ａ３は正
常）ときに、本実施形態では上述した如く検出補正信号
Ｂ１のみが能動となって、検出補正信号Ｂ２〜Ｂ６が非
能動となり、これは処理槽１０内の処理液貯留状態を正
確に反映したものではない。

【００４４】しかしながら、レベルセンサ３０が異常動
作を行って検出信号Ａ１〜Ａ６が歯抜け状態となって
も、レベル補正回路５０による補正の結果、少なくとも
検出補正信号Ｂ１〜Ｂ６が歯抜け状態となることは防止
される。従って、歯抜け状態の検出信号が投入制御部２
０に伝達されて、その制御に悪影響をあたえるというこ
とは防止される。

【００４５】また、レベルセンサ３０が異常動作を行っ
て検出信号Ａ１〜Ａ６が歯抜け状態となったときには、
アラーム発生回路６０が警告信号Ａｌａｒｍを能動化す
る。アラーム発生回路６０も論理回路であり、次の数７
にて示す論理式によって警告信号Ａｌａｒｍを生成す
る。

【００４６】

【数７】

【００４７】数７にて示される論理式の内容を述べる
と、レベルセンサ３０が異常動作を行って、６つの液面
検出位置Ｌｖ１〜Ｌｖ６のうちのある液面検出位置（第
１の液面検出位置）に処理液が存在し、かつその液面検
出位置よりも下方に位置するいずれかの液面検出位置
（第２の液面検出位置）に処理液が存在していないとレ
ベルセンサ３０が検出したときに、警告信号Ａｌａｒｍ
を能動化するというものである。なお、アラーム発生回
路６０の回路構成としては、数７の論理式を論理回路と
して実現したものであれば良く、例えば論理積回路と反
転素子と論理和回路との組み合わせとすれば良い。

【００４８】警告信号Ａｌａｒｍが能動化されるとき
は、レベルセンサ３０が異常動作を行って検出信号Ａ１
〜Ａ６が歯抜け状態となったときである。換言すれば、
アラーム発生回路６０は、レベルセンサ３０が異常動作
を行って上述の如く検出信号Ａ１〜Ａ６が歯抜け状態と
なったときに、警告信号Ａｌａｒｍを能動化してレベル
センサ３０が異常である旨の警告を発するのである。な
お、数７から明らかなように、レベルセンサ３０が正常
に動作しているときは、警告信号Ａｌａｒｍは非能動と
される。

【００４９】アラーム発生回路６０は、警告信号Ａｌａ
ｒｍを投入制御部２０に伝達する。警告信号Ａｌａｒｍ
が能動化されたとき、投入制御部２０はレベルセンサ３
０が異常動作を行っていることを認識して、所定のアラ
ーム処理、例えば、投入バルブ１５を閉鎖して処理槽１
０へのさらなる処理液供給を停止する。

【００５０】以上のように、本実施形態においては、レ
ベルセンサ３０が異常動作を行って、６つの液面検出位
置Ｌｖ１〜Ｌｖ６のうちのある液面検出位置（第１の液
面検出位置）に処理液が存在し、かつその液面検出位置
よりも下方に位置するいずれかの液面検出位置（第２の
液面検出位置）に処理液が存在していないとレベルセン
サ３０が検出したときに、レベル補正回路５０が上記第
２の液面検出位置および上記第２の液面検出位置よりも
上方に位置するすべての液面検出位置に処理液が存在し
ていないとみなす液面検出結果を取得して、その補正後
の液面検出結果を投入制御部２０に伝達する。また、ア
ラーム発生回路６０は、レベルセンサ３０が異常である
旨の警告を発するとともに、その警告を投入制御部２０
に伝達する。

【００５１】従って、レベルセンサ３０が異常な動作を
行った場合であっても、投入制御部２０に伝達される液
面検出結果が歯抜け状態となることはなく、投入制御部
２０の制御を安定させて、基板処理装置の十分な安全性
を確保することができる。

【００５２】また、レベルセンサ３０が異常な動作を行
った場合であっても、その旨の警告をアラーム発生回路
６０が投入制御部２０に伝達することにより、投入制御
部２０がしかるべきアラーム処理を行うため、基板処理
装置の十分な安全性を確保することができる。

【００５３】なお、本実施形態においては、レベルセン
サ３０が液面検出手段に、レベル補正回路５０が液面検
出補正手段に、アラーム発生回路６０が警告発生手段に
それぞれ相当する。

【００５４】以上、本発明の実施の形態について説明し
たが、この発明は上記の例に限定されるものではない。
例えば、上記実施形態においては、処理槽１０の液面検
出位置を６点としていたが、これに限定されるものでは
なく、液面検出位置は複数であれば良い。

【００５５】また、レベル補正回路５０の回路構成は、
図３に示したものに限定されず、数１から数６の論理式
を論理回路として実現したものであれば、図３と等価な
他の回路構成であっても良い。

【００５６】また、処理槽１０は複数の基板Ｗを一括し
て処理するものに限定されず、基板Ｗを１枚ずつ処理す
る形態のものであっても良い。

【００５７】

【発明の効果】以上、説明したように、請求項１の発明
によれば、処理槽の高さ方向に沿って設定された複数の
液面検出位置のうちの第１の液面検出位置に処理液が存
在し、かつ第１の液面検出位置よりも下方に位置する第
２の液面検出位置に処理液が存在していないと液面検出
手段が検出したときに、第２の液面検出位置および第２
の液面検出位置よりも上方に位置するすべての液面検出
位置に処理液が存在していないとみなすため、液面検出
手段が異常な動作を行った場合であっても、液面検出手
段による検出の歯抜け状態が是正され、十分な安全性を
確保することができる。

【００５８】また、請求項２の発明によれば、第１の液
面検出位置に処理液が存在し、かつ第２の液面検出位置
に処理液が存在していないと液面検出手段が検出したと
きに、液面検出手段が異常である旨の警告を発するた
め、液面検出手段が異常な動作を行った場合であって
も、警告発生により、十分な安全性を確保することがで
きる。

【００５９】また、請求項３の発明によれば、第１の液
面検出位置に処理液が存在し、かつ第２の液面検出位置
に処理液が存在していないと液面検出手段が検出したと
きに、液面検出補正手段および警告発生手段が、それぞ
れ液面検出結果および警告を投入制御手段に伝達するた
め、液面検出手段が異常な動作を行った場合であって
も、投入制御手段の動作を安定させるとともに、投入制
御手段が所定の警告処理を行い、十分な安全性を確保す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる基板処理装置の要部構成を示す
図である。

【図２】図１の基板処理装置のレベル補正部の構成およ
び信号の授受を示す図である。

【図３】図２のレベル補正部のレベル補正回路の構成の
一例を示すブロック図である。

【符号の説明】

１０ 処理槽 ２０ 投入制御部 ３０ レベルセンサ ４０ レベル補正部 ５０ レベル補正回路 ６０ アラーム発生回路 Ａ１〜Ａ６ 検出信号 Ｂ１〜Ｂ６ 検出補正信号 Ｌｖ１〜Ｌｖ６ 液面検出位置 Ｗ 基板

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理槽に処理液を投入することによって
   当該処理槽中にて基板に処理を行う基板処理装置であっ
   て、 前記処理槽の高さ方向に沿って設定された複数の液面検
   出位置のそれぞれにおける処理液の存在の有無を検出す
   る液面検出手段と、 前記複数の液面検出位置のうちの第１の液面検出位置に
   処理液が存在し、かつ前記第１の液面検出位置よりも下
   方に位置する第２の液面検出位置に処理液が存在してい
   ないと前記液面検出手段が検出したときに、前記第２の
   液面検出位置および前記第２の液面検出位置よりも上方
   に位置するすべての液面検出位置に処理液が存在してい
   ないとみなす液面検出結果を取得する液面検出補正手段
   と、を備えることを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載の基板処理装置において、 前記第１の液面検出位置に処理液が存在し、かつ前記第
   ２の液面検出位置に処理液が存在していないと前記液面
   検出手段が検出したときに、前記液面検出手段が異常で
   ある旨の警告を発する警告発生手段をさらに備えること
   を特徴とする基板処理装置。
3. 【請求項３】 請求項２記載の基板処理装置において、 所定の処理手順にしたがって、前記処理槽への処理液の
   投入を管理する投入制御手段をさらに備え、 前記第１の液面検出位置に処理液が存在し、かつ前記第
   ２の液面検出位置に処理液が存在していないと前記液面
   検出手段が検出したときに、前記液面検出補正手段およ
   び前記警告発生手段は、それぞれ前記液面検出結果およ
   び前記警告を前記投入制御手段に伝達することを特徴と
   する基板処理装置。